KR0119652Y1 - 음극선관용 새도우마스크 - Google Patents

음극선관용 새도우마스크

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KR0119652Y1
KR0119652Y1 KR2019940025381U KR19940025381U KR0119652Y1 KR 0119652 Y1 KR0119652 Y1 KR 0119652Y1 KR 2019940025381 U KR2019940025381 U KR 2019940025381U KR 19940025381 U KR19940025381 U KR 19940025381U KR 0119652 Y1 KR0119652 Y1 KR 0119652Y1
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이제복
천현태
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엄길용
오리온전기주식회사
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    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J29/00Details of cathode-ray tubes or of electron-beam tubes of the types covered by group H01J31/00
    • H01J29/02Electrodes; Screens; Mounting, supporting, spacing or insulating thereof
    • H01J29/06Screens for shielding; Masks interposed in the electron stream
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    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J2229/00Details of cathode ray tubes or electron beam tubes
    • H01J2229/07Shadow masks
    • H01J2229/0727Aperture plate

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  • Electrodes For Cathode-Ray Tubes (AREA)

Abstract

본 고안은 반에칭폭이 변화하는 음극선관용 새도우마스크를 개시한다. 프레스성형후 새도우마스크 유공부의 변형도에 따라 그 인접부위 무공부에 변화하는 반에칭부가 블랭크에 형성된다. 이에 따라 프레스성형시 유공부내의 응력변화를 가급적 최소화시켜 변형을 최소화 내지는 균일화함으로써 음극선관의 화면품질을 향상시킨 것이다.

Description

음극선관용 새도우마스크
제1도는 반에칭부가 없는 새도우마스크의 평면도.
제2도는 종래의 반에칭부가 있는 새도우마스크의 블랭크의 평면도.
제3도는 포밍후 새도우마스크의 슬리트가 변형되는 정도를 나타내는 그래프로서, (a)는 제1도의 V축그래프이고, (b)는 H축그래프이며, (c)는 D축그래프.
제4도는 본 고안에 따라 반에칭된 새도우마스크의 평면도.
*도면의 주요부분에 대한 부호의 설명
1:새도우마스크의 블랭크A:유공부
B:무공부C:반에칭부
D:대각선축H:수평축
V:수직축
본 고안은 음극선관용 새도우마스크에 관한 것으로, 더 상세히는 반에칭부를 가지는 음극선관용 새도우마스크에 관한 것이다.
일반적으로 새도우마스크는 인바(invar)강, 림드(rimmed)강 또는 킬드(killed)강의 압연강판을 블랭킹(blanking)한 후, 전자총으로부터 방출된 전자빔이 통과할 수 있도록 다수의 전자빔이 통과하는 유공부와, 이 유공부의 외곽에 전자빔 통과공이 형성되지 않은 무공부를 형성하고, 소정의 곡면형상으로 포밍(forming)한다.
이와같이 성형된 새도우마스크는 유공부의 전자빔 통과공의 형상에 변형이 발생하지 아니하는 것이 바람직하지만, 프레스성형시 어느정도의 산율변화나 메탈흐름(metal flow)에 의하여 제3도(a) 내지 (c)에 도시한 바와 같은 변형이 발생한다. 제3도(a)는 제1도에서 새도우마스크(1)의 장변에 수직한 축, 즉 V축상의 변형을 나타내며, 제3도(b)는 수평축인 H축, 제3도(c)는 제1도에서 새도우마스크(1)의 대각선방향의 축, 즉 D축상의 변형을 나타내는 것으로서, 각 그래프의 X축은 중앙으로부터의 거리를 나타내며, Y축은 변형의 정도를 나타낸 것이다.
종래의 반에칭된 새도우마스크가 제2도에 도시된다. 도면상에서 전자빔통과공이 형성되는 유공부는 A로 표시되고, 무공부는 B로 나타낸다. 제2도에 도시된 것은 무공부(B)의 전주에 걸쳐 반에칭된 것으로써 프레스성형시 제3도에 도시된 바와 같은 변형도에는 영향을 미치지는 아니한다.
이와같이 제1도 및 제2도에 도시된 종래의 새도우마스크(1)는 프레스성형시 전자빔통과공에 변형을 줄 뿐만 아니라, 그 변형도 각 축상에 따라, 또 중앙으로부터 멀수록 변화되고 있다. 이러한 불균일한 변형에 의해 화면의 질이 저하하는 등의 문제가 있다.
상술한 종래의 문제점을 감안하여 본 고안은 변형이 적고 가급적 균이란 전자빔통과공을 가지는 음극선관용 새도우마스크를 제공하는 것이다.
이러한 목적을 달성하기 위해 본 고안은, 음극선관의 새도우마스크에 있어서, 프레스성형후의 새도우마스크의 유공부의 변형도에 따라 그 인접부위 무공부의 반에칭폭이 변화하는 것을 특징으로 하는 음극선관용 새도우마스크를 제공한다. 반에칭되는 폭이 프레스성형시 변형도가 클수록 큰 것이 바람직하다.
또한, 본 고안은 새도우마스크의 단변중앙부 양쪽 무공부와, 대각선 4코너의 무공부가 반에칭된 것을 특징으로 하는 음극선관용 새도우마스크를 제공한다.
상술한 구성에 의하여 본 고안은 새도우마스크의 전자빔통과공 형상의 변형이 적을뿐만 아니라 가급적 균일한 전자빔통과공을 가지는 새도우마스크를 제공함으로써 음극선관의 화면의 품질을 향상시키는 효과가 있다.
이하, 첨부된 제3도 및 제4도를 참조하여 본 고안의 바람직한 실시예를 설명한다.
제3도(a)에서 V축상의 변형은 대개 5μ으로 거리에 관계없이 일정하게 나타낸다. 이것은 성형시 각 거리에 따른 작용응력이 일정한 것을 나타낸다. 그러나, 제3도(b) 및 (c)에서는 H축과 V축상의 변형이 거리에 따라 커지게 나타나며, 이것은 성형시 작용응력이 새도우마스크의 유공부 중앙부분보다 무공부근처에서 크게 되는 것을 나타낸다. 이에 착안하여 본 고안은 제4도에와 같이 새도우마스크(1)의 무공부(B)상에 변화하는 반에칭부(C)를 형성하여 성형시 작용응력이 유공부(B)전면에 걸쳐서 가급적 균일하게 작용하도록 한 것이다.
제4도는 그 일례를 도시한 것으로서, 수평축(H)상의 무공부(B)에 반에칭부(C)를 형성시킴으로써 그 반에칭부(C)에 그 신율범위내에서 응력을 집중시켜 유공부(A)에 미치는 응력의 변화를 최소화한 것이다.
또한, 대각선축(D)상에도 유사하게 반에칭부(C)를 그 무공부에 형성시킨다. 바람직하게는 수평축(H)상에서보다 대각축(D)상의 반에칭부(C)의 폭을 상대적으로 크게 하는 것이다.
상술한 반에칭은 새도우마스크의 전자빔통과공을 가공하기 위한 에칭공정에서 동시에 실시될 수도 있으므로, 별도의 공정이 소요되는 것은 아니다.
이상에서 본 고안의 특정한 실시예를 설명하였으나, 새도우마스크의 형상, 슬리트나 애퍼쳐(aperture)의 구조, 프레스성형조건 등에 따라서 여러가지 변형과 응용이 가능할 것이다.

Claims (4)

  1. 전자총으로부터 방출된 전자빔이 통과할 수 있도록 다수의 전자빔이 통과하는 유공부와, 이 유공부의 외곽에 전자빔통과공이 형성되지 않은 무공부가 마련된 음극선관용 새도우마스크에 있어서, 상기 무공부에 프레스성형후의 새도우마스크의 유공부의 변형도에 따라 그 인접부위 무공부의 반에칭폭이 변화하는 것을 특징으로 하는 음극선관용 새도우마스크.
  2. 제1항에 있어서, 반에칭되는 폭이 프레스성형시 변형도가 클수록 큰 것을 특징으로 하는 음극선관용 새도우마스크.
  3. 제1항에 있어서, 상기 새도우마스크의 단변중앙부 양쪽 무공부와, 대각선 4코너의 무공부의 반에칭된 것을 특징으로 하는 음극선관용 새도우마스크.
  4. 제1항에 있어서, 수평축(H)상에서보다 대각축(D)상의 반에칭부(C)의 폭을 상대적으로 크게 하는 것을 특징으로 하는 음극선관용 새도우마스크.
KR2019940025381U 1994-09-30 1994-09-30 음극선관용 새도우마스크 KR0119652Y1 (ko)

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