JPWO2020050321A1 - Composition for Volume Hologram Recording Material Containing Triazine Ring-Containing Hyperbranched Polymer - Google Patents

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Abstract

【課題】光散乱損失が極めて低く、回折効率の高いホログラムを永続的に形成できる体積ホログラム記録材料用組成物、及び該組成物を用いたホログラム記録媒体を提供する。【解決手段】パターン露光によってパターンを形成するために使用される体積ホログラム記録材料用組成物であって、(a)(メタ)アクリル酸ヒドロキシアルキル、(b)(a)成分とは異なる重合性化合物、(c)トリアジン環含有ハイパーブランチポリマー及び(d)光重合開始剤を含む体積ホログラム記録材料用組成物及び該組成物を用いたホログラム記録媒体。【選択図】なしPROBLEM TO BE SOLVED: To provide a composition for a volume hologram recording material capable of permanently forming a hologram having extremely low light scattering loss and high diffraction efficiency, and a hologram recording medium using the composition. A composition for a volume hologram recording material used for forming a pattern by pattern exposure, which is different from the (a) (meth) hydroxyalkyl acrylate and (b) (a) components. A composition for a volumetric hologram recording material containing a compound, (c) a triazine ring-containing hyperbranched polymer and (d) a photopolymerization initiator, and a hologram recording medium using the composition. [Selection diagram] None

Description

本発明は、パターン露光することにより、組成物中の各成分に移動が生じ、各成分の空間分布が変化したパターンを形成できる体積ホログラム記録材料用組成物、及び該組成物を用いたパターンの形成方法に関する。また、当該ホログラム記録材料用組成物を含む体積ホログラム記録層並びに当該記録層を備える体積ホログラム記録媒体に関する。 According to the present invention, a composition for a volume hologram recording material capable of forming a pattern in which each component in the composition is moved by pattern exposure and the spatial distribution of each component is changed, and a pattern using the composition. Regarding the formation method. The present invention also relates to a volume hologram recording layer containing the composition for the hologram recording material and a volume hologram recording medium including the recording layer.

ホログラフィック回折格子(ホログラム)は、光の明暗(干渉)パターンを感光材料等に屈折率あるいは吸収率のパターンとして記録したものであり、多機能を有することから回折光学素子、ホログラフィック光メモリ、狭帯域波長フィルター、フォトニック結晶、光導波路結合器、光インターコネクション、立体画像ディスプレイ、ヘッドアップディスプレイなど、フォトニクスや情報ディスプレイ等の幅広い分野において数多くの応用が報告されている。これら応用分野では、通常、大きな屈折率変化と高い記録感度が要求される。 A holographic diffraction grating (hologram) is a light-dark (interference) pattern recorded on a photosensitive material or the like as a pattern of refractive index or absorptivity. Numerous applications have been reported in a wide range of fields such as photonics and information displays, such as band wavelength filters, photonic crystals, optical waveguide couplers, optical interconnections, stereoscopic image displays, and head-up displays. These application fields usually require a large change in refractive index and high recording sensitivity.

従来の代表的なホログラム記録材料用組成物としては、重クロム酸ゼラチン感光材料や、漂白処理した銀塩感光材料が使用されてきた。これらは高い回折効率を持つが、ホログラム作成時の処理が複雑で、特に湿式現像処理が必要であるという欠点があった。
かかる欠点を克服する乾式のホログラム感光材料として、デュポン社のオムニデックスシリーズが広く知られている。この材料はラジカル重合モノマーとバインダーポリマー、光ラジカル重合開始剤及び増感色素を主成分として、ラジカル重合モノマーとバインダーポリマーの屈折率差を利用してホログラムを記録するものである。すなわち、フィルム状に形成された該感光性組成物を干渉露光すると、光が強い部分にてラジカル重合が開始され、それに伴いラジカル重合モノマーの濃度勾配ができ、光が弱い部分から強い部分にラジカル重合モノマーの拡散移動が起こる。結果として干渉光の強弱に応じて、ラジカル重合モノマー密度及び重合したポリマーの密度の疎密ができ、それらとバインダーポリマーの屈折率の差としてホログラムが形成される。この材料系は現状報告されているホログラム用フォトポリマーとしては高性能であるが、30μm程度の厚みに限定されること、そして、耐熱性、透明性に問題がある点が指摘されている。
As a conventional composition for a typical hologram recording material, a gelatin dichromate photosensitive material and a bleached silver salt photosensitive material have been used. Although these have high diffraction efficiency, they have a drawback that the processing at the time of creating a hologram is complicated and a wet development processing is particularly required.
DuPont's Omnidex series is widely known as a dry hologram photosensitive material that overcomes these drawbacks. This material contains a radical polymerization monomer and a binder polymer, a photoradical polymerization initiator and a sensitizing dye as main components, and records a hologram by utilizing the difference in refractive index between the radical polymerization monomer and the binder polymer. That is, when the photosensitive composition formed in the form of a film is subjected to interference exposure, radical polymerization is started in a portion where light is strong, and a concentration gradient of a radical polymerization monomer is formed accordingly, and radicals are formed from a portion where light is weak to a portion where light is strong. Diffusion movement of the polymerization monomer occurs. As a result, the density of the radical polymerization monomer and the density of the polymerized polymer can be sparse depending on the intensity of the interference light, and a hologram is formed as the difference in the refractive index between them and the binder polymer. Although this material system has high performance as a photopolymer for holograms currently reported, it has been pointed out that the thickness is limited to about 30 μm, and that there are problems in heat resistance and transparency.

また、ラジカル重合とカチオン重合を併用した材料系(特許文献1参照)や、カチオン重合を利用した材料系(特許文献2参照)が報告されているが、これらはお互いのポリマー同士が分子レベルで相溶しないため、この材料系で形成されたホログラム記録膜は相分離による透明性の低下が生じ、それに基づく散乱損失の増大などの問題点がある。さらに機械的強度及び環境安定性に関し未だ不十分である。 Further, a material system in which radical polymerization and cationic polymerization are used in combination (see Patent Document 1) and a material system in which cationic polymerization is used (see Patent Document 2) have been reported. Since they are incompatible with each other, the hologram recording film formed of this material system has problems such as a decrease in transparency due to phase separation and an increase in scattering loss due to the decrease in transparency. Moreover, it is still inadequate in terms of mechanical strength and environmental stability.

また、無機物質ネットワークと光重合性モノマーを併用した材料系が開示されている(特許文献3参照)。ネットワークを形成し得る無機材料をバインダーとして用いる場合には、耐熱性、対環境性、機械強度に優れると共に、光重合性の有機モノマーとの屈折率差を大きく取れるという利点があるが、この材料系で形成したホログラム記録膜はどちらかと言えば脆く、柔軟性や加工性、コーティング適性に劣るという問題点、及び無機バインダーと有機モノマーとの相溶性が悪く均一な塗工材料を調製するのが困難という問題点がある。 Further, a material system in which an inorganic substance network and a photopolymerizable monomer are used in combination is disclosed (see Patent Document 3). When an inorganic material that can form a network is used as a binder, it has the advantages of being excellent in heat resistance, environmental resistance, and mechanical strength, and having a large difference in refractive index from a photopolymerizable organic monomer. The hologram recording film formed by the system is rather brittle, has problems of inferior flexibility, processability, and coating suitability, and the compatibility between the inorganic binder and the organic monomer is poor, and it is necessary to prepare a uniform coating material. There is a problem of difficulty.

また、固体マトリックスに金属超微粒子を分散した材料が、ホログラム記録材料として開示されている(特許文献4参照)。しかし、この発明ではマトリックスに流動性を持たせる必要があり、固体性が悪いだけでなく、金属粒子界面と固体マトリックスとの界面密着性が悪く、脆く、界面へ水が侵入するなどの問題がある。 Further, a material in which ultrafine metal particles are dispersed in a solid matrix is disclosed as a hologram recording material (see Patent Document 4). However, in the present invention, it is necessary to give the matrix fluidity, and not only the solidity is poor, but also the interface adhesion between the metal particle interface and the solid matrix is poor, it is brittle, and water penetrates into the interface. be.

また、有機−無機ハイブリッドポリマーと光重合反応性基を有する有機金属微粒子を用いたホログラム記録材料が開示されている(特許文献5参照)。しかし、この発明では干渉縞を固定する為に加熱及び紫外線重合が必要となり、工業プロセスとして課題がある。 Further, a hologram recording material using an organic-inorganic hybrid polymer and organic metal fine particles having a photopolymerization reactive group is disclosed (see Patent Document 5). However, in the present invention, heating and ultraviolet polymerization are required to fix the interference fringes, which poses a problem as an industrial process.

より簡便な方法でホログラム記録を行う材料として、無機微粒子を光重合性モノマーに分散させたホログラム記録材料が開示されている(特許文献6、特許文献7及び非特許文献1参照)。
また、エチレン性不飽和基を有するエン化合物及びメルカプト基を有するチオール化合物の混合物に微粒子を分散することにより、低収縮なホログラム記録材料が開示されている(特許文献8)。
さらに、トリアジン環含有ハイパーブランチポリマーを含む体積ホログラム記録材料用組成物が開示されている(特許文献9)。
しかしこれらの材料においても、十分な回折効率が得られていないという課題がある。
As a material for performing hologram recording by a simpler method, a hologram recording material in which inorganic fine particles are dispersed in a photopolymerizable monomer is disclosed (see Patent Document 6, Patent Document 7 and Non-Patent Document 1).
Further, a low shrinkage hologram recording material is disclosed by dispersing fine particles in a mixture of an ene compound having an ethylenically unsaturated group and a thiol compound having a mercapto group (Patent Document 8).
Further, a composition for a volume hologram recording material containing a triazine ring-containing hyperbranched polymer is disclosed (Patent Document 9).
However, even with these materials, there is a problem that sufficient diffraction efficiency is not obtained.

特開平5−107999号公報Japanese Unexamined Patent Publication No. 5-107999 米国特許第5759721号明細書U.S. Pat. No. 5,579,721 特開平6−019040号公報Japanese Unexamined Patent Publication No. 6-019040 特表2000−508783号公報Special Table 2000-5087883 特開2002−236440号公報JP-A-2002-236440 特開2003−084651号公報Japanese Unexamined Patent Publication No. 2003-084651 特開2005−099612号公報Japanese Unexamined Patent Publication No. 2005-099612 特開2010−250246号公報Japanese Unexamined Patent Publication No. 2010-250246 特開2014−197191号公報Japanese Unexamined Patent Publication No. 2014-197191

アプライド・フィジックス・レターズ(Appl.Phys.Lett.),2002年,第81巻,p.4121−4123Applied Physics Letters (Appl. Phys. Lett.), 2002, Vol. 81, p. 4121-4123

本発明は、体積ホログラム記録材料において、凝集性が低く、極めて高い屈折率を有するトリアジン環含有ハイパーブランチポリマーを微粒子として用い、かつ、該ハイパーブランチポリマーを分散・溶解可能な成分として(メタ)アクリル酸ヒドロキシアルキルを他の重合性成分とともに配合することにより、光散乱損失が極めて低く、回折効率の高いホログラムを永続的に形成できる体積ホログラム記録材料用組成物、及び該組成物を用いたホログラム記録媒体を提供することを目的とする。 The present invention uses a triazine ring-containing hyperbranched polymer having low cohesiveness and an extremely high refractive index as fine particles in a volume hologram recording material, and (meth) acrylic as a component capable of dispersing and dissolving the hyperbranched polymer. A composition for a volumetric hologram recording material capable of permanently forming a hologram having extremely low light scattering loss and high diffraction efficiency by blending hydroxyalkyl acid acid together with other polymerizable components, and hologram recording using the composition. The purpose is to provide a medium.

本発明者らは、上記目的を達成するために鋭意検討を行った結果、本発明を見出すに至った。
すなわち、第1観点として、パターン露光によってパターンを形成するために使用される体積ホログラム記録材料用組成物であって、
(a)(メタ)アクリル酸ヒドロキシアルキル、
(b)(a)成分とは異なる重合性化合物、
(c)トリアジン環含有ハイパーブランチポリマー及び
(d)光重合開始剤
を含む体積ホログラム記録材料用組成物に関する。
第2観点として、前記(a)成分、前記(b)成分、及び前記(c)成分の合計体積に占める前記(c)成分の割合が、3体積%以上、50体積%以下である、第1観点に記載の体積ホログラム記録材料用組成物に関する。
第3観点として、前記パターン露光が干渉露光であり、該干渉露光によりホログラムを形成するために使用される、第1観点又は第2観点に記載の体積ホログラム記録材料用組成物に関する。
第4観点として、前記(b)(a)成分とは異なる重合性化合物が多官能(メタ)アクリレートである、第1観点乃至第3観点のうち何れか一項に記載の体積ホログラム記録材料用組成物に関する。
第5観点として、第1観点乃至第4観点のうち何れか1項に記載の体積ホログラム記録材料用組成物を含む体積ホログラム記録層に関する。
第6観点として、第5観点に記載の体積ホログラム記録層を含む体積ホログラム記録媒体に関する。
第7観点として、体積ホログラム記録層が、各々平面を有しそれら平面が対面する2枚の透明基体間に配置された構造である、第6観点に記載の体積ホログラム記録媒体に関する。
第8観点として、第1観点乃至第4観点のうち何れか一項に記載の体積ホログラム記録材料用組成物を、支持体に塗布し塗布膜を形成する工程、及び前記塗布膜にパターン露光する工程を含む、パターンの形成方法に関する。
第9観点として、前記パターン露光が干渉露光である、第8観点に記載のパターンの形成方法に関する。
The present inventors have found the present invention as a result of diligent studies to achieve the above object.
That is, as a first aspect, it is a composition for a volume hologram recording material used for forming a pattern by pattern exposure.
(A) (Meta) hydroxyalkyl acrylate,
(B) A polymerizable compound different from the component (a),
The present invention relates to a composition for a volume hologram recording material containing (c) a triazine ring-containing hyperbranched polymer and (d) a photopolymerization initiator.
As a second aspect, the ratio of the component (c) to the total volume of the component (a), the component (b), and the component (c) is 3% by volume or more and 50% by volume or less. It relates to the composition for a volume hologram recording material according to 1 viewpoint.
As a third aspect, the composition for a volume hologram recording material according to the first aspect or the second aspect, wherein the pattern exposure is an interference exposure and is used for forming a hologram by the interference exposure.
As a fourth aspect, the volume hologram recording material according to any one of the first to third aspects, wherein the polymerizable compound different from the components (b) and (a) is a polyfunctional (meth) acrylate. Regarding the composition.
As a fifth aspect, the present invention relates to a volume hologram recording layer containing the composition for a volume hologram recording material according to any one of the first to fourth aspects.
As a sixth aspect, the present invention relates to a volume hologram recording medium including the volume hologram recording layer according to the fifth aspect.
A seventh aspect is the volume hologram recording medium according to the sixth aspect, wherein the volume hologram recording layer has a structure in which each has a plane and is arranged between two transparent substrates facing the planes.
As an eighth viewpoint, a step of applying the composition for a volume hologram recording material according to any one of the first to fourth viewpoints to a support to form a coating film, and pattern exposure to the coating film. It relates to a method of forming a pattern including a step.
As a ninth aspect, the method for forming a pattern according to the eighth aspect, wherein the pattern exposure is interference exposure.

本発明によれば、微粒子として、凝集性が低く極めて高い屈折率を有するトリアジン環含有ハイパーブランチポリマーを(メタ)アクリル酸ヒドロキシアルキルとともにその他の重合性化合物などの重合性成分中に分散させることにより、光散乱損失が低く、回折効率の高いホログラムを永続的に形成できる体積ホログラム記録材料用組成物、及び体積ホログラム記録媒体を提供することができる。 According to the present invention, as fine particles, a triazine ring-containing hyperbranched polymer having low cohesiveness and an extremely high refractive index is dispersed together with hydroxyalkyl (meth) acrylate in a polymerizable component such as another polymerizable compound. It is possible to provide a composition for a volumetric hologram recording material capable of permanently forming a hologram having low light scattering loss and high diffraction efficiency, and a volumetric hologram recording medium.

図1は、製造例1で得られたHB−TmDAのH NMRスペクトルを示す図である。 FIG. 1 is a diagram showing a 1 H NMR spectrum of HB-TmDA obtained in Production Example 1. 図2は、実施例で使用した体積ホログラム記録装置(記録/再生波長532nm)である。FIG. 2 is a volume hologram recording device (recording / reproducing wavelength 532 nm) used in the examples. 図3は、実施例1の体積ホログラム記録媒体((a)成分:4HBA、HB−TmDAの体積分率:19.6体積%)を用いて得られた、露光時間(秒)に対する屈折率変調量Δnの変化を示す図である。FIG. 3 shows the refractive index modulation with respect to the exposure time (seconds) obtained by using the volume hologram recording medium of Example 1 ((a) component: 4HBA, volume fraction of HB-TmDA: 19.6% by volume). It is a figure which shows the change of the quantity Δn. 図4は、比較例1の体積ホログラム記録媒体((a)成分:THFA+NVP、HB−TmDAの体積分率:19.9体積%)を用いて得られた、露光時間(秒)に対する屈折率変調量Δnの変化を示す図である。FIG. 4 shows the refractive index modulation with respect to the exposure time (seconds) obtained by using the volume hologram recording medium of Comparative Example 1 ((a) component: THFA + NVP, volume fraction of HB-TmDA: 19.9% by volume). It is a figure which shows the change of the quantity Δn. 図5は、実施例2の体積ホログラム記録媒体(HB−TmDAの体積分率:15.1体積%)を用いて得られた、露光時間(秒)に対する屈折率変調量Δnの変化を示す図である。FIG. 5 is a diagram showing a change in the refractive index modulation amount Δn with respect to the exposure time (seconds) obtained by using the volume hologram recording medium of Example 2 (volume fraction of HB-TmDA: 15.1% by volume). Is. 図6は、実施例3の体積ホログラム記録媒体(HB−TmDAの体積分率:20.0体積%)を用いて得られた、露光時間(秒)に対する屈折率変調量Δnの変化を示す図である。FIG. 6 is a diagram showing a change in the amount of refractive index modulation Δn with respect to the exposure time (seconds) obtained by using the volume hologram recording medium of Example 3 (volume fraction of HB-TmDA: 20.0% by volume). Is. 図7は、実施例4の体積ホログラム記録媒体(HB−TmDAの体積分率:23.0体積%)を用いて得られた、露光時間(秒)に対する屈折率変調量Δnの変化を示す図である。FIG. 7 is a diagram showing a change in the amount of refractive index modulation Δn with respect to the exposure time (seconds) obtained by using the volume hologram recording medium of Example 4 (volume fraction of HB-TmDA: 23.0% by volume). Is. 図8は、実施例5の体積ホログラム記録媒体(HB−TmDAの体積分率:25.0体積%)を用いて得られた、露光時間(秒)に対する屈折率変調量Δnの変化を示す図である。FIG. 8 is a diagram showing a change in the amount of refractive index modulation Δn with respect to the exposure time (seconds) obtained by using the volume hologram recording medium of Example 5 (volume fraction of HB-TmDA: 25.0% by volume). Is. 図9は、実施例で使用した体積ホログラム記録装置(記録/再生波長640nm)である。FIG. 9 is a volume hologram recording device (recording / reproducing wavelength 640 nm) used in the examples. 図10は、実施例6の体積ホログラム記録媒体(HB−TmDAの体積分率:20.1体積%)を用いて得られた、露光時間(秒)に対する屈折率変調量Δnの変化を示す図である。FIG. 10 is a diagram showing a change in the amount of refractive index modulation Δn with respect to the exposure time (seconds) obtained by using the volume hologram recording medium of Example 6 (volume fraction of HB-TmDA: 20.1% by volume). Is.

本発明の体積ホログラム記録材料用組成物は、(a)(メタ)アクリル酸ヒドロキシアルキル、(b)(a)成分とは異なる重合性化合物、(c)トリアジン環含有ハイパーブランチポリマー及び(d)光重合開始剤を含みて構成される。
以下、本発明の体積ホログラム記録材料用組成物に含まれる各成分について説明する。
The composition for volumetric hologram recording material of the present invention comprises (a) (meth) hydroxyalkyl acrylate, (b) (a) a polymerizable compound different from the components, (c) a triazine ring-containing hyperbranched polymer, and (d). It is composed of a photopolymerization initiator.
Hereinafter, each component contained in the composition for a volume hologram recording material of the present invention will be described.

[(a)(メタ)アクリル酸ヒドロキシアルキル]
本発明における(a)(メタ)アクリル酸ヒドロキシアルキルは、後述する(c)トリアジン環含有ハイパーブランチポリマーを分散させることができ、そして後述する(b)(a)成分とは異なる重合性化合物に対して、(c)成分とともに分散し得る成分として機能する。
なお本明細書において(メタ)アクリル酸とはメタクリル酸とアクリル酸の双方を表す。
[(A) (Meta) hydroxyalkyl acrylate]
The hydroxyalkyl (a) (meth) acrylate in the present invention can disperse the (c) triazine ring-containing hyperbranched polymer described later, and is a polymerizable compound different from the components (b) (a) described later. On the other hand, it functions as a component that can be dispersed together with the component (c).
In the present specification, (meth) acrylic acid represents both methacrylic acid and acrylic acid.

上記(a)成分は、(メタ)アクリル酸アルキルエステル化合物において、該化合物のアルキル基が少なくとも1つのヒドロキシ基で置換された化合物であれば特に限定されず、該アルキル基が2以上のヒドロキシ基で置換された化合物であってもよく、また、さらにその他の置換基にて置換された化合物であってもよい。
中でも(a)成分として、アルキル基がヒドロキシ基以外に置換基を持たない(ヒドロキシ基のみでアルキル基が置換されている)(メタ)アクリル酸ヒドロキシアルキルを好適に使用でき、例えばアルキル基が1つのヒドロキシ基のみで置換された(メタ)アクリル酸モノヒドロキシアルキルを使用できる。
The component (a) is not particularly limited as long as it is a compound in which the alkyl group of the compound is substituted with at least one hydroxy group in the (meth) acrylic acid alkyl ester compound, and the alkyl group is two or more hydroxy groups. It may be a compound substituted with, or may be a compound substituted with another substituent.
Among them, as the component (a), hydroxyalkyl (meth) acrylate in which the alkyl group has no substituent other than the hydroxy group (the alkyl group is substituted only by the hydroxy group) can be preferably used, for example, the alkyl group is 1. Monohydroxyalkyl (meth) acrylate substituted with only one hydroxy group can be used.

上記(a)成分として、例えば炭素原子数1〜20のヒドロキシアルキル基を有する(メタ)アクリル酸エステル化合物が挙げられる。
炭素原子数1〜20のヒドロキシアルキル基としては、例えば、ヒドロキシメチル基、ヒドロキシエチル基、ヒドロキシプロピル基、ヒドロキシブチル基、ヒドロキシペンチル基、ヒドロキシヘキシル基、ヒドロキシヘプチル基、ヒドロキシオクチル基、ヒドロキシノニル基、ヒドロキシデシル基、ヒドロキシウンデシル基、ヒドロキシドデシル基、ヒドロキシトリデシル基、ヒドロキシテトラデシル基、ヒドロキシペンタデシル基、ヒドロキシヘキサデシル基、ヒドロキシヘプタデシル基、ヒドロキシオクタデシル基、ヒドロキシノナデシル基及びヒドロキシエイコシル基が挙げられる。これらヒドロキシアルキル基は直鎖状、分枝鎖状、環状、あるいはそれらの組合せのいずれであってもよい。
Examples of the component (a) include (meth) acrylic acid ester compounds having a hydroxyalkyl group having 1 to 20 carbon atoms.
Examples of the hydroxyalkyl group having 1 to 20 carbon atoms include a hydroxymethyl group, a hydroxyethyl group, a hydroxypropyl group, a hydroxybutyl group, a hydroxypentyl group, a hydroxyhexyl group, a hydroxyheptyl group, a hydroxyoctyl group and a hydroxynonyl group. , Hydroxydecyl group, hydroxyundecyl group, hydroxydodecyl group, hydroxytridecyl group, hydroxytetradecyl group, hydroxypentadecyl group, hydroxyhexadecyl group, hydroxyheptadecyl group, hydroxyoctadecyl group, hydroxynonadecil group and hydroxyeico A sill group can be mentioned. These hydroxyalkyl groups may be linear, branched, cyclic, or a combination thereof.

上記(a)成分の具体例を挙げると、(メタ)アクリル酸ヒドロキシメチル、(メタ)アクリル酸2−ヒドロキシエチル、(メタ)アクリル酸2−ヒドロキシプロピル、(メタ)アクリル酸2−ヒドロキシ−1−メチルエチル、(メタ)アクリル酸4−ヒドロキシブチル、(メタ)アクリル酸ヒドロキシペンチル、(メタ)アクリル酸ヒドロキシヘキシル、(メタ)アクリル酸ヒドロキシヘプチル、(メタ)アクリル酸ヒドロキシオクチル、(メタ)アクリル酸ヒドロキシノニル、(メタ)アクリル酸ヒドロキシデシル、(メタ)アクリル酸3−ヒドロキシアダマンチル、(メタ)アクリル酸ヒドロキシウンデシル、(メタ)アクリル酸ヒドロキシドデシル((メタ)アクリル酸ヒドロキシラウリルという場合もある。)、(メタ)アクリル酸ヒドロキシトリデシル、(メタ)アクリル酸ヒドロキシテトラデシル、(メタ)アクリル酸ヒドロキシペンタデシル、(メタ)アクリル酸ヒドロキシヘキサデシル、(メタ)アクリル酸ヒドロキシヘプタデシル、(メタ)アクリル酸ヒドロキシオクタデシル、(メタ)アクリル酸ヒドロキシノナデシル、(メタ)アクリル酸ヒドロキシエイコシル、グリセリンモノ(メタ)アクリレート、1,1,1−トリメチロールプロパンモノ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールモノ(メタ)アクリレート等が挙げられる。これらは、単独で又は2種以上を組み合わせて用いられる。
これらの中でも、後述する(c)成分の分散性及び(b)成分への分散性を考慮すると、(メタ)アクリル酸2−ヒドロキシエチル、(メタ)アクリル酸2−ヒドロキシプロピル、(メタ)アクリル酸2−ヒドロキシ−1−メチルエチル、(メタ)アクリル酸4−ヒドロキシブチル、(メタ)アクリル酸ヒドロキシペンチル、(メタ)アクリル酸ヒドロキシヘキシル、(メタ)アクリル酸ヒドロキシヘプチル、(メタ)アクリル酸ヒドロキシオクチル、(メタ)アクリル酸ヒドロキシノニル、(メタ)アクリル酸ヒドロキシデシル、(メタ)アクリル酸ヒドロキシウンデシル又は(メタ)アクリル酸ヒドロキシドデシルを用いることができる。
特に、(メタ)アクリル酸2−ヒドロキシエチル、(メタ)アクリル酸2−ヒドロキシプロピル、(メタ)アクリル酸2−ヒドロキシ−1−メチルエチル、(メタ)アクリル酸4−ヒドロキシブチルが好ましく、(メタ)アクリル酸4−ヒドロキシブチルがより好ましい。
Specific examples of the component (a) above include hydroxymethyl (meth) acrylate, 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, 2-hydroxypropyl (meth) acrylate, and 2-hydroxy-1 (meth) acrylate. -Methylethyl, 4-hydroxybutyl (meth) acrylate, hydroxypentyl (meth) acrylate, hydroxyhexyl (meth) acrylate, hydroxyheptyl (meth) acrylate, hydroxyoctyl (meth) acrylate, (meth) acrylic Hydroxynonyl acid, hydroxydecyl (meth) acrylate, 3-hydroxyadamantyl (meth) acrylate, hydroxyundecyl (meth) acrylate, hydroxydodecyl (meth) acrylate (sometimes referred to as hydroxylauryl (meth) acrylate) ), (Meta) hydroxytridecyl acrylate, (meth) hydroxytetradecyl acrylate, (meth) hydroxypentadecyl acrylate, (meth) hydroxyhexadecyl acrylate, (meth) hydroxyheptadecyl acrylate, (meth) ) Hydroxyoctadecyl acrylate, (meth) hydroxynonadecil acrylate, (meth) hydroxyeicosyl acrylate, glycerin mono (meth) acrylate, 1,1,1-trimethylol propane mono (meth) acrylate, pentaerythritol mono ( Meta) acrylate and the like can be mentioned. These may be used alone or in combination of two or more.
Among these, considering the dispersibility of the component (c) and the dispersibility in the component (b), which will be described later, 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, 2-hydroxypropyl (meth) acrylate, and (meth) acrylic 2-Hydroxy-1-methylethyl acid, 4-hydroxybutyl (meth) acrylate, hydroxypentyl (meth) acrylate, hydroxyhexyl (meth) acrylate, hydroxyheptyl (meth) acrylate, hydroxy (meth) acrylate Octyl, hydroxynonyl (meth) acrylate, hydroxydecyl (meth) acrylate, hydroxyundecyl (meth) acrylate or hydroxydodecyl (meth) acrylate can be used.
In particular, 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, 2-hydroxypropyl (meth) acrylate, 2-hydroxy-1-methylethyl (meth) acrylate, and 4-hydroxybutyl (meth) acrylate are preferable, and (meth) acrylate is preferable. ) 4-Hydroxybutyl acrylate is more preferred.

本発明の体積ホログラム記録材料用組成物における(a)(メタ)アクリル酸ヒドロキシアルキルの配合量は、(b)(a)成分とは異なる重合性化合物1質量部に対し0.1〜1,000質量部、好ましくは0.5〜500質量部、より好ましくは1〜500質量部、例えば1〜100質量部である。 The blending amount of hydroxyalkyl (a) (meth) acrylate in the composition for volumetric hologram recording material of the present invention is 0.1 to 1, 1 part by mass with respect to 1 part by mass of a polymerizable compound different from the components (b) and (a). It is 000 parts by mass, preferably 0.5 to 500 parts by mass, more preferably 1 to 500 parts by mass, for example, 1 to 100 parts by mass.

[(b)(a)成分とは異なる重合性化合物]
本発明における(b)成分の重合性化合物は、光重合開始剤の作用によって重合する重合性の部位を、分子内に1個以上、好ましくは1乃至6個有する化合物であり、(a)成分:(メタ)アクリル酸ヒドロキシアルキルとは異なる化合物であれば特に制限はない。重合性の部位としては、ラジカル重合性の部位であるエチレン性不飽和結合が挙げられる。
なお、本発明における重合性化合物とは、いわゆる反応性を有しない高分子物質ではない化合物を意味し、従って、狭義の単量体化合物(モノマー)だけでなく、二量体、三量体、オリゴマーや反応性高分子をも包含するものである。
[(B) Polymerizable compound different from component (a)]
The polymerizable compound of the component (b) in the present invention is a compound having one or more, preferably 1 to 6 polymerizable sites in the molecule that are polymerized by the action of the photopolymerization initiator, and the component (a). : There is no particular limitation as long as it is a compound different from hydroxyalkyl (meth) acrylate. Examples of the polymerizable moiety include an ethylenically unsaturated bond, which is a radically polymerizable moiety.
The polymerizable compound in the present invention means a compound that is not a so-called non-reactive polymer substance, and therefore, not only a monomer compound (monomer) in a narrow sense, but also a dimer, a trimer, and the like. It also includes oligomers and reactive polymers.

このような重合性化合物としては、ラジカル重合性の部位又はカチオン重合性の部位を有する化合物が挙げられる。
ラジカル重合性の部位を有する重合性化合物としては、エチレン性不飽和結合を有する化合物が挙げられる。また、カチオン重合性の部位を有する重合性化合物としては、ビニルチオエーテル構造、或いは、エポキシ環又はオキセタン環などの環状エーテル構造を有する化合物が挙げられる。
Examples of such a polymerizable compound include compounds having a radically polymerizable moiety or a cationically polymerizable moiety.
Examples of the polymerizable compound having a radically polymerizable moiety include a compound having an ethylenically unsaturated bond. Further, examples of the polymerizable compound having a cationically polymerizable moiety include a compound having a vinyl thioether structure or a cyclic ether structure such as an epoxy ring or an oxetane ring.

<ラジカル重合性の部位を有する重合性化合物>
エチレン性不飽和結合を有する化合物としては、例えば、不飽和カルボン酸;不飽和カルボン酸エステル化合物;脂肪族ポリヒドロキシ化合物と不飽和カルボン酸とのエステル化合物;芳香族ポリヒドロキシ化合物と不飽和カルボン酸とのエステル化合物;脂肪族ポリヒドロキシ化合物、芳香族ポリヒドロキシ化合物等の多価ヒドロキシ化合物と不飽和カルボン酸及び多価カルボン酸とのエステル化反応により得られるエステル化合物等;並びにこれらのアルキレンオキシド変性物(エチレンオキシド変性物、プロピレンオキシド変性物等)が挙げられる。
<Polymerizable compound with radically polymerizable site>
Examples of the compound having an ethylenically unsaturated bond include unsaturated carboxylic acid; unsaturated carboxylic acid ester compound; ester compound of aliphatic polyhydroxy compound and unsaturated carboxylic acid; aromatic polyhydroxy compound and unsaturated carboxylic acid. Esther compounds with; ester compounds obtained by esterification of polyvalent hydroxy compounds such as aliphatic polyhydroxy compounds and aromatic polyhydroxy compounds with unsaturated carboxylic acids and polyvalent carboxylic acids; and alkylene oxide modification of these. Examples thereof include compounds (ethylene oxide modified products, propylene oxide modified products, etc.).

不飽和カルボン酸の具体例としては、アクリル酸、メタクリル酸、イタコン酸、クロトン酸、マレイン酸等が挙げられる。 Specific examples of unsaturated carboxylic acids include acrylic acid, methacrylic acid, itaconic acid, crotonic acid, maleic acid and the like.

不飽和カルボン酸エステル化合物の具体例としては、フェノキシエチレングリコールアクリレート、フェノキシジエチレングリコールアクリレート、2−アクリロイルオキシエチルコハク酸、2−アクリロイルオキシエチルフタル酸、イソボロニルアクリレート等のアクリル酸エステル化合物が挙げられる。また、これらの例示化合物のアクリレート部分をメタクリレートに代えたメタクリル酸エステル化合物、同様にイタコネートに代えたイタコン酸エステル化合物、クロトネートに代えたクロトン酸エステル化合物、及びマレエートに代えたマイレン酸エステル化合物等も挙げられる。 Specific examples of the unsaturated carboxylic acid ester compound include acrylic acid ester compounds such as phenoxyethylene glycol acrylate, phenoxydiethylene glycol acrylate, 2-acryloyloxyethyl succinic acid, 2-acryloyloxyethyl phthalic acid, and isobolonyl acrylate. .. Further, a methacrylic acid ester compound in which the acrylate moiety of these exemplified compounds is replaced with methacrylate, an itaconic acid ester compound in which itaconate is replaced, a crotonic acid ester compound in which crotonate is replaced, a maleic acid ester compound in which maleate is replaced, and the like are also available. Can be mentioned.

脂肪族ポリヒドロキシ化合物と不飽和カルボン酸とのエステル化合物の具体例としては、エチレングリコールジアクリレート、トリエチレングリコールジアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、トリメチロールエタントリアクリレート、ペンタエリスリトールジアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、グリセロールポリアクリレート等のアクリル酸エステル化合物が挙げられる。また、これらの例示化合物のアクリレート部分をメタクリレートに代えたメタクリル酸エステル化合物、同様にイタコネートに代えたイタコン酸エステル化合物、クロトネートに代えたクロトン酸エステル化合物、マレエートに代えたマイレン酸エステル化合物等も挙げられる。 Specific examples of the ester compound of the aliphatic polyhydroxy compound and the unsaturated carboxylic acid include ethylene glycol diacrylate, triethylene glycol diacrylate, trimethyl propantriacrylate, trimethylol ethanetriacrylate, pentaerythritol diacrylate, and pentaerythritol. Examples thereof include acrylic acid ester compounds such as triacrylate, pentaerythritol tetraacrylate, dipentaerythritol tetraacrylate, dipentaerythritol pentaacrylate, dipentaerythritol hexaacrylate, and glycerol polyacrylate. In addition, a methacrylic acid ester compound in which the acrylate moiety of these exemplified compounds is replaced with methacrylate, an itaconic acid ester compound in which itaconate is replaced, a crotonic acid ester compound in which crotonate is replaced, a maleic acid ester compound in which maleate is replaced, and the like are also mentioned. Be done.

芳香族ポリヒドロキシ化合物と不飽和カルボン酸とのエステル化合物としては、ヒドロキノンジアクリレート、ヒドロキノンジメタクリレート、レゾルシンジアクリレート、レゾルシンジメタクリレート、ピロガロールトリアクリレート等が挙げられる。 Examples of the ester compound of the aromatic polyhydroxy compound and the unsaturated carboxylic acid include hydroquinone diacrylate, hydroquinone dimethacrylate, resorcin diacrylate, resorcin dimethacrylate, and pyrogallol triacrylate.

脂肪族ポリヒドロキシ化合物及び芳香族ポリヒドロキシ化合物等の多価ヒドロキシ化合物と不飽和カルボン酸及び多価カルボン酸とのエステル化反応により得られるエステル化合物としては、必ずしも単一物では無いが、代表的な具体例を挙げれば、アクリル酸及びフタル酸とエチレングリコールとの縮合物、アクリル酸及びマレイン酸とジエチレングリコールとの縮合物、メタクリル酸及びテレフタル酸とペンタエリスリトールとの縮合物、アクリル酸及びアジピン酸とブタンジオール及びグリセリンとの縮合物等が挙げられる。 The ester compound obtained by the esterification reaction of a polyvalent hydroxy compound such as an aliphatic polyhydroxy compound and an aromatic polyhydroxy compound with an unsaturated carboxylic acid and a polyvalent carboxylic acid is not necessarily a single compound, but is typical. Specific examples include a condensate of acrylic acid and phthalic acid and ethylene glycol, a condensate of acrylic acid and maleic acid and diethylene glycol, a condensate of methacrylic acid and terephthalic acid and pentaerythritol, acrylic acid and adipic acid. Examples thereof include a condensate of butanediol and glycerin.

以上のエステル化合物以外に、エチレン性不飽和結合を有する化合物として、多価イソシアネートとヒドロキシアルキル不飽和カルボン酸エステルとの反応によって得ることができるウレタン化合物や、多価エポキシ化合物とヒドロキシアルキル不飽和カルボン酸エステルとの反応によって得ることができる化合物を挙げることができる。上記ウレタン化合物の例としては、例えばダイセル・サイテック(株)製EBECRYL(登録商標)シリーズウレタンアクリレートが挙げられ、具体的には、例えばEBECRYL8301などを使用することによって、分散性を損なうことなく優れた回折効率を得ることができる。
その他本発明に用いられるエチレン性不飽和結合を有する化合物の例としては、フタル酸ジアリル等のアリルエステル化合物;ジビニルフタレート等のビニル基含有化合物等が有用である。
In addition to the above ester compounds, as a compound having an ethylenically unsaturated bond, a urethane compound that can be obtained by reacting a polyvalent isocyanate with a hydroxyalkyl unsaturated carboxylic acid ester, or a polyvalent epoxy compound and a hydroxyalkyl unsaturated carboxylic acid. Examples thereof include compounds that can be obtained by reacting with an acid ester. Examples of the urethane compound include EBECRYL (registered trademark) series urethane acrylate manufactured by Daicel Cytec Co., Ltd. Specifically, by using EBECRYL8301 or the like, it is excellent without impairing dispersibility. Diffraction efficiency can be obtained.
Other examples of the compound having an ethylenically unsaturated bond used in the present invention include an allyl ester compound such as diallyl phthalate; and a vinyl group-containing compound such as divinyl phthalate.

本発明においては、エチレン性不飽和結合を有する化合物として、アクリル酸エステル化合物及びメタクリル酸エステル化合物、並びにそれらのアルキレンオキシド変性物(エチレンオキシド変性物、プロピレンオキシド変性物等)を特に好ましく用いることができる。中でも、脂肪族ポリヒドロキシ化合物と不飽和カルボン酸とのエステル化合物である多官能(メタ)アクリル酸エステル化合物、並びにそれらのアルキレンオキシド変性物(エチレンオキシド変性物、プロピレンオキシド変性物等)を好適例として挙げることができる。
これらのエチレン性不飽和結合を有する化合物は単独で用いてもよいし、必要に応じ混合して用いてもよい。
In the present invention, as the compound having an ethylenically unsaturated bond, an acrylic acid ester compound and a methacrylic acid ester compound, and their alkylene oxide modified products (ethylene oxide modified product, propylene oxide modified product, etc.) can be particularly preferably used. .. Among them, polyfunctional (meth) acrylic acid ester compounds which are ester compounds of aliphatic polyhydroxy compounds and unsaturated carboxylic acids, and their alkylene oxide modified products (ethylene oxide modified products, propylene oxide modified products, etc.) are preferred examples. Can be mentioned.
These compounds having an ethylenically unsaturated bond may be used alone or mixed as necessary.

<カチオン重合性の部位を有する重合性化合物>
エポキシ環を有する化合物としては、例えば、ジグリセロールポリグリシジルエーテル、ペンタエリスリトールポリグリシジルエーテル、1,4−ビス(2,3−エポキシプロポキシパーフルオロイソプロピル)シクロヘキサン、ソルビトールポリグリシジルエーテル、トリメチロールプロパンポリグリシジルエーテル、レゾルシンジグリシジルエーテル、1,6−へキサンジオールジグリシジルエーテル、ポリエチレングリコールジグリシジルエーテル、フェニルグリシジルエーテル、p−tert−ブチルフェニルグリシジルエーテル、アジピン酸ジグリシジルエステル、o−フタル酸ジグリシジルエステル、ジブロモフェニルグリシジルエーテル、1,2,7,8−ジエポキシオクタン、1,6−ジメチロールパーフルオロヘキサンジグリシジルエーテル、4,4’−ビス(2,3−エポキシプロポキシパーフルオロイソプロピル)ジフェニルエーテル、2,2−ビス(4−グリシジルオキシフェニル)プロパン、3,4−エポキシシクロヘキシルメチル3’,4’−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート、3,4−エポキシシクロヘキシルオキシラン、2−(3,4−エポキシシクロヘキシル)−3’,4’−エポキシ−1,3−ジオキサン−5−スピロシクロヘキサン、1,2−エチレンジオキシビス(3,4−エポキシシクロヘキシルメタン)、4’,5’−エポキシ−2’−メチルシクロヘキシルメチル4,5−エポキシ−2−メチルシクロヘキサンカルボキシレート、エチレングリコールビス(3,4−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート)、ビス(3,4−エポキシシクロヘキシルメチル)アジペート、ジ−2,3−エポキシシクロペンチルエーテル等を挙げることができる。
<Polymerizable compound with cationically polymerizable site>
Examples of the compound having an epoxy ring include diglycerol polyglycidyl ether, pentaerythritol polyglycidyl ether, 1,4-bis (2,3-epoxypropoxyperfluoroisopropyl) cyclohexane, sorbitol polyglycidyl ether, and trimethylolpropane polyglycidyl. Ether, resorcin diglycidyl ether, 1,6-hexanediol diglycidyl ether, polyethylene glycol diglycidyl ether, phenylglycidyl ether, p-tert-butylphenylglycidyl ether, adipate diglycidyl ester, o-phthalic acid diglycidyl ester , Dibromophenyl glycidyl ether, 1,2,7,8-diepoxy octane, 1,6-dimethylol perfluorohexane diglycidyl ether, 4,4'-bis (2,3-epoxypropoxyperfluoroisopropyl) diphenyl ether, 2,2-bis (4-glycidyloxyphenyl) propane, 3,4-epoxycyclohexylmethyl 3', 4'-epoxycyclohexanecarboxylate, 3,4-epoxycyclohexyloxylane, 2- (3,4-epoxycyclohexyl) -3', 4'-epoxy-1,3-dioxane-5-spirocyclohexane, 1,2-ethylenedioxybis (3,4-epoxycyclohexylmethane), 4', 5'-epoxy-2'-methyl Cyclohexylmethyl4,5-epoxy-2-methylcyclohexanecarboxylate, ethylene glycol bis (3,4-epoxycyclohexanecarboxylate), bis (3,4-epoxycyclohexylmethyl) adipate, di-2,3-epoxycyclopentyl ether And so on.

オキセタン環を有する化合物としては、例えば、3−エチル−3−ヒドロキシメチルオキセタン、3−エチル−3−(フェノキシメチル)オキセタン、3,3−ジエチルオキセタン、3−エチル−3−(2−エチルヘキシルオキシメチル)オキセタン等のオキセタン環を1つ有する化合物;1,4−ビス{[(3−エチル−3−オキセタニル)メトキシ]メチル}ベンゼン、ジ(3−エチル−3−オキセタニルメチル)エーテル、ペンタエリスリトールテトラキス(3−エチル−3−オキセタニルメチル)エーテル等のオキセタン環を2つ以上有する化合物を挙げることができる。 Examples of the compound having an oxetane ring include 3-ethyl-3-hydroxymethyloxetane, 3-ethyl-3- (phenoxymethyl) oxetane, 3,3-diethyloxetane, and 3-ethyl-3- (2-ethylhexyloxy). Compounds having one oxetane ring such as methyl) oxetane; 1,4-bis {[(3-ethyl-3-oxetanyl) methoxy] methyl} benzene, di (3-ethyl-3-oxetanylmethyl) ether, pentaerythritol Examples thereof include compounds having two or more oxetane rings such as tetrakis (3-ethyl-3-oxetanylmethyl) ether.

これらのカチオン重合性の部位を有する重合性化合物は単独で用いてもよいし、必要に応じ混合して用いてもよい。 These polymerizable compounds having cationically polymerizable sites may be used alone or mixed as necessary.

<重合性化合物>
本発明において、(b)成分:(a)成分とは異なる重合性化合物は、一種を単独で用いてもよく、二種以上を組合せて用いてもよい。
また、(b)成分として、重合性の部位を1個有する化合物と、重合性の部位を2個以上有する化合物を(2官能以上の重合性化合物)を併用してもよい。重合性の部位を1個有する化合物と2個以上有する化合物との併用により、後述する(c)トリアジン環含有ハイパーブランチポリマーの拡散が速やかに起こり、回折効率などの特性がさらに好ましい形態となることが期待される。
なお、(b)成分として2官能以上の重合性化合物を使用する場合、その使用量(質量)は、組成物の合計質量から2官能以上の重合性化合物を除いた質量に対して10倍量(質量)までが好適とされる。2官能以上の重合性化合物の使用量がこの割合以上に多くなると、(c)トリアジン環含有ハイパーブランチポリマーの分散量が相対的に少なくなり、回折効率などにおいてよい特性が得られない場合がある点に留意する。
上記2官能以上の重合性化合物としては前出のラジカル重合性の部位を有する重合性化合物或いはカチオン重合性化合物を有する化合物において、重合性の部位を2個以上有する化合物が挙げられる。
また、上記(b)(a)成分とは異なる重合性化合物として、特に多官能(メタ)アクリレート、並びにそれらのアルキレンオキシド変性物を用いることが好適である。
<Polymerizable compound>
In the present invention, the polymerizable compound different from the component (b): component (a) may be used alone or in combination of two or more.
Further, as the component (b), a compound having one polymerizable moiety and a compound having two or more polymerizable moieties (bifunctional or higher polymerizable compound) may be used in combination. When a compound having one polymerizable site and a compound having two or more polymerizable sites are used in combination, the (c) triazine ring-containing hyperbranched polymer, which will be described later, is rapidly diffused, and characteristics such as diffraction efficiency become a more preferable form. There is expected.
When a bifunctional or higher functional compound is used as the component (b), the amount (mass) used is 10 times the total mass of the composition excluding the bifunctional or higher polymerizable compound. Up to (mass) is preferable. If the amount of the bifunctional or higher-functional polymerizable compound used is larger than this ratio, the amount of dispersion of the (c) triazine ring-containing hyperbranched polymer is relatively small, and good properties such as diffraction efficiency may not be obtained. Keep in mind the point.
Examples of the bifunctional or higher-functional polymerizable compound include the above-mentioned polymerizable compounds having a radically polymerizable moiety or a compound having a cationically polymerizable moiety, which has two or more polymerizable moieties.
Further, as a polymerizable compound different from the components (b) and (a) above, it is particularly preferable to use a polyfunctional (meth) acrylate and a modified alkylene oxide thereof.

[(c)トリアジン環含有ハイパーブランチポリマー]
本発明の体積ホログラム記録材料用組成物は、(c)トリアジン環含有ハイパーブランチポリマーを必須の成分として含む。
本発明の体積ホログラム記録材料用組成物に含まれる上記(c)成分の配合量は、前記(a)成分、前記(b)成分、及び(c)成分の合計体積に占める(c)成分の割合として、3体積%以上、50体積%以下であることが好ましく、より好ましくは15体積%以上50体積%以下である。
[(C) Triazine ring-containing hyperbranched polymer]
The composition for volumetric hologram recording material of the present invention contains (c) a triazine ring-containing hyperbranched polymer as an essential component.
The blending amount of the component (c) contained in the composition for volume hologram recording material of the present invention is the amount of the component (c) in the total volume of the component (a), the component (b), and the component (c). The ratio is preferably 3% by volume or more and 50% by volume or less, and more preferably 15% by volume or more and 50% by volume or less.

トリアジン環含有ハイパーブランチポリマーとしては、下記式(1)で表される繰り返し単位構造を含むポリマーが好ましい。

Figure 2020050321
上記式(1)中、R及びR’は、互いに独立して、水素原子、アルキル基、アルコキシ基、アリール基、又はアラルキル基を表す。As the triazine ring-containing hyperbranched polymer, a polymer containing a repeating unit structure represented by the following formula (1) is preferable.
Figure 2020050321
In the above formula (1), R and R'represent a hydrogen atom, an alkyl group, an alkoxy group, an aryl group, or an aralkyl group independently of each other.

本発明において、アルキル基の炭素原子数は特に限定されるものではないが、炭素原子数が1〜20であることが好ましく、重合体の耐熱性をより高めることを考慮すると、炭素原子数1〜10であることがより好ましく、1〜3であることがより一層好ましい。また、その構造は、直鎖状、分岐鎖状、環状のいずれでもよい。
アルキル基の具体例としては、メチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、シクロプロピル基、n−ブチル基、イソブチル基、sec−ブチル基、tert−ブチル基、シクロブチル基、1−メチルシクロプロピル基、2−メチルシクロプロピル基、n−ペンチル基、1−メチルブチル基、2−メチルブチル基、3−メチルブチル基、1,1−ジメチルプロピル基、1,2−ジメチルプロピル基、2,2−ジメチルプロピル基、1−エチルプロピル基、シクロペンチル基、1−メチルシクロブチル基、2−メチルシクロブチル基、3−メチルシクロブチル基、1,2−ジメチルシクロプロピル基、2,3−ジメチルシクロプロピル基、1−エチルシクロプロピル基、2−エチルシクロプロピル基、n−ヘキシル基、1−メチルペンチル基、2−メチルペンチル基、3−メチルペンチル基、4−メチルペンチル基、1,1−ジメチルブチル基、1,2−ジメチルブチル基、1,3−ジメチルブチル基、2,2−ジメチルブチル基、2,3−ジメチルブチル基、3,3−ジメチルブチル基、1−エチルブチル基、2−エチルブチル基、1,1,2−トリメチルプロピル基、1,2,2−トリメチルプロピル基、1−エチル−1−メチルプロピル基、1−エチル−2−メチルプロピル基、シクロヘキシル基、1−メチルシクロペンチル基、2−メチルシクロペンチル基、3−メチルシクロペンチル基、1−エチルシクロブチル基、2−エチルシクロブチル基、3−エチルシクロブチル基、1,2−ジメチルシクロブチル基、1,3−ジメチルシクロブチル基、2,2−ジメチルシクロブチル基、2,3−ジメチルシクロブチル基、2,4−ジメチルシクロブチル基、3,3−ジメチルシクロブチル基、1−プロピルシクロプロピル基、2−プロピルシクロプロピル基、1−イソプロピルシクロプロピル基、2−イソプロピルシクロプロピル基、1,2,2−トリメチルシクロプロピル基、1,2,3−トリメチルシクロプロピル基、2,2,3−トリメチルシクロプロピル基、1−エチル−2−メチルシクロプロピル基、2−エチル−1−メチルシクロプロピル基、2−エチル−2−メチルシクロプロピル基、2−エチル−3−メチルシクロプロピル基等が挙げられる。
In the present invention, the number of carbon atoms of the alkyl group is not particularly limited, but the number of carbon atoms is preferably 1 to 20, and considering that the heat resistance of the polymer is further enhanced, the number of carbon atoms is 1. It is more preferably 10 to 10, and even more preferably 1 to 3. The structure may be linear, branched or cyclic.
Specific examples of the alkyl group include methyl group, ethyl group, n-propyl group, isopropyl group, cyclopropyl group, n-butyl group, isobutyl group, sec-butyl group, tert-butyl group, cyclobutyl group and 1-methyl. Cyclopropyl group, 2-methylcyclopropyl group, n-pentyl group, 1-methylbutyl group, 2-methylbutyl group, 3-methylbutyl group, 1,1-dimethylpropyl group, 1,2-dimethylpropyl group, 2,2 -Dimethylpropyl group, 1-ethylpropyl group, cyclopentyl group, 1-methylcyclobutyl group, 2-methylcyclobutyl group, 3-methylcyclobutyl group, 1,2-dimethylcyclopropyl group, 2,3-dimethylcyclo Propyl group, 1-ethylcyclopropyl group, 2-ethylcyclopropyl group, n-hexyl group, 1-methylpentyl group, 2-methylpentyl group, 3-methylpentyl group, 4-methylpentyl group, 1,1- Dimethylbutyl group, 1,2-dimethylbutyl group, 1,3-dimethylbutyl group, 2,2-dimethylbutyl group, 2,3-dimethylbutyl group, 3,3-dimethylbutyl group, 1-ethylbutyl group, 2 -Ethylbutyl group, 1,1,2-trimethylpropyl group, 1,2,2-trimethylpropyl group, 1-ethyl-1-methylpropyl group, 1-ethyl-2-methylpropyl group, cyclohexyl group, 1-methyl Cyclopentyl group, 2-methylcyclopentyl group, 3-methylcyclopentyl group, 1-ethylcyclobutyl group, 2-ethylcyclobutyl group, 3-ethylcyclobutyl group, 1,2-dimethylcyclobutyl group, 1,3-dimethyl Cyclobutyl group, 2,2-dimethylcyclobutyl group, 2,3-dimethylcyclobutyl group, 2,4-dimethylcyclobutyl group, 3,3-dimethylcyclobutyl group, 1-propylcyclopropyl group, 2-propyl Cyclopropyl group, 1-isopropylcyclopropyl group, 2-isopropylcyclopropyl group, 1,2,2-trimethylcyclopropyl group, 1,2,3-trimethylcyclopropyl group, 2,2,3-trimethylcyclopropyl group , 1-Ethyl-2-methylcyclopropyl group, 2-ethyl-1-methylcyclopropyl group, 2-ethyl-2-methylcyclopropyl group, 2-ethyl-3-methylcyclopropyl group and the like.

上記アルコキシ基の炭素原子数は特に限定されるものではないが、炭素原子数が1〜20であることが好ましく、重合体の耐熱性をより高めることを考慮すると、炭素原子数1〜10であることがより好ましく、1〜3であることがより一層好ましい。また、そのアルキル部分の構造は、直鎖状、分岐鎖状、環状のいずれでもよい。
アルコキシ基の具体例としては、メトキシ基、エトキシ基、n−プロポキシ基、イソプロポキシ基、n−ブトキシ基、イソブトキシ基、sec−ブトキシ基、tert−ブトキシ基、n−ペンチルオキシ基、1−メチルブトキシ基、2−メチルブトキシ基、3−メチルブトキシ基、1,1−ジメチルプロポキシ基、1,2−ジメチルプロポキシ基、2,2−ジメチルプロポキシ基、1−エチルプロポキシ基、n−ヘキシルオキシ基、1−メチルペンチルオキシ基、2−メチルペンチルオキシ基、3−メチルペンチルオキシ基、4−メチルペンチルオキシ基、1,1−ジメチルブトキシ基、1,2−ジメチルブトキシ基、1,3−ジメチルブトキシ基、2,2−ジメチルブトキシ基、2,3−ジメチルブトキシ基、3,3−ジメチルブトキシ基、1−エチルブトキシ基、2−エチルブトキシ基、1,1,2−トリメチルプロポキシ基、1,2,2−トリメチルプロポキシ基、1−エチル−1−メチルプロポキシ基、1−エチル−2−メチルプロポキシ基等が挙げられる。
The number of carbon atoms of the alkoxy group is not particularly limited, but the number of carbon atoms is preferably 1 to 20, and in consideration of further enhancing the heat resistance of the polymer, the number of carbon atoms is 1 to 10. It is more preferable that there is, and it is even more preferable that it is 1 to 3. Further, the structure of the alkyl portion may be linear, branched or cyclic.
Specific examples of the alkoxy group include a methoxy group, an ethoxy group, an n-propoxy group, an isopropoxy group, an n-butoxy group, an isobutoxy group, a sec-butoxy group, a tert-butoxy group, an n-pentyloxy group and 1-methyl. Butoxy group, 2-methylbutoxy group, 3-methylbutoxy group, 1,1-dimethylpropoxy group, 1,2-dimethylpropoxy group, 2,2-dimethylpropoxy group, 1-ethylpropoxy group, n-hexyloxy group , 1-Methylpentyloxy group, 2-methylpentyloxy group, 3-methylpentyloxy group, 4-methylpentyloxy group, 1,1-dimethylbutoxy group, 1,2-dimethylbutoxy group, 1,3-dimethyl Butoxy group, 2,2-dimethylbutoxy group, 2,3-dimethylbutoxy group, 3,3-dimethylbutoxy group, 1-ethylbutoxy group, 2-ethylbutoxy group, 1,1,2-trimethylpropoxy group, 1 , 2,2-trimethylpropoxy group, 1-ethyl-1-methylpropoxy group, 1-ethyl-2-methylpropoxy group and the like.

上記アリール基の炭素原子数は特に限定されるものではないが、炭素原子数が6〜40であることが好ましく、重合体の耐熱性をより高めることを考慮すると、炭素原子数6〜16であることがより好ましく、6〜13であることがより一層好ましい。
アリール基の具体例としては、フェニル基、o−クロルフェニル基、m−クロルフェニル基、p−クロルフェニル基、o−フルオロフェニル基、p−フルオロフェニル基、o−メトキシフェニル基、p−メトキシフェニル基、p−ニトロフェニル基、p−シアノフェニル基、α−ナフチル基、β−ナフチル基、o−ビフェニリル基、m−ビフェニリル基、p−ビフェニリル基、1−アントリル基、2−アントリル基、9−アントリル基、1−フェナントリル基、2−フェナントリル基、3−フェナントリル基、4−フェナントリル基、9−フェナントリル基等が挙げられる。
The number of carbon atoms of the aryl group is not particularly limited, but it is preferably 6 to 40, and considering that the heat resistance of the polymer is further enhanced, the number of carbon atoms is 6 to 16. It is more preferable that there is, and it is even more preferable that there is 6 to 13.
Specific examples of the aryl group include a phenyl group, an o-chlorophenyl group, an m-chlorophenyl group, a p-chlorophenyl group, an o-fluorophenyl group, a p-fluorophenyl group, an o-methoxyphenyl group, and a p-methoxy. Phenyl group, p-nitrophenyl group, p-cyanophenyl group, α-naphthyl group, β-naphthyl group, o-biphenylyl group, m-biphenylyl group, p-biphenylyl group, 1-anthryl group, 2-anthryl group, Examples thereof include a 9-anthryl group, a 1-phenyl group, a 2-phenyl group, a 3-phenyl group, a 4-phenyl group, a 9-phenyl group and the like.

アラルキル基の炭素原子数は特に限定されるものではないが、炭素原子数が7〜20であることが好ましく、そのアルキル部分は、直鎖状、分岐鎖状、環状のいずれでもよい。
その具体例としては、ベンジル基、p−メチルフェニルメチル基、m−メチルフェニルメチル基、o−エチルフェニルメチル基、m−エチルフェニルメチル基、p−エチルフェニルメチル基、2−プロピルフェニルメチル基、4−イソプロピルフェニルメチル基、4−イソブチルフェニルメチル基、α−ナフチルメチル基等が挙げられる。
The number of carbon atoms of the aralkyl group is not particularly limited, but the number of carbon atoms is preferably 7 to 20, and the alkyl portion thereof may be linear, branched chain, or cyclic.
Specific examples thereof include a benzyl group, a p-methylphenylmethyl group, an m-methylphenylmethyl group, an o-ethylphenylmethyl group, an m-ethylphenylmethyl group, a p-ethylphenylmethyl group and a 2-propylphenylmethyl group. , 4-Isobutylphenylmethyl group, 4-isobutylphenylmethyl group, α-naphthylmethyl group and the like.

上記式(1)中、Arは、下記式(2)乃至式(13)で表される群から選ばれる少なくとも1種の二価の基を表す。

Figure 2020050321
In the above formula (1), Ar represents at least one divalent group selected from the group represented by the following formulas (2) to (13).
Figure 2020050321

上記式(2)乃至式(13)中、R〜R92は、互いに独立して、水素原子、ハロゲン原子、カルボキシ基、スルホ基、炭素原子数1〜10の分岐構造を有していてもよいアルキル基、又は炭素原子数1〜10の分岐構造を有していてもよいアルコキシ基を表し、R93及びR94は、水素原子又は炭素原子数1〜10の分岐構造を有していてもよいアルキル基を表し、W及びWは、互いに独立して、単結合、CR9596(式中、R95及びR96は、互いに独立して、水素原子又は炭素原子数1〜10の分岐構造を有していてもよいアルキル基(ただし、R95とR96は結合する炭素原子と一緒になって環を形成していてもよい。)を表す。)、C=O、O、S、SO、SO、又はNR97(式中、R97は、水素原子又は炭素原子数1〜10の分岐構造を有していてもよいアルキル基を表す。)を表す。
これらアルキル基、アルコキシ基としては上記において挙げた基と同様の基が挙げられる。
ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子が挙げられる。
In the above formulas (2) to (13), R 1 to R 92 have a branched structure of a hydrogen atom, a halogen atom, a carboxy group, a sulfo group, and the number of carbon atoms 1 to 10 independently of each other. It represents a good alkyl group or an alkoxy group which may have a branched structure having 1 to 10 carbon atoms, and R 93 and R 94 have a hydrogen atom or a branched structure having 1 to 10 carbon atoms. Representing an alkyl group which may be represented, W 1 and W 2 are independent of each other and are single-bonded, CR 95 R 96 (in the formula, R 95 and R 96 are independent of each other and have 1 hydrogen atom or 1 carbon atom. Represents an alkyl group which may have a branched structure of 10 to 10 (where R 95 and R 96 may form a ring together with the carbon atom to be bonded), C = O. , O, S, SO, SO 2 or NR 97 (in the formula, R 97 represents a hydrogen atom or an alkyl group which may have a branched structure having 1 to 10 carbon atoms).
Examples of these alkyl groups and alkoxy groups include groups similar to those mentioned above.
Examples of the halogen atom include a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom and an iodine atom.

また上記式中、X及びXは、互いに独立して、単結合、炭素原子数1〜10の分岐構造を有していてもよいアルキレン基、又は式(14)

Figure 2020050321
(式中、R98〜R101は、互いに独立して、水素原子、ハロゲン原子、カルボキシ基、スルホ基、炭素原子数1〜10の分岐構造を有していてもよいアルキル基、又は炭素原子数1〜10の分岐構造を有していてもよいアルコキシ基を表し、Y及びYは、互いに独立して、単結合又は炭素原子数1〜10の分岐構造を有していてもよいアルキレン基を表す。)
で表される基を表す。
これらハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基としては上記において挙げた基と同様の基が挙げられる。
また炭素原子数1〜10の分岐構造を有していてもよいアルキレン基としては、メチレン基、エチレン基、プロピレン基、トリメチレン基、テトラメチレン基、ペンタメチレン基等が挙げられる。Further, in the above formula, X 1 and X 2 are independent of each other and may have a single bond, a branched structure having 1 to 10 carbon atoms, or an alkylene group of the formula (14).
Figure 2020050321
(In the formula, R 98 to R 101 are independent of each other and may have a hydrogen atom, a halogen atom, a carboxy group, a sulfo group, an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, or a carbon atom. Representing an alkoxy group which may have a branched structure of the number 1 to 10, Y 1 and Y 2 may have a single bond or a branched structure of 1 to 10 carbon atoms independently of each other. Represents an alkylene group.)
Represents a group represented by.
Examples of these halogen atoms, alkyl groups, and alkoxy groups include groups similar to those mentioned above.
Examples of the alkylene group which may have a branched structure having 1 to 10 carbon atoms include a methylene group, an ethylene group, a propylene group, a trimethylene group, a tetramethylene group and a pentamethylene group.

本発明における前記式(1)における好適なArとしては、式(2)、(5)乃至(13)で表される基から選ばれる少なくとも1種が挙げられ、式(2)、(5)、(7)、(8)、(11)乃至(13)で表される基から選ばれる少なくとも1種がより好ましい。 Suitable Ar in the formula (1) in the present invention includes at least one selected from the groups represented by the formulas (2), (5) to (13), and the formulas (2) and (5). , (7), (8), at least one selected from the groups represented by (11) to (13) is more preferable.

上記式(2)乃至式(13)で表されるアリール基(Ar)の具体例としては、下記式で示されるものが挙げられるが、これらに限定されるものではない。 Specific examples of the aryl group (Ar) represented by the above formulas (2) to (13) include those represented by the following formulas, but are not limited thereto.

Figure 2020050321
Figure 2020050321

これらの中でも、より高い屈折率を発現するハイパーブランチポリマーが得られることから、下記式で示されるアリール基がより好ましい。 Among these, the aryl group represented by the following formula is more preferable because a hyperbranched polymer exhibiting a higher refractive index can be obtained.

Figure 2020050321
Figure 2020050321

中でも、(c)トリアジン環含有ハイパーブランチポリマーに含まれる好適な繰り返し単位構造としては、式(1)で表される繰り返し単位構造において、Arが式(2)で表される二価の基であるもの、すなわち、下記式(15)で示される繰り返し単位構造が好ましい。

Figure 2020050321
(式中、R、R’及びR〜Rは、前記と同じ意味を表す。)Among them, as a suitable repeating unit structure contained in (c) a triazine ring-containing hyperbranched polymer, Ar is a divalent group represented by the formula (2) in the repeating unit structure represented by the formula (1). Some, that is, the repeating unit structure represented by the following formula (15) is preferable.
Figure 2020050321
(In the formula, R, R'and R 1 to R 4 have the same meanings as described above.)

そして特に好適な繰り返し単位構造としては、下記式(16)で表される繰り返し単位構造が挙げられ、中でも下記式(17)で表される繰り返し単位構造を含むトリアジン環含有ハイパーブランチポリマーが最適である。 A particularly suitable repeating unit structure includes a repeating unit structure represented by the following formula (16), and among them, a triazine ring-containing hyperbranched polymer containing a repeating unit structure represented by the following formula (17) is most suitable. be.

Figure 2020050321
(式中、R及びR’は、上記と同じ意味を表す。)
Figure 2020050321
(In the formula, R and R'have the same meaning as above.)

Figure 2020050321
Figure 2020050321

本発明における(c)トリアジン環含有ハイパーブランチポリマーの重量平均分子量は特に限定されるものではないが、500〜500,000が好ましく、さらに500〜100,000が好ましく、より耐熱性を向上させるとともに、収縮率を低くするという点から、2,000以上が好ましく、より溶解性を高め、得られた溶液の粘度を低下させるという点から、50,000以下が好ましく、30,000以下がより好ましく、さらに10,000以下が好ましい。
なお、本発明における重量平均分子量は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー(以下、GPCという)分析による標準ポリスチレン換算で得られる平均分子量である。
The weight average molecular weight of the (c) triazine ring-containing hyperbranched polymer in the present invention is not particularly limited, but is preferably 500 to 500,000, more preferably 500 to 100,000, and further improving heat resistance. From the viewpoint of lowering the shrinkage rate, 2,000 or more is preferable, and from the viewpoint of further increasing the solubility and lowering the viscosity of the obtained solution, 50,000 or less is preferable, and 30,000 or less is more preferable. , Further preferably 10,000 or less.
The weight average molecular weight in the present invention is the average molecular weight obtained in terms of standard polystyrene by gel permeation chromatography (hereinafter referred to as GPC) analysis.

上記(c)トリアジン環含有ハイパーブランチポリマーは、国際公開第2010/128661号パンフレットに開示された手法によって製造することができる。その一例を挙げるとすれば、例えば、下記スキーム1に示されるように、ハロゲン化シアヌル(18)及びm−フェニレンジアミン化合物(19)を適当な有機溶媒中で反応させることにより繰り返し単位構造(17’)を有するトリアジン環含有ハイパーブランチポリマーを得ることができる。 The above (c) triazine ring-containing hyperbranched polymer can be produced by the method disclosed in International Publication No. 2010/128661 pamphlet. To give an example, for example, as shown in Scheme 1 below, the repeating unit structure (17) is formed by reacting cyanuric halide (18) and m-phenylenediamine compound (19) in a suitable organic solvent. A triazine ring-containing hyperbranched polymer having') can be obtained.

Figure 2020050321
(式中、Xは、互いに独立してハロゲン原子を表す。Rは上記と同じ意味を表す。)
Figure 2020050321
(In the formula, X represents a halogen atom independently of each other. R represents the same meaning as above.)

[(d)光重合開始剤]
本発明における光重合開始剤としては、後に詳述するパターン露光によって前記(a)成分及び/又は前記(b)成分:(a)成分とは異なる重合性化合物の重合を開始することができる機能を有する化合物であれば特に限定はない。
前記(b)成分:(a)成分とは異なる重合性化合物としてラジカル重合性の部位であるエチレン性不飽和結合を有する化合物を使用する場合、光重合開始剤としては、基本的にはパターン露光時に活性ラジカルを生成する光ラジカル重合開始剤が用いられる。
また、前記(b)成分:(a)成分とは異なる重合性化合物としてカチオン重合性の部位であるビニルエーテル構造、エポキシ環又はオキセタン環を有する化合物等を使用する場合、光重合開始剤としては、基本的にはパターン露光時にルイス酸あるいはブレンステッド酸を生成する光酸発生剤が用いられる。
[(D) Photopolymerization Initiator]
The photopolymerization initiator in the present invention has a function of initiating the polymerization of a polymerizable compound different from the component (a) and / or the component (b): component (a) by pattern exposure described in detail later. There is no particular limitation as long as it is a compound having.
Component (b): When a compound having an ethylenically unsaturated bond, which is a radically polymerizable site, is used as a polymerizable compound different from the component (a), the photopolymerization initiator is basically a pattern exposure. Sometimes a photoradical polymerization initiator that produces active radicals is used.
Further, when a compound having a vinyl ether structure, an epoxy ring or an oxetane ring, which is a cationically polymerizable site, is used as a polymerizable compound different from the component (b): component (a), the photopolymerization initiator may be used. Basically, a photoacid generator that produces Lewis acid or Bronsted acid during pattern exposure is used.

<光ラジカル重合開始剤>
光ラジカル重合開始剤としては、パターン露光時に活性ラジカルを生成する化合物であれば特に限定されないが、例えば、ベンゾイン系化合物、α−アミノアルキルフェノン系化合物、N−アリール−α−アミノ酸系化合物、チオキサントン系化合物、アゾ系化合物、アジド系化合物、ジアゾ系化合物、o−キノンジアジド系化合物、アシルホスフィンオキシド系化合物、オキシムエステル系化合物、有機過酸化物、ベンゾフェノン類、ビスクマリン、ビスイミダゾール化合物、チタノセン化合物、チオール化合物、ハロゲン化炭化水素化合物、トリクロロメチルトリアジン系化合物、ホウ素化合物、あるいはヨードニウム塩化合物、スルホニウム塩化合物などのオニウム塩化合物等が用いられる。光ラジカル重合開始剤は単独で用いてもよいし、必要に応じて二種以上を混合して用いてもよい。
<Photoradical polymerization initiator>
The photoradical polymerization initiator is not particularly limited as long as it is a compound that generates an active radical during pattern exposure, and is, for example, a benzoin compound, an α-aminoalkylphenone compound, an N-aryl-α-amino acid compound, or a thioxanthone. System compounds, azo compounds, azide compounds, diazo compounds, o-quinone diazide compounds, acylphosphine oxide compounds, oxime ester compounds, organic peroxides, benzophenones, biscmarin, bisimidazole compounds, titanosen compounds, A thiol compound, a halogenated hydrocarbon compound, a trichloromethyltriazine-based compound, a boron compound, or an onium salt compound such as an iodonium salt compound or a sulfonium salt compound is used. The photoradical polymerization initiator may be used alone or in combination of two or more as required.

チタノセン化合物としては、特に限定はされないが、例えばビス(シクロペンタジエニル)ジクロロチタニウム、ビス(シクロペンタジエニル)ジフェニルチタニウム、ビス(シクロペンタジエニル)ビス(2,3,4,5,6−ペンタフルオロフェニル)チタニウム、ビス(シクロペンタジエニル)ビス(2,3,5,6−テトラフルオロフェニル)チタニウム、ビス(シクロペンタジエニル)ビス(2,4,6−トリフルオロフェニル)チタニウム、ビス(シクロペンタジエニル)ビス(2,6−ジフルオロフェニル)チタニウム、ビス(シクロペンタジエニル)ビス(2,4−ジフルオロフェニル)チタニウム、ビス(メチルシクロペンタジエニル)ビス(2,3,4,5,6−ペンタフルオロフェニル)チタニウム、ビス(メチルシクロペンタジエニル)ビス(2,3,5,6−テトラフルオロフェニル)チタニウム、ビス(2,6−ジフルオロフェニル)ビス(メチルシクロペンタジエニル)チタニウム、ビス(シクロペンタジエニル)ビス(2,6−ジフルオロ−3−(1H−ピロール−1−イル)フェニル)チタニウム等を挙げることができる。 The titanosen compound is not particularly limited, but for example, bis (cyclopentadienyl) dichlorotitanium, bis (cyclopentadienyl) diphenyltitanium, and bis (cyclopentadienyl) bis (2,3,4,5,6). -Pentafluorophenyl) Titanium, Bis (Cyclopentadienyl) Bis (2,3,5,6-Tetrafluorophenyl) Titanium, Bis (Cyclopentadienyl) Bis (2,4,6-Trifluorophenyl) Titanium , Bis (cyclopentadienyl) bis (2,6-difluorophenyl) titanium, bis (cyclopentadienyl) bis (2,4-difluorophenyl) titanium, bis (methylcyclopentadienyl) bis (2,3) , 4,5,6-pentafluorophenyl) titanium, bis (methylcyclopentadienyl) bis (2,3,5,6-tetrafluorophenyl) titanium, bis (2,6-difluorophenyl) bis (methylcyclo) Examples thereof include pentadienyl) titanium, bis (cyclopentadienyl) bis (2,6-difluoro-3- (1H-pyrrole-1-yl) phenyl) titanium and the like.

N−アリール−α−アミノ酸系化合物としては、特に限定はされないが、例えばN−フェニルグリシン、N−(p−メチルフェニル)グリシン、N−(p−アセチルフェニル)グリシン、N−(m−アセチルフェニル)グリシン、N−(p−トリフルオロメチルフェニル)グリシン、N−(m−トリフルオロメチルフェニル)グリシン、N−(p−メトキシフェニル)グリシン、N−(m−メトキシフェニル)グリシン、N−(p−メトキシカルボニルフェニル)グリシン、N−(m−クロロフェニル)グリシン、N−(o−クロロフェニル)グリシン、N−(p−フルオロフェニル)グリシン、N−(p−シアノフェニル)グリシン、N−(m−シアノフェニル)グリシン、N−メチル−N−フェニルグリシン、N−エチル−N−フェニルグリシン、N−フェニルアラニン、N−(p−アセチルフェニル)アラニン、N−(m−アセチルフェニル)アラニン等を挙げることができる。 The N-aryl-α-amino acid-based compound is not particularly limited, and is, for example, N-phenylglycine, N- (p-methylphenyl) glycine, N- (p-acetylphenyl) glycine, N- (m-acetyl). Phenyl) glycine, N- (p-trifluoromethylphenyl) glycine, N- (m-trifluoromethylphenyl) glycine, N- (p-methoxyphenyl) glycine, N- (m-methoxyphenyl) glycine, N- (P-methoxycarbonylphenyl) glycine, N- (m-chlorophenyl) glycine, N- (o-chlorophenyl) glycine, N- (p-fluorophenyl) glycine, N- (p-cyanophenyl) glycine, N-( m-Cyanophenyl) glycine, N-methyl-N-phenylglycine, N-ethyl-N-phenylglycine, N-phenylalanine, N- (p-acetylphenyl) alanine, N- (m-acetylphenyl) alanine, etc. Can be mentioned.

トリクロロメチルトリアジン系化合物としては、特に限定はされないが、例えば2,4,6−トリス(トリクロロメチル)−1,3,5−トリアジン、2,4,6−トリス(トリブロモメチル)−1,3,5−トリアジン、2,4,6−トリス(ジクロロメチル)−1,3,5−トリアジン、2,4,6−トリス(ジブロモメチル)−1,3,5−トリアジン、2,4,6−トリス(クロロメチル)−1,3,5−トリアジン、2,4,6−トリス(ブロモメチル)−1,3,5−トリアジン、2−メチル−4,6−ビス(トリクロロメチル)−1,3,5−トリアジン、2−メチル−4,6−ビス(トリブロモメチル)−1,3,5−トリアジン、2−フェニル−4,6−ビス(トリクロロメチル)−1,3,5−トリアジン、2−フェニル−4,6−ビス(トリブロモメチル)−1,3,5−トリアジン、2−(p−クロロフェニル)−4,6−ビス(トリクロロメチル)−1,3,5−トリアジン等を挙げることができる。 The trichloromethyltriazine-based compound is not particularly limited, but for example, 2,4,6-tris (trichloromethyl) -1,3,5-triazine, 2,4,6-tris (tribromomethyl) -1, 3,5-Triazine, 2,4,6-tris (dichloromethyl) -1,3,5-triazine, 2,4,6-tris (dibromomethyl) -1,3,5-triazine, 2,4 6-Tris (chloromethyl) -1,3,5-triazine, 2,4,6-tris (bromomethyl) -1,3,5-triazine, 2-methyl-4,6-bis (trichloromethyl) -1 , 3,5-Triazine, 2-Methyl-4,6-bis (tribromomethyl) -1,3,5-triazine, 2-phenyl-4,6-bis (trichloromethyl) -1,3,5- Triazine, 2-phenyl-4,6-bis (tribromomethyl) -1,3,5-triazine, 2- (p-chlorophenyl) -4,6-bis (trichloromethyl) -1,3,5-triazine And so on.

ベンゾイン系化合物としては、例えばベンゾインエチルエーテル、2,2−ジメトキシ−1,2−ジフェニルエタン−1−オン、1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、2−ヒドロキシ−2−メチル−1−フェニルプロパン−1−オン等を挙げることができる。 Examples of benzoin compounds include benzoin ethyl ether, 2,2-dimethoxy-1,2-diphenylethane-1-one, 1-hydroxycyclohexylphenyl ketone, and 2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropane-1-. It can be turned on and the like.

α−アミノアルキルフェノン系化合物としては、例えば2−メチル−1−(4−(メチルチオ)フェニル)−2−モルホリノプロパン−1−オン、2−ベンジル−2−ジメチルアミノ−1−(4−モルホリノフェニル)ブタン−1−オン等を挙げることができる。 Examples of the α-aminoalkylphenone compound include 2-methyl-1- (4- (methylthio) phenyl) -2-morpholinopropan-1-one and 2-benzyl-2-dimethylamino-1- (4-morpholino). Phenyl) butane-1-one and the like can be mentioned.

チオキサントン系化合物としては、例えばチオキサントン、1−クロロチオキサントン、2−クロロチオキサントン、1−クロロ−4−プロポキシチオキサントン、2−メチルチオキサントン、2−イソプロピルチオキサントン、2,4−ジメチルチオキサントン、2,4−ジエチルチオキサントン等を挙げることができる。 Examples of the thioxanthone compound include thioxanthone, 1-chlorothioxanthone, 2-chlorothioxanthone, 1-chloro-4-propoxythioxanthone, 2-methylthioxanthone, 2-isopropylthioxanthone, 2,4-dimethylthioxanthone and 2,4-diethyl. Thioxanthone and the like can be mentioned.

アゾ系化合物としては、2,2’−アゾビス(2−アミジノプロパン)塩酸塩、4,4’−アゾビス(4−シアノ吉草酸)、2,2’−アゾビス(N−(2−カルボキシエチル)−2−メチルプロピオンアミジン)、ジメチル2,2’−アゾビスイソブチレート、2,2’−アゾビスイソブチロニトリル、2,2’−アゾビス(2,4−ジメチルバレロニトリル)、2,2’−アゾビス(2−メチルブチロニトリル)、1,1’−アゾビス(シクロヘキサン−1−カルボニトリル)、2,2’−アゾビス(2−メチル−N−(2−(1−ヒドロキシブチル))プロピオンアミド)、2,2’−アゾビス(2−メチル−N−(2−ヒドロキシエチル)プロピオンアミド)、2,2’−アゾビス(2−(5−メチル−2−イミダゾリン−2−イル)プロパン)塩酸塩、2,2’−アゾビス(2−(2−イミダゾリン−2−イル)プロパン)塩酸塩、2,2’−アゾビス(2−(2−イミダゾリン−2−イル)プロパン)硫酸塩、2,2’−アゾビス(2−(3,4,5,6−テトラヒドロピリミジン−2−イル)プロパン)塩酸塩、2,2’−アゾビス(2−(1−(2−ヒドロキシエチル)−2−イミダゾリン−2−イル)プロパン)塩酸塩、2,2’−アゾビス(2−(2−イミダゾリン−2−イル)プロパン)等を挙げることができる。 Examples of the azo compound include 2,2'-azobis (2-amidinopropane) hydrochloride, 4,4'-azobis (4-cyanovaleric acid), and 2,2'-azobis (N- (2-carboxyethyl)). -2-Methylpropion amidine), dimethyl 2,2'-azobisisobutyrate, 2,2'-azobisisobutyronitrile, 2,2'-azobis (2,4-dimethylvaleronitrile), 2, 2'-azobis (2-methylbutyronitrile), 1,1'-azobis (cyclohexane-1-carbonitrile), 2,2'-azobis (2-methyl-N- (2- (1-hydroxybutyl)) ) Propionamide), 2,2'-azobis (2-methyl-N- (2-hydroxyethyl) propionamide), 2,2'-azobis (2- (5-methyl-2-imidazolin-2-yl)) Propane) hydrochloride, 2,2'-azobis (2- (2-imidazolin-2-yl) propane) hydrochloride, 2,2'-azobis (2- (2-imidazolin-2-yl) propane) sulfate , 2,2'-azobis (2- (3,4,5,6-tetrahydropyrimidine-2-yl) propane) hydrochloride, 2,2'-azobis (2- (1- (2-hydroxyethyl)-) 2-Imidazolin-2-yl) propane) hydrochloride, 2,2'-azobis (2- (2-imidazolin-2-yl) propane) and the like can be mentioned.

アジド系化合物としては、例えばp−アジドベンズアルデヒド、p−アジドアセトフェノン、p−アジド安息香酸、p−アジドベンザルアセトフェノン、4,4’−ジアジドカルコン、4,4’−ジアジドジフェニルスルフィド、2,6−ビス(4’−アジドベンザル)−4−メチルシクロヘキサノン、4,4’−ジアジドスチルベン等を挙げることができる。 Examples of the azide compound include p-azidobenzaldehyde, p-azidoacetophenone, p-azidobenzoic acid, p-azidobenzalacetophenone, 4,4'-diazide chalcone, 4,4'-diazidodiphenyl sulfide, 2 , 6-Bis (4'-Azidobenzal) -4-methylcyclohexanone, 4,4'-Diazidosylben and the like.

ジアゾ系化合物としては、例えば2,5−ジエトキシ−4−p−トリルメルカプトベンゼンジアゾニウムテトラフルオロボレート、4−(ジメチルアミノ)ベンゼンジアゾニウムクロリド、4−(ジエチルアミノ)ベンゼンジアゾニウムテトラフルオロボレート等を挙げることができる。 Examples of the diazo compound include 2,5-diethoxy-4-p-tolylmercaptobenzenediazonium tetrafluoroborate, 4- (dimethylamino) benzenediazonium chloride, 4- (diethylamino) benzenediazonium tetrafluoroborate and the like. can.

o−キノンジアジド系化合物としては、例えば1,2−ナフトキノンジアジド(2)−4−スルホン酸ナトリウム塩、1,2−ナフトキノンジアジド(2)−5−スルホン酸エステル、1,2−ナフトキノンジアジド(2)−4−スルホニルクロリド等を挙げることができる。 Examples of the o-quinone diazide compound include 1,2-naphthoquinone diazide (2) -4-sulfonic acid sodium salt, 1,2-naphthoquinone diazide (2) -5-sulfonic acid ester, and 1,2-naphthoquinone diazide (2). ) -4-sulfonyl chloride and the like.

アシルホスフィンオキシド系化合物としては、例えばフェニルビス(2,4,6−トリメチルベンゾイル)ホスフィンオキシド、ジフェニル(2,4,6−トリメチルベンゾイル)ホスフィンオキシド等を挙げることができる。 Examples of the acylphosphine oxide compound include phenylbis (2,4,6-trimethylbenzoyl) phosphine oxide and diphenyl (2,4,6-trimethylbenzoyl) phosphine oxide.

オキシムエステル系化合物としては、例えば2−(O−ベンゾイルオキシム)−1−(4−(フェニルチオ)フェニル)−1,2−オクタンジオン、1−(O−アセチルオキシム)−1−(9−エチル−6−(2−メチルベンゾイル)−9H−カルバゾール−3−イル)エタノン等を挙げることが出来る。 Examples of the oxime ester compound include 2- (O-benzoyloxime) -1- (4- (phenylthio) phenyl) -1,2-octanedione and 1- (O-acetyloxime) -1- (9-ethyl). -6- (2-Methylbenzoyl) -9H-carbazole-3-yl) esterone and the like can be mentioned.

ベンゾフェノン類としては、例えばベンゾフェノン、4,4’−ビス(ジエチルアミノ)ベンゾフェノン、1,4−ジベンゾイルベンゼン、10−ブチル−2−クロロアクリドン、2−ベンゾイルナフタレン、4−ベンゾイルビフェニル、4−ベンゾイルジフェニルエーテル、3,3’,4,4’−テトラ(tert−ブチルパーオキシカルボニル)ベンゾフェノン等を挙げることができる。 Examples of benzophenones include benzophenone, 4,4'-bis (diethylamino) benzophenone, 1,4-dibenzoylbenzene, 10-butyl-2-chloroacrydone, 2-benzoylnaphthalene, 4-benzoylbiphenyl and 4-benzoyl. Examples thereof include diphenyl ether, 3,3', 4,4'-tetra (tert-butylperoxycarbonyl) benzophenone and the like.

ビスクマリンとしては、例えば3,3’−カルボニルビス(7−ジエチルアミノクマリン)等が挙げられ、これはみどり化学株式会社でBC(CAS[63226−13−1])として市販されている。 Examples of the bisque marine include 3,3'-carbonylbis (7-diethylaminocoumarin), which is commercially available as BC (CAS [63226-13-1]) by Midori Kagaku Co., Ltd.

ビスイミダゾール化合物としては、例えば2,2’−ビス(o−クロロフェニル)−4,4’,5,5’−テトラキス(3,4,5−トリメトキシフェニル)−1,2’−ビイミダゾール、2,2’−ビス(o−クロロフェニル)−4,4’,5,5’−テトラフェニル−1,2’−ビイミダゾール等を挙げることができる。 Examples of the bisimidazole compound include 2,2'-bis (o-chlorophenyl) -4,4', 5,5'-tetrakis (3,4,5-trimethoxyphenyl) -1,2'-biimidazole. 2,2'-bis (o-chlorophenyl) -4,4', 5,5'-tetraphenyl-1,2'-biimidazole and the like can be mentioned.

ホウ素化合物としては、特に限定はされないが、例えば、トリエチルホウ素、トリプロピルホウ素、トリブチルホウ素、トリヘキシルホウ素、トリシクロヘキシルホウ素等のトリアルキルホウ素類;トリフェニルホウ素、トリナフチルホウ素等のトリアリールホウ素類;エトキシジエチルホウ素、プロポキシジプロピルホウ素、ブトキシジブチルホウ素などのアルコキシジアルキルホウ素類;及び、アルキルトリアリールボレート(ブチルトリフェニルボレート、ブチルトリナフチルボレート等)、ジアルキルジアリールボレート(ジブチルジフェニルボレート、ジブチルジナフチルボレート等)、トリアルキルアリールボレート(トリブチルフェニルボレート、トリブチルナフチルボレート等)などのボレートの、金属塩(リチウム、ナトリウム、カリウム、マグネシウム等)、アンモニウム塩(テトラメチルアンモニウム、テトラエチルアンモニウム、テトラブチルアンモニウム等)、ピリジニウム塩(メチルピリジニウム、エチルピリジニウム、ブチルピリジニウム等)、キノリニウム塩(メチルキノリニウム、エチルキノリニウム、ブチルキノリニウム等)、ホスホニウム塩、スルホニウム塩等が挙げられる。 The boron compound is not particularly limited, but for example, trialkylborones such as triethylboron, tripropylboron, tributylboron, trihexylboron, and tricyclohexylboron; triarylborones such as triphenylboron and trinaphthylboron. Alkoxydialkylborates such as ethoxydiethylboron, propoxydipropylboron, butoxydibutylborate; and alkyltriarylborate (butyltriphenylborate, butyltrinaphthylborate, etc.), dialkyldiarylborate (dibutyldiphenylborate, dibutyldinaphthyl) Metal salts (lithium, sodium, potassium, magnesium, etc.), ammonium salts (tetramethylammonium, tetraethylammonium, tetrabutylammonium, etc.) of borates such as borate (borate, etc.) and trialkylaryl borate (tributylphenyl borate, tributylnaphthylborate, etc.) ), Pyridinium salt (methylpyridinium, ethylpyridinium, butylpyridinium, etc.), quinolinium salt (methylquinolinium, ethylquinolinium, butylquinolinium, etc.), phosphonium salt, sulfonium salt and the like.

なお、これら光ラジカル重合開始剤のうち、チタノセン化合物、N−アリール−α−アミノ酸系化合物、及びトリクロロメチルトリアジン系化合物が好ましい。また、チタノセン化合物の中でもビス(シクロペンタジエニル)ビス(2,6−ジフルオロ−3−(1H−ピロール−1−イル)フェニル)チタニウムを、N−アリール−α−アミノ酸系化合物の中でもN−フェニルグリシンを、トリクロロメチルトリアジン系化合物の中でも2,4,6−トリス(トリクロロメチル)−1,3,5−トリアジンを好適例として挙げることができる。なおN−フェニルグリシンは、後述するローズベンガル、3,3’−ジプロピルチアジカルボシアニンヨージド等の増感剤と組合せて用いてもよく、2,4,6−トリス(トリクロロメチル)−1,3,5−トリアジンは、後述する3,3’−ジプロピルチアジカルボシアニンヨージド等の増感剤と組合せて用いてもよい。 Among these photoradical polymerization initiators, titanosen compounds, N-aryl-α-amino acid compounds, and trichloromethyltriazine compounds are preferable. Further, among the titanosen compounds, bis (cyclopentadienyl) bis (2,6-difluoro-3- (1H-pyrrole-1-yl) phenyl) titanium is used, and among the N-aryl-α-amino acid compounds, N- Among the trichloromethyltriazine compounds, 2,4,6-tris (trichloromethyl) -1,3,5-triazine can be mentioned as a preferable example of phenylglycine. N-phenylglycine may be used in combination with a sensitizer such as rose bengal or 3,3'-dipropylthiadicarbocyanine iodide, which will be described later, and 2,4,6-tris (trichloromethyl)-. 1,3,5-triazine may be used in combination with a sensitizer such as 3,3'-dipropylthiadicarbocyanine iodide described later.

<光酸発生剤>
光酸発生剤としては、パターン露光時にルイス酸あるいはブレンステッド酸を生成する化合物であれば特に限定されないが、例えば、ジアリールヨードニウム塩化合物、トリアリールスルホニウム塩化合物、ジアゾニウム塩化合物などのオニウム塩化合物、鉄アレーン錯体化合物等を挙げることができる。
<Photoacid generator>
The photoacid generator is not particularly limited as long as it is a compound that produces Lewis acid or Bronsted acid during pattern exposure, but for example, onium salt compounds such as diallyl iodonium salt compound, triarylsulfonium salt compound, and diazonium salt compound. Examples thereof include iron arene complex compounds.

ジアリールヨードニウム塩化合物としては、例えば、ジフェニルヨードニウム、4,4’−ジクロロジフェニルヨードニウム、4,4’−ジメトキシジフェニルヨードニウム、4,4’−ジ−tert−ブチルジフェニルヨードニウム、(4−メチルフェニル)(4−(2−メチルプロピル)フェニル)ヨードニウム、3,3’−ジニトロフェニルヨードニウム等のヨードニウムの、テトラフルオロボレート、ヘキサフルオロホスフェート、ヘキサフルオロアルセネート、ヘキサフルオロアンチモネート等が挙げられる。 Examples of the diaryliodonium salt compound include diphenyliodonium, 4,4'-dichlorodiphenyliodonium, 4,4'-dimethoxydiphenyliodonium, 4,4'-di-tert-butyldiphenyliodonium, (4-methylphenyl) ( Examples of iodoniums such as 4- (2-methylpropyl) phenyl) iodonium and 3,3'-dinitrophenyl iodonium include tetrafluoroborate, hexafluorophosphate, hexafluoroarsenate, and hexafluoroantimonate.

トリアリールスルホニウム塩化合物としては、例えば、トリフェニルスルホニウム、ジフェニル(4−tert−ブチルフェニル)スルホニウム、トリス(4−メチルフェニル)スルホニウム、トリス(4−メトキシフェニル)スルホニウム、ジフェニル(4−フェニルチオフェニル)スルホニウム等のスルホニウムの、テトラフルオロボレート、ヘキサフルオロホスフェート、ヘキサフルオロアルセネート、ヘキサフルオロアンチモネート等を挙げることができる。 Examples of the triarylsulfonium salt compound include triphenylsulfonium, diphenyl (4-tert-butylphenyl) sulfonium, tris (4-methylphenyl) sulfonium, tris (4-methoxyphenyl) sulfonium, and diphenyl (4-phenylthiophenyl). ) Tetrafluoroborate, hexafluorophosphate, hexafluoroarsenate, hexafluoroantimonate and the like of sulfonium such as sulfonium can be mentioned.

鉄アレーン錯体化合物としては、例えばビスシクロペンタジエニル−(η−イソプロピルベンゼン)−鉄(II)ヘキサフルオロホスフェート等が挙げられる。Examples of the iron arene complex compound include biscyclopentadienyl- (η 6 -isopropylbenzene) -iron (II) hexafluorophosphate.

これら光ラジカル重合開始剤、光酸発生剤などの光重合開始剤は単独で用いてもよいし、必要に応じて二種以上を混合して用いてもよい。
本発明の体積ホログラム記録材料用組成物における光重合開始剤の配合量は、前記(a)成分、及び前記(b)成分:(a)成分とは異なる重合性化合物の総量に対し0.01〜10質量%であり、好ましくは0.05〜5質量%である。
These photopolymerization initiators such as a photoradical polymerization initiator and a photoacid generator may be used alone, or two or more thereof may be mixed and used as required.
The blending amount of the photopolymerization initiator in the composition for volumetric hologram recording material of the present invention is 0.01 with respect to the total amount of the polymerizable compound different from the component (a) and the component (b): component (a). It is 10% by mass, preferably 0.05 to 5% by mass.

[体積ホログラム記録媒体]
本発明は上記(a)乃至(d)成分を含有する体積ホログラム記録材料用組成物を含む体積ホログラム記録層並びに該記録層を含む体積ホログラム記録媒体も対象とする。
本発明の体積ホログラム記録媒体における記録層には、上記(a)乃至(d)成分の他、必要に応じて、増感剤、連鎖移動剤、可塑剤、着色剤等の添加剤を加えてもよい。
[Volume hologram recording medium]
The present invention also covers a volume hologram recording layer containing a composition for a volume hologram recording material containing the above components (a) to (d), and a volume hologram recording medium including the recording layer.
In addition to the above components (a) to (d), additives such as a sensitizer, a chain transfer agent, a plasticizer, and a colorant are added to the recording layer in the volume hologram recording medium of the present invention, if necessary. May be good.

例えば、増感剤は前記光重合開始剤の光に対する感度を増加させるために用いることができる。増感剤としては、例えば、2,6−ジエチル−1,3,5,7,8−ペンタメチルピロメテン−BF錯体、1,3,5,7,8−ペンタメチルピロメテン−BF錯体等のピロメテン錯体化合物;エオシン、エチルエオシン、エリスロシン、フルオレセイン、ローズベンガル等のキサンテン系色素;3,3’−ジエチルオキサカルボシアニンヨージド、3,3’−ジエチルチアカルボシアニンヨージド、3,3’−ジエチルオキサジカルボシアニンヨージド、3,3’−ジプロピルチアジカルボシアニンヨージド、3,3,3’,3’−テトラメチル−1,1’−ビス(4−スルホブチル)ベンゾインドジカルボシアニンナトリウム等のシアニン色素;2,4−ビス[4−(ジエチルアミノ)−2−ヒドロキシフェニル]スクアライン、2,4−ビス[8−ヒドロキシ−1,1,7,7−テトラメチルジュロリジン−9−イル]スクアライン等のスクアリウム色素;1−(1−メチルナフト〔1,2−d〕チアゾール−2(1H)−イリデン)−4−(2,3,6,7−テトラヒドロ−1H,5H−ベンゾ〔ij〕キノリジン−9−イル)−3−ブテン−2−オン、1−(3−メチルベンゾチアゾール−2(3H)−イリデン)−4−(p−ジメチルアミノフェニル)−3−ブテン−2−オン等のケトチアゾリン化合物;2−(p−ジメチルアミノスチリル)−ナフト〔1,2−d〕チアゾール、2−(4−(p−ジメチルアミノフェニル)−1,3−ブタジエニル)ナフト〔1,2−d〕チアゾール等のスチリル又はフェニルブタジエニル複素環化合物などが挙げられる。また、2,4−ジフェニル−6−(p−ジメチルアミノスチリル)−1,3,5−トリアジン、2,4−ジフェニル−6−((2,3,6,7−テトラヒドロ−1H,5H−ベンゾ〔ij〕キノリジン−9−イル)−1−エテン−2−イル)−1,3,5−トリアゾンナンスリル=(2,3,6,7−テトラヒドロ−1H,5H−ベンゾ〔ij〕キノリジン−9−イル)−1−エテン−2−イル=ケトン、2,5−ビス(p−ジメチルアミノシンナミリデン)シクロペンタノン、5,10,15,20−テトラフェニルポルフィリン等が挙げられる。増感剤が使用される場合、その添加量としては、前記(d)光重合開始剤1質量部に対して、例えば、0.01〜20質量部、好ましくは0.01〜10質量部である。For example, the sensitizer can be used to increase the sensitivity of the photopolymerization initiator to light. Examples of the sensitizer include 2,6-diethyl-1,3,5,7,8-pentamethylpyromethene-BF 2 complex, 1,3,5,7,8-pentamethylpyromethene-BF 2 Pyromethene complex compounds such as complexes; xanthene dyes such as eosin, ethyleosin, erythrosin, fluorescein, rosebengal; 3,3'-diethyloxacarbocyanine iodide, 3,3'-diethylthiacarbocyanine iodide, 3, 3'-diethyloxadicarbocyanine iodide, 3,3'-dipropylthiadicarbocyanine iodide, 3,3,3', 3'-tetramethyl-1,1'-bis (4-sulfobutyl) benzoin Cyanine dyes such as sodium dodicarbocyanine; 2,4-bis [4- (diethylamino) -2-hydroxyphenyl] squaline, 2,4-bis [8-hydroxy-1,1,7,7-tetramethylduro Squalium dyes such as lysine-9-yl] squaline; 1- (1-methylnaphtho [1,2-d] thiazole-2 (1H) -iriden) -4- (2,3,6,7-tetrahydro-1H) , 5H-benzo [ij] quinolidine-9-yl) -3-buten-2-one, 1- (3-methylbenzothiazole-2 (3H) -iriden) -4- (p-dimethylaminophenyl) -3 Ketothiazolin compounds such as -buten-2-one; 2- (p-dimethylaminostyryl) -naphtho [1,2-d] thiazole, 2- (4- (p-dimethylaminophenyl) -1,3-butadienyl) Examples thereof include styryl or phenylbutadienyl heterocyclic compounds such as naphthol [1,2-d] thiazole. In addition, 2,4-diphenyl-6- (p-dimethylaminostyryl) -1,3,5-triazine, 2,4-diphenyl-6-((2,3,6,7-tetrahydro-1H, 5H-) Benzo [ij] quinolidine-9-yl) -1-ethen-2-yl) -1,3,5-triazononanthrill = (2,3,6,7-tetrahydro-1H, 5H-benzo [ij] Kinolidine-9-yl) -1-ethen-2-yl-ketone, 2,5-bis (p-dimethylaminocinnamylidene) cyclopentanone, 5,10,15,20-tetraphenylporphyrin and the like can be mentioned. .. When a sensitizer is used, the amount of the sensitizer added is, for example, 0.01 to 20 parts by mass, preferably 0.01 to 10 parts by mass with respect to 1 part by mass of the (d) photopolymerization initiator. be.

また、膜厚の均一性を持たせ、光照射での重合で形成された干渉膜を安定に存在させるためには結合材としてバインダ樹脂を加えてもよい。
バインダ樹脂は前記樹脂成分((a)及び(b)成分)と相溶性のよいものが好ましく、その具体例としては塩素化ポリエチレン、ポリメチル(メタ)アクリレート、メチル(メタ)アクリレートと他の(メタ)アクリル酸アルキルエステルの共重合体、塩化ビニルとアクリロニトリルの共重合体、ポリ酢酸ビニル、ポリビニルアルコール、ポリビニルホルマール、ポリビニルブチラール、ポリビニルピロリドン、エチルセルロース、アセチルセルロースなどが挙げられる。
Further, a binder resin may be added as a binder in order to maintain the uniformity of the film thickness and to allow the interference film formed by the polymerization by light irradiation to exist stably.
The binder resin preferably has good compatibility with the resin components (components (a) and (b)), and specific examples thereof include chlorinated polyethylene, polymethyl (meth) acrylate, methyl (meth) acrylate and other (meth) resins. ) Acrylate alkyl ester copolymer, vinyl chloride and acrylonitrile copolymer, polyvinyl acetate, polyvinyl alcohol, polyvinyl formal, polyvinyl butyral, polyvinylpyrrolidone, ethyl cellulose, acetyl cellulose and the like can be mentioned.

本発明の体積ホログラム記録用組成物を用いて体積ホログラム記録層並びに体積ホログラム記録媒体を作るには(a)乃至(d)成分を、必要に応じ、増感剤、及びバインダ樹脂等とともに混合し、このまま無溶剤で透明基体(支持体)上に塗布するか、これらの混合物に溶剤又は添加剤を加えて所謂ワニスの形態とし、これを透明基体上に塗布、乾燥して、透明基体上に体積ホログラム記録層が形成した記録媒体を得る。
さらに該記録層上に透明基体、或いは酸素遮断のための保護層を設け、体積ホログラム記録層が2枚の透明基体間、或いは透明基体と保護層間に配置された構造とすることもできる。
In order to prepare a volume hologram recording layer and a volume hologram recording medium using the volume hologram recording composition of the present invention, the components (a) to (d) are mixed together with a sensitizer, a binder resin and the like, if necessary. As it is, it is applied on a transparent substrate (support) without solvent, or a mixture thereof is added with a solvent or an additive to form a so-called varnish, which is applied on the transparent substrate, dried, and then on the transparent substrate. A recording medium formed by a volumetric hologram recording layer is obtained.
Further, a transparent substrate or a protective layer for blocking oxygen may be provided on the recording layer, and the volume hologram recording layer may be arranged between the two transparent substrates or between the transparent substrate and the protective layer.

上記溶剤としては、使用成分に対して十分な溶解度を持ち、良好な塗膜性を与えるものであれば特に制限はないが、例えば、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、メチルセロソルブアセテート、エチルセロソルブアセテート等のセロソルブ系溶剤;プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノブチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノブチルエーテルアセテート、ジプロピレングリコールジメチルエーテル等のプロピレングリコール系溶剤;酢酸ブチル、酢酸アミル、酢酸エチル、酢酸ブチル、ジエチルオキサレート、ピルビン酸エチル、2−ヒドロキシ酪酸エチル、アセト酢酸エチル、乳酸メチル、乳酸エチル、3−メトキシプロピオン酸メチル等のエステル系溶剤;ブタノール、ヘプタノール、ヘキサノール、ジアセトンアルコール、フルフリルアルコール等のアルコール系溶剤;メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、メチルアミルケトン等のケトン系溶剤;N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド、N−メチル−2−ピロリドン等のアミド系溶剤;あるいはこれらの混合溶剤、さらには、これらに芳香族炭化水素を添加したもの等が挙げられる。
上記溶剤を使用する場合、その使用量の割合は、本実施形態の体積ホログラム用材料組成物の総量に対して、通常、質量比で1〜20倍程度の範囲である。
The solvent is not particularly limited as long as it has sufficient solubility in the components used and gives good coating properties, but for example, methyl cellosolve, ethyl cellosolve, methyl cellosolve acetate, ethyl cellosolve acetate and the like. Cellosolve-based solvent; propylene glycol-based solvent such as propylene glycol monomethyl ether, propylene glycol monoethyl ether, propylene glycol monobutyl ether, propylene glycol monomethyl ether acetate, propylene glycol monoethyl ether acetate, propylene glycol monobutyl ether acetate, dipropylene glycol dimethyl ether; Ester solvents such as butyl acetate, amyl acetate, ethyl acetate, butyl acetate, diethyl oxalate, ethyl pyruvate, ethyl 2-hydroxybutyrate, ethyl acetoacetate, methyl lactate, ethyl lactate, methyl 3-methoxypropionate; butanol, Alcohol-based solvents such as hepthanol, hexanol, diacetone alcohol, and furfuryl alcohol; ketone solvents such as methyl isobutyl ketone, cyclohexanone, and methyl amyl ketone; N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide, N-methyl- Examples thereof include amide-based solvents such as 2-pyrrolidone; or mixed solvents thereof, and those to which aromatic hydrocarbons are added.
When the above solvent is used, the ratio of the amount used is usually in the range of about 1 to 20 times by mass ratio with respect to the total amount of the material composition for volume hologram of the present embodiment.

上記透明基体としては、透明なガラス板、アクリル板、ポリエチレンテレフタレートフィルム、ポリエチレンフィルム等が用いられる。塗布方法としては、従来公知の方法、例えば、回転塗布、ワイヤーバー塗布、ディップ塗布、エアーナイフ塗布、ロール塗布、ブレード塗布、及びカーテン塗布等を用いることができる。 As the transparent substrate, a transparent glass plate, an acrylic plate, a polyethylene terephthalate film, a polyethylene film or the like is used. As the coating method, conventionally known methods such as rotary coating, wire bar coating, dip coating, air knife coating, roll coating, blade coating, curtain coating and the like can be used.

上記保護層としては、酸素による感度低下や保存安定性の劣化等の悪影響を防止するための公知技術、例えば、水溶性ポリマー等の塗布を用いることもできる。 As the protective layer, a known technique for preventing adverse effects such as deterioration of sensitivity and storage stability due to oxygen, for example, coating of a water-soluble polymer or the like can also be used.

本発明はまた、前記体積ホログラム記録材料用組成物を用いるパターン形成方法も対象とする。
すなわち、前記体積ホログラム記録材料用組成物を、支持体に塗布し塗布膜を形成する工程、及び前記塗布膜にパターン露光する工程を含む方法であって、特に前記パターン露光が干渉露光であることが好ましい。
上記支持体としては前述の透明基体として挙げたものを好適に使用でき、また支持体への塗布方法としては前述の透明基体上への塗布方法を挙げることができる。
The present invention also covers a pattern forming method using the composition for volume hologram recording material.
That is, it is a method including a step of applying the composition for a volume hologram recording material to a support to form a coating film and a step of pattern-exposing the coating film, and in particular, the pattern exposure is interference exposure. Is preferable.
As the support, those listed as the above-mentioned transparent substrate can be preferably used, and as the coating method on the support, the above-mentioned coating method on the transparent substrate can be mentioned.

前述したとおり、体積ホログラム記録用組成物として従来、屈折率の異なる複数の官能性モノマーからなる組成物や液状有機物と官能性モノマーからなる組成物などが知られている。こうした組成物を用いて回折効率の高いホログラムを得るためには、干渉縞の明部に当たる領域と暗部に当たる領域の屈折率差を大きくする必要がある。しかしながら従来提案されている有機物の屈折率は通常1.3〜1.6程度に限られることから、有機物同士の組合せからなるホログラム記録材料では屈折率差を大きくするのに限界があるとされていた。
本発明において使用するトリアジン環含有ハイパーブランチポリマーは1.7を上回る高い屈折率を有し、このため、従来限界があるとされた有機物(樹脂成分など)との組合せにおいても屈折率差を大きく取ることができ、従って回折光率の高いホログラムを得ることができる。
As described above, conventionally, as a volume hologram recording composition, a composition composed of a plurality of functional monomers having different refractive indexes, a composition composed of a liquid organic substance and a functional monomer, and the like are known. In order to obtain a hologram having high diffraction efficiency using such a composition, it is necessary to increase the difference in refractive index between the region corresponding to the bright part and the region corresponding to the dark part of the interference fringes. However, since the refractive index of organic substances that has been conventionally proposed is usually limited to about 1.3 to 1.6, it is said that there is a limit to increasing the difference in refractive index with a hologram recording material made of a combination of organic substances. rice field.
The triazine ring-containing hyperbranched polymer used in the present invention has a high refractive index exceeding 1.7, and therefore, the difference in refractive index is large even in combination with an organic substance (resin component, etc.), which has been considered to have a limit in the past. Therefore, a hologram having a high refractive index can be obtained.

本発明の体積ホログラム記録材料用組成物を用いた体積ホログラム記録媒体における体積ホログラムの記録原理は、以下のように推察される。
ホログラムなどのパターンは、記録層に含まれる少なくとも二種の成分の、干渉縞の明暗部への相互拡散による屈折率の差を利用して、光の干渉パターンを記録することにより形成される。従って、パターンを形成するためのパターン露光の条件下(例えばホログラム記録のための干渉露光の条件下)で、例えば本発明の場合には、上記の(メタ)アクリル酸ヒドロキシアルキルやその他の重合性化合物などの重合性成分より生じる重合体の屈折率と、トリアジン環含有ハイパーブランチポリマーの屈折率との差が大きいことが重要となる。
The recording principle of the volume hologram in the volume hologram recording medium using the composition for the volume hologram recording material of the present invention is inferred as follows.
A pattern such as a hologram is formed by recording an interference pattern of light by utilizing the difference in the refractive index of at least two kinds of components contained in the recording layer due to mutual diffusion of interference fringes into bright and dark areas. Therefore, under the conditions of pattern exposure for forming a pattern (for example, the conditions of interference exposure for hologram recording), for example, in the case of the present invention, the above-mentioned hydroxyalkyl (meth) acrylate and other polymerizable properties It is important that the difference between the refractive index of the polymer generated from the polymerizable component such as a compound and the refractive index of the triazine ring-containing hyperbranched polymer is large.

すなわち、本発明においては、ホログラム記録のための干渉露光に用いる光の波長に対して、トリアジン環含有ハイパーブランチポリマーの屈折率と、(メタ)アクリル酸ヒドロキシアルキルやその他の重合性化合物などの重合性成分より生じる重合体の屈折率との差が大きいことが好ましいといえ、例えば差が0.01〜0.6であることが好ましいといえる。さらに該屈折率の差が0.02〜0.5、又は0.03〜0.4であることがより好ましいといえる。なお一般に、(メタ)アクリレート系重合体の屈折率は1.49〜1.53、エポキシ系重合体の屈折率は1.55〜1.61である。そして、このような観点から、前述の成分、すなわち、本発明で用いる好適な(c)トリアジン環含有ハイパーブランチポリマーと、重合性成分(特に(メタ)アクリル酸ヒドロキシアルキルとは異なる(b)重合性化合物)が夫々選択されることとなる。
なお、該トリアジン環含有ハイパーブランチポリマーの屈折率は比較的高く、例えば、波長589nmの光に対する屈折率は1.7を超えるものがある。このため、本発明で用いられる重合性成分((メタ)アクリル酸ヒドロキシアルキルと、それとは異なる重合性化合物)より生ずる重合体の屈折率は、上記数値と比べて相対的に小さいことが好ましく、例えば、波長589nmの光に対する屈折率が1.3以上、1.7以下である重合体を与える重合性成分が好ましく使用される。より好ましくは波長589nmの光に対する屈折率が1.3〜1.6である重合体を与える重合性成分(重合性化合物など)が使用されることとなる。
That is, in the present invention, the refractive index of the triazine ring-containing hyperbranched polymer and the polymerization of hydroxyalkyl (meth) acrylate and other polymerizable compounds with respect to the wavelength of light used for interference exposure for hologram recording. It can be said that it is preferable that the difference from the refractive index of the polymer generated from the sex component is large, and for example, the difference is preferably 0.01 to 0.6. Further, it can be said that the difference in refractive index is more preferably 0.02 to 0.5 or 0.03 to 0.4. Generally, the refractive index of the (meth) acrylate-based polymer is 1.49 to 1.53, and the refractive index of the epoxy-based polymer is 1.55 to 1.61. From this point of view, the above-mentioned components, that is, the suitable (c) triazine ring-containing hyperbranched polymer used in the present invention, and the polymerizable component (particularly, (b) polymerization different from hydroxyalkyl (meth) acrylate). Sex compounds) will be selected respectively.
The triazine ring-containing hyperbranched polymer has a relatively high refractive index, and for example, the refractive index for light having a wavelength of 589 nm may exceed 1.7. Therefore, the refractive index of the polymer produced from the polymerizable component (hydroxyalkyl (meth) acrylate and a polymerizable compound different from the hydroxyalkyl (meth) acrylate) used in the present invention is preferably relatively small compared to the above values. For example, a polymerizable component that gives a polymer having a refractive index of 1.3 or more and 1.7 or less with respect to light having a wavelength of 589 nm is preferably used. More preferably, a polymerizable component (such as a polymerizable compound) that gives a polymer having a refractive index of 1.3 to 1.6 with respect to light having a wavelength of 589 nm is used.

なお、重合体の屈折率は、重合性成分及び光重合開始剤からなる組成物を支持体上に塗布し、必要に応じて乾燥を行った後、ホログラム記録のための干渉露光に用いる光を用いた条件下で空間的に一様な露光を組成物に施すことによって重合体を得、その重合体の屈折率を測定することにより求めることができる。そして、このようにして得られる重合体の屈折率と、トリアジン環含有ハイパーブランチポリマーの屈折率とを基にして、本発明のホログラム記録材料用組成物に好適な重合性成分((メタ)アクリル酸ヒドロキシアルキル及びそれとは異なる重合性化合物など)、及びトリアジン環含有ハイパーブランチポリマーをそれぞれ選択することができる。 The refractive index of the polymer is determined by applying a composition composed of a polymerizable component and a photopolymerization initiator on the support, drying it if necessary, and then using light for interference exposure for hologram recording. It can be obtained by subjecting the composition to spatially uniform exposure under the conditions used to obtain a polymer, and measuring the refractive index of the polymer. Then, based on the refractive index of the polymer thus obtained and the refractive index of the triazine ring-containing hyperbranched polymer, a polymerizable component ((meth) acrylic) suitable for the composition for hologram recording material of the present invention. (Hydroxyalkyl acid and other polymerizable compounds, etc.) and triazine ring-containing hyperbranched polymers can be selected, respectively.

以下、実施例及び比較例を挙げて、本発明をより具体的に説明するが、本発明は下記の実施例に限定されるものではない。なお、実施例において、試料の調製及び物性の分析に用いた装置及び条件は、以下のとおりである。
H NMR]
装置:アジレント・テクノロジー(株)製 NMR System 400NB
測定溶媒:DMSO−d
基準物質:テトラメチルシラン(δ0.00ppm)
[GPC(ゲル浸透クロマトグラフィー)]
装置:東ソー(株)製 HLC−8200GPC
カラム:昭和電工(株)製 Shodex(登録商標) GPC KF−804L + 同KF−805L
カラム温度:40℃
溶媒:THF
検出器:UV(254nm)
検量線:標準ポリスチレン
[膜密度]
装置:ブルカージャパン(株)製 多目的X線回折装置 D8 DISCOVER
管電圧−電流:50kV−100mA
測定範囲:0.2−3.000deg(2θ)
ステップ幅:0.005deg(2θ)
time/step:0.5秒/step
[5%重量減少温度(Td5%)]
装置:(株)リガク製 示差熱天秤(TG−DTA) TG−8120
昇温速度:10℃/分
測定温度:25〜750℃
[屈折率]
装置:ジェー・エー・ウーラム・ジャパン(株)製 高速分光エリプソメーター M−2000
Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to Examples and Comparative Examples, but the present invention is not limited to the following Examples. In the examples, the devices and conditions used for sample preparation and analysis of physical properties are as follows.
[ 1 1 H NMR]
Equipment: NMR System 400NB manufactured by Agilent Technologies, Inc.
Measuring solvent: DMSO-d 6
Reference substance: Tetramethylsilane (δ0.00ppm)
[GPC (Gel Permeation Chromatography)]
Equipment: HLC-8200GPC manufactured by Tosoh Corporation
Column: Showa Denko Corporation Shodex (registered trademark) GPC KF-804L + KF-805L
Column temperature: 40 ° C
Solvent: THF
Detector: UV (254 nm)
Calibration curve: Standard polystyrene [membrane density]
Equipment: Multipurpose X-ray diffractometer manufactured by Bruker Japan Co., Ltd. D8 DISCOVER
Tube voltage-current: 50kV-100mA
Measurement range: 0.2-3.000 deg (2θ)
Step width: 0.005 deg (2θ)
time / step: 0.5 seconds / step
[5% weight loss temperature (Td 5% )]
Equipment: Differential thermal balance (TG-DTA) TG-8120 manufactured by Rigaku Co., Ltd.
Temperature rise rate: 10 ° C / min Measurement temperature: 25 to 750 ° C
[Refractive index]
Equipment: JA Woolam Japan Co., Ltd. High-speed spectroscopic ellipsometer M-2000

また、用いた略号の意味は、以下のとおりである。
4HBA:4−ヒドロキシブチルアクリレート[東京化成工業(株)製]
BnMA:ベンジルメタクリレート[東京化成工業(株)製]
MMA:メチルメタクリレート[純正化学(株)製]
NVP:N−ビニル−2−ピロリドン[純正化学(株)製]
THFA:テトラヒドロフルフリルアクリレート[共栄社化学(株)製、ライトアクリレートTHF−A]
DPHA:ジペンタエリスリトールペンタアクリレート/ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート混合物[東亞合成(株)製、アロニックス(登録商標)M−403]
EDPHA:エチレンオキシド変性ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート[新中村化学工業(株)製、A−DPH−12E]
I784:ビス(シクロペンタジエニル)ビス(2,6−ジフルオロ−3−(1H−ピロール−1−イル)フェニル)チタニウム[BASFジャパン(株)製、IRGACURE(登録商標)784)]
NPG:N−フェニルグリシン[東京化成工業(株)製]
TCT:2,4,6−トリス(トリクロロメチル)−1,3,5−トリアジン[富士フイルム和光純薬(株)製]
DiSC:3,3’−ジプロピルチアジカルボシアニンヨージド[東京化成工業(株)製、DiSC(5)]
RB:ローズベンガル[東京化成工業(株)製]
DMAc:N,N−ジメチルアセトアミド
THF:テトラヒドロフラン
The meanings of the abbreviations used are as follows.
4HBA: 4-Hydroxybutyl acrylate [manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.]
BnMA: Benzyl methacrylate [manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.]
MMA: Methyl Methacrylate [manufactured by Junsei Chemical Co., Ltd.]
NVP: N-Vinyl-2-pyrrolidone [manufactured by Junsei Chemical Co., Ltd.]
THFA: Tetrahydrofurfuryl acrylate [Kyoeisha Chemical Co., Ltd., light acrylate THF-A]
DPHA: Dipentaerythritol pentaacrylate / dipentaerythritol hexaacrylate mixture [manufactured by Toagosei Co., Ltd., Aronix (registered trademark) M-403]
EDPHA: Ethylene oxide-modified dipentaerythritol hexaacrylate [manufactured by Shin Nakamura Chemical Industry Co., Ltd., A-DPH-12E]
I784: Bis (cyclopentadienyl) Bis (2,6-difluoro-3- (1H-pyrrole-1-yl) phenyl) Titanium [manufactured by BASF Japan Ltd., IRGACURE (registered trademark) 784)]
NPG: N-Phenylglycine [manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.]
TCT: 2,4,6-tris (trichloromethyl) -1,3,5-triazine [manufactured by Fujifilm Wako Pure Chemical Industries, Ltd.]
DiSC: 3,3'-dipropylthia dicarbocyanine iodine [manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd., DiSC 3 (5)]
RB: Rose Bengal [manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.]
DMAc: N, N-dimethylacetamide THF: tetrahydrofuran

[製造例1]トリアジン環含有ハイパーブランチポリマー(HB−TmDA)の製造

Figure 2020050321
[Production Example 1] Production of a triazine ring-containing hyperbranched polymer (HB-TmDA)
Figure 2020050321

窒素雰囲気下、1L四口フラスコにDMAc456gを仕込み、アセトン−ドライアイス浴により−10℃まで冷却した。ここへ、2,4,6−トリクロロ−1,3,5−トリアジン[エボニック社製]84.83g(0.460mol)を加え溶解させた。次に、別途m−フェニレンジアミン62.18g(0.575mol)及びアニリン14.57g(0.156mol)をDMAc304gに溶解させた溶液を、前記四口フラスコに滴下し、滴下終了後30分間撹拌した。
この反応液を、別途オイルバスにより85℃に加熱してある2L四口フラスコ中のDMAc622gに、送液ポンプを用いて1時間かけて滴下し、さらに1時間撹拌して重合させた。その後、アニリン113.95g(1.224mol)を加え、さらに1時間撹拌して反応を終了した。
氷浴により室温(およそ23℃)まで冷却した。ここへトリエチルアミン116.36g(1.15mol)を滴下した後、さらに30分間撹拌し、重合反応により副生した塩酸をクエンチした。析出した塩酸塩をろ別した。このろ液を、28質量%アンモニア水溶液279.29g及びイオン交換水8,820gの混合溶液に加え、ポリマーを再沈殿させた。沈殿物をろ取し、150℃で8時間減圧乾燥した。得られた粗物をTHF833gに再溶解させ、イオン交換水6,665gに加え再沈殿させた。沈殿物をろ取し、150℃で25時間減圧乾燥し、目的とするトリアジン環含有ハイパーブランチポリマーの微粒子[1a](以下、HB−TmDAと略す)118.0gを得た。
得られたHB−TmDAのH NMRスペクトルを図1に示す。HB−TmDAは、上記式[1a]で表される繰り返し単位構造を有する化合物である。HB−TmDAのGPCによるポリスチレン換算で測定される重量平均分子量Mwは4,300、多分散度Mw/Mn(重量平均分子量/数平均分子量)は3.4、5%重量減少温度Td5%は419℃であった。また膜密度測定より得られたHB−TmDAの密度は1.32g/cmであった。
得られたHB−TmDAの10質量%シクロヘキサノン溶液を、ガラス基板上にスピンコート(200rpm×5秒間、次いで2,000rpm×30秒間)し、150℃で1分間、次いで250℃で5分間加熱して塗膜を形成した。得られた塗膜の550nmにおける屈折率は1.790であった。
Under a nitrogen atmosphere, 456 g of DMAc was charged in a 1 L four-necked flask and cooled to −10 ° C. by an acetone-dry ice bath. To this, 84.83 g (0.460 mol) of 2,4,6-trichloro-1,3,5-triazine [manufactured by Evonik] was added and dissolved. Next, a solution prepared by separately dissolving 62.18 g (0.575 mol) of m-phenylenediamine and 14.57 g (0.156 mol) of aniline in 304 g of DMAc was added dropwise to the four-necked flask, and the mixture was stirred for 30 minutes after the completion of the addition. ..
This reaction solution was added dropwise to 622 g of DMAc in a 2 L four-necked flask separately heated to 85 ° C. by an oil bath over 1 hour using a liquid feed pump, and further stirred for 1 hour for polymerization. Then, 113.95 g (1.224 mol) of aniline was added, and the mixture was further stirred for 1 hour to complete the reaction.
It was cooled to room temperature (approximately 23 ° C.) by an ice bath. After adding 116.36 g (1.15 mol) of triethylamine to this, the mixture was further stirred for 30 minutes, and hydrochloric acid produced as a by-product of the polymerization reaction was quenched. The precipitated hydrochloride salt was filtered off. This filtrate was added to a mixed solution of 279.29 g of a 28 mass% aqueous ammonia solution and 8,820 g of ion-exchanged water to reprecipitate the polymer. The precipitate was collected by filtration and dried under reduced pressure at 150 ° C. for 8 hours. The obtained crude product was redissolved in 833 g of THF, added to 6,665 g of ion-exchanged water, and reprecipitated. The precipitate was collected by filtration and dried under reduced pressure at 150 ° C. for 25 hours to obtain 118.0 g of the target triazine ring-containing hyperbranched polymer fine particles [1a] (hereinafter abbreviated as HB-TmDA).
The 1 H NMR spectrum of the obtained HB-TmDA is shown in FIG. HB-TmDA is a compound having a repeating unit structure represented by the above formula [1a]. The weight average molecular weight Mw measured by GPC of HB-TmDA in terms of polystyrene is 4,300, and the polydispersity Mw / Mn (weight average molecular weight / number average molecular weight) is 3.4, 5%. It was 419 ° C. The density of HB-TmDA obtained from the film density measurement was 1.32 g / cm 3 .
The obtained 10% by mass cyclohexanone solution of HB-TmDA was spin-coated on a glass substrate (200 rpm × 5 seconds, then 2,000 rpm × 30 seconds), and heated at 150 ° C. for 1 minute and then at 250 ° C. for 5 minutes. To form a coating film. The refractive index of the obtained coating film at 550 nm was 1.790.

[実施例1]
<体積ホログラム記録材料用組成物の調製>
(a)(メタ)アクリル酸ヒドロキシアルキルとして、4HBA764mg、(b)重合性化合物として、DPHA303mg、(c)トリアジン環含有ハイパーブランチポリマーとして、製造例1で得られたHB−TmDA320mg、及び(d)光重合開始剤として、I784 3.1mgを混合し、50℃で72時間撹拌することで、体積ホログラム記録材料用組成物を調製した。
ここで、4HBAの密度は1.04g/cm、DPHAの密度は1.186g/cm、HB−TmDAの密度は1.32g/cmであり、その体積はそれぞれ、4HBA:0.764÷1.04=0.735cm、DPHA:0.303÷1.186=0.255cm、HB−TmDA:0.32÷1.32=0.242cmであった。
したがって、各重合性成分(4HBA及びDPHA)及びHB−TmDAの合計体積に占めるHB−TmDAの体積分率は、(0.242÷(0.735+0.255+0.242))×100=19.64、即ち19.6体積%であった。
[Example 1]
<Preparation of composition for volume hologram recording material>
(A) As hydroxyalkyl (meth) acrylate, 4HBA 764 mg, (b) As a polymerizable compound, DPHA 303 mg, (c) As a triazine ring-containing hyperbranched polymer, HB-TmDA 320 mg obtained in Production Example 1, and (d). A composition for a volumetric hologram recording material was prepared by mixing 3.1 mg of I784 as a photopolymerization initiator and stirring at 50 ° C. for 72 hours.
Here, the density of 4HBA is 1.04 g / cm 3, the density of DPHA density of 1.186g / cm 3, HB-TmDA is 1.32 g / cm 3, respectively its volume, 4HBA: 0.764 ÷ 1.04 = 0.735 cm 3 , DPHA: 0.303 ÷ 1.186 = 0.255 cm 3 , HB-TmDA: 0.32 ÷ 1.32 = 0.242 cm 3 .
Therefore, the volume fraction of HB-TmDA in the total volume of each polymerizable component (4HBA and DPHA) and HB-TmDA is (0.242 ÷ (0.735 + 0.255 + 0.242)) × 100 = 19.64. That is, it was 19.6% by volume.

<体積ホログラム記録媒体の作製>
スライドガラスの上下左右両端部に、スペーサとして厚さ10μmの金属箔を置き、スライドガラス中央(スペーサに挟まれた領域)に上記体積ホログラム記録材料用組成物を滴下し、体積ホログラム記録層を形成した。その後、形成した体積ホログラム記録層を挟むように別のスライドガラスを被せ、体積ホログラム記録媒体を作製した。
<Preparation of volume hologram recording medium>
A metal leaf having a thickness of 10 μm is placed as a spacer on the upper, lower, left, and right ends of the slide glass, and the composition for volume hologram recording material is dropped on the center of the slide glass (region sandwiched between the spacers) to form a volume hologram recording layer. bottom. Then, another slide glass was put on the formed volume hologram recording layer so as to sandwich the formed volume hologram recording layer, and a volume hologram recording medium was produced.

<体積ホログラム記録時の各物性値の測定>
得られた体積ホログラム記録媒体に対し、図2に示す装置によって二光束干渉露光を行い、体積ホログラムの記録を試みた。体積ホログラム記録媒体に対し、波長532nmのNd:YVOレーザーを用いて、露光パワー密度250mW/cmで二光束干渉露光(格子間隔1μm)を行った。Nd:YVOレーザーから出射した光はビームエキスパンダを経てハーフミラーで2本に分割され、それぞれミラーを経て体積ホログラム記録媒体に照射され、両光の干渉縞が記録され体積ホログラムを形成させた。
同時に、体積ホログラム記録媒体が感光しない波長632.8nmのヘリウムネオン(He−Ne)レーザーを体積ホログラム記録媒体に照射し、その回折光を光検出器で検出することによりホログラム形成過程をモニターし回折効率を評価した。また、露光後の回折効率の角度依存性を測定し、試料の露光後の膜厚を算出した。さらに、得られた回折効率と膜厚から、屈折率変調量(Δn)の露光時間変化と飽和屈折率変調量(Δnsat)を評価した。結果を表1に併せて示す。また露光時間に対するΔnの変化を図3に示す。
<Measurement of each physical property value during volume hologram recording>
The obtained volume hologram recording medium was subjected to double luminous flux interference exposure by the apparatus shown in FIG. 2 to attempt to record the volume hologram. A two- luminous flux interference exposure (lattice spacing 1 μm) was performed on the volume hologram recording medium using an Nd: YVO 4 laser having a wavelength of 532 nm at an exposure power density of 250 mW / cm 2. Nd: YVO 4 light emitted from the laser is split into two by the half mirror through the beam expander is irradiated onto the volume hologram recording medium via mirrors respectively, interference fringes of the two light to form a volume hologram is recorded ..
At the same time, the volume hologram recording medium is irradiated with a helium neon (He-Ne) laser having a wavelength of 632.8 nm, which is not exposed to the volume hologram recording medium, and the diffracted light is detected by an optical detector to monitor and diffract the hologram formation process. The efficiency was evaluated. In addition, the angle dependence of the diffraction efficiency after exposure was measured, and the film thickness of the sample after exposure was calculated. Further, the exposure time change of the refractive index modulation amount (Δn ) and the saturated refractive index modulation amount (Δn sat ) were evaluated from the obtained diffraction efficiency and the film thickness. The results are also shown in Table 1. The change of Δn with respect to the exposure time is shown in FIG.

[比較例1]
4HBA764mgをTHFA(密度1.064g/cm)704mg及びNVP(密度1.043g/cm)60mgに変更した以外は実施例1と同様の方法で、HB−TmDAの体積分率が19.9体積%となる体積ホログラム媒体を作製し、同様に評価した。結果を表1に併せて示す。また露光時間に対するΔnの変化を図4に示す。
[Comparative Example 1]
The volume fraction of HB-TmDA was 19.9 in the same manner as in Example 1 except that 4HBA764 mg was changed to THFA (density 1.064 g / cm 3 ) 704 mg and NVP (density 1.043 g / cm 3) 60 mg. A volume hologram medium having a volume percentage was prepared and evaluated in the same manner. The results are also shown in Table 1. The change of Δn with respect to the exposure time is shown in FIG.

[比較例2]
4HBA764mgをMMA764mgに変更した以外は実施例1と同様の方法で、体積ホログラム記録材料用組成物の作製を試みた。しかし、HB−TmDAが溶解せず均一な組成物が得られなかったため、以降の体積ホログラムの形成及び回折効率の評価は行えなかった。
[Comparative Example 2]
An attempt was made to prepare a composition for a volume hologram recording material by the same method as in Example 1 except that 4HBA 764 mg was changed to MMA 764 mg. However, since HB-TmDA was not dissolved and a uniform composition could not be obtained, subsequent formation of volume holograms and evaluation of diffraction efficiency could not be performed.

[比較例3]
4HBA764mgをBnMA764mgに変更した以外は実施例1と同様の方法で、体積ホログラム記録材料用組成物の作製を試みた。しかし、HB−TmDAが溶解せず均一な組成物が得られなかったため、以降の体積ホログラムの形成及び回折効率の評価は行えなかった。
[Comparative Example 3]
An attempt was made to prepare a composition for a volume hologram recording material by the same method as in Example 1 except that 4HBA 764 mg was changed to BnMA 764 mg. However, since HB-TmDA was not dissolved and a uniform composition could not be obtained, subsequent formation of volume holograms and evaluation of diffraction efficiency could not be performed.

Figure 2020050321
Figure 2020050321

表1に示すように、本発明の組成物(実施例1)は、エーテル構造を有するアクリルモノマー及びアミド構造を有するビニルモノマーを添加した組成物(比較例1)と比べて、極めて高い飽和屈折率変調量Δnsatを示すことが確認された。
また、本発明のヒドロキシアルキル(メタ)アクリレートに替えて、無置換のアルキル(メタ)アクリレートを添加した組成物(比較例2)、アラルキル(メタ)アクリレートを添加した組成物(比較例3)においては、ハイパーブランチポリマーが溶解せず均一な組成物が得られないとする結果を得た。
As shown in Table 1, the composition of the present invention (Example 1) has an extremely high saturated refractive index as compared with the composition to which an acrylic monomer having an ether structure and a vinyl monomer having an amide structure are added (Comparative Example 1). It was confirmed that the rate modulation amount Δn sat was exhibited.
Further, in the composition in which an unsubstituted alkyl (meth) acrylate is added instead of the hydroxyalkyl (meth) acrylate of the present invention (Comparative Example 2) and the composition in which aralkyl (meth) acrylate is added (Comparative Example 3). Obtained the result that the hyperbranched polymer did not dissolve and a uniform composition could not be obtained.

[実施例2]
(a)(メタ)アクリル酸ヒドロキシアルキルとして、4HBA3,918mg、(b)重合性化合物として、EDPHA159mg、(c)トリアジン環含有ハイパーブランチポリマーとして、製造例1で得られたHB−TmDA913mg、並びに(d)光重合開始剤として、NPG6.36mg、また増感剤として、RB3.18mgを混合し、50℃で24時間撹拌することで、体積ホログラム記録材料用組成物を調製した。
得られた組成物を用い、スペーサの厚さを5μmに、露光パワー密度を5mW/cmに、それぞれ変更した以外は実施例1と同様の方法で体積ホログラム記録媒体を作製し、屈折率変調量(Δn)の露光時間変化と飽和屈折率変調量(Δnsat)を評価した。結果を表2に併せて示す。また露光時間に対するΔnの変化を図5に示す。
ここで、4HBAの密度は1.04g/cm、EDPHAの密度は1.15g/cm、HB−TmDAの密度は1.32g/cmであり、その体積はそれぞれ、4HBA:3.918÷1.04=3.767cm、EDPHA:0.159÷1.15=0.138cm、HB−TmDA:0.913÷1.32=0.692cmであった。
したがって、各重合性成分(4HBA及びEDPHA)及びHB−TmDAの合計体積に占めるHB−TmDAの体積分率は、(0.692÷(3.767+0.138+0.692))×100=15.05、即ち15.1体積%であった。
[Example 2]
(A) 4,HBA 3,918 mg as (meth) hydroxyalkyl acrylate, (b) EDPHA 159 mg as a polymerizable compound, (c) HB-TmDA 913 mg obtained in Production Example 1 as a triazine ring-containing hyperbranched polymer, and ( d) A composition for a volumetric hologram recording material was prepared by mixing 6.36 mg of NPG as a photopolymerization initiator and 3.18 mg of RB as a sensitizer and stirring at 50 ° C. for 24 hours.
Using the obtained composition, a volume hologram recording medium was prepared in the same manner as in Example 1 except that the spacer thickness was changed to 5 μm and the exposure power density was changed to 5 mW / cm 2, and the refractive index was modulated. The change in exposure time of the quantity (Δn) and the saturated refractive index modulation amount (Δn sat ) were evaluated. The results are also shown in Table 2. The change of Δn with respect to the exposure time is shown in FIG.
Here, the density of 4HBA is 1.04 g / cm 3 , the density of EDPHA is 1.15 g / cm 3 , and the density of HB-TmDA is 1.32 g / cm 3 , and their volumes are 4HBA: 3.918, respectively. ÷ 1.04 = 3.767 cm 3 , EDPHA: 0.159 ÷ 1.15 = 0.138 cm 3 , HB-TmDA: 0.913 ÷ 1.32 = 0.692 cm 3 .
Therefore, the volume fraction of HB-TmDA in the total volume of each polymerizable component (4HBA and EDPHA) and HB-TmDA is (0.692 ÷ (3.767 + 0.138 + 0.692)) × 100 = 15.05. That is, it was 15.1% by volume.

[実施例3〜5]
実施例2と同様の方法で、HB−TmDAの体積分率が表2に記載の値となる体積ホログラム媒体を作製し、同様に評価した。結果を表2に併せて示す。また露光時間に対するΔnの変化を図6(実施例3)、図7(実施例4)、図8(実施例5)に示す。
[Examples 3 to 5]
A volume hologram medium having a volume fraction of HB-TmDA having a value shown in Table 2 was prepared by the same method as in Example 2, and evaluated in the same manner. The results are also shown in Table 2. Further, the change of Δn with respect to the exposure time is shown in FIG. 6 (Example 3), FIG. 7 (Example 4), and FIG. 8 (Example 5).

Figure 2020050321
Figure 2020050321

表2に示すように、本発明の組成物(実施例2〜実施例5)は極めて高い飽和屈折率変調量Δnsatを示すことが確認され、(b)重合性化合物としてエチレンオキシド変性ジペンタエリスリトールヘキサアクリレートと、(d)光重合開始剤としてN−フェニルグリシン及び増感剤としてローズベンガルを採用することにより、実施例1の組成物((b)重合性化合物としてジペンタエリスリトールペンタアクリレート/ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート混合物と、(c)光重合開始剤としてビス(シクロペンタジエニル)ビス(2,6−ジフルオロ−3−(1H−ピロール−1−イル)フェニル)チタニウム)に比べて、より一層高い飽和屈折率変調量Δnsatを示すことが確認された。As shown in Table 2, it was confirmed that the compositions of the present invention (Examples 2 to 5) exhibited an extremely high saturation refractive index modulation amount Δn sat , and (b) ethylene oxide-modified dipentaerythritol as a polymerizable compound. By adopting hexaacrylate, (d) N-phenylglycine as a photopolymerization initiator, and rosebengal as a sensitizer, the composition of Example 1 ((b) dipentaerythritol pentaacrylate / di as a polymerizable compound). More than pentaerythritol hexaacrylate mixture and (c) bis (cyclopentadienyl) bis (2,6-difluoro-3- (1H-pyrrole-1-yl) phenyl) titanium as photopolymerization initiator) It was confirmed that the saturated refractive index modulation amount Δn sat was higher.

[実施例6]
(a)(メタ)アクリル酸ヒドロキシアルキルとして、4HBA3,632mg、(b)重合性化合物として、EDPHA157mg、(c)トリアジン環含有ハイパーブランチポリマーとして、製造例1で得られたHB−TmDA1,202mg、並びに(d)光重合開始剤として、TCT23.56mg、また増感剤として、DiSC3.14mgを混合し、50℃で24時間撹拌することで、体積ホログラム記録材料用組成物を調製した。
ここで、4HBAの密度は1.04g/cm、EDPHAの密度は1.15g/cm、HB−TmDAの密度は1.32g/cmであり、その体積はそれぞれ、4HBA:3.632÷1.04=3.492cm、EDPHA:0.157÷1.15=0.136cm、HB−TmDA:1.202÷1.32=0.911cmであった。
したがって、各重合性成分(4HBA及びEDPHA)及びHB−TmDAの合計体積に占めるHB−TmDAの体積分率は、(0.911÷(3.492+0.136+0.911))×100=20.07、即ち20.1体積%であった。
[Example 6]
(A) 4,HBA 3,632 mg as (meth) hydroxyalkyl acrylate, (b) EDPHA 157 mg as a polymerizable compound, (c) HB-TmDA 1,202 mg obtained in Production Example 1 as a triazine ring-containing hyperbranched polymer, Further, (d) 23.56 mg of TCT as a photopolymerization initiator and 3.14 mg of DiSC as a sensitizer were mixed and stirred at 50 ° C. for 24 hours to prepare a composition for a volumetric hologram recording material.
Here, the density of 4HBA is 1.04 g / cm 3 , the density of EDPHA is 1.15 g / cm 3 , and the density of HB-TmDA is 1.32 g / cm 3 , and their volumes are 4HBA: 3.632, respectively. ÷ 1.04 = 3.492 cm 3 , EDPHA: 0.157 ÷ 1.15 = 0.136 cm 3 , HB-TmDA: 1.202 ÷ 1.32 = 0.911 cm 3 .
Therefore, the volume fraction of HB-TmDA in the total volume of each polymerizable component (4HBA and EDPHA) and HB-TmDA is (0.911 ÷ (3.492 + 0.136 + 0.911)) × 100 = 20.07. That is, it was 20.1% by volume.

<体積ホログラム記録媒体の作製>
得られた組成物を用い、スペーサの厚さを5μmに変更した以外は実施例1と同様の方法で体積ホログラム記録媒体を作製した。
<Preparation of volume hologram recording medium>
Using the obtained composition, a volume hologram recording medium was prepared in the same manner as in Example 1 except that the thickness of the spacer was changed to 5 μm.

<体積ホログラム記録時の各物性値の測定>
得られた体積ホログラム記録媒体に対し、図9に示す装置によって二光束干渉露光を行い、体積ホログラムの記録を試みた。体積ホログラム記録媒体に対し、波長640nmの固体レーザー[Cobolt社製 05−01 Bolero]を用いて、露光パワー密度5mW/cmで二光束干渉露光(格子間隔0.5μm)を行った。固体レーザーから出射した光はビームエキスパンダを経てハーフミラーで2本に分割され、それぞれミラーを経て体積ホログラム記録媒体に照射され、両光の干渉縞が記録され体積ホログラムを形成させた。
同時に、体積ホログラム記録媒体が感光しない波長532nmのNd:YVOレーザーを体積ホログラム記録媒体に照射し、その回折光を光検出器で検出することによりホログラム形成過程をモニターし回折効率を評価した。また、露光後の回折効率の角度依存性を測定し、試料の露光後の膜厚を算出した。さらに、得られた回折効率と膜厚から、屈折率変調量(Δn)の露光時間変化と飽和屈折率変調量(Δnsat)を評価した。結果を表3に併せて示す。また露光時間に対するΔnの変化を図10に示す。
<Measurement of each physical property value during volume hologram recording>
The obtained volume hologram recording medium was subjected to double luminous flux interference exposure by the apparatus shown in FIG. 9, and recording of the volume hologram was attempted. A solid-state laser [05-01 Borero manufactured by Cobolt] having a wavelength of 640 nm was used to perform double luminous flux interference exposure (lattice spacing 0.5 μm) at an exposure power density of 5 mW / cm 2 on the volume hologram recording medium. The light emitted from the solid-state laser was divided into two by a half mirror via a beam expander, and each of them was irradiated to a volume hologram recording medium through the mirror, and interference fringes of both lights were recorded to form a volume hologram.
At the same time, Nd wavelength 532nm of the volume hologram recording medium is not sensitive: a YVO 4 laser is irradiated to the volume hologram recording medium was evaluated monitored diffraction efficiency of the hologram formation process by detecting the diffracted light by the photodetector. In addition, the angle dependence of the diffraction efficiency after exposure was measured, and the film thickness of the sample after exposure was calculated. Further, the exposure time change of the refractive index modulation amount (Δn ) and the saturated refractive index modulation amount (Δn sat ) were evaluated from the obtained diffraction efficiency and the film thickness. The results are also shown in Table 3. The change of Δn with respect to the exposure time is shown in FIG.

Figure 2020050321
Figure 2020050321

本発明の体積ホログラム記録材料用組成物、及びそれらから得られる体積ホログラム記録媒体は、三次元画像表示、ウェアラブルディスプレイ、ビット情報の大容量メモリ、回折光学素子、その他に使用できる。 The composition for a volume hologram recording material of the present invention and the volume hologram recording medium obtained from the composition can be used for a three-dimensional image display, a wearable display, a large-capacity memory of bit information, a diffractive optical element, and the like.

1 ホログラム記録媒体
2a Nd:YVOレーザー
2b 固体レーザー
3 ビームエキスパンダ
4a He−Neレーザー
4b Nd:YVOレーザー
5,6,7,8,9,10,11 ミラー
12 ビームサンプラー
13 ハーフミラー
14,15 半波長板
16,17 偏光プリズム
18,19,20 光検出器
1 Hologram recording medium 2a Nd: YVO 4 laser 2b solid-state laser 3 beam expander 4a He-Ne laser 4b Nd: YVO 4 laser 5, 6, 7, 8, 9, 10, 11 mirror 12 beam sampler 13 half mirror 14, 15 Half-wave plate 16,17 Polarizing prism 18, 19, 20 Optical detector

Claims (9)

パターン露光によってパターンを形成するために使用される体積ホログラム記録材料用組成物であって、
(a)(メタ)アクリル酸ヒドロキシアルキル、
(b)(a)成分とは異なる重合性化合物、
(c)トリアジン環含有ハイパーブランチポリマー及び
(d)光重合開始剤
を含む体積ホログラム記録材料用組成物。
A composition for a volumetric hologram recording material used to form a pattern by pattern exposure.
(A) (Meta) hydroxyalkyl acrylate,
(B) A polymerizable compound different from the component (a),
A composition for a volume hologram recording material containing (c) a triazine ring-containing hyperbranched polymer and (d) a photopolymerization initiator.
前記(a)成分、前記(b)成分、及び前記(c)成分の合計体積に占める前記(c)成分の割合が、3体積%以上、50体積%以下である、請求項1に記載の体積ホログラム記録材料用組成物。 The first aspect of the present invention, wherein the ratio of the component (a), the component (b), and the component (c) to the total volume of the component (c) is 3% by volume or more and 50% by volume or less. Composition for volumetric hologram recording material. 前記パターン露光が干渉露光であり、該干渉露光によりホログラムを形成するために使用される、請求項1又は請求項2に記載の体積ホログラム記録材料用組成物。 The composition for a volume hologram recording material according to claim 1 or 2, wherein the pattern exposure is interference exposure and is used for forming a hologram by the interference exposure. 前記(b)(a)成分とは異なる重合性化合物が多官能(メタ)アクリレートである、請求項1乃至請求項3のうち何れか一項に記載の体積ホログラム記録材料用組成物。 The composition for a volume hologram recording material according to any one of claims 1 to 3, wherein the polymerizable compound different from the components (b) and (a) is a polyfunctional (meth) acrylate. 請求項1乃至請求項4のうち何れか1項に記載の体積ホログラム記録材料用組成物を含む体積ホログラム記録層。 A volume hologram recording layer containing the composition for a volume hologram recording material according to any one of claims 1 to 4. 請求項5に記載の体積ホログラム記録層を含む体積ホログラム記録媒体。 A volume hologram recording medium including the volume hologram recording layer according to claim 5. 体積ホログラム記録層が、各々平面を有しそれら平面が対面する2枚の透明基体間に配置された構造である、請求項6に記載の体積ホログラム記録媒体。 The volume hologram recording medium according to claim 6, wherein the volume hologram recording layer has a structure in which each has a plane and is arranged between two transparent substrates facing the planes. 請求項1乃至請求項4のうち何れか一項に記載の体積ホログラム記録材料用組成物を、支持体に塗布し塗布膜を形成する工程、及び前記塗布膜にパターン露光する工程を含む、パターンの形成方法。 A pattern including a step of applying the composition for a volume hologram recording material according to any one of claims 1 to 4 to a support to form a coating film, and a step of pattern exposure to the coating film. Forming method. 前記パターン露光が干渉露光である、請求項8に記載のパターンの形成方法。 The pattern forming method according to claim 8, wherein the pattern exposure is interference exposure.
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