JPWO2020092668A5 - - Google Patents

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Claims (46)

真空基板搬送装置であって、
フレームと、
前記フレームに接続される駆動セクションであって、前記駆動セクションが、少なくとも1つの駆動軸を有する、駆動セクションと、
基板を保持するように構成されるエンドエフェクタを有する、少なくとも1つのアームであって、前記少なくとも1つのアームが、トランスミッションリンクによって前記駆動セクションに接続され、前記少なくとも1つのアームに対して、前記エンドエフェクタの伸長および収縮をもたらす、少なくとも1つの自由度軸を有する、少なくとも1つのアームと、
前記フレームおよび前記エンドエフェクタに接続される軸受であって、前記軸受が、前記少なくとも1つの自由度軸を画定するガイドウェイを画定する、軸受と
を備え、
前記軸受は、
少なくとも1つの転がり負荷軸受要素であって、前記軸受の軸受ケースにおいて、軸受レールに沿って、前記軸受ケースを循環するように配置され、前記少なくとも1つのアームによって前記軸受に付与されるアームの負荷を支持するように、前記軸受ケースの軸受レースウェイと前記軸受レールとの間をインターフェース接続し、前記少なくとも1つのアームによって、前記軸受レールに沿う、前記軸受ケースの摺動をもたらす、少なくとも1つの転がり負荷軸受要素と、
少なくとも1つの実質的に無負荷の軸受の転がりスペーサ要素であって、前記少なくとも1つの転がり負荷軸受要素の各々と前記転がり負荷軸受要素の別の1つとの間に介在し、前記少なくとも1つの転がり負荷軸受要素の各々を前記転がり負荷軸受要素の別の1つと離間させて、前記軸受ケースに並んで配置され、前記少なくとも1つの実質的に無負荷の軸受の転がりスペーサ要素が、前記軸受レースウェイと前記軸受レールとの間をインターフェース接続し、前記少なくとも1つの実質的に無負荷の軸受の転がりスペーサ要素が、前記少なくとも1つのアームの各運動に対して発生する前記アームの負荷によって、前記軸受の全体にわたって、実質的に連続的に負荷が加えられないように構成される、少なくとも1つの実質的に無負荷の軸受の転がりスペーサ要素と
を備え、
前記少なくとも1つの実質的に無負荷の軸受の転がりスペーサ要素は、指定された所定の使用期間中の260℃を超える温度の真空雰囲気における、前記真空基板搬送装置の所定の半導体プロセスの使用デューティに相応する、持続的な実質的に無制限の使用に対して適合可能である犠牲緩衝材料からなる、
真空基板搬送装置。
A vacuum substrate transfer apparatus,
a frame;
a drive section connected to the frame, the drive section having at least one drive shaft;
at least one arm having an end effector configured to hold a substrate, said at least one arm being connected to said drive section by a transmission link; at least one arm having at least one axis of freedom that effects extension and retraction of the effector;
a bearing connected to the frame and the end effector, the bearing defining a guideway defining the at least one axis of freedom;
The bearing is
at least one rolling load bearing element arranged in a bearing case of said bearing, along a bearing rail, so as to circulate through said bearing case and arm load imparted to said bearing by said at least one arm; interfaced between the bearing raceway of the bearing case and the bearing rails to support sliding of the bearing case along the bearing rails by the at least one arm; a rolling load bearing element;
at least one substantially unloaded bearing rolling spacer element interposed between each of said at least one rolling load bearing element and another one of said rolling load bearing elements, said at least one rolling a rolling spacer element of said at least one substantially unloaded bearing disposed alongside said bearing case with each of said load bearing elements spaced apart from another one of said rolling load bearing elements; and said bearing rail, wherein said at least one substantially unloaded bearing rolling spacer element is actuated by said arm load for each movement of said at least one arm, causing said bearing at least one substantially unloaded bearing rolling spacer element configured to be substantially continuously unloaded throughout the
The at least one substantially unloaded bearing rolling spacer element is compliant with a predetermined semiconductor process use duty of the vacuum substrate transfer apparatus in a vacuum atmosphere at a temperature exceeding 260° C. during a specified predetermined period of use. commensurate with a sacrificial cushioning material that is adaptable for sustained, substantially unlimited use;
Vacuum substrate transfer device.
前記少なくとも1つの転がり負荷軸受要素および前記少なくとも1つの実質的に無負荷の軸受の転がりスペーサ要素は各々、ボールである、
請求項1記載の真空基板搬送装置。
each of said at least one rolling load bearing element and said at least one substantially unloaded bearing rolling spacer element is a ball;
2. The vacuum substrate transfer apparatus according to claim 1.
前記少なくとも1つの転がり負荷軸受要素および前記少なくとも1つの実質的に無負荷の軸受の転がりスペーサ要素は各々、ローラである、
請求項1記載の真空基板搬送装置。
each of said at least one rolling load bearing element and said at least one substantially unloaded bearing rolling spacer element is a roller;
2. The vacuum substrate transfer apparatus according to claim 1.
前記少なくとも1つの実質的に無負荷の軸受の転がりスペーサ要素の前記犠牲緩衝材料は、前記少なくとも1つの転がり負荷軸受要素に対して犠牲的に摩耗する、前記少なくとも1つの実質的に無負荷の軸受の転がりスペーサ要素の犠牲摩耗面を形成する、
請求項1記載の真空基板搬送装置。
The at least one substantially unloaded bearing wherein the sacrificial cushioning material of the rolling spacer element of the at least one substantially unloaded bearing wears sacrificially against the at least one rolling load bearing element. forming a sacrificial wear surface for the rolling spacer elements of
2. The vacuum substrate transfer apparatus according to claim 1.
前記少なくとも1つの実質的に無負荷の軸受の転がりスペーサ要素は、前記少なくとも1つの転がり負荷軸受要素に対して、潤滑性のある材料表面を有し、
前記潤滑性のある材料表面は、潤滑剤を含む、
請求項1記載の真空基板搬送装置。
said at least one substantially unloaded bearing rolling spacer element having a lubricious material surface with respect to said at least one rolling load bearing element;
wherein the lubricious material surface comprises a lubricant;
2. The vacuum substrate transfer apparatus according to claim 1.
前記少なくとも1つの実質的に無負荷の軸受の転がりスペーサ要素の前記犠牲緩衝材料は、ポリイミド(PI)である、
請求項1記載の真空基板搬送装置。
the sacrificial cushioning material of the at least one substantially unloaded bearing rolling spacer element is polyimide (PI);
2. The vacuum substrate transfer apparatus according to claim 1.
前記少なくとも1つの実質的に無負荷の軸受の転がりスペーサ要素の前記犠牲緩衝材料は、ポリアミドイミド(PAI)である、
請求項1記載の真空基板搬送装置。
the sacrificial cushioning material of the at least one substantially unloaded bearing rolling spacer element is polyamideimide (PAI);
2. The vacuum substrate transfer apparatus according to claim 1.
前記指定された所定の使用期間は、260℃を超える温度の真空雰囲気における、前記真空基板搬送装置の前記所定の半導体プロセスの使用デューティでの年数を超える、
請求項1記載の真空基板搬送装置。
The specified predetermined period of use exceeds the number of years of use duty of the predetermined semiconductor process of the vacuum substrate transfer apparatus in a vacuum atmosphere at a temperature exceeding 260 ° C.
2. The vacuum substrate transfer apparatus according to claim 1.
前記真空雰囲気は、高真空基板製造工程に対して適合可能である高真空である、
請求項8記載の真空基板搬送装置。
The vacuum atmosphere is a high vacuum compatible with a high vacuum substrate manufacturing process.
The vacuum substrate transfer apparatus according to claim 8.
前記少なくとも1つの実質的に無負荷の軸受の転がりスペーサ要素は、前記少なくとも1つの実質的に無負荷の軸受の転がりスペーサ要素の全体にわたって共通の材料からなる、
請求項1記載の真空基板搬送装置。
the at least one substantially unloaded bearing rolling spacer element is of a common material throughout the at least one substantially unloaded bearing rolling spacer element;
2. The vacuum substrate transfer apparatus according to claim 1.
前記真空基板搬送装置の前記所定の使用デューティは、前記真空基板搬送装置の指定された所定の使用期間の寿命に対応する、
請求項1記載の真空基板搬送装置。
wherein the predetermined duty of use of the vacuum substrate transfer device corresponds to a life of a specified predetermined usage period of the vacuum substrate transfer device;
2. The vacuum substrate transfer apparatus according to claim 1.
前記少なくとも1つの実質的に無負荷の軸受の転がりスペーサ要素は、前記軸受ケースが前記軸受レールに沿って摺動するとともに、各転がり負荷軸受要素と他の転がり負荷軸受要素との間の相対運動を緩衝するように、各転がり負荷軸受要素と他の転がり負荷軸受要素との間をインターフェース接続する、
請求項1記載の真空基板搬送装置。
The at least one substantially unloaded bearing rolling spacer element provides relative motion between each rolling load bearing element and the other rolling load bearing element as the bearing case slides along the bearing rails. interfacing between each rolling load bearing element and the other rolling load bearing element to dampen the
2. The vacuum substrate transfer apparatus according to claim 1.
前記少なくとも1つの実質的に無負荷の軸受の転がりスペーサ要素は、前記軸受が、すべてが転がり負荷軸受要素の軸受に対して、低減した数の前記少なくとも1つの転がり負荷軸受要素を有するように、前記軸受ケースにおいて、転がり負荷軸受要素の位置を占めるように、前記軸受ケースに配置される、
請求項1記載の真空基板搬送装置。
the rolling spacer elements of the at least one substantially unloaded bearing, such that the bearing has a reduced number of the at least one rolling load bearing element relative to bearings of all rolling load bearing elements; arranged in the bearing case to occupy the position of a rolling load bearing element in the bearing case;
2. The vacuum substrate transfer apparatus according to claim 1.
前記軸受は、前記すべてが転がり負荷軸受要素の軸受に相応する低減した振動応答によって、低減した負荷軸受要素の軸受に相応する低減した滑り抵抗力を提供する、前記すべての軸受要素の軸受に相応する所定の負荷容量に対して、低減した負荷軸受要素の軸受である、
請求項13記載の真空基板搬送装置。
The bearing provides reduced sliding resistance commensurate with the bearing of the reduced load bearing element with reduced vibration response commensurate with the bearing of the all rolling load bearing element. for a given load capacity of a reduced load bearing element bearing,
14. The vacuum substrate transfer apparatus according to claim 13.
真空基板搬送装置であって、
フレームと、
前記フレームに接続される駆動セクションであって、前記駆動セクションが、少なくとも1つの駆動軸を有する、駆動セクションと、
基板を保持するように構成されるエンドエフェクタを有する、少なくとも1つのアームであって、前記少なくとも1つのアームが、トランスミッションリンクによって前記駆動セクションに接続され、前記少なくとも1つのアームに対して、前記エンドエフェクタの伸長および収縮をもたらす、少なくとも1つの自由度軸を有する、少なくとも1つのアームと、
前記フレームおよび前記エンドエフェクタに接続される軸受であって、前記軸受が、前記少なくとも1つの自由度軸を画定するガイドウェイを画定する、軸受と
を備え、
前記軸受は、
少なくとも1つの転がり負荷軸受要素であって、前記軸受の軸受ケースにおいて、軸受レールに沿って、ケースを循環するように配置され、前記少なくとも1つのアームによって前記軸受に付与されるアームの負荷を支持するように、前記軸受ケースの軸受レースウェイと軸受レールとの間をインターフェース接続し、前記少なくとも1つのアームによって、前記軸受レールに沿う、前記軸受ケースの摺動をもたらす、少なくとも1つの転がり負荷軸受要素と、
少なくとも1つのプラスチックの転がりスペーサ要素であって、レースウェイにおいて、前記少なくとも1つの転がり負荷軸受要素の各々と並んで転動し、前記少なくとも1つの転がり負荷軸受要素の各々を前記転がり負荷軸受要素の別の1つと離間させて、前記軸受レースウェイに配置される、少なくとも1つのプラスチックの転がりスペーサ要素と
を備え、
前記少なくとも1つのプラスチックの転がりスペーサ要素は、指定された所定の使用期間中の260℃を超える温度の真空雰囲気における、前記真空基板搬送装置の所定の使用デューティに相応する、持続的な実質的に無制限の使用に適合可能である、真空基板搬送装置。
A vacuum substrate transfer apparatus,
a frame;
a drive section connected to the frame, the drive section having at least one drive shaft;
at least one arm having an end effector configured to hold a substrate, said at least one arm being connected to said drive section by a transmission link; at least one arm having at least one axis of freedom that effects extension and retraction of the effector;
a bearing connected to the frame and the end effector, the bearing defining a guideway defining the at least one axis of freedom;
The bearing is
at least one rolling load bearing element arranged in a bearing case of the bearing along the bearing rails in circulation through the case to support an arm load imparted to the bearing by the at least one arm; at least one rolling load bearing interfacing between a bearing raceway of said bearing case and a bearing rail such that said at least one arm provides for sliding of said bearing case along said bearing rail; element and
at least one plastic rolling spacer element for rolling alongside each of said at least one rolling load bearing element in a raceway and forcing each of said at least one rolling load bearing element against said rolling load bearing element; at least one plastic rolling spacer element positioned on said bearing raceway, spaced apart from another one;
Said at least one plastic rolling spacer element is substantially sustained, commensurate with a predetermined duty of use of said vacuum substrate transfer apparatus in a vacuum atmosphere at a temperature above 260° C. for a specified predetermined period of use. A vacuum substrate transfer apparatus that is adaptable for unlimited use.
前記少なくとも1つのプラスチックの転がりスペーサ要素は、前記少なくとも1つのプラスチックの転がりスペーサ要素が実質的に無負荷の軸受けとなるように、前記少なくとも1つのアームの各運動に対して発生し、前記軸受レースウェイと前記軸受レールとの間のインターフェース接続が前記軸受ケースに付与されるアームの負荷によって、前記軸受の全体にわたって、実質的に連続的に負荷が加えられないように構成される、実質的に無負荷の軸受要素である、
請求項15記載の真空基板搬送装置。
said at least one plastic rolling spacer element is generated for each movement of said at least one arm such that said at least one plastic rolling spacer element provides a substantially unloaded bearing; wherein the interface connection between the way and the bearing rail is configured such that it is substantially continuously unloaded throughout the bearing by an arm load applied to the bearing case. is a no-load bearing element in
16. The vacuum substrate transfer apparatus according to claim 15.
前記少なくとも1つのプラスチックの転がりスペーサ要素は、少なくとも1つの転がり負荷軸受要素に対する犠牲摩耗面を形成する、
請求項15記載の真空基板搬送装置。
said at least one plastic rolling spacer element forms a sacrificial wear surface for at least one rolling load bearing element;
16. The vacuum substrate transfer apparatus according to claim 15.
前記少なくとも1つのプラスチックの転がりスペーサ要素の前記犠牲摩耗面は、前記少なくとも1つの転がり負荷軸受要素に対して犠牲的に摩耗する、
請求項17記載の真空基板搬送装置。
the sacrificial wear surface of the at least one plastic rolling spacer element wears sacrificially against the at least one rolling load bearing element;
18. The vacuum substrate transfer apparatus according to claim 17.
前記少なくとも1つのプラスチックの転がりスペーサ要素の前記犠牲摩耗面は、ポリイミド(PI)である、
請求項17記載の真空基板搬送装置。
the sacrificial wear surface of the at least one plastic rolling spacer element is polyimide (PI);
18. The vacuum substrate transfer apparatus according to claim 17.
前記少なくとも1つのプラスチックの転がりスペーサ要素の前記犠牲摩耗面は、ポリアミドイミド(PAI)である、
請求項17記載の真空基板搬送装置。
the sacrificial wear surface of the at least one plastic rolling spacer element is polyamideimide (PAI);
18. The vacuum substrate transfer apparatus according to claim 17.
前記少なくとも1つのプラスチックの転がりスペーサ要素は、前記少なくとも1つの転がり負荷軸受要素に対して、潤滑性のある材料表面を有する、
請求項15記載の真空基板搬送装置。
said at least one plastic rolling spacer element having a lubricious material surface with respect to said at least one rolling load bearing element;
16. The vacuum substrate transfer apparatus according to claim 15.
前記少なくとも1つの転がり負荷軸受要素および前記少なくとも1つのプラスチックの転がりスペーサ要素は各々、ボールである、
請求項15記載の真空基板搬送装置。
each of said at least one rolling load bearing element and said at least one plastic rolling spacer element is a ball;
16. The vacuum substrate transfer apparatus according to claim 15.
前記少なくとも1つの転がり負荷軸受要素および前記少なくとも1つのプラスチックの転がりスペーサ要素は各々、ローラである、
請求項15記載の真空基板搬送装置。
each of said at least one rolling load bearing element and said at least one plastic rolling spacer element is a roller;
16. The vacuum substrate transfer apparatus according to claim 15.
前記指定された所定の使用期間は、260℃を超える温度の真空雰囲気における、前記真空基板搬送装置の前記所定の使用デューティでの年数を超える、
請求項15記載の真空基板搬送装置。
The specified predetermined period of use exceeds the number of years at the predetermined duty of use of the vacuum substrate transfer apparatus in a vacuum atmosphere at a temperature exceeding 260°C.
16. The vacuum substrate transfer apparatus according to claim 15.
前記真空雰囲気は、高真空基板製造工程に対して適合可能である高真空である、
請求項24記載の真空基板搬送装置。
The vacuum atmosphere is a high vacuum compatible with a high vacuum substrate manufacturing process.
25. The vacuum substrate transfer apparatus according to claim 24.
前記少なくとも1つのプラスチックの転がりスペーサ要素は、前記少なくとも1つのプラスチックの転がりスペーサ要素の全体にわたって共通の材料からなる、
請求項15記載の真空基板搬送装置。
said at least one plastic rolling spacer element is of a common material throughout said at least one plastic rolling spacer element;
16. The vacuum substrate transfer apparatus according to claim 15.
前記真空基板搬送装置の前記所定の使用デューティは、前記真空基板搬送装置の指定された所定の使用期間の寿命に対応する、
請求項15記載の真空基板搬送装置。
wherein the predetermined duty of use of the vacuum substrate transfer device corresponds to a life of a specified predetermined usage period of the vacuum substrate transfer device;
16. The vacuum substrate transfer apparatus according to claim 15.
前記少なくとも1つのプラスチックの転がりスペーサ要素は、前記軸受ケースが前記軸受レールに沿って摺動するとともに、各転がり負荷軸受要素と他の転がり負荷軸受要素との間の相対運動を緩衝するように、各転がり負荷軸受要素と他の転がり負荷軸受要素との間をインターフェース接続する、
請求項15記載の真空基板搬送装置。
the at least one plastic rolling spacer element dampens relative motion between each rolling load bearing element and the other rolling load bearing element as the bearing case slides along the bearing rails; interfacing between each rolling load bearing element and other rolling load bearing elements;
16. The vacuum substrate transfer apparatus according to claim 15.
前記少なくとも1つのプラスチックの転がりスペーサ要素は、前記軸受が、すべてが転がり負荷軸受要素の軸受に対して、低減した数の前記少なくとも1つの転がり負荷軸受要素を有するように、前記軸受ケースにおいて、転がり負荷軸受要素の位置を占めるように、前記軸受ケースに配置される、
請求項15記載の真空基板搬送装置。
The at least one plastic rolling spacer element rolls in the bearing case such that the bearing has a reduced number of the at least one rolling load bearing element relative to bearings of all rolling load bearing elements. arranged in the bearing case to occupy the position of a load bearing element;
16. The vacuum substrate transfer apparatus according to claim 15.
前記軸受は、前記すべてが転がり負荷軸受要素の軸受に相応する低減した振動応答によって、低減した負荷軸受要素の軸受に相応する低減した滑り抵抗力を提供する、前記すべての軸受要素の軸受に相応する所定の負荷容量に対して、低減した負荷軸受要素の軸受である、
請求項29記載の真空基板搬送装置。
The bearing provides reduced sliding resistance commensurate with the bearing of the reduced load bearing element with reduced vibration response commensurate with the bearing of the all rolling load bearing element. for a given load capacity of a reduced load bearing element bearing,
30. A vacuum substrate transfer apparatus according to claim 29.
真空基板搬送装置であって、
フレームと、
前記フレームに接続される駆動セクションであって、前記駆動セクションが、少なくとも1つの駆動軸を有する、駆動セクションと、
基板を保持するように構成されるエンドエフェクタを有する、少なくとも1つのアームであって、前記少なくとも1つのアームが、トランスミッションリンクによって前記駆動セクションに接続され、前記少なくとも1つのアームに対して、前記エンドエフェクタの伸長および収縮をもたらす、少なくとも1つの自由度軸を有する、少なくとも1つのアームと、
前記フレームおよび前記エンドエフェクタに接続される軸受であって、前記軸受が、前記少なくとも1つの自由度軸を画定するガイドウェイを画定する、軸受と
を備え、
前記軸受は、
少なくとも1つの転がり負荷軸受要素であって、前記軸受の軸受ケースにおいて、軸受レールに沿って、ケースを循環するように配置され、前記少なくとも1つのアームによって前記軸受に付与されるアームの負荷を支持するように、前記軸受ケースの軸受レースウェイと前記軸受レールとの間をインターフェース接続し、前記少なくとも1つのアームによって、前記軸受レールに沿う、前記軸受ケースの摺動をもたらす、少なくとも1つの転がり負荷軸受要素と、
少なくとも1つの転がり緩衝要素であって、前記軸受ケースが前記軸受レールに沿って摺動するとともに、各転がり負荷軸受要素と他の転がり負荷軸受要素との間の相対運動を緩衝するように、前記軸受ケースにおいて、前記少なくとも1つの転がり負荷軸受要素の各々と並んで転動し、前記少なくとも1つの転がり負荷軸受要素の各々を前記転がり負荷軸受要素の別の1つとの間をインターフェース接続して、前記軸受レースウェイに配置される、少なくとも1つの転がり緩衝要素と
を備え、
前記少なくとも1つの転がり緩衝要素は、指定された所定の使用期間中の260℃を超える温度の真空雰囲気における、前記真空基板搬送装置の所定の半導体プロセスの使用デューティに相応する、持続的な実質的に無制限の使用に対して適合可能である、
真空基板搬送装置。
A vacuum substrate transfer apparatus,
a frame;
a drive section connected to the frame, the drive section having at least one drive shaft;
at least one arm having an end effector configured to hold a substrate, said at least one arm being connected to said drive section by a transmission link; at least one arm having at least one axis of freedom that effects extension and retraction of the effector;
a bearing connected to the frame and the end effector, the bearing defining a guideway defining the at least one axis of freedom;
The bearing is
at least one rolling load bearing element arranged in a bearing case of said bearing along the bearing rails so as to circulate through the case to support arm loads imparted to said bearing by said at least one arm; at least one rolling load interfacing between the bearing raceway of the bearing case and the bearing rail to effect sliding of the bearing case along the bearing rail by the at least one arm, a bearing element;
at least one rolling damping element, such that the bearing case slides along the bearing rails and dampens relative motion between each rolling load bearing element and the other rolling load bearing element; rolling alongside each of said at least one rolling load bearing element in a bearing case and interfacing each of said at least one rolling load bearing element with another one of said rolling load bearing elements; at least one rolling damping element positioned in said bearing raceway;
The at least one rolling damping element is substantially continuous, commensurate with a prescribed semiconductor process duty of the vacuum substrate transfer apparatus in a vacuum atmosphere at a temperature above 260° C. during a specified prescribed period of use. is adaptable for unlimited use in
Vacuum substrate transfer device.
前記少なくとも1つの転がり緩衝要素は、前記少なくとも1つの転がり緩衝要素が実質的に無負荷の軸受となるように、前記少なくとも1つのアームの各運動に対して発生し、前記軸受レースウェイと前記軸受レールとの間をインターフェース接続が前記軸受ケースに付与されるアームの負荷によって、前記軸受の全体にわたって、実質的に連続的に負荷が加えられないように構成される、実質的に無負荷の軸受要素である、
請求項31記載の真空基板搬送装置。
The at least one rolling damping element is generated for each movement of the at least one arm such that the at least one rolling damping element is a substantially unloaded bearing, and comprises the bearing raceway and the bearing. A substantially no-load interface connection between the rail and the rail is configured such that the load of the arm applied to the bearing case is substantially continuously unloaded throughout the bearing . is a bearing element,
32. The vacuum substrate transfer apparatus of claim 31.
前記少なくとも1つの転がり緩衝要素は、少なくとも1つの転がり負荷軸受要素に対する犠牲摩耗面を形成する、
請求項31記載の真空基板搬送装置。
said at least one rolling damping element forms a sacrificial wear surface for at least one rolling load bearing element;
32. The vacuum substrate transfer apparatus of claim 31.
前記少なくとも1つの転がり緩衝要素の前記犠牲摩耗面は、前記少なくとも1つの転がり負荷軸受要素に対して犠牲的に摩耗する、
請求項33記載の真空基板搬送装置。
the sacrificial wear surface of the at least one rolling damping element wears sacrificially to the at least one rolling load bearing element;
34. The vacuum substrate transfer apparatus of claim 33.
前記少なくとも1つの転がり緩衝要素の前記犠牲摩耗面は、ポリイミド(PI)である、
請求項33記載の真空基板搬送装置。
the sacrificial wear surface of the at least one rolling cushioning element is polyimide (PI);
34. The vacuum substrate transfer apparatus of claim 33.
前記少なくとも1つの転がり緩衝要素の前記犠牲摩耗面は、ポリアミドイミド(PAI)である、
請求項33記載の真空基板搬送装置。
the sacrificial wear surface of the at least one rolling cushioning element is polyamideimide (PAI);
34. The vacuum substrate transfer apparatus of claim 33.
前記少なくとも1つの転がり緩衝要素は、前記少なくとも1つの転がり負荷軸受要素に対して、潤滑性のある材料表面を有する、
請求項31記載の真空基板搬送装置。
said at least one rolling damping element has a lubricious material surface with respect to said at least one rolling load bearing element;
32. The vacuum substrate transfer apparatus of claim 31.
前記少なくとも1つの転がり負荷軸受要素および前記少なくとも1つの転がり緩衝要素は各々、ボールである、
請求項31記載の真空基板搬送装置。
each of said at least one rolling load bearing element and said at least one rolling cushioning element is a ball;
32. The vacuum substrate transfer apparatus of claim 31.
前記少なくとも1つの転がり負荷軸受要素および前記少なくとも1つの転がり緩衝要素は各々、ローラである、
請求項31記載の真空基板搬送装置。
each of said at least one rolling load bearing element and said at least one rolling cushioning element is a roller;
32. The vacuum substrate transfer apparatus of claim 31.
前記指定された所定の使用期間は、260℃を超える温度での真空雰囲気における、前記真空基板搬送装置の前記所定の半導体プロセスの使用デューティでの年数を超える、
請求項31記載の真空基板搬送装置。
The specified predetermined period of use exceeds the number of years of use duty of the predetermined semiconductor process of the vacuum substrate transfer apparatus in a vacuum atmosphere at a temperature exceeding 260 ° C.
32. The vacuum substrate transfer apparatus of claim 31.
前記真空雰囲気は、高真空基板製造工程に対して適合可能である高真空である、
請求項40記載の真空基板搬送装置。
The vacuum atmosphere is a high vacuum compatible with a high vacuum substrate manufacturing process.
41. The vacuum substrate transfer apparatus of claim 40.
前記少なくとも1つの転がり緩衝要素は、前記少なくとも1つの転がり緩衝要素の全体にわたって共通の材料からなる、
請求項31記載の真空基板搬送装置。
said at least one rolling cushioning element is of a common material throughout said at least one rolling cushioning element;
32. The vacuum substrate transfer apparatus of claim 31.
前記真空基板搬送装置の前記所定の使用デューティは、前記真空基板搬送装置の指定された所定の使用期間の寿命に対応する、
請求項31記載の真空基板搬送装置。
wherein the predetermined duty of use of the vacuum substrate transfer device corresponds to a life of a specified predetermined usage period of the vacuum substrate transfer device;
32. The vacuum substrate transfer apparatus of claim 31.
前記少なくとも1つの転がり緩衝要素は、前記軸受ケースが前記軸受レールに沿って摺動するとともに、各転がり負荷軸受要素と他の転がり負荷軸受要素との間の相対運動を緩衝するように、各転がり負荷軸受要素と他の転がり負荷軸受要素との間をインターフェース接続する、
請求項31記載の真空基板搬送装置。
The at least one rolling damping element is adapted for each rolling load bearing element such that the bearing case slides along the bearing rails and dampens relative motion between each rolling load bearing element and the other rolling load bearing element. interfacing between the load bearing element and other rolling load bearing elements;
32. The vacuum substrate transfer apparatus of claim 31.
前記少なくとも1つの転がり緩衝要素は、前記軸受が、すべてが転がり負荷軸受要素の軸受に対して、低減した数の前記少なくとも1つの転がり負荷軸受要素を有するように、前記軸受ケースにおいて、転がり負荷軸受要素の位置を占めるように、前記軸受ケースに配置される、
請求項31記載の真空基板搬送装置。
The at least one rolling damping element is mounted in a rolling load bearing in the bearing case such that the bearing has a reduced number of the at least one rolling load bearing element relative to a bearing of all rolling load bearing elements. arranged in the bearing case to occupy the position of an element;
32. The vacuum substrate transfer apparatus of claim 31.
前記軸受は、前記すべてが転がり負荷軸受要素の軸受に相応する低減した振動応答によって、低減した負荷軸受要素の軸受に相応する低減した滑り抵抗力を提供する、前記すべての軸受要素の軸受に相応する所定の負荷容量に対して、低減した負荷軸受要素の軸受である、
請求項45記載の真空基板搬送装置。
The bearing provides reduced sliding resistance commensurate with the bearing of the reduced load bearing element with reduced vibration response commensurate with the bearing of the all rolling load bearing element. for a given load capacity of a reduced load bearing element bearing,
46. The vacuum substrate transfer apparatus of claim 45.
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