KR0120383Y1 - Developer spray apparatus - Google Patents
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- KR0120383Y1 KR0120383Y1 KR2019940025818U KR19940025818U KR0120383Y1 KR 0120383 Y1 KR0120383 Y1 KR 0120383Y1 KR 2019940025818 U KR2019940025818 U KR 2019940025818U KR 19940025818 U KR19940025818 U KR 19940025818U KR 0120383 Y1 KR0120383 Y1 KR 0120383Y1
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- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/26—Processing photosensitive materials; Apparatus therefor
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- B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05C—APPARATUS FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
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- B05C11/10—Storage, supply or control of liquid or other fluent material; Recovery of excess liquid or other fluent material
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- G—PHYSICS
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- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
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Abstract
본 고안은 현상용액 분사장치에 관한 것으로, 특히, 현상용액을 공급하며 공급되는 현상용액을 조절할 수 있는 밸브를 갖춘 현상용액 공급관과, 상기 공급관으로 부터 현상용액을 공급받아 그 일부에 형성된 배출홈을 통하여 현상용액을 배출하는 내관과, 상기 내관을 감싸고 있으며 상기 내관으로 부터 방출된 현상액을 저장하는 한편 그 길이 방향으로 형성된 배출 슬로트를 통하여 현상용액을 현상 글라스 상으로 흘려 보내는 하우징으로 구성되어, 현상용액을 정숙하게 분사시킬 수 있어 가스발생량을 감소시킬 수 있는 한편 기포발생을 최소로 하여 현상 균일성을 증가시킬 수 있는 개선된 현상액 분사장치에 관한 것이다.The present invention relates to a developing solution injector, and more particularly, to a developing solution supply pipe having a valve for controlling a developing solution supplied to a developing solution, and a drain groove formed in a portion thereof by receiving a developing solution from the supply pipe. It consists of an inner tube for discharging the developing solution through the inner tube, and a housing surrounding the inner tube and storing the developer discharged from the inner tube, and flowing the developing solution onto the developing glass through the discharge slot formed in the longitudinal direction. The present invention relates to an improved developer injector capable of quietly injecting a solution, thereby reducing a gas generation amount and increasing development uniformity with a minimum of bubble generation.
Description
제1도는 종래 기술에 따른 현상용액 분사장치의 단면도.1 is a cross-sectional view of a developer solution injector according to the prior art.
제2도는 본 고안에 따른 현상용액 분사장치를 도시한 도면.2 is a view showing a developing solution injector according to the present invention.
*도면의 주요부분에 대한 부호의 설명* Explanation of symbols for main parts of the drawings
1:현상용액 공급관 2:배출홈1: developing solution supply pipe 2: discharge groove
3:하우징 4:배출 슬로트3: housing 4: exhaust slot
5:현상글라스(Develop glass) 6:현상용액5: Develop glass 6: Development solution
7:조절밸브 8:노즐(Nozzle)7: Control valve 8: Nozzle
9:내관9: Interior
본 고안은 현상용액 분사장치에 관한 것으로, 특히, 현상용액을 정숙하게 분사시킬 수 있어 가스발생량을 감소시킬 수 있는 한편 기포발생을 최소로 하여 현상 균일성을 증가시킬 수 있는 개선된 현상액 분사장치에 관한 것이다.The present invention relates to a developing solution injector, and more particularly, to an improved developer injector capable of quietly injecting a developing solution to reduce the amount of gas generated and to increase development uniformity by minimizing bubble generation. It is about.
반도체 소자 또는 LCD 제조 공정에서는 현상 글라스(Develop glass) 상부에 감광제를 도포하고 노광을 한 후에 현상을 하여 식각 또는 이온주입 등의 여러 작업을 수행하게 된다. 이러한 현상작업을 수행하기 위하여는 현상액을 도포하여야 하는데, 현상용액의 도포방법으로는 현재 노즐을 이용한 분사방법이 가장 널리 사용되고 있다.In a semiconductor device or an LCD manufacturing process, a photosensitive agent is coated on an upper part of a developing glass, exposed to light, and developed to perform various operations such as etching or ion implantation. In order to perform such a developing operation, a developer must be coated, and a spraying method using a nozzle is most widely used as a method of applying a developing solution.
제1도는 종래 기술에 따라 노즐을 이용하여 현상액을 분사하는 상태를 나타낸 개략적인 단면도이다. 도면에서 알 수 있는 바와 같이, 종래의 현상용액 분사장치에서, 현상용액(6)은 노즐(8)을 통하여 현상 글라스(5) 상으로 분사된다. 이와 같이 현상용액을 분사하게 되면, 현상용액이 대기 중에 체류하는 시간이 길어지고 대기와 접촉되는 절대면적이 증가하기 때문에 현상용액의 사용수명이 단축되고, 또한 장치의 작동중지 시에는 현상용액의 분사가 즉시 중단되므로 현상 글라스 상에 기공등의 결함이 발생될 위험이 커지게 된다.1 is a schematic cross-sectional view showing a state in which a developer is injected using a nozzle according to the prior art. As can be seen from the figure, in the conventional developing solution injector, the developing solution 6 is sprayed onto the developing glass 5 through the nozzle 8. In this way, when the developer solution is sprayed, the developer solution lengthens the residence time in the air and increases the absolute area in contact with the air, which shortens the service life of the developer solution. Is immediately stopped, so that the risk of occurrence of defects such as pores on the developing glass increases.
따라서 본 고안은 상기의 문제점을 해결하여 현상용액의 소비량을 절감할 수 있는 한편 장비가 불시에 정지하는 경우에도 일정시간 동안은 현상용액을 배출할 수 있어 기공등의 발생을 감소시키는 한편, 현상용액의 비산현상을 방지하여 현상용액의 사용수명을 증가시킬 수 있도록 하기 위함에 그 목적이 있다. 상기 목적을 달성하기 위한 현상용액 분사장치는 공급되는 현상용액을 조절할 수 있는 밸브를 갖춘 현상용액 공급관과, 상기 공급관으로 부터 현상용액을 공급받아 그 일부에 형성된 배출홈을 통하여 현상용액을 배출하는 내관과, 상기 내관을 감싸고 있으며 상기 내관으로 부터 방출된 현상액을 저장하는 한편 그 길이 방향으로 형성된 배출 슬로트를 통하여 현상용액을 현상 글라스 상으로 흘려 보내게 되는 하우징으로 구성된 개시된 현상용액 분사장치를 마련함으로써 상기한 바와 같은 본 고안의 목적을 달성하게 된다.Therefore, the present invention can solve the above problems and reduce the consumption of the developing solution, while the developing solution can be discharged for a certain period of time even when the equipment is stopped unexpectedly, while reducing the occurrence of pores and the like. The purpose is to increase the service life of the developing solution by preventing the scattering phenomenon. A developing solution injector for achieving the above object includes a developing solution supply pipe having a valve for controlling a developing solution supplied therein, and an inner pipe for receiving the developing solution from the supply pipe and discharging the developing solution through a discharge groove formed in a part thereof. And a disclosed developer solution injector comprising a housing surrounding the inner tube and storing the developer discharged from the inner tube and allowing the developer to flow onto the developing glass through a discharge slot formed in the longitudinal direction thereof. To achieve the object of the present invention as described above.
본 고안의 일 태양에 따르면 상기 하우징은 원통형으로서 배출 슬로트가 수평방향 직경의 중심부 보다 약간 저부에 그 길이방향으로 위치하여 내관으로 부터 배출된 현상용액을 현상 글라스 상으로 분사하게 된다.According to an aspect of the present invention, the housing has a cylindrical shape, and the discharge slot is located in the longitudinal direction at a lower portion slightly below the center of the horizontal diameter to inject the developing solution discharged from the inner tube onto the developing glass.
본 고안의 또 다른 태양에 따르면, 상기 하우징은 장방형 통체로서 수직벽면의 일정 높이에서 그 길이 방향으로 연장된 배출 슬로트를 통하여 현상용액을 분사하게 된다.According to another aspect of the present invention, the housing is a rectangular cylinder to inject the developing solution through the discharge slot extending in the longitudinal direction at a predetermined height of the vertical wall surface.
본 고안의 또다른 태양에 따르면, 상기 내관의 배출구는 상기 하우징의 배출 슬로트의 위치보다 저부에 위치하여 하우징 내의 현상용액 속에 침지된 상태로 현상용액을 공급하게 된다.According to another aspect of the present invention, the outlet of the inner tube is located at the bottom than the position of the discharge slot of the housing to supply the developing solution in a state immersed in the developing solution in the housing.
이하 본 고안에 따른 현상용액 분사장치의 적합한 실시예를 첨부된 도면을 참조하여 상세히 설명하기로 한다.Hereinafter, a preferred embodiment of the developing solution injector according to the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.
제2도는 본 고안에 따른 현상용액 분사장치의 일실시예를 도시한 도면이다.2 is a view showing an embodiment of a developing solution injector according to the present invention.
본 고안에 따른 현상용액 분사장치는 앞서 설명한 바오 같이, 공급되는 현상용액을 조절할 수 있는 밸브(7)를 갖춘 현상용액 공급관(1)과, 상기 공급관(1)으로 부터 현상용액을 공급받아 그 일부에 형성된 배출홈(2)을 통하여 현상용액을 배출하는 내관(9)과, 상기 내관(9)을 감싸고 있으며 상기내관(9)으로 부터 방출된 현상액을 저장하는 한편 그 길이 방향으로 형성된 배출 슬로트(4)를 통하여 현상용액을 현상 글라스(5) 상으로 흘려 보내게 되는 하우징(3)으로 구성된다.As described above, the developing solution injector according to the present invention includes a developing solution supply pipe 1 having a valve 7 capable of adjusting the supplied developing solution, and a developing solution supplied from the supply pipe 1. Inner tube (9) for discharging the developing solution through the discharge groove (2) formed in the inner tube (9), and the developer is discharged from the inner tube (9) to store the discharge slot formed in the longitudinal direction It consists of the housing 3 which flows the developing solution onto the developing glass 5 through (4).
현상용액(6)을 내관(9)으로 공급하는 현상용액 공급관(1)의 일측에는조절밸브(7)가 부착되어 공급관(1)을 통해 공급되는 현상용액의 양을 조절하도록 하고 있다. 상기 현상용액 공급관(1)과 연결되어 있는 내관(9)은 내관(9)의 일 측면으로 다수 개의 배출홈(2)이 형성되어 공급관(1)을 통해 내관(9)으로 공급된 현상용액(6)을 배출된다.A control valve 7 is attached to one side of the developing solution supply pipe 1 for supplying the developing solution 6 to the inner tube 9 so as to adjust the amount of the developing solution supplied through the supply pipe 1. The inner tube 9 connected to the developing solution supply pipe 1 has a plurality of discharge grooves 2 formed on one side of the inner tube 9 and is supplied to the inner tube 9 through the supply pipe 1. 6) is discharged.
상기 내관(9)을 감싸고 있는 하우징(3)은 상기 내관(9)으로 부터 방출된 현상액(6)을 저장하는 한편 그 길이 방향으로 형성된 배출 슬로트(4)를 통하여 현상용액(6)을 현상 글라스(5) 상으로 흘려 보낸다.The housing 3 enclosing the inner tube 9 stores the developer 6 discharged from the inner tube 9 while developing the developing solution 6 through the discharge slot 4 formed in the longitudinal direction thereof. It flows on the glass (5).
본 고안에 따른 현상액 분사장치의 일 태양은 상기 하우징(3)이 원통형으로 된 것이다. 이 때 상기 원통형 하우징(3)에 형성되는 배출 슬로트(4)는 원통형의 하우징(3) 길이방향의 직경중심부 보다 약간 저부에 형성되어 내관(9)으로부터 배출된 현상용액(6)이 현상 글라스(5) 상으로 분사된다.One aspect of the developer injector according to the present invention is that the housing 3 is cylindrical. At this time, the discharge slot (4) formed in the cylindrical housing (3) is formed at a slightly lower portion than the diameter center portion in the longitudinal direction of the cylindrical housing (3) so that the developing solution (6) discharged from the inner tube (9) is developed glass. (5) It is sprayed on.
본 고안에 따른 현상액 분사장치의 또다른 태양은(미도시) 상기 하우징(3)이 장방형 통체로 형성된 형태이다. 이 때 상기 장방형 통체에 형성되는 배출 슬로트는 장방형 통체 전방 수직벽면의 일정 높이에서 그 길이 방향으로 연장되게 형성되어 내관으로 부터 공급된 현상용액이 분사되게 한다.Another aspect of the developer injector according to the present invention (not shown) is a form in which the housing 3 is formed in a rectangular cylinder. At this time, the discharge slot formed in the rectangular cylindrical body is formed to extend in the longitudinal direction at a predetermined height of the rectangular cylindrical front vertical wall surface so that the developing solution supplied from the inner tube is injected.
본 고안에 따른 현상용액 분사장치의 또 다른 태양은 상기 내관(9)의 배출구(2)가 상기 하우징(3)의 배출 슬로트(4)의 위치보다 저부에 위치하여 하우징(3) 내의 현상용액 속에 침지된 상태로 현상용액(6)을 공급하게 된다.Another aspect of the developing solution injector according to the present invention is that the outlet 2 of the inner tube 9 is located at the bottom of the discharge slot 4 of the housing 3 so that the developing solution in the housing 3 is located. The developing solution 6 is supplied in the state immersed in the inside.
이상에서 설명한 바와 같은 본 고안의 현상용액 분사장치는 공급되는 현상용액을 조절할 수 있는 밸브를 갖춘 현상용액 공급관과, 상기 공급관으로 부터 현상용액을 공급받아 그 일부에 형성된 배출홈을 통하여 현상용액을 배출하는 내관과, 상기 내관을 감싸고 있으며 상기 내관으로 부터 방출된 현상액을 저장하는 한편 그 길이 방향으로 형성된 배출 슬로트를 통하여 현상용액을 현상 글라스 상으로 흘려 보내게 되는 하우징으로 구성됨으로서 종래의 노즐을 이용하여 글라스 상부에 현상액을 분사하게 될 경우 나타나는 문제점 즉, 비산되는 현상액의 양이 많음에 따른 현상액의 소비량이 많은점과 장비의 불시 작동 중단시 기공등의 발생으로 인한 제품불량과 현상용액을 분사시킴으로써 나타나는 비산현상으로 현상액의 사용수명이 짧아지는 등의 문제점을 해결하여, 현상용액을 정숙하게 분사시킬 수 있어 가스발생량을 감소시킬 수 있는 한편 기포발생을 최소로 하여 현상 균일성을 증가시킬 수 있는 효과가 있다.The developing solution injector according to the present invention as described above has a developing solution supply pipe having a valve for adjusting the supplied developing solution, and receives the developing solution from the supply pipe and discharges the developing solution through a discharge groove formed in a part thereof. And a housing which surrounds the inner tube and stores the developer discharged from the inner tube, while allowing the developer to flow onto the developing glass through a discharge slot formed in the longitudinal direction thereof. When the developer is sprayed on the upper part of the glass, that is, the consumption of the developer due to the large amount of developer is scattered and the product defects caused by the generation of pores, etc. due to the generation of pores, etc. Due to the scattering phenomenon, the service life of the developer is shortened. To solve the problem, it is possible to make silent spraying the developing solution has the effect that can be the other hand bubbler capable of reducing the generation amount increases the development uniformity to a minimum.
Claims (5)
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR2019940025818U KR0120383Y1 (en) | 1994-09-30 | 1994-09-30 | Developer spray apparatus |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR2019940025818U KR0120383Y1 (en) | 1994-09-30 | 1994-09-30 | Developer spray apparatus |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR960011993U KR960011993U (en) | 1996-04-17 |
KR0120383Y1 true KR0120383Y1 (en) | 1998-07-15 |
Family
ID=19394734
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR2019940025818U KR0120383Y1 (en) | 1994-09-30 | 1994-09-30 | Developer spray apparatus |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
KR (1) | KR0120383Y1 (en) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR100512093B1 (en) * | 1998-04-30 | 2005-11-01 | 삼성전자주식회사 | Knife Shower Device for Semiconductor Etching Equipment |
-
1994
- 1994-09-30 KR KR2019940025818U patent/KR0120383Y1/en not_active IP Right Cessation
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR100512093B1 (en) * | 1998-04-30 | 2005-11-01 | 삼성전자주식회사 | Knife Shower Device for Semiconductor Etching Equipment |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
KR960011993U (en) | 1996-04-17 |
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