JPWO2020153137A1 - Structure, decorative film, method of manufacturing the structure, and method of manufacturing the decorative film - Google Patents
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Abstract
本技術の一形態に係る構造体は、加飾部と、部材とを具備する。前記加飾部は、第1の面と、第2の面と、金属層と、遮光部とを有する。前記第2の面は、前記第1の面とは反対側の面である。前記金属層は、微細なクラックを有する。前記遮光部は、前記微細なクラックの隙間、又は前記金属層と前記第2の面との間の少なくとも一方に構成される。前記部材は、前記第1の面が表面側となるように前記加飾部が接着される被加飾領域を有する。The structure according to one form of the present technology includes a decorative portion and a member. The decorative portion has a first surface, a second surface, a metal layer, and a light-shielding portion. The second surface is a surface opposite to the first surface. The metal layer has fine cracks. The light-shielding portion is formed in the gap between the fine cracks or at least one of the metal layer and the second surface. The member has a decorated area to which the decorated portion is adhered so that the first surface faces the surface side.
Description
本技術は、電子機器や車両等に適用可能な構造体、加飾フィルム、構造体の製造方法、及び加飾フィルムの製造方法に関する。 The present technology relates to a structure, a decorative film, a method for manufacturing a structure, and a method for manufacturing a decorative film, which are applicable to electronic devices, vehicles, and the like.
従来、電子機器等の筐体部品として、金属的な外観を有しつつもミリ波等の電磁波を透過可能である部材が考案されている。例えば特許文献1には、自動車のエンブレムに自動車レーダーを搭載するための外装部品について開示されている。例えば樹脂フィルム上にインジウムが蒸着され、このフィルムがインサートモールド法により、エンブレムの表層に取り付けられる。これにより装飾的に金属光沢を持ち、かつインジウムの島状構造によって電磁波周波数帯で吸収域を持たない外装部品を製造することが可能となっている(特許文献1の明細書段落[0006]等)。 Conventionally, as housing parts for electronic devices and the like, members having a metallic appearance but capable of transmitting electromagnetic waves such as millimeter waves have been devised. For example, Patent Document 1 discloses an exterior component for mounting an automobile radar on an automobile emblem. For example, indium is vapor-deposited on a resin film, and this film is attached to the surface layer of the emblem by the insert molding method. This makes it possible to manufacture exterior parts that have a metallic luster decoratively and do not have an absorption region in the electromagnetic wave frequency band due to the island-like structure of indium (paragraph [0006] of the specification of Patent Document 1 and the like). ).
しかしながらインジウムの島状構造を形成する方法では、蒸着面積が大きい場合等において、全体に均一な膜厚を作るのが難しいという問題がある。また筐体部品を成形する際に、流し込まれる樹脂の温度により、容易に島状構造が破壊されてしまうという問題もある(特許文献1の明細書段落[0007][0008]等)。 However, the method of forming an island-like structure of indium has a problem that it is difficult to form a uniform film thickness as a whole when the vapor deposition area is large. Further, there is a problem that the island-shaped structure is easily destroyed by the temperature of the resin poured into the housing component (paragraphs [0007] [0008] of the specification of Patent Document 1 and the like).
この問題を解決するために特許文献1には、以下の技術が開示されている。すなわち金属領域を島とし、この島をとりまく無金属領域を海とした海島構造を、人工的に規則性をもたせて形成する。そして各金属領域を無金属領域で互いに絶縁するとともに、金属領域の面積及び隣接する金属領域との間隔を適正に制御する。これにより、インジウムが蒸着されたフィルムと遜色のない電磁波透過性の材料が得られるとのことである(特許文献1の明細書段落[0013]等)。 In order to solve this problem, Patent Document 1 discloses the following techniques. That is, a sea-island structure with a metal region as an island and a non-metal region surrounding this island as the sea is artificially formed with regularity. Then, each metal region is insulated from each other by a non-metal region, and the area of the metal region and the distance from the adjacent metal region are appropriately controlled. As a result, an electromagnetic wave-transmitting material comparable to the film on which indium is vapor-deposited can be obtained (paragraph [0013] of the specification of Patent Document 1 and the like).
このように金属の光沢を有しつつも電波を透過可能であり、さらに意匠性の高い部材を製造するための技術が求められている。 As described above, there is a demand for a technique for manufacturing a member having a metallic luster, which can transmit radio waves and has a higher design.
以上のような事情に鑑み、本技術の目的は、金属的な外観を有しつつも電波を透過可能な意匠性の高い構造体、加飾フィルム、構造体の製造方法、及び加飾フィルムの製造方法を提供することにある。 In view of the above circumstances, the purpose of this technology is to provide a highly designed structure, decorative film, structure manufacturing method, and decorative film that has a metallic appearance but is capable of transmitting radio waves. The purpose is to provide a manufacturing method.
上記目的を達成するため、本技術の一形態に係る構造体は、加飾部と、部材とを具備する。
前記加飾部は、第1の面と、第2の面と、金属層と、遮光部とを有する。
前記第2の面は、前記第1の面とは反対側の面である。
前記金属層は、微細なクラックを有する。
前記遮光部は、前記微細なクラックの隙間、又は前記金属層と前記第2の面との間の少なくとも一方に構成される。
前記部材は、前記第1の面が表面側となるように前記加飾部が接着される被加飾領域を有する。In order to achieve the above object, the structure according to one embodiment of the present technology includes a decorative portion and a member.
The decorative portion has a first surface, a second surface, a metal layer, and a light-shielding portion.
The second surface is a surface opposite to the first surface.
The metal layer has fine cracks.
The light-shielding portion is formed in the gap between the fine cracks or at least one of the metal layer and the second surface.
The member has a decorated area to which the decorated portion is adhered so that the first surface faces the surface side.
この構造体では、微細なクラックの隙間、又は金属層と第2の面との間の少なくとも一方に遮光部が構成される。これにより微細なクラックの隙間を透過する光を抑制することが可能となる。この結果、金属的な外観を有しつつも電波を透過可能な意匠性の高い構造体を実現することができる。 In this structure, a light-shielding portion is formed in the gap between fine cracks or at least one of the metal layer and the second surface. This makes it possible to suppress the light that passes through the gaps between the fine cracks. As a result, it is possible to realize a highly designed structure capable of transmitting radio waves while having a metallic appearance.
前記遮光部は、前記微細なクラックの隙間に構成される隙間遮光部を含んでもよい。 The light-shielding portion may include a gap light-shielding portion formed in the gaps of the fine cracks.
前記遮光部は、前記金属層と前記第2の面との間に構成される遮光層を含んでもよい。 The light-shielding portion may include a light-shielding layer formed between the metal layer and the second surface.
前記遮光部は、前記微細なクラックの隙間に構成される隙間遮光部と、前記金属層と前記第2の面との間に位置し、前記隙間遮光部と一体的に構成される遮光層とを含んでもよい。 The light-shielding portion includes a gap light-shielding portion formed in the gap between the fine cracks, and a light-shielding layer located between the metal layer and the second surface and integrally formed with the gap light-shielding portion. May include.
前記加飾部は、前記微細なクラックの隙間、又は前記金属層と前記第2の面との間の少なくとも一方に構成され加飾機能を有する加飾機能部を含んでもよい。 The decoration portion may include a decoration function portion formed in at least one of the gaps between the fine cracks or the metal layer and the second surface and having a decoration function.
前記加飾機能部は、光の透過又は反射の少なくとも一方を利用した加飾機能を有してもよい。 The decoration function unit may have a decoration function utilizing at least one of transmission and reflection of light.
前記加飾機能部は、前記微細なクラックの隙間に構成される隙間加飾機能部を含んでもよい。 The decoration function unit may include a gap decoration function unit formed in the gaps of the fine cracks.
前記加飾機能部は、前記金属層と前記第2の面との間に構成される加飾機能層を含んでもよい。 The decorative functional unit may include a decorative functional layer formed between the metal layer and the second surface.
前記加飾機能部は、前記微細なクラックの隙間に構成される隙間加飾機能部と、前記金属層と前記第2の面との間に位置し、前記隙間加飾機能部と一体的に構成される加飾機能層とを含んでもよい。 The decoration function unit is located between the gap decoration function unit formed in the gap between the fine cracks and the metal layer and the second surface, and is integrated with the gap decoration function unit. It may include a decorative functional layer to be configured.
前記金属層は、アルミニウム、チタン、クロム、及びこれらのうち少なくとも1つを含む合金のうちのいずれかであってもよい。 The metal layer may be any of aluminum, titanium, chromium, and an alloy containing at least one of these.
前記金属層は、30nm以上300nm以下の厚みを有してもよい。 The metal layer may have a thickness of 30 nm or more and 300 nm or less.
前記微細なクラックは、ピッチが1μm以上500μm以下の範囲に含まれてもよい。 The fine cracks may be included in the range of pitch of 1 μm or more and 500 μm or less.
前記構造体は、筐体部品、車両、又は建築物の少なくとも一部として構成されてもよい。 The structure may be configured as at least a part of a housing component, vehicle, or building.
前記加飾部は、前記微細のクラックを固定化する固定層を有してもよい。 The decorative portion may have a fixing layer for immobilizing the fine cracks.
本技術の一形態に係る加飾フィルムは、ベースフィルムと、前記ベースフィルムに形成された前記加飾部とを具備する。 The decorative film according to one embodiment of the present technology includes a base film and the decorative portion formed on the base film.
本技術の一形態に係る構造体の製造方法は、ベースフィルムに蒸着により金属層を形成することを含む。
前記ベースフィルムを延伸することで前記金属層に微細なクラックが形成される。
前記微細クラックが形成された金属層と、前記微細なクラックの隙間、又は前記金属層と意匠面とは反対側の面との間の少なくとも一方に構成される遮光部とを含む加飾フィルムが形成される。
前記加飾フィルムにキャリアフィルムを接着することで転写用フィルムが形成される。
インモールド成形法、ホットスタンプ法、又は真空成形法により前記転写用フィルムから前記加飾フィルムが転写されるように成型部品が形成される。A method for manufacturing a structure according to an embodiment of the present technology includes forming a metal layer on a base film by vapor deposition.
By stretching the base film, fine cracks are formed in the metal layer.
A decorative film including a metal layer on which the fine cracks are formed and a light-shielding portion formed on at least one of the gaps between the fine cracks or the surface opposite to the metal layer and the design surface. It is formed.
A transfer film is formed by adhering a carrier film to the decorative film.
Molded parts are formed so that the decorative film is transferred from the transfer film by an in-mold molding method, a hot stamping method, or a vacuum forming method.
本技術の他の形態に係る構造体の製造方法では、前記微細クラックが形成された金属層と、前記微細なクラックの隙間、又は前記金属層と意匠面とは反対側の面との間の少なくとも一方に構成される遮光部とを含む転写用フィルムが形成される。またインモールド成形法、ホットスタンプ法、又は真空成形法により前記ベースフィルムから剥離した前記金属層及び前記遮光部が転写されるように成型部品が形成される。 In the method for manufacturing a structure according to another embodiment of the present technology, the metal layer in which the fine cracks are formed and the gap between the fine cracks or the surface on the opposite side of the metal layer and the design surface are used. A transfer film including a light-shielding portion formed on at least one of them is formed. Further, the molded part is formed so that the metal layer and the light-shielding portion peeled off from the base film are transferred by the in-mold molding method, the hot stamping method, or the vacuum forming method.
本技術の他の形態に係る構造体の製造方法では、インサート成形法により前記加飾フィルムと一体的に成形部品が形成される。 In the method for manufacturing a structure according to another embodiment of the present technology, a molded part is integrally formed with the decorative film by an insert molding method.
前記微細なクラックの形成ステップは、前記ベースフィルムを各々の軸方向の延伸率5%以下で2軸延伸してもよい。 In the step of forming the fine cracks, the base film may be biaxially stretched at a stretch ratio of 5% or less in each axial direction.
本技術の一形態に係る加飾フィルムの製造方法は、ベースフィルムに蒸着により金属層を形成することを含む。
前記ベースフィルムを延伸することで前記金属層に微細なクラックが形成される。
前記微細なクラックの隙間、又は前記金属層と意匠面とは反対側の面との間の少なくとも一方に、遮光部が形成される。A method for producing a decorative film according to an embodiment of the present technology includes forming a metal layer on a base film by vapor deposition.
By stretching the base film, fine cracks are formed in the metal layer.
A light-shielding portion is formed in the gap between the fine cracks or at least one of the metal layer and the surface opposite to the design surface.
以下、本技術に係る実施形態を、図面を参照しながら説明する。 Hereinafter, embodiments of the present technology will be described with reference to the drawings.
[電子機器の構成]
図1は、本技術の一実施形態に係る電子機器としての携帯端末の構成例を示す概略図である。図1Aは、携帯端末100の正面側を示す正面図であり、図1Bは、携帯端末100の背面側を示す斜視図である。[Electronic device configuration]
FIG. 1 is a schematic diagram showing a configuration example of a mobile terminal as an electronic device according to an embodiment of the present technology. 1A is a front view showing the front side of the
携帯端末100は、筐体部101と、筐体部101内に収容される図示しない電子部品とを有する。図1Aに示すように筐体部101の前面側である前面部102には、通話部103と、タッチパネル104と、対面カメラ105とが設けられる。通話部103は、電話の相手と通話するために設けられ、スピーカ部106及び音声入力部107を有する。スピーカ部106から相手の音声が出力され、音声入力部107を介してユーザの声が相手側に送信される。
The
タッチパネル104には、種々の画像やGUI(Graphical User Interface)が表示される。ユーザは、タッチパネル104を介して静止画や動画を閲覧可能である。またユーザは、タッチパネル104を介して種々のタッチ操作を入力する。対面カメラ105は、ユーザの顔等を撮影するときに用いられる。各デバイスの具体的な構成は限定されない。
Various images and GUIs (Graphical User Interfaces) are displayed on the
図1Bに示すように、筐体部101の背面側である背面部108には、金属的な外観となるように加飾された金属加飾部10が設けられる。金属加飾部10は、金属的な外観を有しつつも電波を透過することが可能である。
As shown in FIG. 1B, the
後に詳しく説明するが、背面部108の所定の領域に被加飾領域11が形成される。当該被加飾領域11に、加飾フィルム12が接着されることで、金属加飾部10が構成される。従って被加飾領域11は、金属加飾部10が形成される領域に相当する。
As will be described in detail later, the decorated
本実施形態では、加飾フィルム12が、加飾部に相当する。また被加飾領域11が形成される筐体部101が部材に相当する。被加飾領域11を有する筐体部101と、被加飾領域11に接着される加飾フィルム12とにより、本技術に係る構造体が筐体部品として構成される。なお筐体部品の一部に、本技術に係る構造体が用いられる場合もあり得る。
In the present embodiment, the
図1Bに示す例では、背面部108の略中央に部分的に金属加飾部10が形成される。金属加飾部10が形成される位置は限定されず適宜設定されてよい。例えば背面部108全体に金属加飾部10が形成されてもよい。これにより背面部108の全体を一様に金属的な外観とすることが可能である。
In the example shown in FIG. 1B, the metal
金属加飾部10の周囲の他の部分を金属加飾部10と略等しい外観とすることで、背面部108の全体を一様に金属的な外観とすることも可能である。その他、金属加飾部10以外の部分は木目調等の他の外観にすることで、意匠性を向上させることも可能である。ユーザが所望する意匠性が発揮されるように、金属加飾部10の位置や大きさ、その他の部分の外観等が適宜設定されればよい。
By making the other parts around the
被加飾領域11に接着される加飾フィルム12は、意匠面12aを有する。意匠面12aは、携帯端末100を使用するユーザが視認可能な面であり、筐体部101の外観(デザイン)を構成する要素の1つとなる面である。本実施形態では、背面部108の表面側となる面が、加飾フィルム12の意匠面12aとなる。すなわち被加飾領域11に接着される接着面12b(図2参照)とは反対側の面が、意匠面12aとなる。
The
本実施形態において、意匠面12aは、加飾部の第1の面に相当する。また意匠面12aとは反対側の接着面12b(図2参照)が、第1の面とは反対側の第2の面に相当する。加飾フィルム12は、意匠面12aが表面側となるように、被加飾領域11に接着される。
In the present embodiment, the
筐体部101内に収容される電子部品として、本実施形態では、外部のリーダーライタ等と電波を介して通信することが可能なアンテナ部15(図2参照)が収容される。アンテナ部15は、例えばベース基板(図示なし)、ベース基板上に形成されたアンテナコイル16(図2参照)、及びアンテナコイル16に電気的に接続される信号処理回路部(図示なし)等を有する。アンテナ部15の具体的な構成は限定されない。なお筐体部101に収容される電子部品は限定されず、ICチップやコンデンサ等の種々の電子部品が収容されてよい。
As an electronic component housed in the
図2は、金属加飾部10の構成例を示す模式的な断面図である。上記したように金属加飾部10は、アンテナ部15等の位置に応じた領域に形成された被加飾領域11と、被加飾領域11に接着される加飾フィルム12とで構成される。
FIG. 2 is a schematic cross-sectional view showing a configuration example of the
加飾フィルム12は、ベースフィルム19と、金属層20と、密封樹脂21と、粘着層18とを有する。
The
ベースフィルム19は、透明性及び延伸性を有する材料からなり、典型的には樹脂フィルムが用いられる。ベースフィルム19の材料としては、例えばPET(ポリエチレンテレフタレート)、PC(ポリカーボネート)、PMMA(ポリメタクリル酸メチル)、又はPP(ポリプロピレン)等が用いられる。その他の材料が用いられてもよい。
The
なおベースフィルム19は金属と接する層であるので、例えば塩化ビニル系の材料を用いると、遊離した塩素が金属の腐食を促進させることもあり得る。従ってベースフィルム19として、非塩化ビニル系の材料を選択することで、金属の腐食を防止することが可能である。もちろんこれに限定される訳ではない。
Since the
ベースフィルム19の表面、すなわちベースフィルム19の筐体部101側の面とは反対側の面が、加飾フィルム12の意匠面12aとなる。なおベースフィルム19上に保護層や印刷像等が形成されてもよい。この場合には、保護層や印刷層等の表面が、加飾フィルム12の意匠面12aとなる。もちろんベースフィルム19に保護層としての機能が備えられてもよい。また印刷や着色等によりベースフィルム19に加飾機能が備えられてもよい。これにより意匠性を向上させることが可能である。
The surface of the
なお本開示において、加飾機能は、所定の意匠性を実現するための任意の機能を含む。
例えば光の透過や反射を利用して所定の色等を表現するといった加飾機能や、印刷等を利用して所定の模様や絵柄を視認させるといった加飾機能等、任意の加飾機能が挙げられる。もちろん印刷等を利用して所定の絵柄等を視認させる加飾機能は、光の透過や反射を利用した加飾機能とも言える。In the present disclosure, the decorative function includes an arbitrary function for realizing a predetermined design.
For example, there are arbitrary decoration functions such as a decoration function that expresses a predetermined color by using light transmission and reflection, and a decoration function that makes a predetermined pattern or pattern visually visible by printing or the like. Be done. Of course, the decoration function that visually recognizes a predetermined pattern or the like by using printing or the like can be said to be a decoration function that utilizes the transmission or reflection of light.
金属層20は、被加飾領域11を金属的な外観とするために形成される。金属層20は、真空蒸着によりベースフィルム19に形成される層であり、多数の微細なクラック(以下、微細クラックと記載する)22が形成されている。
The
この微細クラック22により、金属層20に複数の不連続面が形成され、面抵抗値がほぼ絶縁状態となる。従って電波が筐体部101に当たる際に渦電流が発生することを十分に抑制することが可能となる。この結果、渦電流損失による電磁波エネルギーの低減を十分に抑制することができ、高い電波透過性が実現される。
Due to the
金属層20の膜厚は、例えば30nm以上300nm以下の範囲に設定される。膜厚が小さすぎると光が透過するため可視光領域の反射率が低下し、膜厚が大きすぎると表面形状が荒れやすくなるので反射率が低下する。また膜厚が小さい程、高温高湿試験後(例えば75℃90%RH48H後)の反射率低下量が大きくなる。なおRHは、相対湿度(Relative Humidity)である。
The film thickness of the
これらの点を考慮して上記の範囲で膜厚を設定することで、高い反射率を維持した電波透過面を実現することが可能であった。特に30nm以上150nm以下の範囲で膜厚を設定することで、高い反射率が十分に維持され、また高い電波透過性が発揮された。もちろんこれらの範囲に限定されず、所望の特性が発揮されるように、金属層20の膜厚は適宜設定されてよい。また例えば30nm以上300nm以下の範囲の中で、最適な数値範囲が改めて設定されてもよい。
By setting the film thickness in the above range in consideration of these points, it was possible to realize a radio wave transmitting surface maintaining a high reflectance. In particular, by setting the film thickness in the range of 30 nm or more and 150 nm or less, high reflectance was sufficiently maintained and high radio wave transmission was exhibited. Of course, the film thickness of the
密封樹脂21は、金属層20を保護する保護層(ハードコート層)として機能する。密封樹脂21は、例えばUV硬化樹脂、熱硬化樹脂又は2液硬化性樹脂等が塗布されることで形成される。密封樹脂21が形成されることで、例えば平滑化、防汚、剥離防止、傷防止等が実現される。なお保護層として、アクリル樹脂等がコーティングされてもよい。密封樹脂21として、非塩化ビニル系の材料を選択することで、金属の腐食の防止に有利である。
The sealing
また密封樹脂21は、金属層20内の微細クラック22を固定化して再度の接着を防止する機能も有している。すなわち密封樹脂21は、固定層としても機能する。これにより十分な電波透過性を発揮することが可能となり、また電波透過性を長く維持することが可能となる。なお保護層として機能する層と、固定層として機能する層とが互いに分離して構成され、2層構造を有するカバー層として金属層20に対して形成されてもよい。
Further, the sealing
粘着層18は、加飾フィルム12を被加飾領域11に接着するための層である。粘着層18は、密封樹脂21の金属層20を覆う側とは反対側の面(筐体部101側の面)に、粘着材料が塗布されることで形成される。粘着材料の種類や塗布方法等は限定されない。粘着層18の被加飾領域11に接着される面が、加飾フィルム12の接着面12bとなる。
The
本実施形態では、加飾フィルム12が形成される際には、まずベースフィルム19及び金属層20からなる光沢フィルム23が形成される。その後光沢フィルム23に密封樹脂21及び粘着層18が形成される。なお各層が形成される順番がこれに限定される訳ではない。
In the present embodiment, when the
図3及び図4は、光沢フィルム23の金属層20の表面状態を顕微鏡にて拡大して撮影した写真である。なお図4に示す写真M2は、スケール(目盛り)を含めて撮影されたものであるが、当該スケールを認識しやすくするために、写真の上から線を補強して図示している。もちろん図3及び図4の写真は、本技術に係る光沢フィルム23の一例である。
3 and 4 are photographs taken by magnifying the surface state of the
図3の写真M1に示す光沢フィルム23では、ベースフィルム19に、所定の元素として酸素が添加されたアルミニウム層が、金属層20として形成される。そして延伸率(元の大きさに対する延伸量)2%、基板加熱130℃の条件で、ベースフィルム19が2軸延伸されることで、微細クラック22が形成される。
In the
写真M1に示すように、金属層20に、2軸方向に沿って網目状に微細クラック22が形成される。すなわち互いに略直交する2方向に沿って、互いに交差するように、微細クラック22が形成される。
As shown in Photo M1,
図4の写真M2に示す光沢フィルム23では、ベースフィルム19に、クロムからなる高硬度層と、アルミニウムからなる高反射層とが積層された金属層20が形成される。そして延伸率2%、基板加熱130℃の条件で、ベースフィルム19が2軸延伸されることで、微細クラック22が形成される。
In the
写真M2に示すように、金属層20に、微細クラック22が不規則に形成される。不規則に形成されるとは、微細クラック22の形成態様に規則性がないことを意味し、微細クラック22がランダムに形成されているとも言える。
As shown in Photo M2,
写真M2に示すように、微細クラック22の方向に規則性がなく、ランダムな方向に無数のクラック22が形成される状態となっている。微細クラック22に囲まれる領域の形状に規則性がなく、微細クラック22によりランダムな形状の無数の領域が形成される状態とも言える。
As shown in Photo M2, there is no regularity in the direction of the
微細クラック22のピッチ(クラック間隔)は、例えば1μm以上500μm以下の範囲に設定される。ピッチを小さくすると、微細クラック22の隙間(空隙)の面積が相対的に増加する。ピッチを大きくすると、微細クラック22の隙間の面積が相対的に減少する。
The pitch (crack interval) of the
例えばピッチが小さすぎると、金属層20の表面にて反射される光の散乱が多く発生し、意匠性への影響が見受けられた。一方、ピッチが大きすぎると電波透過性の低下が見受けられた。ピッチを1μm以上500μm以下の範囲に設定することで、高い意匠性を維持しつつ電波透過性を実現することが可能であった。例えば、WiFiやBluetooth(登録商標)の2.45GHzでの電磁波(波長約12.2cm)を十分に透過させることが可能となる。
For example, if the pitch is too small, a large amount of light is scattered on the surface of the
もちろんこの範囲に限定されず、所望の特性が発揮されるように、微細クラック22のピッチは適宜設定されてよい。例えばピッチを50μm以上200μm以下の範囲に設定することで、高い反射率及び高い電波透過性が十分に発揮された。その他、例えば1μm以上500μm以下の範囲の中で、最適な数値範囲が改めて設定されてもよい。
Of course, the pitch is not limited to this range, and the pitch of the
写真M1及びM2の金属層20の面抵抗を4探針抵抗器で評価したところ絶縁性を示した。また分光光度計(U−4100「株式会社 日立製作所製」)を用いて、可視光領域(400nm〜700nm)の表面反射率(平均反射率)を測定したところ、70%以上の値となった。すなわち高い反射率を有する金属光沢の表面を有し、また十分な電波透過性を有する金属層20を実現することが可能となった。
When the surface resistance of the
なお金属層20の表面側にベースフィルム19が形成される場合や、密封樹脂やハードコート層等の保護層が形成される場合では、意匠面12aの表面反射率が約5%程度低下する場合があり得る。このことを考慮しても、本技術に係る加飾フィルム12を用いることで、表面反射率を65%以上の高い値にすることが可能となる。
When the
図3に示すように微細クラック22が規則的に形成される場合と、図4に示すように微細クラック22が不規則に形成される場合とを比較する。そうすると不規則に形成される場合の方が微細クラック22の視認性(目立ち度)を軽減させることが可能であることが分かった。これは、微細クラック22の方向が揃っている場合には、微細クラック22が目立つからだと考えられる。
The case where the
従って、例えば微細クラック22が不規則に形成されるように光沢フィルム23を形成することで、意匠面12aの意匠性を向上させることが可能である。
Therefore, for example, by forming the
図5は、真空蒸着装置の構成例を示す模式図である。真空蒸着装置200は、真空槽(図示なし)内に配置されたフィルム搬送機構201、隔壁202、載置台203、及び加熱源(図示なし)を有する。
FIG. 5 is a schematic diagram showing a configuration example of a vacuum vapor deposition apparatus. The vacuum
フィルム搬送機構201は、第1のロール205と、回転ドラム206と、第2のロール207とを有する。回転ドラム206が右回転すると、ベースフィルム19は、第1のロール205から第2のロール207に向けて、回転ドラム206の周面に沿って搬送される。回転ドラム206が左回転すると、ベースフィルム19は、第2のロール207から第1のロール205に向けて搬送される。
The
載置台203は、回転ドラム206に対向する位置に配置される。載置台203には、ベースフィルム19に形成される金属層20を構成する金属材料が収容された坩堝208が配置される。回転ドラム206の坩堝208に対向する領域が成膜領域210となる。隔壁202は、成膜領域210以外の領域に向かう角度で進む成膜材料90の微粒子91を規制する。
The mounting table 203 is arranged at a position facing the
回転ドラム206が十分に冷却された状態でベースフィルム19が搬送される。例えば回転ドラム206が右回転され、第1のロール205から第2のロール207に向けて、ベースフィルム19が搬送される。
The
ベースフィルム19の搬送に合わせて、例えばヒーター、レーザー又は電子銃等の図示しない加熱源により、坩堝208内の金属材料が加熱される。これにより坩堝208から微粒子91を含む蒸気が発生する。蒸気に含まれる金属材料の微粒子91が、成膜領域210を進むベースフィルム19に堆積することで、ベースフィルム19に、金属層20が製膜される。
Along with the transport of the
例えば、坩堝208内に金属材料としてアルミウムが収容される。また成膜領域210の上流側(巻出ロール205側)に、酸素導入機構(図示は省略)が配置される。ベースフィルム19の搬送、及び加熱源による坩堝208の加熱に合わせて、酸素導入機構によりベースフィルム19に向けて酸素を吹き付ける。これにより、図3で例示した酸素が添加されたアルミニウム層からなる金属層20を容易に形成することが可能となる。
For example,
他の例として、まず高硬度層を構成するクロムが収容された坩堝208が、載置台203に載置される。そして回転ドラム206が右回転され、第1のロール205から第2のロール207に向けて、ベースフィルム19が搬送される。ベースフィルム19の搬送に合わせて坩堝208が加熱され、クロムからなる高硬度層が、ベースフィルム19に成膜される。
As another example, first, the
次に、高反射層を構成する金属であるアルミニウムが収容された坩堝208が、載置台203に載置される。回転ドラム206が左回転され、第2のロール207から第1のロール205に向けて、高硬度層が形成されたベースフィルム19が搬送される。搬送に合わせて、坩堝208内のアルミニウムを加熱することで、高硬度層上に高反射層が成膜される。これにより、図4に例示してクロムからなる高硬度層と、アルミニウムからなる高反射層とが積層された金属層20を容易に形成することが可能となる。
Next, the
図5に示す例では、ロールツーロール方式による連続した真空蒸着が可能であるので、大幅なコスト低減、生産性の向上を図ることができる。もちろんバッチ方式の真空蒸着装置が用いられる場合にも、本技術は適用可能である。 In the example shown in FIG. 5, continuous vacuum vapor deposition by the roll-to-roll method is possible, so that it is possible to significantly reduce the cost and improve the productivity. Of course, this technique can also be applied when a batch type vacuum vapor deposition apparatus is used.
図6は、2軸延伸装置の構成例を示す模式図である。2軸延伸装置250は、ベース部材251と、ベース部材251上に配置される、互いに略等しい構成を有する4つの延伸機構252を有する。4つの延伸機構252は、互いに直交する2軸(x軸及びy軸)の各々に2つずつ、各軸上で互いに対向するように配置される。以下、y軸方向の矢印の反対向きに光沢フィルム23'を延伸する延伸機構252aを参照しながら説明を行う。
FIG. 6 is a schematic view showing a configuration example of a biaxial stretching device. The
延伸機構252aは、固定ブロック253と、可動ブロック254と、複数のクリップ255とを有する。固定ブロック253は、ベース部材251に固定される。固定ブロック253には、延伸方向(y方向)に延在する延伸ネジ256が貫通されている。
The
可動ブロック254は、ベース部材251に移動可能に配置される。可動ブロック254は、固定ブロック253を貫通する延伸ネジ256に接続される。従って延伸ネジ256が操作されることで、可動ブロック254がy方向に移動可能となる。
The
複数のクリップ255は、延伸方向に直交する方向(x方向)に沿って並べられる。複数のクリップ255の各々には、x方向に延在するスライドシャフト257が貫通している。各クリップ255は、スライドシャフト257に沿ってx方向における位置を変更可能である。複数のクリップ255の各々と、可動ブロック254とは、連結リンク258及び連結ピン259により連結されている。
The plurality of
延伸ネジ256の操作量によって、延伸率が制御される。また複数のクリップ255の数や位置、連結リンク258の長さ等を適宜設定することでも、延伸率の制御が可能である。なお2軸延伸装置250の構成は限定されない。本実施形態に係る2軸延伸装置250は、フィルムをフルカットされた枚葉で2軸延伸するものであるが、ロールで連続して2軸延伸することも可能である。例えばロール間の走行方向による張力と、ロール間に設けられた走行に同期して動くクリップ255により走行方向に直角な張力を与えることにより、連続した2軸延伸が可能となる。
The draw ratio is controlled by the amount of operation of the
ベース部材251上に真空蒸着後の光沢フィルム23'が配置され、4つ辺の各々に延伸機構252の複数のクリップ255が取り付けられる。図示しない温調された加熱ランプ又は温調された熱風により光沢フィルム23'が加熱されている状態で、4つの延伸ネジ256が操作されて2軸延伸が行われる。本実施形態では、各軸方向における延伸率2%、基板加熱130℃の条件で、ベースフィルム19が2軸延伸される。これにより図3に示すように、延伸方向に直交する方向(2軸方向)に沿って、網目状となる微細クラック22が形成される。あるいは、図4に示すように、微細クラック22が不規則に形成される。
A vacuum-deposited glossy film 23'is arranged on the
延伸率が低すぎると適正な微細クラック22が形成されず、金属層20が導電性を有してしまう。この場合、渦電流等の影響により、十分な電波透過性が発揮されない。一方で、延伸率が大きすぎると、延伸後のベースフィルム19へのダメージが大きくなる。その結果、加飾フィルム12を被加飾領域11に接着する際に、エアの噛み込みやしわの発生等により、歩留りが悪化してしまう可能性がある。またベースフィルム19や金属層20自体の変形により、金属加飾部10の意匠性が低下してしまうこともある。この問題は、金属層20がベースフィルム19から剥離されて転写される場合にも起こり得る。
If the stretch ratio is too low, proper fine cracks 22 are not formed, and the
本実施形態に係る光沢フィルム23では、各軸の方向において2%以下のという低い延伸率にて、微細クラック22を適正に形成することができる。これによりベースフィルム19へのダメージを十分に防止することが可能となり、歩留を向上させることができる。また加飾フィルム12が接着された金属加飾部10の意匠性を高く維持することができる。もちろん延伸率は適宜設定可能であり、上記のような不具合が発生しないのであれば、2%以上の延伸率が設定されてもよい。例えば延伸率が5%以下の範囲であれば、上記のような不具合が発生することなく、高い歩留で微細クラック22を適正に形成することが可能であった。もちろん5%よりも大きい値が設定されてもよい。
In the
[微細クラックの隙間と意匠性について]
ここで発明者は、微細クラック22の隙間と、意匠面12aにおける意匠性について検討した。具体的には、微細クラック22の隙間の光の透過性と、意匠面12aの意匠性について検討した。[Regarding the gaps and design of fine cracks]
Here, the inventor examined the gaps between the
例えば図2に例示する加飾フィルム12において、密封樹脂21を高い光透過性を有する透明な材料で構成する。これにより微細クラック22の隙間は、光透過性を有する領域となる。この場合、外部側から意匠面12aに光が照射した場合に、微細クラック22の隙間を光が透過することにより、意匠面12aの反射率の低下が発生し得る。この結果、意匠性の高い金属光沢を実現することが難しくなる場合があり得る。
For example, in the
また筐体部101の内部側で発生した光が外部側に出射される場合には、光が微細クラック22の隙間を透過して漏れてしまう可能性もあり得る。この場合、微細クラック22の隙間から出射される漏れ光の影響により、意匠性が低下してしまう可能性もあり得る。
Further, when the light generated on the inner side of the
このような検討から、発明者は、意匠性を向上させるために、以下のポイントを実現することを新たに考案した。
(A)微細クラック22の隙間を透過する光を十分に抑制すること
(B)微細クラック22の隙間に入射する光の意匠性への影響をコントロールすること
(C)これら2つのポイントを組み合わせること
以下、これらポイント(A)〜(C)について説明する。From such a study, the inventor newly devised to realize the following points in order to improve the design.
(A) Sufficiently suppress the light transmitted through the gaps of the fine cracks 22 (B) Control the influence of the light incident on the gaps of the
[ポイントAについて]
発明者は、ポイントAを実現するために、微細クラック22の隙間、又は金属層20と接着面12b(第2の面)との間の少なくとも一方に、光を遮光する遮光部を構成することを新たに考案した。特に可視光領域の光を遮光する遮光部が構成される。[About point A]
In order to realize the point A, the inventor constitutes a light-shielding portion that shields light from the gaps of the
なお本開示における遮光とは、完全遮光のように光を完全に遮断する場合に限定されず、本技術の効果を阻害しない範囲で光の透過を許容する場合も含まれる。また本開示における遮光は、光を吸収することや光を反射することを含む概念である。例えば本開示における遮光を、光の透過率が所定の閾値(例えば10%)以下であることと表現することも可能である。もちろんこれに限定される訳ではない。 The light shielding in the present disclosure is not limited to the case where light is completely blocked as in the case of complete shading, and also includes the case where light transmission is allowed within a range that does not impair the effect of the present technology. Further, shading in the present disclosure is a concept including absorbing light and reflecting light. For example, the shading in the present disclosure can be expressed as having a light transmittance of a predetermined threshold value (for example, 10%) or less. Of course, it is not limited to this.
図2に例示する加飾フィルム12において、遮光性を有する遮光性材料により、密封樹脂21を形成する。これにより微細クラック22の隙間を、遮光性材料により埋めることが可能となる。また金属層20と接着面12bとの間に、遮光性材料による層を実現することが可能となる。
In the
図2に示すように、以下、微細クラック22の隙間に構成される遮光性材料を、隙間遮光部31とする。金属層20と接着面12bとの間に構成される遮光性材料の層を、遮光層32とする。
As shown in FIG. 2, hereinafter, the light-shielding material formed in the gaps of the
例えば光沢フィルム23が形成され、延伸により微細クラック22が形成される。その後に、金属層20を覆うように遮光性材料からなる樹脂を塗布することで、密封樹脂21が形成される。これにより隙間遮光部31と遮光層32とを、一体的に容易に形成することが可能となる。図2に示す例では、隙間遮光部31及び遮光層32として機能する密封樹脂21により、遮光部30が構成される。
For example, a
遮光部30を構成することで、微細クラック22の隙間を透過する光を十分に抑制することが可能となり、高い反射率を有する金属光沢を実現することが可能となる。また筐体部101の内部からの不要な漏れ光を十分に抑制することが可能となる。この結果、非常に高い意匠性を実現することが可能となる。
By configuring the light-shielding
なお図2に示すように、金属層20に対して、微細クラック22の隙間を埋めるように密封樹脂21が形成されている状態を、金属層20と同層となるように密封樹脂21が形成されている状態と言うことも可能である。
As shown in FIG. 2, the sealing
図7及び図8は、遮光部の他の構成例を示す模式図である。例えば図7Aに示すように、遮光部30として機能する密封樹脂21に、粘着機能を備えさせることも可能である。これにより粘着層18を省略することが可能となり、製造工程の簡素化を図ることが可能となる。
7 and 8 are schematic views showing another configuration example of the light-shielding portion. For example, as shown in FIG. 7A, the sealing
図7Bに示すように、遮光部30として、隙間遮光部31のみが構成されてもよい。例えば光沢フィルム23が形成され、延伸により微細クラック22が形成される。その後に、微細クラック22の隙間を埋めるように遮光性材料を塗布することで、隙間遮光部31が形成される。その後、金属層20及び隙間遮光部31を覆うように樹脂を塗布することで、密封樹脂21が形成される。密封樹脂21は、遮光性を有さない材料で形成される。
As shown in FIG. 7B, only the gap light-shielding
このような構成でも、遮光部30により、微細クラック22の隙間を透過する光を十分に抑制することが可能となり、また内部からの不要な漏れ光を十分に抑制することが可能となる。この結果、非常に高い意匠性を実現することが可能となる。なお、遮光性材料により密封樹脂21が形成される場合には、遮光層32として機能させることが可能である。
Even with such a configuration, the light-shielding
なお図7Bに示すように、微細クラック22の隙間に隙間遮光部31が形成されている状態を、金属層20と同層となるように隙間遮光部31が形成されている状態と言うことも可能である。
As shown in FIG. 7B, the state in which the gap light-shielding
図7Cに示すように、遮光部30として、遮光層32のみが構成されてもよい。例えば延伸により微細クラック22が形成されたのちに、金属層20を覆うように密封樹脂21が形成される。密封樹脂21の金属層20を覆う側とは反対側の面に、遮光性材料を塗布することで、遮光層32が形成される。遮光層32上には、粘着層18が形成される。
As shown in FIG. 7C, only the light-
遮光層32のみが形成される場合には、外部側から意匠面12aに照射する光に対しては、微細クラック22の隙間を透過することを抑制することは難しい。一方で、内部からの不要な漏れ光を十分に抑制することは可能である。すなわち内部側から微細クラック22の隙間を透過する光を十分に抑制することは可能である。この結果、意匠性の向上を図ることが可能である。
When only the light-
図8Aに示すように、遮光部30として、隙間遮光部31及び遮光層32が、別個に構成されてもよい。例えば延伸により微細クラック22が形成されたのちに、微細クラック22の隙間を埋めるように遮光性材料を塗布することで、隙間遮光部31が形成される。その後密封樹脂21が形成された後に、密封樹脂21の金属層20を覆う側とは反対側の面に遮光性材料を塗布することで、遮光層32が形成される。このような構成でも、高い意匠性を実現することが可能となる。
As shown in FIG. 8A, the gap light-shielding
図8Bに示す例では、ベースフィルム19の金属層20が形成される面とは反対側の面に粘着層18が形成される。そして加飾フィルム12のベースフィルム19側が筐体部101の被加飾領域11に接着される。従って、密封樹脂21の金属層20を覆う側とは反対側の面が、加飾フィルム12の意匠面12aとなる。
In the example shown in FIG. 8B, the
このような構成において、遮光性材料によりベースフィルム19を形成する。これにより遮光部30として、遮光層32を容易に形成することが可能となる。この結果、内部からの不要な漏れ光を十分に抑制することが可能となり、高い意匠性を実現することが可能となる。
In such a configuration, the
なお筐体部101の成形条件等においては、粘着層18及び密封樹脂21が省略される場合もある。この場合、光沢フィルム23が本技術に係る加飾フィルムとして被加飾領域11に接着される。
The
図8Bではベースフィルム19により遮光部30が実現された。もちろんこれに限定されず、図8Cに示すように、隙間遮光部31及び遮光層32が新たに付加されてもよい。
In FIG. 8B, the light-shielding
例えば延伸により微細クラック22が形成されたのちに、微細クラック22の隙間を埋めるように遮光性材料を塗布することで、隙間遮光部31が形成される。またベースフィルム19の金属層20が形成される面とは反対側の面に遮光性材料を塗布することで、遮光層32が形成される。このよううな構成でも、高い意匠性を実現することが可能となる。もちろん、隙間遮光部31又は遮光層32のいずれか一方のみが形成されてもよい。
For example, after the
遮光部30(隙間遮光部31、遮光層32)を実現するために用いられる遮光材料として、任意の材料が用いられてよい。もちろん密封樹脂21やベースフィルム19等の他の機能も有する要素にて遮光部30が実現される場合には、その他の機能も発揮されるように、適宜材料が選択されればよい。
Any material may be used as the light-shielding material used to realize the light-shielding portion 30 (gap light-shielding
図2、図7及び図8を参照して説明したように、微細クラック22の隙間、又は金属層20と接着面12b(第2の面)との間の少なくとも一方に、遮光部30を構成する。具体的には、微細クラック22が形成された金属層20と、微細クラック22の隙間、又は金属層20と接着面12b(第2の面)との間の少なくとも一方に構成される遮光部30とを含む加飾フィルム12を形成する。これにより、微細クラック22の隙間を透過する光を抑制することが可能となる。この結果、金属的な外観を有しつつも電波を透過可能な意匠性の高い筐体部101を実現することが可能となる。
As described with reference to FIGS. 2, 7, and 8, a light-shielding
[ポイントBについて]
発明者は、ポイントBを実現するために、微細クラック22の隙間、又は金属層20と接着面12b(第2の面)との間の少なくとも一方に、加飾機能を有する加飾機能部を構成することを新たに考案した。具体的には、光の透過又は反射の少なくとも一方を利用した加飾機能を有する加飾機能部を構成する。[About point B]
In order to realize the point B, the inventor has provided a decoration function portion having a decoration function in at least one of the gaps of the
光の透過又は反射を利用した加飾機能を有する加飾機能部としては、加飾機能部を透過する透過光又は加飾機能部により反射される反射光を、所定の意匠性を実現するために機能させることが可能な任意の構成を含む。 As a decoration function unit having a decoration function utilizing light transmission or reflection, in order to realize a predetermined design property, the transmitted light transmitted through the decoration function unit or the reflected light reflected by the decoration function unit is used. Includes any configuration that can be made to work.
例えば所定の色で着色された光透過性を有する部材や層等は、その色を表現可能な加飾機能部として機能し得る。また積層構造を有し、透過又は反射により一方の層から出射される光に対して、他方の層により干渉を生じさせる。この光の干渉を利用して、色彩の調整等、所定の意匠性の実現を図ることが可能である。このような積層構造を有する部材や層等は、加飾機能部として機能し得る。また印刷層等も、加飾機能部として機能し得る。 For example, a light-transmitting member, a layer, or the like colored with a predetermined color can function as a decorative function unit capable of expressing the color. Further, it has a laminated structure, and causes interference by the other layer with respect to the light emitted from one layer by transmission or reflection. By utilizing this interference of light, it is possible to realize a predetermined design such as color adjustment. A member, a layer, or the like having such a laminated structure can function as a decorative functional unit. Further, the print layer and the like can also function as a decorative function unit.
図9に例示する加飾フィルム12において、加飾機能を有する加飾機能部40として、密封樹脂21を形成する。これにより微細クラック22の隙間を、加飾機能を有する材料により埋めることが可能となる。また金属層20と接着面12bとの間に、加飾機能を有する材料による層を実現することが可能となる。
In the
図9に示すように、以下、微細クラック22の隙間に構成される加飾機能部を有する材料を、隙間加飾機能部41とする。金属層20と接着面12bとの間に構成される加飾機能図を有する層を、加飾機能層42とする。なお図9に例示する構成は、図2に例示する加飾フィルム12において、遮光部30(隙間遮光部31、遮光層32)を、加飾機能部40(隙間加飾機能部41、加飾機能層42)に代えたものに相当する。もちろんこの構成に限定される訳ではない。
As shown in FIG. 9, hereinafter, the material having the decoration function portion formed in the gap of the
例えば光沢フィルム23が形成され、延伸により微細クラック22が形成される。その後に、金属層20を覆うように加飾機能を有する材料からなる樹脂を塗布することで、密封樹脂21が形成される。これにより隙間加飾機能部41と加飾機能層42とを、一体的に容易に形成することが可能となる。図9に示す例では、隙間加飾機能部41及び加飾機能層42として機能する密封樹脂21により、加飾機能部40が構成される。
For example, a
加飾機能部40を構成することで、外部側から微細クラック22の隙間に入射する光や、内部側から微細クラック22の隙間に入射する光を積極的に利用して、意匠性を向上させることが可能となる。
By configuring the
例えば加飾機能部40(隙間加飾機能部41、加飾機能層42)を透過する透過光を利用して、意匠面12aの意匠性を向上させることが可能である。また加飾機能部40(隙間加飾機能部41、加飾機能層42)により反射される反射光を利用して、意匠面12aの意匠性を向上させることが可能である。その他、隙間加飾機能部41を透過した光を、加飾機能層42により反射させ、再度隙間加飾機能部41を透過させることも可能である。
For example, it is possible to improve the designability of the
具体的には、意匠例(デザイン例)として、微細クラック22が着色されたデザインや、微細クラック22から加飾された光が透過しているようなデザインが考えられる。もちろんこのようなデザインに限定される訳ではない。
Specifically, as a design example (design example), a design in which the fine cracks 22 are colored or a design in which the decorated light is transmitted from the
このように加飾機能部40を構成することで、微細クラック22の隙間に入射する光の意匠性への影響をコントロールすることが可能となる。この結果、非常に高い意匠性を実現することが可能となる。なお、金属層20に対して、同層あるいは裏層(内部側の層)に加飾機能部40が構成されるので、金属層20を表面側(意匠面側)に配置することが容易となる。この結果、高い反射率を有する金属光沢を実現することが可能となる。
By configuring the
図10及び図11は、加飾機能部の他の構成例を示す模式図である。なお図10及び図11に例示する構成は、図7及び図8に例示する加飾フィルム12において、遮光部30を加飾機能部40に代えたものに相当する。以下、改めてこれらの構成について説明する。
10 and 11 are schematic views showing another configuration example of the decorative function unit. The configurations illustrated in FIGS. 10 and 11 correspond to the
例えば図10Aに示すように、加飾機能部40として機能する密封樹脂21に、粘着機能を備えさせることも可能である。これにより粘着層18を省略することが可能となり、製造工程の簡素化を図ることが可能となる。
For example, as shown in FIG. 10A, the sealing
図10Bに示すように、加飾機能部40として、隙間加飾機能部41のみが構成されてもよい。例えば光沢フィルム23が形成され、延伸により微細クラック22が形成される。その後に、微細クラック22の隙間を埋めるように加飾機能を有する材料を塗布することで、隙間加飾機能部41が形成される。その後、金属層20及び隙間加飾機能部41を覆うように樹脂を塗布することで、密封樹脂21が形成される。密封樹脂21は、加飾機能を有さない材料で形成される。
As shown in FIG. 10B, only the gap
このような構成でも、加飾機能部40により、外部側から微細クラック22の隙間に入射する光や、内部側から微細クラック22の隙間に入射する光を積極的に利用して、意匠性を向上させることが可能となる。なお、加飾機能を有する材料により密封樹脂21が形成される場合には、加飾機能層42として機能させることが可能である。
Even in such a configuration, the
図10Cに示すように、加飾機能部40として、加飾機能層42のみが構成されてもよい。例えば延伸により微細クラック22が形成されたのちに、金属層20を覆うように光透過性を有する密封樹脂21が形成される。密封樹脂21の金属層20を覆う側とは反対側の面に、加飾機能を有する材料を塗布することで、加飾機能層42が形成される。加飾機能層42上には、粘着層18が形成される。
As shown in FIG. 10C, only the
このような構成でも、外部側から微細クラック22の隙間に入射する光や、内部側から微細クラック22の隙間に入射する光を積極的に利用して、意匠性を向上させることが可能となる。
Even with such a configuration, it is possible to improve the design by positively utilizing the light incident on the gaps of the
図11Aに示すように、加飾機能部40として、隙間加飾機能部41及び加飾機能層42が、別個に構成されてもよい。例えば延伸により微細クラック22が形成されたのちに、微細クラック22の隙間を埋めるように加飾機能を有する材料を塗布することで、隙間加飾機能部41が形成される。その後密封樹脂21が形成された後に、密封樹脂21の金属層20を覆う側とは反対側の面に加飾機能を有する材料を塗布することで、加飾機能層42が形成される。このような構成でも、高い意匠性を実現することが可能となる。
As shown in FIG. 11A, the gap
図11Bに示す例では、ベースフィルム19の金属層20が形成される面とは反対側の面に粘着層18が形成される。そして加飾フィルム12のベースフィルム19側が筐体部101の被加飾領域11に接着される。従って、密封樹脂21の金属層20を覆う側とは反対側の面が、加飾フィルム12の意匠面12aとなる。
In the example shown in FIG. 11B, the
このような構成において、加飾機能を有する材料によりベースフィルム19を形成する。これにより加飾機能部40として、加飾機能層42を容易に形成することが可能となる。この結果、外部側から微細クラック22の隙間に入射する光や、内部側から微細クラック22の隙間に入射する光を積極的に利用して、意匠性を向上させることが可能となる。
In such a configuration, the
なお筐体部101の成形条件等においては、粘着層18及び密封樹脂21が省略される場合もある。この場合、光沢フィルム23が本技術に係る加飾フィルムとして被加飾領域11に接着される。
The
図11Bではベースフィルム19により加飾機能部40が実現された。もちろんこれに限定されず、図11Cに示すように、隙間加飾機能部41及び加飾機能層42が新たに付加されてもよい。
In FIG. 11B, the
例えば延伸により微細クラック22が形成されたのちに、微細クラック22の隙間を埋めるように加飾機能を有する材料を塗布することで、隙間加飾機能部41が形成される。またベースフィルム19の金属層20が形成される面とは反対側の面に加飾機能を有する材料を塗布することで、加飾機能層42が形成される。このよううな構成でも、高い意匠性を実現することが可能となる。もちろん、隙間加飾機能部41又は加飾機能層42のいずれか一方のみが形成されてもよい。
For example, after the
加飾機能部40(隙間加飾機能部41、加飾機能層42)を実現するために用いられる加飾機能を有する材料として、任意の材料が用いられてよい。もちろん密封樹脂21やベースフィルム19等の他の機能も有する要素にて加飾機能部40が実現される場合には、その他の機能も発揮されるように、適宜材料が選択されればよい。
Any material may be used as the material having a decoration function used to realize the decoration function unit 40 (gap
図9、図10及び図11を参照して説明したように、微細クラック22の隙間、又は金属層20と接着面12b(第2の面)との間の少なくとも一方に、加飾機能部40を構成する。具体的には、微細クラック22が形成された金属層20と、微細クラック22の隙間、又は金属層20と接着面12b(第2の面)との間の少なくとも一方に構成される加飾機能部40とを含む加飾フィルム12を形成する。これにより、外部側から微細クラック22の隙間に入射する光や、内部側から微細クラック22の隙間に入射する光を積極的に利用して、意匠性を向上させることが可能となる。この結果、金属的な外観を有しつつも電波を透過可能な意匠性の高い筐体部101を実現することが可能となる。
As described with reference to FIGS. 9, 10 and 11, the decorative
[ポイントCについて]
図12は、遮光部30及び加飾機能部40を組み合わせた場合の構成例を示す模式図である。図12Aに示す例では、例えば延伸により微細クラック22が形成されたのちに、微細クラック22の隙間を埋めるように加飾機能を有する材料を塗布することで、隙間加飾機能部41が加飾機能部40として形成される。その後密封樹脂21が形成された後に、密封樹脂21の金属層20を覆う側とは反対側の面に遮光性材料を塗布することで、遮光層32が遮光部30として形成される。[About point C]
FIG. 12 is a schematic diagram showing a configuration example when the light-shielding
このように遮光部30及び加飾機能部40を組み合わせることで、筐体部101の内部からの不要な漏れ光を十分に抑制することが可能となる。また外部側から微細クラック22の隙間に入射する光の意匠性への影響をコントロールすることが可能となる。この結果、高い意匠性を実現することが可能となる。
By combining the light-shielding
なお、加飾機能を有する材料により密封樹脂21が形成され、その裏層(内部側の層)に遮光層32が形成されてもよい。この場合、隙間加飾機能部41、加飾機能層42、及び遮光層32を容易に形成することが可能となる。あるいは、隙間加飾機能部41を形成したのちに、遮光性材料により密封樹脂21が遮光層32として形成されてもよい。
The sealing
また加飾機能層42及び遮光層32の組み合わせも考えられる。例えば密封樹脂21の裏層(内部側の層)に、加飾機能層42が形成される。そして加飾機能層42の裏層(内部側の層)に遮光層32が形成されてもよい。その他、任意の構成が採用されてよい。
Further, a combination of the decorative
図12Bに示す例では、例えば延伸により微細クラック22が形成されたのちに、微細クラック22の隙間を埋めるように加飾機能を有する材料を塗布することで、隙間加飾機能部41が加飾機能部40として形成される。またベースフィルム19の金属層20が形成される面とは反対側の面に遮光性材料を塗布することで、遮光層32が遮光部30として形成される。このような構成でも、高い意匠性を実現することが可能となる。
In the example shown in FIG. 12B, for example, after the
なお、加飾機能を有する材料によりベースフィルム19が形成され、その裏層(内部側の層)に遮光層32が形成されてもよい。この場合、隙間加飾機能部41、加飾機能層42、及び遮光層32を容易に形成することが可能となる。あるいは、遮光性材料によりベースフィルム19を形成し、微細クラック22の隙間に隙間加飾機能部41が形成されてもよい。
The
また加飾機能層42及び遮光層32の組み合わせも考えられる。例えばベースフィルム19の裏層(内部側の層)に、加飾機能層42が形成される。そして加飾機能層42の裏層(内部側の層)に遮光層32が形成されてもよい。その他、任意の構成が採用されてよい。
Further, a combination of the decorative
図12を参照して説明したように、微細クラック22の隙間、又は金属層20と接着面12b(第2の面)との間の少なくとも一方に、遮光部30を構成する。また微細クラック22の隙間、又は金属層20と接着面12b(第2の面)との間の少なくとも一方に、加飾機能部40を構成する。すなわち遮光部30と加飾機能部40とを組み合わせる。これにより、金属的な外観を有しつつも電波を透過可能な意匠性の高い筐体部101を実現することが可能となる。
As described with reference to FIG. 12, the light-shielding
図13は、インモールド成形法を説明するための模式的な図である。インモールド成形は、図13に示すようなキャビティ型301とコア型302とを有する成形装置300により行われる。図13Aに示すように、キャビティ型301には、筐体部101の形状に応じた凹部303が形成されている。この凹部303を覆うようにして転写用フィルム50が配置される。転写用フィルム50は、キャリアフィルム51に、図2等に示す加飾フィルム12が接着されることで形成される。転写用フィルム50は、例えばロールツーロール方式によって、成形装置300の外部から供給される。
FIG. 13 is a schematic diagram for explaining the in-mold molding method. In-mold molding is performed by a
図13Bに示すように、キャビティ型301とコア型302とがクランプされ、コア型302に形成されたゲート部306を介して、凹部303に成形樹脂55が射出される。キャビティ型301には、成形樹脂55が供給されるスプルー部508と、これに連結するランナー部509とが形成されている。キャビティ型301とコア型302とがクランプされると、ランナー部509とゲート部306とが連結される。これによりスプルー部508に供給された成形樹脂55が、凹部303に射出される。なお成形樹脂55を射出するための構成は限定されない。
As shown in FIG. 13B, the
成形樹脂55としては、例えばABS(アクリロニトリル・ブタジエン・スチレン)樹脂等の汎用樹脂、PC樹脂、ABSとPCの混合樹脂等のエンジニアリングプラスチック等が用いられる。これらに限定されず、所望の筐体部(筐体部品)が得られるように、成形樹脂の材料や色(透明度)が適宜選択されてよい。
As the
成形樹脂55は、高温で溶かされた状態で凹部303に射出される。成形樹脂55は、凹部303の内面を押圧するように射出される。この際、凹部303に配置された転写用フィルム50は成形樹脂55により押圧されて変形する。成形樹脂55の熱により、転写用フィルム50に形成された粘着層18が溶かされ、成形樹脂55の表面に加飾フィルム12が接着される。
The
成形樹脂55射出された後、キャビティ型301及びコア型302は冷却され、クランプが解除される。コア型302には、加飾フィルム12が転写された成形樹脂55が付着している。当該成形樹脂55が取り出されることで、所定の領域に金属加飾部10が形成された筐体部101が製造される。なおクランプが解除される際に、キャリアフィルム51は剥離される。
After the
インモールド成形法が用いられることで、加飾フィルム12の位置合わせが容易となり、簡単に金属加飾部10を形成することができる。また筐体部101の形状の設計自由度が高く、種々の形状を有する筐体部101を製造することができる。
By using the in-mold molding method, the alignment of the
なお筐体部101の内側に収容されるアンテナ部15が、筐体部101の成形時にインモールド成形法により取り付けられてもよい。あるいは筐体部101の成形後に、筐体部101の内側にアンテナ部15が貼り付けられてもよい。また、筺体内部にアンテナ部15が内蔵される場合もあり得る。
The
図14は、インサート成形法を説明するための模式的な図である。インサート成形では、成形装置350のキャビティ型351内に、加飾フィルム12がインサートフィルムとして配置される。そして図14Bに示すように、キャビティ型351とコア型352とがクランプされ、ゲート部356を介して、キャビティ型351内に成形樹脂55が射出される。これにより加飾フィルム12と一体的に筐体部101が形成される。インサート成形法が用いられることでも、簡単に金属加飾部10を形成することができる。また種々の形状を有する筐体部101を製造することができる。なおインモールド成形及びインサート成形を実行する成形装置の構成は限定されない。
FIG. 14 is a schematic diagram for explaining an insert molding method. In insert molding, the
図15は、ベースフィルムと金属層とを含む転写用フィルムの構成例を示す概略図である。この転写用フィルム450は、ベースフィルム419と、剥離層481と、ハードコート層482と、金属層420と、密封樹脂421と、粘着層418とを有する。剥離層481及びハードコート層482は、この順でベースフィルム419上に形成される。
FIG. 15 is a schematic view showing a configuration example of a transfer film including a base film and a metal layer. The
従って金属層420は、剥離層481及びハードコート層482が形成されたベースフィルム419上に形成される。そしてベースフィルム419が延伸されることで、金属層420に微細クラック422が形成される。
Therefore, the
なお図15に示す例では、密封樹脂421が、遮光部又は加飾機能部として構成される。もちろんそのような構成に限定される訳ではない。
In the example shown in FIG. 15, the sealing
図15Bに示すように、インモールド成形法により筐体部101が形成される際には、ベースフィルム419及び剥離層481が剥離され、金属層420及び遮光部(又は加飾機能部)を含む加飾部412が、被加飾領域411に接着される。このようにベースフィルム419がキャリアフィルムとして用いられてもよい。なお剥離層481が形成されたベースフィルム419を、本技術に係るベースフィルムとみなすこともできる。またベースフィルム419から剥離された加飾部412を加飾フィルムと言うこともできる。
As shown in FIG. 15B, when the
なお図15に示す例では、金属層420の蒸着開始面が意匠面412a側の面となり、蒸着終了面が接着面412b側の面となる。この構成に代えて、蒸着終了面が意匠面412a側の面となり、蒸着開始面が接着面412b側の面となるように、転写用フィルムが作成されてもよい。
In the example shown in FIG. 15, the vapor deposition start surface of the
図13及び図15に示す転写用フィルム50及び450を用いて、ホットスタンプ法により、被加飾領域11に金属層20及び遮光部(又は加飾機能部)を含む加飾フィルム(加飾部)12が転写された筐体部101が形成されてもよい。その他、貼り付け等の任意の方法により、加飾フィルム12が筐体部101に接着されてもよい。また真空成形や圧空成形等が用いられてもよい。
Using the
本技術を適用可能な金属材料はアルミニウムに限定されず、銀(Ag)等の他の金属材料が用いられてもよい。例えば酸素を添加することで、2%以下の延伸率にて微細クラック22を適正に形成することが可能となり、反射率が70%以上の金属層20を実現することが可能となる。
The metal material to which this technique can be applied is not limited to aluminum, and other metal materials such as silver (Ag) may be used. For example, by adding oxygen, it becomes possible to appropriately form the
また金属材料として、アルミニウム、チタン、クロム、及びこれらのうち少なくとも1つを含む合金を用いることも可能である。これらの金属はいわゆる弁金属であり、酸化被膜による酸化の防止効果を十分に発揮させることが可能となる。この結果、高い意匠性を長期間維持することが可能となる。 Further, as the metal material, aluminum, titanium, chromium, and an alloy containing at least one of these can be used. These metals are so-called valve metals, and it is possible to fully exert the effect of preventing oxidation by the oxide film. As a result, it is possible to maintain high designability for a long period of time.
添加される元素も酸素に限定されず、例えば窒素(N)が添加されてもよい。例えば酸素導入機構に代えて、窒素導入機構が配置され、導入ガスとして窒素が吹き付けられてもよい。例えば延伸工程後の金属膜の表面が絶縁状態となる添加量から、金属層が窒化するまでの範囲で、供給量が適宜設定されればよい。例えば膜厚方向において窒素の添加濃度を異ならせることで高い意匠性が発揮される。また金属層の両面の近傍領域において窒素と化合していない金属の割合を所定の閾値以上とすることで、窒化の進行を防止することが可能となる。なお、その他の元素が添加されてもよい。 The element to be added is not limited to oxygen, and for example, nitrogen (N) may be added. For example, instead of the oxygen introduction mechanism, a nitrogen introduction mechanism may be arranged and nitrogen may be sprayed as the introduction gas. For example, the supply amount may be appropriately set in the range from the addition amount at which the surface of the metal film becomes insulated after the stretching step to the nitriding of the metal layer. For example, high designability is exhibited by making the addition concentration of nitrogen different in the film thickness direction. Further, by setting the ratio of the metal not compounded with nitrogen in the vicinity of both sides of the metal layer to a predetermined threshold value or more, it is possible to prevent the progress of nitriding. In addition, other elements may be added.
電波を透過する金属膜としてInやSnの島状構造を有する薄膜を使用した場合、反射率は、50%〜60%程度となる。これは材料の光学定数に起因しており、本実施形態に係る光沢フィルム23のように、70%以上の反射率を実現することは非常に難しい。またInは希少金属であるため材料コストがかかってしまう。
When a thin film having an island-like structure of In or Sn is used as the metal film that transmits radio waves, the reflectance is about 50% to 60%. This is due to the optical constants of the material, and it is very difficult to achieve a reflectance of 70% or more as in the
また無電解メッキを用いて、アフターベーキングを行うことでニッケルや銅等の金属皮膜にクラックを発生させる場合も、70%以上の反射率を実現することは難しい。またシリコンと金属を合金化させ、表面抵抗率を上げることで電波透過性を発生させることも考えられるが、この場合も、70%以上の反射率を実現することは難しい。 Further, even when cracks are generated in a metal film such as nickel or copper by performing afterbaking using electroless plating, it is difficult to achieve a reflectance of 70% or more. It is also conceivable to alloy silicon and metal to increase the surface resistivity to generate radio wave transmission, but even in this case, it is difficult to achieve a reflectance of 70% or more.
また本実施形態では、真空蒸着により金属材料の膜が形成されるので、無電解メッキ等の湿式のメッキでは樹脂上に成膜することが難しいAlやTi等の材料を用いることができる。従って使用可能な金属材料の選択範囲が非常に広く、反射率が高い金属材料を用いることができる。また2軸延伸により微細クラック22を形成するので、真空蒸着においては、高い密着性にて金属層20を形成することが可能となる。その結果、インモールド成形時やインサート成形時において、金属層20が流れ落ちるといったことがなく適正に筐体部101を成形することが可能となる。また金属加飾部10自体の耐久性も向上させることができる。
Further, in the present embodiment, since a film of a metal material is formed by vacuum vapor deposition, a material such as Al or Ti, which is difficult to form a film on a resin by wet plating such as electroless plating, can be used. Therefore, a metal material having a very wide selection range of usable metal materials and having a high reflectance can be used. Further, since the
また本実施形態では、簡易な蒸着源の構成による簡易な蒸着プロセスを用いることが可能となるので、装置コスト等を抑制することができる。なお酸素や窒素が添加された金属層の形成方法は、フィルム搬送機構201に向けてガスを吹き付ける場合に限定されない。例えば坩堝内の金属材料に酸素等を含ませてもよい。
Further, in the present embodiment, since it is possible to use a simple thin-film deposition process with a simple thin-film deposition source configuration, it is possible to suppress equipment costs and the like. The method for forming the metal layer to which oxygen or nitrogen is added is not limited to the case where the gas is blown toward the
本技術は内蔵アンテナ等が内部に収容されたほぼ全ての電子機器に適用可能である。例えばそのような電子機器として、携帯電話、スマートフォン、パソコン、ゲーム機、デジタルカメラ、オーディオ機器、TV、プロジェクタ、カーナビ、GPS端末、ウエアラブル情報機器(眼鏡型、リストバンド型)等の電子機器、これらを無線通信等により操作するリモコン、マウス、タッチペンン等の操作機器、車載レーダーや車載アンテナ等の車両に備えられる電子機器等種々のものが挙げられる。またインターネット等に接続されたIoT機器にも適用可能である。 This technology can be applied to almost all electronic devices in which a built-in antenna or the like is housed. For example, such electronic devices include mobile phones, smartphones, personal computers, game machines, digital cameras, audio devices, TVs, projectors, car navigation systems, GPS terminals, wearable information devices (glasses type, wristband type) and other electronic devices. Examples include a remote controller, a mouse, an operating device such as a touch pen, and an electronic device provided in a vehicle such as an in-vehicle radar and an in-vehicle antenna. It can also be applied to IoT devices connected to the Internet or the like.
また本技術は、電子機器等の筐体部品に限定されず、車両や建築物に対しても適用可能である。すなわち本技術に係る加飾部と、加飾部が接着される被加飾領域を有する部材とを具備する構造体が、車両や建築物の全部又は一部に用いられてもよい。これにより金属的な外観を有しつつも電波を透過可能な壁面等を有する車両や建築物を実現することが可能となり、非常に高い意匠性を発揮させることが可能となる。なお車両は、自動車、バス、電車等、任意の車両を含む。建築物は、一戸建、集合住宅、施設、橋等、任意の建築物を含む。 Further, this technology is not limited to housing parts such as electronic devices, and can be applied to vehicles and buildings. That is, a structure including a decorative portion according to the present technology and a member having a decorated region to which the decorative portion is adhered may be used for all or a part of a vehicle or a building. This makes it possible to realize a vehicle or a building having a wall surface or the like capable of transmitting radio waves while having a metallic appearance, and it is possible to exhibit a very high design. The vehicle includes any vehicle such as a car, a bus, and a train. Buildings include any building such as detached houses, apartment houses, facilities, bridges, etc.
<その他の実施形態>
本技術は、以上説明した実施形態に限定されず、他の種々の実施形態を実現することができる。<Other embodiments>
The present technology is not limited to the embodiments described above, and various other embodiments can be realized.
図2等に例示する筐体部101に、遮光部や加飾機能部の機能を備えさせることも可能である。この場合でも、高い意匠性を実現することが可能となる。
It is also possible to equip the
本技術の適用に関して、微細クラック22を形成する方法は限定されない。例えば、InやSnの島状構造を有する薄膜が用いられる場合や、た無電解メッキを用いて、アフターベーキングを行うことでニッケルや銅等の金属皮膜にクラックを発生させる場合においても、本技術に係る遮光部や加飾機能部を構成させることで意匠性を向上させることが可能である。
With respect to the application of this technique, the method of forming the
図16は、他の実施形態に係る光沢フィルムの構成例を示す断面図である。この光沢フィルム523では、引張破断強度が金属層520よりも小さい支持層550が、金属層520を支持する層として設けられる。これにより微細クラック522を形成するために必要な延伸率を低下させることが可能となった。例えば金属層520自体(主に高硬度層等)を破断させるのに必要な延伸率よりも小さい延伸率にて、微細クラック522を形成することも可能である。これは図16A及びBに示すように、引張破断強度の小さい支持層550A及びBの表面の破断に追従して、金属層520が破断するからだと考えられる。
FIG. 16 is a cross-sectional view showing a configuration example of a glossy film according to another embodiment. In this glossy film 523, a support layer 550 having a tensile breaking strength smaller than that of the
図16Aに示すように、支持層550Aとして引張破断強度が小さいベースフィルムが用いられてもよい。例えば二軸延伸PETは引張破断強度が約200〜約250MPaとなり、金属層520の引張破断強度よりも高くなる場合が多い。
As shown in FIG. 16A, a base film having a low tensile breaking strength may be used as the
一方で無延伸PET、PC、PMMA、及びPPの引張破断強度は以下のようになる。
無延伸PET:約70MPa
PC:約69〜約72MPa
PMMA:約80MPa
PP:約30〜約72MPa
従ってこれらの材料からなるベースフィルムを支持層550Aとして用いることで、低い延伸率にて微細クラック522を適正に形成することが可能となる。なお支持層550Aとして、非塩化ビニル系の材料を選択することで、金属の腐食の防止に有利である。On the other hand, the tensile breaking strengths of unstretched PET, PC, PMMA, and PP are as follows.
Unstretched PET: Approximately 70 MPa
PC: Approximately 69 to 72 MPa
PMMA: Approximately 80MPa
PP: Approximately 30 to 72 MPa
Therefore, by using a base film made of these materials as the
図16Bに示すように、支持層550Bとして、ベースフィルム519上にコーティング層が形成されてもよい。例えばアクリル樹脂等をコーティングしてハードコート層を形成することで、当該ハードコート層を支持層550Bとして簡単に形成することができる。
As shown in FIG. 16B, a coating layer may be formed on the
引張破断強度が大きいベースフィルム519と金属層520との間に引張破断強度が小さいコーティング層を形成することで、光沢フィルム523Bの耐久性を高く維持しつつも、低い延伸率による微細クラック522の形成を実現することができる。また製造工程上PETを使用しなければならない場合等にも有効である。なお図16A及びBに示す支持層550A及びBとして機能するベースフィルムやハードコート層の表面の破断は、微細クラック522の幅程度の非常に小さいものである。従ってエアの噛み込み等や意匠性の低下等を引き起こすものではない。
By forming a coating layer having a small tensile breaking strength between the
図17は、支持層550Bとして形成されたコーティング層の厚みと、金属層520に形成される微細クラック522のピッチ(クラック間隔)との関係を示す図である。図17は、コーティング層としてアクリル層が形成された場合の関係が示されている。
FIG. 17 is a diagram showing the relationship between the thickness of the coating layer formed as the
図17に示すように、アクリル層の厚みが1μm以下の場合、微細クラック522のピッチは、50μm〜100μmとなった。一方で、アクリル層の厚みを1μm〜5μmの範囲に設定すると、微細クラック522のピッチは、100μm〜200μmとなった。このように、アクリル層の厚みを大きくするほど、微細クラック522のピッチが大きくなることが分かった。従って、アクリル層の厚みを適宜制御することで、微細クラック522のピッチを調整することが可能となる。例えばアクリル層の厚みを0.1μm以上10μm以下とすることで、微細クラック522の厚みを所望の範囲で調整することが可能である。もちろんこの範囲に限定されるわけではなく、例えば0.1μm以上10μm以下の範囲の中で、最適な数値範囲が改めて設定されてもよい。
As shown in FIG. 17, when the thickness of the acrylic layer was 1 μm or less, the pitch of the
なお図16及び図17を参照して説明した構成において、遮光部や加飾機能部を実現するために、任意の構成が採用されてよい。 In the configuration described with reference to FIGS. 16 and 17, any configuration may be adopted in order to realize the light-shielding portion and the decorative function portion.
微細クラックを形成するための延伸は2軸延伸に限定されない。1軸延伸や3軸以上の延伸が実行されてもよい。また図5に示す第2のロール207に巻き取られたベースフィルム19に対して、さらにロールツーロール方式で2軸延伸が実行されてもよい。さらに真空蒸着が行われた後、第2のロール207に巻き取られる前に2軸延伸が実行されてもよい。
Stretching for forming fine cracks is not limited to biaxial stretching. Uniaxial stretching or stretching of 3 or more axes may be performed. Further, biaxial stretching may be further performed on the
以上説明した本技術に係る特徴部分のうち、少なくとも2つの特徴部分を組み合わせることも可能である。すなわち各実施形態で説明した種々の特徴部分は、各実施形態の区別なく、任意に組み合わされてもよい。また上記で記載した種々の効果は、あくまで例示であって限定されるものではなく、また他の効果が発揮されてもよい。 It is also possible to combine at least two feature portions among the feature portions according to the present technology described above. That is, the various characteristic portions described in each embodiment may be arbitrarily combined without distinction between the respective embodiments. Further, the various effects described above are merely exemplary and not limited, and other effects may be exhibited.
なお、本技術は以下のような構成も採ることができる。
(1)
第1の面と、
前記第1の面とは反対側の第2の面と、
微細なクラックを有する金属層と、
前記微細なクラックの隙間、又は前記金属層と前記第2の面との間の少なくとも一方に構成される遮光部と
を有する加飾部と、
前記第1の面が表面側となるように前記加飾部が接着される被加飾領域を有する部材と
を具備する構造体。
(2)請求項1に記載の構造体であって、
前記遮光部は、前記微細なクラックの隙間に構成される隙間遮光部を含む
構造体。
(3)(1)又は(2)に記載の構造体であって、
前記遮光部は、前記金属層と前記第2の面との間に構成される遮光層を含む
構造体。
(4)(1)から(3)のうちいずれか1つに記載の構造体であって、
前記遮光部は、前記微細なクラックの隙間に構成される隙間遮光部と、前記金属層と前記第2の面との間に位置し、前記隙間遮光部と一体的に構成される遮光層とを含む
構造体。
(5)(1)に記載の構造体であって、
前記加飾部は、前記微細なクラックの隙間、又は前記金属層と前記第2の面との間の少なくとも一方に構成され加飾機能を有する加飾機能部を含む
構造体。
(6)(5)に記載の構造体であって、
前記加飾機能部は、光の透過又は反射の少なくとも一方を利用した加飾機能を有する
構造体。
(7)(5)又は(6)に記載の構造体であって、
前記加飾機能部は、前記微細なクラックの隙間に構成される隙間加飾機能部を含む
構造体。
(8)(5)から(7)のうちいずれか1つに記載の構造体であって、
前記加飾機能部は、前記金属層と前記第2の面との間に構成される加飾機能層を含む
構造体。
(9)(5)から(8)のうちいずれか1つに記載の構造体であって、
前記加飾機能部は、前記微細なクラックの隙間に構成される隙間加飾機能部と、前記金属層と前記第2の面との間に位置し、前記隙間加飾機能部と一体的に構成される加飾機能層とを含む
構造体。
(10)(1)から(9)のうちいずれか1つに記載の構造体であって、
前記金属層は、アルミニウム、チタン、クロム、及びこれらのうち少なくとも1つを含む合金のうちのいずれかである
構造体。
(11)(1)から(10)のうちいずれか1つに記載の構造体であって、
前記金属層は、30nm以上300nm以下の厚みを有する
構造体。
(12)(1)から(11)のうちいずれか1つに記載の構造体であって、
前記微細なクラックは、ピッチが1μm以上500μm以下の範囲に含まれる
構造体。
(13)(1)から(12)のうちいずれか1つに記載の構造体であって、
筐体部品、車両、又は建築物の少なくとも一部として構成される
構造体。
(14)(1)から(13)のうちいずれか1つに記載の構造体であって、
前記加飾部は、前記微細のクラックを固定化する固定層を有する
構造体。
(15)
ベースフィルムと、
前記ベースフィルムに形成され、
第1の面と、
前記第1の面とは反対側の第2の面と、
微細なクラックを有する金属層と、
前記微細なクラックの隙間、又は前記金属層と前記第2の面との間の少なくとも一方に構成される遮光部と
を有する加飾部と
を具備する加飾フィルム。
(16)
ベースフィルムに蒸着により金属層を形成し、
前記ベースフィルムを延伸することで前記金属層に微細なクラックを形成し、
前記微細クラックが形成された金属層と、
前記微細なクラックの隙間、又は前記金属層と意匠面とは反対側の面との間の少なくとも一方に構成される遮光部と
を含む加飾フィルムを形成し、
前記加飾フィルムにキャリアフィルムを接着することで転写用フィルムを形成し、
インモールド成形法、ホットスタンプ法、又は真空成形法により前記転写用フィルムから前記加飾フィルムが転写されるように成型部品を形成する
構造体の製造方法。
(17)
ベースフィルムに蒸着により金属層を形成し、
前記ベースフィルムを延伸することで前記金属層に微細なクラックを形成し、
前記微細クラックが形成された金属層と、
前記微細なクラックの隙間、又は前記金属層と意匠面とは反対側の面との間の少なくとも一方に構成される遮光部と
を含む転写用フィルムを形成し、
インモールド成形法、ホットスタンプ法、又は真空成形法により前記ベースフィルムから剥離した前記金属層及び前記遮光部が転写されるように成型部品を形成する
構造体の製造方法。
(18)
ベースフィルムに蒸着により金属層を形成し、
前記ベースフィルムを延伸することで前記金属層に微細なクラックを形成し、
前記微細クラックが形成された金属層と、
前記微細なクラックの隙間、又は前記金属層と意匠面とは反対側の面との間の少なくとも一方に構成される遮光部と
を含む加飾フィルムを形成し、
インサート成形法により前記加飾フィルムと一体的に成形部品を形成する
構造体の製造方法。
(19)(16)から(18)のうちいずれか1つに記載の製造方法であって、
前記微細なクラックの形成ステップは、前記ベースフィルムを各々の軸方向の延伸率5%以下で2軸延伸する
構造体の製造方法。
(20)
ベースフィルムに蒸着により金属層を形成し、
前記ベースフィルムを延伸することで前記金属層に微細なクラックを形成し、
前記微細なクラックの隙間、又は前記金属層と意匠面とは反対側の面との間の少なくとも一方に、遮光部を形成する
加飾フィルムの製造方法。
(21)(1)から(13)のうちいずれか1つに記載の構造体であって、
前記微細なクラックは、不規則に形成されている
構造体。
(22)(1)から(13)及び(21)のうちいずれか1つに記載の構造体であって、
前記加飾部は、引張破断強度が前記金属層よりも小さく前記金属層を支持する支持層を有する
構造体。
(23)(22)に記載の構造体であって、
前記支持層部は、ベースフィルムである
構造体。
(24)(26)に記載の構造体であって、
前記支持層は、ベースフィルムに形成されたコーティング層である
構造体。
(25)(16)から(19)のうちいずれか1つに記載の製造方法であって、
前記金属層の形成ステップは、巻出ロールから巻取ロールに向けて回転ドラムの周面に沿って搬送される前記ベースフィルムに対して真空蒸着を行う
構造体の製造方法。In addition, this technology can also adopt the following configurations.
(1)
The first side and
A second surface opposite to the first surface,
A metal layer with fine cracks and
A decorative portion having a gap between the fine cracks or a light-shielding portion formed on at least one of the metal layer and the second surface.
A structure comprising a member having a decorated area to which the decorated portion is adhered so that the first surface faces the surface side.
(2) The structure according to claim 1.
The light-shielding portion is a structure including a gap light-shielding portion formed in the gaps of the fine cracks.
(3) The structure according to (1) or (2).
The light-shielding portion is a structure including a light-shielding layer formed between the metal layer and the second surface.
(4) The structure according to any one of (1) to (3).
The light-shielding portion includes a gap light-shielding portion formed in the gap between the fine cracks and a light-shielding layer located between the metal layer and the second surface and integrally formed with the gap light-shielding portion. Structure containing.
(5) The structure according to (1).
The decorative portion is a structure including a decorative functional portion formed in at least one of the gaps between the fine cracks or the metal layer and the second surface and having a decorative function.
(6) The structure according to (5).
The decoration function unit is a structure having a decoration function utilizing at least one of transmission and reflection of light.
(7) The structure according to (5) or (6).
The decoration function unit is a structure including a gap decoration function unit formed in the gaps of the fine cracks.
(8) The structure according to any one of (5) to (7).
The decorative functional unit is a structure including a decorative functional layer formed between the metal layer and the second surface.
(9) The structure according to any one of (5) to (8).
The decoration function unit is located between the gap decoration function unit formed in the gap between the fine cracks and the metal layer and the second surface, and is integrated with the gap decoration function unit. A structure that includes a decorative functional layer and is composed.
(10) The structure according to any one of (1) to (9).
The metal layer is a structure that is any one of aluminum, titanium, chromium, and an alloy containing at least one of these.
(11) The structure according to any one of (1) to (10).
The metal layer is a structure having a thickness of 30 nm or more and 300 nm or less.
(12) The structure according to any one of (1) to (11).
The fine crack is a structure having a pitch in the range of 1 μm or more and 500 μm or less.
(13) The structure according to any one of (1) to (12).
A structure constructed as a housing component, vehicle, or at least part of a building.
(14) The structure according to any one of (1) to (13).
The decorative portion is a structure having a fixing layer for immobilizing the fine cracks.
(15)
With the base film
Formed on the base film
The first side and
A second surface opposite to the first surface,
A metal layer with fine cracks and
A decorative film comprising a gap between the fine cracks or a decorative portion having a light-shielding portion formed on at least one of the metal layer and the second surface.
(16)
A metal layer is formed on the base film by thin film deposition,
By stretching the base film, fine cracks are formed in the metal layer,
The metal layer on which the fine cracks were formed and
A decorative film including the gaps between the fine cracks or the light-shielding portion formed on at least one of the metal layer and the surface opposite to the design surface is formed.
A transfer film is formed by adhering a carrier film to the decorative film.
A method for manufacturing a structure for forming a molded part so that the decorative film is transferred from the transfer film by an in-mold molding method, a hot stamping method, or a vacuum forming method.
(17)
A metal layer is formed on the base film by thin film deposition,
By stretching the base film, fine cracks are formed in the metal layer,
The metal layer on which the fine cracks were formed and
A transfer film including the gaps between the fine cracks or the light-shielding portion formed on at least one of the metal layer and the surface opposite to the design surface is formed.
A method for manufacturing a structure for forming a molded part so that the metal layer and the light-shielding portion peeled off from the base film by an in-mold molding method, a hot stamping method, or a vacuum forming method are transferred.
(18)
A metal layer is formed on the base film by thin film deposition,
By stretching the base film, fine cracks are formed in the metal layer,
The metal layer on which the fine cracks were formed and
A decorative film including the gaps between the fine cracks or the light-shielding portion formed on at least one of the metal layer and the surface opposite to the design surface is formed.
A method for manufacturing a structure that integrally forms a molded part with the decorative film by an insert molding method.
(19) The manufacturing method according to any one of (16) to (18).
The step of forming fine cracks is a method for producing a structure in which the base film is biaxially stretched at a stretch ratio of 5% or less in each axial direction.
(20)
A metal layer is formed on the base film by thin film deposition,
By stretching the base film, fine cracks are formed in the metal layer,
A method for producing a decorative film, which forms a light-shielding portion in at least one of the gaps between the fine cracks or between the metal layer and the surface opposite to the design surface.
(21) The structure according to any one of (1) to (13).
The fine cracks are irregularly formed structures.
(22) The structure according to any one of (1) to (13) and (21).
The decorative portion is a structure having a support layer having a tensile breaking strength smaller than that of the metal layer and supporting the metal layer.
(23) The structure according to (22).
The support layer portion is a structure that is a base film.
(24) The structure according to (26).
The support layer is a structure that is a coating layer formed on a base film.
(25) The manufacturing method according to any one of (16) to (19).
The metal layer forming step is a method for manufacturing a structure in which vacuum vapor deposition is performed on the base film conveyed along the peripheral surface of a rotating drum from a take-up roll to a take-up roll.
10…金属加飾部
11、411…被加飾領域
12…加飾フィルム
12a、412a…意匠面
12b…接着面
19、419、519…ベースフィルム
20、420、520…金属層
21、421…密封樹脂
22、422、522…微細クラック
30…遮光部
31…隙間遮光部
32…遮光層
40…加飾機能部
41…隙間加飾機能部
42…加飾機能層
50、450…転写用フィルム
100…携帯端末
101…筐体部
200…真空蒸着装置
250…軸延伸装置
300、350…成形装置10 ...
Claims (20)
前記第1の面とは反対側の第2の面と、
微細なクラックを有する金属層と、
前記微細なクラックの隙間、又は前記金属層と前記第2の面との間の少なくとも一方に構成される遮光部と
を有する加飾部と、
前記第1の面が表面側となるように前記加飾部が接着される被加飾領域を有する部材と
を具備する構造体。The first side and
A second surface opposite to the first surface,
A metal layer with fine cracks and
A decorative portion having a gap between the fine cracks or a light-shielding portion formed on at least one of the metal layer and the second surface.
A structure comprising a member having a decorated area to which the decorated portion is adhered so that the first surface faces the surface side.
前記遮光部は、前記微細なクラックの隙間に構成される隙間遮光部を含む
構造体。The structure according to claim 1.
The light-shielding portion is a structure including a gap light-shielding portion formed in the gaps of the fine cracks.
前記遮光部は、前記金属層と前記第2の面との間に構成される遮光層を含む
構造体。The structure according to claim 1.
The light-shielding portion is a structure including a light-shielding layer formed between the metal layer and the second surface.
前記遮光部は、前記微細なクラックの隙間に構成される隙間遮光部と、前記金属層と前記第2の面との間に位置し、前記隙間遮光部と一体的に構成される遮光層とを含む
構造体。The structure according to claim 1.
The light-shielding portion includes a gap light-shielding portion formed in the gap between the fine cracks, and a light-shielding layer located between the metal layer and the second surface and integrally formed with the gap light-shielding portion. Structure containing.
前記加飾部は、前記微細なクラックの隙間、又は前記金属層と前記第2の面との間の少なくとも一方に構成され加飾機能を有する加飾機能部を含む
構造体。The structure according to claim 1.
The decorative portion is a structure including a decorative functional portion formed in at least one of the gaps between the fine cracks or the metal layer and the second surface and having a decorative function.
前記加飾機能部は、光の透過又は反射の少なくとも一方を利用した加飾機能を有する
構造体。The structure according to claim 5.
The decoration function unit is a structure having a decoration function utilizing at least one of transmission and reflection of light.
前記加飾機能部は、前記微細なクラックの隙間に構成される隙間加飾機能部を含む
構造体。The structure according to claim 5.
The decoration function unit is a structure including a gap decoration function unit formed in the gaps of the fine cracks.
前記加飾機能部は、前記金属層と前記第2の面との間に構成される加飾機能層を含む
構造体。The structure according to claim 5.
The decorative functional unit is a structure including a decorative functional layer formed between the metal layer and the second surface.
前記加飾機能部は、前記微細なクラックの隙間に構成される隙間加飾機能部と、前記金属層と前記第2の面との間に位置し、前記隙間加飾機能部と一体的に構成される加飾機能層とを含む
構造体。The structure according to claim 5.
The decoration function unit is located between the gap decoration function unit formed in the gap between the fine cracks and the metal layer and the second surface, and is integrated with the gap decoration function unit. A structure that includes a decorative functional layer and is composed.
前記金属層は、アルミニウム、チタン、クロム、及びこれらのうち少なくとも1つを含む合金のうちのいずれかである
構造体。The structure according to claim 1.
The metal layer is a structure that is any one of aluminum, titanium, chromium, and an alloy containing at least one of these.
前記金属層は、30nm以上300nm以下の厚みを有する
構造体。The structure according to claim 1.
The metal layer is a structure having a thickness of 30 nm or more and 300 nm or less.
前記微細なクラックは、ピッチが1μm以上500μm以下の範囲に含まれる
構造体。The structure according to claim 1.
The fine crack is a structure having a pitch in the range of 1 μm or more and 500 μm or less.
筐体部品、車両、又は建築物の少なくとも一部として構成される
構造体。The structure according to claim 1.
A structure constructed as a housing component, vehicle, or at least part of a building.
前記加飾部は、前記微細のクラックを固定化する固定層を有する
構造体。The structure according to claim 1.
The decorative portion is a structure having a fixing layer for immobilizing the fine cracks.
前記ベースフィルムに形成され、
第1の面と、
前記第1の面とは反対側の第2の面と、
微細なクラックを有する金属層と、
前記微細なクラックの隙間、又は前記金属層と前記第2の面との間の少なくとも一方に構成される遮光部と
を有する加飾部と
を具備する加飾フィルム。With the base film
Formed on the base film
The first side and
A second surface opposite to the first surface,
A metal layer with fine cracks and
A decorative film comprising a gap between the fine cracks or a decorative portion having a light-shielding portion formed on at least one of the metal layer and the second surface.
前記ベースフィルムを延伸することで前記金属層に微細なクラックを形成し、
前記微細クラックが形成された金属層と、
前記微細なクラックの隙間、又は前記金属層と意匠面とは反対側の面との間の少なくとも一方に構成される遮光部と
を含む加飾フィルムを形成し、
前記加飾フィルムにキャリアフィルムを接着することで転写用フィルムを形成し、
インモールド成形法、ホットスタンプ法、又は真空成形法により前記転写用フィルムから前記加飾フィルムが転写されるように成型部品を形成する
構造体の製造方法。A metal layer is formed on the base film by thin film deposition,
By stretching the base film, fine cracks are formed in the metal layer,
The metal layer on which the fine cracks were formed and
A decorative film including the gaps between the fine cracks or the light-shielding portion formed on at least one of the metal layer and the surface opposite to the design surface is formed.
A transfer film is formed by adhering a carrier film to the decorative film.
A method for manufacturing a structure for forming a molded part so that the decorative film is transferred from the transfer film by an in-mold molding method, a hot stamping method, or a vacuum forming method.
前記ベースフィルムを延伸することで前記金属層に微細なクラックを形成し、
前記微細クラックが形成された金属層と、
前記微細なクラックの隙間、又は前記金属層と意匠面とは反対側の面との間の少なくとも一方に構成される遮光部と
を含む転写用フィルムを形成し、
インモールド成形法、ホットスタンプ法、又は真空成形法により前記ベースフィルムから剥離した前記金属層及び前記遮光部が転写されるように成型部品を形成する
構造体の製造方法。A metal layer is formed on the base film by thin film deposition,
By stretching the base film, fine cracks are formed in the metal layer,
The metal layer on which the fine cracks were formed and
A transfer film including the gaps between the fine cracks or the light-shielding portion formed on at least one of the metal layer and the surface opposite to the design surface is formed.
A method for manufacturing a structure for forming a molded part so that the metal layer and the light-shielding portion peeled off from the base film by an in-mold molding method, a hot stamping method, or a vacuum forming method are transferred.
前記ベースフィルムを延伸することで前記金属層に微細なクラックを形成し、
前記微細クラックが形成された金属層と、
前記微細なクラックの隙間、又は前記金属層と意匠面とは反対側の面との間の少なくとも一方に構成される遮光部と
を含む加飾フィルムを形成し、
インサート成形法により前記加飾フィルムと一体的に成形部品を形成する
構造体の製造方法。A metal layer is formed on the base film by thin film deposition,
By stretching the base film, fine cracks are formed in the metal layer,
The metal layer on which the fine cracks were formed and
A decorative film including the gaps between the fine cracks or the light-shielding portion formed on at least one of the metal layer and the surface opposite to the design surface is formed.
A method for manufacturing a structure that integrally forms a molded part with the decorative film by an insert molding method.
前記微細なクラックの形成ステップは、前記ベースフィルムを各々の軸方向の延伸率5%以下で2軸延伸する
構造体の製造方法。The manufacturing method according to claim 16.
The step of forming fine cracks is a method for producing a structure in which the base film is biaxially stretched at a stretch ratio of 5% or less in each axial direction.
前記ベースフィルムを延伸することで前記金属層に微細なクラックを形成し、
前記微細なクラックの隙間、又は前記金属層と意匠面とは反対側の面との間の少なくとも一方に、遮光部を形成する
加飾フィルムの製造方法。A metal layer is formed on the base film by thin film deposition,
By stretching the base film, fine cracks are formed in the metal layer,
A method for producing a decorative film, which forms a light-shielding portion in at least one of the gaps between the fine cracks or between the metal layer and the surface opposite to the design surface.
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