KR0121755B1 - 합성 중합체에 대한 광안정화제로서 유용한 피페리딘-트리아진 화합물 및 이를 함유하는 조성물 - Google Patents
합성 중합체에 대한 광안정화제로서 유용한 피페리딘-트리아진 화합물 및 이를 함유하는 조성물Info
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Abstract
내용없음.
Description
본 발명은 신규한 피페리딘-트리아진 화합물, 광안정제, 가열안정제 및 산화안정제로서 이들 화합물의 용도와 안정화된 유기 물질, 특히 합성 중합체에 관한 것이다.
합성 중합체를 산소존재하에서 태양광선 또는 기타 자외선 공급원에 쪼여줄 경우에 이들 중합체는 기계적 강도 손실 및 변색과 같은 물리적 성질의 급격한 변화를 갖게 된다는 사실은 이미 공지된 사항들이다.
합성 중합체의 광-산화성 붕해 현상을 억제시키기 위해서 벤조페논 및 벤조트리아졸의 특정 유도체, 닉켈 착물, 치환된 벤조산 에스테르, 알킬리덴-말로네이트, 시아노-아크릴레이트, 방향족 옥시아미드 및 입체 장애 아민류와 같은 광안정화 특성을 갖고 있는 다양한 첨가제들을 사용하는 것이 제안되었다.
2,2,6,6-테트라메틸 피레리딘의 특정 트리아진 유도체와 이들의 합성 중합체용 안정화제로서의 용도가 미합중국 특허 제4,108,829호 및 유럽 특허 제117,229호에 기술되어 있다.
본 발명은 다음 일반식(I)의 신규한 피페리딘-트리아진 화합물에 관한 것이다.
상기 식에서, R1은 C1-C8알킬옥시, 알릴옥시, 알릴아미노, 디(C1-C4알킬)아미노, 디알릴아미노, 트리아진 고리에 연결된 질소원자를 갖고 있는 5원 내지 7원의 질소함유 헤테로사이클기 또는 다음 일반식(Ⅱ)의 기이고;
R2는 수소, O, OH, NO, CH2CN, C1-C8알킬, 알릴, 벤질, C1-C8아실, C1-C18알킬옥시, C5-C12시클로알킬옥시 또는 OH-모노치환된 C2-C4알킬이며; R3및 R5는 상호 독립적으로 수소, C1-C12알킬, C5-C12시클로알킬, C7-C9페닐알킬, 테트라히드로푸르푸릴, OH에 의해, C1-C4알킬옥시에 의해 또는 디(C1-C4알킬)아미노에 의해 모노치환된 C2-C4알킬 또는 다음 일반식(Ⅲ)의 기(여기서 R2는 앞의 정의와 동일함)이고; R4는 수소, C1-C12알킬 또는 시클로헥실이며; 또 n은 2 내지 6의 정수이다.
C1-C8알킬옥시인 R1의 대표적인 예로는 메톡시, 에톡시, 프로폭시, 이소프로폭시, 부톡시, 이소부톡시, t-부톡시, 헥실옥시 및 옥틸옥시를 들 수가 있다.
C1-C4알킬옥시가 바람직하다.
디(C1-C4알킬)아미노인 R1의 대표적인 예로는 디메틸아미노, 디에틸아미노,디프로필아미노, 디이소프로필아미노, 디부틸아미노와 디이소부틸아미노를 들 수가 있다. 디메틸아미노와 디에틸아미노가 바람직하다.
5원 내지 7원 질소 함유 헤테로사이클기인 R1의 대표적인 예로는 1-피롤리딜, 1-피페리딜, 4-모르폴리닐, 1-헥사히드로아제핀일과 4-메틸-1-피페라진일을 들 수가 있다. 4-모르폴리닐이 바람직하다.
C1-C8알킬인 R2의 대표적인 예로는 메틸, 에틸, 프로필, 부틸, 펜틸, 헥실, 헵틸 및 옥틸을 들 수가 있다. C1-C4알킬, 특히 메틸이 바람직하다.
C1-C8아실인 R2는 지방족 또는 방향족 아실기일 수가 있다. 이들의 예로는 포르밀, 아세틸, 프로피오닐, 부티릴, 발레릴, 헥산오일, 옥탄오일, 벤조일, 아크릴오일 및 크로톤오일을 들 수가 있다. C1-C8알칸오일, C3-C8알켄오일 및 벤조일이 바람직하다. 아세틸이 특히 바람직하다.
바람직하게는 2,3 또는 4위치에서 OH에 의해 모노치환된 C2-C4알킬인 R2,R3및 R5의 대표적인 예로는 2-히드록시에틸, 2-히드록시프로필, 3-히드록시프로필, 2-히드록시부틸과 4-히드록시부틸을 들 수가 있다. 2-히드록시에틸이 특히 바람직하다.
C1-C18알킬옥시인 R2의 예로는 메톡시, 에톡시 n-프로폭시, n-부톡시, 2급-부톡시, 3급-부톡시, n-헥실옥시, n-옥틸옥시, 2-에틸헥실옥시, n-노닐옥시, n-데실옥시, n-운데실옥시, n-도데실옥시, n-트리데실옥시, n-테트라데실옥시, n-헥사데실옥시 또는 n-옥타데실옥시를 들 수가 있다. C8-C12알킬옥시, 특히 헵틸옥시와 옥틸옥시가 바람직하다.
C5-C12시클로알킬옥시인 R2의 예로는 시클로펜틸옥시, 시클로헥실옥시, 시클로옥틸옥시, 시클로노닐옥시 또는 시클로도데실옥시를 들 수가 있다. 시클로펜틸옥시 및 시클로헥실옥시가 바람직하다.
C1-C12알킬인 R3, R4및 R5의 대표적인 예로는 메틸, 에틸, 프로필, 이소프로필, 부틸, 2-부틸, 이소부틸, t-부틸, 펜틸, 헥실, 헵틸, 옥틸, 2-옥틸, 2-에틸헥실, 노닐, 데실 및 도데실을 들 수가 있다. C1-C8알킬인 R3및 R5가 바림직하다.
C5-C12시클로알킬인 R3및 R5의 예로는 시클로펜틸, 시클로헥실, 메틸시클로헥실, 디메틸시클로헥실, 트리메틸시클로헥실, 시클로옥틸 및 시클로도데실을 들 수가 있다. a가 4 내지 7의 정수인 일반식 -CH(CH2)a의 시클로알킬기가 바람직하다. 이들 기는 경우에 따라 C1-C4알킬, 특히 메틸로서 치환될 수 있다. 시클로헥실이 특히 바람직하다.
C7-C9페닐알킬인 R3및 R5의 대표적인 예로는 벤질, 메틸벤질, 디메틸벤질과 2-페닐에틸이 있다. 비치환되거나 또는 1개 또는 2개의 메틸기로서 페닐고리가 치환된 벤질이 바람직하다.
바람직하게는 2,3 또는 4위치에서 C1-C4알킬옥시로서 모노치환된 C2-C4알킬인 R3및 R5의 대표적인 예로는 2-메톡시에틸, 2-에톡시에틸, 2-부톡시에틸, 3-메톡시프로필, 3-에톡시프로필, 3-부톡시프로필 및 4-메톡시부틸을 들 수가 있다.
바람직하게는 2,3 또는 4위치에서 디(C1-C4알킬)아미노로서 모노치환된 C2-C4알킬인 R3및 R5의 대표적인 예로는 2-디메틸아미노에틸, 2-디에틸아미노에틸, 2-디부틸아미노에틸, 3-디메틸아미노프로필, 3-디에틸아미노프로필, 3-디프로필아미노프로필과 3-디부틸아미노프로필을 들 수가 있다.
R1이 C1-C4알킬옥시, 알릴옥시, 알릴아미노, 디(C1-C3알킬)아미노, 디알릴아미노, 1-피롤리딜, 1-피페리딜, 4-모르폴리닐, 1-헥사히드로아제핀일 또는 일반식(Ⅱ)의 기이고; R2가 수소, CH2CN, C1-C4알킬, 알릴, 벤질, 아세틸 또는 OH-모노치환된 C2-C3알킬이며; R3및 R5가 각각 독립적으로 수소, C1-C12알킬, 시클로헥실, 벤질, 테트라히드로푸르푸릴, OH로서, C1-C4알킬옥시로서 또는 디(C1-C3알킬)아미노로서 모노치환된 C2-C3알킬, 또는 일반식(Ⅲ)의 기이고, R4가 수소, C1-C4알킬 또는 시클로헥실이며 또 n이 2 또는 3인 일반식(Ⅰ)의 화합물들이 바람직하다.
R1이 C1-C3알킬옥시, 알릴옥시, 알릴아미노, 디메틸아미노 또는 디에틸아미노, 디알릴아미노, 4-모르폴리닐 또는 일반식(Ⅱ)이 기이고; R2가 수소, 메틸, 알릴, 벤질, 아세틸 또는 2-히드록시에틸이며; R3및 R5가 각각 독립적으로 수소, C1-C3알킬, 시클로헥실, 벤질, 테트라히드로푸르푸릴, OH로서, 메톡시로서, 에톡시로서, 디메틸아미노로서 또는 디에틸아미노로서 모노치환된 C2-C3알킬, 또는 일반식(Ⅲ)의 기이고 ; R4가 수소, 또는 C1-C3알킬이며 또 n이 2 또는 3인 일반식(Ⅰ)의 화합물들이 특히 바람직하다.
R1이 4-모르폴리닐 또는 일반식(Ⅱ)의 기이고; R2가 수소 또는 메틸이며; R3및 R5가 독립적으로, C1-C8알킬, 테트라히드로푸르푸릴, 2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딜 또는 1,2,2,6,6-펜타메틸-4-피페리딜이고; R4가 수소 또는 메틸이며 또 n이 2인 일반식(Ⅰ)의 화합물들이 특별한 관심이 있는 화합물들이다.
R1이 일반식(Ⅱ)의 기이고; R2가 수소 또는 메틸이며; R3및 R5가 독립적으로 C1-C4알킬, 2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딜 또는 1,2,2,6,6-펜타메틸-4-피페리딜이고; R4가 수소 또는 메틸이며; 또 n이 2인 일반식(Ⅰ)의 화합물들이 특히 관심있는 화합물들이다.
R2는 수소 또는 메틸이 바람직하다.
일반식(Ⅰ)의 화합물들의 바람직한 예는 다음과 같다.
1-[2-[[2,4-비스[N-(2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딜)에틸아미노]-1,3,5-트리아진-6-일]아미노]에틸]-4-[2,4-비스[N-(2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딜)에틸아미노]-1,3,5-트리아진-6-일]피페라진.
1-[2-[[2,4-비스[N-(2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딜)-n-부틸아미노]-1,3,5-트리아진-6-일]아미노]에틸]-4-[2,4-비스[N-(2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딜)-n-부틸아미노]-1,3,5-트리아진-6-일]피페라진.
1-[2-[[2,4-비스[N-(2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딜)아미노]-1,3,5-트리아진-6-일]아미노]에틸]-4-[2,4-비스[N,N-비스(2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딜)아미노]-1,3,5-트리아진-6-일]피페라진.
1-[2-[[2,4-비스[N-(1,2,2,6,6-펜타메틸-4-피페리딜)에틸아미노]-1,3,5-트리아진-6-일]아미노]에틸]-4-[2,4-비스[N-(1,2,2,6,6-펜타메틸-4-피페리딜)에틸아미노]-1,3,5-트리아진-6-일]피페라진.
1-[2-[[2,4-비스[N-(1,2,2,6,6-펜타메틸-4-피페리딜)-n-부틸아미노]-1,3,5-트리아진-6-일]아미노]에틸]-4-[2,4-비스[N-(1,2,2,6,6-펜타메틸-4-피페리딜)-n-부틸아미노-1,3,5-트리아진-6-일]피페라진.
일반식(Ⅰ)의 화합물들은 예들들어 필요로하는 순서에 따라 시아누르 클로라이드를 다음 일반식(Ⅳ),(Ⅴ) 및 (Ⅵ)의 화합물과 반응시키는 공지 방법에 따라 제조될 수 있다.
상기 식에서, R1, R2, R3, R4및 n은 앞에서 정의한 것과 동일하다.
이들 반응은 이 반응에서 방출되는 염산 당량 이상의 유기 또는 무기염기, 바람직하게는 수산화나트륨 또는 칼륨 또는 탄산나트륨 또는 칼륨존재하의 유기용매, 예를 들어 t-부탄올, t-펜탄올, 아세톤, 메틸에틸케톤, 메틸 이소부틸 케톤, 디옥산, 테트라히드로푸란, 디부틸에테르, 벤젠, 톨루엔, 크실렌, 트리메틸벤젠, 에틸벤젠, 데칼린, 옥탄, 데칸, 클로로벤젠 또는 N-메틸 피롤리돈중에서 편리하게 진행시킬 수 있다.
염화 시아누르산의 첫번째 염소 치환은 -30°내지 40℃, 특히 -10°내지 30℃ 온도에서 바람직하게 진행되며, 두번째 염소 치환은 40℃ 내지 120℃, 특히 50°내지 100℃에서 바람직하게 진행되고, 또 세번째 염소 치환은100°내지 200℃, 특히 120°내지 180℃에서 바람직하게 진행된다.
이들 반응의 각 단계는 중간체를 분리하지 않고 단일 반응기내의 동일 반응 매질내에서 진행시키거나, 또는 중간체를 분리제거하고 또 필요한 경우 정제한 후에 진행시킬 수 있다.
앞에서 지적한 바와 같이, 일반식(Ⅰ)의 화합물들은 유기물질, 특히 합성 중합체 및 공중합체의 광안정성, 가열안정성 및 산화안정성을 개선하는데 매우 효과가 있다. 특히, 본 발명 화합물의 탁월한 산화안정 효과는 놀라울 정도이다.
따라서, 본 발명의 이밖의 목적은 가열, 산화 또는 광(光) 유발성 분해가 일어나는 유기물질과 1개 이상의 일반식(Ⅰ)의 화합물로 구성되는 조성물에 있다.
안정화될 수 있는 유기물질의 예들은 다음과 같다.
1. 모노올레핀과 디올레핀들의 중합체(예를 들어 폴리프로필렌, 폴리이소부틸렌, 폴리부텐-1, 폴리메틸펜텐-1, 폴리이소프렌 또는 폴리부타디엔)와 시클로올레핀(예를 들어 시클로펜탄 또는 노르보르넨), 폴리에틸렌[경우에 따라 교차 결합될 수 있음 : 예를 들어 고밀도 폴리에틸렌(HDPE), 저밀도 폴리에틸렌(LDPE)과 선형 저밀도 폴리에틸렌(LLDPE)]의 중합체.
2. 상기 1항에서 언급된 중합체들의 혼합물, 예를 들어 폴리프로필렌과 폴리이소부틸렌의 혼합물, 폴리프로필렌과 폴리에틸렌의 혼합물(예 : PP/HDPE, PP/LDPE)과 상이한 형태의 폴리에틸렌 혼합물(예 : LDPE/HDPE).
3. 모노올레핀과 디올레핀 상호간 또는 다른 비닐 단량체와의 공중합체[예 : 에틸렌/프로필렌, 선형저밀도 폴리에틸렌(LLDPE)과 이의 저밀도 폴리에틸렌(LDPE)과의 혼합물, 프로필렌/부텐-1, 에티렌/헥센, 에틸렌/에틸펜텐, 에틸렌/헵텐, 에틸렌/옥텐, 프로필렌/이소부틸렌, 에틸렌/부텐-1, 프로필렌/부타디엔, 이소부틸렌/이소프렌, 에틸렌/알킬아크릴레이트, 에틸렌/알킬 메타크릴레이트, 에틸렌/비닐아세테이트 또는 에틸렌/아크릴산 공중합체 및 이들의 염(이오노머)]; 에틸렌과 프로필렌 헥사디엔, 디시클로펜타디엔 또는 에틸리덴-노르브르넨과 같은 디엔과의 3중합체와 이같은 공중합체와 이들 혼합물의 상기 1항에서 언급한 중합체들과의 혼합물(예 : 폴리프로필렌/에틸렌-프로필렌-공중합체, LDPE/EVA, LDPE/EAA, LLDPE/EVA 및 LLDPE/EAA).
3a. 탄화수소 수지(예 : C5-C9)와 그 가수소화 변성품(예 : 점착제).
4. 폴리스티렌, 폴리-(p-메틸스티렌), 폴리-(α-메틸스티렌).
5. 스티렌 또는 α-메틸스티렌과 디엔류 또는 아크릴유도체의 공중합체(예 : 스티렌/부타디엔, 스티렌/아크릴로니트릴, 스티렌/알킬 메타크릴레이트, 스티렌/말레산무수물, 스티렌/부타디엔/에틸 아크릴레이트, 스티렌/아크릴로니트릴/ 메틸 아크릴레이트); 스티렌 공중합체와 기타 중합체(예 : 폴리아크릴레이트, 디엔 중합체 또는 에틸렌/프로필렌/디엔 삼중합체)로부터의 고충격강도 혼합물과 스티렌의 블럭 공중합체(예 : 스티렌/부타디엔/스티렌, 스티렌/이소프렌/스티렌, 스티렌/에틸렌/부틸렌/스티렌 또는 스티렌/에틸렌/프로필렌/스티렌).
6. 스티렌 또는 α-메틸스티렌의 그라프트 공중합체[예 : 폴리부타디엔 부착 스티렌, 폴리부타디엔-스티렌 또는 폴리부타디엔-아크릴로니트릴 부착 스티렌; 폴리부타디엔 부착 스티렌 및 아크릴로 니트릴(또는 메타크릴로 니트릴); 폴리부타디엔 부착 스티렌 및 말레산 무수물 또는 말레이미드; 폴리부타디엔 부착 스티렌, 아크릴로니트릴 및 말레산 무수물 또는 말레이미드; 폴리부타디엔 부착 스티렌, 아크릴로니트릴 및 메틸 메타크릴레이트, 폴리부타디엔 부착 스티렌 및 알킬아크릴레이트 또는 메타크릴레이트, 에틸렌/프로필렌/디엔 삼중체 부착 스티렌 및 아크릴로니트릴, 폴리아크릴레이트 또는 폴리메타크릴레이트 부착 스티렌 및 아크릴로니트릴, 아크릴레이트/부타디엔 공중합체 부착 스티렌 및 아크릴로니트리]과 제5항에 수득된 공중합체와 이들의 혼합물(예 : ABS-, MBS-, ASA- 또는 AES 공중합체로 공지된 공중합체 혼합물).
7. 할로겐-함유 중합체[예 : 폴리클로로프렌, 염소화고무, 염소화 또는 술포염소화 폴리에틸렌, 에피클로로히드린 호모- 및 공중합체, 할로겐-함유 비닐 화합물로부터 제조된 중합체(예를 들어, 폴리비닐클로라이드 폴리비닐리덴 클로라이드, 폴리비닐 플루오라이드, 폴리비닐리덴 플루오라이드)와 이들의 공중합체(예를 들어, 비닐 클로라이드/비닐리덴 클로라이드, 비닐 클로라이드/비닐 아세테이트 또는 비닐라덴 클로라이드/비닐 아세테이트 공중합체)].
8. α,β-불포화산 및 그 유도체들로부터 유도된 중합체[예 : 폴리아크릴레이트와 폴리메타크릴레이트, 폴리아크릴아미드와 폴리아크릴로니트릴].
9. 8항에서 언급된 단량체 상호간 또는 이 단량체와 기타 불포화 단량체의 공중합체. (예 : 아크릴로니트릴/부타디엔, 아크릴로니트릴/알킬아크릴레이트, 아크릴로니트릴/알콜시알킬 아크릴레이트 또는 아크릴로니트릴/비닐 할로게나이드 공중합체 또는 아크릴로니트릴/알킬메타크릴레이트/부타디엔 삼중합체)
10. 불포화 알코올 및 아민 또는 이들의 아실 유도체 또는 아세탈로부터 유도된 중합체[예 : 폴리비닐 알코올, 폴리비닐 아세테이트, 폴리비닐 스테아레이트, 폴리비닐 벤조에이트, 폴리비닐 말레에이트, 폴리비닐 부티르알, 폴리알릴 프탈레이트 또는 폴리알릴메라민]와 이들과 상기 1항에서 언급한 올레핀의 공중합체.
11. 고리상 에테르의 호모 중합체 및 공중합체(예 : 폴리알킬렌 글리콜, 폴리에틸렌 옥사이드, 폴리프로필렌 옥사이드 또는 이들의 비스-글리시딜 에테르와의 공중합체).
12. 폴리아세탈(예 : 폴리옥시메틸렌과 공단량체로서 에틸렌옥사이드를 함유하는 폴리옥시메틸렌); 열가소성 폴리우레탄, 아크릴레이트 또는 MBS로 변성시킨 폴리아세탈.
13. 폴리페닐렌 옥사이드 및 술파이드와 폴리페닐렌 옥사이드와 폴리스티렌 또는 폴리아미드의 혼합물.
14. 한쪽 선단이 히드록시기로 종결되고 또 다른 한쪽 선단이 지방족 또는 방향족 폴리이소시아네이트로 종결된 폴리에테르, 폴리에스테르 또는 폴리부타디엔으로부터 유도된 폴리우레탄과 그 전구체(폴리이소시아네이트, 폴리올 또는 예비중합체).
15. 디아민과 디카르복시산으로부터 또는 아미노카르복시산 또는 상응하는 락탐으로부터 유도된 폴리아미드 및 코폴리아미드(예 : 폴리아미드 4, 폴리아미드 6, 폴리아미드 6/6, 6/10, 6/9, 6/12 및 4/6, 폴리아미드 11, 폴리아미드 12, m-크실렌디아민과 아디프산의 축합반응으로 수득된 방향족 폴리아미드)와 헥사메틸렌디아민과 이소프탈산 또는/및 테레프탈산 및 경우에 따라 변형제로서 탄성체를 사용해서 제조된 폴리아미드(예 : 폴리-2,4,4-트리메틸헥사메틸렌 테레프탈아미드 또는 폴리-m-페닐렌 이소프탈아미드). 이밖에 전술한 폴리아미드와 폴리올레핀, 올레핀 공중합체, 이오노머 또는 화학적으로 결합되거나 또는 그라프트 결합된 탄성체와의 공중합체; 또는 폴리에스테르(예 : 폴리에틸렌 글리콜, 폴리프로필렌 글리콜 또는 폴리테트라메틸렌 글리콜)와의 공중합체, EPDM 또는 ABS로서 변성시킨 폴리아미드 또는 코폴리아미드 처리기간중 축합시킨 폴리아미드(RIM-폴리아미드계).
16. 폴리우레아, 폴리이미드와 폴리아미드-이미드.
17. 디카르복시산과 디올로부터, 또/또는 히드록시카르복시산 또는 상응하는 락톤으로부터 유도된 폴리에스테르(예 : 폴리에틸렌, 테레프탈레이트, 폴리부틸렌 테레프탈레이트, 폴리-1,4-디메틸옥시클로헥산 테레프탈레이트, 폴리-[2,2-비스(4-히드록시페닐)프로판]테레프탈레이트와 폴리히드록시 벤조에이트)와 히드록시 말단기를 갖고 있는 폴리에테르로부터 유도된 블럭-코폴리에테르 에스테르.
18. 폴리카르보네이트와 폴리에스테르-카르보네이트.
19. 폴리술폰, 폴리에테르-술폰과 폴리에테르-케톤.
20. 1개 결합손은 알데히드로부터, 또 다른 1개 결합손은 페놀, 우레아 및 메라민으로부터 유도되는 교차결합 중합체(예 : 페놀-포름알데히드 수지, 우레아-포름알데히드 수지 및 메라민-포름알데히드 수지).
21. 건조 및 비건조 알키드 수지.
22. 포화 및 불포화 디카르복시산과 다가알코올의 공중합 에스테르와 교차결합제로서 비닐 화합물을 사용해서 유도된 불포화 폴리에스테르 수지와 인화성이 낮은 이들의 할로겐 함유 변성체.
23. 치환된 아크릴 에스테르로부터 유도된 열경화성 아크릴 수지(예 : 에폭시-아크릴레이트, 우레탄-아크릴레이트 또는 폴리에스테르 아크릴레이트).
24. 교차결합제로서 메라민 수지, 우레아 수지, 폴리이소시아네이트 또는 에폭사이드와 잘 혼합시킨 알키드 수지, 폴리에스테르 수지 또는 아크릴레이트 수지.
25. 폴리에폭사이드(예 : 비스-글리시딜 에테르 또는 지환족 디에폭사이드)로부터 유도된 교차결합 에폭사이드 수지.
26. 천연 중합체(예 : 셀룰로즈, 고무, 젤라틴)와 중합체 균질 방식으로 화학적으로 변성시킨 이들의 유도체(예 : 셀룰로즈 아세테이트, 셀룰로즈 프로피오네이트와 셀룰로즈 부티레이트 또는 메틸 셀룰로즈등의 셀룰로즈 에테르) 송진과 그 유도체.
27. 전술한 바와 같은 중합체 혼합물(예 : PP/EPDM, 폴리아미드6/EPDM, 또는 ABS, PVC/EVA, PVC/ABS, PVC/MBS, PC/ABS, PBTP/ABS, PC/ASA, PC/ PBT, PVC/CPE, PVC/아크릴레이트, POM/열가소성 PUR, PC/열가소성 PUR, POM/아크릴레이트, POM/MBS, PPE/HIPS, PPE/PA6,6 및 공중합체, PA/HDPE, PA/PP, PA/PPE).
28. 중합체용 가소제 또는 직물 방적 오일로서 사용될 수 있는 순수한 단량체 화합물 또는 이들 화합물의 혼합물 상태인 천연 발생 및 합성 유기물질(예 : 광유, 동물 및 식물지방, 오일 및 왁스) 또는 합성 에스테르(예 : 프탈레이트, 아디페이트, 포스페이트 또는 트리멜리테이트)를 기재로 하는 오일, 지방 및 왁스와 합성 에스테르 및 광물유의 혼합물과 이같은 물질들의 수성 유화액.
29. 천연 또는 합성 고무의 수성 유화액(예 : 천연 라텍스 또는 카르복시화 스티렌/부타디엔 공중합체의 라텍스들).
일반식(Ⅰ)의 화합물들은 폴리올레핀, 특히 폴리에틸렌 및 폴리프로필렌의 광안정성, 가열안정성 및 산화 안정성을 개선시키는데 특히 적합하다.
일반식(Ⅰ)의 화합물들은 중합체의 특성, 최종용도 및 기타 첨가제 유무에 따라 안정화시키기 위해 각종 비율로 이들 물질에 혼합될 수 있다.
일반적으로, 이들 중합체 중량에 대해 일반식(Ⅰ)의 화합물을 0.01 내지 5중량%, 바람직하게는 0.05 내지 1중량%로 사용하는 것이 적합하다. 일반식(Ⅰ)의 화합물은 이 중합체 물질에 각종 방법, 예를 들어 분말제 형태의 건조 배합 또는 용액 또는 현탁액 형태의 습식 혼합 또는 마스타뱃치 형태로 배합시킬 수 있다. 이들 처리과정에서 중합체는 분말제, 입제, 용액, 현탁액 형태로 또는 라텍스 형태로 사용될 수 있다.
일반식(Ⅰ)의 제품으로 안정화시킨 중합체들은 성형제품, 필름, 테이프, 모노필라멘트, 표면-피복품 및 그 유사품 제조용으로 사용될 수가 있다.
필요한 경우에, 산화방지제, 자외선 흡수제, 닉켈 안정화제, 안료 충전제, 가소제, 대전방지제, 내염제, 윤활제, 부식방지제와 금속 탈활성화제와 같은 기타 첨가제들은 일반식(Ⅰ)의 화합물과 합성 중합체의 혼합물에 첨가해 줄 수가 있다.
일반식(Ⅰ) 화합물과 혼합시킬 수 있는 첨가제의 예로는 특히 다음을 들 수가 있다 :
1. 산화 방지제
1.1. 알킬화 모노페놀
예를 들어, 2,6-디-3급-부틸-4-메틸페놀, 2-3급-부틸-4,6-디메틸페놀, 2,6-디-3급-부틸-4-에틸페놀, 2,6-디-3급-부틸-4-n-부틸페놀, 2,6-디-3급-부틸-4-이소부틸페놀, 2,6-디-시클로펜틸-4-메틸페놀, 2-(α-메틸시클로헥실)-4,6-디메틸페놀, 2,6-디옥타데실-4-메틸페놀, 2,4,6-트리시클로헥시페놀, 2,6-디-3급-부틸-4-메톡시메틸페놀, 2,6-디-노닐-4-메틸페놀.
1.2. 알킬화 히드로퀴논
예를 들어, 2,6-디-3급-부틸-4-메톡시 페놀, 2,5-디-3급-부틸히드로퀴논, 2,5-디-3급-아밀히드로퀴논, 2,6-디페닐-4-옥타데실옥시페놀.
1.3. 히드록시화 티오디페닐 에테르
예를 들어, 2,2'-티오비스(6-3급-부틸-4-메틸페놀), 2,2'-티오비스(4-옥틸페놀), 4,4'-티오비스(6-3급-부틸-3-메틸페놀), 4,4'-티오비스(6-3급-부틸-2-메틸페놀).
1.4. 알킬리덴 비스페놀
예를들어, 2,2'-메틸렌비스(6-3급-부틸-4-메틸페놀), 2,2'-메틸렌 비스(6-3급-부틸-4-에틸페놀), 2,2'-메틸렌비스[4-메틸-6-(α-메틸시클로헥실)페놀], 2,2'-메틸렌비스(4-메틸-6-시클로헥실페놀), 2,2'-메틸렌비스(6-노닐-4-메틸페놀), 2,2'-메틸렌비스(4,6-디-3급-부틸페놀), 2,2'-에틸리덴 비스(4,6-디-3급-부틸페놀), 2,2'-에틸리덴 비스(6-3급-부틸-4-이소부틸페놀), 2,2'-메틸렌비스[6-(α-메틸벤질)-4-노닐페놀], 2,2'-메틸렌비스[6-(α,α-디메틸벤질)-4-노닐페놀], 4,4'-메틸렌비스(2,6디-3급-부틸페놀), 4,4'-메틸렌비스(6-3급-부틸-2-메틸페놀), 1,1-비스(5-3급-부틸-4-히드록시-2-메틸페닐)부탄, 2,6-비스(3-3급-부틸-5-메틸-2-히드록시벤질)-4-메틸페놀, 1,1,3-트리스(5-3급-부틸-4-히드록시-2-메틸페닐)부탄, 1,1-비스(5-3급-부틸-4-히드록시-2-메틸페닐)-3-n-도데실메르캅토부탄, 에틸렌 글리콜 비스-[3,3-비스(3'-3급-부틸-4'-히드록시페닐)부티레이트], 비스(3-3급-부틸-4-히드록시-5-메틸페닐)디시클로펜타디엔, 비스[2-(3'-3급-부틸-2'-히드록시-5'-메틸벤질)-6-3급-부틸-4-메틸페닐]테레프탈레이트.
1.5. 벤질 화합물
예를 들어, 1,3,5-트리스(3,5-디-3급-부틸-4-히드록시벤질)-2,4,6-트리메틸 벤젠, 비스(3,5-디-3급-부틸-4-히드록시벤질)술피드, 이소옥틸 3, 5-디-3급-부틸-4-히드록시벤질 메르캅토 아세테이트, 비스(4-3급-부틸-3-히드록시-2,6-디메틸벤질)디티올테레프탈레이트, 1,3,5-트리스(3,5-디-3급-부틸-4-히드록시벤질)이소시아누레이트, 1,3,5-트리스(4-3급-부틸-4-히드록시-2,6-디메틸벤질)이소시아누레이트, 디옥타데실 3,5-디-3급-부틸-4-히드록시벤질 포스포네이트, 모노에틸 3,5-디-3급-부틸-4-히드록시벤질 포스포네이트의 칼슘염, 1,3,5-트리스(3,5-디시클로헥실-4-히드록시벤질)이소시아누레이트.
1.6. 아실아미노페놀
예를 들어, 라우르산 4-히드록시아닐리드, 스테아르산 4-히드록시아닐리드, 2,4-비스(옥틸메르캅토)-6-(3,5-디-3급-부틸-4-히드록시아닐리노)-s-트리아진, 옥틸 N-(3,5-디-3급-부틸-4-히드록시페닐)카르바메이트.
1.7. β-(3,5-디-3급-부틸-4-히드록시페놀)프로피온산과 1가- 또는 다가알코올(예 : 메탄올, 디에틸렌 글리콜, 옥타데칸올, 트리틸렌 글리콜, 1,6-헥산디올, 펜타에리트리톨, 네오펜틸 글리콜, 트리스(히드록시에틸)이소시아누레이트, 티오디에틸렌 글리콜, N,N'-비스(히드록시에틸)옥살산 디아미드)의 에스테르.
1.8. β-(5-3급-부틸-4-히드록시-3-메틸페닐)프로피온산과 1가- 또는 다가알코올(예 : 메탄올, 디에틸렌 글리콜, 옥타데칸올, 트리에틸렌 글리콜, 1,6-헥산디올, 펜타에리트리톨, 네오펜틸 글리콜, 트리스(히드록시에틸)이소시아누레이트, 티오디에틸렌글리콜, N,N'-비스(히드록시에틸)옥살산 디아미드)의 에스테르.
1.9. β-(3,5-디시클로헥실-4-히드록시페닐)프로피온산과 1가- 또는 다가알코올 (예 : 메탄올, 디에틸렌 글리콜, 옥타데칸올, 트리에틸렌 글리콜, 1,6-헥산디올, 펜타에리트리톨, 네오펜틸 글리콜, 트리스(히드록시에틸)이소시아누레이트, 티오디에틸렌 글리콜, N,N'-비스(히드록시에틸)옥살산 디아미드)의 에스테르.
1.10. β-(3,5-디-3급-부틸-4-히드록시페닐)프로피온산의 아미드(예 : N,N'-비스(3,5-디-3급-부틸-4-히드록시페닐 프로피오닐)헥사메틸렌 디아민, N,N'-비스(3,5-디-3급-부틸-4-히드록시페닐 프로피오닐) 트리메틸렌 디아민, N,N'-비스(3,5-디-3급-부틸-4-히드록시페닐 프로피오닐) 헥히드라진).
2. 자외선 흡수제 및 광안정제
2.1. 2-(2'-히드록시페닐)벤조트리아졸
예를 들어, 5'-메틸, 3',5'-디-3급-부틸, 5'-3급-부틸, 5'-(1,1,3,3-테트라메틸부틸), 5-클로로-3',5'-디-3급-부틸, 5-클로로-3'-3급-부틸-5'-메틸, 3'-2급-부틸-5'-3급-부틸, 4'-옥트옥시, 3',5'-디-3급-아밀 및 3',5'-비스(α,α-디메틸벤질)유도체.
2.2. 2-히드록시벤조페논
예를 들어, 4-히드록시, 4-메톡시, 4-옥트옥시, 4-데실옥시, 4-도데실옥시, 4-벤질옥시, 4,2',4'-트리히드록시 및 2'-히드록시-4,4'-디메톡시 유도체.
2.3. 치환 및 비치환된 벤조산의 에스테르
예를 들어, 4-3급-부틸페닐 살리실레이트, 페닐 살리실레이트, 옥틸페닐 살리실레이트, 디벤조일레조르시놀, 비스(4-3급-부틸벤조일)레조르시놀, 벤조일레조르시놀, 2,4-디-3급-부틸페닐, 3,5-디-3급-부틸-4-히드록시벤조에이트와 헥사데실 3,5-디-3급-부틸-4-히드록시벤조에이트.
2.4. 아크릴레이트
예를 들어, 에틸 α-시아노-β,β-디페닐아크릴레이트, 이소옥틸 α-시아노-β,β-디페닐아크릴레이트, 메틸 α-카르보메톡시신나메이트, 메틸 α-시아노-β-메틸-p-메톡시신나메이트, 부틸 α-시아노-β-메틸-p-메톡시신나메이트, 메틸 α-카르보메톡시-p-메톡시신나메이트와 N-(β-카르보메톡시-β-시아노비닐)-2-메틸인돌린.
2.5. 닉켈 화합물
예를 들어 n-부틸아민, 트리에탄올아민 또는 N-시클로 헥실디에탄올아민과 같은 부수적인 리간드를 갖거나 또는 갖지 않는 1 : 1 또는 1 : 2 착물과 같은 2,2'-티오-비스-[4-(1,1,3,3-테트라메틸부틸)페놀]의 닉켈착물; 닉켈 디부틸디티오카르바메이트; 4-히드록시-3,5-디-3급-부틸벤질인산의 메틸 또는 에틸에스테르 등 모노알킬 에스테르의 닉켈염; 부수적인 리간드를 갖거나 또는 갖지 않는 2-히드록시-4-메틸페닐운데실 케토옥심등의 케토옥심의 닉켈착물, 1-페닐-4-라우로일-5-히드록시피라졸의 닉켈착물.
2.6. 입체 장애 아민류
예를 들어, 비스(2,2,6,6-테트라메틸피페리딜)세바케이트, 비스(1,2,2,6,6-펜타메틸피페리딜)세바케이트, 비스(1,2,2,6,6-펜타메틸피페리딜) n-부틸-3,5-디-3급-부틸-4-히드록시벤질말로네이트, 1-(2-히드록시에틸)-2,2,6,6-테트라메틸-4-히드록시피페리딘과 숙신산의 축합 생성물, N,N'-비스(2,2,6,6-테트라메틸-4-피페 리딜)헥사메틸렌 디아민과 4-3급-옥틸아미노-2,6-디클로로-1,3,5-트리아진의 축합 생성물, 트리스(2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딜)니트릴로트리아세테이트, 테트라키스(2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딜)-1,2,3,4-부탄테트라카르복실레이트, 1,1'-(1,2-에탄디일)-비스-(3,3,5,5-테트라메틸피페라지논).
2.7. 옥살산 디아민류
예를 들어, 4,4'-디옥틸옥시옥사아닐리드, 2,2'-디옥틸옥시-5,5'-디-3급-부틸옥사아닐리드, 2,2'-디도데실옥시-5,5'-디-3급-부틸옥사아닐리드, 2-에톡시-2'-에틸옥사아닐리드, N,N'-비스(3-디메틸아미노프로필)옥살아미드, 2-에톡시-5-3급-부틸-2'-에틸옥사아닐리드와 이들의 2-에톡시-2'-에틸-5,4'-디-3급-부틸옥사아닐리드와의 혼합물과 오르토- 및 파라-메톡시-2치환 옥사아닐리드의 혼합물과 o- 및 p-에톡시-2치환 옥사아닐리드의 혼합물.
3. 금속 탈활성화제
예를 들어, N,N'-디페닐옥살산 디아미드, N-살리실알-N'-살리실오일히드라진, N,N'-비스(살리실오일)히드라진, N,N'-비스(3,5-디-3급-부틸-4-히드록시페닐프로피온일)히드라진, 3-살리실오일아미노-1,2,4-트리아졸, 비스(벤질리덴)옥살로 디히드라지드.
4. 포스파이트와 포스포나이트
예를 들어 트리페닐 포스파이트, 디페닐 알킬 포스파이트, 페닐 디알킬 포스파이트, 트리스(노닐페닐)포스파이트, 트리라우릴 포스파이트, 트리옥타데실 포스파이트, 디스테아릴 펜타에리트리톨 디포스파이트, 트리스(2,4-디-3급 부틸페닐)포스파이트, 디이소데실 펜타에리트리톨 디포스파이트, 비스(2,4-디-3급 부틸페닐)펜타에리트리톨 디포스파이트, 트리스테아릴소르비톨 트리포스파이트, 테트라키스-(2,4-디-3급-부틸페닐)4,4'-비페닐렌 디포스파이트, 3,9-비스(2,4-디-3급-부틸페녹시)-2,4, 8,10-테트라옥시-3,9-디포스파스피로[5.5]운데칸.
5. 퍼옥사이드 제거제
예를 들어, β-티오디프로피온산의 에스테르, 즉 라우릴, 스테아릴, 미리스틸 또는 트리데실 에스테르; 메르캅토 벤조이미다졸; 또는 2-메르캅토 벤조이미다졸의 아연염; 아연 디부틸디티오카르바메이트, 디옥타데실 디술피드, 펜타에리트리톨 테트라키스(β-도데실메르캅토)프오피오네이트.
6. 폴리아미드 안정화제
예를 들어 요오드 및/또는 아인산 화합물과 결합한 구리염과 2가 망간염.
7. 염기성 광안정화제
예를 들어 멜라민, 폴리비닐피롤리돈, 디시안디아미드, 트리알릴 시아누레이트, 우레아 유도체, 히드라진 유도체, 아민, 폴리아미드, 폴리우레탄, 고급지방산의 알카리금속염 및 알카리토금속염(예 : Ca 스테아레이트, Zn 스테아레이트, Mg 스테아레이트, Na 리시놀레이트와 K 팔미테이트, 안티몬 피로카테콜레이트 또는 아연 피로카테콜레이트).
8. 핵 형성제
예를 들어, 4-3급-부틸벤조산, 아디프산, 디페닐아세트산
9. 충전제 및 강화제
예를 들어 탄산칼슘, 실리케이트, 유리섬유, 석면, 탈크, 카울린, 마이카, 황산바륨 금속산화물 및 수산화물, 카본블랙, 흑연.
10. 기타 첨가제
예를 들어, 가소제, 윤활제, 유화제, 안료, 광학적 광택제, 내염제, 대전방지제 및 발포제.
다음의 실시예로서 본 발명을 설명한다.
[실시예 1]
10℃로 냉각한 300ml 크실렌중에 36.88g(0.2몰)의 시아누르산 클로라이드를 용해시킨 용액에 온도를 10 내지 15℃로 유지시키면서 68.12g(0.4몰)의 N-(2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딜)메틸아민을 서서히 첨가하였다.
첨가종료 후, 이 혼합물을 주위온도에서 1시간 동안 교반하고, 또 이어 70ml 물에 16.8g(0.42몰)의 수산화나트륨을 용해시킨 용액을 첨가하였다.
이 혼합물을 60℃에서 2시간 동안 가열하고 또 이어 분리시킨 첨가수와 12.92g(0.1몰)의 N-2-아미노에틸피페라진과 12g(0.3몰)의 수산화나트륨을 첨가하였다. 이 혼합물을 전체 환류하에서 3시간 동안 가열하고 또 이어 반응수를 분리제거시키면서 추가로 16시간 동안 가열하였다.
이 혼합물을 진공하(26밀리바아)에서 여과 증류하고 또 잔유물을 산중에서 결정화시켰다.
건조후, 융점 171 내지 174℃의 다음 일반식의 생성물을 얻었다.
C52H97N17에 대한 분석 :
계산치(%) : C; 65.03, H; 10.18, N; 24.79
측정치(%) ; C; 64.82, H; 10.12, N; 24.84
[실시예 2 내지 5]
실시예 1에 유사한 제법을 따르고 또 적합한 시약을 사용해서, 다음 일반식의 화합물을 얻었다.
[실시예 6]
실시예 2의 화합물 81.3g(0.08몰)을 주위 온도에서 80ml 물에 20.71g(0.45몰)의 포름산을 용해시킨 용액에 용해하였다.
이 수득된 용액에 10.8g(0.36몰)의 파라포름알데히드를 첨가하고 또 이 혼합물을 환류하에서 10시간 동안 가열하였다.
주위온도로 냉각한 후, 100ml 물에 24g(0.6몰)의 수산화나트륨을 용해시킨 용액을 첨가하였다 : 수득된 침전물을 여과로 분리해서 물로서 충분히 세척하였다.
건조후, 융점 172 내지 177℃의 다음 일반식의 생성물을 수득하였다.
C60H113N17에 대한 분석 :
계산치(%) : C; 67.18, H; 10.62, N; 22.19
측정치(%) : C; 66.97, H; 10.56, N; 22.00
[실시예 7 내지 8]
실시예 6과 유사한 제법에 따르고 또 적합한 시약을 사용해서 다음 일반식의 생성물들을 수득하였다.
[실시예 9]
실시예 4의 화합물 52.61g(0.036몰), 400ml 크실렌, 13g(0.43몰)의 파라포름알데히드와 10% Pd 부착탄소 5g을 1리터 오우토클래브내에 장입하였다. 질소로 세척한 후, 이 화합물을 40바아 압력하의 130 내지 140℃에서 가수소화반응시켰다.
수소흡착이 종료될때에, 이 반응혼합물을 주위온도로 냉각하고, 촉매를 여과 분리한 후 여과액을 진공하(26밀리바아)에서 증발시켰다. 건조후 융점 236 내지 241℃의 다음 일반식의 생성물을 수득하였다.
C92H173N21에 대한 분석 :
계산치(%) : C; 70.23, H; 11.08, N; 18.69
측정치(%) : C; 69.41, H; 10.99, N; 18.61
[실시예 10]
폴리프로필렌 장식판에서의 산화방지작용
표 1에 수록된 각개 화합물 1g과 칼슘 스테아레이트 1g을 저속 혼합기내에서 용융지수=2g/10분(230℃ 및 2.16kg에서 측정)의 폴리프로필렌 분말 1,000g과 혼합해주었다.
이 혼합물을 200내지 220℃에서 2회 압출시켜서 중합체 입제를 얻고, 이들 중합체 입제를 이어 220℃에서 3분간 압축성형시켜서 두께 1mm의 장식판(DIN 53,451에 따른 성형)으로 전환시켰다.
이들 수득된 장식판을 강제 통풍 오우븐내에 노출시켜 135℃ 로 유지하였다. 부스러짐이 발생되는데 소요되는 시간을 측정하기 위하여 시편을 주기적으로 180도로 접어서 검사하였다.
수득된 결과를 표 1에 수록하였다.
[실시예 11]
폴리프로필렌 테이프중에서의 광안정화 작용
표 2에 수록된 각개 화합물 1g, 0.5g의 트리스(2,4-디-t-부틸페닐)포스파이트, 0.5g의 펜타에리트리톨 테트라키스[3-(3,5-디-t-부틸-4-히드록시페닐)프로피오네이트]와 1g의 칼슘 스테아레이트를 저속 혼합기내에서 용융지수=2g/10분(230℃ 및 2.16kg에서 측정함)의 폴리프로필렌 분말 1,000g과 혼합하였다.
이 혼합물을 200 내지 220℃ 에서 압출해서 중합체 입제를 수득하고, 이어 이를 다음의 작업조건하에서 파일로트 장치(Leonard-Sumirago(VA) 이태리)를 사용해서 50㎛ 두께 및 2.5mm 폭의 신장 테이프로 전환시켰다.
압출온도 : 210 내지 230℃
헤드온도 : 240 내지 260℃
신장율 : 1 : 6
이같이 제조된 테이프를 모델 65WR Weather-O-Meter(ASTM G 26-77)에서 백색 카드상에 올려놓고 63℃ 의 블랙파넬 온도로 노출시켰다.
정속(定速)표면장력계를 사용해서 광선에 노출시킨 각종 시간대에서 채취한 시편의 잔유인성(Tenacity)을 측정하였다; 이어, 초기 인성을 1/2로 만드는데 필요한 노출시간(시간 : T)을 계산하였다.
수득된 결과를 다음 표 2에 수록하였다.
Claims (10)
- 다음 일반식(Ⅰ)의 화합물.상기 식에서, R1은 C1-C8알킬옥시, 알릴옥시, 알릴아미노, 디(C1-C4알킬)아미노, 디알릴아미노, 1-피롤리딜, 1-피페리딜, 4-모르폴리닐, 1-헥사히드로아제피닐, 4-메틸-1-피페라지닐이거나 또는 다음 일반식(Ⅱ)의 기이고;R2는 수소, O, OH, NO, CH2CN, C1-C8알킬, 알릴, 벤질, C1-C8아실, C1-C18알킬옥시, C5-C12시클로알킬옥시 또는 OH-모노치환된 C2-C4알킬이며; R3및 R5는 상호 독립적으로 수소, C1-C12알킬, C5-C12 시클로알킬, C7-C9페닐알킬, 테트라히드로푸르푸릴, OH에 의해, C1-C4알킬옥시에 의해 또는 디(C1-C4알킬)아미노에 의해 모노치환된 C2-C4알킬 또는 다음 일반식(Ⅲ)의 기(여기서 R2는 앞의 정의와 동일함)이고; R4는 수소, C1-C12알킬 또는 시클로헥실이며; 또 n은 2 내지 6의 정수이다.
- 제1항에 있어서, C1-C4알킬옥시, 알릴옥시, 알릴아미노, 디(C1-C3알킬)아미노, 디알릴아미노, 1-피롤리딜, 1-피페리딜, 4-모르폴리닐, 1-헥사히드로아제핀일 또는 일반식(Ⅱ)의 기이고; R2가 수소, CH2CN, C1-C4알킬, 알릴, 벤질, 아세틸 또는 OH-모노치환된 C2-C3알킬이며; R3및 R5가 각각 독립적으로 수소, C1-C12알킬, 시클로헥실, 벤질, 테트라히드로푸르푸릴, OH로서, C1-C4알킬옥시로서 또는 디(C1-C3알킬)아미노로서 모노치환된 C2-C3알킬, 또는 일반식(Ⅲ)이 기이고, R4가 수소, C1-C4알킬 또는 시클로헥실이며 또 n이 2 또는 3인 일반식(Ⅱ)의 화합물.
- 제 1항에 있어서, R1이 C1-C3알킬옥시, 알릴옥시, 알릴아미노, 디메틸아미노 또는 디에틸아미노, 디알릴아미노, 4-모르폴리닐 또는 일반식(Ⅱ)의 기이고; R2가 수소, 메틸, 알릴 벤질, 아세틸 또는 2-히드록시에틸이며; R3및 R5가 각각 독립적으로 수소, C1-C8알킬, 시클로헥실, 벤질, 테트라히드로푸르푸릴, OH로서, 메톡시로서, 에톡시로서, 디메틸아미노로서 또는 디에틸아미노로서 모노치환된 C2-C3알킬, 또는 일반식(Ⅲ)의 기이고; R4가 수소 또는 C1-C3알킬이며 또 n이 2 또는 3인 일반식(Ⅰ)의 화합물.
- 제1항에 있어서, R1이 4-모르폴리닐 또는 일반식(Ⅱ)의 기이고; R2가 수소 또는 메틸이며; R3및 R5가 독립적으로 C1-C8알킬, 테트라히드로푸르푸릴, 2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딜 또는 1,2,2,6,6-펜타메틸-4-피페리딜이고; R4가 수소 또는 메틸이며 또 n이 2인 일반식(Ⅰ)의 화합물.
- 제1항에 있어서, R1이 일반식(Ⅱ)의 기이고; R2가 수소 또는 메틸이며; R3및 R5가 독립적으로 C1-C4알킬, 2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딜 또는 1,2,2,6,6-펜타메틸-4-피페리딜이고; R4가 수소 또는 메틸이며; 또 n이 2인 일반식(Ⅰ)의 화합물.
- 제1항에 있어서, R2가 수소 또는 메틸인 일반식(Ⅰ)의 화합물.
- 제1항에 있어서, 다음 화합물들,1-[2-[[2,4-비스[N-(2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딜)에틸아미노]-1,3,5-트리아진-6-일]아미노]에틸]-4-[2,4-비스[N-(2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딜)에틸아미노]-1,3,5-트리아진-6-일]피페라진.1-[2-[[2,4-비스[N-(2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딜)-n-부틸아미노]-1,3,5-트리아진-6-일]아미노]에틸]-4-[2,4-비스[N-(2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딜)-n-부틸아미노]-1,3,5-트리아진-6-일]피페라진.1-[2-[[2,4-비스[N-(2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딜)아미노]-1,3,5-트리아진-6-일]아미노]에틸]-4-[2,4-비스[N,N-비스(2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딜)아미노]-1,3,5-트리아진-6-일]피페라진.1-[2-[[2,4-비스[N-(1,2,2,6,6-펜타메틸-4-피페리딜)에틸아미노]-1,3,5-트리아진-6-일]아미노]에틸]-4-[2,4-비스[N-(1,2,2,6,6-펜타메틸-4-피페리딜)에틸아미노]-1,3,5-트리아진-6-일]피페라진 또는1-[2-[[2,4-비스[N-(1,2,2,6,6-펜타메틸-4-피페리딜)-n-부틸아미노]-1,3,5-트리아진-6-일]아미노]에틸]-4-[2,4-비스[N-(1,2,2,6,6-펜타메틸-4-피페리딜)-n-부틸아미노]-1,3,5-트리아진-6-일]피페라진.
- 열, 산화 또는 광유발 분해가 일어나는 합성 중합체 및 제1항에 따른 1개 이상의 일반식(Ⅰ) 화합물로 구성되는 조성물.
- 제8항에 있어서, 합성 중합체가 폴리올레핀인 조성물.
- 제8항에 있어서, 합성 중합체가 폴리에틸렌 또는 폴리프로필렌인 조성물.
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