KR0132020Y1 - 웨이퍼 냉각을 위한 쿨러제어 장치 - Google Patents

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Abstract

본 고안은 공정 수행후의 웨이퍼를 냉각시켜주는 쿨러제어장치에 관한 것으로, 특히 웨이퍼 냉각을 서서히 시킬 수 있도록 제어하는 웨이퍼 냉각을 위한 쿨러(cooler) 제어장치에 관한 것으로, 상기 쿨링챔버의 소정위치에 장착되어 웨이퍼가 로딩되는 것을 감지하는 감지수단; 상기 감지수단에 의해 감지된 신호에 따라 소정전원을 인가할 수 있도록 구동하는 릴레이수단; 및 상기 릴레이수단으로 부터 출력되는 전원을 인가받아 온오프구동하여 외부로 부터 에어를 상기 냉각수공급밸브에 공급하는 에어공급수단을 구비함으로써 쿨링챔버에 웨이퍼가 존재할 때에만 냉각수의 온도를 서서히 하강시켜 공급되도록 하므로서 급냉에 따른 웨이퍼의 손상을 방지하는 효과가 있다.

Description

웨이퍼 냉각을 위한 쿨러 제어장치
제1도는 본 고안의 웨이퍼 냉각을 위한 쿨러(cooler) 제어장치의 일실시예를 나타낸 구성도.
* 도면의 주요부분에 대한 부호의 설명
1 : 감지센서 2 : 릴레이부
3 : 솔레노이드 밸브 4 : 냉각수 공급밸브
5 : 쿨링척
본 고안은 공정 수행 후에 고온으로된 웨이퍼를 냉각시켜주는 쿨러 제어장치에 관한 것으로, 특히 웨이퍼가 서서히 냉각되도록 제어하는 웨이퍼 냉각을 위한 쿨러(cooler) 제어장치에 관한 것이다.
일반적으로, 소정공정이 진행되는 공정챔버 내에서 공정이 완료된 후의 웨이퍼 표면온도는 약 200℃ 정도의 고온이므로, 상기 웨이퍼는 공정완료 후에 소정의 쿨링챔버(cooling chamber) 내로 인입되어 냉각되었다.
여기서, 종래의 냉각장치인 상기 쿨링챔버 내에 인입된 고온의 웨이퍼는 쿨링척에 놓여져 냉각된 후, 이탈되게 되어 있다. 이때, 상기 쿨링척(5)을 냉각시키기 위해 공급되는 냉각수의 온도는 18℃ 정도이며, 웨이퍼의 로딩/언로딩에 관계없이 계속해서 쿨링척에 공급되고 있으므로, 상기 쿨링척은 항상 18℃로 유지된다. 이에 따라 상기 웨이퍼가 쿨링척에 로딩될 경우, 상기 웨이퍼는 200℃인 그의 표면과 18℃인 쿨링척의 온도차에 의해 급격히 냉각되며, 이러한 급냉에 의해 웨이퍼가 손상되고, 심지어는 파손되는 문제점이 있었다.
따라서, 본 고안은 상기의 제반 문제점을 해결하기 위하여 안출된 것으로서, 웨이퍼가 쿨링척에 로딩돌 경우에만 쿨링척으로 냉각수를 공급하도록 구현하므로써, 상기 웨이퍼가 서서히 냉각되도록하는 웨이퍼 냉각을 위한 쿨러 제어장치를 제공함에 그 목적이 있다.
상기 목적을 달성하기 위하여 본 고안은, 공정완료 후에 고온으로된 웨이퍼가 로딩되는 쿨링챔버 내에 구비되며, 웨이퍼를 지지하여 냉각시키는 쿨링척과, 상기 쿨링척에 소정온도의 냉각수를 공급하는 냉각수 공급밸브를 구비한 쿨러 제어장치에 있어서, 상기 쿨링챔버에 장착되어 웨이퍼의 로딩을 감지하는 감지수단; 상기 감지수단의 감지신호에 따라 전원을 인가하는 릴레이수단; 및 상기 릴레이수단에서 출력되는 전원을 인가받아 구동하여, 상기 쿨링척으로 냉각수가 공급되도록 상기 냉각수 공급밸브를 개방시키는 에어를 상기 냉각수 공급밸브에 공급하는 에어 공급수단을 포함하는 것을 특징으로 하는 웨이퍼 냉각을 위한 쿨러 제어장치를 제공한다.
이하, 첨부된 제1도를 참조하여 본 고안의 실시예를 상세히 설명한다.
제1도는 본 고안의 웨이퍼 냉각을 위한 쿨러 제어장치의 일실시예를 나타낸 구성도로서, 도면에서 1은 감지센서, 2는 릴레이부, 3은 솔레노이드 밸브, 4는 냉각수 공급밸브, 5는 쿨링척, 6은 웨이퍼를 각각 나타낸 것이다.
도면에 도시된 바와 같이, 본 고안의 웨이퍼 냉각을 위한 쿨러 제어장치는 웨이퍼(6)의 로딩시에만 냉각수가 쿨링척(5)으로 공급되도록하여 웨이퍼(6)의 온도를 서서히 낮추도록 한 것으로, 공정챔버(도면에 도시되지 않음)로부터 나온 고온의 웨이퍼(6)는 소정의 쿨링챔버(도면에 도시하지 않음)에 로딩된다. 이때, 상기 쿨링챔버의 소정위치에는 감지센서(1)가 구비되어 웨이퍼(6)의 로딩을 감지한다. 여기서, 상기 감지센서(1)에는 릴레이부(2)가 연결되며, 상기 릴레이부(2)는 감지센서(1)의 웨이퍼 감지신호에 따라 전원을 인가하도록 구동한다.
상기 릴레이부(2)에는 솔레노이드 밸브(3)가 연결되며, 상기 솔레노이드 밸브(3)는 릴레이부(2)를 통해 인가된 전원에 의해 구동되어 외부로부터 에어를 공급받는다.
상기 솔레노이드 밸브(3)는 쿨링척(5)에 냉각수를 공급하는 냉각수 공급밸브(4)에 연결되어 상기 냉각수 공급밸브(4)에 에어를 공급한다. 여기서, 상기 에어는 냉각수 공급밸브(4)를 가압하여 개방시키므로써, 상기 냉각수 공급밸브(4)로부터 쿨링척(5)으로 냉각수가 공급되도록 한다. 이때, 상기 냉각수는 웨이퍼(6)가 쿨링척(5)에 로딩되어 있는 10초 동안 계속 공급되어, 쿨링척(5) 및 그에 로딩되어 있는 웨이퍼(6)를 서서히 냉각시킨다.
상기와 같이 구성된 본 고안의 작용상태를 살펴보면, 공정완료 후에 약 200℃로 고온화된 웨이퍼(6)가 쿨링챔버 내에 로딩되는 것을 센서(1)가 감지하여 신호를 출력하면, 상기 신호에 따라 릴레이부(2)가 구동하여 전원을 인가한다.
여기서, 상기 릴레이부(2)는 감지센서(1)가 웨이퍼(6) 감지신호를 출력함에 따라 트랜지스터(TRI)를 구동시켜 12V의 직류전원을 접속기(RI)에 인가하고, 상기 접속기는 전류를 유기시켜 스위칭 단자를 접점시키므로써 24V의 직류전원을 공급한다.
그리고, 상기 스위치의 온(on) 신호에 따라 솔레노이드 밸브(3)측으로 24V의 직류전원이 인가되면, 상기 솔레노이드 밸브(3)가 구동되어 외부로부터 에어를 공급받으며, 상기 에어는 냉각수 공급밸브(4)를 가압하여 냉각수 공급밸브(4)를 개방시킨다. 그러면, 상기 냉각수가 냉각수 공급밸브(4)로부터 웨이퍼(6)가 로딩되어 있는 쿨링척(5)으로 공급된다. 여기서, 상기 냉각수는 웨이퍼(6)가 쿨링척(5)에 로딩되어 있는 10초 동안 계속해서 쿨링척(5)으로 공급된다.
이와 같은 냉각수의 계속적인 공급에 의해 상기 쿨링척(5)의 온도는 웨이퍼(6)가 로딩된 초기에는 23℃였다가, 서서히 냉각되어 18℃로 된다. 이에 따라, 상기 쿨링척(5)에 로딩되어 있는 웨이퍼(6) 역시 서서히 냉각되어 18℃로 된다.
상기와 같이 구성되어 작용하는 본 고안은, 쿨링척에 웨이퍼가 로딩될 경우에만 냉각수가 공급되도록하여 쿨링척이 일정한 비율로 단계적으로 냉각되도록 함으로써, 급냉에 따른 웨이퍼의 손상을 방지하는 효과가 있다.

Claims (1)

  1. 공정완료 후에 고온으로된 웨이퍼가 로딩되는 쿨링챔버 내에 구비되며, 웨이퍼를 지지하여 냉각시키는 쿨링척과, 상기 쿨링척에 소정온도의 냉각수를 공급하는 냉각수 공급밸브를 구비한 쿨러 제어장치에 있어서, 상기 쿨링챔버에 장착되어 웨이퍼의 로딩을 감지하는 감지수단; 상기 감지수단의 감지신호에 따라 전원을 인가하는 릴레이수단; 및 상기 릴레이수단에서 출력되는 전원을 인가받아 구동하여, 상기 쿨링척으로 냉각수가 공급되도록 상기 냉각수 공급밸브를 개방시키는 에어를 상기 냉각수 공급밸브에 공급하는 에어 공급수단을 포함하는 것을 특징으로 하는 웨이퍼 냉각을 위한 쿨러 제어장치.
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