JPWO2019130842A1 - Light-transmitting conductive film, its manufacturing method, dimming film, and dimming member - Google Patents

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Abstract

光透過性導電フィルムは、第1方向と、第1方向と直交する第2方向とに延び、基材フィルムと、光透過性導電層とを備える。光透過性導電フィルムを、20℃から160℃まで昇温した後20℃まで降温する熱機械分析工程を実施したときに、下記式に示される面内寸法変化率Rが、0.55%以下である。R = (ΔL12+ΔL22)1/2ただし、ΔL1は、前記第1方向における前記分析工程前後の寸法変化率(%)を示し、ΔL2は、前記第2方向における前記分析工程前後の寸法変化率(%)を示す。The light-transmitting conductive film extends in a first direction and a second direction orthogonal to the first direction, and includes a base film and a light-transmitting conductive layer. When the thermomechanical analysis step of heating the light-transmitting conductive film from 20 ° C. to 160 ° C. and then lowering the temperature to 20 ° C. is carried out, the in-plane dimensional change rate R represented by the following formula is 0.55% or less. Is. R = (ΔL12 + ΔL22) 1/2 However, ΔL1 indicates the dimensional change rate (%) before and after the analysis step in the first direction, and ΔL2 is the dimensional change rate (%) before and after the analysis step in the second direction. ) Is shown.

Description

本発明は、光透過性導電フィルム、その製造方法、ならびに、それを備える調光フィルムおよび調光部材に関する。 The present invention relates to a light transmissive conductive film, a method for producing the same, and a light control film and a light control member provided with the same.

近年、冷暖房負荷の低減や意匠性などから、スマートウインドウなどに代表される調光装置の需要が高まっている。調光装置は、建築物や乗物の窓ガラス、間仕切り、インテリアなどの種々の用途に用いられている。 In recent years, there has been an increasing demand for dimming devices such as smart windows due to the reduction of heating / cooling load and design. The dimmer is used for various purposes such as window glass of buildings and vehicles, partitions, and interiors.

調光装置に用いられる調光フィルムとしては、例えば、特許文献1に、2つの透明導電性樹脂基材と、2つの透明導電性樹脂基材に挟持された調光層とを備えるフィルムが提案されている(例えば、特許文献1参照。)。 As a light control film used in a light control device, for example, Patent Document 1 proposes a film having two transparent conductive resin base materials and a light control layer sandwiched between two transparent conductive resin base materials. (See, for example, Patent Document 1).

特許文献1の調光フィルムは、電界の印加によって調光層を通過する光の吸収・散乱を調整することにより、調光を可能にしている。このような調光フィルムの透明導電性樹脂基材には、ポリエステルフィルムなどの支持基材に、インジウムスズ複合酸化物(ITO)からなる透明電極を積層させたフィルムが採用されている。 The dimming film of Patent Document 1 enables dimming by adjusting the absorption and scattering of light passing through the dimming layer by applying an electric field. As the transparent conductive resin base material of such a light control film, a film in which a transparent electrode made of indium tin oxide composite oxide (ITO) is laminated on a supporting base material such as a polyester film is adopted.

WO2008/075773WO2008 / 075773

調光フィルムは、大型のガラス(例えば、1〜10mの窓ガラス)などに貼着して用いられることがある。具体的には、ガラスに、熱硬化性または熱溶融性の接着剤などを介して、そのガラスと略同一サイズの調光フィルムを配置し、加熱硬化または加熱溶融することにより、調光フィルムをガラスに貼着する。The light control film may be used by being attached to a large glass (for example, a window glass of 1 to 10 m 2 ). Specifically, a light control film having substantially the same size as the glass is placed on the glass via a thermosetting or heat meltable adhesive, and the light control film is formed by heat curing or heat melting. Stick it on the glass.

しかしながら、貼着後の調光フィルムは、加熱のため、加熱前の状態よりも収縮する不具合が生じる。その結果、ガラス(特に、周端部)に、調光フィルムが貼着されない箇所を生じる。この貼着されない箇所は、対象となるガラスの面積が大きくなるほど、顕著に目立つ。 However, since the light control film after sticking is heated, there is a problem that it shrinks more than the state before heating. As a result, there are places where the light control film is not attached to the glass (particularly the peripheral end). This non-attached portion becomes more conspicuous as the area of the target glass increases.

本発明は、対象物に貼着されない面積を低減することができる光透過性導電フィルム、その製造方法、調光フィルム、および、調光部材を提供することにある。 An object of the present invention is to provide a light transmissive conductive film capable of reducing the area not attached to an object, a method for producing the same, a light control film, and a light control member.

本発明[1]は、第1方向と、前記第1方向と直交する第2方向とに延びる光透過性導電フィルムであって、基材フィルムと、光透過性導電層とを備え、前記光透過性導電フィルムを、20℃から160℃まで昇温した後20℃まで降温する熱機械分析工程を実施したときに、下記式に示される面内寸法変化率Rが、0.55%以下である、光透過性導電フィルムを含んでいる。 The present invention [1] is a light-transmitting conductive film extending in a first direction and a second direction orthogonal to the first direction, comprising a base film and a light-transmitting conductive layer, and the light. When the thermomechanical analysis step of heating the transmissive conductive film from 20 ° C. to 160 ° C. and then lowering the temperature to 20 ° C. was carried out, the in-plane dimensional change rate R represented by the following formula was 0.55% or less. Includes a light-transmitting conductive film.

R = (ΔL +ΔL 1/2
(ただし、ΔLは、前記第1方向における前記分析工程前後の寸法変化率(%)を示し、ΔLは、前記第2方向における前記分析工程前後の寸法変化率(%)を示す。)
本発明[2]は、ΔLの絶対値、および、ΔLの絶対値が、両方とも、0.50以下である、[1]に記載の光透過性導電フィルムを含んでいる。
R = (ΔL 1 2 + ΔL 2 2 ) 1/2
(However, ΔL 1 indicates the dimensional change rate (%) before and after the analysis step in the first direction, and ΔL 2 indicates the dimensional change rate (%) before and after the analysis step in the second direction.)
The present invention [2] includes the light-transmitting conductive film according to [1], wherein both the absolute value of ΔL 1 and the absolute value of ΔL 2 are 0.50 or less.

本発明[3]は、ΔL、および、ΔLの少なくとも一方が、正の値である、[1]または[2]に記載の光透過性導電フィルムを含んでいる。The present invention [3] includes the light-transmitting conductive film according to [1] or [2], wherein at least one of ΔL 1 and ΔL 2 has a positive value.

本発明[4]は、ΔL、および、ΔLが、両方とも、正の値である、[3]に記載の光透過性導電フィルムを含んでいる。The present invention [4] includes the light-transmitting conductive film according to [3], wherein ΔL 1 and ΔL 2 are both positive values.

本発明[5]は、前記基材フィルムは、大気環境下で加熱処理がなされたフィルムである、[1]〜[4]のいずれか一項に記載の光透過性導電フィルムを含んでいる。 In the present invention [5], the base film contains the light-transmitting conductive film according to any one of [1] to [4], which is a film that has been heat-treated in an air environment. ..

本発明[6]は、前記基材フィルムは、ポリエステル系フィルムである、[1]〜[5]のいずれか一項に記載の光透過性導電フィルムを含んでいる。 In the present invention [6], the base film includes the light-transmitting conductive film according to any one of [1] to [5], which is a polyester-based film.

本発明[7]は、第1の光透過性導電フィルムと、調光機能層と、第2の光透過性導電フィルムとを順に備え、前記第1の光透過性導電フィルムおよび/または前記第2の光透過性導電フィルムは、[1]〜[6]のいずれか一項に記載の光透過性導電フィルムである、調光フィルムを含んでいる。 The present invention [7] comprises, in order, a first light-transmitting conductive film, a dimming functional layer, and a second light-transmitting conductive film, the first light-transmitting conductive film and / or the first. The light transmissive conductive film of No. 2 includes a light control film which is the light transmissive conductive film according to any one of [1] to [6].

本発明[8]は、保護部材と、前記保護部材に貼着される[7]に記載の調光フィルムとを備える、調光部材を含んでいる。 The present invention [8] includes a dimming member including a protective member and the dimming film according to [7] attached to the protective member.

本発明[9]は、[1]〜[6]のいずれか一項に記載の光透過性導電フィルムを製造する方法であって、基材フィルムを大気環境下で加熱する工程、および、次いで、前記基材フィルムを40℃未満の状態で、前記基材フィルムに光透過性導電層を設ける工程を備える、光透過性導電フィルムの製造方法を含んでいる。 The present invention [9] is a method for producing a light-transmitting conductive film according to any one of [1] to [6], wherein the base film is heated in an air environment, and then The present invention includes a method for producing a light-transmitting conductive film, comprising a step of providing a light-transmitting conductive layer on the base film in a state where the base film is below 40 ° C.

本発明の光透過性導電フィルムは、20℃−160℃−20℃の熱機械分析工程を実施したときの面内寸法変化率Rが、0.55%以下である。 The light-transmitting conductive film of the present invention has an in-plane dimensional change rate R of 0.55% or less when a thermomechanical analysis step of 20 ° C.-160 ° C.-20 ° C. is carried out.

そのため、本発明の光透過性導電フィルムを、対象物に対して加熱によって貼着しても、光透過性導電フィルムは、加熱前の状態に近いサイズを維持することができる。そのため、対象物に貼着されない面積を低減することができ、所望のサイズの光透過性導電フィルムを対象物に貼着することができる。 Therefore, even if the light-transmitting conductive film of the present invention is attached to an object by heating, the light-transmitting conductive film can maintain a size close to that before heating. Therefore, the area that is not attached to the object can be reduced, and a light-transmitting conductive film of a desired size can be attached to the object.

本発明の調光フィルムおよび調光部材は、本発明の光透過性導電フィルムを備えるため、光透過性導電フィルムが対象物に貼着されない面積を低減することができる。 Since the light control film and the light control member of the present invention include the light transmissive conductive film of the present invention, the area where the light transmissive conductive film is not attached to the object can be reduced.

本発明の製造方法は、対象物に貼着されない面積を低減することができる光透過性導電フィルムを得ることができる。 The manufacturing method of the present invention can obtain a light-transmitting conductive film capable of reducing the area that is not attached to an object.

図1A−Bは、本発明の光透過性導電フィルムの一実施形態を示し、図1Aは、断面図、図1Bは、斜視図を示す。1A-B show an embodiment of the light-transmitting conductive film of the present invention, FIG. 1A shows a cross-sectional view, and FIG. 1B shows a perspective view. 図2は、図1Aに示す光透過性導電フィルムを製造する工程の斜視図を示す。FIG. 2 shows a perspective view of a process of manufacturing the light-transmitting conductive film shown in FIG. 1A. 図3は、図1Aに示す光透過性導電フィルムを備える調光フィルムの断面図を示す。FIG. 3 shows a cross-sectional view of a light control film including the light transmissive conductive film shown in FIG. 1A. 図4A−Dは、図2に示す調光フィルムを用いて、調光部材を製造する工程図であって、 図4Aは、保護部材を用意する工程、 図4Bは、保護部材に熱硬化性接着剤層を設ける工程、 図4Cは、調光フィルムを熱硬化性接着剤層に配置する工程、 図4Dは、熱硬化性接着剤層を加熱硬化する工程を示す。4A-D are process diagrams for manufacturing a dimming member using the dimming film shown in FIG. 2, FIG. 4A is a process for preparing a protective member, and FIG. 4B is thermosetting the protective member. A step of providing the adhesive layer, FIG. 4C shows a step of arranging the light control film on the thermosetting adhesive layer, and FIG. 4D shows a step of heat-curing the thermosetting adhesive layer.

図1Aにおいて、紙厚方向は、前後方向(第1方向)であり、紙面手前側が前側(第1方向一方側)、紙面奥側が後側(第1方向他方側)である。図1Aにおいて、紙面左右方向は、左右方向(幅方向、第1方向に直交する第2方向)であり、紙面左側が左側(第2方向一方側)、紙面右側が右側(第2方向他方側)である。図1Aにおいて、紙面上下方向は、上下方向(厚み方向、第1方向および第2方向に直交する第3方向)であって、紙面上側が、上側(厚み方向一方側、第3方向一方側)、紙面下側が、下側(厚み方向他方側、第3方向他方側)である。具体的には、各図の方向矢印に準拠する。 In FIG. 1A, the paper thickness direction is the front-rear direction (first direction), the front side of the paper surface is the front side (one side of the first direction), and the back side of the paper surface is the rear side (the other side of the first direction). In FIG. 1A, the left-right direction of the paper surface is the left-right direction (width direction, the second direction orthogonal to the first direction), the left side of the paper surface is the left side (one side of the second direction), and the right side of the paper surface is the right side (the other side of the second direction). ). In FIG. 1A, the vertical direction of the paper surface is the vertical direction (thickness direction, the third direction orthogonal to the first direction and the second direction), and the upper side of the paper surface is the upper side (one side in the thickness direction, one side in the third direction). The lower side of the paper surface is the lower side (the other side in the thickness direction, the other side in the third direction). Specifically, it conforms to the direction arrows in each figure.

<一実施形態>
1.光透過性導電フィルム
本発明の一実施形態である光透過性導電フィルム1は、例えば、調光素子の例としての調光フィルム、調光部材、調光装置などに用いられるフィルム(すなわち、調光用光透過性導電フィルム)である。光透過性導電フィルム1は、図1に示すように、所定の厚みを有するフィルム形状(シート形状を含む)をなし、上下方向(厚み方向)と直交する所定方向(前後方向および左右方向、すなわち、面方向)に延び、平坦な上面(厚み方向一方面)および平坦な下面(厚み方向他方面)を有する。光透過性導電フィルム1は、例えば、調光フィルム4(後述、図3参照)、調光部材6(後述、図4D参照)および調光装置(後述)などの一部品であり、つまり、調光フィルム4などではない。すなわち、光透過性導電フィルム1は、調光フィルム4などを作製するための部品であり、調光機能層5などを含まず、部品単独で流通し、産業上利用可能なデバイスである。
<One Embodiment>
1. 1. Light-transmitting conductive film The light-transmitting conductive film 1 according to an embodiment of the present invention is, for example, a film used for a light control film, a light control member, a light control device, etc. Light-transmitting conductive film for light). As shown in FIG. 1, the light-transmitting conductive film 1 has a film shape (including a sheet shape) having a predetermined thickness, and has a predetermined direction (front-back direction and left-right direction, that is, a direction perpendicular to the vertical direction (thickness direction)). , Has a flat upper surface (one surface in the thickness direction) and a flat lower surface (the other surface in the thickness direction). The light transmissive conductive film 1 is, for example, one component of a light control film 4 (described later, see FIG. 3), a light control member 6 (described later, see FIG. 4D), and a light control device (described later), that is, adjusting. It is not an optical film 4. That is, the light transmissive conductive film 1 is a component for manufacturing a dimming film 4 or the like, and is a device that does not include the dimming function layer 5 or the like, is distributed as a single component, and can be industrially used.

具体的には、光透過性導電フィルム1は、基材フィルム2と、光透過性導電層3とを順に備える。つまり、光透過性導電フィルム1は、基材フィルム2と、基材フィルム2の上側に配置される光透過性導電層3とを備える。好ましくは、光透過性導電フィルム1は、基材フィルム2と、光透過性導電層3とのみからなる。以下、各層について詳述する。 Specifically, the light-transmitting conductive film 1 includes a base film 2 and a light-transmitting conductive layer 3 in this order. That is, the light-transmitting conductive film 1 includes a base film 2 and a light-transmitting conductive layer 3 arranged on the upper side of the base film 2. Preferably, the light-transmitting conductive film 1 is composed of only the base film 2 and the light-transmitting conductive layer 3. Hereinafter, each layer will be described in detail.

2.基材フィルム
基材フィルム2は、光透過性導電フィルム1の最下層であって、光透過性導電フィルム1の機械的強度を確保する支持材である。また、基材フィルム2は、光透過性および可撓性を有する支持材である。基材フィルム2は、光透過性導電層3を支持する。
2. 2. Base film The base film 2 is the lowermost layer of the light-transmitting conductive film 1 and is a support material for ensuring the mechanical strength of the light-transmitting conductive film 1. Further, the base film 2 is a support material having light transmission and flexibility. The base film 2 supports the light-transmitting conductive layer 3.

基材フィルム2は、フィルム形状(シート形状を含む)を有する。 The base film 2 has a film shape (including a sheet shape).

基材フィルム2は、例えば、高分子フィルムからなる。高分子フィルムの材料としては、例えば、ポリエチレンテレフタレート(PET)、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレートなどのポリエステル樹脂、例えば、ポリメタクリレートなどの(メタ)アクリル樹脂(アクリル樹脂および/またはメタクリル樹脂)、例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、シクロオレフィンポリマーなどのオレフィン樹脂、例えば、ポリカーボネート樹脂、ポリエーテルスルフォン樹脂、ポリアリレート樹脂、メラミン樹脂、ポリアミド樹脂、ポリイミド樹脂、セルロース樹脂、ポリスチレン樹脂、ノルボルネン樹脂などが挙げられる。これら高分子フィルムは、単独使用または2種以上併用することができる。基材フィルム2は、光透過性、耐熱性、機械的強度などの観点から、好ましくは、ポリエステル樹脂から形成されるポリエステル系フィルムが挙げられ、より好ましくは、ポリエチレンテレフタレートフィルムが挙げられる。 The base film 2 is made of, for example, a polymer film. Examples of the material of the polymer film include polyester resins such as polyethylene terephthalate (PET), polybutylene terephthalate and polyethylene naphthalate, and (meth) acrylic resins (acrylic resin and / or methacrylic resin) such as polymethacrylate. , Polyethylene, polypropylene, cycloolefin polymer and other olefin resins, such as polycarbonate resin, polyether sulfone resin, polyarylate resin, melamine resin, polyamide resin, polyimide resin, cellulose resin, polystyrene resin, norbornene resin and the like. These polymer films can be used alone or in combination of two or more. The base film 2 is preferably a polyester-based film formed of a polyester resin, and more preferably a polyethylene terephthalate film, from the viewpoints of light transmission, heat resistance, mechanical strength and the like.

基材フィルム2は、耐熱性、機械的強度がより一層優れる観点から、好ましくは、延伸フィルムであり、より好ましくは、二軸延伸フィルムである。 The base film 2 is preferably a stretched film, and more preferably a biaxially stretched film, from the viewpoint of further excellent heat resistance and mechanical strength.

基材フィルム2は、好ましくは、後述するように、大気環境下で加熱処理されたフィルムであり、より好ましくは、大気環境下で加熱処理された二軸延伸フィルムである。このような基材フィルム2を用いれば、基材フィルム2内部に存在する応力が緩和されるため、光透過性導電フィルム1を加熱により対象物に貼着した場合に、光透過性導電フィルム1の過度の収縮を抑制することができる。 The base film 2 is preferably a film heat-treated in an air environment, and more preferably a biaxially stretched film heat-treated in an air environment, as will be described later. When such a base film 2 is used, the stress existing inside the base film 2 is relaxed. Therefore, when the light transmissive conductive film 1 is attached to an object by heating, the light transmissive conductive film 1 Excessive contraction can be suppressed.

基材フィルム2の全光線透過率(JIS K−7105)は、例えば、80%以上、好ましくは、85%以上であり、また、例えば、100%以下、好ましくは、95%以下である。 The total light transmittance (JIS K-7105) of the base film 2 is, for example, 80% or more, preferably 85% or more, and for example, 100% or less, preferably 95% or less.

基材フィルム2のヘイズ(JIS K−7105)は、例えば、2.0%以下、好ましくは、1.8%以下、より好ましくは、1.5%以下、さらに好ましくは、1.2%以下であり、また、例えば、0.1%以上である。 The haze (JIS K-7105) of the base film 2 is, for example, 2.0% or less, preferably 1.8% or less, more preferably 1.5% or less, still more preferably 1.2% or less. And, for example, 0.1% or more.

基材フィルム2の厚みは、例えば、2μm以上、好ましくは、50μm以上、より好ましくは、100μm以上であり、また、例えば、300μm以下、好ましくは、250μm以下である。基材フィルム2の厚みが上記下限以上であれば、光透過性導電層3の形成時に、高分子フィルムに含有する水分をより多く光透過性導電層3に付与できるため、光透過性導電層3の結晶化を抑制することができる。そのため、光透過性導電層3の非晶質性を維持することができる。また、基材フィルム2の厚みが上記下限以上であれば、光透過性導電フィルム1の強度に優れる。 The thickness of the base film 2 is, for example, 2 μm or more, preferably 50 μm or more, more preferably 100 μm or more, and for example, 300 μm or less, preferably 250 μm or less. When the thickness of the base film 2 is equal to or greater than the above lower limit, more water contained in the polymer film can be imparted to the light-transmitting conductive layer 3 when the light-transmitting conductive layer 3 is formed. The crystallization of 3 can be suppressed. Therefore, the amorphous property of the light-transmitting conductive layer 3 can be maintained. Further, when the thickness of the base film 2 is at least the above lower limit, the strength of the light-transmitting conductive film 1 is excellent.

基材フィルム2の厚みは、例えば、膜厚計を用いて測定することができる。 The thickness of the base film 2 can be measured using, for example, a film thickness meter.

基材フィルム2の下面には、セパレータなどが備えられていてもよい。 A separator or the like may be provided on the lower surface of the base film 2.

3.光透過性導電層
光透過性導電層3は、必要により後の工程でエッチングによりパターニングすることができる透明性の導電層である。
3. 3. Light-transmitting conductive layer The light-transmitting conductive layer 3 is a transparent conductive layer that can be patterned by etching in a later step if necessary.

光透過性導電層3は、フィルム形状(シート形状を含む)を有しており、基材フィルム2の上面全面に、基材フィルム2の上面に接触するように、配置されている。 The light-transmitting conductive layer 3 has a film shape (including a sheet shape), and is arranged on the entire upper surface of the base film 2 so as to be in contact with the upper surface of the base film 2.

光透過性導電層3の材料としては、例えば、In、Sn、Zn、Ga、Sb、Ti、Si、Zr、Mg、Al、Au、Ag、Cu、Pd、Wからなる群より選択される少なくとも1種の金属を含む金属酸化物が挙げられる。金属酸化物には、必要に応じて、さらに上記群に示された金属原子をドープしていてもよい。 As the material of the light transmissive conductive layer 3, for example, at least selected from the group consisting of In, Sn, Zn, Ga, Sb, Ti, Si, Zr, Mg, Al, Au, Ag, Cu, Pd, and W. Examples include metal oxides containing one type of metal. The metal oxide may be further doped with the metal atoms shown in the above group, if necessary.

光透過性導電層3としては、例えば、インジウムスズ複合酸化物(ITO)などのインジウム系導電性酸化物、例えば、アンチモンスズ複合酸化物(ATO)などのアンチモン系導電性酸化物などが挙げられる。光透過性導電層3は、優れた導電性および光透過性を確保できる観点から、インジウム系導電性酸化物を含有し、より好ましくは、インジウムスズ複合酸化物(ITO)を含有する。すなわち、光透過性導電層3は、好ましくは、インジウム系導電性酸化物層であり、より好ましくは、ITO層である。 Examples of the light-transmitting conductive layer 3 include indium-based conductive oxides such as indium tin oxide composite oxide (ITO), and antimony-based conductive oxides such as antimony tin composite oxide (ATO). .. The light-transmitting conductive layer 3 contains an indium-based conductive oxide, and more preferably an indium tin oxide composite oxide (ITO), from the viewpoint of ensuring excellent conductivity and light transmission. That is, the light-transmitting conductive layer 3 is preferably an indium-based conductive oxide layer, and more preferably an ITO layer.

光透過性導電層3の材料としてITOを用いる場合、酸化スズ(SnO)含有量は、酸化スズおよび酸化インジウム(In)の合計量に対して、例えば、0.5質量%以上、好ましくは、3質量%以上、より好ましくは、8質量%以上、さらに好ましくは、10質量%超であり、また、例えば、25質量%以下、好ましくは、15質量%以下、より好ましくは、13質量%以下である。酸化スズの含有量が上記下限以上であれば、光透過性導電層3の優れた導電性を実現しつつ、結晶化をより確実に抑制できる。また、酸化スズの含有量が上記上限以下であれば、光透過性や導電性の安定性を向上させることができる。When ITO is used as the material of the light transmissive conductive layer 3, the tin oxide (SnO 2 ) content is, for example, 0.5% by mass or more with respect to the total amount of tin oxide and indium oxide (In 2 O 3 ). It is preferably 3% by mass or more, more preferably 8% by mass or more, further preferably more than 10% by mass, and for example, 25% by mass or less, preferably 15% by mass or less, more preferably. It is 13% by mass or less. When the content of tin oxide is at least the above lower limit, crystallization can be more reliably suppressed while realizing excellent conductivity of the light-transmitting conductive layer 3. Further, when the tin oxide content is not more than the above upper limit, the stability of light transmission and conductivity can be improved.

本明細書中における「ITO」とは、少なくともインジウム(In)とスズ(Sn)とを含む複合酸化物であればよく、これら以外の追加成分を含んでもよい。追加成分としては、例えば、In、Sn以外の金属元素が挙げられ、具体的には、Zn、Ga、Sb、Ti、Si、Zr、Mg、Al、Au、Ag、Cu、Pd、W、Fe、Pb、Ni、Nb、Cr、Gaなどが挙げられる。 The term "ITO" in the present specification may be any composite oxide containing at least indium (In) and tin (Sn), and may contain additional components other than these. Examples of the additional component include metal elements other than In and Sn, and specifically, Zn, Ga, Sb, Ti, Si, Zr, Mg, Al, Au, Ag, Cu, Pd, W and Fe. , Pb, Ni, Nb, Cr, Ga and the like.

光透過性導電層3は、結晶質または非晶質(アモルファス)のいずれであってもよいが、好ましくは、非晶質であり、より具体的には、好ましくは、非晶質ITO層である。光透過性導電層3が非晶質であれば、耐クラック性、耐擦傷性に優れるため、加工性に優れる。すなわち、光透過性導電フィルム1を、貼着する対象物(例えば、後述するガラスなどの保護部材)に貼着加工する際に、光透過性導電フィルム1に発生するクラックや傷の発生を抑制することができる。そのため、貼着された光透過性導電フィルム1の外観や特性を良好に維持することができる。 The light-transmitting conductive layer 3 may be either crystalline or amorphous, but is preferably amorphous, and more specifically, preferably an amorphous ITO layer. is there. When the light-transmitting conductive layer 3 is amorphous, it is excellent in crack resistance and scratch resistance, and thus is excellent in processability. That is, when the light-transmitting conductive film 1 is attached to an object to be attached (for example, a protective member such as glass described later), cracks and scratches generated in the light-transmitting conductive film 1 are suppressed. can do. Therefore, the appearance and characteristics of the attached light-transmitting conductive film 1 can be maintained satisfactorily.

光透過性導電層3が非晶質または結晶質であることは、例えば、光透過性導電層3がITO層である場合は、20℃の塩酸(濃度5質量%)に15分間浸漬した後、水洗・乾燥し、15mm程度の間の端子間抵抗を測定することで判断できる。本明細書においては、光透過性導電フィルム1を塩酸(20℃、濃度:5質量%)に浸漬・水洗・乾燥した後に、光透過性導電層における15mm間の端子間抵抗が10kΩ以上である場合、光透過性導電層が非晶質であるものとする。 The fact that the light-transmitting conductive layer 3 is amorphous or crystalline means that, for example, when the light-transmitting conductive layer 3 is an ITO layer, it is immersed in hydrochloric acid (concentration 5% by mass) at 20 ° C. for 15 minutes. It can be judged by washing and drying with water and measuring the resistance between terminals between about 15 mm. In the present specification, after the light-transmitting conductive film 1 is immersed in hydrochloric acid (20 ° C., concentration: 5% by mass), washed with water, and dried, the resistance between terminals of the light-transmitting conductive layer between 15 mm is 10 kΩ or more. In this case, it is assumed that the light-transmitting conductive layer is amorphous.

光透過性導電層3の表面抵抗値は、例えば、1Ω/□以上、好ましくは、10Ω/□以上であり、また、例えば、200Ω/□以下、好ましくは、100Ω/□以下、より好ましくは、85Ω/□以下である。光透過性導電層3の表面抵抗値が上記範囲であれば、大型の調光装置として用いた場合であっても、良好な電気駆動を実現できる。 The surface resistance value of the light transmissive conductive layer 3 is, for example, 1Ω / □ or more, preferably 10Ω / □ or more, and for example, 200Ω / □ or less, preferably 100Ω / □ or less, more preferably. It is 85Ω / □ or less. If the surface resistance value of the light transmissive conductive layer 3 is within the above range, good electric drive can be realized even when used as a large-scale dimming device.

光透過性導電層3の比抵抗値は、例えば、6×10−4Ω・cm以下、好ましくは、5.5×10−4Ω・cm以下、より好ましくは、5×10−4Ω・cm以下、さらに好ましくは、4.8×10−4Ω・cm以下であり、また、例えば、3×10−4Ω・cm以上、好ましくは、3.5×10−4Ω・cm以上、より好ましくは、4.0×10−4Ω・cm以上である。光透過性導電層3の比抵抗値が上記上限以下であれば、大型の調光装置として用いた場合でも、良好な電気駆動を実現できる。また、比抵抗値が上記下限以上であれば、光透過性導電層3の非晶質性をより確実に維持できる。The specific resistance value of the light transmissive conductive layer 3 is, for example, 6 × 10 -4 Ω · cm or less, preferably 5.5 × 10 -4 Ω · cm or less, more preferably 5 × 10 -4 Ω · cm. Cm or less, more preferably 4.8 × 10 -4 Ω · cm or less, and for example, 3 × 10 -4 Ω · cm or more, preferably 3.5 × 10 -4 Ω · cm or more. More preferably, it is 4.0 × 10 -4 Ω · cm or more. When the specific resistance value of the light transmissive conductive layer 3 is not more than the above upper limit, good electric drive can be realized even when used as a large-scale dimming device. Further, when the specific resistance value is at least the above lower limit, the amorphous property of the light transmissive conductive layer 3 can be more reliably maintained.

光透過性導電層3の厚みは、例えば、10nm以上、好ましくは、30nm以上、より好ましくは、50nm以上であり、また、例えば、200nm以下、好ましくは、150nm以下、より好ましくは、100nm以下である。光透過性導電層3の厚みは、例えば、透過型電子顕微鏡を用いた断面観察により測定することができる。 The thickness of the light-transmitting conductive layer 3 is, for example, 10 nm or more, preferably 30 nm or more, more preferably 50 nm or more, and for example, 200 nm or less, preferably 150 nm or less, more preferably 100 nm or less. is there. The thickness of the light-transmitting conductive layer 3 can be measured, for example, by observing a cross section using a transmission electron microscope.

4.光透過性導電フィルムの製造方法
次に、光透過性導電フィルム1を製造する方法について説明する。
4. Method for Producing Light Transmissive Conductive Film Next, a method for manufacturing the light transmissive conductive film 1 will be described.

光透過性導電フィルム1の製造方法は、例えば、基材フィルム2を大気環境下で加熱する前加熱工程と、次いで、基材フィルム2を40℃未満の状態で、基材フィルム2に光透過性導電層3を設ける導電層配置工程とを備える。光透過性導電フィルム1の製造方法は、好ましくは、図2に参照されるように、ロールトゥロール方式により実施される。 The method for producing the light-transmitting conductive film 1 is, for example, a preheating step of heating the base film 2 in an air environment, and then light transmission to the base film 2 in a state where the base film 2 is lower than 40 ° C. The present invention includes a conductive layer arranging step of providing the conductive conductive layer 3. The method for producing the light-transmitting conductive film 1 is preferably carried out by a roll-to-roll method as referred to in FIG.

前加熱工程では、まず、基材フィルム2を用意する。例えば、ロールトゥロール方式の場合は、搬送方向(例えば、第1方向)に長尺で、ロール状に巻回された基材フィルム2を用いる。 In the preheating step, first, the base film 2 is prepared. For example, in the case of the roll-to-roll method, a base film 2 that is long in the transport direction (for example, the first direction) and is wound in a roll shape is used.

好ましくは、機械的強度、耐熱性、光透過性の観点から、二軸延伸基材フィルム2を用意する。 Preferably, the biaxially stretched base film 2 is prepared from the viewpoint of mechanical strength, heat resistance, and light transmission.

続いて、基材フィルム2を大気環境下で加熱する。すなわち、光透過性導電層3を設ける前に、基材フィルム2を加熱する。基材フィルム2の加熱は、好ましくは、ロールトゥロール方式で実施され、例えば、大気環境下において、長尺のロール状に巻回された基材フィルム2を繰り出し、加熱しながら搬送した後、再び長尺のロール状に巻回する。 Subsequently, the base film 2 is heated in an air environment. That is, the base film 2 is heated before the light-transmitting conductive layer 3 is provided. The base film 2 is preferably heated by a roll-to-roll method. For example, in an air environment, the base film 2 wound in a long roll shape is unwound, transported while being heated, and then transported. Wind it into a long roll again.

この加熱処理により、基材フィルム2に内在している応力を解放することができ、光透過性導電フィルム1の貼着時の熱収縮を抑制することができる。特に、二軸延伸フィルムは、その製造時において、延伸によって、強い内部応力が印加されているため、基材フィルム2としての二軸延伸フィルムの熱収縮をより確実に抑制にすることができる。 By this heat treatment, the stress inherent in the base film 2 can be released, and the heat shrinkage at the time of attaching the light-transmitting conductive film 1 can be suppressed. In particular, since a strong internal stress is applied to the biaxially stretched film by stretching during its production, the thermal shrinkage of the biaxially stretched film as the base film 2 can be more reliably suppressed.

また、大気環境下での加熱のため、真空下での加熱と比べて、基材フィルム2に発生するシワや傷を抑制して、光透過性導電フィルム1の外観を良好に維持することができる。すなわち、ロール状の基材フィルム2をロールから繰り出す際または巻き取る際に、積層される基材フィルム2の間に大気を介在させることができるため、基材フィルム2の密着や摩擦を抑制し、シワや傷を抑制することができる。また、基材フィルム2を搬送する際に、搬送ロール(例えば、ガイドロール)と基材フィルム2との間にも大気を介在させることができるため、搬送ロールとの過度な密着を抑制し、シワや傷を抑制することもできる。これらの抑制は、大面積で使用されることが多い調光装置における外観に対して特に効果的である。 Further, since the film is heated in an atmospheric environment, it is possible to suppress wrinkles and scratches generated on the base film 2 and maintain a good appearance of the light-transmitting conductive film 1 as compared with heating under a vacuum. it can. That is, when the roll-shaped base film 2 is unwound from the roll or wound up, the atmosphere can be interposed between the laminated base films 2, so that adhesion and friction of the base film 2 can be suppressed. , Wrinkles and scratches can be suppressed. Further, when the base film 2 is transported, the air can be interposed between the transport roll (for example, the guide roll) and the base film 2, so that excessive adhesion with the transport roll can be suppressed. It can also suppress wrinkles and scratches. These suppressions are particularly effective for appearance in dimmers, which are often used in large areas.

加熱温度は、例えば、100℃以上、好ましくは、130℃以上、より好ましくは、150℃以上であり、また、例えば、220℃以下、好ましくは、200℃以下、より好ましくは、180℃以下である。加熱温度は、基材フィルム2を加熱するための加熱設備(例えば、IRヒーターや加熱ロール)の設定温度である。 The heating temperature is, for example, 100 ° C. or higher, preferably 130 ° C. or higher, more preferably 150 ° C. or higher, and for example, 220 ° C. or lower, preferably 200 ° C. or lower, more preferably 180 ° C. or lower. is there. The heating temperature is a set temperature of a heating facility (for example, an IR heater or a heating roll) for heating the base film 2.

加熱時間は、例えば、0.3分以上、好ましくは、0.5分以上、より好ましくは、1分以上であり、また、例えば、10分以下、好ましくは、5分以下である。加熱時間が上記上限以下であれば、基材フィルム2からの過剰な析出物(オリゴマーなど)が発生することを抑制して、基材フィルム2の透明性低下や高ヘイズ化を抑制することができる。また、加熱時間が上記下限以上であれば、基材フィルム2の残留応力を十分に解放することができ、光透過性導電フィルム1の貼着時の熱収縮をより確実に抑制することができる。 The heating time is, for example, 0.3 minutes or more, preferably 0.5 minutes or more, more preferably 1 minute or more, and for example, 10 minutes or less, preferably 5 minutes or less. When the heating time is not more than the above upper limit, it is possible to suppress the generation of excess precipitates (oligomers, etc.) from the base film 2 and suppress the decrease in transparency and the increase in haze of the base film 2. it can. Further, when the heating time is not more than the above lower limit, the residual stress of the base film 2 can be sufficiently released, and the heat shrinkage at the time of attaching the light transmissive conductive film 1 can be more reliably suppressed. ..

導電層配置工程では、例えば、乾式により、基材フィルム2の上面に光透過性導電層3を形成する。 In the conductive layer arranging step, for example, the light-transmitting conductive layer 3 is formed on the upper surface of the base film 2 by a dry method.

乾式としては、例えば、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法などが挙げられる。好ましくは、スパッタリング法が挙げられる。 Examples of the dry method include a vacuum deposition method, a sputtering method, and an ion plating method. Preferably, a sputtering method is used.

スパッタリング法は、真空装置のチャンバー(成膜室)内にターゲットおよび被着体(基材フィルム2)を対向配置し、ガスを供給するとともに電圧を印加することによりガスイオンを加速しターゲットに照射させて、ターゲット表面からターゲット材料をはじき出して、そのターゲット材料を被着体表面に積層させる。 In the sputtering method, the target and the adherend (base film 2) are placed facing each other in the chamber (deposition chamber) of the vacuum apparatus, and the gas ion is accelerated by applying a voltage while supplying gas to irradiate the target. Then, the target material is ejected from the target surface, and the target material is laminated on the surface of the adherend.

スパッタリング法としては、例えば、2極スパッタリング法、ECR(電子サイクロトロン共鳴)スパッタリング法、マグネトロンスパッタリング法、イオンビームスパッタリング法などが挙げられる。好ましくは、マグネトロンスパッタリング法が挙げられる。 Examples of the sputtering method include a bipolar sputtering method, an ECR (electron cyclotron resonance) sputtering method, a magnetron sputtering method, and an ion beam sputtering method. Preferred is the magnetron sputtering method.

スパッタリング法に用いる電源は、例えば、直流(DC)電源、交流中周波(AC/MF)電源、高周波(RF)電源、直流電源を重畳した高周波電源のいずれであってもよい。 The power source used in the sputtering method may be, for example, a direct current (DC) power source, an alternating current medium frequency (AC / MF) power source, a high frequency (RF) power source, or a high frequency power source on which a direct current power source is superimposed.

ターゲットとしては、光透過性導電層3を構成する上述の金属酸化物が挙げられる。例えば、光透過性導電層3の材料としてITOを用いる場合、ITOからなるターゲットを用いる。ターゲットにおける酸化スズ(SnO)含有量は、酸化スズおよび酸化インジウム(In)の合計量に対して、例えば、0.5質量%以上、好ましくは、3質量%以上、より好ましくは、8質量%以上、さらに好ましくは、10質量%超であり、また、例えば、25質量%以下、好ましくは、15質量%以下、より好ましくは、13質量%以下である。Examples of the target include the above-mentioned metal oxides constituting the light-transmitting conductive layer 3. For example, when ITO is used as the material of the light transmissive conductive layer 3, a target made of ITO is used. The tin oxide (SnO 2 ) content in the target is, for example, 0.5% by mass or more, preferably 3% by mass or more, more preferably 3% by mass or more, based on the total amount of tin oxide and indium oxide (In 2 O 3 ). , 8% by mass or more, more preferably more than 10% by mass, and for example, 25% by mass or less, preferably 15% by mass or less, more preferably 13% by mass or less.

スパッタリング時は、好ましくは、真空下で実施され、その気圧は、例えば、1.0Pa以下、好ましくは、0.5Pa以下、より好ましくは、0.2Pa以下であり、また、例えば、0.01Pa以上である。 Sputtering is preferably carried out under vacuum and its atmospheric pressure is, for example, 1.0 Pa or less, preferably 0.5 Pa or less, more preferably 0.2 Pa or less, and for example 0.01 Pa. That is all.

スパッタリング時の導入ガスとしては、例えば、Arなどの不活性ガスが挙げられる。また、この方法では、酸素ガスなどの反応性ガスを併用する。反応性ガスの流量の、不活性ガスの流量に対する比(反応性ガスの流量(sccm)/不活性ガスの流量(sccm))は、例えば、0.1/100以上5/100以下である。 Examples of the gas introduced during sputtering include an inert gas such as Ar. Further, in this method, a reactive gas such as oxygen gas is used in combination. The ratio of the flow rate of the reactive gas to the flow rate of the inert gas (flow rate of the reactive gas (sccm) / flow rate of the inert gas (sccm)) is, for example, 0.1/100 or more and 5/100 or less.

光透過性導電層3を形成する際における基材フィルム2の温度は、40℃未満、好ましくは、20℃以下、より好ましくは、10℃以下、さらに好ましくは、5℃以下であり、とりわけ好ましくは、0℃未満であり、最も好ましくは、−3℃以下であり、また、例えば、−40℃以上、好ましくは、−20℃以上である。基材フィルム2の温度が上記上限を超過すれば、基材フィルム2が搬送方向の張力により搬送方向に延伸してしまい、得られる光透過性導電フィルム1の基材フィルム2に応力が大きく残存する。その結果、光透過性導電フィルム1を対象物に貼着した際に、大幅に熱収縮するおそれがある。 The temperature of the base film 2 when forming the light-transmitting conductive layer 3 is less than 40 ° C., preferably 20 ° C. or lower, more preferably 10 ° C. or lower, still more preferably 5 ° C. or lower, and particularly preferably. Is less than 0 ° C., most preferably -3 ° C. or lower, and for example, −40 ° C. or higher, preferably −20 ° C. or higher. If the temperature of the base film 2 exceeds the above upper limit, the base film 2 is stretched in the transport direction due to the tension in the transport direction, and a large amount of stress remains in the base film 2 of the obtained light transmissive conductive film 1. To do. As a result, when the light-transmitting conductive film 1 is attached to the object, there is a risk of significant heat shrinkage.

基材フィルム2を冷却するには、例えば、基材フィルム2の下面を、冷却装置(例えば、冷却ロール)などに接触させる。 To cool the base film 2, for example, the lower surface of the base film 2 is brought into contact with a cooling device (for example, a cooling roll).

ロールトゥロール方式においては、例えば、成膜ロールやニップロールを冷却して、冷却ロールとすることができる。上記基材フィルム2の温度は、冷却装置の設定温度とする。 In the roll-to-roll method, for example, the film-forming roll or the nip roll can be cooled to form a cooling roll. The temperature of the base film 2 is set to the set temperature of the cooling device.

スパッタリング時の雰囲気(チャンバー内)は、含水していることが好ましく、スパッタ気圧(全圧)に対する、水分ガスの比(水分ガスの分圧(Pa)/スパッタリング気圧(Pa))は、例えば、0.006以上、好ましくは、0.008以上、より好ましくは、0.01以上であり、また、例えば、0.3以下、好ましくは、0.1以下、より好ましくは、0.07以下、さらに好ましくは、0.05以下である。含水量を上記範囲内とすれば、光透過性導電層3に微量の水を含ませることができ、光透過性導電層3の結晶化を抑制することができる。 The atmosphere during sputtering (inside the chamber) is preferably water-containing, and the ratio of water gas to the sputtering pressure (total pressure) (partial pressure of water gas (Pa) / sputtering pressure (Pa)) is, for example, 0.006 or more, preferably 0.008 or more, more preferably 0.01 or more, and for example, 0.3 or less, preferably 0.1 or less, more preferably 0.07 or less, More preferably, it is 0.05 or less. When the water content is within the above range, the light-transmitting conductive layer 3 can contain a small amount of water, and the crystallization of the light-transmitting conductive layer 3 can be suppressed.

これによって、基材フィルム2と、光透過性導電層3とを備える光透過性導電フィルム1を得る。このときの光透過性導電層3は、非晶質である。 As a result, the light-transmitting conductive film 1 including the base film 2 and the light-transmitting conductive layer 3 is obtained. The light-transmitting conductive layer 3 at this time is amorphous.

得られる光透過性導電フィルム1において、その総厚みは、例えば、2μm以上、好ましくは、20μm以上であり、また、例えば、300μm以下、好ましくは、200μm以下である。 The total thickness of the obtained light-transmitting conductive film 1 is, for example, 2 μm or more, preferably 20 μm or more, and for example, 300 μm or less, preferably 200 μm or less.

光透過性導電フィルム1の面内寸法変化率Rは、0.55%以下であり、好ましくは、0.30%以下である。 The in-plane dimensional change rate R of the light-transmitting conductive film 1 is 0.55% or less, preferably 0.30% or less.

面内寸法変化率Rは、光透過性導電フィルム1を、20℃から160℃まで昇温した後20℃まで降温する熱機械分析工程(前記分析工程、以下、「TMA」とも略する。)を実施したときにおける斜め方向(第1方向および第2方向の両方向に交差する方向)の寸法変化率であって、具体的には、下記式で示される。 The in-plane dimensional change rate R is a thermomechanical analysis step of heating the light transmissive conductive film 1 from 20 ° C. to 160 ° C. and then lowering the temperature to 20 ° C. (the analysis step, hereinafter also abbreviated as "TMA"). It is the dimensional change rate in the diagonal direction (the direction intersecting both the first direction and the second direction) when the above is carried out, and is specifically represented by the following formula.

R = (ΔL +ΔL 1/2
式中、ΔLは、前後方向(第1方向)におけるTMA前後の寸法変化率(%)を示し、具体的には、下記式で示される。
R = (ΔL 1 2 + ΔL 2 2 ) 1/2
In the formula, ΔL 1 indicates the dimensional change rate (%) before and after TMA in the front-back direction (first direction), and is specifically shown by the following formula.

ΔL={(L ´−L)/L}×100 (%)
は、TMAを実施する前の20℃における前後方向長さを示し、L´は、TMAを実施した後の20℃における前後方向長さを示す。
ΔL 1 = {(L 1 −L 1 ) / L 1 } × 100 (%)
L 1 indicates the anteroposterior length at 20 ° C. before TMA is performed, and L 1 ′ indicates the anteroposterior length at 20 ° C. after TMA is performed.

式中、ΔLは、左右方向(第2方向)におけるTMA前後の寸法変化率(%)を示し、具体的には、下記式で示される。In the formula, ΔL 2 indicates the dimensional change rate (%) before and after TMA in the left-right direction (second direction), and is specifically represented by the following formula.

ΔL={(L ´−L)/L}×100 (%)
は、TMAを実施する前の20℃における左右方向長さを示し、L´は、TMAを実施した後の20℃における左右方向長さを示す。
ΔL 2 = {(L 2 ' -L 2) / L 2} × 100 (%)
L 2 indicates the left-right length at 20 ° C. before TMA is performed, and L 2 ′ indicates the left-right length at 20 ° C. after TMA is performed.

寸法変化率ΔLの絶対値は、例えば、0.50以下、好ましくは、0.30以下である。また、寸法変化率ΔLは、例えば、−0.50以上、好ましくは、0を超過し、また、例えば、0.50以下、好ましくは、0.30以下である。The absolute value of the dimensional change rate ΔL 1 is, for example, 0.50 or less, preferably 0.30 or less. The dimensional change rate ΔL 1 is, for example, −0.50 or more, preferably more than 0, and for example, 0.50 or less, preferably 0.30 or less.

寸法変化率ΔLの絶対値は、例えば、0.50以下、好ましくは、0.30以下である。また、寸法変化率ΔLは、例えば、0を超過し、好ましくは、0.10以上であり、また、例えば、0.50以下、好ましくは、0.30以下である。The absolute value of the dimensional change rate ΔL 2 is, for example, 0.50 or less, preferably 0.30 or less. Further, the dimensional change rate ΔL 2 exceeds 0, preferably 0.10 or more, and is, for example, 0.50 or less, preferably 0.30 or less.

寸法変化率ΔLの絶対値、および、寸法変化率ΔLの絶対値が、それぞれ、上記範囲であれば、光透過性導電フィルム1を加熱により対象物に貼着した場合に、光透過性導電フィルム1の過度の収縮を防止することができ、加熱前の状態に近いサイズを維持することができる。特に、寸法変化率ΔLの絶対値、および、寸法変化率ΔLの絶対値が、両方とも、上記範囲であれば、貼着された光透過性導電フィルム1を、加熱前の状態に近いサイズをより確実に維持、または、それよりも大きくすることができる。When the absolute value of the dimensional change rate ΔL 1 and the absolute value of the dimensional change rate ΔL 2 are in the above ranges, the light transmissive when the light transmissive conductive film 1 is attached to the object by heating is light transmissive. Excessive shrinkage of the conductive film 1 can be prevented, and the size close to the state before heating can be maintained. In particular, if the absolute value of the dimensional change rate ΔL 1 and the absolute value of the dimensional change rate ΔL 2 are both in the above range, the attached light-transmitting conductive film 1 is close to the state before heating. The size can be more reliably maintained or larger.

また、寸法変化率ΔLおよび寸法変化率ΔLは、正の値または負の値のいずれであってもよいが、好ましくは、寸法変化率ΔLおよび寸法変化率ΔLの少なくとも一方は、正の値であり、より好ましくは、寸法変化率ΔLおよび寸法変化率ΔLは、両方とも、正の値である。なお、上記寸法変化率が、正の値である場合、TMA後の光透過性導電フィルム1の寸法変化は、膨張を示す。Further, the dimensional change rate ΔL 1 and the dimensional change rate ΔL 2 may be either a positive value or a negative value, but preferably at least one of the dimensional change rate ΔL 1 and the dimensional change rate ΔL 2 is It is a positive value, and more preferably, the dimensional change rate ΔL 1 and the dimensional change rate ΔL 2 are both positive values. When the dimensional change rate is a positive value, the dimensional change of the light-transmitting conductive film 1 after TMA indicates expansion.

各寸法変化率の少なくとも一方が、正の値であれば、光透過性導電フィルム1を加熱により対象物に貼着した場合に、貼着された光透過性導電フィルム1を、加熱前の状態に近いサイズをより確実に維持することができる。特に、各寸法変化率が、両方とも、正の値であれば、貼着された光透過性導電フィルム1は、加熱により膨張し、加熱前の寸法よりも大きいサイズにすることができる。そのため、対象物一方面全面に確実に光透過性導電フィルム1を貼着することができる。 If at least one of the dimensional change rates is a positive value, when the light-transmitting conductive film 1 is attached to the object by heating, the attached light-transmitting conductive film 1 is in a state before heating. It is possible to more reliably maintain a size close to. In particular, if both of the dimensional change rates are positive values, the attached light-transmitting conductive film 1 can be expanded by heating to a size larger than the size before heating. Therefore, the light-transmitting conductive film 1 can be reliably attached to the entire surface of one surface of the object.

TMAにおいて、光透過性導電フィルム1に印加する荷重は、19.6mNであり、測定時の光透過性導電フィルム1(測定サンプル)の大きさは、長辺(荷重が印加する方向)20mm、短辺3mmとする。その他の条件は、実施例に準ずる。 In TMA, the load applied to the light-transmitting conductive film 1 is 19.6 mN, and the size of the light-transmitting conductive film 1 (measurement sample) at the time of measurement is 20 mm on the long side (direction in which the load is applied). The short side is 3 mm. Other conditions are the same as in the examples.

なお、ロールトゥロール方式の場合、例えば、基材フィルム2を搬送する搬送方向(MD方向)を前後方向(第1方向)とし、搬送方向と直交する直交方向(TD方向)を左右方向(第2方向)とする(図2参照)。 In the case of the roll-to-roll method, for example, the transport direction (MD direction) for transporting the base film 2 is the front-rear direction (first direction), and the orthogonal direction (TD direction) orthogonal to the transport direction is the left-right direction (first direction). (Two directions) (see Fig. 2).

また、光透過性導電フィルム1を、JIS C 2151に準じて、20℃から150℃まで昇温した後20℃まで降温する加熱工程(以下、単に、「前記加熱工程」とも称する。)を実施したときに、前後方向における加熱前後の寸法変化率ΔMの絶対値は、例えば、0.50%以下、好ましくは、0.30%未満である。また、寸法変化率ΔMは、例えば、例えば、−0.50%以上、好ましくは、−0.30%以上であり、また、例えば、0.50%以下、好ましくは、0%未満である。Further, a heating step (hereinafter, also simply referred to as “the heating step”) is carried out in which the light transmissive conductive film 1 is heated from 20 ° C. to 150 ° C. and then lowered to 20 ° C. according to JIS C 2151. The absolute value of the dimensional change rate ΔM 1 before and after heating in the front-rear direction is, for example, 0.50% or less, preferably less than 0.30%. The dimensional change rate ΔM 1 is, for example, −0.50% or more, preferably −0.30% or more, and for example, 0.50% or less, preferably less than 0%. ..

寸法変化率ΔMは、前記加熱工程を実施する前の20℃における前後方向長さをM、前記加熱工程を実施した後の20℃における前後方向長さをM´として、下記式にて示される。Dimensional change .DELTA.M 1 is, M 1 a front-rear length at 20 ° C. before carrying out said heating step, the front-rear length at 20 ° C. after performing the heating step as M 1 ', the following formula Is shown.

ΔM={(M ´−M)/M}×100 (%)
また、前記加熱工程を実施したときに、左右方向における加熱前後の寸法変化率ΔMの絶対値は、例えば、0.50%以下、好ましくは、0.30%未満、より好ましくは、0.10%以下である。また、寸法変化率ΔMは、例えば、−0.50%以上、好ましくは、−0.30%以上であり、また、例えば、0.50%以下、好ましくは、0%未満である。
ΔM 1 = {(M 1 −M 1 ) / M 1 } × 100 (%)
Further, when the heating step is performed, the absolute value of the dimensional change rate ΔM 2 before and after heating in the left-right direction is, for example, 0.50% or less, preferably less than 0.30%, more preferably 0. It is 10% or less. The dimensional change rate ΔM 2 is, for example, −0.50% or more, preferably −0.30% or more, and for example, 0.50% or less, preferably less than 0%.

寸法変化率ΔMは、前記加熱工程を実施する前の20℃における左右方向長さをM、前記加熱工程を実施した後の20℃における左右方向長さをM´として、下記式にて示される。Dimensional change .DELTA.M 2 is, M 2 in the lateral direction length in 20 ° C. before carrying out said heating step, the lateral direction length in 20 ° C. after performing the heating step as M 2 ', the following formula Is shown.

ΔM={(M ´−M)/M}×100 (%)
また、寸法変化率ΔMおよび寸法変化率ΔMの絶対値の少なくとも一方が、好ましくは、0.30%未満である。より好ましくは、ΔMの絶対値およびΔMの絶対値が、両方とも、0.30%未満である。
ΔM 2 = {(M 2 −M 2 ) / M 2 } × 100 (%)
Further, at least one of the absolute values of the dimensional change rate ΔM 1 and the dimensional change rate ΔM 2 is preferably less than 0.30%. More preferably, the absolute value of ΔM 1 and the absolute value of ΔM 2 are both less than 0.30%.

JIS C 2151に準じる方法は、光透過性導電フィルム1に、引張荷重などの荷重を印加しない状態で、光透過性導電フィルム1を加熱する方法である。 The method according to JIS C 2151 is a method of heating the light-transmitting conductive film 1 without applying a load such as a tensile load to the light-transmitting conductive film 1.

寸法変化率ΔMおよび寸法変化率ΔMは、正の値または負の値のいずれであってもよいが、好ましくは、寸法変化率ΔMおよび寸法変化率ΔMの少なくとも一方は、負の値であり、より好ましくは、寸法法変化率ΔMおよび寸法法変化率ΔMは、両方とも、負の値である。寸法変化率が負の値である場合、前記加熱工程後の光透過性導電フィルム1の寸法変化は、収縮を示す。The dimensional change rate ΔM 1 and the dimensional change rate ΔM 2 may be either positive or negative values, but preferably at least one of the dimensional change rate ΔM 1 and the dimensional change rate ΔM 2 is negative. It is a value, and more preferably, the dimensional change rate ΔM 1 and the dimensional change rate ΔM 2 are both negative values. When the dimensional change rate is a negative value, the dimensional change of the light-transmitting conductive film 1 after the heating step indicates shrinkage.

光透過性導電フィルム1のヘイズ(JIS K−7105)は、例えば、2.0%以下、好ましくは、1.8%以下、より好ましくは、1.5%以下、さらに好ましくは、1.2%以下であり、また、例えば、0.1%以上である。光透過性導電フィルム1のヘイズが上記範囲内であれば、調光用光透過性導電フィルムとして好適に利用できる。 The haze (JIS K-7105) of the light transmissive conductive film 1 is, for example, 2.0% or less, preferably 1.8% or less, more preferably 1.5% or less, still more preferably 1.2. % Or less, and for example, 0.1% or more. When the haze of the light-transmitting conductive film 1 is within the above range, it can be suitably used as a light-transmitting conductive film for dimming.

この光透過性導電フィルム1は、必要に応じてエッチングを実施して、光透過性導電層3を、所定形状にパターニングすることができる。 The light-transmitting conductive film 1 can be etched as necessary to pattern the light-transmitting conductive layer 3 in a predetermined shape.

5.調光フィルムの製造方法
次に、光透過性導電フィルム1を用いて調光フィルム4を製造する方法について図3を参照して説明する。
5. Method for manufacturing a light control film Next, a method for manufacturing a light control film 4 using the light transmissive conductive film 1 will be described with reference to FIG.

調光フィルム4の製造方法は、例えば、光透過性導電フィルム1を2つ製造する工程と、次いで、調光機能層5を2つの光透過性導電フィルム1によって挟む工程とを備える。 The method for manufacturing the light control film 4 includes, for example, a step of manufacturing two light transmissive conductive films 1 and then a step of sandwiching the light control functional layer 5 between the two light transmissive conductive films 1.

まず、光透過性導電フィルム1を2つ製造する。なお、1つの光透過性導電フィルム1を切断加工して、2つの光透過性導電フィルム1を用意することもできる。 First, two light-transmitting conductive films 1 are manufactured. It is also possible to prepare two light-transmitting conductive films 1 by cutting one light-transmitting conductive film 1.

2つの光透過性導電フィルム1は、第1の光透過性導電フィルム1A、および、第2の光透過性導電フィルム1Bである。 The two light-transmitting conductive films 1 are a first light-transmitting conductive film 1A and a second light-transmitting conductive film 1B.

次いで、例えば、湿式により、第1の光透過性導電フィルム1Aにおける光透過性導電層3の上面(表面)に調光機能層5を形成する。 Next, for example, the dimming function layer 5 is formed on the upper surface (surface) of the light transmitting conductive layer 3 in the first light transmitting conductive film 1A by wet treatment.

例えば、液晶組成物またはその溶液を、第1の光透過性導電フィルム1Aにおける光透過性導電層3の上面に塗布して、塗膜を形成する。液晶組成物は、調光用途に使用できるものであれば限定的でなく、公知のものが挙げられ、例えば、特開平8−194209号公報に記載の液晶分散樹脂が挙げられる。 For example, the liquid crystal composition or a solution thereof is applied to the upper surface of the light-transmitting conductive layer 3 in the first light-transmitting conductive film 1A to form a coating film. The liquid crystal composition is not limited as long as it can be used for dimming, and examples thereof include known ones, and examples thereof include the liquid crystal dispersion resin described in JP-A-8-194209.

続いて、第2の光透過性導電フィルム1Bを塗膜の上面に、第2の光透過性導電フィルム1Bの光透過性導電層3と塗膜とが接触するように、積層する。これによって、2つの光透過性導電フィルム1、つまり、第1の光透過性導電フィルム1Aおよび第2の光透過性導電フィルム1Bによって、塗膜を挟み込む。 Subsequently, the second light-transmitting conductive film 1B is laminated on the upper surface of the coating film so that the light-transmitting conductive layer 3 of the second light-transmitting conductive film 1B and the coating film are in contact with each other. As a result, the coating film is sandwiched between the two light-transmitting conductive films 1, that is, the first light-transmitting conductive film 1A and the second light-transmitting conductive film 1B.

その後、塗膜に対して、必要に応じて適宜の処理(例えば、熱乾燥処理、光硬化処理)を施して、調光機能層5を形成する。調光機能層5は、第1の光透過性導電フィルム1Aの光透過性導電層3と、第2の光透過性導電フィルム1Bの光透過性導電層3との間に配置される。 After that, the coating film is subjected to an appropriate treatment (for example, heat drying treatment, photocuring treatment) as necessary to form the dimming functional layer 5. The dimming function layer 5 is arranged between the light transmitting conductive layer 3 of the first light transmitting conductive film 1A and the light transmitting conductive layer 3 of the second light transmitting conductive film 1B.

これによって、第1の光透過性導電フィルム1Aと、調光機能層5と、第2の光透過性導電フィルム1Bとを順に備える調光フィルム4を得る。 As a result, a light control film 4 including the first light transmissive conductive film 1A, the dimming function layer 5, and the second light transmissive conductive film 1B in this order is obtained.

6.調光部材の製造方法
次に、調光フィルム4を用いて調光部材6を製造する方法について図4A−Dを参照して説明する。
6. Method for Manufacturing Dimming Member Next, a method for manufacturing the dimming member 6 using the dimming film 4 will be described with reference to FIGS. 4A-D.

調光部材6の製造方法は、例えば、保護部材7に熱硬化性接着剤層8を形成する工程と、熱硬化性接着剤層8に調光フィルム4を配置する工程と、熱硬化性接着剤層8を加熱硬化する工程とを備える。 The method for manufacturing the light control member 6 includes, for example, a step of forming a thermosetting adhesive layer 8 on the protective member 7, a step of arranging a light control film 4 on the thermosetting adhesive layer 8, and heat curable adhesion. It includes a step of heating and curing the agent layer 8.

まず、図4Aに示すように、保護部材7を用意する。保護部材7は、調光フィルム4を貼着する対象物であって、例えば、窓ガラス、間仕切り、インテリアなどが挙げられる。具体的には、保護部材7は、適宜の機械的強度および厚みを有する硬質性の透明板が用いられ、例えば、ガラス板、強化プラスチック板(例えば、ポリカーボネート系樹脂)などが挙げられる。 First, as shown in FIG. 4A, the protective member 7 is prepared. The protective member 7 is an object to which the light control film 4 is attached, and examples thereof include a window glass, a partition, and an interior. Specifically, as the protective member 7, a rigid transparent plate having an appropriate mechanical strength and thickness is used, and examples thereof include a glass plate and a reinforced plastic plate (for example, a polycarbonate resin).

続いて、図4Bに示すように、保護部材7に熱硬化性接着剤層8を形成する。例えば、液状の熱硬化性接着組成物を、保護部材7の上面(表面)の全面に塗布する。 Subsequently, as shown in FIG. 4B, the thermosetting adhesive layer 8 is formed on the protective member 7. For example, a liquid thermosetting adhesive composition is applied to the entire upper surface (surface) of the protective member 7.

熱硬化性接着組成物としては、例えば、エポキシ系熱硬化性接着組成物、アクリル系熱硬化性接着組成物などが挙げられる。なお、熱硬化性接着組成物は、熱硬化後に調光フィルム4と保護部材7との貼付を維持できる限り任意の樹脂を採用でき、上記例示に限定されない。 Examples of the thermosetting adhesive composition include an epoxy-based thermosetting adhesive composition and an acrylic-based thermosetting adhesive composition. As the thermosetting adhesive composition, any resin can be used as long as the adhesion between the light control film 4 and the protective member 7 can be maintained after the thermosetting, and the present invention is not limited to the above examples.

塗布方法としては、例えば、アプリケータを用いる方法、ポッティング、キャストコート、スピンコート、ロールコートなどが挙げられる。 Examples of the coating method include a method using an applicator, potting, cast coating, spin coating, roll coating and the like.

次いで、図4Cに示すように、熱硬化性接着剤層8に調光フィルム4を配置する。すなわち、調光フィルム4を、熱硬化性接着剤層8を介して、保護部材7の上面に配置する。 Next, as shown in FIG. 4C, the light control film 4 is arranged on the thermosetting adhesive layer 8. That is, the light control film 4 is arranged on the upper surface of the protective member 7 via the thermosetting adhesive layer 8.

この際、調光フィルム4は、保護部材7と略同一サイズとなるように配置する。具体的には、調光フィルム4を、保護部材7と略同一サイズ(同一前後方向長さおよび同一左右方向長さ)となるように切断し、続いて、保護部材7の周端縁と調光フィルム4の周端縁とが上下方向に投影したときに一致するように、調光フィルム4を熱硬化性接着剤層8の上面に配置する。 At this time, the light control film 4 is arranged so as to have substantially the same size as the protective member 7. Specifically, the light control film 4 is cut so as to have substantially the same size as the protective member 7 (same front-rear direction length and same left-right direction length), and subsequently adjusted with the peripheral edge of the protective member 7. The light control film 4 is arranged on the upper surface of the thermosetting adhesive layer 8 so that the peripheral edge of the optical film 4 coincides with the peripheral edge of the optical film 4 when projected in the vertical direction.

次いで、図4Dに示すように、熱硬化性接着剤層8を加熱硬化する。 Next, as shown in FIG. 4D, the thermosetting adhesive layer 8 is heat-cured.

加熱温度は、例えば、80℃以上、好ましくは、100℃以上であり、また、例えば、180℃以下、好ましくは、160℃以下である。 The heating temperature is, for example, 80 ° C. or higher, preferably 100 ° C. or higher, and for example, 180 ° C. or lower, preferably 160 ° C. or lower.

加熱時間は、例えば、5分以上、好ましくは、20分以上、より好ましくは、30分以上であり、また、例えば、600分以下、好ましくは、300分以下である。 The heating time is, for example, 5 minutes or more, preferably 20 minutes or more, more preferably 30 minutes or more, and for example, 600 minutes or less, preferably 300 minutes or less.

加熱硬化は、大気環境下または真空環境下で実施してもよく、また、適度な圧力を印加してもよい。 The heat curing may be carried out in an air environment or a vacuum environment, or an appropriate pressure may be applied.

その後、保護部材7に貼着された調光フィルム4を、室温(5〜35℃)に冷却する。 Then, the light control film 4 attached to the protective member 7 is cooled to room temperature (5 to 35 ° C.).

これにより、熱硬化性接着剤層8が熱硬化されて、接着剤層8aが形成される。その結果、調光フィルム4は、接着剤層8aを介して、保護部材7に貼着(固着)される。 As a result, the thermosetting adhesive layer 8 is thermally cured to form the adhesive layer 8a. As a result, the light control film 4 is attached (fixed) to the protective member 7 via the adhesive layer 8a.

このとき、光透過性導電フィルム1、ひいては、調光フィルム4は、加熱前の状態に近い平面視サイズを維持するか、または、膨張する。なお、調光フィルム4が膨張する場合は、仮想線で示すように、調光フィルム4の端部(はみ出し部9)が、保護部材7の端縁から面方向側方にはみ出す。すなわち、調光フィルム4の周端縁は、保護部材7の周端縁よりも外側方に位置する。 At this time, the light-transmitting conductive film 1 and, by extension, the light control film 4 maintain or expand in a plan view size close to the state before heating. When the light control film 4 expands, as shown by a virtual line, the end portion (protruding portion 9) of the light control film 4 protrudes laterally from the edge of the protective member 7 in the surface direction. That is, the peripheral edge of the light control film 4 is located on the outer side of the peripheral edge of the protective member 7.

これによって、図4Dに示すように、保護部材7と、その上面に設けられる接着剤層8aと、接着剤層8aの上面に配置される調光フィルム4とを備える調光部材6を得る。 As a result, as shown in FIG. 4D, a dimming member 6 including a protective member 7, an adhesive layer 8a provided on the upper surface thereof, and a dimming film 4 arranged on the upper surface of the adhesive layer 8a is obtained.

その後、調光フィルム4が、膨張した場合は、必要に応じて、次いで、図4Dの仮想線に示すように、調光フィルム4を切断する。すなわち、調光フィルム4の端部を上下方向に切断し、調光フィルム4のはみ出し部9を除去する。これにより、保護部材7と、調光フィルム4とが略同一サイズである調光部材6が得られる。 After that, when the light control film 4 expands, the light control film 4 is cut, if necessary, as shown by the virtual line in FIG. 4D. That is, the end portion of the light control film 4 is cut in the vertical direction to remove the protruding portion 9 of the light control film 4. As a result, a dimming member 6 in which the protective member 7 and the dimming film 4 have substantially the same size can be obtained.

調光部材6は、配線(図示せず)、電源(図示せず)および制御装置(図示せず)を装着することにより、例えば、電気駆動型の調光装置(図示せず)として用いられる。電気駆動型としては、電界駆動型および電流駆動型が挙げられる。一例として、電界駆動型の調光装置では、配線および電源によって、第1の光透過性導電フィルム1Aにおける光透過性導電層3と、第2の光透過性導電フィルム1Bにおける光透過性導電層3とに電圧が印加され、それによって、それらの間において電界が発生する。そして、制御装置に基づいて、上記した電界が制御されることによって、それらの間に位置する調光機能層5が、配向状態または不規則状態となって、光を透過させる、または、遮断(もしくは散乱)する。 The dimming member 6 is used, for example, as an electrically driven dimming device (not shown) by mounting a wiring (not shown), a power supply (not shown), and a control device (not shown). .. Examples of the electric drive type include an electric field drive type and a current drive type. As an example, in an electric field-driven dimmer, the light-transmitting conductive layer 3 in the first light-transmitting conductive film 1A and the light-transmitting conductive layer in the second light-transmitting conductive film 1B are provided by wiring and a power source. A voltage is applied to 3 and thereby an electric field is generated between them. Then, by controlling the above-mentioned electric fields based on the control device, the dimming function layer 5 located between them is in an oriented state or an irregular state to transmit or block light (). Or scatter).

この光透過性導電フィルム1および調光フィルム4は、20℃−160℃−20℃の熱機械分析工程(TMA)を実施したときに、面内寸法変化率Rが、0.55%以下である。そのため 光透過性導電フィルム1を、保護部材7(対象物)に対して加熱によって貼着しても、光透過性導電フィルム1は、加熱前の状態に近いサイズを維持することができる。そのため、保護部材7に貼着されない面積を低減することができ、所望のサイズの光透過性導電フィルム1を対象物に貼着することができる。 The light transmissive conductive film 1 and the light control film 4 have an in-plane dimensional change rate R of 0.55% or less when a thermomechanical analysis step (TMA) of 20 ° C.-160 ° C.-20 ° C. is performed. is there. Therefore, even if the light-transmitting conductive film 1 is attached to the protective member 7 (object) by heating, the light-transmitting conductive film 1 can maintain a size close to the state before heating. Therefore, the area that is not attached to the protective member 7 can be reduced, and the light-transmitting conductive film 1 of a desired size can be attached to the object.

このメカニズムは定かではないが、光透過性導電フィルム1を保護部材7に対して熱硬化性接着剤を介して加熱によって貼着した場合と、光透過性導電フィルム1に、引張荷重を印加して加熱するTMAを実施した場合とで、光透過性導電フィルム1の膨張・収縮が同様の挙動を示すことによるものと推察される。 Although this mechanism is not clear, when the light-transmitting conductive film 1 is attached to the protective member 7 by heating via a heat-curable adhesive, and when a tensile load is applied to the light-transmitting conductive film 1. It is presumed that the expansion and contraction of the light-transmitting conductive film 1 exhibits the same behavior as in the case where the TMA is heated.

調光フィルム4を用いた調光部材6は、保護部材7の上面(貼着面)において、調光フィルム4が貼着されていない面積が低減されている。そのため、保護部材7の大面積で、(特に端部において)調光機能を有することができる。 In the dimming member 6 using the dimming film 4, the area where the dimming film 4 is not attached is reduced on the upper surface (attached surface) of the protective member 7. Therefore, it is possible to have a dimming function (particularly at the end portion) in a large area of the protective member 7.

7.変形例
図1に示す実施形態では、基材フィルム2の上面に光透過性導電層3が直接配置されているが、例えば、図示しないが、基材フィルム2の上面および/または下面に、機能層を設けることができる。
7. Modification Example In the embodiment shown in FIG. 1, the light-transmitting conductive layer 3 is directly arranged on the upper surface of the base film 2, but for example, although not shown, the function is on the upper surface and / or the lower surface of the base film 2. Layers can be provided.

すなわち、例えば、光透過性導電フィルム1は、基材フィルム2と、基材フィルム2の上面に配置される機能層と、機能層の上面に配置される光透過性導電層3とを備えることができる。また、例えば、光透過性導電フィルム1は、基材フィルム2と、基材フィルム2の上面に配置される光透過性導電層3と、基材フィルム2の下面に配置される機能層とを備えることができる。また、例えば、基材フィルム2の上側および下側に、機能層と光透過性導電層3とをこの順に備えることもできる。 That is, for example, the light-transmitting conductive film 1 includes a base film 2, a functional layer arranged on the upper surface of the base film 2, and a light-transmitting conductive layer 3 arranged on the upper surface of the functional layer. Can be done. Further, for example, the light-transmitting conductive film 1 includes a base film 2, a light-transmitting conductive layer 3 arranged on the upper surface of the base film 2, and a functional layer arranged on the lower surface of the base film 2. Can be prepared. Further, for example, the functional layer and the light-transmitting conductive layer 3 may be provided in this order on the upper side and the lower side of the base film 2.

機能層としては、易接着層、アンダーコート層、ハードコート層などが挙げられる。易接着層は、基材フィルム2と光透過性導電層3との密着性を向上させるために設けられる層である。アンダーコート層は、光透過性導電フィルム1の反射率や光学色相を調整するために設けられる層である。ハードコート層は、光透過性導電フィルム1の耐擦傷性を向上するために設けられる層である。これらの機能層は、1種単独であってもよく、2種以上併用してもよい。 Examples of the functional layer include an easy-adhesion layer, an undercoat layer, and a hardcoat layer. The easy-adhesion layer is a layer provided to improve the adhesion between the base film 2 and the light-transmitting conductive layer 3. The undercoat layer is a layer provided for adjusting the reflectance and optical hue of the light-transmitting conductive film 1. The hard coat layer is a layer provided to improve the scratch resistance of the light-transmitting conductive film 1. These functional layers may be used alone or in combination of two or more.

図4Dに示す実施形態では、保護部材7の上面に接着剤層8aと調光フィルム4とを備える調光部材6を示しているが、例えば、図示しないが、調光フィルム4の上面に、さらに、接着剤層8aおよび保護部材7を順に備えていてもよい。 In the embodiment shown in FIG. 4D, the dimming member 6 having the adhesive layer 8a and the dimming film 4 on the upper surface of the protective member 7 is shown. For example, although not shown, the upper surface of the dimming film 4 is shown. Further, the adhesive layer 8a and the protective member 7 may be provided in this order.

また、調光フィルム4を保護部材7に貼着する前に、あらかじめ調光フィルム4の光透過性導電層3の外周部に配線を配置してもよい。 Further, before attaching the light control film 4 to the protective member 7, wiring may be arranged in advance on the outer peripheral portion of the light transmissive conductive layer 3 of the light control film 4.

また、図4A−Dでは、調光部材6の製造方法は、熱硬化性接着剤層8を用いて保護部材7に調光フィルム4を貼着しているが、接着剤層としては、加熱によって接着可能であればよく、熱硬化性接着層に限定されない。例えば、図示しないが、熱溶融性接着剤を用いて保護部材7に調光フィルム4を貼着してもよい。すなわち、調光部材6の製造方法は、例えば、保護部材7に熱溶融性接着剤層を形成する工程と、熱溶融性接着剤層に調光フィルム4を配置する工程と、熱溶融性接着剤層を加熱溶融する工程とを備えていてもよい。 Further, in FIGS. 4A-D, in the method of manufacturing the light control member 6, the light control film 4 is attached to the protective member 7 by using the thermosetting adhesive layer 8, but the adhesive layer is heated. It is not limited to the thermosetting adhesive layer as long as it can be adhered by. For example, although not shown, the light control film 4 may be attached to the protective member 7 using a heat-meltable adhesive. That is, the method for manufacturing the light control member 6 includes, for example, a step of forming a heat-meltable adhesive layer on the protective member 7, a step of arranging the light control film 4 on the heat-meltable adhesive layer, and heat-meltable adhesion. It may include a step of heating and melting the agent layer.

熱溶融性接着剤層を形成する方法としては、例えば、熱溶融性接着組成物からなるシートを保護部材7の上面の全面に積層する。 As a method of forming the heat-meltable adhesive layer, for example, a sheet made of the heat-meltable adhesive composition is laminated on the entire upper surface of the protective member 7.

熱溶融性接着組成物としては、例えば、エチレン酢酸ビニル系組成物、ポリオレフィン系組成物、ポリアミド系組成物、ポリエステル系組成物、ポリプロピレン系組成物、ポリウレタン系組成物などの熱可塑性樹脂組成物などが挙げられる。これらは1種単独であってもよく、2種以上併用していてもよい。このような熱溶融性接着組成物は、例えば、ホットメルト接着剤として用いられている。 Examples of the heat-meltable adhesive composition include thermoplastic resin compositions such as ethylene-vinyl acetate-based compositions, polyolefin-based compositions, polyamide-based compositions, polyester-based compositions, polypropylene-based compositions, and polyurethane-based compositions. Can be mentioned. These may be used alone or in combination of two or more. Such a heat-meltable adhesive composition is used, for example, as a hot-melt adhesive.

熱溶融性接着剤層の加熱温度は、例えば、上記した熱硬化性接着剤層8の加熱温度と同様である。 The heating temperature of the thermosetting adhesive layer is, for example, the same as the heating temperature of the thermosetting adhesive layer 8 described above.

<その他の実施形態>
上記した一実施形態では、光透過性導電フィルム1として、調光用光透過性導電フィルム)を例示したが、例えば、光透過性導電フィルムは、調光用以外の用途にも適用することができる。
<Other Embodiments>
In the above-described embodiment, the light-transmitting conductive film 1 is exemplified as the light-transmitting conductive film for dimming), but for example, the light-transmitting conductive film can be applied to applications other than dimming. it can.

具体的には、光透過性導電フィルムは、例えば、画像表示装置(LCD、有機EL)などの光学装置に備えられる。好ましくは、光透過性導電フィルムは、タッチパネル用基材として用いられる。タッチパネルの形式としては、光学方式、超音波方式、静電容量方式、抵抗膜方式などの各種方式が挙げられ、特に静電容量方式のタッチパネルに好適に用いられる。 Specifically, the light-transmitting conductive film is provided in, for example, an optical device such as an image display device (LCD, organic EL). Preferably, the light-transmitting conductive film is used as a base material for a touch panel. Examples of the touch panel type include various methods such as an optical method, an ultrasonic method, a capacitance method, and a resistance film method, and are particularly preferably used for a capacitance type touch panel.

以下、本発明に関し、実施例を用いて詳細に説明するが、本発明はその要旨を超えない限り、実施例に限定されるものではなく、本発明の技術思想に基づいて各種の変形および変更が可能である。また、以下の記載において用いられる配合割合(含有割合)、物性値、パラメータなどの具体的数値は、上記の「発明を実施するための形態」において記載されている、それらに対応する配合割合(含有割合)、物性値、パラメータなど該当記載の上限(「以下」、「未満」として定義されている数値)または下限(「以上」、「超過」として定義されている数値)に代替することができる。 Hereinafter, the present invention will be described in detail with reference to examples, but the present invention is not limited to the examples as long as the gist of the present invention is not exceeded, and various modifications and modifications are made based on the technical idea of the present invention. Is possible. In addition, specific numerical values such as the compounding ratio (content ratio), physical property values, and parameters used in the following description are the compounding ratios corresponding to those described in the above-mentioned "Form for carrying out the invention". Content ratio), physical property values, parameters, etc. can be replaced with the upper limit (numerical value defined as "less than or equal to" or "less than") or lower limit (numerical value defined as "greater than or equal to" or "excess"). it can.

実施例1
光透過性の基材フィルムとして、第1方向(搬送方向、MD)に長尺なポリエチレンテレフタレート(PET)フィルム(厚み188μm、二軸延伸フィルム)を用意した。
Example 1
As a light-transmitting base film, a long polyethylene terephthalate (PET) film (thickness 188 μm, biaxially stretched film) was prepared in the first direction (conveyance direction, MD).

PETフィルムをロールトゥロール方式にて、大気下で170℃にて1分間加熱した(前加熱)。 The PET film was heated in the air at 170 ° C. for 1 minute by a roll-to-roll method (preheating).

次いで、加熱したPETフィルムをロールトゥロール型スパッタリング装置に設置し、DCマグネトロンスパッタリング法により、厚み65nmの非晶質ITOからなる光透過性導電層を形成した。なお、スパッタリングの条件として、PETフィルムの温度を、−5℃に設定した。スパッタリング時の雰囲気を、ArおよびOを導入した気圧0.2Paとした真空雰囲気(流量比はAr:O=100:3.3)とし、その含水量(水分ガス/全圧)は、0.05とした。ターゲットとして、12質量%の酸化スズと88質量%の酸化インジウムとの焼結体を用いた。Next, the heated PET film was placed in a roll-to-roll sputtering apparatus, and a light-transmitting conductive layer made of amorphous ITO having a thickness of 65 nm was formed by a DC magnetron sputtering method. As a sputtering condition, the temperature of the PET film was set to −5 ° C. The atmosphere during sputtering was a vacuum atmosphere (flow rate ratio: Ar: O 2 = 100: 3.3) with an atmospheric pressure of 0.2 Pa in which Ar and O 2 were introduced, and the water content (moisture gas / total pressure) was It was set to 0.05. As a target, a sintered body of 12% by mass of tin oxide and 88% by mass of indium oxide was used.

実施例2
PETフィルムの厚みを50μmとし、スパッタリングにおけるPETフィルムの温度を0℃に設定し、スパッタリング時の雰囲気をArおよびOを導入した気圧0.4Paとした真空雰囲気(流量比はAr:O=100:3.0)とし、ターゲットとして、10質量%の酸化スズと90質量%の酸化インジウムとの焼結体を用い、光透過性導電層の厚みを25nmとした以外は、実施例1と同様にして、光透過性導電フィルムを製造した。
Example 2
The thickness of the PET film was 50 μm, the temperature of the PET film in sputtering was set to 0 ° C., and the atmosphere during sputtering was a vacuum atmosphere with Ar and O 2 introduced at a pressure of 0.4 Pa (flow ratio is Ar: O 2 =). 100: 3.0), and the same as in Example 1 except that a sintered body of 10% by mass of tin oxide and 90% by mass of indium oxide was used as a target and the thickness of the light-transmitting conductive layer was 25 nm. In the same manner, a light-transmitting conductive film was produced.

比較例1
PETフィルムに前加熱を実施しなかった以外は、実施例1と同様にして、光透過性導電フィルムを製造した。
Comparative Example 1
A light-transmitting conductive film was produced in the same manner as in Example 1 except that the PET film was not preheated.

比較例2
スパッタリングにおけるPETフィルムの温度を140℃に設定し、含水量を0.005に設定し、光透過性導電層の形成後にさらに大気下で170℃、2分の条件で後加熱を実施した以外は、実施例2と同様にして、光透過性導電フィルムを製造した。
Comparative Example 2
Except that the temperature of the PET film in sputtering was set to 140 ° C., the water content was set to 0.005, and after the formation of the light-transmitting conductive layer, post-heating was further carried out in the atmosphere at 170 ° C. for 2 minutes. , A light-transmitting conductive film was produced in the same manner as in Example 2.

(評価)
(1)厚み
PETフィルム(基材フィルム)の厚みは、膜厚計(尾崎製作所社製、装置名「デジタルダイアルゲージ DG−205」)を用いて測定した。ITO層(光透過性導電層)の厚みは、透過型電子顕微鏡(日立製作所製、装置名「HF−2000」)を用いた断面観察により測定した。
(Evaluation)
(1) Thickness The thickness of the PET film (base film) was measured using a film thickness meter (manufactured by Ozaki Seisakusho Co., Ltd., device name "Digital Dial Gauge DG-205"). The thickness of the ITO layer (light transmissive conductive layer) was measured by cross-sectional observation using a transmission electron microscope (manufactured by Hitachi, Ltd., device name "HF-2000").

(2)熱機械分析(TMA)による寸法変化の測定
各実施例および各比較例の光透過性導電フィルムを、長辺20mm、短辺3mmの短冊に切り出し、測定サンプルとした。なお、MD方向(第1方向)の寸法変化を測定する場合は、MD方向が長辺、TD方向(MD方向と直交する方向、第2方向)が短辺となるように、また、TD方向の寸法変化を測定する場合は、TD方向が長辺、MD方向が短辺となるように、それぞれ切断した。これにより、各方向の寸法変化を計測するための測定サンプルを作製した。
(2) Measurement of Dimensional Change by Thermomechanical Analysis (TMA) The light-transmitting conductive films of each Example and each Comparative Example were cut into strips having a long side of 20 mm and a short side of 3 mm and used as measurement samples. When measuring the dimensional change in the MD direction (first direction), the MD direction is the long side, the TD direction (the direction orthogonal to the MD direction, the second direction) is the short side, and the TD direction. When measuring the dimensional change of, the cut was made so that the TD direction was the long side and the MD direction was the short side. As a result, a measurement sample for measuring the dimensional change in each direction was prepared.

測定サンプルを熱機械分析装置(エスアイアイ・テクノロジー社製、「TMA/SS71000」)にセットして、MD方向およびTD方向のそれぞれについて、20℃から160℃に昇温し、さらに20℃に降温したときの寸法変化率を測定した。 The measurement sample is set in a thermomechanical analyzer (“TMA / SS71000” manufactured by SII Technology Co., Ltd.), the temperature is raised from 20 ° C to 160 ° C in each of the MD direction and the TD direction, and the temperature is further lowered to 20 ° C. The dimensional change rate at that time was measured.

すなわち、昇温前の20℃におけるMD方向長さをL、昇温後の20℃におけるMD方向長さをL ´として、MD方向の寸法変化率ΔL(%)を「{(L ´−L)/L}×100(%)」の式により算出した。また、昇温前の20℃におけるTD方向長さをM、昇温後の20℃におけるTD方向長さをL ´として、TD方向の寸法変化率ΔL(%)を「{(L ´−L)/L}×100(%)」の式により算出した。さらに、測定サンプル全体の面内寸法変化率Rを「{(ΔL+(ΔL1/2」の式により算出した。That is, the MD direction length at 20 ° C. before the temperature rise is L 1 , the MD direction length at 20 ° C. after the temperature rise is L 1 , and the dimensional change rate ΔL 1 (%) in the MD direction is “{(L). was calculated by the equation of 1 '-L 1) / L 1 } × 100 (%) ". Further, the TD direction length at 20 ° C. before the temperature rise is M 2 , the TD direction length at 20 ° C. after the temperature rise is L 2 , and the dimensional change rate ΔL 2 (%) in the TD direction is “{(L). 2 '-L 2) / L 2 } was calculated by the equation of × 100 (%) ". Further, the in-plane dimensional change rate R of the entire measurement sample was calculated by the formula "{(ΔL 1 ) 2 + (ΔL 2 ) 2 } 1/2 ".

なお、熱機械分析の条件は、下記の通りとした。 The conditions for thermomechanical analysis were as follows.

測定モード :引っ張り法
荷重 :19.6mN
昇温速度 :10℃/min
測定雰囲気 :Air(流量200ml/min)
チャッキング距離:10mm
(3)JIS C 2151による寸法変化率の測定
各実施例および各比較例の光透過性導電フィルムを、MD方向(第1方向)10cm、TD方向(MD方向と直交する方向、第2方向)10cmに切断して、サンプルを作製した。このときの温度は、20℃であった。
Measurement mode: Tension method Load: 19.6mN
Temperature rise rate: 10 ° C / min
Measurement atmosphere: Air (flow rate 200 ml / min)
Chucking distance: 10 mm
(3) Measurement of Dimensional Change Rate by JIS C 2151 The light-transmitting conductive film of each Example and each Comparative Example is 10 cm in the MD direction (first direction) and in the TD direction (direction orthogonal to the MD direction, second direction). A sample was prepared by cutting into 10 cm. The temperature at this time was 20 ° C.

JIS C 2151に準じて、サンプルを熱風オーブンで150℃で30分間加熱した後、20℃まで降温させた。この高温処理後の寸法変化率を、MD方向およびTD方向のそれぞれについて、測定した。 According to JIS C 2151, the sample was heated in a hot air oven at 150 ° C. for 30 minutes and then lowered to 20 ° C. The dimensional change rate after this high temperature treatment was measured in each of the MD direction and the TD direction.

すなわち、昇温前の20℃におけるMD方向の長さをM、昇温後の20℃におけるMD方向長さをM ´として、MD方向の寸法変化率ΔM(%)を「{(M ´−M)/M}×100(%)」の式により算出した。また、昇温前の20℃におけるTD方向長さをM、昇温後の20℃におけるTD方向長さをM ´として、TD方向の寸法変化率ΔM(%)を「{(M ´−M)/M}×100(%)」の式により算出した。That is, the length in the MD direction at 20 ° C. before the temperature rise is M 1 , the length in the MD direction at 20 ° C. after the temperature rise is M 1 , and the dimensional change rate ΔM 1 (%) in the MD direction is “{(. It was calculated by the equation of M 1 '-M 1) / M 1} × 100 (%) ". Further, the TD direction length at 20 ° C. before the temperature rise is M 2 , the TD direction length at 20 ° C. after the temperature rise is M 2 , and the dimensional change rate ΔM 2 (%) in the TD direction is “{(M). 2 '-M 2) / M 2 } was calculated by the equation of × 100 (%) ".

(4)ガラスへの貼着試験
市販のガラス板(前後方向長さ30cm×左右方向長さ25cm)の一方面全面に、熱硬化性樹脂(アクリル系接着剤)を塗布した。次いで、ガラス板と同一サイズの実施例および各比較例の光透過性導電フィルムを用意し、各光透過性導電フィルムを、ガラス板の周端縁と光透過性導電フィルムの周端縁とが一致するように、熱硬化性接着剤の上面に配置し、その後、大気環境下で、150℃で60分、加熱した。これにより、ガラス板に光透過性導電フィルムを貼着した。
(4) Adhesion test to glass A thermosetting resin (acrylic adhesive) was applied to the entire surface of a commercially available glass plate (length 30 cm in the front-rear direction x length 25 cm in the left-right direction). Next, the light-transmitting conductive films of Examples and Comparative Examples having the same size as the glass plate are prepared, and each light-transmitting conductive film has a peripheral edge of the glass plate and a peripheral edge of the light-transmitting conductive film. They were placed on top of the thermocurable adhesive so that they match, and then heated at 150 ° C. for 60 minutes in an air environment. As a result, the light-transmitting conductive film was attached to the glass plate.

ガラスの一方面全面が、光透過性導電性フィルム1に完全に被覆されており、かつ、光透過性導電性フィルムの端部のはみ出しが実用上支障がないレベルであった場合を〇と評価し、ガラスの一方面の端縁が僅かに露出していたが、実用上支障がないレベルであった場合を△と評価し、ガラスの一方面の端縁が大きく露出しており、実用上支障があるレベルであった場合を×と評価した。 The case where the entire surface of one surface of the glass is completely covered with the light-transmitting conductive film 1 and the protrusion of the edge of the light-transmitting conductive film is at a level that does not hinder practical use is evaluated as 〇. However, the edge of one side of the glass was slightly exposed, but when it was at a level that did not hinder practical use, it was evaluated as Δ, and the edge of one side of the glass was largely exposed for practical use. The case where there was a problem was evaluated as x.

なお、実施例1において、貼着した光透過性導電フィルムは、ガラス板よりも僅かに縦方向および横方向よりも膨張していたため、膨張したフィルム端部を切断することにより、ガラス板全体に、ガラス板と同サイズの光透過性導電フィルムを貼着することができることが分かる。 In Example 1, the attached light-transmitting conductive film was slightly expanded in the vertical direction and the horizontal direction as compared with the glass plate. Therefore, by cutting the expanded film end, the entire glass plate was covered. , It can be seen that a light-transmitting conductive film having the same size as the glass plate can be attached.

(5)非晶質性
実施例および各比較例の光透過性導電フィルムを、大気環境下、80℃、20時間の条件で加熱した。その後、加熱した光透過性導電フィルムを、塩酸(濃度:5質量%)に15分間浸漬した後、水洗・乾燥し、各導電層の15mm程度の間の二端子間抵抗を測定した。15mm間の二端子間抵抗が10kΩを超過した場合を、非晶質と判断して、〇と評価した。10kΩを超過しなかった場合を、結晶質と判断して、×と評価した。結果を表1に示す。
(5) Amorphous The light-transmitting conductive films of Examples and Comparative Examples were heated at 80 ° C. for 20 hours in an air environment. Then, the heated light-transmitting conductive film was immersed in hydrochloric acid (concentration: 5% by mass) for 15 minutes, washed with water and dried, and the resistance between the two terminals between about 15 mm of each conductive layer was measured. When the resistance between the two terminals between 15 mm exceeded 10 kΩ, it was judged to be amorphous and evaluated as 〇. When it did not exceed 10 kΩ, it was judged to be crystalline and evaluated as x. The results are shown in Table 1.

(6)外観
各実施例および各比較例の光透過性導電フィルムの表面を肉眼で観察した。フィルム表面に、シワやスジが完全に観察されなかった場合を◎と評価し、シワやスジがわずかに観察されたが、調光装置として支障が生じないレベルであった場合を〇と評価し、やや大きいシワやスジが観察されたが、調光装置として大きな支障が生じないレベルであった場合を△と評価し、調光装置として使用できないレベルのシワやスジが観察された場合を×と評価した。結果を表1に示す。
(6) Appearance The surface of the light-transmitting conductive film of each Example and each Comparative Example was observed with the naked eye. When wrinkles and streaks were not completely observed on the film surface, it was evaluated as ◎, and when wrinkles and streaks were slightly observed, it was evaluated as 〇 when it was at a level that did not cause any trouble as a dimming device. , Slightly large wrinkles and streaks were observed, but the case where the level did not cause a big problem as a dimming device was evaluated as △, and the case where wrinkles and streaks at a level that could not be used as a dimming device were observed was ×. I evaluated it. The results are shown in Table 1.

Figure 2019130842
Figure 2019130842

なお、上記発明は、本発明の例示の実施形態として提供したが、これは単なる例示に過ぎず、限定的に解釈してはならない。当該技術分野の当業者によって明らかな本発明の変形例は、後記請求の範囲に含まれる。 The above invention has been provided as an exemplary embodiment of the present invention, but this is merely an example and should not be construed in a limited manner. Modifications of the present invention that will be apparent to those skilled in the art are included in the claims below.

本発明の光透過性導電フィルムは、各種の工業製品に適用することができ、例えば、調光部材に備えられる調光フィルムや、画像表示装置に備えられるタッチパネル用基材などに好適に用いられる。 The light-transmitting conductive film of the present invention can be applied to various industrial products, and is preferably used, for example, as a light control film provided in a light control member, a touch panel base material provided in an image display device, or the like. ..

1 光透過性導電フィルム
2 基材フィルム
3 光透過性導電層
4 調光フィルム
5 調光機能層
6 調光部材
7 保護部材
1 Light-transmitting conductive film 2 Base film 3 Light-transmitting conductive layer 4 Dimming film 5 Dimming functional layer 6 Dimming member 7 Protective member

Claims (9)

第1方向と、前記第1方向と直交する第2方向とに延びる光透過性導電フィルムであって、
基材フィルムと、光透過性導電層とを備え、
前記光透過性導電フィルムを、20℃から160℃まで昇温した後20℃まで降温する熱機械分析工程を実施したときに、下記式に示される面内寸法変化率Rが、0.55%以下であることを特徴とする、光透過性導電フィルム。
R = (ΔL +ΔL 1/2
(ただし、ΔLは、前記第1方向における前記分析工程前後の寸法変化率(%)を示し、ΔLは、前記第2方向における前記分析工程前後の寸法変化率(%)を示す。)
A light-transmitting conductive film extending in a first direction and a second direction orthogonal to the first direction.
A base film and a light-transmitting conductive layer are provided.
When the thermomechanical analysis step of heating the light-transmitting conductive film from 20 ° C. to 160 ° C. and then lowering the temperature to 20 ° C. was carried out, the in-plane dimensional change rate R represented by the following formula was 0.55%. A light-transmitting conductive film characterized by the following.
R = (ΔL 1 2 + ΔL 2 2 ) 1/2
(However, ΔL 1 indicates the dimensional change rate (%) before and after the analysis step in the first direction, and ΔL 2 indicates the dimensional change rate (%) before and after the analysis step in the second direction.)
ΔLの絶対値、および、ΔLの絶対値が、両方とも、0.50以下であることを特徴とする、請求項1に記載の光透過性導電フィルム。The light-transmitting conductive film according to claim 1, wherein both the absolute value of ΔL 1 and the absolute value of ΔL 2 are 0.50 or less. ΔL、および、ΔLの少なくとも一方が、正の値であることを特徴とする、請求項1または2に記載の光透過性導電フィルム。The light-transmitting conductive film according to claim 1 or 2, wherein at least one of ΔL 1 and ΔL 2 has a positive value. ΔL、および、ΔLが、両方とも、正の値であることを特徴とする、請求項3に記載の光透過性導電フィルム。The light-transmitting conductive film according to claim 3, wherein both ΔL 1 and ΔL 2 have positive values. 前記基材フィルムは、大気環境下で加熱処理がなされたフィルムであることを特徴とする、請求項1または2に記載の光透過性導電フィルム。 The light-transmitting conductive film according to claim 1 or 2, wherein the base film is a film that has been heat-treated in an air environment. 前記基材フィルムは、ポリエステル系フィルムであることを特徴とする、請求項1または2に記載の光透過性導電フィルム。 The light-transmitting conductive film according to claim 1 or 2, wherein the base film is a polyester-based film. 第1の光透過性導電フィルムと、調光機能層と、第2の光透過性導電フィルムとを順に備え、
前記第1の光透過性導電フィルムおよび/または前記第2の光透過性導電フィルムは、請求項1〜6のいずれか一項に記載の光透過性導電フィルムであることを特徴とする、調光フィルム。
A first light-transmitting conductive film, a dimming function layer, and a second light-transmitting conductive film are provided in this order.
The adjustment, wherein the first light-transmitting conductive film and / or the second light-transmitting conductive film is the light-transmitting conductive film according to any one of claims 1 to 6. Optical film.
保護部材と、
前記保護部材に貼着される請求項7に記載の調光フィルムと
を備えることを特徴とする、調光部材。
Protective material and
A dimming member comprising the dimming film according to claim 7, which is attached to the protective member.
請求項1〜6のいずれか一項に記載の光透過性導電フィルムを製造する方法であって、
基材フィルムを大気環境下で加熱する工程、および、
次いで、前記基材フィルムを40℃未満の状態で、前記基材フィルムに光透過性導電層を設ける工程
を備えることを特徴とする、光透過性導電フィルムの製造方法。
The method for producing a light-transmitting conductive film according to any one of claims 1 to 6.
The process of heating the base film in an air environment, and
Next, a method for producing a light-transmitting conductive film, which comprises a step of providing a light-transmitting conductive layer on the base material film in a state where the base film is below 40 ° C.
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