JP6471390B2 - Composition for volume hologram recording material containing hyperbranched polymer containing triazine ring - Google Patents

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Description

本発明は、パターン露光することにより、組成物中の各成分に移動が生じ、各成分の空間分布が変化したパターンを形成できる体積ホログラム記録材料用組成物、及び該組成物を用いたパターンの形成方法に関する。また、当該ホログラム記録材料用組成物を含む体積ホログラム記録層並びに当該記録層を備える体積ホログラム記録媒体に関する。   The present invention provides a composition for a volume hologram recording material capable of forming a pattern in which movement of each component in the composition is caused by pattern exposure and the spatial distribution of each component is changed, and a pattern using the composition It relates to a forming method. The present invention also relates to a volume hologram recording layer containing the composition for hologram recording material and a volume hologram recording medium comprising the recording layer.

ホログラフィック回折格子(ホログラム)は、光の明暗(干渉)パターンを感光材料等に屈折率あるいは吸収率のパターンとして記録したものであり、多機能を有することから回折光学素子、ホログラフィック光メモリ、狭帯域波長フィルター、フォトニック結晶、光導波路結合器、光インターコネクション、立体画像ディスプレイ、ヘッドアップディスプレイなど、フォトニクスや情報ディスプレイ等の幅広い分野において数多くの応用が報告されている。これら応用分野では、通常、大きな屈折率変化と高い記録感度が要求される。   A holographic diffraction grating (hologram) is a light-dark (interference) pattern recorded on a photosensitive material or the like as a pattern of refractive index or absorptivity. Since it has multiple functions, it is a diffractive optical element, holographic optical memory, Many applications have been reported in a wide range of fields, such as photonics and information displays, such as band wavelength filters, photonic crystals, optical waveguide couplers, optical interconnections, stereoscopic image displays, and head-up displays. In these application fields, a large change in refractive index and high recording sensitivity are usually required.

従来の代表的なホログラム記録材料用組成物としては、重クロム酸ゼラチン感光材料や、漂白処理した銀塩感光材料が使用されてきた。これらは高い回折効率を持つが、ホログラム作成時の処理が複雑で、特に湿式現像処理が必要であるという欠点があった。
かかる欠点を克服する乾式のホログラム感光材料として、デュポン社のオムニデックスシリーズが広く知られている。この材料はラジカル重合モノマーとバインダーポリマー、光ラジカル重合開始剤及び増感色素を主成分として、ラジカル重合モノマーとバインダーポリマーの屈折率差を利用してホログラムを記録するものである。すなわち、フィルム状に形成された該感光性組成物を干渉露光すると、光が強い部分にてラジカル重合が開始され、それに伴いラジカル重合モノマーの濃度勾配ができ、光が弱い部分から強い部分にラジカル重合モノマーの拡散移動が起こる。結果として干渉光の強弱に応じて、ラジカル重合モノマー密度及び重合したポリマーの密度の疎密ができ、それらとバインダーポリマーの屈折率の差としてホログラムが形成される。この材料系は現状報告されているホログラム用フォトポリマーとしては高性能であるが、30μm程度の厚みに限定されること、そして、耐熱性、透明性に問題がある点が指摘されている。
As conventional typical hologram recording material compositions, dichromated gelatin photosensitive materials and bleached silver salt photosensitive materials have been used. These have high diffraction efficiency, but have a drawback in that the processing at the time of hologram production is complicated, and in particular, wet development processing is necessary.
As a dry hologram photosensitive material that overcomes these disadvantages, the DuPont Omnidex series is widely known. This material has a radical polymerization monomer, a binder polymer, a photo radical polymerization initiator, and a sensitizing dye as main components, and records a hologram using a difference in refractive index between the radical polymerization monomer and the binder polymer. That is, when the photosensitive composition formed into a film is subjected to interference exposure, radical polymerization is started in a portion where light is strong, and accordingly, a concentration gradient of the radical polymerization monomer is generated, and radicals are generated from a portion where light is weak to a portion where light is strong. The diffusion transfer of the polymerization monomer occurs. As a result, depending on the intensity of the interference light, the density of the radical polymerization monomer and the density of the polymerized polymer can be made dense, and a hologram is formed as the difference in refractive index between them and the binder polymer. Although this material system has high performance as a currently reported hologram photopolymer, it is pointed out that it is limited to a thickness of about 30 μm and has problems in heat resistance and transparency.

また、ラジカル重合とカチオン重合を併用した材料系(特許文献1参照)や、カチオン重合を利用した材料系(特許文献2参照)が報告されているが、これらはお互いのポリマー同士が分子レベルで相溶しないため、この材料系で形成されたホログラム記録膜は相分離による透明性の低下が生じ、それに基づく散乱損失の増大などの問題点がある。さらに機械的強度及び環境安定性に関し未だ不十分である。   In addition, a material system using radical polymerization and cationic polymerization in combination (see Patent Document 1) and a material system using cationic polymerization (see Patent Document 2) have been reported. Since they are not compatible with each other, the hologram recording film formed of this material system has problems such as a decrease in transparency due to phase separation and an increase in scattering loss based thereon. Furthermore, mechanical strength and environmental stability are still insufficient.

また、無機物質ネットワークと光重合性モノマーを併用した材料系が開示されている(特許文献3参照)。ネットワークを形成し得る無機材料をバインダーとして用いる場合には、耐熱性、対環境性、機械強度に優れると共に、光重合性の有機モノマーとの屈折率差を大きく取れるという利点があるが、この材料系で形成したホログラム記録膜はどちらかと言えば脆く、柔軟性や加工性、コーティング適性に劣るという問題点、及び無機バインダーと有機モノマーとの相溶性が悪く均一な塗工材料を調製するのが困難という問題点がある。   Moreover, the material system which used the inorganic substance network and the photopolymerizable monomer together is disclosed (refer patent document 3). When an inorganic material that can form a network is used as a binder, this material has the advantages of being excellent in heat resistance, environmental resistance and mechanical strength, and having a large difference in refractive index from a photopolymerizable organic monomer. The hologram recording film formed by the system is rather fragile and has problems of poor flexibility, workability, coating suitability, and poor compatibility between the inorganic binder and the organic monomer to prepare a uniform coating material. There is a problem of difficulty.

また、固体マトリックスに金属超微粒子を分散した材料が、ホログラム記録材料として開示されている(特許文献4参照)。しかし、この発明ではマトリックスに流動性を持た
せる必要があり、固体性が悪いだけでなく、金属粒子界面と固体マトリックスとの界面密着性が悪く、脆く、界面へ水が侵入するなどの問題がある。
A material in which ultrafine metal particles are dispersed in a solid matrix is disclosed as a hologram recording material (see Patent Document 4). However, in the present invention, it is necessary to give the matrix fluidity, not only the solidity is bad, but also the interface adhesion between the metal particle interface and the solid matrix is bad, brittle, and water penetrates into the interface. is there.

また、有機−無機ハイブリッドポリマーと光重合反応性基を有する有機金属微粒子を用いたホログラム記録材料が開示されている(特許文献5参照)。しかし、この発明では干渉縞を固定する為に加熱及び紫外線重合が必要となり、工業プロセスとして課題がある。   Further, a hologram recording material using an organic-inorganic hybrid polymer and organometallic fine particles having a photopolymerization reactive group is disclosed (see Patent Document 5). However, in the present invention, heating and ultraviolet polymerization are required to fix the interference fringes, and there is a problem as an industrial process.

より簡便な方法でホログラム記録を行う材料として、無機微粒子を光重合性モノマーに分散させたホログラム記録材料が開示されている(特許文献6、特許文献7及び非特許文献1参照)。
また、微粒子をエチレン性不飽和基を有するエン化合物及びメルカプト基を有するチオール化合物の混合物に分散することにより、低収縮なホログラム記録材料が開示されている(特許文献8)。
しかしこれらの材料においても、十分な回折効率が得られていないという課題がある。
As a material for performing hologram recording by a simpler method, a hologram recording material in which inorganic fine particles are dispersed in a photopolymerizable monomer is disclosed (see Patent Document 6, Patent Document 7, and Non-Patent Document 1).
Further, a low-shrinkage hologram recording material is disclosed by dispersing fine particles in a mixture of an ene compound having an ethylenically unsaturated group and a thiol compound having a mercapto group (Patent Document 8).
However, even with these materials, there is a problem that sufficient diffraction efficiency is not obtained.

特開平5−107999号公報Japanese Patent Laid-Open No. 5-107999 米国特許第5759721号明細書US Pat. No. 5,759,721 特開平6−019040号公報JP-A-6-019040 特表2000−508783号公報JP 2000-508883 gazette 特開2002−236440号公報JP 2002-236440 A 特開2003−084651号公報JP 2003-084551 A 特開2005−099612号公報Japanese Patent Laying-Open No. 2005-099612 特開2010−250246号公報JP 2010-250246 A

アプライド・フィジックス・レターズ(Appl.Phys.Lett.),2002年,第81巻,p.4121−4123Applied Physics Letters (Appl. Phys. Lett.), 2002, Vol. 81, p. 4121-4123

本発明は、体積ホログラム記録材料において、凝集性が低く、極めて高い屈折率を有するトリアジン環含有ハイパーブランチポリマーを微粒子として用いることにより、光散乱損失が極めて低く、回折効率の高いホログラムを永続的に形成できる体積ホログラム記録材料用組成物、及び該組成物を用いたホログラム記録媒体を提供することを目的とする。   In the volume hologram recording material, a triazine ring-containing hyperbranched polymer having a low agglomeration property and a very high refractive index is used as fine particles, so that a hologram with a very low light scattering loss and a high diffraction efficiency is permanently obtained. An object of the present invention is to provide a composition for a volume hologram recording material that can be formed, and a hologram recording medium using the composition.

本発明者らは、上記目的を達成するために鋭意検討を行った結果、本発明を見出すに至った。
すなわち、第1観点として、パターン露光によってパターンを形成するために使用される体積ホログラム記録材料用組成物であって、(a)重合性化合物、(b)光重合開始剤、(c)トリアジン環含有ハイパーブランチポリマー及び(d)エーテル又はアミド構造を有するビニルモノマー及び/又は(メタ)アクリルモノマーを含む体積ホログラム記録材料用組成物に関するに関する。
第2観点として、前記(a)重合性化合物と(d)エーテル又はアミド構造を有するビニルモノマー及び/又は(メタ)アクリルモノマーの重合体の屈折率と、前記(c)トリアジン環含有ハイパーブランチポリマーの屈折率との差が0.01以上、0.6以下である、第1観点に記載の体積ホログラム記録材料用組成物に関する。
第3観点として、前記(a)重合性化合物の重合体、前記(c)トリアジン環含有ハイ
パーブランチポリマー及び(d)エーテル又はアミド構造を有するビニルモノマー及び/又は(メタ)アクリルモノマーの重合体の合計体積に占める前記(c)トリアジン環含有ハイパーブランチポリマーの割合が、3体積%以上、50体積%以下である、第1観点又は第2観点に記載の体積ホログラム記録材料用組成物に関する。
第4観点として、前記パターン露光が干渉露光であり、該干渉露光によりホログラムを形成するために使用される、第1観点乃至第3観点のうち何れか一項に記載の体積ホログラム記録材料用組成物に関する。
第5観点として、第1観点乃至第4観点のうち何れか1項に記載の体積ホログラム記録材料用組成物を含む体積ホログラム記録層に関する。
第6観点として、第5観点に記載の体積ホログラム記録層を含む体積ホログラム記録媒体に関する。
第7観点として、体積ホログラム記録層が、各々平面を有しそれら平面が対面する2枚の透明基体間に配置された構造である、第6観点に記載の体積ホログラム記録媒体に関する。
第8観点として、第1観点乃至第4観点のうち何れか一項に記載の体積ホログラム記録材料用組成物を、支持体に塗布し塗布膜を形成する工程、及び前記塗布膜にパターン露光する工程を含む、パターンの形成方法に関する。
第9観点として、前記パターン露光が干渉露光である、第8観点に記載のパターンの形成方法に関する。
As a result of intensive studies to achieve the above object, the present inventors have found the present invention.
That is, as a first aspect, a composition for a volume hologram recording material used for forming a pattern by pattern exposure, wherein (a) a polymerizable compound, (b) a photopolymerization initiator, (c) a triazine ring The present invention relates to a composition for a volume hologram recording material comprising a containing hyperbranched polymer and (d) a vinyl monomer having an ether or amide structure and / or a (meth) acrylic monomer.
As a second aspect, the refractive index of the polymer of (a) a polymerizable compound and (d) a vinyl monomer and / or (meth) acryl monomer having an ether or amide structure, and (c) a triazine ring-containing hyperbranched polymer. The volume hologram recording material composition according to the first aspect, which has a difference from the refractive index of 0.01 to 0.6.
As a third aspect, (a) a polymer of a polymerizable compound, (c) a triazine ring-containing hyperbranched polymer, and (d) a polymer of a vinyl monomer and / or (meth) acrylic monomer having an ether or amide structure. The volume hologram recording material composition according to the first aspect or the second aspect, wherein the ratio of the (c) triazine ring-containing hyperbranched polymer in the total volume is 3% by volume or more and 50% by volume or less.
As a fourth aspect, the composition for volume hologram recording material according to any one of the first aspect to the third aspect, wherein the pattern exposure is interference exposure, and is used for forming a hologram by the interference exposure. Related to things.
As a 5th viewpoint, it is related with the volume hologram recording layer containing the composition for volume hologram recording materials of any one of the 1st viewpoint thru | or a 4th viewpoint.
As a sixth aspect, the present invention relates to a volume hologram recording medium including the volume hologram recording layer described in the fifth aspect.
As a seventh aspect, the present invention relates to the volume hologram recording medium according to the sixth aspect, wherein the volume hologram recording layer has a structure arranged between two transparent substrates each having a flat surface and facing each other.
As an eighth aspect, a step of applying the composition for volume hologram recording material according to any one of the first aspect to the fourth aspect to a support to form a coating film, and pattern exposure to the coating film The present invention relates to a pattern forming method including a process.
As a ninth aspect, the present invention relates to the pattern forming method according to the eighth aspect, wherein the pattern exposure is interference exposure.

本発明によれば、微粒子として、凝集性が低く極めて高い屈折率を有するトリアジン環含有ハイパーブランチポリマーをエーテル又はアミド構造を有するビニルモノマー及び/又は(メタ)アクリルモノマーとともに重合性化合物などの重合性成分中に分散させることにより、光散乱損失が低く、回折効率の高いホログラムを永続的に形成できる体積ホログラム記録材料用組成物、及び体積ホログラム記録媒体を提供することができる。   According to the present invention, as a fine particle, a triazine ring-containing hyperbranched polymer having a very low refractive index and a very high refractive index is combined with a vinyl monomer having an ether or amide structure and / or a (meth) acryl monomer, and a polymerizable compound or the like. By dispersing in a component, it is possible to provide a composition for volume hologram recording material and a volume hologram recording medium that can permanently form a hologram with low light scattering loss and high diffraction efficiency.

図1は、合成例1で得られたHB−TmDA40のH NMRスペクトルを示す図である。1 is a diagram showing a 1 H NMR spectrum of HB-TmDA40 obtained in Synthesis Example 1. FIG. 図2は、合成例1で得られたHB−TmDA40のTG−DTA測定の結果を示す図である。FIG. 2 is a diagram showing the results of TG-DTA measurement of HB-TmDA40 obtained in Synthesis Example 1. 図3は、実施例で使用した体積ホログラム記録装置である。FIG. 3 shows the volume hologram recording apparatus used in the example. 図4は、実施例1の体積ホログラム記録媒体(HB−TmDA40の体積分率:20.1体積%)を用いて得られた、露光時間(秒)に対する屈折率変調量Δnの変化を示す図である。FIG. 4 is a graph showing changes in the refractive index modulation amount Δn with respect to the exposure time (seconds) obtained using the volume hologram recording medium of Example 1 (volume fraction of HB-TmDA40: 20.1 vol%). It is. 図5は、実施例2の体積ホログラム記録媒体(HB−TmDA40の体積分率:12.2体積%)を用いて得られた、露光時間(秒)に対する屈折率変調量Δnの変化を示す図である。FIG. 5 is a graph showing changes in the refractive index modulation amount Δn with respect to the exposure time (seconds) obtained using the volume hologram recording medium of Example 2 (volume fraction of HB-TmDA40: 12.2% by volume). It is. 図6は、実施例3の体積ホログラム記録媒体(HB−TmDA40の体積分率:15.6体積%)を用いて得られた、露光時間(秒)に対する屈折率変調量Δnの変化を示す図である。FIG. 6 is a graph showing a change in the refractive index modulation amount Δn with respect to the exposure time (seconds) obtained using the volume hologram recording medium of Example 3 (volume fraction of HB-TmDA40: 15.6 vol%). It is. 図7は、実施例4の体積ホログラム記録媒体(HB−TmDA40の体積分率:17.9体積%)を用いて得られた、露光時間(秒)に対する屈折率変調量Δnの変化を示す図である。FIG. 7 is a graph showing changes in the refractive index modulation amount Δn with respect to the exposure time (seconds) obtained using the volume hologram recording medium of Example 4 (volume fraction of HB-TmDA40: 17.9% by volume). It is. 図8は、実施例5の体積ホログラム記録媒体(HB−TmDA40の体積分率:22.9体積%)を用いて得られた、露光時間(秒)に対する屈折率変調量Δnの変化を示す図である。FIG. 8 is a graph showing the change in the refractive index modulation amount Δn with respect to the exposure time (seconds) obtained using the volume hologram recording medium of Example 5 (volume fraction of HB-TmDA40: 22.9% by volume). It is. 図9は、比較例の体積ホログラム記録媒体(HB−TmDA40含まず)を用いて得られた、露光時間(秒)に対する屈折率変調量Δnの変化を示す図である。FIG. 9 is a diagram showing the change in the refractive index modulation amount Δn with respect to the exposure time (seconds) obtained using the volume hologram recording medium of the comparative example (not including HB-TmDA40). 図10は、微粒子(HB−TmDA40)の体積分率(体積%)に対する飽和屈折率変調量Δnsatの値を示す図である。FIG. 10 is a diagram showing the value of the saturated refractive index modulation amount Δn sat with respect to the volume fraction (volume%) of the fine particles (HB-TmDA40).

本発明の体積ホログラム記録材料用組成物は、(a)重合性化合物、(b)光重合開始剤、(c)トリアジン環含有ハイパーブランチポリマー及び(d)エーテル又はアミド構造を有するビニルモノマー及び/又は(メタ)アクリルモノマーを含みて構成される。   The composition for volume hologram recording material of the present invention comprises (a) a polymerizable compound, (b) a photopolymerization initiator, (c) a triazine ring-containing hyperbranched polymer, and (d) a vinyl monomer having an ether or amide structure and / or Or it is comprised including a (meth) acryl monomer.

体積ホログラム記録材料用組成物を用いた体積ホログラム記録媒体における体積ホログラムの記録原理の詳細は明らかではないが、以下のように推察される。
ホログラムなどのパターンは、記録層に含まれる少なくとも二種の成分の屈折率の差を利用して、光の干渉パターンを記録することにより形成される。従って、パターンを形成するためのパターン露光の条件下(例えばホログラム記録のための干渉露光の条件下)で、例えば本発明の場合には、上記の重合性化合物などの重合性成分より生じる重合体の屈折率と、トリアジン環含有ハイパーブランチポリマーの屈折率との差が大きいことが重要となる。
The details of the recording principle of the volume hologram in the volume hologram recording medium using the composition for volume hologram recording material are not clear, but are presumed as follows.
A pattern such as a hologram is formed by recording a light interference pattern using a difference in refractive index between at least two components contained in the recording layer. Therefore, a polymer produced from a polymerizable component such as the above-described polymerizable compound under the conditions of pattern exposure for forming a pattern (for example, under the condition of interference exposure for hologram recording), for example, in the case of the present invention It is important that there is a large difference between the refractive index of the triazine ring-containing hyperbranched polymer.

すなわち、本発明においては、ホログラム記録のための干渉露光に用いる光の波長に対して、トリアジン環含有ハイパーブランチポリマーの屈折率と、重合性化合物などの重合性成分より生じる重合体の屈折率との差が0.01〜0.6であることが求められる。好ましくは、該屈折率の差は0.02〜0.5、又は0.03〜0.4であることがより好ましい。そして、このような観点から、本発明で用いる好適なトリアジン環含有ハイパーブランチポリマーと重合性成分が夫々選択されることとなる。
該トリアジン環含有ハイパーブランチポリマーの屈折率は比較的高く、例えば、波長589nmの光に対する屈折率は1.7を超えるものがある。このため、本発明で用いられる重合性成分より生ずる重合体の屈折率は、上記数値と比べて相対的に小さいことが好ましく、例えば、波長589nmの光に対する屈折率が1.3以上、1.7以下である重合体を与える重合性成分が好ましく使用される。より好ましくは波長589nmの光に対する屈折率が1.3〜1.6である重合体を与える重合性成分(重合性化合物など)が使用されることとなる。
That is, in the present invention, the refractive index of a triazine ring-containing hyperbranched polymer and the refractive index of a polymer generated from a polymerizable component such as a polymerizable compound with respect to the wavelength of light used for interference exposure for hologram recording, Is required to be 0.01 to 0.6. Preferably, the difference in refractive index is more preferably 0.02 to 0.5 or 0.03 to 0.4. From such a viewpoint, a suitable triazine ring-containing hyperbranched polymer and polymerizable component used in the present invention are selected.
The triazine ring-containing hyperbranched polymer has a relatively high refractive index. For example, the refractive index with respect to light having a wavelength of 589 nm exceeds 1.7. For this reason, it is preferable that the refractive index of the polymer produced from the polymerizable component used in the present invention is relatively smaller than the above numerical value. For example, the refractive index for light having a wavelength of 589 nm is 1.3 or more. A polymerizable component that gives a polymer that is 7 or less is preferably used. More preferably, a polymerizable component (such as a polymerizable compound) that gives a polymer having a refractive index of 1.3 to 1.6 with respect to light having a wavelength of 589 nm is used.

なお、重合体の屈折率は、重合性成分及び光重合開始剤からなる組成物を支持体上に塗布し、必要に応じて乾燥を行った後、ホログラム記録のための干渉露光に用いる光を用いた条件下で空間的に一様な露光を組成物に施すことによって重合体を得、その重合体の屈折率を測定することにより求めることができる。そして、このようにして得られる重合体の屈折率と、トリアジン環含有ハイパーブランチポリマーの屈折率とを基にして、本発明のホログラム記録材料用組成物に好適な重合性成分(重合性化合物など)、及びトリアジン環含有ハイパーブランチポリマーをそれぞれ選択することができる。   The refractive index of the polymer is determined by applying light used for interference exposure for hologram recording after coating a composition comprising a polymerizable component and a photopolymerization initiator on a support, drying as necessary. It can be determined by obtaining a polymer by subjecting the composition to spatially uniform exposure under the conditions used, and measuring the refractive index of the polymer. Then, based on the refractive index of the polymer thus obtained and the refractive index of the triazine ring-containing hyperbranched polymer, a polymerizable component suitable for the composition for hologram recording material of the present invention (polymerizable compound, etc.) ), And a triazine ring-containing hyperbranched polymer, respectively.

以下、本発明の体積ホログラム記録材料用組成物に含まれる各成分について説明する。   Hereinafter, each component contained in the composition for volume hologram recording material of the present invention will be described.

[(a)重合性化合物]
本発明における重合性化合物は、光重合開始剤の作用によって重合する重合性の部位を、分子内に1個以上、好ましくは1乃至6個有する化合物であれば特に制限はない。重合性の部位としては、ラジカル重合性の部位であるエチレン性不飽和結合が挙げられる。
なお、本発明における重合性化合物とは、いわゆる反応性を有しない高分子物質ではない化合物を意味し、従って、狭義の単量体化合物(モノマー)だけでなく、二量体、三量体、オリゴマーや反応性高分子をも包含するものである。
[(A) Polymerizable compound]
The polymerizable compound in the present invention is not particularly limited as long as it is a compound having one or more, preferably 1 to 6, polymerizable sites that are polymerized by the action of a photopolymerization initiator. Examples of the polymerizable moiety include an ethylenically unsaturated bond which is a radical polymerizable moiety.
The polymerizable compound in the present invention means a compound that is not a so-called non-reactive polymer substance, and therefore, not only a monomer compound (monomer) in a narrow sense, but also a dimer, a trimer, It also includes oligomers and reactive polymers.

このような重合性化合物としては、ラジカル重合性の部位又はカチオン重合性の部位を
有する化合物が挙げられる。
ラジカル重合性の部位を有する重合性化合物としては、エチレン性不飽和結合を有する化合物が挙げられる。また、カチオン重合性の部位を有する重合性化合物としては、ビニルチオエーテル構造、或いは、エポキシ環又はオキセタン環などの環状エーテル構造を有する化合物が挙げられる。
Examples of such a polymerizable compound include a compound having a radical polymerizable site or a cationic polymerizable site.
Examples of the polymerizable compound having a radically polymerizable moiety include compounds having an ethylenically unsaturated bond. Examples of the polymerizable compound having a cationically polymerizable moiety include compounds having a vinyl thioether structure or a cyclic ether structure such as an epoxy ring or an oxetane ring.

<ラジカル重合性の部位を有する重合性化合物>
エチレン性不飽和結合を有する化合物としては、例えば、不飽和カルボン酸;不飽和カルボン酸エステル化合物;脂肪族ポリヒドロキシ化合物と不飽和カルボン酸とのエステル化合物;芳香族ポリヒドロキシ化合物と不飽和カルボン酸とのエステル化合物;脂肪族ポリヒドロキシ化合物、芳香族ポリヒドロキシ化合物等の多価ヒドロキシ化合物と不飽和カルボン酸及び多価カルボン酸とのエステル化反応により得られるエステル化合物等が挙げられる。
<Polymerizable compound having radically polymerizable site>
Examples of the compound having an ethylenically unsaturated bond include unsaturated carboxylic acid; unsaturated carboxylic ester compound; ester compound of aliphatic polyhydroxy compound and unsaturated carboxylic acid; aromatic polyhydroxy compound and unsaturated carboxylic acid And ester compounds obtained by esterification reaction of polyvalent hydroxy compounds such as aliphatic polyhydroxy compounds and aromatic polyhydroxy compounds with unsaturated carboxylic acids and polyvalent carboxylic acids.

不飽和カルボン酸の具体例としては、アクリル酸、メタクリル酸、イタコン酸、クロトン酸、マレイン酸等が挙げられる。   Specific examples of the unsaturated carboxylic acid include acrylic acid, methacrylic acid, itaconic acid, crotonic acid, maleic acid and the like.

不飽和カルボン酸エステル化合物の具体例としては、フェノキシエチレングリコールアクリレート、フェノキシジエチレングリコールアクリレート、2−ヒドロキシ−3−フェノキシプロピルアクリレート、3−クロロ−2−ヒドロキシプロピルアクリレート、2−アクリロイルオキシエチルコハク酸、2−アクリロイルオキシエチルフタル酸、イソボロニルアクリレート等のアクリル酸エステル化合物が挙げられる。また、これらの例示化合物のアクリレート部分をメタクリレートに代えたメタクリル酸エステル化合物、同様にイタコネートに代えたイタコン酸エステル化合物、クロトネートに代えたクロトン酸エステル化合物、及びマレエートに代えたマイレン酸エステル化合物等も挙げられる。   Specific examples of the unsaturated carboxylic acid ester compound include phenoxyethylene glycol acrylate, phenoxydiethylene glycol acrylate, 2-hydroxy-3-phenoxypropyl acrylate, 3-chloro-2-hydroxypropyl acrylate, 2-acryloyloxyethyl succinic acid, 2 -Acrylic acid ester compounds such as acryloyloxyethylphthalic acid and isobornyl acrylate. In addition, a methacrylic acid ester compound in which the acrylate part of these exemplary compounds is replaced with methacrylate, an itaconic acid ester compound similarly replaced with itaconate, a crotonic acid ester compound replaced with crotonate, a maleic acid ester compound replaced with maleate, etc. Can be mentioned.

脂肪族ポリヒドロキシ化合物と不飽和カルボン酸とのエステル化合物の具体例としては、エチレングリコールジアクリレート、トリエチレングリコールジアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、トリメチロールエタントリアクリレート、ペンタエリスリトールジアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、グリセロールアクリレート等のアクリル酸エステル化合物が挙げられる。また、これらの例示化合物のアクリレート部分をメタクリレートに代えたメタクリル酸エステル化合物、同様にイタコネートに代えたイタコン酸エステル化合物、クロトネートに代えたクロトン酸エステル化合物、マレエートに代えたマイレン酸エステル化合物等も挙げられる。   Specific examples of the ester compound of an aliphatic polyhydroxy compound and an unsaturated carboxylic acid include ethylene glycol diacrylate, triethylene glycol diacrylate, trimethylol propane triacrylate, trimethylol ethane triacrylate, pentaerythritol diacrylate, pentaerythritol. Examples thereof include acrylic ester compounds such as triacrylate, pentaerythritol tetraacrylate, dipentaerythritol tetraacrylate, dipentaerythritol pentaacrylate, dipentaerythritol hexaacrylate, and glycerol acrylate. In addition, methacrylic acid ester compounds in which the acrylate portion of these exemplified compounds is replaced with methacrylate, itaconic acid ester compounds in place of itaconate, crotonic acid ester compounds in place of crotonate, maleic acid ester compounds in place of maleate, etc. It is done.

芳香族ポリヒドロキシ化合物と不飽和カルボン酸とのエステル化合物としては、ヒドロキノンジアクリレート、ヒドロキノンジメタクリレート、レゾルシンジアクリレート、レゾルシンジメタクリレート、ピロガロールトリアクリレート等が挙げられる。   Examples of the ester compound of an aromatic polyhydroxy compound and an unsaturated carboxylic acid include hydroquinone diacrylate, hydroquinone dimethacrylate, resorcin diacrylate, resorcin dimethacrylate, and pyrogallol triacrylate.

脂肪族ポリヒドロキシ化合物及び芳香族ポリヒドロキシ化合物等の多価ヒドロキシ化合物と不飽和カルボン酸及び多価カルボン酸とのエステル化反応により得られるエステル化合物としては、必ずしも単一物では無いが、代表的な具体例を挙げれば、アクリル酸及びフタル酸とエチレングリコールとの縮合物、アクリル酸及びマレイン酸とジエチレングリコールとの縮合物、メタクリル酸及びテレフタル酸とペンタエリスリトールとの縮合物、アクリル酸及びアジピン酸とブタンジオール及びグリセリンとの縮合物等が挙げられる。   An ester compound obtained by an esterification reaction of a polyvalent hydroxy compound such as an aliphatic polyhydroxy compound and an aromatic polyhydroxy compound with an unsaturated carboxylic acid and a polyvalent carboxylic acid is not necessarily a single substance, but is representative. Specific examples include condensates of acrylic acid and phthalic acid with ethylene glycol, condensates of acrylic acid and maleic acid with diethylene glycol, condensates of methacrylic acid and terephthalic acid with pentaerythritol, acrylic acid and adipic acid And condensates of butanediol and glycerin.

以上のエステル化合物以外に、エチレン性不飽和結合を有する化合物として、多価イソシアネートとヒドロキシアルキル不飽和カルボン酸エステルとの反応によって得ることが
できるウレタン化合物や、多価エポキシ化合物とヒドロキシアルキル不飽和カルボン酸エステルとの反応によって得ることができる化合物を挙げることができる。上記ウレタン化合物の例としては、例えばダイセル・サイテック(株)製EBECRYL(商品名)シリーズウレタンアクリレートが挙げられ、具体的には、例えばEBECRYL8301などを使用することによって、分散性を損なうことなく優れた回折効率を得ることができる。
その他本発明に用いられるエチレン性不飽和結合を有する化合物の例としては、フタル酸ジアリル等のアリルエステル化合物;ジビニルフタレート等のビニル基含有化合物等が有用である。
In addition to the above ester compounds, as compounds having an ethylenically unsaturated bond, urethane compounds that can be obtained by reaction of polyvalent isocyanates and hydroxyalkyl unsaturated carboxylic acid esters, polyhydric epoxy compounds and hydroxyalkyl unsaturated carboxylic acids. Mention may be made of compounds obtainable by reaction with acid esters. Examples of the urethane compound include, for example, EBECRYL (trade name) series urethane acrylate manufactured by Daicel-Cytec Co., Ltd., and specifically, by using, for example, EBECRYL 8301, the dispersibility is excellent. Diffraction efficiency can be obtained.
Other examples of the compound having an ethylenically unsaturated bond used in the present invention include allyl ester compounds such as diallyl phthalate; vinyl group-containing compounds such as divinyl phthalate.

本発明においては、エチレン性不飽和結合を有する化合物として、アクリル酸エステル化合物及びメタクリル酸エステル化合物が特に好ましい。
これらのエチレン性不飽和結合を有する化合物は単独で用いてもよいし、必要に応じ混合して用いてもよい。
In the present invention, an acrylic ester compound and a methacrylic ester compound are particularly preferable as the compound having an ethylenically unsaturated bond.
These compounds having an ethylenically unsaturated bond may be used alone or in combination as necessary.

<カチオン重合性の部位を有する重合性化合物>
エポキシ環を有する化合物としては、例えば、ジグリセロールポリグリシジルエーテル、ペンタエリスリトールポリグリシジルエーテル、1,4−ビス(2,3−エポキシプロポキシパーフルオロイソプロピル)シクロヘキサン、ソルビトールポリグリシジルエーテル、トリメチロールプロパンポリグリシジルエーテル、レゾルシンジグリシジルエーテル、1,6−へキサンジオールジグリシジルエーテル、ポリエチレングリコールジグリシジルエーテル、フェニルグリシジルエーテル、p−tert−ブチルフェニルグリシジルエーテル、アジピン酸ジグリシジルエステル、o−フタル酸ジグリシジルエステル、ジブロモフェニルグリシジルエーテル、1,2,7,8−ジエポキシオクタン、1,6−ジメチロールパーフルオロヘキサンジグリシジルエーテル、4,4’−ビス(2,3−エポキシプロポキシパーフルオロイソプロピル)ジフェニルエーテル、2,2−ビス(4−グリシジルオキシフェニル)プロパン、3,4−エポキシシクロヘキシルメチル−3’,4’−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート、3,4−エポキシシクロヘキシルオキシラン、2−(3,4−エポキシシクロヘキシル)−3’,4’−エポキシ−1,3−ジオキサン−5−スピロシクロヘキサン、1,2−エチレンジオキシ−ビス(3,4−エポキシシクロヘキシルメタン)、4’,5’−エポキシ−2’−メチルシクロヘキシルメチル−4,5−エポキシ−2−メチルシクロヘキサンカルボキシレート、エチレングリコール−ビス(3,4−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート)、ビス(3,4−エポキシシクロヘキシルメチル)アジペート、ジ−2,3−エポキシシクロペンチルエーテル等を挙げることができる。
<Polymerizable compound having a cationically polymerizable moiety>
Examples of the compound having an epoxy ring include diglycerol polyglycidyl ether, pentaerythritol polyglycidyl ether, 1,4-bis (2,3-epoxypropoxyperfluoroisopropyl) cyclohexane, sorbitol polyglycidyl ether, trimethylolpropane polyglycidyl. Ether, resorcin diglycidyl ether, 1,6-hexanediol diglycidyl ether, polyethylene glycol diglycidyl ether, phenyl glycidyl ether, p-tert-butylphenyl glycidyl ether, adipic acid diglycidyl ester, o-phthalic acid diglycidyl ester , Dibromophenyl glycidyl ether, 1,2,7,8-diepoxyoctane, 1,6-dimethylol perfluorohexane di Ricidyl ether, 4,4′-bis (2,3-epoxypropoxyperfluoroisopropyl) diphenyl ether, 2,2-bis (4-glycidyloxyphenyl) propane, 3,4-epoxycyclohexylmethyl-3 ′, 4 ′ -Epoxycyclohexanecarboxylate, 3,4-epoxycyclohexyloxirane, 2- (3,4-epoxycyclohexyl) -3 ', 4'-epoxy-1,3-dioxane-5-spirocyclohexane, 1,2-ethylenedi Oxy-bis (3,4-epoxycyclohexylmethane), 4 ′, 5′-epoxy-2′-methylcyclohexylmethyl-4,5-epoxy-2-methylcyclohexanecarboxylate, ethylene glycol-bis (3,4 Epoxycyclohexanecarboxylate), bis (3,4 -Epoxycyclohexylmethyl) adipate, di-2,3-epoxycyclopentyl ether and the like.

オキセタン環を有する化合物としては、例えば、3−エチル−3−ヒドロキシメチルオキセタン、3−エチル−3−(フェノキシメチル)オキセタン、3,3−ジエチルオキセタン、3−エチル−3−(2−エチルヘキシルオキシメチル)オキセタン等のオキセタン環を1つ有する化合物;1,4−ビス{[(3−エチル−3−オキセタニル)メトキシ]メチル}ベンゼン、ジ(3−エチル−3−オキセタニルメチル)エーテル、ペンタエリスリトールテトラキス(3−エチル−3−オキセタニルメチル)エーテル等のオキセタン環を2つ以上有する化合物を挙げることができる。   Examples of the compound having an oxetane ring include 3-ethyl-3-hydroxymethyloxetane, 3-ethyl-3- (phenoxymethyl) oxetane, 3,3-diethyloxetane, 3-ethyl-3- (2-ethylhexyloxy). Compounds having one oxetane ring such as methyl) oxetane; 1,4-bis {[(3-ethyl-3-oxetanyl) methoxy] methyl} benzene, di (3-ethyl-3-oxetanylmethyl) ether, pentaerythritol Examples thereof include compounds having two or more oxetane rings such as tetrakis (3-ethyl-3-oxetanylmethyl) ether.

これらのカチオン重合性の部位を有する重合性化合物は単独で用いてもよいし、必要に応じ混合して用いてもよい。   These polymerizable compounds having a cationically polymerizable moiety may be used alone or in combination as necessary.

<重合性化合物>
本発明において、(a)成分である重合性化合物は一種を単独で用いてもよく、二種以上を組合せて用いてもよい。
また、(a)成分として、重合性の部位を1個有する化合物と、重合性の部位を2個以
上有する化合物を(2官能以上の重合性化合物)を併用することにより、後述する(c)トリアジン環含有ハイパーブランチポリマーの拡散が速やかに起こり、回折効率などの特性がさらに好ましい形態となる。但し、2官能以上の重合性化合物の使用量(質量)は、組成物の合計質量から2官能以上の重合性化合物を除いた質量に対して10倍量(質量)までが好適であり、これ以上使用量が多くなると、(c)トリアジン環含有ハイパーブランチポリマーの分散量が相対的に少なくなり、回折効率などにおいてよい特性が得られない。
上記2官能以上の重合性化合物としては前出のラジカル重合性の部位を有する重合性化合物或いはカチオン重合性化合物を有する化合物において、重合性の部位を2個以上有する化合物が挙げられる。
<Polymerizable compound>
In the present invention, the polymerizable compound as the component (a) may be used alone or in combination of two or more.
Further, as component (a), a compound having one polymerizable moiety and a compound having two or more polymerizable moieties (bifunctional or more polymerizable compound) are used in combination (c) described later. Diffusion of the triazine ring-containing hyperbranched polymer occurs rapidly, and characteristics such as diffraction efficiency become a more preferable form. However, the use amount (mass) of the bifunctional or higher polymerizable compound is preferably up to 10 times the mass (mass) of the total mass of the composition excluding the bifunctional or higher polymerizable compound. When the amount used is increased, the amount of dispersion of the (c) triazine ring-containing hyperbranched polymer is relatively reduced, and good characteristics such as diffraction efficiency cannot be obtained.
Examples of the bifunctional or higher polymerizable compound include compounds having two or more polymerizable sites in the above-described polymerizable compound having a radical polymerizable site or a compound having a cationic polymerizable compound.

[(b)光重合開始剤]
本発明における光重合開始剤としては、後に詳述するパターン露光によって前記(a)重合性化合物の重合を開始することができる機能を有する化合物であれば特に限定はない。
重合性化合物としてラジカル重合性の部位であるエチレン性不飽和結合を有する化合物を使用する場合、光重合開始剤としては、基本的にはパターン露光時に活性ラジカルを生成する光ラジカル重合開始剤が用いられる。
また、重合性化合物としてカチオン重合性の部位であるビニルエーテル構造、エポキシ環又はオキセタン環を有する化合物等を使用する場合、光重合開始剤としては、基本的にはパターン露光時にルイス酸あるいはブレンステッド酸を生成する光酸発生剤が用いられる。
[(B) Photopolymerization initiator]
The photopolymerization initiator in the present invention is not particularly limited as long as it is a compound having a function capable of initiating polymerization of the polymerizable compound (a) by pattern exposure described in detail later.
When using a compound having an ethylenically unsaturated bond, which is a radically polymerizable site, as the polymerizable compound, a photoradical initiator that generates an active radical during pattern exposure is basically used as the photopolymerization initiator. It is done.
In addition, when a compound having a vinyl ether structure, an epoxy ring or an oxetane ring, which is a cationically polymerizable site, is used as the polymerizable compound, the photopolymerization initiator is basically a Lewis acid or Bronsted acid during pattern exposure. A photoacid generator that generates

<光ラジカル重合開始剤>
光ラジカル重合開始剤としては、パターン露光時に活性ラジカルを生成する化合物であれば特に限定されないが、例えば、ベンゾイン系化合物、α−アミノアルキルフェノン系化合物、チオキサントン系化合物、アゾ系化合物、アジド系化合物、ジアゾ系化合物、o−キノンジアジド系化合物、アシルホスフィンオキシド系化合物、オキシムエステル系化合物、有機過酸化物、ベンゾフェノン類、ビスクマリン、ビスイミダゾール化合物、チタノセン化合物、チオール化合物、ハロゲン化炭化水素化合物、トリクロロメチルトリアジン化合物、あるいはヨードニウム塩化合物、スルホニウム塩化合物などのオニウム塩化合物等が用いられる。これらのうち、チタノセン化合物が好ましい。光ラジカル重合開始剤は単独で用いてもよいし、必要に応じて二種以上を混合して用いてもよい。
<Radical radical polymerization initiator>
The radical photopolymerization initiator is not particularly limited as long as it is a compound that generates an active radical at the time of pattern exposure. For example, a benzoin compound, an α-aminoalkylphenone compound, a thioxanthone compound, an azo compound, an azide compound , Diazo compounds, o-quinonediazide compounds, acylphosphine oxide compounds, oxime ester compounds, organic peroxides, benzophenones, biscoumarins, bisimidazole compounds, titanocene compounds, thiol compounds, halogenated hydrocarbon compounds, trichloro Methyltriazine compounds or onium salt compounds such as iodonium salt compounds and sulfonium salt compounds are used. Of these, titanocene compounds are preferred. A radical photopolymerization initiator may be used alone or in combination of two or more as required.

チタノセン化合物は、特に限定はされないが、具体的には、ビス(シクロペンタジエニル)ジクロロチタニウム、ビス(シクロペンタジエニル)ジフェニルチタニウム、ビス(シクロペンタジエニル)ビス(2,3,4,5,6−ペンタフルオロフェニル)チタニウム、ビス(シクロペンタジエニル)ビス(2,3,5,6−テトラフルオロフェニル)チタニウム、ビス(シクロペンタジエニル)ビス(2,4,6−トリフルオロフェニル)チタニウム、ビス(シクロペンタジエニル)ビス(2,6−ジフルオロフェニル)チタニウム、ビス(シクロペンタジエニル)ビス(2,4−ジフルオロフェニル)チタニウム、ビス(メチルシクロペンタジエニル)ビス(2,3,4,5,6−ペンタフルオロフェニル)チタニウム、ビス(メチルシクロペンタジエニル)ビス(2,3,5,6−テトラフルオロフェニル)チタニウム、ビス(2,6−ジフルオロフェニル)ビス(メチルシクロペンタジエニル)チタニウム、ビス(シクロペンタジエニル)ビス(2,6−ジフルオロ−3−(1H−ピロール−1−イル)フェニル)チタニウム等を挙げることができる。   The titanocene compound is not particularly limited. Specifically, bis (cyclopentadienyl) dichlorotitanium, bis (cyclopentadienyl) diphenyltitanium, bis (cyclopentadienyl) bis (2,3,4, 5,6-pentafluorophenyl) titanium, bis (cyclopentadienyl) bis (2,3,5,6-tetrafluorophenyl) titanium, bis (cyclopentadienyl) bis (2,4,6-trifluoro Phenyl) titanium, bis (cyclopentadienyl) bis (2,6-difluorophenyl) titanium, bis (cyclopentadienyl) bis (2,4-difluorophenyl) titanium, bis (methylcyclopentadienyl) bis ( 2,3,4,5,6-pentafluorophenyl) titanium, bis (methylsilane) Lopentadienyl) bis (2,3,5,6-tetrafluorophenyl) titanium, bis (2,6-difluorophenyl) bis (methylcyclopentadienyl) titanium, bis (cyclopentadienyl) bis (2,6- And difluoro-3- (1H-pyrrol-1-yl) phenyl) titanium.

ベンゾイン系化合物としては、例えばベンゾインエチルエーテル、2,2−ジメトキシ−1,2−ジフェニルエタン−1−オン、1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、2−ヒドロキシ−2−メチル−1−フェニルプロパン−1−オン等を挙げることができ
る。
Examples of benzoin compounds include benzoin ethyl ether, 2,2-dimethoxy-1,2-diphenylethane-1-one, 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone, 2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropane-1- ON etc. can be mentioned.

α−アミノアルキルフェノン系化合物としては、例えば2−メチル−1−(4−(メチルチオ)フェニル)−2−モルホリノプロパン−1−オン、2−ベンジル−2−ジメチルアミノ−1−(4−モルホリノフェニル)ブタン−1−オン等を挙げることができる。   Examples of the α-aminoalkylphenone compounds include 2-methyl-1- (4- (methylthio) phenyl) -2-morpholinopropan-1-one, 2-benzyl-2-dimethylamino-1- (4-morpholino And phenyl) butan-1-one.

チオキサントン系化合物としては、例えばチオキサントン、1−クロロチオキサントン、2−クロロチオキサントン、1−クロロ−4−プロポキシチオキサントン、2−メチルチオキサントン、2−イソプロピルチオキサントン、2,4−ジメチルチオキサントン、2,4−ジエチルチオキサントン等を挙げることができる。   Examples of the thioxanthone compound include thioxanthone, 1-chlorothioxanthone, 2-chlorothioxanthone, 1-chloro-4-propoxythioxanthone, 2-methylthioxanthone, 2-isopropylthioxanthone, 2,4-dimethylthioxanthone, 2,4-diethyl. Examples include thioxanthone.

アゾ系化合物としては、2,2’−アゾビス(2−アミノジプロパン)塩酸塩、4,4’−アゾビス(4−シアノ吉草酸)、2,2’−アゾビス〔N−(2−カルボキシエチル)−2−メチルプロピオンアミジン〕、ジメチル2,2’−アゾビスイソブチレート、2,2’−アゾビスイソブチロニトリル、2,2’−アゾビス(2,4−ジメチルバレロニトリル)、2,2’−アゾビス(2−メチルブチロニトリル)、1,1’−アゾビス(シクロヘキサン−1−カルボニトリル)、2,2’−アゾビス{2−メチル−N−〔2−(1−ヒドロキシブチル)〕プロピオンアミド}、2,2’−アゾビス〔2−メチル−N−(2−ヒドロキシエチル)プロピオンアミド〕、2,2’−アゾビス〔2−(5−メチル−2−イミダゾリン−2−イル)プロパン〕塩酸塩、2,2’−アゾビス〔2−(2−イミダゾリン−2−イル)プロパン〕塩酸塩、2,2’−アゾビス〔2−(2−イミダゾリン−2−イル)プロパン〕硫酸塩、2,2’−アゾビス〔2−(3,4,5,6−テトラヒドロピリミジン−2−イル)プロパン〕塩酸塩、2,2’−アゾビス{2−〔1−(2−ヒドロキシエチル)−2−イミダゾリン−2−イル〕プロパン}塩酸塩、2,2’−アゾビス〔2−(2−イミダゾリン−2−イル)プロパン〕等を挙げることができる。   Examples of the azo compound include 2,2′-azobis (2-aminodipropane) hydrochloride, 4,4′-azobis (4-cyanovaleric acid), 2,2′-azobis [N- (2-carboxyethyl). ) -2-methylpropionamidine], dimethyl 2,2′-azobisisobutyrate, 2,2′-azobisisobutyronitrile, 2,2′-azobis (2,4-dimethylvaleronitrile), 2 2,2'-azobis (2-methylbutyronitrile), 1,1'-azobis (cyclohexane-1-carbonitrile), 2,2'-azobis {2-methyl-N- [2- (1-hydroxybutyl) )] Propionamide}, 2,2′-azobis [2-methyl-N- (2-hydroxyethyl) propionamide], 2,2′-azobis [2- (5-methyl-2-imidazolin-2-yl) Propane] hydrochloride, 2,2'-azobis [2- (2-imidazolin-2-yl) propane] hydrochloride, 2,2'-azobis [2- (2-imidazolin-2-yl) propane] sulfate 2,2'-azobis [2- (3,4,5,6-tetrahydropyrimidin-2-yl) propane] hydrochloride, 2,2'-azobis {2- [1- (2-hydroxyethyl)- 2-Imidazolin-2-yl] propane} hydrochloride, 2,2′-azobis [2- (2-imidazolin-2-yl) propane] and the like.

アジド系化合物としては、例えばp−アジドベンズアルデヒド、p−アジドアセトフェノン、p−アジド安息香酸、p−アジドベンザルアセトフェノン、4,4’−ジアジドカルコン、4,4’−ジアジドジフェニルスルフィド、2,6−ビス(4’−アジドベンザル)−4−メチルシクロヘキサノン、4,4’−ジアジドスチルベン等を挙げることができる。   Examples of the azide compounds include p-azidobenzaldehyde, p-azidoacetophenone, p-azidobenzoic acid, p-azidobenzalacetophenone, 4,4′-diazidochalcone, 4,4′-diazidodiphenyl sulfide, 2 , 6-bis (4′-azidobenzal) -4-methylcyclohexanone, 4,4′-diazidostilbene, and the like.

ジアゾ系化合物としては、例えば1−ジアゾ−2,5−ジエトキシ−4−p−トリルメルカプトベンゼンボロフルオリド、1−ジアゾ−4−(ジメチルアミノ)ベンゼンクロリド、1−ジアゾ−4−(ジエチルアミノ)ベンゼンボロフルオリド等を挙げることができる。   Examples of the diazo compound include 1-diazo-2,5-diethoxy-4-p-tolylmercaptobenzeneborofluoride, 1-diazo-4- (dimethylamino) benzene chloride, 1-diazo-4- (diethylamino). Examples thereof include benzeneborofluoride.

o−キノンジアジド系化合物としては、例えば1,2−ナフトキノンジアジド(2)−4−スルホン酸ナトリウム塩、1,2−ナフトキノンジアジド(2)−5−スルホン酸エステル、1,2−ナフトキノンジアジド(2)−4−スルホニルクロリド等を挙げることができる。   Examples of the o-quinonediazide compounds include 1,2-naphthoquinonediazide (2) -4-sulfonic acid sodium salt, 1,2-naphthoquinonediazide (2) -5-sulfonic acid ester, 1,2-naphthoquinonediazide (2 ) -4-sulfonyl chloride and the like.

アシルホスフィンオキシド系化合物としては、例えばビス(2,4,6−トリメチルベンゾイル)フェニルホスフィンオキシド、(2,4,6−トリメチルベンゾイル)ジフェニルホスフィンオキシド等を挙げることができる。   Examples of the acylphosphine oxide compound include bis (2,4,6-trimethylbenzoyl) phenylphosphine oxide, (2,4,6-trimethylbenzoyl) diphenylphosphine oxide, and the like.

オキシムエステル系化合物としては、例えば2−(O−ベンゾイルオキシム)−1−[4−(フェニルチオ)フェニル]−1,2−オクタンジオン、1−(O−アセチルオキシム)−1−[9−エチル−6−(2−メチルベンゾイル)−9H−カルバゾール−3−イル]エタノン等を挙げることが出来る。   Examples of oxime ester compounds include 2- (O-benzoyloxime) -1- [4- (phenylthio) phenyl] -1,2-octanedione, 1- (O-acetyloxime) -1- [9-ethyl. And -6- (2-methylbenzoyl) -9H-carbazol-3-yl] ethanone.

ベンゾフェノン類としては、例えばベンゾフェノン、4,4’−ビス(ジエチルアミノ)ベンゾフェノン、1,4−ジベンゾイルベンゼン、10−ブチル−2−クロロアクリドン、2−ベンゾイルナフタレン、4−ベンゾイルビフェニル、4−ベンゾイルジフェニルエーテル、3,3’,4,4’−テトラ(t−ブチルパーオキシカルボニル)ベンゾフェノン等を挙げることができる。   Examples of benzophenones include benzophenone, 4,4′-bis (diethylamino) benzophenone, 1,4-dibenzoylbenzene, 10-butyl-2-chloroacridone, 2-benzoylnaphthalene, 4-benzoylbiphenyl, and 4-benzoyl. Examples thereof include diphenyl ether, 3,3 ′, 4,4′-tetra (t-butylperoxycarbonyl) benzophenone, and the like.

ビスクマリンとしては、例えば3,3’−カルボニルビス(7−(ジエチルアミノ)−2H−クロメン−2−オン)等が挙げられ、これはみどり化学株式会社でBC(CAS[63226−13−1])として市販されている。   Biscumarins include, for example, 3,3′-carbonylbis (7- (diethylamino) -2H-chromen-2-one) and the like, which is a product of BC (CAS [63226-13-1] manufactured by Midori Chemical Co., Ltd. ).

ビスイミダゾール化合物としては、例えば2,2’−ビス(o−クロロフェニル)−4,4’,5,5’−テトラキス(3,4,5−トリメトキシフェニル)−1,2’−ビイミダゾール、2,2’−ビス(o−クロロフェニル)−4,4’,5,5’−テトラフェニル−1,2’−ビイミダゾール等を挙げることができる。   Examples of the bisimidazole compound include 2,2′-bis (o-chlorophenyl) -4,4 ′, 5,5′-tetrakis (3,4,5-trimethoxyphenyl) -1,2′-biimidazole, Examples include 2,2′-bis (o-chlorophenyl) -4,4 ′, 5,5′-tetraphenyl-1,2′-biimidazole.

<光酸発生剤>
光酸発生剤としては、パターン露光時にルイス酸あるいはブレンステッド酸を生成する化合物であれば特に限定されないが、例えば、ジアリールヨードニウム塩化合物、トリアリールスルホニウム塩化合物、ジアゾニウム塩化合物などのオニウム塩化合物、鉄アレーン錯体化合物等を挙げることができる。
<Photo acid generator>
The photoacid generator is not particularly limited as long as it is a compound that generates a Lewis acid or a Bronsted acid during pattern exposure. For example, an onium salt compound such as a diaryliodonium salt compound, a triarylsulfonium salt compound, a diazonium salt compound, Examples thereof include iron arene complex compounds.

ジアリールヨードニウム塩化合物としては、例えば、ジフェニルヨードニウム、4,4’−ジクロロジフェニルヨードニウム、4,4’−ジメトキシジフェニルヨードニウム、4,4’−ジ−tert−ブチルジフェニルヨードニウム、(4−メチルフェニル)[4−(2−メチルプロピル)フェニル]ヨードニウム、3,3’−ジニトロフェニルヨードニウム等のヨードニウムの、テトラフルオロボレート、ヘキサフルオロホスフェート、ヘキサフルオロアルセネート、ヘキサフルオロアンチモネート等が挙げられる。   Examples of the diaryliodonium salt compound include diphenyliodonium, 4,4′-dichlorodiphenyliodonium, 4,4′-dimethoxydiphenyliodonium, 4,4′-di-tert-butyldiphenyliodonium, (4-methylphenyl) [ Examples thereof include tetrafluoroborate, hexafluorophosphate, hexafluoroarsenate, hexafluoroantimonate and the like of iodonium such as 4- (2-methylpropyl) phenyl] iodonium and 3,3′-dinitrophenyliodonium.

トリアリールスルホニウム塩化合物としては、例えば、トリフェニルスルホニウム、4−tert−ブチルトリフェニルスルホニウム、トリス(4−メチルフェニル)スルホニウム、トリス(4−メトキシフェニル)スルホニウム、4−チオフェニルトリフェニルスルホニウム等のスルホニウムの、テトラフルオロボレート、ヘキサフルオロホスフェート、ヘキサフルオロアルセネート、ヘキサフルオロアンチモネート等を挙げることができる。   Examples of the triarylsulfonium salt compound include triphenylsulfonium, 4-tert-butyltriphenylsulfonium, tris (4-methylphenyl) sulfonium, tris (4-methoxyphenyl) sulfonium, 4-thiophenyltriphenylsulfonium, and the like. Examples of sulfonium include tetrafluoroborate, hexafluorophosphate, hexafluoroarsenate, and hexafluoroantimonate.

鉄アレーン錯体化合物としては、例えばビスシクロペンタジエニル−(η−イソプロピルベンゼン)−鉄(II)ヘキサフルオロホスフェート等が挙げられる。 Examples of the iron arene complex compound include biscyclopentadienyl- (η 6 -isopropylbenzene) -iron (II) hexafluorophosphate.

<光重合開始剤>
これら光ラジカル重合開始剤、光酸発生剤などの光重合開始剤は単独で用いてもよいし、必要に応じて二種以上を混合して用いてもよい。
本発明の体積ホログラム記録材料用組成物における光重合開始剤の配合量は、(a)重合性化合物に対し0.01乃至10質量部であり、好ましくは0.05乃至5質量部である。
<Photopolymerization initiator>
These photopolymerization initiators such as photoradical polymerization initiators and photoacid generators may be used alone or in admixture of two or more if necessary.
The blending amount of the photopolymerization initiator in the composition for volume hologram recording material of the present invention is 0.01 to 10 parts by mass, preferably 0.05 to 5 parts by mass with respect to (a) the polymerizable compound.

[(c)トリアジン環含有ハイパーブランチポリマー]
本発明の体積ホログラム記録材料用組成物は、(c)トリアジン環含有ハイパーブランチポリマーを必須の成分として含む。
上記(c)成分は、その屈折率が、重合性成分、すなわち前記(a)重合性化合物と後
述する(d)エーテル又はアミド構造を有するビニルモノマー及び/又は(メタ)アクリルモノマーの重合体の屈折率に対して0.01以上、0.6以下の差となるような屈折率を有してなることが好ましい。
また体積ホログラム記録材料用組成物に含まれる上記(c)成分の配合量は、前記(a)重合性化合物の重合体、前記(c)トリアジン環含有ハイパーブランチポリマー及び後述する(d)エーテル又はアミド構造を有するビニルモノマー及び/又は(メタ)アクリルモノマーの重合体の合計体積に占める割合が3体積%以上、50体積%以下であることが好ましく、より好ましくは15体積%以上50体積%以下である。
[(C) Triazine ring-containing hyperbranched polymer]
The composition for volume hologram recording material of the present invention contains (c) a triazine ring-containing hyperbranched polymer as an essential component.
The component (c) has a refractive index of a polymerizable component, that is, a polymer of the (a) polymerizable compound and a vinyl monomer and / or (meth) acrylic monomer having an ether or amide structure described later (d). It is preferable to have a refractive index that makes a difference of 0.01 or more and 0.6 or less with respect to the refractive index.
The amount of component (c) contained in the composition for volume hologram recording material is as follows: (a) polymer of polymerizable compound, (c) triazine ring-containing hyperbranched polymer and (d) ether or The proportion of the vinyl monomer and / or (meth) acrylic monomer polymer having an amide structure in the total volume is preferably 3% by volume or more and 50% by volume or less, more preferably 15% by volume or more and 50% by volume or less. It is.

トリアジン環含有ハイパーブランチポリマーとしては、下記式(1)で表される繰り返し単位構造を含むポリマーが好ましい。
上記式(1)中、R及びR’は、互いに独立して、水素原子、アルキル基、アルコキシ基、アリール基、又はアラルキル基を表す。
As a triazine ring containing hyperbranched polymer, the polymer containing the repeating unit structure represented by following formula (1) is preferable.
In the above formula (1), R and R ′ each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group, an alkoxy group, an aryl group, or an aralkyl group.

本発明において、アルキル基の炭素原子数は特に限定されるものではないが、炭素原子数が1〜20であることが好ましく、重合体の耐熱性をより高めることを考慮すると、炭素原子数1〜10であることがより好ましく、1〜3であることがより一層好ましい。また、その構造は、直鎖状、分岐鎖状、環状のいずれでもよい。
アルキル基の具体例としては、メチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、シクロプロピル基、n−ブチル基、イソブチル基、s−ブチル基、t−ブチル基、シクロブチル基、1−メチル−シクロプロピル基、2−メチル−シクロプロピル基、n−ペンチル基、1−メチル−n−ブチル基、2−メチル−n−ブチル基、3−メチル−n−ブチル基、1,1−ジメチル−n−プロピル基、1,2−ジメチル−n−プロピル基、2,2−ジメチル−n−プロピル基、1−エチル−n−プロピル基、シクロペンチル基、1−メチル−シクロブチル基、2−メチル−シクロブチル基、3−メチル−シクロブチル基、1,2−ジメチル−シクロプロピル基、2,3−ジメチル−シクロプロピル基、1−エチル−シクロプロピル基、2−エチル−シクロプロピル基、n−ヘキシル基、1−メチル−n−ペンチル基、2−メチル−n−ペンチル基、3−メチル−n−ペンチル基、4−メチル−n−ペンチル基、1,1−ジメチル−n−ブチル基、1,2−ジメチル−n−ブチル基、1,3−ジメチル−n−ブチル基、2,2−ジメチル−n−ブチル基、2,3−ジメチル−n−ブチル基、3,3−ジメチル−n−ブチル基、1−エチル−n−ブチル基、2−エチル−n−ブチル基、1,1,2−トリメチル−n−プロピル基、1,2,2−トリメチル−n−プロピル基、1−エチル−1−メチル−n−プロピル基、1−エチル−2−メチル−n−プロピル基、シクロヘキシル基、1−メチル−シクロペンチル基、2−メチル−シクロペンチル基、3−メチル−シクロペンチル基、1−エチル−シクロブチル基、2−エチル−シクロブチル基、3−エチル−シクロブチル基、1,2−ジメチル−シクロブチル基、1,3−ジメチル−シクロブチル基、2,2−ジメチル−シクロブチル基、2,3−ジメチル−シクロブチル基、2,4−ジメチル−シクロブチル基、3,3−ジメチル−シクロブチル基、1−n−プロピル−シクロプロピル基、2−n−プロピル−シクロプロピル基、1−イソプロピル−シクロプロピル基、2−イソプロピル−シクロプロピル基、1,2,2−トリメチル−シクロプロピル基、1,2,3−トリメチル−シクロプロピル基、2,2,3−トリメチル−シクロプロピル基、1−エチル−2−メチル−シクロプロピル基、2−エチル−1−メチル−シクロプロピル基、2−エチル−2−メチル−シク
ロプロピル基、2−エチル−3−メチル−シクロプロピル基等が挙げられる。
In the present invention, the number of carbon atoms of the alkyl group is not particularly limited, but the number of carbon atoms is preferably 1 to 20, and considering the fact that the heat resistance of the polymer is further increased, the number of carbon atoms is 1 10 is more preferable, and 1 to 3 is even more preferable. The structure may be any of linear, branched, and cyclic.
Specific examples of the alkyl group include methyl group, ethyl group, n-propyl group, isopropyl group, cyclopropyl group, n-butyl group, isobutyl group, s-butyl group, t-butyl group, cyclobutyl group, and 1-methyl. -Cyclopropyl group, 2-methyl-cyclopropyl group, n-pentyl group, 1-methyl-n-butyl group, 2-methyl-n-butyl group, 3-methyl-n-butyl group, 1,1-dimethyl -N-propyl group, 1,2-dimethyl-n-propyl group, 2,2-dimethyl-n-propyl group, 1-ethyl-n-propyl group, cyclopentyl group, 1-methyl-cyclobutyl group, 2-methyl -Cyclobutyl group, 3-methyl-cyclobutyl group, 1,2-dimethyl-cyclopropyl group, 2,3-dimethyl-cyclopropyl group, 1-ethyl-cyclopropyl group, 2-ethyl -Cyclopropyl group, n-hexyl group, 1-methyl-n-pentyl group, 2-methyl-n-pentyl group, 3-methyl-n-pentyl group, 4-methyl-n-pentyl group, 1,1- Dimethyl-n-butyl group, 1,2-dimethyl-n-butyl group, 1,3-dimethyl-n-butyl group, 2,2-dimethyl-n-butyl group, 2,3-dimethyl-n-butyl group 3,3-dimethyl-n-butyl group, 1-ethyl-n-butyl group, 2-ethyl-n-butyl group, 1,1,2-trimethyl-n-propyl group, 1,2,2-trimethyl -N-propyl group, 1-ethyl-1-methyl-n-propyl group, 1-ethyl-2-methyl-n-propyl group, cyclohexyl group, 1-methyl-cyclopentyl group, 2-methyl-cyclopentyl group, 3 -Methyl-cyclopentyl group, 1- Til-cyclobutyl group, 2-ethyl-cyclobutyl group, 3-ethyl-cyclobutyl group, 1,2-dimethyl-cyclobutyl group, 1,3-dimethyl-cyclobutyl group, 2,2-dimethyl-cyclobutyl group, 2,3- Dimethyl-cyclobutyl group, 2,4-dimethyl-cyclobutyl group, 3,3-dimethyl-cyclobutyl group, 1-n-propyl-cyclopropyl group, 2-n-propyl-cyclopropyl group, 1-isopropyl-cyclopropyl group 2-isopropyl-cyclopropyl group, 1,2,2-trimethyl-cyclopropyl group, 1,2,3-trimethyl-cyclopropyl group, 2,2,3-trimethyl-cyclopropyl group, 1-ethyl-2 -Methyl-cyclopropyl group, 2-ethyl-1-methyl-cyclopropyl group, 2-ethyl-2-methyl-cyclo A propyl group, 2-ethyl-3-methyl-cyclopropyl group, etc. are mentioned.

上記アルコキシ基の炭素原子数は特に限定されるものではないが、炭素原子数が1〜20であることが好ましく、重合体の耐熱性をより高めることを考慮すると、炭素原子数1〜10であることがより好ましく、1〜3であることがより一層好ましい。また、そのアルキル部分の構造は、直鎖状、分岐鎖状、環状のいずれでもよい。
アルコキシ基の具体例としては、メトキシ基、エトキシ基、n−プロポキシ基、イソプロポキシ基、n−ブトキシ基、イソブトキシ基、s−ブトキシ基、t−ブトキシ基、n−ペンチルオキシ基、1−メチル−n−ブトキシ基、2−メチル−n−ブトキシ基、3−メチル−n−ブトキシ基、1,1−ジメチル−n−プロポキシ基、1,2−ジメチル−n−プロポキシ基、2,2−ジメチル−n−プロポキシ基、1−エチル−n−プロポキシ基、n−ヘキシルオキシ基、1−メチル−n−ペンチルオキシ基、2−メチル−n−ペンチルオキシ基、3−メチル−n−ペンチルオキシ基、4−メチル−n−ペンチルオキシ基、1,1−ジメチル−n−ブトキシ基、1,2−ジメチル−n−ブトキシ基、1,3−ジメチル−n−ブトキシ基、2,2−ジメチル−n−ブトキシ基、2,3−ジメチル−n−ブトキシ基、3,3−ジメチル−n−ブトキシ基、1−エチル−n−ブトキシ基、2−エチル−n−ブトキシ基、1,1,2−トリメチル−n−プロポキシ基、1,2,2−トリメチル−n−プロポキシ基、1−エチル−1−メチル−n−プロポキシ基、1−エチル−2−メチル−n−プロポキシ基等が挙げられる。
Although the number of carbon atoms of the alkoxy group is not particularly limited, the number of carbon atoms is preferably 1 to 20, and in view of further improving the heat resistance of the polymer, the number of carbon atoms is 1 to 10. More preferably, it is more preferably 1 to 3. Further, the structure of the alkyl moiety may be any of linear, branched or cyclic.
Specific examples of the alkoxy group include methoxy group, ethoxy group, n-propoxy group, isopropoxy group, n-butoxy group, isobutoxy group, s-butoxy group, t-butoxy group, n-pentyloxy group, 1-methyl -N-butoxy group, 2-methyl-n-butoxy group, 3-methyl-n-butoxy group, 1,1-dimethyl-n-propoxy group, 1,2-dimethyl-n-propoxy group, 2,2- Dimethyl-n-propoxy group, 1-ethyl-n-propoxy group, n-hexyloxy group, 1-methyl-n-pentyloxy group, 2-methyl-n-pentyloxy group, 3-methyl-n-pentyloxy Group, 4-methyl-n-pentyloxy group, 1,1-dimethyl-n-butoxy group, 1,2-dimethyl-n-butoxy group, 1,3-dimethyl-n-butoxy group, 2,2- Methyl-n-butoxy group, 2,3-dimethyl-n-butoxy group, 3,3-dimethyl-n-butoxy group, 1-ethyl-n-butoxy group, 2-ethyl-n-butoxy group, 1,1 , 2-trimethyl-n-propoxy group, 1,2,2-trimethyl-n-propoxy group, 1-ethyl-1-methyl-n-propoxy group, 1-ethyl-2-methyl-n-propoxy group, etc. Can be mentioned.

上記アリール基の炭素原子数は特に限定されるものではないが、炭素原子数が6〜40であることが好ましく、重合体の耐熱性をより高めることを考慮すると、炭素原子数6〜16であることがより好ましく、6〜13であることがより一層好ましい。
アリール基の具体例としては、フェニル基、o−クロルフェニル基、m−クロルフェニル基、p−クロルフェニル基、o−フルオロフェニル基、p−フルオロフェニル基、o−メトキシフェニル基、p−メトキシフェニル基、p−ニトロフェニル基、p−シアノフェニル基、α−ナフチル基、β−ナフチル基、o−ビフェニリル基、m−ビフェニリル基、p−ビフェニリル基、1−アントリル基、2−アントリル基、9−アントリル基、1−フェナントリル基、2−フェナントリル基、3−フェナントリル基、4−フェナントリル基、9−フェナントリル基等が挙げられる。
Although the number of carbon atoms of the aryl group is not particularly limited, it is preferably 6 to 40 carbon atoms, and in view of further improving the heat resistance of the polymer, the number of carbon atoms is 6 to 16. More preferably, it is 6-13.
Specific examples of the aryl group include a phenyl group, an o-chlorophenyl group, an m-chlorophenyl group, a p-chlorophenyl group, an o-fluorophenyl group, a p-fluorophenyl group, an o-methoxyphenyl group, and a p-methoxy group. Phenyl group, p-nitrophenyl group, p-cyanophenyl group, α-naphthyl group, β-naphthyl group, o-biphenylyl group, m-biphenylyl group, p-biphenylyl group, 1-anthryl group, 2-anthryl group, Examples include 9-anthryl group, 1-phenanthryl group, 2-phenanthryl group, 3-phenanthryl group, 4-phenanthryl group, 9-phenanthryl group and the like.

アラルキル基の炭素原子数は特に限定されるものではないが、炭素原子数が7〜20であることが好ましく、そのアルキル部分は、直鎖状、分岐鎖状、環状のいずれでもよい。
その具体例としては、ベンジル基、p−メチルフェニルメチル基、m−メチルフェニルメチル基、o−エチルフェニルメチル基、m−エチルフェニルメチル基、p−エチルフェニルメチル基、2−プロピルフェニルメチル基、4−イソプロピルフェニルメチル基、4−イソブチルフェニルメチル基、α−ナフチルメチル基等が挙げられる。
The number of carbon atoms in the aralkyl group is not particularly limited, but the number of carbon atoms is preferably 7 to 20, and the alkyl portion may be linear, branched or cyclic.
Specific examples thereof include benzyl group, p-methylphenylmethyl group, m-methylphenylmethyl group, o-ethylphenylmethyl group, m-ethylphenylmethyl group, p-ethylphenylmethyl group, 2-propylphenylmethyl group. 4-isopropylphenylmethyl group, 4-isobutylphenylmethyl group, α-naphthylmethyl group and the like.

上記式(1)中、Arは、下記式(2)乃至式(13)で表される群から選ばれる少なくとも1種の二価の基を表す。
In the above formula (1), Ar represents at least one divalent group selected from the group represented by the following formulas (2) to (13).

上記式(2)乃至式(13)中、R〜R92は、互いに独立して、水素原子、ハロゲン原子、カルボキシ基、スルホ基、炭素原子数1〜10の分岐構造を有していてもよいアルキル基、又は炭素原子数1〜10の分岐構造を有していてもよいアルコキシ基を表し、R93及びR94は、水素原子又は炭素原子数1〜10の分岐構造を有していてもよいアルキル基を表し、W及びWは、互いに独立して、単結合、CR9596(式中、R95及びR96は、互いに独立して、水素原子又は炭素原子数1〜10の分岐構造を有していてもよいアルキル基(ただし、R95とR96は結合する炭素原子と一緒になって環を形成していてもよい。)を表す。)、C=O、O、S、SO、SO、又はNR97(式中、R97は、水素原子又は炭素原子数1〜10の分岐構造を有していてもよいアルキル基を表す。)を表す。
これらアルキル基、アルコキシ基としては上記において挙げた基と同様の基が挙げられる。
ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子が挙げられる。
In the above formulas (2) to (13), R 1 to R 92 each independently have a hydrogen atom, a halogen atom, a carboxy group, a sulfo group, or a branched structure having 1 to 10 carbon atoms. Represents an alkyl group or an alkoxy group which may have a branched structure having 1 to 10 carbon atoms, and R 93 and R 94 have a hydrogen atom or a branched structure having 1 to 10 carbon atoms. And W 1 and W 2 are each independently a single bond, CR 95 R 96 (wherein R 95 and R 96 are each independently a hydrogen atom or a carbon atom number of 1 Represents an alkyl group which may have a branched structure of 1 to 10 (provided that R 95 and R 96 may form a ring together with the carbon atoms to be bonded)), C═O. , O, S, SO, SO 2, or NR 97 (wherein, R 97 is It represents a represents.) A hydrogen atom or an alkyl group which may have a branched structure of 1 to 10 carbon atoms.
Examples of these alkyl groups and alkoxy groups include the same groups as those described above.
Examples of the halogen atom include a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, and an iodine atom.

また上記式中、X及びXは、互いに独立して、単結合、炭素原子数1〜10の分岐構造を有していてもよいアルキレン基、又は式(14)
(式中、R99〜R101は、互いに独立して、水素原子、ハロゲン原子、カルボキシ基、スルホ基、炭素原子数1〜10の分岐構造を有していてもよいアルキル基、又は炭素原子数1〜10の分岐構造を有していてもよいアルコキシ基を表し、Y及びYは、互いに独立して、単結合又は炭素原子数1〜10の分岐構造を有していてもよいアルキレン基
を表す。)
で表される基を表す。
これらハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基としては上記において挙げた基と同様の基が挙げられる。
また炭素原子数1〜10の分岐構造を有していてもよいアルキレン基としては、メチレン基、エチレン基、プロピレン基、トリメチレン基、テトラメチレン基、ペンタメチレン基等が挙げられる。
In the above formula, X 1 and X 2 are each independently a single bond, an alkylene group which may have a branched structure having 1 to 10 carbon atoms, or formula (14)
(Wherein R 99 to R 101 are each independently a hydrogen atom, a halogen atom, a carboxy group, a sulfo group, an alkyl group which may have a branched structure having 1 to 10 carbon atoms, or a carbon atom. Represents an alkoxy group that may have a branched structure of 1 to 10, Y 1 and Y 2 may independently have a single bond or a branched structure of 1 to 10 carbon atoms; Represents an alkylene group.)
Represents a group represented by
Examples of the halogen atom, alkyl group, and alkoxy group include the same groups as those described above.
Examples of the alkylene group that may have a branched structure having 1 to 10 carbon atoms include a methylene group, an ethylene group, a propylene group, a trimethylene group, a tetramethylene group, and a pentamethylene group.

本発明における前記式(1)における好適なArとしては、式(2)、(5)乃至(13)で表される基から選ばれる少なくとも1種が挙げられ、式(2)、(5)、(7)、(8)、(11)乃至(13)で表される基から選ばれる少なくとも1種がより好ましい。   Suitable Ar in the formula (1) in the present invention includes at least one selected from groups represented by formulas (2), (5) to (13), and the formulas (2) and (5) , (7), (8), and at least one selected from the groups represented by (11) to (13) is more preferable.

上記式(2)乃至式(13)で表されるアリール基(Ar)の具体例としては、下記式で示されるものが挙げられるが、これらに限定されるものではない。   Specific examples of the aryl group (Ar) represented by the above formulas (2) to (13) include those represented by the following formula, but are not limited thereto.

これらの中でも、より高い屈折率を発現するハイパーブランチポリマーが得られることから、下記式で示されるアリール基がより好ましい。   Among these, an aryl group represented by the following formula is more preferable because a hyperbranched polymer exhibiting a higher refractive index can be obtained.

中でも、(c)トリアジン環含有ハイパーブランチポリマーに含まれる好適な繰り返し単位構造としては、式(1)で表される繰り返し単位構造において、Arが式(2)で表される二価の基であるもの、すなわち、下記式(15)で示される繰り返し単位構造が好ましい。
(式中、R、R’及びR〜Rは、前記と同じ意味を表す。)
Among them, as a suitable repeating unit structure contained in the (c) triazine ring-containing hyperbranched polymer, in the repeating unit structure represented by the formula (1), Ar is a divalent group represented by the formula (2). Some, that is, a repeating unit structure represented by the following formula (15) is preferable.
(In the formula, R, R ′ and R 1 to R 4 represent the same meaning as described above.)

そして特に好適な繰り返し単位構造としては、下記式(16)で表される繰り返し単位構造が挙げられ、中でも下記式(17)で表される繰り返し単位構造を含むトリアジン環含有ハイパーブランチポリマーが最適である。   A particularly preferred repeating unit structure includes a repeating unit structure represented by the following formula (16), and among them, a triazine ring-containing hyperbranched polymer containing a repeating unit structure represented by the following formula (17) is optimal. is there.

(式中、R及びR’は、上記と同じ意味を表す。) (In the formula, R and R ′ represent the same meaning as described above.)

本発明における(c)トリアジン環含有ハイパーブランチポリマーの重量平均分子量は特に限定されるものではないが、500〜500,000が好ましく、さらに500〜100,000が好ましく、より耐熱性を向上させるとともに、収縮率を低くするという点から、2,000以上が好ましく、より溶解性を高め、得られた溶液の粘度を低下させるという点から、50,000以下が好ましく、30,000以下がより好ましく、さらに10,000以下が好ましい。
なお、本発明における重量平均分子量は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー(以下、GPCという)分析による標準ポリスチレン換算で得られる平均分子量である。
Although the weight average molecular weight of the (c) triazine ring containing hyperbranched polymer in this invention is not specifically limited, 500-500,000 are preferable, Furthermore, 500-100,000 are preferable, While improving heat resistance more. From the viewpoint of reducing the shrinkage rate, 2,000 or more is preferable, and from the viewpoint of further increasing the solubility and decreasing the viscosity of the obtained solution, 50,000 or less is preferable, and 30,000 or less is more preferable. Furthermore, 10,000 or less is preferable.
In addition, the weight average molecular weight in this invention is an average molecular weight obtained by standard polystyrene conversion by gel permeation chromatography (henceforth GPC) analysis.

上記(c)トリアジン環含有ハイパーブランチポリマーは、国際公開第2010/128661号パンフレットに開示された手法によって製造することができる。その一例を挙げるとすれば、例えば、下記スキーム1に示されるように、ハロゲン化シアヌル(18)及びm−フェニレンジアミン化合物(19)を適当な有機溶媒中で反応させることにより繰り返し単位構造(17’)を有するトリアジン環含有ハイパーブランチポリマーを得ることができる。   The (c) triazine ring-containing hyperbranched polymer can be produced by the technique disclosed in International Publication No. 2010/128661. For example, as shown in Scheme 1 below, by reacting cyanuric halide (18) and m-phenylenediamine compound (19) in a suitable organic solvent, a repeating unit structure (17 A triazine ring-containing hyperbranched polymer having ') can be obtained.

(式中、Xは、互いに独立してハロゲン原子を表す。Rは上記と同じ意味を表す。) (In the formula, X represents a halogen atom independently of each other. R represents the same meaning as described above.)

[(d)エーテル又はアミド構造を有するビニルモノマー又は(メタ)アクリルモノマー]
本発明の体積ホログラム記録材料用組成物は、前記(c)トリアジン環含有ハイパーブランチポリマーを分散させることができ、そして前記(a)重合性化合物に対して成分(c)とともに分散し得る成分(d)を必須の成分として含む。
このような性質を有するという観点から、成分(d)としては、エーテル又はアミド構造を有するビニルモノマー又は(メタ)アクリルモノマーを挙げることができる。
なお本明細書において(メタ)アクリルモノマーとはアクリルモノマーとメタクリルモノマーの両方を意味する。
[(D) Vinyl monomer or (meth) acrylic monomer having ether or amide structure]
The composition for volume hologram recording material of the present invention can disperse the (c) triazine ring-containing hyperbranched polymer, and can be dispersed together with the component (c) in the polymerizable compound (a) ( d) as an essential component.
From the viewpoint of having such properties, examples of the component (d) include vinyl monomers or (meth) acrylic monomers having an ether or amide structure.
In the present specification, the (meth) acrylic monomer means both an acrylic monomer and a methacrylic monomer.

上記(d)成分(化合物)は、エーテル構造又はアミド構造を有するビニルモノマー、或いは、エーテル構造又はアミド構造を有する(メタ)アクリルモノマーであれば特に限定されず、例えば、2−クロロエチル=ビニル=エーテル、n−ブチルビニルエーテル、トリエチレングリコールジビニルエーテル、1,4−シクロヘキサンジメタノールジビニルエーテル、トリメチロールエタントリビニルエーテル、ビニルグリシジルエーテル等のビニルエーテル構造含有化合物;N−ビニルホルムアミド(NVF)、N−ビニルアセトアミド(NVA)、N−ビニルピロリドン(NVP)等のN−ビニルアミド類;N−アリルホルムアミド、N−アリルアセトアミド等のN−アリルアミド類;ポリエチレングリコ
ールモノ(メタ)アクリレート、ポリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ポリプロピレングリコールモノ(メタ)アクリレート、ポリプロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、ポリ(エチレングリコール−co−プロピレングリコール)モノ(メタ)アクリレート、ポリ(エチレングリコール−co−プロピレングリコール)ジ(メタ)アクリレート、ポリ(エチレングリコール−co−テトラメチレングリコール)モノ(メタ)アクリレート、ポリ(エチレングリコール−co−テトラメチレングリコール)ジ(メタ)アクリレート、ポリ(プロピレングリコール−co−テトラメチレングリコール)モノ(メタ)アクリレート、ポリ(プロピレングリコール−co−テトラメチレングリコール)ジ(メタ)アクリレート等のグリコール(メタ)アクリレート類;テトラヒドロフルフリル(メタ)アクリレート等の環状エーテル基含有(メタ)アクリレート類、脂肪族ポリアミン化合物と(メタ)アクリル酸とのアミド化合物、(メタ)アクリルアミド、N−メチル(メタ)アクリルアミド、N,N−ジメチル(メタ)アクリルアミド、N−エチル(メタ)アクリルアミド、N,N−ジエチル(メタ)アクリルアミド、N−イソプロピル(メタ)アクリルアミド、N,N−ジイソプロピル(メタ)アクリルアミド、エチレンビス(メタ)アクリルアミド等のアクリルアミド類などが挙げられる。
これらの中でも、特に、N−ビニルアミド類及び環状エーテル基含有(メタ)アクリレート類が好ましく、N−ビニルピロリドン(NVP)及びテトラヒドロフルフリル(メタ)アクリレートがより好ましい。
これらのエーテル又はアミド構造を有するビニルモノマー又は(メタ)アクリルモノマーは、単独で用いてもよいし、必要に応じ混合して用いてもよい。
The component (compound) (d) is not particularly limited as long as it is a vinyl monomer having an ether structure or an amide structure, or a (meth) acryl monomer having an ether structure or an amide structure. For example, 2-chloroethyl = vinyl = Compounds containing vinyl ether structures such as ether, n-butyl vinyl ether, triethylene glycol divinyl ether, 1,4-cyclohexanedimethanol divinyl ether, trimethylolethane trivinyl ether, vinyl glycidyl ether; N-vinylformamide (NVF), N-vinyl N-vinylamides such as acetamide (NVA) and N-vinylpyrrolidone (NVP); N-allylamides such as N-allylformamide and N-allylacetamide; polyethylene glycol mono (meth) acrylate Polyethylene glycol di (meth) acrylate, polypropylene glycol mono (meth) acrylate, polypropylene glycol di (meth) acrylate, poly (ethylene glycol-co-propylene glycol) mono (meth) acrylate, poly (ethylene glycol-co-propylene glycol) Di (meth) acrylate, poly (ethylene glycol-co-tetramethylene glycol) mono (meth) acrylate, poly (ethylene glycol-co-tetramethylene glycol) di (meth) acrylate, poly (propylene glycol-co-tetramethylene glycol) ) Glycol (meth) acrylates such as mono (meth) acrylate, poly (propylene glycol-co-tetramethylene glycol) di (meth) acrylate Cyclic ether group-containing (meth) acrylates such as tetrahydrofurfuryl (meth) acrylate, amide compounds of aliphatic polyamine compounds and (meth) acrylic acid, (meth) acrylamide, N-methyl (meth) acrylamide N, N-dimethyl (meth) acrylamide, N-ethyl (meth) acrylamide, N, N-diethyl (meth) acrylamide, N-isopropyl (meth) acrylamide, N, N-diisopropyl (meth) acrylamide, ethylenebis ( Examples include acrylamides such as (meth) acrylamide.
Among these, N-vinylamides and cyclic ether group-containing (meth) acrylates are particularly preferable, and N-vinylpyrrolidone (NVP) and tetrahydrofurfuryl (meth) acrylate are more preferable.
These vinyl monomers or (meth) acrylic monomers having an ether or amide structure may be used alone or in combination as necessary.

本発明の体積ホログラム記録材料用組成物における(d)エーテル又はアミド構造を有するビニルモノマー又は(メタ)アクリルモノマーの配合量は、(a)重合性化合物1質量部に対し0.01乃至1,000質量部、好ましくは0.1乃至1,000質量部、より好ましくは1乃至1,000質量部である。   The blending amount of the vinyl monomer or (meth) acrylic monomer having (d) ether or amide structure in the composition for volume hologram recording material of the present invention is 0.01 to 1, with respect to 1 part by weight of the polymerizable compound (a). 000 parts by mass, preferably 0.1 to 1,000 parts by mass, more preferably 1 to 1,000 parts by mass.

[体積ホログラム記録媒体]
本発明は上記成分(a)乃至(d)を含有する体積ホログラム記録材料用組成物を含む体積ホログラム記録層並びに該記録層を含む体積ホログラム記録媒体も対象とする。
本発明の体積ホログラム記録媒体における記録層には、上記成分(a)乃至(d)の他、必要に応じて、増感剤、連鎖移動剤、可塑剤、着色剤等の添加剤を加えてもよい。また、膜厚の均一性を持たせ、光照射での重合で形成された干渉膜を安定に存在させるためには結合材としてバインダ樹脂を加えてもよい。
[Volume hologram recording medium]
The present invention is also directed to a volume hologram recording layer containing a composition for volume hologram recording material containing the components (a) to (d) and a volume hologram recording medium containing the recording layer.
In addition to the components (a) to (d), additives such as a sensitizer, a chain transfer agent, a plasticizer, and a colorant are added to the recording layer in the volume hologram recording medium of the present invention as necessary. Also good. In addition, a binder resin may be added as a binder in order to make the film thickness uniform and allow the interference film formed by polymerization by light irradiation to exist stably.

バインダ樹脂は前記樹脂成分(成分(a)及び(d))と相溶性のよいものが好ましく、その具体例としては塩素化ポリエチレン、ポリメチル(メタ)アクリレート、メチル(メタ)アクリレートと他の(メタ)アクリル酸アルキルエステルの共重合体、塩化ビニルとアクリロニトリルの共重合体、ポリ酢酸ビニル、ポリビニルアルコール、ポリビニルホルマール、ポリビニルブチラール、ポリビニルピロリドン、エチルセルロース、アセチルセルロースなどが挙げられる。   The binder resin preferably has good compatibility with the resin components (components (a) and (d)). Specific examples thereof include chlorinated polyethylene, polymethyl (meth) acrylate, methyl (meth) acrylate and other (meta). ) Copolymers of acrylic acid alkyl esters, copolymers of vinyl chloride and acrylonitrile, polyvinyl acetate, polyvinyl alcohol, polyvinyl formal, polyvinyl butyral, polyvinyl pyrrolidone, ethyl cellulose, acetyl cellulose and the like.

本発明の体積ホログラム記録用組成物を用いて体積ホログラム記録層並びに体積ホログラム記録媒体を作るには成分(a)乃至(d)を、必要に応じ、増感剤、及びバインダ樹脂等とともに混合し、このまま無溶剤で透明基体(支持体)上に塗布するか、これらの混合物に溶剤又は添加剤を加えて所謂ワニスの形態とし、これを透明基体上に塗布、乾燥して、透明基体上に体積ホログラム記録層が形成した記録媒体を得る。
さらに該記録層上に透明基体、或いは酸素遮断のための保護層を設け、体積ホログラム記録層が2枚の透明基体間、或いは透明基体と保護層間に配置された構造とすることもできる。
In order to make a volume hologram recording layer and a volume hologram recording medium using the volume hologram recording composition of the present invention, the components (a) to (d) are mixed with a sensitizer and a binder resin, if necessary. Then, it is coated on the transparent substrate (support) without solvent as it is, or a solvent or additive is added to these mixtures to form a so-called varnish, which is coated on the transparent substrate, dried and then coated on the transparent substrate. A recording medium on which a volume hologram recording layer is formed is obtained.
Further, a transparent substrate or a protective layer for blocking oxygen may be provided on the recording layer, and a volume hologram recording layer may be arranged between the two transparent substrates or between the transparent substrate and the protective layer.

上記溶剤としては、使用成分に対して十分な溶解度を持ち、良好な塗膜性を与えるものであれば特に制限はないが、例えば、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、メチルセロソルブアセテート、エチルセロソルブアセテート等のセロソルブ系溶剤;プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノブチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノブチルエーテルアセテート、ジプロピレングリコールジメチルエーテル等のプロピレングリコール系溶剤;酢酸ブチル、酢酸アミル、酢酸エチル、酢酸ブチル、ジエチルオキサレート、ピルビン酸エチル、エチル−2−ヒドロキシブチレート、エチルアセトアセテート、乳酸メチル、乳酸エチル、3−メトキシプロピオン酸メチル等のエステル系溶剤;ブタノール、ヘプタノール、ヘキサノール、ジアセトンアルコール、フルフリルアルコール等のアルコール系溶剤;メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、メチルアミルケトン等のケトン系溶剤;N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド、N−メチル−2−ピロリドン等の高極性溶剤;あるいはこれらの混合溶剤、さらには、これらに芳香族炭化水素を添加したもの等が挙げられる。
上記溶剤の使用量の割合は、本実施形態の体積ホログラム用材料組成物の総量に対して、通常、質量比で1乃至20倍程度の範囲である。
The solvent is not particularly limited as long as it has sufficient solubility with respect to the components used and gives good coating properties. For example, methyl cellosolve, ethyl cellosolve, methyl cellosolve acetate, ethyl cellosolve acetate, etc. Cellosolve solvent; propylene glycol solvents such as propylene glycol monomethyl ether, propylene glycol monoethyl ether, propylene glycol monobutyl ether, propylene glycol monomethyl ether acetate, propylene glycol monoethyl ether acetate, propylene glycol monobutyl ether acetate, dipropylene glycol dimethyl ether; Butyl acetate, amyl acetate, ethyl acetate, butyl acetate, diethyl oxalate, ethyl pyruvate, ethyl-2- Ester solvents such as roxybutyrate, ethyl acetoacetate, methyl lactate, ethyl lactate, methyl 3-methoxypropionate; alcohol solvents such as butanol, heptanol, hexanol, diacetone alcohol, furfuryl alcohol; methyl isobutyl ketone, cyclohexanone , Ketone solvents such as methyl amyl ketone; highly polar solvents such as N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide, N-methyl-2-pyrrolidone; or mixed solvents thereof; The thing etc. which added the hydrocarbon are mentioned.
The ratio of the amount of the solvent used is usually in the range of about 1 to 20 times in terms of mass ratio with respect to the total amount of the volume hologram material composition of the present embodiment.

上記透明基体としては、透明なガラス板、アクリル板、ポリエチレンテレフタレートフィルム、ポリエチレンフィルム等が用いられる。塗布方法としては、従来公知の方法、例えば、回転塗布、ワイヤーバー塗布、ディップ塗布、エアーナイフ塗布、ロール塗布、ブレード塗布、及びカーテン塗布等を用いることができる。   As the transparent substrate, a transparent glass plate, an acrylic plate, a polyethylene terephthalate film, a polyethylene film, or the like is used. As the coating method, conventionally known methods such as spin coating, wire bar coating, dip coating, air knife coating, roll coating, blade coating, and curtain coating can be used.

上記保護層としては、酸素による感度低下や保存安定性の劣化等の悪影響を防止するための公知技術、例えば、水溶性ポリマー等の塗布を用いることもできる。   As the protective layer, a known technique for preventing adverse effects such as a decrease in sensitivity due to oxygen and deterioration in storage stability, for example, application of a water-soluble polymer or the like can be used.

本発明はまた、前記体積ホログラム記録材料用組成物を用いるパターン形成方法も対象とする。
すなわち、前記体積ホログラム記録材料用組成物を、支持体に塗布し塗布膜を形成する工程、及び前記塗布膜にパターン露光する工程を含む方法であって、特に前記パターン露光が干渉露光であることが好ましい。
上記支持体としては前述の透明基体として挙げたものを好適に使用でき、また支持体への塗布方法としては前述の透明基体上への塗布方法を挙げることができる。
The present invention is also directed to a pattern forming method using the composition for volume hologram recording material.
That is, the method includes a step of coating the volume hologram recording material composition on a support to form a coating film, and a pattern exposure step on the coating film, and the pattern exposure is particularly interference exposure. Is preferred.
As the support, those mentioned as the above-mentioned transparent substrate can be preferably used, and as the method for coating on the support, the above-mentioned coating method on the transparent substrate can be mentioned.

前述したとおり、体積ホログラム記録用組成物として従来、屈折率の異なる複数の官能性モノマーからなる組成物や液状有機物と官能性モノマーからなる組成物などが知られている。こうした組成物を用いて回折効率の高いホログラムを得るためには、干渉縞の明部に当たる領域と暗部に当たる領域の屈折率差を大きくする必要がある。しかしながら従来提案されている有機物の屈折率は通常1.3〜1.6程度に限られることから、有機物同士の組合せからなるホログラム記録材料では屈折率差を大きくするのに限界があるとされていた。
本発明において使用するトリアジン環含有ハイパーブランチポリマーは1.7を上回る高い屈折率を有し、このため、従来限界があるとされた有機物(樹脂成分など)との組合せにおいても屈折率差を大きく取ることができ、従って回折光率の高いホログラムを得ることができる。
As described above, as a composition for volume hologram recording, a composition composed of a plurality of functional monomers having different refractive indexes and a composition composed of a liquid organic substance and a functional monomer are known. In order to obtain a hologram with high diffraction efficiency using such a composition, it is necessary to increase the difference in refractive index between the area corresponding to the bright part and the area corresponding to the dark part of the interference fringes. However, since the refractive index of organic substances proposed heretofore is usually limited to about 1.3 to 1.6, it is said that there is a limit in increasing the difference in refractive index in hologram recording materials composed of combinations of organic substances. It was.
The triazine ring-containing hyperbranched polymer used in the present invention has a high refractive index exceeding 1.7. Therefore, even when combined with organic substances (resin components, etc.) that are considered to be limited in the past, the refractive index difference is greatly increased. Therefore, a hologram having a high diffracted light rate can be obtained.

以下、合成例および実施例を挙げて、本発明をより具体的に説明するが、本発明は下記の実施例に限定されるものではない。なお、実施例で用いた各測定装置は以下のとおりである。
H NMR]
装置:Varian NMR System 400NB(400MHz)(現:アジレントテクノロジー(株)製)
JEOL−ECA700(700MHz)
測定溶媒:DMSO−d6
基準物質:テトラメチルシラン(TMS)(δ0.0ppm)
[GPC]
装置:東ソー(株)製 HLC−8200 GPC
カラム:Shodex KF−804L+KF−805L
カラム温度:40℃
溶媒:テトラヒドロフラン(以下、THF)
検出器:UV(254nm)
検量線:標準ポリスチレン
[エリプソメーター]
装置:ジェー・エー・ウーラム・ジャパン製 多入射角分光エリプソメーターVASE[示差熱天秤(TG−DTA)]
装置:(株)リガク製 TG−8120
昇温速度:10℃/分
測定温度:25℃−750℃
[膜密度測定 XRR]
装置:D8 DISCOVER(ブルカー・エイエックスエス(株)製)
管電圧−電流:50kV−100mA
測定範囲:0.2−3.000deg(2θ)
ステップ幅:0.005deg(2θ)
time/step:0.5秒/step
EXAMPLES Hereinafter, although a synthesis example and an Example are given and this invention is demonstrated more concretely, this invention is not limited to the following Example. In addition, each measuring apparatus used in the Example is as follows.
[ 1 H NMR]
Apparatus: Varian NMR System 400NB (400 MHz) (currently manufactured by Agilent Technologies)
JEOL-ECA700 (700MHz)
Measuring solvent: DMSO-d6
Reference substance: Tetramethylsilane (TMS) (δ0.0ppm)
[GPC]
Equipment: HLC-8200 GPC manufactured by Tosoh Corporation
Column: Shodex KF-804L + KF-805L
Column temperature: 40 ° C
Solvent: Tetrahydrofuran (hereinafter THF)
Detector: UV (254 nm)
Calibration curve: Standard polystyrene [Ellipsometer]
Apparatus: Multi-angle-of-incidence spectroscopic ellipsometer VASE [differential thermobalance (TG-DTA)] manufactured by JA Woollam Japan
Device: TG-8120, manufactured by Rigaku Corporation
Temperature increase rate: 10 ° C / min Measurement temperature: 25 ° C-750 ° C
[Film density measurement XRR]
Device: D8 DISCOVER (Bruker AXS Co., Ltd.)
Tube voltage-current: 50 kV-100 mA
Measurement range: 0.2-3,000 deg (2θ)
Step width: 0.005 deg (2θ)
time / step: 0.5 seconds / step

[1]トリアジン環含有ハイパーブランチポリマーの合成
[合成例1]HB−TmDA40の合成
[1] Synthesis of triazine ring-containing hyperbranched polymer [Synthesis Example 1] Synthesis of HB-TmDA40

窒素下、1000mL四口フラスコにジメチルアセトアミド(DMAc)456.02gを加え、アセトン−ドライアイス浴により−10℃まで冷却し、2,4,6−トリクロロ−1,3,5−トリアジン[1](84.83g、0.460mol、エポニックデグザ社製)を加え溶解した。その後、別途DMAc304.01gに溶解したm−フェニレンジアミン[2](62.18g、0.575mol)及びアニリン(14.57g、0.156mol)を前記四口フラスコに滴下し、滴下後30分撹拌して反応溶液を得た。
予めDMAc621.85gを加えてオイルバスで85℃に加熱してある2000mL四口フラスコに、この反応溶液を送液ポンプにより1時間かけて滴下し、その後1時間撹拌して重合させた。その後、アニリン(113.95g、1.224mol)を加え、その後1時間撹拌して反応を終了した。
氷浴により室温まで冷却後、トリエチルアミン(116.36g、1.15mol)を滴下し、その後30分撹拌した後、塩酸をクエンチした。その後、析出した塩酸塩をろ過除去した。ろ過した反応溶液を28%アンモニア水溶液(279.29g)とイオン交換水8820gの混合溶液に再沈殿させた。沈殿物をろ過し、減圧乾燥機で150℃、8時
間乾燥後、THF833.1gに再溶解させ、イオン交換水6665gに再沈殿させた。得られた沈殿物をろ過し、減圧乾燥機で150℃、25時間乾燥し、目的とする高分子化合物の微粒子[3](以下、HB−TmDA40と略す)118.0gを得た。
HB−TmDA40のH−NMRスペクトルの測定結果を図1に示す。得られたHB−TmDA40は前述の式(1)で表される繰り返し単位構造を有する化合物である。HB−TmDA40のGPCによるポリスチレン換算で測定される重量平均分子量Mwは4,300、多分散度Mw/Mnは3.44であった。また膜密度測定より得られたHB−TmDA40の密度は1.32g/cmであった。
Under nitrogen, 456.02 g of dimethylacetamide (DMAc) was added to a 1000 mL four-necked flask, cooled to −10 ° C. with an acetone-dry ice bath, and 2,4,6-trichloro-1,3,5-triazine [1]. (84.83 g, 0.460 mol, manufactured by Eponic Degussa) was added and dissolved. Thereafter, m-phenylenediamine [2] (62.18 g, 0.575 mol) and aniline (14.57 g, 0.156 mol) separately dissolved in 304.01 g of DMAc were added dropwise to the four-necked flask and stirred for 30 minutes after the addition. Thus, a reaction solution was obtained.
This reaction solution was added dropwise to a 2000 mL four-necked flask that had been previously added with 621.85 g of DMAc and heated to 85 ° C. in an oil bath with a liquid feed pump over 1 hour, and then stirred for 1 hour for polymerization. Thereafter, aniline (113.95 g, 1.224 mol) was added, and then stirred for 1 hour to complete the reaction.
After cooling to room temperature with an ice bath, triethylamine (116.36 g, 1.15 mol) was added dropwise, and after 30 minutes of stirring, hydrochloric acid was quenched. Thereafter, the precipitated hydrochloride was removed by filtration. The filtered reaction solution was reprecipitated into a mixed solution of 28% aqueous ammonia (279.29 g) and ion-exchanged water 8820 g. The precipitate was filtered, dried at 150 ° C. for 8 hours in a vacuum dryer, redissolved in 833.1 g of THF, and reprecipitated in 6665 g of ion-exchanged water. The resulting precipitate was filtered and dried at 150 ° C. for 25 hours with a vacuum drier to obtain 118.0 g of the target polymer compound fine particles [3] (hereinafter abbreviated as HB-TmDA40).
The measurement result of the 1 H-NMR spectrum of HB-TmDA40 is shown in FIG. The obtained HB-TmDA40 is a compound having a repeating unit structure represented by the above formula (1). The weight average molecular weight Mw measured in terms of polystyrene by GPC of HB-TmDA40 was 4,300, and the polydispersity Mw / Mn was 3.44. Moreover, the density of HB-TmDA40 obtained from the film density measurement was 1.32 g / cm 3 .

(1)耐熱性試験
合成例1で得られたHB−TmDA40について、TG−DTA測定を行ったところ、5%重量減少温度(Td5%)は419℃であった。得られた結果を図2に示す
(2)屈折率測定
合成例1で得られたHB−TmDA40 0.5gを、シクロヘキサノン4.5gに溶解し、薄黄色透明溶液(ポリマーワニス)を得た。得られたポリマーワニスをガラス基板上にスピンコーターを用いて200rpmで5秒間、2000rpmで30秒間スピンコートし、150℃で1分、250℃で5分間加熱して溶媒を除去し、被膜を得た。得られた被膜の屈折率を測定したところ、550nmにおける屈折率は1.790であった。
(1) Heat resistance test When TG-DTA measurement was performed on HB-TmDA40 obtained in Synthesis Example 1, the 5% weight loss temperature (Td 5% ) was 419 ° C. The obtained results are shown in FIG. 2 (2) Refractive index measurement 0.5 g of HB-TmDA40 obtained in Synthesis Example 1 was dissolved in 4.5 g of cyclohexanone to obtain a light yellow transparent solution (polymer varnish). The obtained polymer varnish was spin-coated on a glass substrate at 200 rpm for 5 seconds and 2000 rpm for 30 seconds using a spin coater, and the solvent was removed by heating at 150 ° C. for 1 minute and 250 ° C. for 5 minutes to obtain a coating film. It was. When the refractive index of the obtained film was measured, the refractive index at 550 nm was 1.790.

[製造例1]
窒素下、200mLフラスコに、HB−TmDA40 30質量部、テトラヒドロフルフリルアクリレート(以下、THF−A)66質量部[共栄社化学(株)製]、N−ビニルピロリドン(以下、NVP)4質量部[純正化学(株)製]を加え、オイルバスにて60℃に加熱し、24時間撹拌しHB−TmDA40のアクリルモノマー分散液を得た。
[Production Example 1]
Under nitrogen, in a 200 mL flask, 30 parts by mass of HB-TmDA40, 66 parts by mass of tetrahydrofurfuryl acrylate (hereinafter, THF-A) [manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.], 4 parts by mass of N-vinylpyrrolidone (hereinafter, NVP) [ Pure Chemical Co., Ltd.] was added, heated to 60 ° C. in an oil bath, and stirred for 24 hours to obtain an acrylic monomer dispersion of HB-TmDA40.

<実施例1>
[体積ホログラム記録材料用組成物の調製]
製造例1で調製したHB−TmDA40のアクリルモノマー分散液(ハイパーブランチポリマー濃度30.0質量%)1.067gに、さらに(d)としてNVPを17mg加え、(a)重合性化合物として、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート(DPHA)303mg、(b)光重合開始剤として、ビス(シクロペンタジエニル)ビス(2,6−ジフルオロ−3−(1H−ピロール−1−イル)フェニル)チタニウム(チバ・ジャパン(株)製、商品名:Irgacure784)3.1mgを加え、これらを溶解させ、体積ホログラム記録材料用組成物を調製した。
<Example 1>
[Preparation of composition for volume hologram recording material]
To 1.067 g of HB-TmDA40 acrylic monomer dispersion (hyperbranched polymer concentration: 30.0% by mass) prepared in Production Example 1, 17 mg of NVP was added as (d), and (a) as a polymerizable compound, dipenta Erythritol hexaacrylate (DPHA) 303 mg, (b) As a photopolymerization initiator, bis (cyclopentadienyl) bis (2,6-difluoro-3- (1H-pyrrol-1-yl) phenyl) titanium (Ciba Japan) Co., Ltd., trade name: Irgacure 784) 3.1 mg was added and dissolved to prepare a volume hologram recording material composition.

なお波長589nmにおける、HB−TmDA40の屈折率は1.79、重合性成分(DPHA、THF−A及びNVP)の重合体の屈折率は1.53であり、両者の屈折率差は0.26であった。
また、重合性化合物(DPHA)の重合体の密度は1.186g/cmであり、HB−TmDA40の密度は前述したとおり1.32g/cmであるから、その体積はそれぞれ、重合性化合物:0.303/1.186=0.255cm、HB−TmDA40:1.067×0.3/1.32=0.243cmであった。なお使用したTHF−A(1.067×0.66=0.704g)とNVP(1.067×0.04+0.017=0.060g)の合計体積は0.708cmであった。
従って、重合性成分(DPHA、THF−A及びNVP)及びHB−TmDA40の合計体積に占めるHB−TmDA40の体積分率は、[0.243/(0.255+0.243+0.708)]×100=20.14、即ち20.1体積%であった。
At a wavelength of 589 nm, the refractive index of HB-TmDA40 is 1.79, the refractive index of the polymer of the polymerizable components (DPHA, THF-A and NVP) is 1.53, and the refractive index difference between them is 0.26. Met.
The density of the polymer of the polymerizable compound (DPHA) is 1.186g / cm 3, since the density of the HB-TmDA40 is 1.32 g / cm 3 as described above, each of the volume, the polymerizable compound : 0.303 / 1.186 = 0.255cm 3, HB-TmDA40: 1.067 was × 0.3 / 1.32 = 0.243cm 3. The total volume of THF-A (1.067 × 0.66 = 0.704 g) and NVP (1.067 × 0.04 + 0.017 = 0.060 g) used was 0.708 cm 3 .
Therefore, the volume fraction of HB-TmDA40 in the total volume of the polymerizable components (DPHA, THF-A and NVP) and HB-TmDA40 is [0.243 / (0.255 + 0.243 + 0.708)] × 100 = It was 20.14, that is, 20.1% by volume.

[体積ホログラム記録媒体の作製]
スライドガラスの上下左右両端部に、スペーサとして厚さ10μmのアルミニウム箔を
載せ、スライドガラス中央(スペーサに挟まれた領域)に上記体積ホログラム記録材料用組成物を滴下し、体積ホログラム記録層を形成した。その後、形成した体積ホログラム記録層を挟むように別のスライドガラスを被せ、体積ホログラム記録媒体を作製した。
[Production of volume hologram recording medium]
A 10 μm thick aluminum foil is placed as a spacer on the top, bottom, left, and right ends of the slide glass, and the volume hologram recording material composition is dropped onto the center of the slide glass (the region sandwiched between the spacers) to form a volume hologram recording layer did. Thereafter, another slide glass was placed so as to sandwich the formed volume hologram recording layer, thereby producing a volume hologram recording medium.

[体積ホログラム記録時の各物性値の測定]
本発明の体積ホログラム記録媒体に対し、図3に示す装置によって二光束干渉露光を行い、体積ホログラムの記録を試みた。体積ホログラム記録媒体に対し、波長532nmのNd:YVOレーザーを用いて、露光パワー密度250mW/cmで二光束干渉露光(格子間隔1μm)を行った。Nd:YVOレーザーから出射した光はビームエキスパンダを経てハーフミラーで2本に分割され、それぞれミラーを経て体積ホログラム記録媒体に照射され、両光の干渉縞が記録され体積ホログラムを形成させた。
同時に、体積ホログラム記録媒体が感光しない波長632.8nmのヘリウムネオン(He−Ne)レーザーを体積ホログラム記録媒体に照射し、その回折光を光検出器で検出することによりホログラム形成過程をモニターし回折効率を評価した。また、露光後の回折効率の角度依存性を測定し、試料の露光後の膜厚を算出した。さらに、得られた回折効率と膜厚から屈折率変調量(Δn)の露光時間変化と飽和屈折率変調量(Δnsat)を評価した。結果を表1に合わせて示す。また図4に露光時間に対するΔnの変化を示す。
[Measurement of physical properties during volume hologram recording]
The volume hologram recording medium of the present invention was subjected to two-beam interference exposure using the apparatus shown in FIG. Two- beam interference exposure (grating spacing 1 μm) was performed on the volume hologram recording medium with an exposure power density of 250 mW / cm 2 using an Nd: YVO 4 laser with a wavelength of 532 nm. The light emitted from the Nd: YVO 4 laser is divided into two by a half mirror through a beam expander, and each volume is irradiated to a volume hologram recording medium, and interference fringes of both lights are recorded to form a volume hologram. .
At the same time, the volume hologram recording medium is irradiated with a helium-neon (He-Ne) laser with a wavelength of 632.8 nm, which is not exposed to light, and the hologram formation process is monitored and detected by detecting the diffracted light with a photodetector. Efficiency was evaluated. Further, the angle dependency of the diffraction efficiency after exposure was measured, and the film thickness after exposure of the sample was calculated. Furthermore, the exposure time change of the refractive index modulation amount (Δn) and the saturated refractive index modulation amount (Δn sat ) were evaluated from the obtained diffraction efficiency and film thickness. The results are shown in Table 1. FIG. 4 shows changes in Δn with respect to the exposure time.

<実施例2>
実施例1と同様の方法で、HB−TmDA40の体積分率12.2体積%の試料を作成し、屈折率変調量(Δn)の露光時間変化と飽和屈折率変調量(Δnsat)を評価した。結果を表1に合わせて示す。また図5に露光時間に対するΔnの変化を示す。
<Example 2>
A sample having a volume fraction of 12.2% by volume of HB-TmDA40 was prepared in the same manner as in Example 1, and the change in exposure time of the refractive index modulation amount (Δn) and the saturated refractive index modulation amount (Δn sat ) were evaluated. did. The results are shown in Table 1. FIG. 5 shows changes in Δn with respect to the exposure time.

<実施例3>
実施例1と同様の方法で、HB−TmDA40の体積分率15.6体積%の試料を作成し、屈折率変調量(Δn)の露光時間変化と飽和屈折率変調量(Δnsat)を評価した。結果を表1に合わせて示す。また図6に露光時間に対するΔnの変化を示す。
<Example 3>
A sample having a volume fraction of 15.6% by volume of HB-TmDA40 was prepared in the same manner as in Example 1, and the change in exposure time of the refractive index modulation amount (Δn) and the saturated refractive index modulation amount (Δn sat ) were evaluated. did. The results are shown in Table 1. FIG. 6 shows the change of Δn with respect to the exposure time.

<実施例4>
実施例1と同様の方法で、HB−TmDA40の体積分率17.9体積%の試料を作成し、屈折率変調量(Δn)の露光時間変化と飽和屈折率変調量(Δnsat)を評価した。結果を表1に合わせて示す。また図7に露光時間に対するΔnの変化を示す。
<Example 4>
A sample having a volume fraction of 17.9% by volume of HB-TmDA40 was prepared in the same manner as in Example 1, and the change in exposure time of the refractive index modulation amount (Δn) and the saturated refractive index modulation amount (Δn sat ) were evaluated. did. The results are shown in Table 1. FIG. 7 shows changes in Δn with respect to the exposure time.

<実施例5>
実施例1と同様の方法で、HB−TmDA40の体積分率22.9体積%の試料を作成し、屈折率変調量(Δn)の露光時間変化と飽和屈折率変調量(Δnsat)を評価した。結果を表1に合わせて示す。また図8に露光時間に対するΔnの変化を示す。
<Example 5>
A sample having a volume fraction of 22.9% by volume of HB-TmDA40 was prepared in the same manner as in Example 1, and the change in exposure time of the refractive index modulation amount (Δn) and the saturated refractive index modulation amount (Δn sat ) were evaluated. did. The results are shown in Table 1. FIG. 8 shows the change of Δn with respect to the exposure time.

<比較例>
実施例1と同様の方法で、但しHB−TmDA40を分散させない試料を作成し、屈折率変調量(Δn)の露光時間変化を評価した。図9に露光時間に対するΔnの変化を示す。
<Comparative example>
A sample in which HB-TmDA40 was not dispersed was prepared in the same manner as in Example 1, and the change in exposure time of the refractive index modulation amount (Δn) was evaluated. FIG. 9 shows changes in Δn with respect to the exposure time.

また実施例1乃至実施例5で作製したHB−TmDA40の体積分率の異なる試料(12.2体積%、15.6体積%、17.9体積%、20.1体積%、22.9体積%)について、ΔnsatのHB−TmDA40の濃度依存性を評価した。図10に、HB−TmDA40の体積分率(体積%)に対するΔnsatを示す。 Samples with different volume fractions of the HB-TmDA40 produced in Example 1 to Example 5 (12.2 vol%, 15.6 vol%, 17.9 vol%, 20.1 vol%, 22.9 vol) %), The dependency of Δn sat on the concentration of HB-TmDA40 was evaluated. FIG. 10 shows Δn sat with respect to the volume fraction (volume%) of HB-TmDA40.

[表1] [Table 1]

表1に示すように、本発明の体積ホログラム記録材料用組成物の飽和屈折率変調量Δnsatは極めて高く、また微粒子(HB−TmDA40)の体積分率が増加するにつれてΔnsatは増加する傾向にある(図10参照)とする結果を得た。
一方、図9に示すように、微粒子(HB−TmDA40)を添加しない媒体に対して実施例と同様に体積ホログラムの記録を行った場合(比較例)、回折効率は一旦上昇するが時間の経過とともに急速に低下し、最終的にはほとんど消えてしまうとする結果を得た。これは、官能性モノマー単一成分であるため、全体が重合すると屈折率変調が消失することに対応している。
As shown in Table 1, the saturation refractive index modulation amount Δn sat of the volume hologram recording material composition of the present invention is extremely high, and Δn sat tends to increase as the volume fraction of the fine particles (HB-TmDA40) increases. (See FIG. 10).
On the other hand, as shown in FIG. 9, when recording a volume hologram in the same manner as in the Example (Comparative Example) on a medium to which fine particles (HB-TmDA40) are not added, the diffraction efficiency once rises but the passage of time. As a result, it decreased rapidly and eventually disappeared. Since this is a single component of a functional monomer, it corresponds to the loss of refractive index modulation when polymerized as a whole.

本発明の体積ホログラム記録材料用組成物、及びそれらから得られる体積ホログラム記録媒体は、三次元画像表示や画像、ビット情報の大容量メモリ、及び回折光学素子、その他に使用できる。   The composition for volume hologram recording material of the present invention and the volume hologram recording medium obtained from them can be used for three-dimensional image display, large-capacity memory for images and bit information, diffractive optical elements, and the like.

1 ホログラム記録媒体
2 Nd:YVOレーザー
3 ビームエキスパンダ
4 He−Neレーザー
5,6,7,8,9,10,11 ミラー
12 ビームサンプラー
13 ハーフミラー
14,15 半波長板
16,17 偏光プリズム
18,19,20 光検出器
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Hologram recording medium 2 Nd: YVO 4 laser 3 Beam expander 4 He-Ne laser 5, 6, 7, 8, 9, 10, 11 Mirror 12 Beam sampler 13 Half mirror 14, 15 Half wavelength plate 16, 17 Polarizing prism 18, 19, 20 Photodetector

Claims (9)

パターン露光によってパターンを形成するために使用される体積ホログラム記録材料用組成物であって、
(a)重合性化合物(但し、後述の(d)を含まない。)
(b)光重合開始剤、
(c)トリアジン環含有ハイパーブランチポリマー及び
(d)エーテル構造を有するビニルモノマー(但し、後述のエーテル構造を有する(メタ)アクリルモノマーを除く。)及び/又はエーテル構造を有する(メタ)アクリルモノマー、並びにアミド構造を有するビニルモノマー(但し、後述のアミド構造を有する(メタ)アクリルモノマーを除く。)及び/又はアミド構造を有する(メタ)アクリルモノマーを含む体積ホログラム記録材料用組成物。
A composition for a volume hologram recording material used for forming a pattern by pattern exposure,
(A) polymerizable compound (however, does not include (d) described later) ,
(B) a photopolymerization initiator,
(C) a triazine ring-containing hyperbranched polymer and (d) a vinyl monomer having an ether structure (excluding a (meth) acrylic monomer having an ether structure described later) and / or a (meth) acrylic monomer having an ether structure, And a composition for a volume hologram recording material comprising a vinyl monomer having an amide structure (excluding a (meth) acrylic monomer having an amide structure described below) and / or a (meth) acrylic monomer having an amide structure .
前記(a)重合性化合物と前記(d)エーテル構造を有するビニルモノマー(但し、後述のエーテル構造を有する(メタ)アクリルモノマーを除く。)及び/又はエーテル構造を有する(メタ)アクリルモノマー、並びにアミド構造を有するビニルモノマー(但し、後述のアミド構造を有する(メタ)アクリルモノマーを除く。)及び/又はアミド構造を有する(メタ)アクリルモノマーとの重合体の屈折率と、前記(c)トリアジン環含有ハイパーブランチポリマーの屈折率との差が0.01以上、0.6以下である、請求項1に記載の体積ホログラム記録材料用組成物。 Wherein (a) the polymerizable compound (d) vinyl monomers having an ether structure (excluding (meth) acrylic monomers having an ether structure described below.) And / or having an ether structure (meth) acrylic monomer, and A refractive index of a polymer with a vinyl monomer having an amide structure (excluding a (meth) acrylic monomer having an amide structure described below) and / or a (meth) acrylic monomer having an amide structure ; and (c) triazine The composition for a volume hologram recording material according to claim 1, wherein the difference from the refractive index of the ring-containing hyperbranched polymer is 0.01 or more and 0.6 or less. 前記(a)重合性化合物の重合体、前記(c)トリアジン環含有ハイパーブランチポリマー及び前記(d)エーテル構造を有するビニルモノマー(但し、後述のエーテル構造を有する(メタ)アクリルモノマーを除く。)及び/又はエーテル構造を有する(メタ)アクリルモノマー、並びにアミド構造を有するビニルモノマー(但し、後述のアミド構造を有する(メタ)アクリルモノマーを除く。)及び/又はアミド構造を有する(メタ)アクリルモノマーの重合体の合計体積に占める前記(c)トリアジン環含有ハイパーブランチポリマーの割合が、3体積%以上、50体積%以下である、請求項1又は請求項2に記載の
体積ホログラム記録材料用組成物。
Wherein (a) a polymer of a polymerizable compound, wherein (c) a triazine ring-containing hyperbranched polymers and the (d) vinyl monomers having an ether structure (where having an ether structure below (meth) excluding acrylic monomer.) And / or a (meth) acrylic monomer having an ether structure, and a vinyl monomer having an amide structure (except for a (meth) acrylic monomer having an amide structure described later) and / or a (meth) acrylic monomer having an amide structure. 3. The composition for volume hologram recording material according to claim 1, wherein a proportion of the (c) triazine ring-containing hyperbranched polymer in a total volume of the polymer is 3 volume% or more and 50 volume% or less. object.
前記パターン露光が干渉露光であり、該干渉露光によりホログラムを形成するために使用される、請求項1乃至請求項のうち何れか一項に記載の体積ホログラム記録材料用組成物。 The composition for a volume hologram recording material according to any one of claims 1 to 3 , wherein the pattern exposure is interference exposure, and is used for forming a hologram by the interference exposure. 請求項1乃至請求項のうち何れか1項に記載の体積ホログラム記録材料用組成物を含む体積ホログラム記録層。 The volume hologram recording layer containing the composition for volume hologram recording materials of any one of Claims 1 thru | or 4 . 請求項に記載の体積ホログラム記録層を含む体積ホログラム記録媒体。 A volume hologram recording medium comprising the volume hologram recording layer according to claim 5 . 体積ホログラム記録層が、各々平面を有しそれら平面が対面する2枚の透明基体間に配置された構造である、請求項に記載の体積ホログラム記録媒体。 The volume hologram recording medium according to claim 6 , wherein the volume hologram recording layer has a structure in which each has a flat surface and is disposed between two transparent substrates facing each other. 請求項1乃至請求項のうち何れか一項に記載の体積ホログラム記録材料用組成物を、支持体に塗布し塗布膜を形成する工程、及び前記塗布膜にパターン露光する工程を含む、パターンの形成方法。 A pattern comprising the steps of coating the volume hologram recording material composition according to any one of claims 1 to 4 on a support to form a coating film, and pattern exposing the coating film. Forming method. 前記パターン露光が干渉露光である、請求項に記載のパターンの形成方法。
The pattern forming method according to claim 8 , wherein the pattern exposure is interference exposure.
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