KR0127750Y1 - Double simultaneous focus magnifying glasses device - Google Patents
Double simultaneous focus magnifying glasses device Download PDFInfo
- Publication number
- KR0127750Y1 KR0127750Y1 KR2019950007936U KR19950007936U KR0127750Y1 KR 0127750 Y1 KR0127750 Y1 KR 0127750Y1 KR 2019950007936 U KR2019950007936 U KR 2019950007936U KR 19950007936 U KR19950007936 U KR 19950007936U KR 0127750 Y1 KR0127750 Y1 KR 0127750Y1
- Authority
- KR
- South Korea
- Prior art keywords
- lens
- magnification
- high magnification
- field
- low
- Prior art date
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B25/00—Eyepieces; Magnifying glasses
- G02B25/002—Magnifying glasses
- G02B25/008—Magnifying glasses comprising two or more lenses
Abstract
본 고안은 확대경 등의확대 장치에 있어서 특히 시야는 널브나 저배율인 대구경, 광시야렌즈와 시야는 좁으나 고배율인 소구경 고배율렌즈를 광학적으로 결합구성하여 저배율과 고배율의 영상이 동시에 관측될 수 있도록 고안된 이중동시 초점확대경 장치에 관한 것이다.The present invention is an optical device that combines a large field of view, such as a magnifier and a low magnification, a large field of view, a wide field of view lens and a small field of view, but a high magnification of small diameter, so that the image of low magnification and high magnification can be observed simultaneously. A double simultaneous focal magnifier is designed.
종래 단겹 또는 복겹 확대경은 저배율 또는 고배율을 동시에 관측하기는 불가능하였으나 본 고안은 확대경테 상단에 대구경 저배율의 광시야 렌즈를 하단에는 보정렌즈 중심 또는 일방 부위에 고배율 렌즈를 결합구성하여 이중(二重)으로 구성하되 저배율 렌즈와 고배율 렌즈의 구성간격을 각기 그 초점거리의 차만큼으로 구성하여 관측물에 대한 저배율렌즈의 화상과 고배율렌즈의 화상을 동시 현출케하므로서 광시야의 저배율과 고배율 초점을 동시관측 가능케 한 것이다.Conventional single- or double-fold magnifiers cannot measure low or high magnification at the same time, but the present invention is designed by combining a large-field low magnification wide field lens at the top of the magnifier frame with a high magnification lens at the center or one part of the correction lens at the bottom. The distance between the low and high magnification lenses is set by the difference of the focal lengths, and the low magnification and the high magnification focus of the wide field of view are simultaneously observed by simultaneously displaying the images of the low magnification lens and the high magnification lens for the observation. It is possible.
이와 같은 본 고안은 관측물의 주위 전체는 저배율 광시야로 관측하고 중요부분은 고배율로 관측하므로서 저배율, 고배율이 동시 관측이 가능하고 하단 부위의 보정렌즈의 구면형태에 따라 화질수차도 보정하므로 선명한 영상 관측이 가능한 것이다.The present invention observes the entire area around the observation at low magnification and wide field of view, and the important part is observed at high magnification, so that low magnification and high magnification can be observed at the same time, and the image aberration is corrected according to the spherical shape of the correction lens at the lower part. This would be possible.
따라서 이러한 본고안은 전자부품, 귀금속 검사, 모직물 검사 각 정밀부품 검사등 산업분야는 물론 곤충,식물의 관측등 교육교재 분야 등에 광범위하게 응용될 수 있는 매우 실용적인 고안이다.Therefore, this paper is a very practical design that can be applied to a wide range of industries such as electronic parts, precious metals inspection, wool inspection, precision parts inspection, education teaching field such as insects and plants.
Description
제1도는 종래 확대 장치의 설명도.1 is an explanatory diagram of a conventional magnification device.
제2도는 본고안의 작용효과 설명도.2 is an explanatory diagram of the effect of the present proposal.
제3도는 본고안의 구성 설명도.3 is an explanatory diagram of the configuration of the present proposal.
제4도는 본고안의 구성 단면에 대한 설명도.4 is an explanatory diagram of a sectional view of the present invention.
제5도는 본고안의 실시의 예 설명도.5 is an explanatory diagram showing an example of implementation of the present invention.
* 도면의 주요부분에 대한 부호의 설명* Explanation of symbols for main parts of the drawings
1 : 렌즈테 2 : 광시야렌즈1 Lens frame 2 Wide field lens
3 : 고배율렌즈 4 : 보정렌즈3: high magnification lens 4: correction lens
5 : 고정테 6 : 손잡이5: fixed frame 6: handle
A : 관측물 B : 저배율의 시야A: Observation B: Low Field of View
C : 고배율의 시야 F1 : 광시야 렌즈의 초점거리C: High Field of View F1: Focal Length of Wide Field Lens
F2 : 고배율 렌즈의 초점 거리F2: Focal length of high magnification lens
본 고안은 확대경 등의 장치로서 시야는 넓으나 저배율인 대구경 광시야 렌즈와, 시야는 좁으나 배율이 높은 고배율 렌즈를 광학적으로 결합하되, 대구경 광시야 렌즈의 저배율 초점과 고배율 렌즈의 초점이 갖는 이중 초점이 동시 초점으로 결상하도록 광학적으로 구성 저배율의 광시야 확대 영상과 고배율의확대 영상을 동시 관측할 수 있게끔 고안한 이중 동시 초점 확대경 장치에 관한 것이다.The present invention is a device such as a magnifier, which combines a large-diameter wide-field lens with a wide field of view but low magnification and a high-magnification lens with a narrow field of view but a high magnification, but has a low magnification focus of a large-diameter wide field lens and a focus of a high magnification lens. The present invention relates to a dual simultaneous focus magnifier device designed to allow simultaneous observation of a low magnification wide field of view image and a high magnification magnification image so that the focus is imaged at the same time.
종래이 확대경들은 공지된 바와같이 도면 제1a도와 같은 경동확대경(일본공개소 55-162210)이나 도면 제1b도와 같은 부가렌즈부 확대경(일본공개소 55-32817) 장치가 있으나 도면 제1a도와 같이 일본공개소 55-162210 경동 확대경 장치는 렌즈가 하나일 경우 저배율로, 상단 렌즈와 겹칠시는 고배율로 확대되는 장치로서, 고배율 또는 저배율 중 택일하여 선택 관측이 가능할뿐 저배율, 고배율 동시 관측은 불가능하다.Conventionally, the magnifiers are known as a magnifying glass (Japanese Laid-Open No. 55-162210) as shown in Fig. 1a or an additional lens unit magnifying glass (Japanese Laid-Open No. 55-32817) as shown in Fig. 1b, as known in the art. The 55-162210 tilt magnifier is a device that expands to a low magnification when one lens is used, and to a high magnification when it overlaps with an upper lens. It is possible to select observation of either a high magnification or a low magnification and to simultaneously observe low magnification and high magnification.
또한 도면 제1b도와 같이 일본공개소 55-32817 부가 렌즈부 확대경 장치는 렌즈 하나로 관측시는 저배율만 관측되고 부가 렌즈를 겹쳐 사용할 때는 겹치는 부분이 고배율이 되나 이 경우 고배율 초점 위치와 저배율 초점 위치가 달라지는 관계로 고배율 부분으로 확대 관측시는 확대경의 위치를 하향 위치 해야하고 저배율로 확대 관측시는 다시 확대경의 위치를 상향 위치 해야하는 관계로 이역시 저배율과 고배율 중 선택 관측만이 가능할뿐 동시 관측이 불가능 한 것이다.In addition, as shown in FIG. 1B, the Japanese Laid-Open 55-32817 additional lens unit magnifier only observes the low magnification when one lens is observed, and when the additional lenses are overlapped, the overlapping portion becomes the high magnification, but in this case, the high magnification focus position and the low magnification focus position are different. As a result, the magnifier should be positioned downward when zooming in to the high magnification, and the magnifier should be positioned upward when zooming in at low magnification. will be.
그러나 도면 제2도처럼 필요에 따라서는 관측물(A)을 관측함에 있어서 주위는 저배율 광시야로 관측하면서 동시에 중요 부분은 고배율로 관측해야 할 필요성이 있는 것이다.However, as shown in FIG. 2, when observing the observation A as necessary, it is necessary to observe the surrounding area with a low magnification wide field of view while at the same time, the important part should be observed with a high magnification.
예를들면 전자회로 등을 검사할 경우 저배율로는 광시야로 넓은 면적을, 중요 부분은 고배율로 동시 관측할 경우와 같은 산업적인 이용 분야와 꽃의 전체형태는 저배율 광시야로 암술, 수술 부분은 고배율로 동시 관측해야 하는 등의 교육 이용 분야등이 그것이다.For example, when inspecting electronic circuits, the field of industrial use, such as the case of observing a large area with a wide field of view at low magnification, and the important part with a high magnification at the same time, and the entire form of a flower with a low magnification wide field of vision, pistil, surgery part This is the field of educational use such as the simultaneous observation at high magnification.
즉, 제2도처럼 관측물(A)를 저배율 범위인 B로 시야 넓게 관측하면서 고배율 범위인 C를 동시 관측하게 하는 즉, 광시야의 저배율과 고배율이 동시 초점이 가능하게한 확대경 장치의 구조가 새롭게 요구되는 것이다.That is, as shown in FIG. 2, the observation device A is widely observed in the low magnification range B while simultaneously observing the high magnification range C. That is, the structure of the magnifying glass device that allows the low magnification and the high magnification of the wide field of view to be simultaneously focused It is a new requirement.
본고안은 상기와 같은 문제점을 해결하기 위해 종래 문제점을 개선, 주변으로는 넓은 시야 범위의 저배율로 관측하면서 중심 부위로는 고배율 확대 영상을 관측 거리 위치 재조정 없이 동시에 관측할 수 있게끔 고안한 것이다.In order to solve the above problems, the present invention improves the conventional problems, and is designed to observe a high magnification image at the same time without repositioning the observation distance while observing at a low magnification of a wide field of view at the periphery.
제3도 및 제4도와 같이 전체의 구성은 본고안의 구성을 모두 구성할 수 있는 렌즈테(1) 상단에 대구경인 저배율의 광시야 렌즈(2)를 구서하고 하단에는 중심부로 고배율 렌즈(3)를 구성하고 그 하단으로는 보정 렌즈(4)를 구성하되 광시야 렌즈(2) 중심부와 보정렌즈(4) 중심부는 각각 첨공하여 그 중심에 고정테(5)를 입설하고 내부 하단에 고배율 렌즈(5)를 구성한다.As shown in FIG. 3 and FIG. 4, the overall structure is a large-field, low-magnification wide-field lens (2) on the top of the lens frame (1), which can compose all of the configurations of this paper, and a high-magnification lens (3) at the center at the bottom. And a correction lens (4) at the lower end of the optical field lens (2) and the center of the correction lens (4), respectively, the fixed frame (5) in the center of the high magnification lens ( 5) Configure.
이와 같은 본고안의 광학적 구성은 다음과 같이 한다.The optical configuration of this paper is as follows.
즉, 광시야 렌즈(2)의 직경은 D, 고배율 렌즈(3)의 직경은 D1, 광시야 렌즈(2)의 초점 거리는 F1, 고배율 렌즈(3)의 초점 거리는 F2로 하고 보정렌즈(4)의 전면 곡률은 R5, 후면 곡률은 R6으로 하며 광시야 렌즈(2)와 고배율 렌즈(3)와의 간격은 H라고 할 때에 우선 D1:D의 비율은 1:1.5-15로 한다.That is, the diameter of the wide field lens 2 is D, the diameter of the high magnification lens 3 is D1, the focal length of the wide field lens 2 is F1, the focal length of the high magnification lens 3 is F2, and the correction lens 4 The front curvature of R5 is the rear curvature of R6, and the distance between the wide field lens 2 and the high magnification lens 3 is H. First, the ratio of D1: D is 1: 1.5-15.
이와같은 이유는 D1:D의 비율은 1:1.5이하로 할 경우 고배율 렌즈(3)의 시야인 C가 광시야 렌즈(2)의 시야인 B를 2/3 이상 점유시는 광시야의 관측작용 효과가 저감되고 D1:D의 비율을 1:15 이상으로 할 경우는 반대의 경우로 고배율 렌즈(3)의 시야가 너무 적어 그 관측 효과가 감소하기 때문이다.The reason for this is that when the ratio of D1: D is 1: 1.5 or less, when C, the field of view of the high magnification lens 3, occupies B, which is the field of view of the wide field lens 2, 2/3 or more, the observation of the wide field of view is performed. This is because when the effect is reduced and the ratio D1: D is 1:15 or more, the field of view of the high magnification lens 3 is too small in the opposite case, and the observation effect is reduced.
또한, H의 간격은 F1 - F2 - H로 구성한다.In addition, the space | interval of H comprises F1-F2-H.
즉, 광시야 렌즈(2)의 초점 거리인 F1에서 고배율 렌즈(3)의 초점 거리인 F2를 뺀 거리로 양렌즈 간격인 H를 구성하므로서 최종적으로 광시야 렌즈(2)를 기준하여 고배율 렌즈(3)의 초점 거리 F2와 광시야 렌즈(20이 초점거리 F1이 동시 초점 위치를 갖게 되는 것이다.That is, the distance between the two lens intervals H is formed by subtracting F2, the focal length of the high magnification lens 3, from F1, the focal length of the wide field lens 2, and finally a high magnification lens ( The focal length F2 of 3) and the wide-field lens 20 have the focal length F1 at the same time.
F2:F1의 비율은 1:1.5-10으로 한다.The ratio of F2: F1 is 1: 1.5-10.
이와같은 이유는 F2:F1의 비율을 1:1.5 미만으로 할 경우 고배율과 저배율의 확대 차이가 적어 고배율, 저배율의 동시 관측 효과가 감소하고 F2:F1의 비율을 1:10 이상으로 할경우는 그 배율의 차만큼 비레하여 H의 간격이 길어지므로 상기 D1:D이 비율 유지가 어렵기 때문이다.The reason for this is that if the ratio of F2: F1 is less than 1: 1.5, there is little difference between the enlargement of the high and low magnifications, so the effect of simultaneous observation of high and low magnifications is reduced, and when the ratio of F2: F1 is 1:10 or more, This is because it is difficult to maintain the ratio of D1: D because the interval of H becomes long due to the difference in magnification.
또한, 보정 렌즈(4)의 형태는 R5와 R6을 평면 형태, 또는 R5를 +의 힘을 갖는 구면으로 R6을 -의 힘을 갖는 구면으로 구성하여 색수차 등을 보정할 수 있다.In addition, the shape of the correcting lens 4 can be configured such that the chromatic aberration and the like can be corrected by forming R5 and R6 into a planar shape, or R5 into a spherical surface having a positive force and R6 as a spherical surface having a negative force.
[실시예]EXAMPLE
상기와 같은 구성을 하기 실시예를 들어 좀더 상세히 설명하고자 한다.Such a configuration will be described in more detail with reference to the following examples.
단위 m/mUnit m / m
D 80D 80
D1 25D1 25
F1 150F1 150
F2 40F2 40
H 110H 110
상기와 같은 재원에 의하여 실시할 경우 D1:D의 비율은 25:80 (1:3.2)으로 1:1.5-15 비율 범위 이내이며 F2:F1의 비율은 40:150 (1;3.75)으로 1:1.5-10 비율 범위 이내이며 H = 110으로 F1 - F2 (150-40)와 동일하게 된다.The ratio of D1: D is 25:80 (1: 3.2) in the range of 1: 1.5-15, and the ratio of F2: F1 is 40: 150 (1; 3.75). It is within the 1.5-10 ratio range and equals F1-F2 (150-40) with H = 110.
따라서, 이와같은 실시의 경우 저배율 범위, 고배율의 관측 면적 범위 비율은 구경비로 1:3.75이며 저배율의 확대 배율에 의한 비율은 공지된 확대 배율 공식(배율구하는 공식=250mm/초점거리)에 의거 저배율 = 250/150 = 1.67배 고배율 = 250/40 = 6.25배로 고배율 : 저배율 비율은 6.25:1.67이다.Therefore, in this case, the ratio of the low magnification range and the high magnification observation area range is 1: 3.75 as the aperture ratio, and the ratio by the low magnification ratio is low magnification ratio based on a known magnification formula (scaling formula = 250 mm / focal length). 250/150 = 1.67x High magnification = 250/40 = 6.25x High magnification: Low magnification ratio is 6.25: 1.67.
따라서, 이와같은 본고안의 작용 효과는 D1:D의 비율을 1:1.5-15로 하고 광시야 렌즈(2)와 고배율 렌즈(3)의 간격인 H를 광시야 렌즈(2)의 초점거리 F1에서 고배율 렌즈(3)의 초점거리 F2를 뺀 간격으로 설정 구성하므로서 광시야 렌즈(2)의 저배율과 고배율 렌즈(3)의 초점 거리를 동시 초점으로 작용 저배율과 고배율의 동시 관측이 가능하며 초점의 인한 F2:F1의 비율도 1:1.5-10으로 하므로서 F2의 배율을 2배로 할 경우 F1의 고배율은 20배까지 동시 관측이 가능한 것이다.Therefore, the effect of this paper is that the ratio of D1: D is 1: 1.5-15, and H, which is the distance between the wide field lens 2 and the high magnification lens 3, is determined at the focal length F1 of the wide field lens 2. By setting the intervals by subtracting the focal length F2 of the high magnification lens 3, the low magnification of the wide field of view lens 2 and the focal length of the high magnification lens 3 are used as simultaneous focusing. Since the ratio of F2: F1 is also 1: 1.5-10, when the magnification of F2 is doubled, the high magnification of F1 can be observed up to 20 times.
또한, 본 고안은 제5도와 같이 본고안의 구성을 전후 이동하는 전후 이동축(10)과 좌우로 이동하는 좌우 이동축(11)과 연계하여 검사 장치로 활용할 수 있으며 광시야 렌즈(2)의 중심 부분을 첨공, 공정테(5)를 착설 지지하여 고배율 렌즈(3)를 그 하단 내부에 구성할 경우 보정 렌즈(4)의 구성을 삭제할 수도 있다. 또한, 각 렌즈의 형태도 원형, 사각 형태도 가능하며 여러 형태의 손잡이(6) 또는 공지된 지지대와 결합할 수 있으며 렌즈테(1)와 고정테(5)의 구조는 투명 재질로 하여 외부의 빛을 입사할 수 있으며, 광시야 렌즈(2)의 중심 부분을 첨공하지 않고 고배율 렌즈(3)와의 초점 거리와 합산하여 구성할 수도 있다. 이 경우는 상기 본고안의 요지 이내에서 H의 길이를 그만큼 가감 조정하면 된다. 또한 고배율 렌즈(3)의 위치를 상기 본고안의 요지 이내에서 중심 아닌 필요 위치에 구성할 수도 있다.In addition, the present invention can be utilized as an inspection apparatus in conjunction with the front and rear moving shaft 10 moving forward and backward and the left and right moving shaft 11 moving left and right as shown in FIG. 5 and the center of the wide field lens 2 In the case where a high magnification lens 3 is formed inside the lower end by attaching and supporting the process frame 5, the configuration of the correction lens 4 may be deleted. In addition, the shape of each lens is also possible in the form of a circle, a square, and can be combined with various types of handle (6) or a known support, the structure of the lens frame (1) and fixed frame (5) is made of a transparent material Light can be incident and can be configured by summing up the focal length with the high magnification lens 3 without pinching the central portion of the wide field lens 2. In this case, the length of H may be added or decreased within the gist of the present paper. Moreover, the position of the high magnification lens 3 can also be comprised in the required position which is not centered within the summary of the said specification.
따라서, 이러한 본고안은 대구경인 광시야 렌즈(20와 고배율 렌즈(3)를 광학적 재원으로 결합 구성하므로서 광시야인 저배율과 고배율을 동시에 관측 가능하게하여 전자 회로판 검사, 정밀 부품, 귀금속 관측등 산업상의 이용과 곤충, 식물, 광물의 검사등 교육 기자재의 이용등 그 활용 범위가 넓고 다양한 용도로 사용할 수 있는 매우 실용적인 고안인 것이다.Therefore, this paper combines a large-diameter wide-field lens 20 and a high magnification lens 3 with optical resources, thereby enabling the simultaneous observation of low-field and high magnification, which is wide field of view, for use in industrial applications such as electronic circuit board inspection, precision parts, and precious metal observation. It is a very practical design that can be used for various purposes, such as the use of educational equipment such as inspection of insects, plants and minerals.
Claims (2)
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR2019950007936U KR0127750Y1 (en) | 1995-04-15 | 1995-04-15 | Double simultaneous focus magnifying glasses device |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR2019950007936U KR0127750Y1 (en) | 1995-04-15 | 1995-04-15 | Double simultaneous focus magnifying glasses device |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| KR960035333U KR960035333U (en) | 1996-11-21 |
| KR0127750Y1 true KR0127750Y1 (en) | 1998-12-15 |
Family
ID=19411597
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| KR2019950007936U KR0127750Y1 (en) | 1995-04-15 | 1995-04-15 | Double simultaneous focus magnifying glasses device |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| KR (1) | KR0127750Y1 (en) |
-
1995
- 1995-04-15 KR KR2019950007936U patent/KR0127750Y1/en not_active IP Right Cessation
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| KR960035333U (en) | 1996-11-21 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JPH08190056A (en) | Optical observation device | |
| US5144478A (en) | Microscope including first and second stages in conjugate planes | |
| JPH10339845A (en) | Monitor observation type microscope | |
| US5191470A (en) | Monocular optical inspection system with long eye relief and enhanced depth perception | |
| US6268957B1 (en) | Computer controlled stereo microscopy | |
| US4135778A (en) | Microscope lens system | |
| KR0127750Y1 (en) | Double simultaneous focus magnifying glasses device | |
| JP4274592B2 (en) | Image processing device | |
| JPH0771917A (en) | Lead inspecting device of semiconductor device | |
| US20100118297A1 (en) | Microscope having multiple image-outputting devices and probing apparatus for integrated circuit devices using the same | |
| US4666262A (en) | Optical systems for endoscopes | |
| US3229570A (en) | Projection microscope | |
| EP0404304A2 (en) | Microscope | |
| CN2290061Y (en) | Conjugate varifocal high multiplying power opticamplifier | |
| US20060109563A1 (en) | Optical arrangement with a telecentric beam region | |
| JPH0297910A (en) | Attachment optical device for stereoscopic microscope | |
| US4283110A (en) | Optical system for discussion-microscope | |
| KR940007343Y1 (en) | Microscope | |
| JPS60227214A (en) | Binocular stereomicroscope | |
| JPH04107411A (en) | Enlarging observation device | |
| JP7210385B2 (en) | Observation device | |
| US20230221540A1 (en) | Continuous Zoom Stereoscopic Microscope with Adjustable Stereoscopic Angle | |
| US4627693A (en) | Transmission type illuminating device for stereomicroscopes | |
| JP5184752B2 (en) | Stereo microscope | |
| JP2980157B2 (en) | microscope |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A201 | Request for examination | ||
| E902 | Notification of reason for refusal | ||
| E701 | Decision to grant or registration of patent right | ||
| REGI | Registration of establishment | ||
| FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20011116 Year of fee payment: 6 |
|
| LAPS | Lapse due to unpaid annual fee |