JPWO2021057475A5 - - Google Patents

Download PDF

Info

Publication number
JPWO2021057475A5
JPWO2021057475A5 JP2022519992A JP2022519992A JPWO2021057475A5 JP WO2021057475 A5 JPWO2021057475 A5 JP WO2021057475A5 JP 2022519992 A JP2022519992 A JP 2022519992A JP 2022519992 A JP2022519992 A JP 2022519992A JP WO2021057475 A5 JPWO2021057475 A5 JP WO2021057475A5
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
electroplating
electric field
cathode
anode
field distribution
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2022519992A
Other languages
English (en)
Japanese (ja)
Other versions
JP2022550788A (ja
Publication date
Priority claimed from CN201910935348.2A external-priority patent/CN112575365A/zh
Application filed filed Critical
Publication of JP2022550788A publication Critical patent/JP2022550788A/ja
Publication of JPWO2021057475A5 publication Critical patent/JPWO2021057475A5/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

JP2022519992A 2019-09-29 2020-09-09 電気めっき陽極及び該電気めっき陽極を使用する電気めっき方法 Pending JP2022550788A (ja)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201910935348.2A CN112575365A (zh) 2019-09-29 2019-09-29 一种电镀阳极及使用该电镀阳极的电镀方法
CN201910935348.2 2019-09-29
PCT/CN2020/114157 WO2021057475A1 (fr) 2019-09-29 2020-09-09 Anode d'électrodéposition et procédé d'électrodéposition au moyen de cette dernière

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2022550788A JP2022550788A (ja) 2022-12-05
JPWO2021057475A5 true JPWO2021057475A5 (fr) 2023-09-14

Family

ID=75110752

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2022519992A Pending JP2022550788A (ja) 2019-09-29 2020-09-09 電気めっき陽極及び該電気めっき陽極を使用する電気めっき方法

Country Status (6)

Country Link
US (1) US20220235484A1 (fr)
EP (1) EP4043619A4 (fr)
JP (1) JP2022550788A (fr)
CN (1) CN112575365A (fr)
TW (1) TWI758870B (fr)
WO (1) WO2021057475A1 (fr)

Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN115142104B (zh) * 2022-07-28 2024-04-26 福州一策仪器有限公司 电镀装置、多通道电镀装置组和电镀反应系统
CN115537902B (zh) * 2022-10-19 2023-12-22 厦门海辰新材料科技有限公司 钛网组件以及电镀设备

Family Cites Families (18)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5014972Y2 (fr) * 1971-09-30 1975-05-10
CH602946A5 (fr) * 1974-07-31 1978-08-15 Bbc Brown Boveri & Cie
JPS522841A (en) * 1975-06-24 1977-01-10 Kaneda Rika Kogyosho Kk Grouped anode assembly for plating
JPH03285097A (ja) * 1990-03-30 1991-12-16 Mitsubishi Materials Corp 電気めっき用陽極及び電気めっき方法
JP2000045093A (ja) * 1998-07-27 2000-02-15 Mitsubishi Heavy Ind Ltd ゴム混練機用ロータの電極型及びメッキ施工方法
DE10132408C2 (de) * 2001-07-04 2003-08-21 Fraunhofer Ges Forschung Elektrode mit veränderbarer Form
DE10345376B4 (de) * 2003-09-30 2009-04-16 Advanced Micro Devices, Inc., Sunnyvale Verfahren und System zum automatischen Steuern einer Stromverteilung einer Mehrfachanodenanordnung während des Plattierens eines Metalls auf eine Substratoberfläche
DE102004044676A1 (de) * 2004-09-09 2006-03-30 Siemens Ag Elektrodenanordnung mit veränderlicher Geometrie für elektrochemische Behandlungen
DE102004056158B3 (de) * 2004-11-17 2006-03-30 Siemens Ag Verfahren zum Überwachen eines elektrochemischen Behandlungsprozesses und für dieses Verfahren geeignete Elektrodenanordnung
CN1804147B (zh) * 2005-01-11 2010-07-07 联华电子股份有限公司 一种具实时回馈系统的电镀装置
NL1032174C2 (nl) * 2006-07-14 2008-01-15 Elsyca N V Inrichting geschikt voor het elektrochemisch bewerken van een voorwerp alsmede werkwijze voor het vervaardigen van een dergelijke inrichting, werkwijze voor het elektrochemisch bewerken van een voorwerp met een dergelijke inrichting alsmede voorwerp vervaardigd met een dergelijke werkwijze.
CN203256357U (zh) * 2013-04-19 2013-10-30 杭州科技职业技术学院 新型的轮毂电镀仿形阳极
US9624593B2 (en) * 2013-08-29 2017-04-18 Applied Materials, Inc. Anodization architecture for electro-plate adhesion
CN104947172B (zh) * 2014-03-28 2018-05-29 通用电气公司 电镀工具及使用该电镀工具的方法
JP6400446B2 (ja) * 2014-11-28 2018-10-03 Towa株式会社 突起電極付き板状部材の製造方法、突起電極付き板状部材、電子部品の製造方法、及び電子部品
TW201720969A (zh) * 2015-12-14 2017-06-16 台灣先進系統股份有限公司 可調控式不溶性陽極板及其應用於銅柱電鍍之方法
CN105734618B (zh) * 2015-12-14 2017-12-26 南京航空航天大学 一种复杂轮廓薄壁回转体零件电铸方法
TWI649458B (zh) * 2017-11-22 2019-02-01 財團法人工業技術研究院 電鍍設備

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN107464552B (zh) 一种分布式车载主动降噪系统及方法
JPWO2021057475A5 (fr)
US7314264B2 (en) Ink jet application device and ink jet application method
CN105339808B (zh) 采用动态聚焦的超声探头以及关联系统和方法
JP2022550788A (ja) 電気めっき陽極及び該電気めっき陽極を使用する電気めっき方法
CN112427556B (zh) 一种大型金属板材自阻加热成形装置与方法
CN111158282B (zh) 一种用于交联电缆生产线的单神经元fpga控制方法及系统
CN104378713A (zh) 一种阵列扬声器及使用该扬声器的音频处理方法
CN101572138B (zh) 一种漆包线涂漆方法
JP2008504855A (ja) マルチラインビーム形成方法及びシステム、コンピュータープログラム
IL276603B1 (en) Multi-channel rf ablation
CN212051714U (zh) 一种电镀阳极
CN111529970A (zh) 一种头戴式多通道超声神经刺激装置及方法
CN113970940B (zh) 一种控制材料内部温度场的方法
TWI256767B (en) Method and related apparatus for controlling calibration for a stepping motor
CN211128187U (zh) 用于标定麦克风阵列阵元坐标的设备
CN205731917U (zh) 一种用于换能器的电平可控制的正负高压产生电路
JPS55151280A (en) Phased array sonar
CN104505459A (zh) 一种环形压电换能器的粘胶固化装置
CN203354692U (zh) 一种阵列光纤光声仿生耳装置
CN114208643B (zh) 一种沟畦灌溉自适应流量调控系统及方法
NL2026884B1 (en) Optimization system and method for automatically optimizing a sound system for a venue.
CN116913531A (zh) 一种基于arm嵌入式的神经元闭环调控平台和上位机
WO2006051614A1 (fr) Systeme et procede d’etalonnage d’antenne reseau
CN210494928U (zh) 一种用于超声波治疗仪的治疗头的工作参数标定装置