JPWO2020059500A1 - Reactive polycarboxylic acid resin mixture, active energy ray-curable resin composition using it and its cured product, and reactive epoxy carboxylate resin mixture. - Google Patents

Reactive polycarboxylic acid resin mixture, active energy ray-curable resin composition using it and its cured product, and reactive epoxy carboxylate resin mixture. Download PDF

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Abstract

式(1)で表されるエポキシ樹脂(a)、一分子中に重合可能なエチレン性不飽和基とカルボキシ基を併せ持つ化合物(b)、及び必要に応じて一分子中に水酸基とカルボキシ基を併せ持つ化合物(c)を反応させて得られる反応性エポキシカルボキシレート樹脂と、多塩基酸無水物(d)との反応物である反応性ポリカルボン酸樹脂、並びに、式(2)〜式(4)のいずれかで表されるエポキシ樹脂(a’)、化合物(b)、及び必要に応じて化合物(c)を反応させて得られる反応性エポキシカルボキシレート樹脂と、多塩基酸無水物(d)との反応物である反応性ポリカルボン酸樹脂、を含む反応性ポリカルボン酸樹脂混合物。(式(1)中、R1は同一でも異なっていてもよく、水素原子、ハロゲン原子又は炭素数1〜4の炭化水素基を示し、nは1〜10の整数を示す。)The epoxy resin (a) represented by the formula (1), the compound (b) having both a polymerizable ethylenically unsaturated group and a carboxy group in one molecule, and, if necessary, a hydroxyl group and a carboxy group in one molecule. Reactive polycarboxylic acid resin which is a reaction product of reactive epoxy carboxylate resin obtained by reacting compound (c) and polybasic acid anhydride (d), and formulas (2) to (4). ), The compound (b), and the reactive epoxy carboxylate resin obtained by reacting the compound (c) if necessary, and the polybasic acid anhydride (d). ), A reactive polycarboxylic acid resin mixture containing the reactive polycarboxylic acid resin. (In the formula (1), R1 may be the same or different, and represents a hydrogen atom, a halogen atom or a hydrocarbon group having 1 to 4 carbon atoms, and n represents an integer of 1 to 10.)

Description

本発明は、反応性ポリカルボン酸樹脂混合物、それを用いた活性エネルギー線硬化型樹脂組成物およびその硬化物、並びに反応性エポキシカルボキシレート樹脂混合物に関する。 The present invention relates to a reactive polycarboxylic acid resin mixture, an active energy ray-curable resin composition using the same, a cured product thereof, and a reactive epoxy carboxylate resin mixture.

プリント配線板は、携帯機器の小型軽量化や通信速度の向上をめざし、高精度、高密度化が求められている。それに伴い、その回路自体を被覆するソルダーレジストへの要求も増々高度となっている。従来の要求よりも、さらに耐熱性、熱安定性を保ちながら基板密着性、高絶縁性、無電解金メッキ性に耐えうる性能が要求されており、より強靭な硬化物性を有する皮膜形成用材料が求められている。 Printed wiring boards are required to have high accuracy and high density with the aim of reducing the size and weight of mobile devices and improving the communication speed. Along with this, the demand for solder resists that cover the circuit itself is becoming more and more sophisticated. Compared to conventional requirements, performance that can withstand substrate adhesion, high insulation, and electroless gold plating while maintaining heat resistance and thermal stability is required, and a film-forming material with tougher cured physical properties is required. It has been demanded.

これら材料として、一般的なエポキシ樹脂に、アクリル酸と水酸基を有するカルボン酸化合物を併せて反応せしめて得られるカルボキシレート樹脂が、低酸価でありながら優れた現像性を有する材料として公知である。また、この樹脂がレジストインキ適性を有することは公知である(特許文献1)。 As these materials, a carboxylate resin obtained by reacting a general epoxy resin with a carboxylic acid compound having an acrylic acid and a hydroxyl group is known as a material having an excellent developability while having a low acid value. .. Further, it is known that this resin has resistance to resist ink (Patent Document 1).

一方、特定構造の多環式炭化水素基を有するエポキシ樹脂(例えば、日本化薬(株)製XD−1000など)を基本骨格とした酸変性エポキシアクリレートは、硬化後に高い強靭性を示す材料として一般に公知である。また、これを用いたソルダーレジストとしての用途についても検討が行われている(特許文献2)。 On the other hand, an acid-modified epoxy acrylate having an epoxy resin having a polycyclic hydrocarbon group having a specific structure (for example, XD-1000 manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.) as a basic skeleton is used as a material showing high toughness after curing. It is generally known. Further, the use as a solder resist using this is also being studied (Patent Document 2).

この他、TrisP−PA骨格を有するエポキシを基本骨格とした酸変性エポキシアクリレートは、耐熱性に優れ、現像性、銅めっき密着性に優れることから、感光性の層間絶縁層としての用途についても検討が行われている。(特許文献3)
しかしながら、これら検討によっても高い絶縁性と現像性を両立する樹脂組成物の実現には至っていない。
In addition, acid-modified epoxy acrylate based on epoxy having a TrisP-PA skeleton has excellent heat resistance, developability, and copper plating adhesion, so its use as a photosensitive interlayer insulating layer is also being investigated. Is being done. (Patent Document 3)
However, even with these studies, a resin composition having both high insulating properties and developability has not been realized.

日本国特開平06−324490号公報Japanese Patent Application Laid-Open No. 06-324490 日本国特開2009−102501号公報Japanese Patent Application Laid-Open No. 2009-102501 国際公開2018/003314号International release 2018/003314

本発明は、上記の従来技術の問題点を改善し、高い絶縁信頼性を落とすことなく、良好な現像特性を有する反応性ポリカルボン酸樹脂混合物及び、それを含有する活性エネルギー線硬化型樹脂組成物を提供することを第一の目的とする。また、本発明は、上記の従来技術の問題点を改善し、高い強靭性と耐熱性を落とすことなく、良好な現像特性と絶縁信頼性を有する反応性エポキシカルボキシレート樹脂混合物を提供することを第二の目的とする。 The present invention improves the above-mentioned problems of the prior art, and has a reactive polycarboxylic acid resin mixture having good development characteristics without deteriorating high insulation reliability, and an active energy ray-curable resin composition containing the same. The primary purpose is to provide goods. The present invention also provides a reactive epoxy carboxylate resin mixture that improves the above-mentioned problems of the prior art and has good development characteristics and insulation reliability without deteriorating high toughness and heat resistance. The second purpose.

本発明者らは前述の課題を解決するため、鋭意検討した結果、特定構造を有するエポキシカルボキシレート樹脂、更にはそれに多塩基酸無水物を反応させて得られる反応性ポリカルボン酸樹脂が優れた樹脂物性を有することを見出し、本発明に到達した。 As a result of diligent studies to solve the above-mentioned problems, the present inventors are excellent in an epoxy carboxylate resin having a specific structure, and further, a reactive polycarboxylic acid resin obtained by reacting it with a polybasic acid anhydride. They have found that they have resin properties and have reached the present invention.

即ち、本発明は、以下の[1]〜[15]に関する。
[1]
下記式(1)で表されるエポキシ樹脂(a)、一分子中に重合可能なエチレン性不飽和基とカルボキシ基を併せ持つ化合物(b)、及び必要に応じて一分子中に水酸基とカルボキシ基を併せ持つ化合物(c)を反応させて得られる反応物である反応性エポキシカルボキシレート樹脂と、多塩基酸無水物(d)との反応物である反応性ポリカルボン酸樹脂、並びに、前記エポキシ樹脂(a’)とは異なるエポキシ樹脂(a’)、前記化合物(b)、及び必要に応じて前記化合物(c)を反応させて得られる反応物である反応性エポキシカルボキシレート樹脂と、前記多塩基酸無水物(d)との反応物である反応性ポリカルボン酸樹脂であって、前記エポキシ樹脂(a’)が下記式(2)〜式(4)のいずれかで表されるエポキシ樹脂である反応性ポリカルボン酸樹脂、を含む反応性ポリカルボン酸樹脂混合物。
That is, the present invention relates to the following [1] to [15].
[1]
An epoxy resin (a) represented by the following formula (1), a compound (b) having a polymerizable ethylenically unsaturated group and a carboxy group in one molecule, and a hydroxyl group and a carboxy group in one molecule as needed. A reactive epoxy carboxylate resin which is a reaction product obtained by reacting the compound (c) having both of the above, a reactive polycarboxylic acid resin which is a reaction product of a polybasic acid anhydride (d), and the epoxy resin. An epoxy resin (a') different from (a'), the compound (b), and a reactive epoxy carboxylate resin which is a reaction product obtained by reacting the compound (c), if necessary, and the above-mentioned poly. A reactive polycarboxylic acid resin that is a reaction product with the basic acid anhydride (d), wherein the epoxy resin (a') is represented by any of the following formulas (2) to (4). A reactive polycarboxylic acid resin mixture containing, which is a reactive polycarboxylic acid resin.

Figure 2020059500
Figure 2020059500

(式(1)中、R1は同一でも異なっていてもよく、水素原子、ハロゲン原子又は炭素数1〜4の炭化水素基を示し、nは1〜10の整数を示す。)(In the formula (1), R 1 may be the same or different, and represents a hydrogen atom, a halogen atom or a hydrocarbon group having 1 to 4 carbon atoms, and n represents an integer of 1 to 10.)

Figure 2020059500
(式(2)中、pは0〜2の整数を示す。)
Figure 2020059500
(In equation (2), p indicates an integer from 0 to 2.)

Figure 2020059500
Figure 2020059500

(式(3)中、mは0〜30の整数を示す。) (In equation (3), m represents an integer from 0 to 30.)

Figure 2020059500
Figure 2020059500

(式(4)中、Arはそれぞれ独立して式(5)又は式(6)のいずれかであり、式(5)と式(6)のモル比率は式(5)/式(6)=1〜3である。qは繰り返し数であり、0〜5の整数である。rは価数を表し、1又は2である。) (In the formula (4), Ar is either the formula (5) or the formula (6) independently, and the molar ratio of the formula (5) and the formula (6) is the formula (5) / the formula (6). = 1-3. Q is the number of repetitions and is an integer from 0 to 5. r represents the valence and is 1 or 2.)

[2]
前記エポキシ樹脂(a)及び前記エポキシ樹脂(a’)の混合物、前記化合物(b)、及び必要に応じて前記成分(c)を反応させて得られる反応物である反応性エポキシカルボキシレート樹脂混合物と、前記多塩基酸無水物(d)との反応物である、前項[1]に記載の反応性ポリカルボン酸樹脂混合物。
[3]
前項[1]又は[2]に記載の反応性ポリカルボン酸樹脂混合物を含む活性エネルギー線硬化型樹脂組成物。
[4]
さらに、反応性化合物(C)を含み、前記反応性化合物(C)が、ラジカル反応型のアクリレート類、カチオン反応型のエポキシ化合物類、これら双方に感応するビニル化合物類、又は、活性エネルギー線に感応可能な官能基を有する反応性オリゴマー類である、前項[3]に記載の活性エネルギー線硬化型樹脂組成物。
[5]
さらに、光重合開始剤を含む、前項[3]又は[4]に記載の活性エネルギー線硬化型樹脂組成物。
[6]
さらに、着色顔料を含む、前項[3]乃至[5]のいずれか1項に記載の活性エネルギー線硬化型樹脂組成物。
[7]
成形用材料である前項[3]乃至[6]のいずれか1項に記載の活性エネルギー線硬化型樹脂組成物。
[8]
皮膜形成用材料である前項[3]乃至[6]のいずれか1項に記載の活性エネルギー線硬化型樹脂組成物。
[9]
レジスト材料組成物である前項[3]乃至[6]のいずれか一項に記載の活性エネルギー線硬化型樹脂組成物。
[10]
前項[3]乃至[9]のいずれか一項に記載の活性エネルギー線硬化型樹脂組成物の硬化物。
[11]
前項[10]に記載の硬化物でオーバーコートされた物品。
[12]
下記式(1)で表されるエポキシ樹脂(a)に、一分子中に重合可能なエチレン性不飽和基とカルボキシ基を併せ持つ化合物(b)と、必要に応じて一分子中に水酸基とカルボキシ基を併せ持つ化合物(c)を反応させて得られる反応物である反応性エポキシカルボキシレート樹脂、及び、下記式(2)〜式(4)で表されるエポキシ樹脂の群から選ばれる1種以上であるエポキシ樹脂に、前記化合物(b)と、必要に応じて前記化合物(c)を反応させて得られる反応物である反応性エポキシカルボキシレート樹脂、を含む反応性エポキシカルボキシレート樹脂混合物。
[2]
A reactive epoxy carboxylate resin mixture that is a reaction product obtained by reacting the epoxy resin (a) and the epoxy resin (a'), the compound (b), and the component (c) if necessary. The reactive polycarboxylic acid resin mixture according to the previous item [1], which is a reaction product of the polybasic acid anhydride (d).
[3]
An active energy ray-curable resin composition containing the reactive polycarboxylic acid resin mixture according to the above item [1] or [2].
[4]
Further, the reactive compound (C) contains a reactive compound (C), and the reactive compound (C) can be used as a radical reaction type acrylate, a cationic reaction type epoxy compound, vinyl compounds sensitive to both of these, or an active energy ray. The active energy ray-curable resin composition according to the preceding item [3], which is a reactive oligomer having a sensitive functional group.
[5]
The active energy ray-curable resin composition according to the above item [3] or [4], further comprising a photopolymerization initiator.
[6]
The active energy ray-curable resin composition according to any one of the above items [3] to [5], further containing a coloring pigment.
[7]
The active energy ray-curable resin composition according to any one of the above items [3] to [6], which is a molding material.
[8]
The active energy ray-curable resin composition according to any one of the above items [3] to [6], which is a material for forming a film.
[9]
The active energy ray-curable resin composition according to any one of the above items [3] to [6], which is a resist material composition.
[10]
The cured product of the active energy ray-curable resin composition according to any one of the above items [3] to [9].
[11]
An article overcoated with the cured product according to the preceding item [10].
[12]
The epoxy resin (a) represented by the following formula (1) contains a compound (b) having a polymerizable ethylenically unsaturated group and a carboxy group in one molecule, and a hydroxyl group and carboxy in one molecule as needed. One or more selected from the group of reactive epoxy carboxylate resins, which are reactants obtained by reacting compound (c) having a group, and epoxy resins represented by the following formulas (2) to (4). A reactive epoxy carboxylate resin mixture containing the compound (b) and a reactive epoxy carboxylate resin which is a reaction product obtained by reacting the compound (c), if necessary, with the epoxy resin.

Figure 2020059500
Figure 2020059500

(式(1)中、R1は同一でも異なっていてもよく、水素原子、ハロゲン原子又は炭素数1〜4の炭化水素基を示し、nは1〜10の整数を示す。)(In the formula (1), R 1 may be the same or different, and represents a hydrogen atom, a halogen atom or a hydrocarbon group having 1 to 4 carbon atoms, and n represents an integer of 1 to 10.)

Figure 2020059500
Figure 2020059500

(式(2)中、pは0〜2の整数を示す。) (In equation (2), p indicates an integer from 0 to 2.)

Figure 2020059500
Figure 2020059500

(式(3)中、mは0〜30の整数を示す。) (In equation (3), m represents an integer from 0 to 30.)

Figure 2020059500
Figure 2020059500

(式(4)中、Arはそれぞれ独立して式(5)又は式(6)のいずれかであり、式(5)と式(6)のモル比率は式(5)/式(6)=1〜3である。qは繰り返し数であり、0〜5の整数である。rは価数を表し、1又は2である。) (In the formula (4), Ar is either the formula (5) or the formula (6) independently, and the molar ratio of the formula (5) and the formula (6) is the formula (5) / the formula (6). = 1-3. Q is the number of repetitions and is an integer from 0 to 5. r represents the valence and is 1 or 2.)

本発明の特定構造の多環式炭化水素基を有する反応性エポキシカルボキシレート樹脂の混合物及び/又はその酸変性樹脂を含む活性エネルギー線硬化型樹脂組成物は、強靭な硬化物を得ることができ、さらには良好な現像性を有する。又、本発明の活性エネルギー線硬化型樹脂組成物を紫外線等の活性エネルギー線等により硬化して得られる硬化物は、耐熱性に優れ、高い絶縁信頼性を有する皮膜形成用材料に好適に用いることが出来る。 The active energy ray-curable resin composition containing a mixture of a reactive epoxy carboxylate resin having a polycyclic hydrocarbon group having a specific structure of the present invention and / or an acid-modified resin thereof can obtain a tough cured product. Furthermore, it has good developability. Further, the cured product obtained by curing the active energy ray-curable resin composition of the present invention with active energy rays such as ultraviolet rays is suitably used as a film forming material having excellent heat resistance and high insulation reliability. Can be done.

好適には、例えば特に高い絶縁信頼性を求められるプリント配線板用ソルダーレジスト、多層プリント配線板の保護膜、多層プリント配線板用層間絶縁材料、フレキシブルプリント配線板用ソルダーレジスト、メッキレジスト、感光性光導波路等の用途に用いることが出来る。 Preferably, for example, a solder resist for a printed wiring board that requires particularly high insulation reliability, a protective film for a multilayer printed wiring board, an interlayer insulating material for a multilayer printed wiring board, a solder resist for a flexible printed wiring board, a plating resist, and photosensitive. It can be used for applications such as optical waveguides.

更に、本発明に係る特定構造はカーボンブラック等の着色顔料との高い親和性を有しており、高い顔料濃度においても良好な現像性を発揮することが出来、カラーレジスト、カラーフィルタ用のレジスト材料、特にブラックマトリックス材料、ブラックカラムスペーサー等にも好適に用いることが出来る。 Further, the specific structure according to the present invention has a high affinity with a coloring pigment such as carbon black, can exhibit good developability even at a high pigment concentration, and is a resist for a color resist and a color filter. It can also be suitably used for materials, particularly black matrix materials, black column spacers and the like.

本発明の反応性ポリカルボン酸樹脂混合物は、少なくとも下記1〜2に示す2種の反応性ポリカルボン酸樹脂を含むものである。
1.上記式(1)で表されるエポキシ樹脂(a)(以下、単に「成分(a)」とも表す。)、一分子中に重合可能なエチレン性不飽和基とカルボキシ基を併せ持つ化合物(b)(以下、単に「成分(b)」とも表す。)、及び必要に応じて一分子中に水酸基とカルボキシ基を併せ持つ化合物(c)(以下、単に「成分(c)」とも表す。)を反応させて得られる反応物である反応性エポキシカルボキシレート樹脂と、多塩基酸無水物(d)(以下、単に「成分(d)」とも表す。)との反応物である反応性ポリカルボン酸。
2.成分(a)とは異なるエポキシ樹脂(a’)(以下、単に「成分(a’)」とも表す。)、成分(b)、及び必要に応じて成分(c)を反応させて得られる反応物である反応性エポキシカルボキシレート樹脂と、成分(d)との反応物である反応性ポリカルボン酸樹脂であって、成分(a’)が上記式(2)〜式(4)のいずれかで表されるエポキシ樹脂である反応性ポリカルボン酸樹脂。
同様に、本発明の反応性エポキシカルボキシレート樹脂混合物は、少なくとも下記3〜4に示す2種の反応性エポキシカルボキシレート樹脂を含むものである。
3.成分(a)、成分(b)、及び必要に応じて成分(c)を反応させて得られる反応物である反応性エポキシカルボキシレート樹脂。
4.成分(a’)、成分(b)、及び必要に応じて成分(c)を反応させて得られる反応物である反応性エポキシカルボキシレート樹脂であって、成分(a’)が上記式(2)〜式(4)のいずれかで表されるエポキシ樹脂である反応性エポキシカルボキシレート樹脂。
The reactive polycarboxylic acid resin mixture of the present invention contains at least two types of reactive polycarboxylic acid resins shown in 1 and 2 below.
1. 1. The epoxy resin (a) represented by the above formula (1) (hereinafter, also simply referred to as “component (a)”), the compound (b) having both a polymerizable ethylenically unsaturated group and a carboxy group in one molecule. (Hereinafter, it is also simply referred to as “component (b)”), and if necessary, the compound (c) having both a hydroxyl group and a carboxy group in one molecule (hereinafter, also simply referred to as “component (c)”) is reacted. A reactive polycarboxylic acid which is a reaction product of a reactive epoxy carboxylate resin which is a reaction product obtained by the above treatment and a polybasic acid anhydride (d) (hereinafter, also simply referred to as “component (d)”).
2. A reaction obtained by reacting an epoxy resin (a') different from the component (a) (hereinafter, also simply referred to as "component (a')"), the component (b), and if necessary, the component (c). A reactive epoxy carboxylate resin which is a product and a reactive polycarboxylic acid resin which is a reaction product of the component (d), wherein the component (a') is any one of the above formulas (2) to (4). Reactive polycarboxylic acid resin which is an epoxy resin represented by.
Similarly, the reactive epoxy carboxylate resin mixture of the present invention contains at least two types of reactive epoxy carboxylate resins shown in 3 to 4 below.
3. 3. A reactive epoxy carboxylate resin which is a reactant obtained by reacting the component (a), the component (b), and the component (c) if necessary.
4. A reactive epoxy carboxylate resin which is a reactant obtained by reacting the component (a'), the component (b), and the component (c) if necessary, and the component (a') is the above formula (2). ) ~ Reactive epoxy carboxylate resin which is an epoxy resin represented by any of the formula (4).

エポキシ樹脂(a)は、上記式(1)[式(1)中、R1は同一でも異なっていてもよく、水素原子、ハロゲン原子又は炭素数1〜4の炭化水素基を示し、nは1〜10の整数を示す。]で表される。 In the epoxy resin (a), R 1 may be the same or different in the above formulas (1) and [formula (1), and represents a hydrogen atom, a halogen atom, or a hydrocarbon group having 1 to 4 carbon atoms, and n is Indicates an integer of 1-10. ] Is represented by.

式(1)中のR1において、ハロゲン原子としてはフッ素原子、塩素原子、臭素原子又はヨウ素原子が挙げられる。式(1)中のR1において、炭素数1〜4の炭化水素基としては、例えば、メチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、s−ブチル基又はt−ブチル基等が挙げられる。 In R 1 in the formula (1), examples of the halogen atom include a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom and an iodine atom. In R 1 in the formula (1), examples of the hydrocarbon group having 1 to 4 carbon atoms include a methyl group, an ethyl group, an n-propyl group, an isopropyl group, an n-butyl group, an s-butyl group or t-. Butyl groups and the like can be mentioned.

中でも、R1が全て水素原子である化合物若しくはメチル基である化合物が安価に入手可能であり好ましい。
更に、上記式(1)で示されるエポキシ樹脂の製法は、特許文献3等に記載されている。R1が全て水素原子であり、nが1〜10の整数を示す化合物は、日本化薬(株)からXD−1000シリーズとして入手可能である。また、KUKDO CHEMICAL CO,. LTD.からKDCP−130、LDCP−150としても入手可能である。
成分(a)は、例えば、これらの製品中から軟化点グレードで好適な化合物を適宜選択するか、合成すればよい。
Among them, a compound in which R 1 is an all hydrogen atom or a compound in which R 1 is a methyl group is preferable because it can be obtained at low cost.
Further, a method for producing an epoxy resin represented by the above formula (1) is described in Patent Document 3 and the like. Compounds in which R 1 is all hydrogen atoms and n represents an integer of 1 to 10 are available from Nippon Kayaku Co., Ltd. as the XD-1000 series. In addition, KUKDO CHEMICAL CO ,. LTD. It is also available as KDCP-130 and LDCP-150.
As the component (a), for example, a compound suitable for the softening point grade may be appropriately selected from these products or synthesized.

成分(a’)は、成分(a)以外のエポキシ樹脂であり、1種単独であっても2種以上併用してもよい。
成分(a’)は、分子内に3個以上のエポキシ基を有するエポキシ樹脂であることが好ましい。具体例としては、芳香族ノボラック型エポキシ樹脂、ビフェニル型エポキシ樹脂、トリフェニルメタン型エポキシ樹脂、フェノールアラルキル型エポキシ樹脂などが挙げられる。本発明においては、成分(a’)として、上記式(2)〜式(4)のいずれかで表されるエポキシ樹脂を少なくとも用いる。
また、成分(a’)のエポキシ当量は180〜220g/eqであることが好ましく、185〜210g/eqであることがさらに好ましい。エポキシ当量が上記範囲にあることで耐熱性にさらに優れる。
The component (a') is an epoxy resin other than the component (a), and one type may be used alone or two or more types may be used in combination.
The component (a') is preferably an epoxy resin having three or more epoxy groups in the molecule. Specific examples include aromatic novolac type epoxy resin, biphenyl type epoxy resin, triphenylmethane type epoxy resin, phenol aralkyl type epoxy resin and the like. In the present invention, at least an epoxy resin represented by any of the above formulas (2) to (4) is used as the component (a').
The epoxy equivalent of the component (a') is preferably 180 to 220 g / eq, more preferably 185 to 210 g / eq. When the epoxy equivalent is in the above range, the heat resistance is further excellent.

上記式(2)[式(2)中、pは0〜2の整数を示す。]で表されるエポキシ樹脂の製法等については、公知であり、一般的には、日本化薬(株)NC−6000、NC−6300として入手可能である。また、プリンテック社からTECMOREVG3101Lとして入手が可能である。上記式(2)の化合物は、例えば、これらの中から好適な化合物を適宜選択するか、合成すればよい。 In the above equations (2) [in equation (2), p represents an integer of 0 to 2. ] Is known, and is generally available as NC-6000 and NC-6300 of Nippon Kayaku Co., Ltd. It is also available as TECMOREVG3101L from Printec. For the compound of the above formula (2), for example, a suitable compound may be appropriately selected from these or synthesized.

上記式(3)[式(3)中、mは0〜30の整数を示す。]で表されるエポキシ樹脂の製法等については、公知であり、一般的には、日本化薬(株)からEPPN−501H、EPPN−501HY、EPPN−502H、EPPN−503として入手可能である。また、KUKDO CHEMICAL CO,. LTD.からKDMN−1065として入手可能である。上記式(3)の化合物は、例えば、これらの中から好適な化合物を適宜選択するか、合成すればよい。本発明において、上記式(3)中、mは、0〜8の整数であることが好ましい。 In the above equation (3) [in equation (3), m represents an integer from 0 to 30. ] Is known, and is generally available from Nippon Kayaku Co., Ltd. as EPPN-501H, EPPN-501HY, EPPN-502H, and EPPN-503. In addition, KUKDO CHEMICAL CO ,. LTD. It is available as KDMN-1065 from. As the compound of the above formula (3), for example, a suitable compound may be appropriately selected from these or synthesized. In the present invention, m is preferably an integer of 0 to 8 in the above formula (3).

上記式(4)[式(4)中、Arはそれぞれ独立して式(5)又は式(6)のいずれかであり、式(5)と式(6)のモル比率は式(5)/式(6)=1〜3である。qは繰り返し数であり、0〜5の整数である。rは価数を表し、1又は2である。]で表されるエポキシ樹脂の製法等については、公知であり、一般的には、日本化薬(株)からNC−3500シリーズとして市販品を入手可能である。上記式(4)の化合物は、例えば、NC−3500シリーズのグレード中で好適なものを適宜選択するか、合成すればよい。 In the above formulas (4) [in the formula (4), Ar is either the formula (5) or the formula (6) independently, and the molar ratio of the formula (5) and the formula (6) is the formula (5). / Equation (6) = 1-3. q is the number of repetitions, which is an integer of 0-5. r represents a valence and is 1 or 2. ] Is known, and a commercially available product is generally available from Nippon Kayaku Co., Ltd. as the NC-3500 series. As the compound of the above formula (4), for example, a suitable compound among the grades of the NC-3500 series may be appropriately selected or synthesized.

一分子中に重合可能なエチレン性不飽和基とカルボキシ基を併せ持つ化合物(b)としては、例えば、(メタ)アクリル酸類やクロトン酸、α−シアノ桂皮酸、桂皮酸、或いは飽和または不飽和二塩基酸と不飽和基含有モノグリシジル化合物との反応物等が挙げられる。上記において(メタ)アクリル酸類としては、例えば(メタ)アクリル酸、β−スチリルアクリル酸、β−フルフリルアクリル酸、(メタ)アクリル酸二量体、飽和または不飽和二塩基酸無水物と1分子中に1個の水酸基を有する(メタ)アクリレート誘導体と当モル反応物である半エステル類、飽和または不飽和二塩基酸とモノグリシジル(メタ)アクリレート誘導体類との当モル反応物である半エステル類等の一分子中にカルボキシ基を一個含むモノカルボン酸化合物、さらに一分子中に複数の水酸基を有する(メタ)アクリレート誘導体と当モル反応物である半エステル類、飽和または不飽和二塩基酸と複数のエポキシ基を有するグリシジル(メタ)アクリレート誘導体類との当モル反応物である半エステル類等の一分子中にカルボキシ基を複数有するポリカルボン酸化合物等が挙げられる。 Examples of the compound (b) having both an ethylenically unsaturated group and a carboxy group that can be polymerized in one molecule include (meth) acrylic acids, crotonic acid, α-cyanocynic acid, cinnamic acid, or saturated or unsaturated di. Examples thereof include a reaction product of a basic acid and an unsaturated group-containing monoglycidyl compound. In the above, examples of the (meth) acrylic acids include (meth) acrylic acid, β-styrylacrylic acid, β-fulfurylacrylic acid, (meth) acrylic acid dimer, saturated or unsaturated dibasic acid anhydride and 1 Semi-esters that are the molar reactants of (meth) acrylate derivatives having one hydroxyl group in the molecule, and semi-esters that are the molar reactants of saturated or unsaturated dibasic acids and monoglycidyl (meth) acrylate derivatives. A monocarboxylic acid compound containing one carboxy group in one molecule of esters, etc., a (meth) acrylate derivative having a plurality of hydroxyl groups in one molecule, and semiesters which are the molar reaction products, saturated or unsaturated dibases. Examples thereof include polycarboxylic acid compounds having a plurality of carboxy groups in one molecule such as semiesters which are the molar reaction products of an acid and glycidyl (meth) acrylate derivatives having a plurality of epoxy groups.

これらのうち、エポキシ樹脂と成分(b)の反応の安定性を考慮すると、成分(b)はモノカルボン酸であることが好ましく、モノカルボン酸とポリカルボン酸を併用する場合でも、モノカルボン酸のモル量/ポリカルボン酸のモル量で表される値が15以上であることが好ましい。
最も好ましくは、活性エネルギー線硬化型樹脂組成物としたときの感度の点で(メタ)アクリル酸、(メタ)アクリル酸とε−カプロラクトンとの反応生成物または桂皮酸が挙げられる。
一分子中に一個以上の重合可能なエチレン性不飽和基と一個以上のカルボキシ基を併せもつ化合物としては、化合物中に水酸基を有さないものが好ましい。
Of these, considering the stability of the reaction between the epoxy resin and the component (b), the component (b) is preferably a monocarboxylic acid, and even when the monocarboxylic acid and the polycarboxylic acid are used in combination, the monocarboxylic acid is used. The value represented by the molar amount of the polycarboxylic acid / the molar amount of the polycarboxylic acid is preferably 15 or more.
Most preferably, (meth) acrylic acid, a reaction product of (meth) acrylic acid and ε-caprolactone, or cinnamic acid can be mentioned in terms of sensitivity when made into an active energy ray-curable resin composition.
As the compound having one or more polymerizable ethylenically unsaturated groups and one or more carboxy groups in one molecule, those having no hydroxyl group in the compound are preferable.

一分子中に水酸基とカルボキシ基を併せ持つ化合物(c)は、カルボキシレート化合物中に水酸基を導入することを目的として反応せしめるものである。これらには、一分子中に一個の水酸基と一個のカルボキシ基を併せもつ化合物、一分子中に二個以上の水酸基と一個のカルボキシ基を合わせもつ化合物、一分子中に一個以上の水酸基と二個以上のカルボキシ基を併せもつ化合物がある。
一分子中に一個の水酸基と一個のカルボキシ基を併せもつ化合物としては、例えばヒドロキシプロピオン酸、ヒドロキシブタン酸、ヒドロキシステアリン酸等が挙げられる。また一分子中に二個以上の水酸基と一個のカルボキシ基を合わせもつ化合物としては、ジメチロール酢酸、ジメチロールプロピオン酸、ジメチロールブタン酸等が挙げられる。一分子中に一個以上の水酸基と二個以上のカルボキシ基を併せもつ化合物としてはヒドロキシフタル酸等が挙げられる。
これらのうち、水酸基は一分子中に二個以上含まれるものが、本発明の効果を考慮すると好ましい。さらに、カルボキシ基は一分子中一個であるものがカルボキシレート化反応の安定性を考慮すると好ましい。最も好ましくは、一分子中に二個の水酸基と一個のカルボキシ基を有するものが好ましい。原材料の入手を考慮すれば、ジメチロールプロピオン酸とジメチロールブタン酸が特に好適である。
一分子中に一個以上の水酸基と一個以上のカルボキシ基を併せもつ化合物としては、化合物中に重合可能なエチレン性不飽和基を有さないものが好ましい。
The compound (c) having both a hydroxyl group and a carboxy group in one molecule reacts for the purpose of introducing a hydroxyl group into the carboxylate compound. These include compounds that have one hydroxyl group and one carboxy group in one molecule, compounds that have two or more hydroxyl groups and one carboxy group in one molecule, and one or more hydroxyl groups and two in one molecule. Some compounds have more than one carboxy group.
Examples of the compound having one hydroxyl group and one carboxy group in one molecule include hydroxypropionic acid, hydroxybutanoic acid, hydroxystearic acid and the like. Examples of the compound having two or more hydroxyl groups and one carboxy group in one molecule include dimethylolacetic acid, dimethylolpropionic acid, and dimethylolbutanoic acid. Examples of the compound having one or more hydroxyl groups and two or more carboxy groups in one molecule include hydroxyphthalic acid and the like.
Of these, those containing two or more hydroxyl groups in one molecule are preferable in consideration of the effects of the present invention. Further, it is preferable that the number of carboxy groups is one in one molecule in consideration of the stability of the carboxylation reaction. Most preferably, one molecule having two hydroxyl groups and one carboxy group is preferable. Considering the availability of raw materials, dimethylolpropionic acid and dimethylolbutanoic acid are particularly suitable.
As the compound having one or more hydroxyl groups and one or more carboxy groups in one molecule, those having no polymerizable ethylenically unsaturated group in the compound are preferable.

このカルボキシレート化反応におけるエポキシ樹脂と成分(b)および成分(c)の仕込み割合としては、用途に応じて適宜変更されるべきものである。即ち、全てのエポキシ基をカルボキシレート化した場合は、未反応のエポキシ基が残存しないために、反応性エポキシカルボキシレート樹脂としての保存安定性は高い。この場合は、導入した二重結合による反応性のみを利用することになる。 The charging ratio of the epoxy resin and the component (b) and the component (c) in this carboxylation reaction should be appropriately changed depending on the intended use. That is, when all the epoxy groups are carboxylated, the unreacted epoxy groups do not remain, so that the storage stability as a reactive epoxy carboxylate resin is high. In this case, only the reactivity due to the introduced double bond will be used.

一方、成分(b)および成分(c)の仕込み量を減量し未反応の残存エポキシ基を残すことで、導入した不飽和結合による反応性と、残存するエポキシ基による反応、例えば光カチオン触媒による重合反応や熱重合反応を複合的に利用することも可能である。しかし、この場合は反応性エポキシカルボキシレート樹脂の保存、及び製造条件の検討には注意を払うべきである。 On the other hand, by reducing the amount of the component (b) and the component (c) charged to leave an unreacted residual epoxy group, the reactivity due to the introduced unsaturated bond and the reaction with the remaining epoxy group, for example, due to a photocation catalyst. It is also possible to use a polymerization reaction or a thermal polymerization reaction in combination. However, in this case, attention should be paid to the storage of the reactive epoxy carboxylate resin and the examination of the production conditions.

エポキシ基を残存させない反応性エポキシカルボキシレート樹脂を製造する場合、成分(b)および成分(c)の総計が、エポキシ樹脂の合計の1当量に対し0.9当量以上1.2当量以下であることが好ましい。この範囲であれば比較的安定な条件での製造が可能である。これよりもカルボン酸化合物の仕込み量が多い場合には、過剰の成分(b)および成分(c)が残存してしまうために好ましくない。 In the case of producing a reactive epoxy carboxylate resin in which no epoxy group remains, the total of the components (b) and (c) is 0.9 equivalents or more and 1.2 equivalents or less with respect to 1 equivalent of the total epoxy resin. Is preferable. Within this range, it is possible to manufacture under relatively stable conditions. If the amount of the carboxylic acid compound charged is larger than this, the excess component (b) and the component (c) remain, which is not preferable.

また、エポキシ基を残留させる場合には、成分(b)および成分(c)の総計が、エポキシ樹脂の合計の1当量に対し0.2当量以上0.9当量未満であることが好ましい。これの範囲を逸脱する場合には、複合硬化の効果が薄くなる。もちろんこの場合は、反応中のゲル化や、反応性エポキシカルボキシレート樹脂の経時安定性に対して十分な注意が必要である。 When the epoxy group remains, it is preferable that the total of the component (b) and the component (c) is 0.2 equivalent or more and less than 0.9 equivalent with respect to 1 equivalent of the total of the epoxy resin. If it deviates from this range, the effect of composite curing is diminished. Of course, in this case, sufficient attention must be paid to gelation during the reaction and the stability of the reactive epoxy carboxylate resin over time.

カルボキシレート化反応は、無溶剤で反応させる、若しくは溶剤で希釈して反応させることも出来る。ここで用いることが出来る溶剤としては、カルボキシレート化反応に対してイナートな溶剤であれば特に限定はない。 The carboxylate reaction can be carried out without a solvent or diluted with a solvent. The solvent that can be used here is not particularly limited as long as it is a solvent that is inert to the carboxylation reaction.

好ましい溶剤の使用量は、得られる樹脂の粘度や使途により適宜調整されるべきものであるが、好ましくは固形分含有率90〜30質量%、より好ましくは80〜50質量%になるように使用される。 The amount of the solvent used is preferably adjusted according to the viscosity of the obtained resin and the intended use, but is preferably used so as to have a solid content of 90 to 30% by mass, more preferably 80 to 50% by mass. Will be done.

カルボキシレート反応に使用する溶剤としては、例えばトルエン、キシレン、エチルベンゼン、テトラメチルベンゼン等の芳香族系炭化水素溶剤、ヘキサン、オクタン、デカン等の脂肪族系炭化水素溶剤、及びそれらの混合物である石油エーテル、ホワイトガソリン、ソルベントナフサ等、エステル系溶剤、エーテル系溶剤、ケトン系溶剤等が挙げられる。 Examples of the solvent used for the carboxylate reaction include aromatic hydrocarbon solvents such as toluene, xylene, ethylbenzene and tetramethylbenzene, aliphatic hydrocarbon solvents such as hexane, octane and decane, and petroleum which is a mixture thereof. Examples thereof include ether-based solvents, ether-based solvents, ketone-based solvents, and the like, such as ether, white gasoline, and solvent naphtha.

エステル系溶剤としては、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル等のアルキルアセテート類、γ−ブチロラクトン等の環状エステル類、エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノメチルエーテルモノアセテート、ジエチレングリコールモノエチルエーテルモノアセテート、トリエチレングリコールモノエチルエーテルモノアセテート、ジエチレングリコールモノブチルエーテルモノアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルモノアセテート、ブチレングリコールモノメチルエーテルアセテート等のモノ若しくはポリアルキレングリコールモノアルキルエーテルモノアセテート類、グルタル酸ジアルキル、コハク酸ジアルキル、アジピン酸ジアルキル等のポリカルボン酸アルキルエステル類等が挙げられる。 Examples of the ester solvent include alkyl acetates such as ethyl acetate, propyl acetate and butyl acetate, cyclic esters such as γ-butyrolactone, ethylene glycol monomethyl ether acetate, diethylene glycol monomethyl ether monoacetate, diethylene glycol monoethyl ether monoacetate and triethylene. Mono or polyalkylene glycol monoalkyl ether monoacetates such as glycol monoethyl ether monoacetate, diethylene glycol monobutyl ether monoacetate, propylene glycol monomethyl ether monoacetate, butylene glycol monomethyl ether acetate, dialkyl glutarate, dialkyl succinate, dialkyl adipate Etc., such as polycarboxylic acid alkyl esters and the like.

エーテル系溶剤としては、ジエチルエーテル、エチルブチルエーテル等のアルキルエーテル類、エチレングリコールジメチルエーテル、エチレングリコールジエチルエーテル、ジプロピレングリコールジメチルエーテル、ジプロピレングリコールジエチルエーテル、トリエチレングリコールジメチルエーテル、トリエチレングリコールジエチルエーテル等のグリコールエーテル類、テトラヒドロフラン等の環状エーテル類等が挙げられる。 Examples of the ether-based solvent include alkyl ethers such as diethyl ether and ethyl butyl ether, glycols such as ethylene glycol dimethyl ether, ethylene glycol diethyl ether, dipropylene glycol dimethyl ether, dipropylene glycol diethyl ether, triethylene glycol dimethyl ether and triethylene glycol diethyl ether. Examples include ethers and cyclic ethers such as tetrahydrofuran.

ケトン系溶剤としては、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、イソホロン等が挙げられる。 Examples of the ketone solvent include acetone, methyl ethyl ketone, cyclohexanone, isophorone and the like.

カルボキシレート反応時には、反応を促進させるために触媒を使用することが好ましい。該触媒の使用量は、エポキシ樹脂、成分(b)、必要に応じて用いられる成分(c)、及び場合により溶剤その他を加えた反応物の総量100質量部に対して0.1〜10質量部である。その際の反応温度は60〜150℃であり、また反応時間は、好ましくは5〜60時間である。使用しうる触媒の具体例としては、例えばトリエチルアミン、ベンジルジメチルアミン、トリエチルアンモニウムクロライド、ベンジルトリメチルアンモニウムブロマイド、ベンジルトリメチルアンモニウムアイオダイド、トリフェニルホスフィン、トリフェニルスチビン、メチルトリフェニルスチビン、オクタン酸クロム、オクタン酸ジルコニウム等既知一般の塩基性触媒等が挙げられる。 During the carboxylate reaction, it is preferable to use a catalyst to accelerate the reaction. The amount of the catalyst used is 0.1 to 10% by mass with respect to 100 parts by mass of the total amount of the reaction product to which the epoxy resin, the component (b), the component (c) used as needed, and optionally a solvent or the like are added. It is a department. The reaction temperature at that time is 60 to 150 ° C., and the reaction time is preferably 5 to 60 hours. Specific examples of the catalysts that can be used include, for example, triethylamine, benzyldimethylamine, triethylammonium chloride, benzyltrimethylammonium bromide, benzyltrimethylammonium iodide, triphenylphosphine, triphenylstibine, methyltriphenylstibine, chromium octanate, octane. Examples thereof include known general basic catalysts such as zirconium acid.

また、熱重合禁止剤を用いることもできる。熱重合禁止剤として、ハイドロキノンモノメチルエーテル、2−メチルハイドロキノン、ハイドロキノン、ジフェニルピクリルヒドラジン、ジフェニルアミン、3,5−ジ−tert−ブチル−4−ヒドロキシトルエン等を使用するのが好ましい。 Further, a thermal polymerization inhibitor can also be used. As the thermal polymerization inhibitor, hydroquinone monomethyl ether, 2-methylhydroquinone, hydroquinone, diphenylpicrylhydrazine, diphenylamine, 3,5-di-tert-butyl-4-hydroxytoluene and the like are preferably used.

カルボキシレート化反応は、適宜サンプリングしながら、サンプルの酸価が5mgKOH/g以下、好ましくは3mgKOH/g以下となった時点を終点とする。 The end point of the carboxylation reaction is the time when the acid value of the sample becomes 5 mgKOH / g or less, preferably 3 mgKOH / g or less while sampling as appropriate.

こうして得られた反応性エポキシカルボキシレート樹脂の好ましい分子量範囲としては、GPC(ゲルパーミエイションクロマトグラフィー)におけるポリスチレン換算重量平均分子量が500から50,000の範囲であり、より好ましくは800から30,000であり、特に好ましくは800から10,000である。 As a preferable molecular weight range of the reactive epoxy carboxylate resin thus obtained, the polystyrene-equivalent weight average molecular weight in GPC (gel permeation chromatography) is in the range of 500 to 50,000, and more preferably 800 to 30, It is 000, particularly preferably 800 to 10,000.

上記の分子量が500よりも小さい場合には、硬化物の強靭性が充分に発揮されず、また50,000よりも大きい場合には、粘度が高くなり塗工等が困難となる。 If the molecular weight is less than 500, the toughness of the cured product is not sufficiently exhibited, and if it is larger than 50,000, the viscosity becomes high and coating or the like becomes difficult.

次に、本発明に係る反応性ポリカルボン酸樹脂は、前記反応性エポキシカルボキシレート樹脂に多塩基酸無水物(d)を反応させて得られる。
この酸付加工程によりカルボキシル基を導入する理由としては、例えば、レジストパターニング等が必要とされる用途において活性エネルギー線非照射部にアルカリ水への可溶性を付与させること、及び金属、無機物等への密着性を付与させること等である。この酸付加工程は、エポキシカルボキシレート化合物の水酸基に成分(d)を反応させてエステル結合を介してカルボキシル基を導入するものである。
Next, the reactive polycarboxylic acid resin according to the present invention is obtained by reacting the reactive epoxy carboxylate resin with the polybasic acid anhydride (d).
The reasons for introducing the carboxyl group by this acid addition step are, for example, to make the active energy ray non-irradiated portion soluble in alkaline water in applications requiring resist patterning and the like, and to add solubility to metals, inorganic substances and the like. For example, to impart adhesion. In this acid addition step, the hydroxyl group of the epoxy carboxylate compound is reacted with the component (d) to introduce a carboxyl group via an ester bond.

成分(d)としては、例えば、一分子中に環状酸無水物構造を有する化合物であればすべて用いることが出来るが、アルカリ水溶液現像性、耐熱性、加水分解耐性等に優れた無水コハク酸、無水フタル酸、テトラヒドロ無水フタル酸、ヘキサヒドロ無水フタル酸、無水イタコン酸、3−メチル−テトラヒドロ無水フタル酸、4−メチル−ヘキサヒドロ無水フタル酸、水素添加無水トリメリット酸、無水トリメリット酸又は無水マレイン酸が好ましい。 As the component (d), for example, any compound having a phthalic anhydride structure in one molecule can be used, but phthalic anhydride having excellent developability, heat resistance, hydrolysis resistance, etc. in an alkaline aqueous solution, Phthalic anhydride, tetrahydrophthalic anhydride, hexahydrophthalic anhydride, itaconic anhydride, 3-methyl-tetrahydrophthalic anhydride, 4-methyl-hexahydrophthalic anhydride, hydrogenated trimellitic anhydride, trimellitic anhydride or maleine anhydride Acids are preferred.

成分(d)を付加させる反応は、前記エポキシカルボキシレート化合物の溶液に成分(d)を加えることにより行うことが出来る。添加量は用途に応じて適宜変更すればよい。 The reaction for adding the component (d) can be carried out by adding the component (d) to the solution of the epoxy carboxylate compound. The amount of addition may be appropriately changed according to the intended use.

しかしながら、本発明の反応性ポリカルボン酸樹脂混合物をアルカリ現像型のレジストとして用いる場合、成分(d)を、上記の酸付加工程により得られる反応性ポリカルボン酸樹脂の固形分酸価(JISK5601−2−1:1999に準拠)が20〜120mg・KOH/g、より好ましくは40 〜100mg・KOH/gとなる計算量を仕込むことが好ましい。
固形分酸価がこの範囲である場合、本発明の活性エネルギー線硬化型樹脂組成物のアルカリ水溶液現像性が良好な性能を示す。即ち、良好なパターニング性と過現像に対する管理幅も広く、且つ、過剰の酸無水物が残留することもない。
However, when the reactive polycarboxylic acid resin mixture of the present invention is used as an alkali-developed resist, the component (d) is used as the solid acid value (JISK5601-) of the reactive polycarboxylic acid resin obtained by the above acid addition step. It is preferable to prepare a calculated amount of 20 to 120 mg · KOH / g, more preferably 40 to 100 mg · KOH / g (according to 2-1: 1999).
When the solid content acid value is in this range, the alkaline aqueous solution developability of the active energy ray-curable resin composition of the present invention shows good performance. That is, it has good patterning properties, a wide range of control over overdevelopment, and no excess acid anhydride remains.

反応時には、反応を促進させるために触媒を使用することが好ましく、該触媒の使用量は、反応性エポキシカルボキシレート樹脂、及び成分(d)、場合により溶剤その他を加えた反応物の総量に対して0.1〜10質量部である。その際の反応温度は60〜150℃であり、また反応時間は、好ましくは5〜60時間である。使用しうる触媒の具体例としては、例えばトリエチルアミン、ベンジルジメチルアミン、トリエチルアンモニウムクロライド、ベンジルトリメチルアンモニウムブロマイド、ベンジルトリメチルアンモニウムアイオダイド、トリフェニルホスフィン、トリフェニルスチビン、メチルトリフェニルスチビン、オクタン酸クロム、オクタン酸ジルコニウム等が挙げられる。 At the time of the reaction, it is preferable to use a catalyst to accelerate the reaction, and the amount of the catalyst used is based on the total amount of the reactive epoxy carboxylate resin and the reaction product to which the component (d) and, in some cases, the solvent and the like are added. 0.1 to 10 parts by mass. The reaction temperature at that time is 60 to 150 ° C., and the reaction time is preferably 5 to 60 hours. Specific examples of the catalysts that can be used include, for example, triethylamine, benzyldimethylamine, triethylammonium chloride, benzyltrimethylammonium bromide, benzyltrimethylammonium iodide, triphenylphosphine, triphenylstibine, methyltriphenylstibine, chromium octanate, octane. Examples thereof include zirconium acid.

本酸付加反応は無溶剤若しくは溶剤で希釈して反応させることが出来る。溶剤としては、酸付加反応に影響しない溶剤であれば特に限定はない。又、前工程であるエポキシカルボキシレート化反応で溶剤を使用した場合には、酸付加反応に影響しないことを条件に溶剤を除くことなく直接酸付加反応に付することも出来る。用い得る溶剤はカルボキシレート化反応で用い得るものと同一のものでもよい。 This acid addition reaction can be carried out without solvent or diluted with a solvent. The solvent is not particularly limited as long as it does not affect the acid addition reaction. Further, when a solvent is used in the epoxy carboxylate reaction which is the previous step, it can be directly subjected to the acid addition reaction without removing the solvent on the condition that it does not affect the acid addition reaction. The solvent that can be used may be the same as that that can be used in the carboxylation reaction.

好ましい溶剤の使用量は、得られる樹脂の粘度や使途により適宜調整されるべきものであるが、好ましくは固形分含有率90〜30質量%、より好ましくは80〜50質量%になるように用いられる。 The amount of the solvent used is preferably adjusted according to the viscosity of the obtained resin and the intended use, but is preferably used so that the solid content is 90 to 30% by mass, more preferably 80 to 50% by mass. Be done.

このほかにも、単独または混合有機溶剤中で行うことができる。この場合、硬化型樹脂組成物として使用した場合には、直接に組成物として利用することが出来るので好ましい。 In addition to this, it can be carried out alone or in a mixed organic solvent. In this case, when used as a curable resin composition, it is preferable because it can be directly used as a composition.

又、熱重合禁止剤の使用が好ましく、該熱重合禁止剤としては前記エポキシカルボキシレート化反応における熱重合禁止剤と同様のものが挙げられる。 Further, it is preferable to use a thermal polymerization inhibitor, and examples of the thermal polymerization inhibitor include the same as the thermal polymerization inhibitor in the epoxy carboxylate reaction.

本酸付加反応は、適宜サンプリングしながら反応物の酸価が設定した酸価のプラスマイナス10%の範囲になった点をもって終点とする。
こうして得られた反応性ポリカルボン酸樹脂の好ましい分子量範囲としては、GPC測定におけるポリスチレン換算重量平均分子量が500から50,000の範囲であり、より好ましくは800から30,000であり、特に好ましくは800から10,000である。
The end point of this acid addition reaction is the point where the acid value of the reaction product falls within the range of plus or minus 10% of the set acid value while sampling as appropriate.
The preferred molecular weight range of the reactive polycarboxylic acid resin thus obtained is such that the polystyrene-equivalent weight average molecular weight in the GPC measurement is in the range of 500 to 50,000, more preferably 800 to 30,000, and particularly preferably. It is 800 to 10,000.

上記の分子量が500よりも小さい場合には、硬化物の強靭性が充分に発揮されず、また50,000よりも大きい場合には、粘度が高くなり塗工等が困難となる。 If the molecular weight is less than 500, the toughness of the cured product is not sufficiently exhibited, and if it is larger than 50,000, the viscosity becomes high and coating or the like becomes difficult.

本発明の活性エネルギー線硬化型樹脂組成物は、反応性ポリカルボン酸樹脂混合物を含むものであり、反応性エポキシカルボキシレート樹脂を併用してもなんら問題はない。 The active energy ray-curable resin composition of the present invention contains a reactive polycarboxylic acid resin mixture, and there is no problem even if a reactive epoxy carboxylate resin is used in combination.

本発明の反応性ポリカルボン酸樹脂混合物は、
製法1:成分(a)、成分(b)、及び必要に応じて成分(c)を反応させて得られる反応物である反応性エポキシカルボキシレート樹脂と、成分(d)との反応物である反応性ポリカルボン酸樹脂、並びに、成分(a’)、成分(b)、及び必要に応じて成分(c)を反応させて得られる反応物である反応性エポキシカルボキシレート樹脂と、成分(d)との反応物である反応性ポリカルボン酸樹脂を、別々に合成して混合する方法、
製法2:成分(a)及び成分(a’)、成分(b)、及び必要に応じて成分(c)を反応させて得られる反応物である反応性エポキシカルボキシレート樹脂混合物と、成分(d)とを反応させる方法、
により得ることができ、いずれの製法を用いてもよい。
The reactive polycarboxylic acid resin mixture of the present invention is
Production method 1: A reaction product of a reactive epoxy carboxylate resin, which is a reaction product obtained by reacting the component (a), the component (b), and the component (c) if necessary, and the component (d). A reactive polycarboxylic acid resin, a reactive epoxy carboxylate resin which is a reaction product obtained by reacting a component (a'), a component (b), and a component (c) if necessary, and a component (d). ), A method of separately synthesizing and mixing a reactive polycarboxylic acid resin.
Production method 2: A mixture of a reactive epoxy carboxylate resin, which is a reaction product obtained by reacting the component (a) and the component (a'), the component (b), and the component (c) if necessary, and the component (d). ) And how to react,
Any manufacturing method may be used.

製法1を用いる場合、成分(a)から得られる反応性ポリカルボン酸樹脂と成分(a’)から得られる反応性ポリカルボン酸樹脂の混合割合は、用途に応じて適宜変更されるべきものである。成分(a’)から得られる反応性ポリカルボン酸樹脂の割合が多くなると現像性は良好になるが、硬化物の絶縁信頼性が低下する。
成分(a’)から得られる反応性ポリカルボン酸樹脂は、反応性ポリカルボン酸樹脂混合物の総量100質量%に対して、1〜50質量%が好ましく、1〜30質量%がより好ましく、1〜20質量%がさらに好ましい。
When the production method 1 is used, the mixing ratio of the reactive polycarboxylic acid resin obtained from the component (a) and the reactive polycarboxylic acid resin obtained from the component (a') should be appropriately changed depending on the intended use. be. When the proportion of the reactive polycarboxylic acid resin obtained from the component (a') is increased, the developability is improved, but the insulation reliability of the cured product is lowered.
The reactive polycarboxylic acid resin obtained from the component (a') is preferably 1 to 50% by mass, more preferably 1 to 30% by mass, based on 100% by mass of the total amount of the reactive polycarboxylic acid resin mixture. ~ 20% by mass is more preferable.

製法2で得られた反応性ポリカルボン酸樹脂混合物は、絶縁信頼性、現像性が良好となるため、製法2を用いることがより好ましい。
これは、製法2により、成分(a)と成分(a’)が、成分(c)及び/又は成分(d)を介して結合する構造が得られるためであると考える。
成分(a)と成分(a’)の混合割合としては、用途に応じて適宜変更されるべきものである。成分(a’)の割合が多くなると現像性は良好になるが、硬化物の絶縁信頼性が低下する。
成分(a’)は、成分(a)と成分(a’)の総量100質量%に対して、1〜50質量%が好ましく、1〜30質量%がより好ましく、1〜20質量%がさらに好ましい。
It is more preferable to use the production method 2 because the reactive polycarboxylic acid resin mixture obtained by the production method 2 has good insulation reliability and developability.
It is considered that this is because the production method 2 provides a structure in which the component (a) and the component (a') are bonded via the component (c) and / or the component (d).
The mixing ratio of the component (a) and the component (a') should be appropriately changed according to the intended use. When the proportion of the component (a') is increased, the developability is improved, but the insulation reliability of the cured product is lowered.
The component (a') is preferably 1 to 50% by mass, more preferably 1 to 30% by mass, and further 1 to 20% by mass with respect to 100% by mass of the total amount of the component (a) and the component (a'). preferable.

なお、本発明の反応性エポキシカルボキシレート樹脂混合物は、上記製法2の中間生成物として得ることができる。また、本発明のエポキシカルボキシレート樹脂混合物は、成分(a)、成分(b)、及び必要に応じて成分(c)を反応させて得られる反応物である反応性エポキシカルボキシレート樹脂と、成分(a’)、成分(b)、及び必要に応じて成分(c)を反応させて得られる反応物である反応性エポキシカルボキシレート樹脂を、別々に合成して混合してもよい。 The reactive epoxy carboxylate resin mixture of the present invention can be obtained as an intermediate product of the above-mentioned production method 2. Further, the epoxy carboxylate resin mixture of the present invention is a reactive epoxy carboxylate resin which is a reaction product obtained by reacting the component (a), the component (b), and the component (c) if necessary, and the component. The reactive epoxy carboxylate resin, which is a reaction product obtained by reacting (a'), the component (b), and the component (c) if necessary, may be synthesized and mixed separately.

本発明の反応性ポリカルボン酸混合物の酸価は50〜70mg・KOH/gであることが好ましく、55〜65mg・KOH/gであることがさらに好ましく、58〜62mg・KOH/gであることが特に好ましい。酸価が上記範囲にあることで現像性が良好となる。 The acid value of the reactive polycarboxylic acid mixture of the present invention is preferably 50 to 70 mg · KOH / g, more preferably 55 to 65 mg · KOH / g, and 58 to 62 mg · KOH / g. Is particularly preferable. When the acid value is in the above range, the developability is good.

また、本発明の活性エネルギー線硬化型樹脂組成物は、さらに反応性化合物(C)(以下、単に「成分(C)」とも表す。)を含んでいてもよい。成分(C)は前記反応性ポリカルボン酸樹脂以外の化合物であれば特に限定されず、具体例としては、ラジカル反応型のアクリレート類、カチオン反応型のその他エポキシ化合物類、その双方に感応するビニル化合物類等のいわゆる反応性オリゴマー類が挙げられる。 Further, the active energy ray-curable resin composition of the present invention may further contain a reactive compound (C) (hereinafter, also simply referred to as “component (C)”). The component (C) is not particularly limited as long as it is a compound other than the reactive polycarboxylic acid resin, and specific examples thereof include radical reaction type acrylates, cationic reaction type other epoxy compounds, and vinyl sensitive to both. Examples thereof include so-called reactive oligomers such as compounds.

使用しうるアクリレート類としては、単官能(メタ)アクリレート類、多官能(メタ)アクリレート類、その他エポキシアクリレート、ポリエステルアクリレート、ウレタンアクリレート等が挙げられる。 Examples of acrylates that can be used include monofunctional (meth) acrylates, polyfunctional (meth) acrylates, and other epoxy acrylates, polyester acrylates, urethane acrylates, and the like.

単官能(メタ)アクリレート類としては、メチル(メタ)アクリレート、エチル(メタ)アクリレート、ブチル(メタ)アクリレート、ラウリル(メタ)アクリレート、ポリエチレングリコール(メタ)アクリレート、ポリエチレングリコール(メタ)アクリレートモノメチルエーテル、フェニルエチル(メタ)アクリレート、イソボルニル(メタ)アクリレート、シクロヘキシル(メタ)アクリレート、ベンジル(メタ)アクリレート、テトラヒドロフルフリル(メタ)アクリレート等が挙げられる。 Examples of monofunctional (meth) acrylates include methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, butyl (meth) acrylate, lauryl (meth) acrylate, polyethylene glycol (meth) acrylate, polyethylene glycol (meth) acrylate monomethyl ether, and the like. Examples thereof include phenylethyl (meth) acrylate, isobornyl (meth) acrylate, cyclohexyl (meth) acrylate, benzyl (meth) acrylate, and tetrahydrofurfuryl (meth) acrylate.

多官能(メタ)アクリレート類としては、ブタンジオールジ(メタ)アクリレート、ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、ノナンジオールジ(メタ)アクリレート、エチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ジエチレンジ(メタ)アクリレート、ポリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、トリス(メタ)アクリロイルオキシエチルイソシアヌレート、ポリプロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、アジピン酸エポキシジ(メタ)アクリレート、ビスフェノールエチレンオキサイドジ(メタ)アクリレート、水素化ビスフェノールエチレンオキサイドジ(メタ)アクリレート、ビスフェノールジ(メタ)アクリレート、ヒドロキシビバリン酸ネオペングリコールのε−カプロラクトン付加物のジ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールとε−カプロラクトンの反応物のポリ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールポリ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、トリエチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、及びそのエチレンオキサイド付加物、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、及びそのエチレンオキサイド付加物、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、及びそのエチレンオキサイド付加物、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、およびそのエチレンオキサイド付加物等が挙げられる。 Examples of polyfunctional (meth) acrylates include butanediol di (meth) acrylate, hexanediol di (meth) acrylate, neopentyl glycol di (meth) acrylate, nonanediol di (meth) acrylate, and ethylene glycol di (meth) acrylate. , Diethylene di (meth) acrylate, polyethylene glycol di (meth) acrylate, tris (meth) acryloyloxyethyl isocyanurate, polypropylene glycol di (meth) acrylate, epoxydi (meth) acrylate, bisphenolethylene oxide di (meth) acrylate, Di (meth) acrylate of bisphenol ethylene oxide di (meth) acrylate, bisphenol di (meth) acrylate, di (meth) acrylate of ε-caprolactone adduct of neopenglycol hydroxybivariate, poly of the reaction product of dipentaerythritol and ε-caprolactone. (Meta) Acrylate, Dipentaerythritol Poly (Meta) Acrylate, Trimethylol Propanetri (Meta) Acrylate, Triethylol Propanetri (Meta) Acrylate, and Ethylene Oxide Adducts, Pentaerythritol Tri (Meta) Acrylate, and Ethylene Examples thereof include an oxide adduct, a pentaerythritol tetra (meth) acrylate, and an ethylene oxide adduct thereof, a dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, and an ethylene oxide adduct thereof.

使用できるビニル化合物類としてはビニルエーテル類、スチレン類、その他ビニル化合物が挙げられる。ビニルエーテル類としては、エチルビニルエーテル、プロピルビニルエーテル、ヒドロキシエチルビニルエーテル、エチレングリコールジビニルエーテル等が挙げられる。スチレン類としては、スチレン、メチルスチレン、エチルスチレン等が挙げられる。その他ビニル化合物としてはトリアリルイソシアヌレート、トリメタアリルイソシアヌレート等が挙げられる。 Examples of vinyl compounds that can be used include vinyl ethers, styrenes, and other vinyl compounds. Examples of vinyl ethers include ethyl vinyl ether, propyl vinyl ether, hydroxyethyl vinyl ether, ethylene glycol divinyl ether and the like. Examples of styrenes include styrene, methylstyrene, ethylstyrene and the like. Examples of other vinyl compounds include triallyl isocyanurate and trimetaallyl isocyanurate.

さらに、いわゆる反応性オリゴマー類としては、活性エネルギー線に感応可能な官能基とウレタン結合を同一分子内に併せ持つウレタンアクリレート、同様に活性エネルギー線に感応可能な官能基とエステル結合を同一分子内に併せ持つポリエステルアクリレート、その他エポキシ樹脂から誘導され、活性エネルギー線に感応可能な官能基を同一分子内に併せ持つエポキシアクリレート、これらの結合が複合的に用いられている反応性オリゴマー等が挙げられる。 Further, as so-called reactive oligomers, urethane acrylate having a functional group sensitive to active energy rays and a urethane bond in the same molecule, and similarly a functional group sensitive to active energy rays and an ester bond in the same molecule. Examples thereof include polyester acrylates having both of them, epoxy acrylates having functional groups derived from other epoxy resins and having a functional group sensitive to active energy rays in the same molecule, and reactive oligomers in which these bonds are used in combination.

また、カチオン反応型単量体としては、一般的にエポキシ基を有する化合物であれば特に限定はない。例えば、グリシジル(メタ)アクリレート、メチルグリシジルエーテル、エチルグリシジルエーテル、ブチルグリシジルエーテル、ビスフェノールAジグリシジルエーテル、3,4−エポキシシクロヘキシルメチル−3,4−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート(ユニオン・カーバイド社製「サイラキュアUVR−6110」等)、3,4−エポキシシクロヘキシルエチル−3,4−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート、ビニルシクロヘキセンジオキシド(ユニオン・カーバイド社製「ELR−4206」等)、リモネンジオキシド(ダイセル化学工業社製「セロキサイド3000」等)、アリルシクロヘキセンジオキシド、3,4−エポキシ−4−メチルシクロヘキシル−2−プロピレンオキシド、2−(3,4−エポキシシクロヘキシル−5,5−スピロ−3,4−エポキシ)シクロヘキサン−m−ジオキサン、ビス(3,4−エポキシシクロヘキシル)アジペート(ユニオン・カーバイド社製「サイラキュアUVR−6128」等)、ビス(3,4−エポキシシクロヘキシルメチル)アジペート、ビス(3,4−エポキシシクロヘキシル)エーテル、ビス(3,4−エポキシシクロヘキシルメチル)エーテル、ビス(3,4−エポキシシクロヘキシル)ジエチルシロキサン等が挙げられる。 The cationic reaction type monomer is not particularly limited as long as it is a compound generally having an epoxy group. For example, glycidyl (meth) acrylate, methyl glycidyl ether, ethyl glycidyl ether, butyl glycidyl ether, bisphenol A diglycidyl ether, 3,4-epoxycyclohexylmethyl-3,4-epoxycyclohexanecarboxylate (Cyracure manufactured by Union Carbide). UVR-6110 "etc.), 3,4-epoxycyclohexylethyl-3,4-epoxycyclohexanecarboxylate, vinylcyclohexene dioxide ("ELR-4206 "manufactured by Union Carbide, etc.), limonendioxide (Dycel Chemical Industries, Ltd.) Made by "Ceroxide 3000" etc.), Allylcyclohexenedioxide, 3,4-epoxy-4-methylcyclohexyl-2-propylene oxide, 2- (3,4-epoxycyclohexyl-5,5-spiro-3,4-epoxy) ) Cyclohexane-m-dioxane, bis (3,4-epoxycyclohexyl) adipate ("Cyracure UVR-6128" manufactured by Union Carbide, etc.), bis (3,4-epoxycyclohexylmethyl) adipate, bis (3,4-) Examples thereof include epoxycyclohexyl) ether, bis (3,4-epoxycyclohexylmethyl) ether, and bis (3,4-epoxycyclohexyl) diethylsiloxane.

これらのうち、成分(C)としては、ラジカル硬化型であるアクリレート類が最も好ましい。カチオン型の場合、カルボン酸とエポキシ基が反応してしまうため2液混合型にする必要が生じる。 Of these, as the component (C), radically curable acrylates are most preferable. In the case of the cationic type, since the carboxylic acid reacts with the epoxy group, it is necessary to make a two-component mixed type.

本発明の活性エネルギー線硬化型樹脂組成物は、組成物中に反応性ポリカルボン酸樹脂を97〜5質量%、好ましくは87〜10質量%、成分(C)を3〜95質量%、好ましくは3〜80質量%含む。必要に応じてその他の成分を70質量%程度を上限に含んでもよい。その他の成分としては光重合開始剤、その他の添加剤、着色材料、硬化促進剤、また塗工適性付与等を目的に粘度調整のため添加される揮発性溶剤等が挙げられる。下記に使用しうるその他の成分を例示する。 In the active energy ray-curable resin composition of the present invention, the reactive polycarboxylic acid resin is contained in the composition in an amount of 97 to 5% by mass, preferably 87 to 10% by mass, and the component (C) is preferably 3 to 95% by mass. Contains 3 to 80% by mass. If necessary, other components may be contained up to about 70% by mass. Examples of other components include photopolymerization initiators, other additives, coloring materials, curing accelerators, and volatile solvents added for viscosity adjustment for the purpose of imparting coating suitability. Other ingredients that may be used are illustrated below.

本発明の活性エネルギー線硬化型樹脂組成物には、更に着色顔料を含んでいてもよく、着色顔料は本発明の樹脂組成物を着色材料とするために用いられるものである。本発明の活性エネルギー線硬化型樹脂組成物で用いられる反応性ポリカルボン酸樹脂混合物の水酸基により、特に優れた顔料への親和性、即ち分散性が発揮されると推察される。分散性が良好である結果として顔料濃度を高くすることが出来る。又、現像を必要とされる組成物においては分散性がより好適であり、良好なパターニング特性が発揮され、又、現像溶解部における現像残渣も少なく好適である。 The active energy ray-curable resin composition of the present invention may further contain a coloring pigment, and the coloring pigment is used to use the resin composition of the present invention as a coloring material. It is presumed that the hydroxyl group of the reactive polycarboxylic acid resin mixture used in the active energy ray-curable resin composition of the present invention exhibits particularly excellent affinity for pigments, that is, dispersibility. As a result of good dispersibility, the pigment concentration can be increased. Further, in a composition that requires development, dispersibility is more preferable, good patterning characteristics are exhibited, and development residue in a developing and dissolving portion is small, which is suitable.

該着色顔料としては、フタロシアニン系、アゾ系、キナクリドン系等の有機顔料、カーボンブラック、酸化チタン等の無機顔料が挙げられる。これらのうちカーボンブラックの分散性が高く好ましい。 Examples of the coloring pigment include organic pigments such as phthalocyanine, azo and quinacridone, and inorganic pigments such as carbon black and titanium oxide. Of these, carbon black is preferable because of its high dispersibility.

本発明の活性エネルギー線硬化型樹脂組成物は、さらに光重合開始剤を含むことができる。光重合開始剤としてはラジカル型光重合開始剤、カチオン系光重合開始剤が好ましい。
ラジカル型光重合開始剤としては、例えばベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインプロピルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル等のベンゾイン類;アセトフェノン、2,2−ジエトキシ−2−フェニルアセトフェノン、1,1−ジクロロアセトフェノン、2−ヒドロキシ−2−メチル−フェニルプロパン−1−オン、ジエトキシアセトフェノン、1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、2−メチル−1−[4−(メチルチオ)フェニル]−2−モルホリノ−プロパン−1−オン等のアセトフェノン類;2−エチルアントラキノン、2−t−ブチルアントラキノン、2−クロロアントラキノン、2−アミルアントラキノン等のアントラキノン類;2,4−ジエチルチオキサントン、2−イソプロピルチオキサントン、2−クロロチオキサントン等のチオキサントン類;アセトフェノンジメチルケタール、ベンジルジメチルケタール等のケタール類;ベンゾフェノン、4−ベンゾイル−4’−メチルジフェニルサルファイド、4,4’−ビスメチルアミノベンゾフェノン等のベンゾフェノン類;2,4,6−トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキサイド、ビス(2,4,6−トリメチルベンゾイル)−フェニルホスフィンオキサイド等のホスフィンオキサイド類等の公知一般のラジカル型光重合開始剤が挙げられる。
The active energy ray-curable resin composition of the present invention may further contain a photopolymerization initiator. As the photopolymerization initiator, a radical type photopolymerization initiator and a cationic photopolymerization initiator are preferable.
Examples of the radical photopolymerization initiator include benzoins such as benzoin, benzoin methyl ether, benzoin ethyl ether, benzoin propyl ether, and benzoin isobutyl ether; acetophenone, 2,2-diethoxy-2-phenylacetophenone, and 1,1-dichloro. Acetophenone, 2-hydroxy-2-methyl-phenylpropane-1-one, diethoxyacetophenone, 1-hydroxycyclohexylphenylketone, 2-methyl-1- [4- (methylthio) phenyl] -2-morpholino-propane-1 Acetophenones such as -one; anthraquinones such as 2-ethylanthraquinone, 2-t-butyl anthraquinone, 2-chloroanthraquinone, 2-amyl anthraquinone; 2,4-diethylthioxanthone, 2-isopropylthioxanthone, 2-chlorothioxanthone and the like. Thioxanthones; acetophenone dimethyl ketal, benzyl dimethyl ketal and other ketals; benzophenone, 4-benzoyl-4'-methyldiphenyl sulfide, 4,4'-bismethylaminobenzophenone and other benzophenones; 2,4,6-trimethyl Known general radical photopolymerization initiators such as phosphine oxides such as benzoyldiphenylphosphine oxide and bis (2,4,6-trimethylbenzoyl) -phenylphosphine oxide can be mentioned.

また、カチオン系光重合開始剤としては、ルイス酸のジアゾニウム塩、ルイス酸のヨードニウム塩、ルイス酸のスルホニウム塩、ルイス酸のホスホニウム塩、その他のハロゲン化物、トリアジン系開始剤、ボレート系開始剤、及びその他の光酸発生剤等が挙げられる。 Examples of the cationic photopolymerization initiator include a diazonium salt of Lewis acid, an iodonium salt of Lewis acid, a sulfonium salt of Lewis acid, a phosphonium salt of Lewis acid, other halides, a triazine-based initiator, and a borate-based initiator. And other photoacid generators and the like.

ルイス酸のジアゾニウム塩としては、p−メトキシフェニルジアゾニウムフロロホスホネート、N,N−ジエチルアミノフェニルジアゾニウムヘキサフロロホスホネート(三新化学工業社製サンエイドSI−60L/SI−80L/SI−100L等)等が挙げられ、ルイス酸のヨードニウム塩としては、ジフェニルヨードニウムヘキサフロロホスホネート、ジフェニルヨードニウムヘキサフロロアンチモネート等が挙げられ、ルイス酸のスルホニウム塩としては、トリフェニルスルホニウムヘキサフロロホスホネート(UnionCarbide社製CyracureUVI−6990等)、トリフェニルスルホニウムヘキサフロロアンチモネート(UnionCarbide社製CyracureUVI−6974等)等が挙げられ、ルイス酸のホスホニウム塩としては、トリフェニルホスホニウムヘキサフロロアンチモネート等が挙げられる。 Examples of the diazonium salt of Lewis acid include p-methoxyphenyldiazonium fluorophosphonate, N, N-diethylaminophenyldiazonium hexafluorophosphonate (San Aid SI-60L / SI-80L / SI-100L, etc. manufactured by Sanshin Chemical Industry Co., Ltd.). Examples of the iodonium salt of Lewis acid include diphenyliodonium hexafluorophosphonate and diphenyliodonium hexafluoroantimonate, and examples of the sulfonium salt of Lewis acid include triphenylsulfonium hexafluorophosphonate (CyracureUVI-6990 manufactured by Union Carbide). , Triphenylsulfonium hexafluoroantimonate (CyracureUVI-6974 etc. manufactured by Union Carbide) and the like, and examples of the phosphonium salt of Lewis acid include triphenylphosphonium hexafluoroantimonate and the like.

その他のハロゲン化物としては、2,2,2−トリクロロ−[1−4’−(ジメチルエチル)フェニル]エタノン(AKZO社製TrigonalPI等)、2,2−ジクロロ−1−4−(フェノキシフェニル)エタノン(Sandoz社製Sandray1000等)、α,α,α−トリブロモメチルフェニルスルホン(製鉄化学社製BMPS等)等が挙げられる。トリアジン系開始剤としては、2,4,6−トリス(トリクロロメチル)−トリアジン、2,4−トリクロロメチル−(4’−メトキシフェニル)−6−トリアジン(Panchim社製TriazineA等)、2,4−トリクロロメチル−(4’−メトキシスチリル)−6−トリアジン(Panchim社製TriazinePMS等)、2,4−トリクロロメチル−(ピプロニル)−6−トリアジン(Panchim社製TriazinePP等)、2,4−トリクロロメチル−(4’−メトキシナフチル)−6−トリアジン(Panchim社製TriazineB等)、2[2’(5−メチルフリル)エチリデン]−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン(三和ケミカル社製等)、2(2’−フリルエチリデン)−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン(三和ケミカル社製)等が挙げられる。 Other halides include 2,2,2-trichloro- [1-4'-(dimethylethyl) phenyl] etanone (TRIgonal PI manufactured by AKZO, etc.), 2,2-dichloro-1-4- (phenoxyphenyl). Examples thereof include etanone (Sandray 1000 manufactured by Sandoz Co., Ltd.), α, α, α-tribromomethylphenyl sulfone (BMPS manufactured by Steel Chemical Co., Ltd., etc.) and the like. Examples of the triazine-based initiator include 2,4,6-triazine (trichloromethyl) -triazine, 2,4-trichloromethyl- (4'-methoxyphenyl) -6-triazine (TriazineA manufactured by Panchim, etc.), 2,4. -Trichloromethyl- (4'-methoxystyryl) -6-triazine (Panchim's TriazinePMS, etc.), 2,4-trichloromethyl- (pipronyl) -6-triazine (Panchim's TriazinePP, etc.), 2,4-trichloro Methyl- (4'-methoxynaphthyl) -6-triazine (TriazineB manufactured by Panchim, etc.), 2 [2'(5-methylfuryl) ethylidene] -4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine (Sanwa) Chemicals, etc.), 2 (2'-frillethylidene) -4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine (manufactured by Sanwa Chemical Co., Ltd.) and the like.

ボレート系光重合開始剤としては、日本感光色素製NK−3876及びNK−3881等が挙げられ、その他の光酸発生剤等としては、9−フェニルアクリジン、2,2’−ビス(o−クロロフェニル)−4,4’,5,5’−テトラフェニル−1,2−ビイミダゾール(黒金化成社製ビイミダゾール等)、2,2−アゾビス(2−アミノ−プロパン)ジヒドロクロリド(和光純薬社製V50等)、2,2−アゾビス[2−(イミダゾリン−2イル)プロパン]ジヒドロクロリド(和光純薬社製VA044等)、[イータ−5−2−4−(シクロペンタデシル)(1,2,3,4,5,6,イータ)−(メチルエチル)−ベンゼン]鉄(II)ヘキサフロロホスホネート(CibaGeigy社製Irgacure261等)、ビス(y5−シクロペンタジエニル)ビス[2,6−ジフルオロ−3−(1H−ピリ−1−イル)フェニル]チタニウム(CibaGeigy社製CGI−784等)等が挙げられる。 Examples of the borate-based photopolymerization initiator include NK-3876 and NK-3881 manufactured by Nippon Photosensitizing Dye, and examples of other photoacid generators include 9-phenylaclydin and 2,2'-bis (o-chlorophenyl). ) -4,4', 5,5'-tetraphenyl-1,2-biimidazole (biimidazole manufactured by Kurokin Kasei Co., Ltd., etc.), 2,2-azobis (2-amino-propane) dihydrochloride (Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) V50, etc. manufactured by Wako), 2,2-azobis [2- (imidazolin-2yl) propane] dihydrochloride (VA044, etc. manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.), [Eta-5-2-4- (cyclopentadecyl) (1) , 2,3,4,5,6, eta)-(methylethyl) -benzene] iron (II) hexafluorophosphonate (Irgacure261, manufactured by CibaGeigy, etc.), bis (y5-cyclopentadienyl) bis [2,6 -Difluoro-3- (1H-pyri-1-yl) phenyl] Titanium (CGI-784, etc. manufactured by Ciba Geigy) and the like can be mentioned.

この他、アゾビスイソブチロニトリル等のアゾ系開始剤、過酸化ベンゾイル等の熱に感応する過酸化物系ラジカル型開始剤等を併せて用いても良い。また、ラジカル系とカチオン系の双方の光重合開始剤を併せて用いても良い。光重合開始剤は、1種類を単独で用いることもできるし、2種類以上を併せて用いることもできる。 In addition, an azo-based initiator such as azobisisobutyronitrile and a peroxide-based radical-type initiator such as benzoyl peroxide that is sensitive to heat may be used in combination. Moreover, both radical type and cationic type photopolymerization initiators may be used together. One type of photopolymerization initiator may be used alone, or two or more types may be used in combination.

これらのうち、本発明の反応性ポリカルボン酸樹脂混合物の特性を考慮すれば、ラジカル型光重合開始剤が特に好ましい。 Of these, the radical photopolymerization initiator is particularly preferable in consideration of the characteristics of the reactive polycarboxylic acid resin mixture of the present invention.

さらに、本発明の活性エネルギー線硬化型樹脂組成物は、体質顔料を含むことも出来る。体質顔料としては、例えば、タルク、硫酸バリウム、炭酸カルシウム、炭酸マグネシウム、チタン酸バリウム、水酸化アルミニウム、シリカ、クレー等が挙げられる。 Further, the active energy ray-curable resin composition of the present invention may also contain an extender pigment. Examples of the extender pigment include talc, barium sulfate, calcium carbonate, magnesium carbonate, barium titanate, aluminum hydroxide, silica, clay and the like.

さらに、本発明の活性エネルギー線硬化型樹脂組成物は、必要に応じ、その他の添加剤を含むことができる。その他の添加剤としては、例えばメラミン等の熱硬化触媒、アエロジル等のチキソトロピー付与剤、シリコーン系、フッ素系のレベリング剤や消泡剤、ハイドロキノン、ハイドロキノンモノメチルエーテル等の重合禁止剤、安定剤、酸化防止剤等を使用することが出来る。 Furthermore, the active energy ray-curable resin composition of the present invention may contain other additives, if necessary. Other additives include, for example, thermosetting catalysts such as melamine, thixotropy-imparting agents such as Aerosil, silicone-based and fluorine-based leveling agents and defoamers, polymerization inhibitors such as hydroquinone and hydroquinone monomethyl ether, stabilizers, and oxidation. Inhibitors and the like can be used.

この他に活性エネルギー線に反応性を示さない樹脂類(いわゆるイナートポリマー)として、たとえばその他のエポキシ樹脂、フェノール樹脂、ウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、ケトンホルムアルデヒド樹脂、クレゾール樹脂、キシレン樹脂、ジアリルフタレート樹脂、スチレン樹脂、グアナミン樹脂、天然及び合成ゴム、アクリル樹脂、ポリオレフィン樹脂、及びこれらの変性物を用いることもできる。これらは樹脂組成物中に40質量部までの範囲において用いることが好ましい。 Other resins that do not react to active energy rays (so-called inert polymers) include, for example, other epoxy resins, phenol resins, urethane resins, polyester resins, ketone formaldehyde resins, cresol resins, xylene resins, diallyl phthalate resins, etc. Styrene resin, guanamine resin, natural and synthetic rubber, acrylic resin, polyolefin resin, and modified products thereof can also be used. These are preferably used in the range of up to 40 parts by mass in the resin composition.

特に、ソルダーレジスト用途に反応性ポリカルボン酸樹脂を用いようとする場合には、活性エネルギー線に反応性を示さない樹脂類として公知一般のエポキシ樹脂を用いることが好ましい。これは活性エネルギー線によって反応、硬化させた後も反応性ポリカルボン酸樹脂に由来するカルボキシ基が残留してしまい、結果としてその硬化物は耐水性や加水分解性に劣ってしまう。したがって、エポキシ樹脂を用いることで残留するカルボキシ基をさらにカルボキシレート化し、さらに強固な架橋構造を形成させる。該公知一般のエポキシ樹脂は、前記カチオン反応型単量体を用いることができる。 In particular, when a reactive polycarboxylic acid resin is to be used for solder resist applications, it is preferable to use a known general epoxy resin as resins that do not show reactivity with active energy rays. This is because the carboxy group derived from the reactive polycarboxylic acid resin remains even after the reaction and curing by the active energy rays, and as a result, the cured product is inferior in water resistance and hydrolyzability. Therefore, by using an epoxy resin, the remaining carboxy groups are further carboxylated to form a stronger crosslinked structure. As the known general epoxy resin, the cationic reaction type monomer can be used.

また使用目的に応じて、粘度を調整する目的で、樹脂組成物中に50質量部、さらに好ましくは35質量部までの範囲において揮発性溶剤を添加することも出来る。 Further, for the purpose of adjusting the viscosity according to the purpose of use, a volatile solvent can be added to the resin composition in a range of up to 50 parts by mass, more preferably 35 parts by mass.

本発明の活性エネルギー線硬化型樹脂組成物は活性エネルギー線によって容易に硬化する。ここで活性エネルギー線の具体例としては、紫外線、可視光線、赤外線、X線、ガンマー線、レーザー光線等の電磁波、アルファー線、ベータ線、電子線等の粒子線等が挙げられる。本発明の好適な用途を考慮すれば、これらのうち、紫外線、レーザー光線、可視光線、または電子線が好ましい。 The active energy ray-curable resin composition of the present invention is easily cured by the active energy ray. Here, specific examples of the active energy ray include electromagnetic waves such as ultraviolet rays, visible rays, infrared rays, X-rays, gamma rays and laser beams, and particle beams such as alpha rays, beta rays and electron beams. Considering the preferred use of the present invention, among these, ultraviolet rays, laser beams, visible rays, or electron beams are preferable.

本発明の活性エネルギー線硬化型樹脂組成物は、粘弾性測定装置によるガラス転移温度が150〜250℃であることが好ましく、160〜180℃であることがさらに好ましい。ガラス転移温度が上記範囲にあることで、耐熱性、現像性が良好となる。 In the active energy ray-curable resin composition of the present invention, the glass transition temperature by the viscoelasticity measuring device is preferably 150 to 250 ° C, more preferably 160 to 180 ° C. When the glass transition temperature is within the above range, heat resistance and developability are improved.

本発明において成形用材料とは、未硬化の組成物を型にいれ、もしくは型を押し付け、物体を成形したのち、活性エネルギー線により硬化反応を起こさせ成形させるもの、もしくは未硬化の組成物にレーザー等の焦点光等を照射し、硬化反応を起こさせ成形させる用途に用いられる材料を指す。 In the present invention, the molding material is a material in which an uncured composition is placed in a mold or the mold is pressed to form an object, and then a curing reaction is caused by active energy rays to form the uncured composition. It refers to a material used for molding by irradiating with focal light such as a laser to cause a curing reaction.

具体的な用途としては、平面状に成形したシート、素子を保護するための封止材、未硬化の組成物に微細加工された「型」を押し当て微細な成形を行う、所謂ナノインプリント材料、さらには特に熱的な要求の厳しい発光ダイオード、光電変換素子等の周辺封止材料等が好適な用途として挙げられる。 Specific applications include a sheet molded into a flat surface, a sealing material for protecting an element, and a so-called nanoimprint material in which a finely processed "mold" is pressed against an uncured composition to perform fine molding. Further, light emitting diodes having particularly strict thermal requirements, peripheral sealing materials such as photoelectric conversion elements, and the like can be mentioned as suitable applications.

本発明において皮膜形成用材料とは、基材表面を被覆することを目的として利用されるものである。具体的な用途としては、グラビアインキ、フレキソインキ、シルクスクリーンインキ、オフセットインキ等のインキ材料、ハードコート、トップコート、オーバープリントニス、クリヤコート等の塗工材料、ラミネート用、光ディスク用他各種接着剤、粘着剤等の接着材料、ソルダーレジスト、エッチングレジスト、マイクロマシン用レジスト等のレジスト材料等がこれに該当する。さらには、皮膜形成用材料を一時的に剥離性基材に塗工しフィルム化した後、本来目的とする基材に貼合し皮膜を形成させる、いわゆるドライフィルムも皮膜形成用材料に該当する。 In the present invention, the film-forming material is used for the purpose of coating the surface of the base material. Specific applications include ink materials such as gravure ink, flexo ink, silk screen ink, and offset ink, coating materials such as hard coat, top coat, overprint varnish, and clear coat, and various adhesives for laminating and optical disks. Adhesive materials such as agents and adhesives, resist materials such as solder resists, etching resists, and resists for micromachines fall under this category. Furthermore, a so-called dry film, in which a film-forming material is temporarily applied to a peelable base material to form a film and then bonded to the originally intended base material to form a film, is also a film-forming material. ..

本発明には前記の硬化型樹脂組成物に活性エネルギー線を照射して得られる硬化物も含まれ、また、該硬化物の層を有する多層材料も含まれる。 The present invention includes a cured product obtained by irradiating the cured resin composition with active energy rays, and also includes a multilayer material having a layer of the cured product.

これらのうち、反応性ポリカルボン酸樹脂のカルボキシ基の導入によって、基材への密着性が高まるため、プラスチック基材、若しくは金属基材を被覆するための用途として用いることが好ましい。 Of these, the introduction of the carboxy group of the reactive polycarboxylic acid resin enhances the adhesion to the base material, so that it is preferably used for coating a plastic base material or a metal base material.

さらには、未反応の反応性ポリカルボン酸樹脂が、アルカリ水溶液に可溶性となる特徴を生かして、アルカリ水現像型レジスト材料組成物として用いることも好ましい。 Furthermore, it is also preferable to use the unreacted reactive polycarboxylic acid resin as an alkaline water-developable resist material composition by taking advantage of the characteristic that it is soluble in an alkaline aqueous solution.

本発明においてレジスト材料組成物とは、基材上に該組成物の皮膜層を形成させ、その後、紫外線等の活性エネルギー線を部分的に照射し、照射部、未照射部の物性的な差異を利用して描画しようとする活性エネルギー線感応型の組成物を指す。具体的には、照射部、または未照射部を何らかの方法、例えば溶剤等やアルカリ溶液等で溶解させる等して除去し、描画を行うことを目的として用いられる組成物である。 In the present invention, the resist material composition is such that a film layer of the composition is formed on a base material, and then active energy rays such as ultraviolet rays are partially irradiated, and the physical characteristics of the irradiated portion and the non-irradiated portion are different. Refers to an active energy ray-sensitive composition to be drawn using. Specifically, it is a composition used for the purpose of drawing by removing the irradiated portion or the unirradiated portion by dissolving it in some method, for example, a solvent or an alkaline solution.

本発明のレジスト材料組成物である活性エネルギー線硬化型樹脂組成物は、パターニングが可能な種々の材料に適応でき、例えば特に、ソルダーレジスト材料、ビルドアップ工法用の層間絶縁材に有用であり、さらには光導波路としてプリント配線板、光電子基板や光基板のような電気・電子・光基材等にも利用される。 The active energy ray-curable resin composition, which is the resist material composition of the present invention, can be applied to various materials capable of patterning, and is particularly useful for solder resist materials and interlayer insulating materials for build-up methods. Furthermore, it is also used as an optical waveguide for printed wiring boards, electric / electronic / optical substrates such as optoelectronic boards and optical substrates.

特に好適な用途としては、耐熱性や現像性が良好である特性を生かして、感光性フィルム、支持体付き感光性フィルム、プリプレグ等の絶縁樹脂シート、回路基板(積層板用途、多層プリント配線板用途等)、ソルダーレジスト、アンダ−フィル材、ダイボンディング材、半導体封止材、穴埋め樹脂、部品埋め込み樹脂等、樹脂組成物が必要とされる用途の広範囲に使用できる。なかでも、高い顔料濃度においても良好な現像性を発揮することが出来ることから、カラーレジスト、カラーフィルタ用のレジスト材料、特にブラックマトリックス材料等にも好適に用いることが出来る。 Particularly suitable applications include photosensitive films, photosensitive films with supports, insulating resin sheets such as prepregs, and circuit boards (laminated board applications, multilayer printed wiring boards) by taking advantage of their good heat resistance and developability. Applications), solder resists, underfill materials, die bonding materials, semiconductor encapsulants, fill-in-the-blank resins, component-embedded resins, etc., which can be used in a wide range of applications in which a resin composition is required. Among them, since good developability can be exhibited even at a high pigment concentration, it can be suitably used for color resists, resist materials for color filters, particularly black matrix materials and the like.

更に、多層プリント配線板の絶縁層用樹脂組成物(感光性樹脂組成物の硬化物を絶縁層とした多層プリント配線板)、層間絶縁層用樹脂組成物(感光性樹脂組成物の硬化物を層間絶縁層とした多層プリント配線板)、メッキ形成用樹脂組成物(感光性樹脂組成物の硬化物上にメッキが形成された多層プリント配線板)等にも好適に用いることが出来る。 Further, a resin composition for an insulating layer of a multilayer printed wiring board (a multilayer printed wiring board in which a cured product of a photosensitive resin composition is used as an insulating layer) and a resin composition for an interlayer insulating layer (a cured product of a photosensitive resin composition) are used. It can also be suitably used for a multi-layer printed wiring board having an interlayer insulating layer), a resin composition for forming a plating (a multi-layer printed wiring board in which plating is formed on a cured product of a photosensitive resin composition), and the like.

本発明の活性エネルギー線硬化型樹脂組成物を使用してのパターニングは、例えば次のようにして行うことができる。基板上にスクリーン印刷法、スプレー法、ロールコート法、静電塗装法、カーテンコート法、スピンコート法などの方法で0.1〜200μmの膜厚で本発明の硬化型樹脂組成物を塗布し、塗膜を通常50〜110℃、好ましくは60〜100℃の温度で乾燥させることにより、塗膜が形成できる。その後、露光パターンを形成したフォトマスクを通じて塗膜に直接または間接に紫外線などの高エネルギー線を通常10〜2000mJ/cm2程度の強さで照射し、後述する現像液を用いて、例えばスプレー、振動浸漬、パドル、ブラッシング等により所望のパターンを得ることができる。Patterning using the active energy ray-curable resin composition of the present invention can be performed, for example, as follows. The curable resin composition of the present invention is applied onto a substrate with a film thickness of 0.1 to 200 μm by a method such as a screen printing method, a spray method, a roll coating method, an electrostatic coating method, a curtain coating method, or a spin coating method. The coating film can be formed by drying the coating film at a temperature of usually 50 to 110 ° C., preferably 60 to 100 ° C. Then, the coating film is directly or indirectly irradiated with high-energy rays such as ultraviolet rays at an intensity of about 10 to 2000 mJ / cm 2 through a photomask on which an exposure pattern is formed, and a developing solution described later is used, for example, spraying. A desired pattern can be obtained by vibration immersion, paddle, brushing and the like.

上記現像に使用されるアルカリ水溶液としては水酸化カリウム、水酸化ナトリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム、リン酸ナトリウム、リン酸カリウム等の無機アルカリ水溶液やテトラメチルアンモニウムハイドロオキサイド、テトラエチルアンモニウムハイドロオキサイド、テトラブチルアンモニウムハイドロオキサイド、モノエタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミン等の有機アルカリ水溶液が使用できる。この水溶液には、さらに有機溶剤、緩衝剤、錯化剤、染料または顔料を含ませることができる。 The alkaline aqueous solution used for the above development includes an inorganic alkaline aqueous solution such as potassium hydroxide, sodium hydroxide, sodium carbonate, potassium carbonate, sodium hydrogencarbonate, potassium hydrogencarbonate, sodium phosphate, potassium phosphate and the like, and tetramethylammonium hydroxide. , Tetraethylammonium hydroxide, tetrabutylammonium hydroxide, monoethanolamine, diethanolamine, triethanolamine and other organic alkaline aqueous solutions can be used. The aqueous solution can further contain an organic solvent, a buffer, a complexing agent, a dye or a pigment.

この他、活性エネルギー線による硬化反応前の機械的強度が求められるドライフィルム用途として特に好適に用いられる。即ち、本発明で用いられるエポキシ樹脂の水酸基、エポキシ基のバランスが特定の範囲にあるがゆえに、本発明の反応性ポリカルボン酸樹脂混合物が良好な現像性を発揮させることが出来る。 In addition, it is particularly preferably used as a dry film application in which mechanical strength before a curing reaction by active energy rays is required. That is, since the balance of the hydroxyl group and the epoxy group of the epoxy resin used in the present invention is within a specific range, the reactive polycarboxylic acid resin mixture of the present invention can exhibit good developability.

皮膜形成させる方法としては特に制限はないが、グラビア等の凹版印刷方式、フレキソ等の凸版印刷方式、シルクスクリーン等の孔版印刷方式、オフセット等の平版印刷方式、ロールコーター、ナイフコーター、ダイコーター、カーテンコーター、スピンコーター等の各種塗工方式が任意に採用できる。 The method for forming the film is not particularly limited, but intaglio printing methods such as gravure, letterpress printing methods such as flexography, stencil printing methods such as silk screen, lithographic printing methods such as offset, roll coaters, knife coaters, die coaters, etc. Various coating methods such as curtain coater and spin coater can be arbitrarily adopted.

本発明の活性エネルギー線硬化型樹脂組成物の硬化物とは、本発明の活性エネルギー線硬化型樹脂組成物に活性エネルギー線を照射し硬化させたものを指す。 The cured product of the active energy ray-curable resin composition of the present invention refers to a product obtained by irradiating the active energy ray-curable resin composition of the present invention with active energy rays and curing it.

以下、本発明を実施例により更に詳細に説明するが、本発明はこれら実施例によって限定されるものではない。また、実施例中、特に断りがない限り、%は質量%を示す。 Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to Examples, but the present invention is not limited to these Examples. Further, in the examples,% indicates mass% unless otherwise specified.

軟化点、エポキシ当量、酸価は以下の条件で測定した。
1)エポキシ当量:JISK7236:2001に準じた方法で測定した。
2)軟化点:JISK7234:1986に準じた方法で測定した。
3)酸価:JISK0070:1992に準じた方法で測定した。
4)GPCの測定条件は以下の通りである。
機種:TOSOH HLC−8320GPC
カラム:Super HZM−N
溶離液:THF(テトラヒドロフラン);0.35ml/分、40℃
検出器:RI(示差屈折計)
分子量標準:ポリスチレン
The softening point, epoxy equivalent, and acid value were measured under the following conditions.
1) Epoxy equivalent: Measured according to JISK7236: 2001.
2) Softening point: Measured according to JISK7234: 1986.
3) Acid value: Measured according to JISK0070: 1992.
4) The measurement conditions of GPC are as follows.
Model: TOSOH HLC-8320GPC
Column: Super HZM-N
Eluent: THF (tetrahydrofuran); 0.35 ml / min, 40 ° C.
Detector: RI (Differential Refractometer)
Molecular weight standard: polystyrene

(実施例1、参考例1、比較例1):反応性エポキシカルボキシレート樹脂の合成
成分(a)としてXD−1000(日本化薬(株)製、軟化点74℃、エポキシ当量252g/eq.)、成分(a’−1)としてEPPN−201(日本化薬(株)製、軟化点70℃、エポキシ当量193g/eq.)、成分(a’−2)としてEPPN−503(日本化薬(株)製、軟化点94℃、エポキシ当量185g/eq.)、成分(a’−3)としてNC−3500(日本化薬(株)製、軟化点70℃、エポキシ当量206g/eq.)、成分(a’−4)としてNC−6000(日本化薬(株)製、軟化点60℃、エポキシ当量208g/eq.)、成分(b)としてアクリル酸(AA)もしくはメタクリル酸(MAA)を表1中記載量、成分(c)としてジメチロールプロピオン酸(以下、「DMPA」と略す)を表1中記載量加えた。触媒としてトリフェニルホスフィン3g、溶剤としてプロピレングリコールモノメチルエーテルモノアセテートを固形分含有率80質量%となるように加え、100℃で24時間反応させ、反応性エポキシカルボキシレート樹脂混合物の溶液を得た。
(Example 1, Reference Example 1, Comparative Example 1): Synthesis of reactive epoxy carboxylate resin XD-1000 (manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd., softening point 74 ° C., epoxy equivalent 252 g / eq. ), EPPN-201 (manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd., softening point 70 ° C., epoxy equivalent 193 g / eq.) As component (a'-1), EPPN-503 (Nippon Kayaku) as component (a'-2). Made by Nippon Kayaku Co., Ltd., softening point 94 ° C., epoxy equivalent 185 g / eq.), NC-3500 as component (a'-3) (Nippon Kayaku Co., Ltd., softened point 70 ° C., epoxy equivalent 206 g / eq.) NC-6000 (manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd., softening point 60 ° C., epoxy equivalent 208 g / eq.) As component (a'-4), acrylic acid (AA) or methacrylic acid (MAA) as component (b). Was added in the amount described in Table 1, and dimethylolpropionic acid (hereinafter abbreviated as “DMPA”) was added as the component (c) in the amount described in Table 1. 3 g of triphenylphosphine as a catalyst and propylene glycol monomethyl ether monoacetate as a solvent were added so as to have a solid content of 80% by mass, and the mixture was reacted at 100 ° C. for 24 hours to obtain a solution of a reactive epoxy carboxylate resin mixture.

Figure 2020059500
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(実施例2、参考例2、比較例2):ハードコート用組成物の調製
実施例1、参考例1、及び比較例1において合成した各反応性エポキシカルボキシレート樹脂混合物溶液20gのそれぞれに対して、ラジカル硬化型の反応性化合物であるジペンタエリスリトールヘキサアクリレート4g、紫外線反応型光重合開始剤としてイルガキュア184を1.5g加熱溶解した。
次いで、乾燥時の膜厚20ミクロンになるようハンドアプリケータによってポリカーボネート板上に塗工し、80℃30分間電気オーブンにて溶剤乾燥を実施した。乾燥後、高圧水銀ランプを具備した紫外線垂直露光装置(オーク製作所製)によって照射線量1000mJの紫外線を照射、硬化させ皮膜形成物を得た。
(Example 2, Reference Example 2, Comparative Example 2): Preparation of composition for hard coating For each of 20 g of each reactive epoxy carboxylate resin mixture solution synthesized in Example 1, Reference Example 1, and Comparative Example 1. Then, 4 g of dipentaerythritol hexaacrylate, which is a radical curing type reactive compound, and 1.5 g of Irgacure 184 as an ultraviolet reaction type photopolymerization initiator were dissolved by heating.
Next, the polycarbonate plate was coated with a hand applicator so that the film thickness at the time of drying was 20 microns, and solvent drying was carried out in an electric oven at 80 ° C. for 30 minutes. After drying, a film-forming product was obtained by irradiating and curing ultraviolet rays with an irradiation dose of 1000 mJ by an ultraviolet vertical exposure apparatus (manufactured by ORC Manufacturing Co., Ltd.) equipped with a high-pressure mercury lamp.

この形成物の塗膜の硬度をJISK5600−5−4:1999により測定し、更に耐冷熱衝撃性の試験をJISK5600−7−4:1999により測定した。結果を表2に示す。表2に示す各記号の意味は、下記のとおりである。
○ : 傷、はがれなし
△ : 僅かに傷あり
× : 剥がれた
The hardness of the coating film of this product was measured by JISK5600-5-4: 1999, and the cold and thermal impact resistance test was further measured by JISK5600-7-4: 1999. The results are shown in Table 2. The meanings of the symbols shown in Table 2 are as follows.
○: No scratches or peeling △: Slightly scratched ×: Peeled off

Figure 2020059500
Figure 2020059500

表2の結果から明らかなように、実施例2−1〜2−4は、耐冷熱衝撃性に優れることを確認した。 As is clear from the results in Table 2, it was confirmed that Examples 2-1 to 2-4 were excellent in cold and thermal impact resistance.

(実施例3、参考例3、比較例3):反応性ポリカルボン酸樹脂の合成
実施例1、参考例1、及び比較例1で得られた各反応性エポキシカルボキシレート樹脂混合物溶液200gのそれぞれに対して、成分(d)としてTHPA(1,2,3,6−テトラヒドロ無水フタル酸、新日本理化(株)製)を30.9(g)、及び溶剤として固形分含有率65%となるように、プロピレングリコールモノメチルエーテルモノアセテートを添加し、100℃に加熱した後、酸付加反応させ、反応性ポリカルボン酸樹脂混合物の溶液を得た。得られた反応性ポリカルボン酸樹脂混合物の固形分酸価(mgKOH/g)を表3中に記載した。固形分酸価(AV:mgKOH/g)測定は、溶液として測定を行い固形分での値に換算した。
(Example 3, Reference Example 3, Comparative Example 3): Synthesis of reactive polycarboxylic acid resin 200 g of each reactive epoxy carboxylate resin mixture solution obtained in Example 1, Reference Example 1, and Comparative Example 1 respectively. In contrast, THPA (1,2,3,6-tetrahydrophthalic anhydride, manufactured by Shin Nihon Rika Co., Ltd.) was used as the component (d) at 30.9 (g), and the solid content was 65% as the solvent. A solution of a reactive polycarboxylic acid resin mixture was obtained by adding propylene glycol monomethyl ether monoacetate and heating to 100 ° C. and then acid addition reaction. The solid acid value (mgKOH / g) of the obtained reactive polycarboxylic acid resin mixture is shown in Table 3. The solid content acid value (AV: mgKOH / g) was measured as a solution and converted into a solid content value.

Figure 2020059500
Figure 2020059500

(合成例1〜5):反応性ポリカルボン酸樹脂の合成
成分(a)、成分(a’−1)、成分(a’−2)、成分(a’−3)、成分(a’−5)(EOCN−104S、日本化薬(株)製、軟化点92℃、エポキシ当量218g/eq.)、成分(b)としてアクリル酸(AA)、成分(c)としてジメチロールプロピオン酸(DMPA)を表4中記載量加えた。触媒としてトリフェニルホスフィン3g、溶剤としてプロピレングリコールモノメチルエーテルモノアセテートを固形分含有率80質量%となるように加え、100℃で24時間反応させ、反応性エポキシカルボキシレート樹脂溶液を得た。得られた反応性エポキシカルボキシレート樹脂溶液に、成分(d)としてTHPAを表4に記載の量(g)、及び溶剤として固形分含有率65%となるように、プロピレングリコールモノメチルエーテルモノアセテートを添加し、100℃に加熱した後、酸付加反応させ、反応性ポリカルボン酸樹脂溶液を得た。得られた反応性ポリカルボン酸樹脂の固形分酸価(AV:mgKOH/g)を表4中に記載した。固形分酸価(mgKOH/g)測定は、溶液として測定を行い固形分での値に換算した。
(Synthetic Examples 1 to 5): Synthesis of Reactive Polycarboxylic Acid Resin Component (a), Component (a'-1), Component (a'-2), Component (a'-3), Component (a'- 5) (EOCN-104S, manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd., softening point 92 ° C., epoxy equivalent 218 g / eq.), Acrylic acid (AA) as component (b), dimethylol propionic acid (DMPA) as component (c). ) Was added in the amount described in Table 4. 3 g of triphenylphosphine as a catalyst and propylene glycol monomethyl ether monoacetate as a solvent were added so as to have a solid content of 80% by mass, and the mixture was reacted at 100 ° C. for 24 hours to obtain a reactive epoxy carboxylate resin solution. In the obtained reactive epoxycarboxylate resin solution, propylene glycol monomethyl ether monoacetate was added so that THPA as the component (d) was added to the amount (g) shown in Table 4 and the solid content was 65% as the solvent. After addition, the mixture was heated to 100 ° C. and then subjected to an acid addition reaction to obtain a reactive polycarboxylic acid resin solution. The solid acid value (AV: mgKOH / g) of the obtained reactive polycarboxylic acid resin is shown in Table 4. The solid content acid value (mgKOH / g) was measured as a solution and converted into a solid content value.

Figure 2020059500
Figure 2020059500

(実施例4、参考例4):反応性ポリカルボン酸樹脂の配合
合成例1〜5にて合成した反応性ポリカルボン酸樹脂溶液を表5の重量比で配合し、反応性ポリカルボン酸溶液の混合物を得た。
(Example 4, Reference Example 4): Formulation of reactive polycarboxylic acid resin The reactive polycarboxylic acid resin solutions synthesized in Synthesis Examples 1 to 5 were blended in the weight ratio shown in Table 5, and the reactive polycarboxylic acid solution was blended. A mixture of

Figure 2020059500
Figure 2020059500

(比較例4):反応性ポリカルボン酸樹脂の配合
合成例1,3にて合成した反応性ポリカルボン酸樹脂溶液、その他の反応性ポリカルボン酸樹脂を表6の重量比で配合し、比較例である反応性ポリカルボン酸混合物溶液を得た。
(Comparative Example 4): Formulation of Reactive Polycarboxylic Acid Resin The reactive polycarboxylic acid resin solution synthesized in Synthesis Examples 1 and 3 and other reactive polycarboxylic acid resins were blended in the weight ratio shown in Table 6 for comparison. An example reactive polycarboxylic acid mixture solution was obtained.

Figure 2020059500
KAYARAD ZAR−2001H;ビスフェノールA型反応性ポリカルボン酸樹脂(日本化薬株式会社製)
KAYARAD ZFR−1554H;ビスフェノールF型反応性ポリカルボン酸樹脂(日本化薬株式会社製)
KAYARAD ZCR−1761H;ビフェニルアラルキル型反応性ポリカルボン酸樹脂(日本化薬株式会社製、式(4)で表されArが式(6)である構造を有する。)
KAYARAD UXE−3024H;カルボン酸変性ビスフェノールA/ウレタン型エポキシアクリレート(日本化薬株式会社製)
Figure 2020059500
KAYARAD ZAR-2001H; Bisphenol A type reactive polycarboxylic acid resin (manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.)
KAYARAD ZFR-1554H; Bisphenol F-type reactive polycarboxylic acid resin (manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.)
KAYARAD ZCR-1761H; Biphenyl aralkyl type reactive polycarboxylic acid resin (manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd., represented by formula (4) and having a structure in which Ar is formula (6))
KAYARAD UXE-3024H; Carboxylic acid-modified bisphenol A / urethane type epoxy acrylate (manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.)

(実施例5、参考例5、比較例5):ドライフィルム型レジスト組成物
実施例3、4、参考例3、4、及び比較例4で得られた各反応性ポリカルボン酸樹脂混合物溶液56.73gのそれぞれに対して、その他反応性化合物(C)としてDPCA−60(商品名:日本化薬(株)製多官能アクリレート)5.67g、光重合開始剤としてイルガキュア907(BASF社製)を2.92g及びカヤキュアーDETX−S(日本化薬(株)製)を0.58g、硬化成分としてNC−3000H(日本化薬(株)製)を17.54g、熱硬化触媒としてメラミンを0.73g及び濃度調整溶剤としてプロピレングリコールモノメチルエーテルモノアセテートを5.67g加え、ビーズミルにて混練し均一に分散させレジスト樹脂組成物を得た。
得られた組成物をワイヤーバーコータ#20を用い、支持フィルムとなるポリエチレンテレフタレートフィルムに均一に塗布し、温度70℃の熱風乾燥炉を通過させ、厚さ20μmの樹脂層を形成した後、この樹脂層上に保護フィルムとなるポリエチレンフィルムを貼り付け、ドライフィルムを得た。得られたドライフィルムをポリイミドプリント基板(銅回路厚:12μm、ポリイミドフィルム厚:25μm)に、温度80℃の加熱ロールを用いて、保護フィルムを剥離しながら樹脂層を基板全面に貼り付けた。
(Example 5, Reference Example 5, Comparative Example 5): Dry film type resist composition Solutions of each reactive polycarboxylic acid resin mixture obtained in Examples 3, 4, Reference Examples 3, 4, and Comparative Example 4 56. For each of .73 g, DPCA-60 (trade name: polyfunctional acrylate manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.) 5.67 g as the other reactive compound (C), and Irgacure 907 (manufactured by BASF) as the photopolymerization initiator. 2.92 g and KayaCure DETX-S (manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.) 0.58 g, NC-3000H (manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.) 17.54 g as a curing component, and 0 melamine as a heat curing catalyst. .73 g and 5.67 g of propylene glycol monomethyl ether monoacetate as a concentration adjusting solvent were added and kneaded with a bead mill to uniformly disperse to obtain a resist resin composition.
The obtained composition was uniformly applied to a polyethylene terephthalate film to be a support film using a wire bar coater # 20, passed through a hot air drying furnace at a temperature of 70 ° C. to form a resin layer having a thickness of 20 μm, and then this was formed. A polyethylene film serving as a protective film was attached on the resin layer to obtain a dry film. The obtained dry film was applied to a polyimide printed circuit board (copper circuit thickness: 12 μm, polyimide film thickness: 25 μm) using a heating roll at a temperature of 80 ° C., and a resin layer was attached to the entire surface of the substrate while peeling off the protective film.

次いで、紫外線露光装置((株)オーク製作所、型式HMW−680GW)を用い回路パターンの描画されたマスク及び感度を見積もるために、コダック製ステップタブレットNo.2を通して500mJ/cm2の紫外線を照射した。その後、ドライフィルム上のフィルムを剥離し剥離状態を確認した。その後、1%炭酸ナトリウム水溶液でスプレー現像を行って紫外線未照射部の樹脂を除去した。水洗乾燥した後、プリント基板を150℃の熱風乾燥器で60分加熱硬化反応させ硬化膜を得た。Next, in order to estimate the mask on which the circuit pattern was drawn and the sensitivity using an ultraviolet exposure device (ORC Manufacturing Co., Ltd., model HMW-680GW), Kodak Step Tablet No. The ultraviolet rays of 500 mJ / cm 2 were irradiated through 2. Then, the film on the dry film was peeled off and the peeled state was confirmed. Then, spray development was carried out with a 1% aqueous sodium carbonate solution to remove the resin in the ultraviolet-unirradiated portion. After washing and drying with water, the printed circuit board was heat-cured for 60 minutes in a hot air dryer at 150 ° C. to obtain a cured film.

[絶縁信頼性に関する評価]
基板(ポリイミドフィルム)上に形成された櫛歯型電極(材質:銅、パターンピッチ:18μm、L/S=100μm/100μm)の上に、作成したレジスト樹脂組成物を20μmの膜厚で塗布して80℃で30分プリベークを行った後、500mJ/cm2で露光、150℃で1時間加熱硬化させて試験片を得た。加熱後の試験片を130℃及び湿度85%の槽(ETAC PLAMOUBT HAST CHAMBER PM220 楠本化成(株))へ入れ、マイグレーションテスター(ETAC SIR−13mini 楠本化成(株))を用いて電極間に100Vの直流電圧を印加して、電極間の抵抗を測定した。絶縁信頼性を以下の基準で判定した。○、△の判定基準の場合に、絶縁信頼性は合格と判断され、実使用に支障が無い絶縁性保持性があり、絶縁信頼性に優れている。
[Evaluation of insulation reliability]
The prepared resist resin composition is applied to a thickness of 20 μm on a comb-tooth type electrode (material: copper, pattern pitch: 18 μm, L / S = 100 μm / 100 μm) formed on a substrate (polyimide film). After prebaking at 80 ° C. for 30 minutes, it was exposed at 500 mJ / cm 2 and heat-cured at 150 ° C. for 1 hour to obtain a test piece. The heated test piece was placed in a tank (ETAC PLAMOUBT HAST CHAMBER PM220 Kusumoto Kasei Co., Ltd.) at 130 ° C. and 85% humidity, and a migration tester (ETAC SIR-13mini Kusumoto Kasei Co., Ltd.) was used to connect the electrodes to 100 V. A DC voltage was applied and the resistance between the electrodes was measured. The insulation reliability was judged according to the following criteria. In the case of the judgment criteria of ◯ and Δ, the insulation reliability is judged to be acceptable, the insulation retention is not hindered in actual use, and the insulation reliability is excellent.

[絶縁信頼性の判定基準]
○ : 抵抗が1×109Ω以上で100時間以上持続し、絶縁性が非常に良好
△ : 抵抗が1×108Ω以上、1×109Ω未満で100時間以上持続し、絶縁性が良好
× : 100時間未満で抵抗が1×108Ω未満に低下し、絶縁不良とみなされる
[Criteria for insulation reliability]
◯: Resistance lasts for 100 hours or more when the resistance is 1 × 10 9 Ω or more, and the insulation is very good. Δ: Resistance lasts for 100 hours or more when the resistance is 1 × 10 8 Ω or more and less than 1 × 10 9 Ω, and the insulation is very good. good ×: less than 100 hours in the resistance drops below 1 × 10 8 Ω, it is considered poor insulation

[感度評価]
感度は、ステップタブレットを透過した露光部に、何段目の濃度部分までが現像時に残存したかで判定した。段数(値)が大きいほうがタブレットの濃部で高感度と判定される(単位:段)。
[Sensitivity evaluation]
The sensitivity was determined based on the number of steps of the density portion remaining in the exposed portion transmitted through the step tablet during development. The larger the number of stages (value), the higher the sensitivity is judged in the dark part of the tablet (unit: stage).

[現像性評価]
現像性は、パターンマスクを透過した露光部を現像する際に、パターン形状部が完全に現像されきるまでの時間、いわゆるブレイクタイムをもって現像性の評価とした(単位:秒)。
[Developability evaluation]
The developability was evaluated based on the so-called break time, which is the time until the pattern shape portion is completely developed when the exposed portion transmitted through the pattern mask is developed (unit: seconds).

[耐熱性の評価]
レジスト樹脂組成物をポリイミドフィルムに均一に塗布し、温度80℃の熱風乾燥炉を通過させ、厚さ20μmの樹脂層を形成した後、紫外線露光装置((株)オーク製作所、型式HMW−680GW)で露光し、硬化物を得た。作製した硬化物を幅5mmで切り出す。その後、TA instruments製粘弾性測定装置RSA−G2にセットし、空気雰囲気中、周波数10Hz、昇温速度2℃/min.でtanδを測定し、tanδの最大値における温度をTgとした。
[Evaluation of heat resistance]
The resist resin composition is uniformly applied to the polyimide film, passed through a hot air drying furnace at a temperature of 80 ° C. to form a resin layer having a thickness of 20 μm, and then an ultraviolet exposure apparatus (Oak Manufacturing Co., Ltd., model HMW-680GW). To obtain a cured product. The produced cured product is cut out with a width of 5 mm. After that, it was set in a viscoelasticity measuring device RSA-G2 manufactured by TA instruments, and the frequency was 10 Hz and the temperature rising rate was 2 ° C./min in an air atmosphere. The temperature at the maximum value of tan δ was taken as Tg.

Figure 2020059500
Figure 2020059500

上記の結果から、本発明の反応性ポリカルボン酸樹脂混合物を用いたレジスト材料組成物は、それぞれ比較用の反応性ポリカルボン酸樹脂の混合物を用いた組成物に比べて、良好なレジスト物性を有していることが確認された。 From the above results, the resist material composition using the reactive polycarboxylic acid resin mixture of the present invention has better resist physical characteristics than the composition using the mixture of the reactive polycarboxylic acid resins for comparison. It was confirmed that it had.

(実施例6、参考例6、比較例6):顔料分散性に関する評価
実施例3、参考例3、及び比較例4で得られた各反応性ポリカルボン酸樹脂混合物等20gのそれぞれに対して、成分(C)としてDPHA(商品名:日本化薬(株)製アクリレート単量体)5.0g、有機溶剤としてプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート10g、着色顔料として三菱カーボンブラックMA−100を15g又は10g加え、攪拌した。さらに35gのガラスビーズを入れ、ペイントシェーカで1時間分散を行った。分散終了後の分散液を、ワイヤーバーコータ#2でポリエチレンテレフタレートフィルム上に塗工し、80℃の温風乾燥機で10分間乾燥を行った。乾燥終了後の塗膜表面の光沢を60°反射グロス計(堀場製作所IG−331光沢計)を用いて測定し、カーボンブラックの分散性を評価した。表8に結果を示す。光沢の値が高いほど、顔料分散性は良好である。
(Example 6, Reference Example 6, Comparative Example 6): Evaluation of Pigment Dispersibility For each of 20 g of each reactive polycarboxylic acid resin mixture obtained in Example 3, Reference Example 3, and Comparative Example 4. , DPHA (trade name: acrylate monomer manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.) 5.0 g as component (C), propylene glycol monomethyl ether acetate 10 g as organic solvent, and Mitsubishi Carbon Black MA-100 as coloring pigment 15 g or 10 g. In addition, it was stirred. Further, 35 g of glass beads were added and dispersed with a paint shaker for 1 hour. The dispersion liquid after completion of the dispersion was coated on a polyethylene terephthalate film with a wire bar coater # 2, and dried in a warm air dryer at 80 ° C. for 10 minutes. The gloss of the coating film surface after drying was measured using a 60 ° reflection gloss meter (HORIBA, Ltd. IG-331 gloss meter), and the dispersibility of carbon black was evaluated. The results are shown in Table 8. The higher the gloss value, the better the pigment dispersibility.

Figure 2020059500
Figure 2020059500

上記の結果から、実施例3で得られた反応性ポリカルボン酸樹脂混合物を含む樹脂組成物から得られる塗膜は、着色顔料の含有量が多い場合でも、光沢の値に変化がなかった。本発明の反応性ポリカルボン酸樹脂混合物の顔料分散性は現像性、耐熱性が向上するにも関わらず着色顔料の含有量に依存することなく、優れていることが確認できた。 From the above results, the coating film obtained from the resin composition containing the reactive polycarboxylic acid resin mixture obtained in Example 3 did not change the gloss value even when the content of the coloring pigment was large. It was confirmed that the pigment dispersibility of the reactive polycarboxylic acid resin mixture of the present invention is excellent regardless of the content of the coloring pigment, although the developability and heat resistance are improved.

以上より、本発明の反応性ポリカルボン酸樹脂混合物を用いた活性エネルギー線硬化型樹脂組成物の硬化物は、耐熱性に優れ、微細にアルカリ現像可能かつ絶縁信頼性が良好であることから成形用材料、皮膜形成用材料、レジスト材料、層間絶縁材料に好適である。特に、高い顔料濃度においても良好な現像性を発揮することから、カラーレジスト、カラーフィルタ用のレジスト材料、特にブラックマトリックス材料、ブラックカラムスペーサー材料等に適している。 Based on the above, the cured product of the active energy ray-curable resin composition using the reactive polycarboxylic acid resin mixture of the present invention has excellent heat resistance, can be finely alkaline-developed, and has good insulation reliability. Suitable for materials for film formation, resist materials, and interlayer insulating materials. In particular, since it exhibits good developability even at a high pigment concentration, it is suitable for color resists, resist materials for color filters, particularly black matrix materials, black column spacer materials, and the like.

本出願は、2018年9月18日出願の日本特許出願(特願2018−173665)、及び、2018年10月11日出願の日本特許出願(特願2018−192527)に基づくものであり、それらの内容はここに参照として取り込まれる。 This application is based on a Japanese patent application filed on September 18, 2018 (Japanese Patent Application No. 2018-173665) and a Japanese patent application filed on October 11, 2018 (Japanese Patent Application No. 2018-192527). The contents of are taken here as a reference.

Claims (12)

下記式(1)で表されるエポキシ樹脂(a)、一分子中に重合可能なエチレン性不飽和基とカルボキシ基を併せ持つ化合物(b)、及び必要に応じて一分子中に水酸基とカルボキシ基を併せ持つ化合物(c)を反応させて得られる反応物である反応性エポキシカルボキシレート樹脂と、多塩基酸無水物(d)との反応物である反応性ポリカルボン酸樹脂、並びに、
前記エポキシ樹脂(a)とは異なるエポキシ樹脂(a’)、前記化合物(b)、及び必要に応じて前記化合物(c)を反応させて得られる反応物である反応性エポキシカルボキシレート樹脂と、前記多塩基酸無水物(d)との反応物である反応性ポリカルボン酸樹脂であって、前記エポキシ樹脂(a’)が下記式(2)〜式(4)のいずれかで表されるエポキシ樹脂である反応性ポリカルボン酸樹脂、
を含む反応性ポリカルボン酸樹脂混合物。
Figure 2020059500
(式(1)中、R1は同一でも異なっていてもよく、水素原子、ハロゲン原子又は炭素数1〜4の炭化水素基を示し、nは1〜10の整数を示す。)
Figure 2020059500
(式(2)中、pは0〜2の整数を示す。)
Figure 2020059500
(式(3)中、mは0〜30の整数を示す。)
Figure 2020059500
(式(4)中、Arはそれぞれ独立して式(5)又は式(6)のいずれかであり、式(5)と式(6)のモル比率は式(5)/式(6)=1〜3である。qは繰り返し数であり、0〜5の整数である。rは価数を表し、1又は2である。)
An epoxy resin (a) represented by the following formula (1), a compound (b) having a polymerizable ethylenically unsaturated group and a carboxy group in one molecule, and a hydroxyl group and a carboxy group in one molecule as needed. A reactive epoxy carboxylate resin which is a reaction product obtained by reacting the compound (c) having both of the above, a reactive polycarboxylic acid resin which is a reaction product of the polybasic acid anhydride (d), and
An epoxy resin (a') different from the epoxy resin (a), the compound (b), and a reactive epoxy carboxylate resin which is a reaction product obtained by reacting the compound (c) as needed. A reactive polycarboxylic acid resin which is a reaction product with the polybasic acid anhydride (d), and the epoxy resin (a') is represented by any of the following formulas (2) to (4). Reactive polycarboxylic acid resin, which is an epoxy resin,
Reactive polycarboxylic acid resin mixture containing.
Figure 2020059500
(In the formula (1), R 1 may be the same or different, and represents a hydrogen atom, a halogen atom or a hydrocarbon group having 1 to 4 carbon atoms, and n represents an integer of 1 to 10.)
Figure 2020059500
(In equation (2), p indicates an integer from 0 to 2.)
Figure 2020059500
(In equation (3), m represents an integer from 0 to 30.)
Figure 2020059500
(In the formula (4), Ar is either the formula (5) or the formula (6) independently, and the molar ratio of the formula (5) and the formula (6) is the formula (5) / the formula (6). = 1-3. Q is the number of repetitions and is an integer from 0 to 5. r represents the valence and is 1 or 2.)
前記エポキシ樹脂(a)及び前記エポキシ樹脂(a’)の混合物、前記化合物(b)、及び必要に応じて前記成分(c)を反応させて得られる反応物である反応性エポキシカルボキシレート樹脂混合物と、前記多塩基酸無水物(d)との反応物である、
請求項1に記載の反応性ポリカルボン酸樹脂混合物。
A reactive epoxy carboxylate resin mixture that is a reaction product obtained by reacting the epoxy resin (a) and the epoxy resin (a'), the compound (b), and the component (c) if necessary. And the reaction product with the polybasic acid anhydride (d).
The reactive polycarboxylic acid resin mixture according to claim 1.
請求項1又は2に記載の反応性ポリカルボン酸樹脂混合物を含む、活性エネルギー線硬化型樹脂組成物。 An active energy ray-curable resin composition containing the reactive polycarboxylic acid resin mixture according to claim 1 or 2. さらに、反応性化合物(C)を含み、
前記反応性化合物(C)が、ラジカル反応型のアクリレート類、カチオン反応型のエポキシ化合物類、これら双方に感応するビニル化合物類、又は、活性エネルギー線に感応可能な官能基を有する反応性オリゴマー類である、
請求項3に記載の活性エネルギー線硬化型樹脂組成物。
In addition, it contains the reactive compound (C) and contains
The reactive compound (C) is a radical-reactive acrylate, a cationic-reactive epoxy compound, a vinyl compound that is sensitive to both of these, or a reactive oligomer having a functional group that is sensitive to active energy rays. Is,
The active energy ray-curable resin composition according to claim 3.
さらに、光重合開始剤を含む、
請求項3又は4に記載の活性エネルギー線硬化型樹脂組成物。
In addition, it contains a photopolymerization initiator,
The active energy ray-curable resin composition according to claim 3 or 4.
さらに、着色顔料を含む、
請求項3乃至5のいずれか1項に記載の活性エネルギー線硬化型樹脂組成物。
In addition, it contains colored pigments,
The active energy ray-curable resin composition according to any one of claims 3 to 5.
成形用材料である請求項3乃至6のいずれか1項に記載の活性エネルギー線硬化型樹脂組成物。 The active energy ray-curable resin composition according to any one of claims 3 to 6, which is a molding material. 皮膜形成用材料である請求項3乃至6のいずれか1項に記載の活性エネルギー線硬化型樹脂組成物。 The active energy ray-curable resin composition according to any one of claims 3 to 6, which is a material for forming a film. レジスト材料組成物である請求項3乃至6のいずれか一項に記載の活性エネルギー線硬化型樹脂組成物。 The active energy ray-curable resin composition according to any one of claims 3 to 6, which is a resist material composition. 請求項3乃至9のいずれか1項に記載の活性エネルギー線硬化型樹脂組成物の硬化物。 A cured product of the active energy ray-curable resin composition according to any one of claims 3 to 9. 請求項10に記載の硬化物でオーバーコートされた物品。 An article overcoated with the cured product according to claim 10. 下記式(1)で表されるエポキシ樹脂(a)に、一分子中に重合可能なエチレン性不飽和基とカルボキシ基を併せ持つ化合物(b)と、必要に応じて一分子中に水酸基とカルボキシ基を併せ持つ化合物(c)を反応させて得られる反応物である反応性エポキシカルボキシレート樹脂、及び、
下記式(2)〜式(4)で表されるエポキシ樹脂の群から選ばれる1種以上であるエポキシ樹脂に、前記化合物(b)と、必要に応じて前記化合物(c)を反応させて得られる反応物である反応性エポキシカルボキシレート樹脂、
を含む反応性エポキシカルボキシレート樹脂混合物。
Figure 2020059500
(式(1)中、R1は同一でも異なっていてもよく、水素原子、ハロゲン原子又は炭素数1〜4の炭化水素基を示し、nは1〜10の整数を示す。)
Figure 2020059500
(式(2)中、nは0〜2の整数を示す。)
Figure 2020059500
(式(3)中、mは0〜30の整数を示す。)
Figure 2020059500
(式(4)中、Arはそれぞれ独立して式(5)又は式(6)のいずれかであり、式(5)と式(6)のモル比率は式(5)/式(6)=1〜3である。qは繰り返し数であり、0〜5の整数である。rは価数を表し、1又は2である。)
A compound (b) having both an ethylenically unsaturated group and a carboxy group that can be polymerized in one molecule is added to the epoxy resin (a) represented by the following formula (1), and a hydroxyl group and a carboxy group are contained in one molecule if necessary. Reactive epoxy carboxylate resin, which is a reactant obtained by reacting compound (c) having a group, and
The compound (b) is reacted with the compound (c), if necessary, with one or more epoxy resins selected from the group of epoxy resins represented by the following formulas (2) to (4). Reactive epoxy carboxylate resin, which is the resulting reactant,
Reactive epoxy carboxylate resin mixture containing.
Figure 2020059500
(In the formula (1), R 1 may be the same or different, and represents a hydrogen atom, a halogen atom or a hydrocarbon group having 1 to 4 carbon atoms, and n represents an integer of 1 to 10.)
Figure 2020059500
(In equation (2), n represents an integer of 0 to 2.)
Figure 2020059500
(In equation (3), m represents an integer from 0 to 30.)
Figure 2020059500
(In the formula (4), Ar is either the formula (5) or the formula (6) independently, and the molar ratio of the formula (5) and the formula (6) is the formula (5) / the formula (6). = 1-3. Q is the number of repetitions and is an integer from 0 to 5. r represents the valence and is 1 or 2.)
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