JPWO2018194169A1 - 感光性樹脂組成物 - Google Patents
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Abstract
Description
より詳細には、高い撥水性と撥油性を硬化膜表面に有する画像を形成可能な感光性樹脂組成物及びその硬化膜、並びに該硬化膜を用いた各種材料に関する。このポジ型感光性樹脂組成物は、特に液晶ディスプレイやELディスプレイにおける層間絶縁膜、インクジェット方式に対応した遮光材料や隔壁材料として用いるのに好適である。
しかしインクジェット法でバンクに囲まれた領域にインク滴を滴下する場合、バンクを超えて隣の画素にインク滴が溢れる事態を防ぐため、基板には親インク性(親水性)を持たせ、バンク表面には撥水性を持たせる必要がある。
1.下記(A)成分、(B)成分、(C)溶剤及び(D)成分を含有する熱硬化可能な感光性樹脂組成物。
(A)成分:下記基(A1)及び(A2)を有する重合体
(A1)撥液性基
(A2)N−アルコキシメチルアミド基、ブロックイソシアネート基及びトリアルコキシシリル基から選ばれる基、
(B)成分:アルカリ可溶性樹脂、
(C)溶剤、
(D)成分:キノンジアジド基を有する化合物。
2.更に(A)成分が下記(A3)を有する重合体である上記1に記載の感光性樹脂組成物。
(A3):ヒドロキシ基、カルボキシル基、アミド基及びアミノ基からなる群から選ばれる少なくとも1つの基
3.更に下記(Z1)及び(Z2)の少なくとも一方を満足する上記1または2に記載の感光性樹脂組成物。
(Z1):(E)成分である架橋剤をさらに含有する、
(Z2):(B)成分のアルカリ可溶性樹脂が、自己架橋性基をさらに有するか、又はヒドロキシ基、カルボキシル基、アミド基及びアミノ基からなる群から選ばれる少なくとも1つの基と反応する基をさらに有する。
4.(A)成分の上記撥液性基が炭素原子数3乃至10のフルオロアルキル基、ポリフルオロエーテル基、シリルエーテル基及びポリシロキサン基から選ばれる少なくとも一種の基である上記1乃至3のいずれか1つに記載の感光性樹脂組成物。
5.(A)成分の重合体がアクリル重合体である上記1乃至4のいずれか1つに記載の感光性樹脂組成物。
6.(A)成分のアクリル重合体の数平均分子量がポリスチレン換算で2,000乃至100,000である上記5に記載の感光性樹脂組成物。
7.(B)成分のアルカリ可溶性樹脂の数平均分子量がポリスチレン換算で2,000乃至50,000である上記1乃至6のいずれか1つに記載の感光性樹脂組成物。
8.(B)成分100質量部に対して0.1質量部乃至20質量部の(A)成分を含有することを特徴とする上記1乃至7のいずれか1つに記載の感光性樹脂組成物。
9.(A)成分と(B)成分の合計100質量部に対して、(D)成分が5質量部乃至100質量部であることを特徴とする上記1乃至8のいずれか1つに記載の感光性樹脂組成物。
10.(A)成分と(B)成分の合計100質量部に対して、(E)成分が1質量部乃至50質量部であることを特徴とする上記3乃至9のいずれか1つに記載の感光性樹脂組成物。
11.上記1乃至10のいずれか1つに記載の感光性樹脂組成物を用いて得られる硬化膜。
12.上記11に記載の硬化膜を有する表示素子。
13.上記11に記載の硬化膜を画像形成用隔壁として有する表示素子。
(A)成分:下記基(A1)及び(A2)を有する重合体
(A1)撥液性基
(A2)N−アルコキシメチルアミド基、ブロックイソシアネート基及びトリアルコキシシリル基から選ばれる基、
(B)成分:アルカリ可溶性樹脂、
(C)溶剤、
(D)成分:キノンジアジド基を有する化合物。
(A3):ヒドロキシ基、カルボキシル基、アミド基及びアミノ基からなる群から選ばれる少なくとも1つの基
(Z1):(E)成分である架橋剤をさらに含有する、
(Z2):(B)成分のアルカリ可溶性樹脂が、自己架橋性基をさらに有するか、又はヒドロキシ基、カルボキシル基、アミド基及びアミノ基からなる群から選ばれる少なくとも1つの基と反応する基をさらに有する。
<(A)成分>
(A)成分は、下記基(A1)及び(A2)を有する重合体である。
(A1)撥液性基
(A2)N−アルコキシメチルアミド基、ブロックイソシアネート基及びトリアルコキシシリル基から選ばれる基
上記撥液性基としては、例えば、炭素原子数3乃至10のフルオロアルキル基、ポリフルオロエーテル基、シリルエーテル基及びポリシロキサン基から選ばれる少なくとも一種の基が挙げられる。
このようなフルオロアルキル基としては、2,2,2−トリフルオロエチル基、2,2,3,3,3−ペンタフルオロプロピル基、2−(パーフルオロブチル)エチル基、3−パーフルオロブチル−2−ヒドロキシプロピル基、2−(パーフルオロヘキシル)エチル基、3−パーフルオロヘキシル−2−ヒドロキシプロピル基、2−(パーフルオロオクチル)エチル基、3−パーフルオロオクチル−2−ヒドロキシプロピル基、2−(パーフルオロデシル)エチル基、2−(パーフルオロ−3−メチルブチル)エチル基、3−(パーフルオロ−3−メチルブチル)−2−ヒドロキシプロピル基、2−(パーフルオロ−5−メチルヘキシル)エチル基、2−(パーフルオロ−5−メチルヘキシル)−2−ヒドロキシプロピル基、2−(パーフルオロ−7−メチルオクチル)エチル基、及び2−(パーフルオロ−7−メチルオクチル)−2−ヒドロキシプロピル基、等が挙げられる。
−(X−O)n−Y ・・・式1
式1中、Xは、炭素原子数1乃至10の2価飽和炭化水素基又は炭素原子数1乃至10のフルオロ化された2価飽和炭化水素基であって、nで括られた単位毎に同一の基又は異なる基を示し、Yは、水素原子(Yに隣接する酸素原子に隣接する炭素原子にフッ素原子が結合していない場合に限る)、炭素原子数1乃至20の1価飽和炭化水素基又は炭素原子数1乃至20のフルオロ化された1価飽和炭化水素基を示し、nは2乃至50の整数を示す。ただし、式1におけるフッ素原子の総数は2以上である。
−Cp-1F2(p-1)−O−(CpF2p−O)n-1−CqF2q+1 ・・・式2
式2中、pは2又は3の整数を示し、nで括られた単位毎に同一の基であり、qは1乃至20の整数、nは2乃至50の整数を示す。
−CF2O(CF2CF2O)n-1CF3 (nは2乃至9)、
−CF(CF3)O(CF2CF(CF3)O)n-1C6F13 (nは2乃至6)、
−CF(CF3)O(CF2CF(CF3)O)n-1C3F7 (nは2乃至6)
が合成の容易さの点から好ましく挙げられる。
−X4−Si(O−SiX1X2X3)3
(式中、X1、X2、X3はそれぞれ独立して炭素原子数1乃至3のアルキル基を表し、X4は炭素原子数1乃至6のアルキレン基を表す。)
−(SiR1R2−O)n−SiR1R2R3 ・・・式3
(ただし、R1、R2は独立に水素、アルキル基、シクロアルキル基またはアリール基を表し、R3は水素または炭素原子数1乃至10の有機基を表し、nは1乃至200の整数を表す。)。
本発明の(A)成分である重合体にN−アルコキシメチルアミド基、ブロックイソシアネート基及びトリアルコキシシリル基から選ばれる基を導入するには、N−アルコキシメチルアミド基、ブロックイソシアネート基及びトリアルコキシシリル基から選ばれる基を有するモノマーを共重合させれば良い。
本発明の(A)成分である重合体に(A3)ヒドロキシ基、カルボキシル基、アミド基及びアミノ基からなる群から選ばれる少なくとも1つの基を導入するには、(A3)ヒドロキシ基、カルボキシル基、アミド基及びアミノ基からなる群から選ばれる少なくとも1つの基を有するモノマーを共重合させれば良い。
本発明においては、上記特定共重合体の粉体をそのまま用いても良く、あるいはその粉体を、たとえば後述する(C)溶剤に再溶解して溶液の状態として用いても良い。
本発明の(B)成分は、アルカリ可溶性基を有する樹脂である。アルカリ可溶性基としては、例えば、フェノール性ヒドロキシ基、カルボキシル基、酸無水物基、イミド基、スルホニル基、リン酸、ボロン酸及び活性メチレン基および活性メチン基が挙げられる。
そのようなアルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、n−プロピル基、i−プロピル基等が挙げられる。
その中でも、メチル基、エチル基、n−プロピル基等が好ましい。
そのようなアルコキシ基としては、例えば、メトキシ基、エトキシ基、n−プロポキシ基、i−プロポキシ基、n−ブトキシ基、i−ブトキシ基、s−ブトキシ基、t−ブトキシ基等が挙げられる。
その中でも、メトキシ基、エトキシ基及びn−プロポキシ基等が好ましい。
上記(B)成分のアルカリ可溶性樹脂は、斯かる構造を有するアルカリ可溶性樹脂であればよく、樹脂を構成する高分子の主鎖の骨格及び側鎖の種類などについて特に限定されない。
カルボキシル基を有するモノマーとしては、例えば、アクリル酸、メタクリル酸、クロトン酸、モノ−(2−(アクリロイルオキシ)エチル)フタレート、モノ−(2−(メタクリロイルオキシ)エチル)フタレート、N−(カルボキシフェニル)マレイミド、N−(カルボキシフェニル)メタクリルアミド、N−(カルボキシフェニル)アクリルアミド等が挙げられる。
等が挙げられる。
以下、当該その他モノマーの具体例を挙げるが、これらに限定されるものではない。
本発明においては、上記特定共重合体の粉体をそのまま用いても良く、あるいはその粉体を、たとえば後述する(C)溶剤に再溶解して溶液の状態として用いても良い。
これらは、1種単独で用いてもよく、又は2種以上の化合物を組み合わせて用いてもよい。
これらは、1種単独で用いてもよく、又は2種以上の化合物を組み合わせて用いてもよい。
このようなカルボン酸無水物の例としてはフタル酸無水物、トリメリット酸無水物、無水マレイン酸、ナフタル酸無水物、水素化フタル酸無水物、メチル−5−ノルボルネン−2,3−ジカルボン酸無水物、無水イタコン酸、テトラヒドロフタル酸無水物等を挙げることができる。
また、末端アミノ基を酸無水物で保護する場合の反応温度は−20℃乃至150℃、好ましくは−5℃乃至100℃の任意の温度を選択することができる。
ポリイミドへのカルボキシル基又はフェノール性ヒドロキシ基の導入方法は、カルボキシル基又はフェノール性ヒドロキシ基を有するモノマーを用いる方法、カルボキシル基又はフェノール性ヒドロキシ基を有する酸無水物でアミン末端を封止する方法、或いは、ポリアミド酸などのポリイミド前駆体をイミド化する際にイミド化率を99%以下にする方法等が用いられる。
化学イミド化の方法としては一般的にポリイミド前駆体溶液に過剰の無水酢酸およびピリジンを添加し室温から100℃で反応させる方法が用いられる。また、熱イミド化の方法としては一般的に、ポリイミド前駆体溶液を温度180℃乃至250℃で脱水しながら過熱する方法が用いられる。
酸二無水物としては、上記(a)テトラカルボン酸二無水物が挙げられる。
ジオールとしては、ビスフェノールA、ビスフェノールF、4,4’−ジヒドロキシビフェニル、ベンゼン−1,3−ジメタノール、ベンゼン−1,4−ジメタノール等の芳香族ジオール、水添ビスフェノールA、水添ビスフェノールF、1,4−シクロヘキサンジオール、1,3−シクロヘキサンジメタノール、1,4−シクロヘキサンジメタノール等の脂環族ジオール、及びエチレングリコール、プロピレングリコール、1,4−ブタンジオール、1,6−ヘキサンジオール等の脂肪族ジオール等が挙げられる。
本発明に用いる(C)溶剤は、(A)成分、(B)成分、及び必要に応じて後述の(D)成分、(E)成分を溶解し、且つ所望により添加される後述の(F)成分やその他添加剤などを溶解するものであり、斯様な溶解能を有する溶剤であれば、その種類及び構造などは特に限定されるものでない。
これら(C)溶剤の中、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、2−ヘプタノン、プロピレングリコールプロピルエーテル、プロピレングリコールプロピルエーテルアセテート、乳酸エチル、乳酸ブチル等が、塗膜性が良好で安全性が高いという観点より好ましい。これら溶剤は、一般にフォトレジスト材料のための溶剤として用いられている。
(D)成分である1,2−キノンジアジド化合物としては、水酸基又はアミノ基のいずれか一方か、水酸基及びアミノ基の両方を有する化合物であって、これらの水酸基又はアミノ基(水酸基とアミノ基の両方を有する場合は、それらの合計量)のうち、好ましくは10モル%乃至100モル%、特に好ましくは20モル%乃至95モル%が1,2−キノンジアジドスルホン酸でエステル化、またはアミド化された化合物を用いることができる。
上記1,2−キノンジアジドスルホン酸としては、例えば1,2−ナフトキノン−2−ジアジド−5−スルホン酸、1,2−ナフトキノン−2−ジアジド−4−スルホン酸、1,2−ベンゾキノン−2−ジアジド−4−スルホン酸等が挙げられ、前述のヒドロキシ基又はアミノ基のいずれか一方あるいは両方を有する化合物との反応では、該1,2−キノンジアジドスルホン酸の塩化物を用いることができる。
(E)成分は架橋剤であり、本発明のポジ型感光性樹脂組成物が要件(Z1)を満たす場合に組成物中に導入されるものである。より具体的には、(B)成分の熱反応性部位(たとえば、カルボキシル基及び/又はフェノール性水酸基)と熱反応により橋架け構造を形成しうる構造を有する化合物である。以下、具体例を挙げるがこれらに限定されるものではない。熱架橋剤は、例えば、(E1)アルコキシメチル基及びヒドロキシメチル基から選ばれる置換基を2個以上有する架橋性化合物や(E2)式(2)で表される架橋性化合物から選ばれるものが好ましい。これらの架橋剤は単独または2種以上の組み合わせで使用することができる。
更に、本発明のポジ型感光性樹脂組成物は、本発明の効果を損なわない限りにおいて、必要に応じて、レオロジー調整剤、顔料、染料、保存安定剤、消泡剤、密着促進剤、または多価フェノール、多価カルボン酸等の溶解促進剤等を含有することができる。
本発明の感光性樹脂組成物は、下記(A)成分、(B)成分、(C)溶剤及び(D)成分を含有する感光性樹脂組成物であり、且つ、所望により、(E)成分、及びその他添加剤のうち一種以上を更に含有することができる組成物である。
(A)成分:下記基(A1)及び(A2)を有する重合体
(A1)撥液性基
(A2)トリアルコキシシリル基、
(B)成分:アルカリ可溶性樹脂、
(C)溶剤、
(D)成分:キノンジアジド基を有する化合物。
(Z1):(E)成分である架橋剤をさらに含有する、
(Z2):(B)成分のアルカリ可溶性樹脂が、自己架橋性基をさらに有するか、又はヒドロキシ基、カルボキシル基、アミド基及びアミノ基からなる群から選ばれる少なくとも1つの基と反応する基をさらに有する。
[1]:(B)成分100質量部に対して0.1質量部乃至20質量部の(A)成分、5質量部乃至100質量部の(D)成分を含有し、これら成分が(C)溶剤に溶解された感光性樹脂組成物。
[2]:(B)成分100質量部に対して0.1質量部乃至20質量部の(A)成分、5質量部乃至100質量部の(D)成分を含有し、これら成分が(C)溶剤に溶解されたポジ型感光性樹脂組成物であって、(B)成分のアルカリ可溶性樹脂が、さらにエポキシ基を有する繰り返し単位を有するポジ型感光性樹脂組成物。
[3]:(B)成分100質量部に対して0.1質量部乃至20質量部の(A)成分、5質量部乃至100質量部の(D)成分を含有し、これら成分が(C)溶剤に溶解されたポジ型感光性樹脂組成物であって、さらに(E)成分である架橋剤を、(A)成分と(B)成分の合計の100質量部に対して1質量部乃至50質量部含有する感光性樹脂組成物。
本発明のポジ型感光性樹脂組成物を半導体基板(例えば、シリコン/二酸化シリコン被覆基板、シリコンナイトライド基板、金属例えばアルミニウム、モリブデン、クロムなどが被覆された基板、ガラス基板、石英基板、ITO基板等)の上に、回転塗布、流し塗布、ロール塗布、スリット塗布、スリットに続いた回転塗布、インクジェット塗布などによって塗布し、その後、ホットプレートまたはオーブン等で予備乾燥することにより、塗膜を形成することができる。その後、この塗膜を加熱処理することにより、ポジ型感光性樹脂膜が形成される。
本発明の硬化膜は、表示素子に有利に使用することができ、特に、表示素子の画像形成用隔壁として有利に使用し得る。
[重合体の分子量の測定]
重合体の数平均分子量及び重量平均分子量の測定は、装置として日本分光社製GPCシステムを用い、カラムとしてShodex(登録商標)KF−804L及び803Lを用い、下記の条件にて実施した。
カラムオーブン:40℃
流量:1ml/分
溶離液:テトラヒドロフラン
なお、下記の数平均分子量(以下、Mnと称す。)及び重量平均分子量(以下、Mwと称す。)は、ポリスチレン換算値にて表される。
MMA:メチルメタクリレート
HEMA:2−ヒドロキシエチルメタクリレート
HPMA:4−ヒドロキシフェニルメタクリレート
HPMA−QD:4−ヒドロキシフェニルメタクリレート1molと1,2−ナフトキノン−2−ジアジド−5−スルホニルクロリド1.1molとの縮合反応によって合成される化合物
CHMI:N−シクロヘキシルマレイミド
PFHMA:2−(パーフルオロヘキシル)エチルメタクリレート
TMSSMA:メタクリルオキシプロピルトリス(トリメチルシロキシ)シラン
MAA:メタクリル酸
MAAm:メタクリルアミド
BMAA:N−(ブトキシメチル)アクリルアミド
MOI−BM:メタクリル酸2−(0−[1’−メチルプロピリデンアミノ]カルボキシアミノ)エチル
KBM−503:3−メタクリロキシプロピルトリエトキシシラン
P11:ヒドロキシスチレン85%とスチレン15%の重合体と、ヒドロキシスチレン70%とスチレン30%の重合体とを3:7で混合したスチレン重合体
AIBN:α、α’−アゾビスイソブチロニトリル
QD:α、α、α’−トリス(4−ヒドロキシフェニル)−1−エチル−4−イソプロピルベンゼン1molと1,2−ナフトキノン−2−ジアジド−5−スルホニルクロリド2molとの縮合反応によって合成される化合物
GT−401:ブタンテトラカルボン酸 テトラ(3,4-エポキシシクロヘキシルメチル) 修飾ε-カプロラクトン
PGME:プロピレングリコールモノメチルエーテル
PGMEA:プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート
CHN:シクロヘキサノン
MIBK:メチルイソブチルケトン
DME:ジプロピレングリコールジメチルエーテル
TMAH:水酸化テトラメチルアンモニウム
PFHMA 5.00g、BMAA 1.82g、HEMA 1.00g、CHMI 1.38g、AIBN 0.46gをPGME 22.55gに溶解し、80℃にて20時間反応させることによりアクリル重合体溶液(固形分濃度30質量%)を得た(P1)。得られたアクリル重合体のMnは5000、Mwは6600であった。
PFHMA 5.00g、BMAA 1.82g、MAA 0.66g、CHMI 1.38g、AIBN 0.44gをPGME 21.72gに溶解し、80℃にて20時間反応させることによりアクリル重合体溶液(固形分濃度30質量%)を得た(P2)。得られたアクリル重合体のMnは5000、Mwは6700であった。
PFHMA 5.00g、MOI−BM 2.80g、HEMA 1.00g、CHMI 1.38g、AIBN 0.51gをPGME 24.96gに溶解し、80℃にて20時間反応させることによりアクリル重合体溶液(固形分濃度30質量%)を得た(P3)。得られたアクリル重合体のMnは5600、Mwは6900であった。
PFHMA 5.00g、MOI−BM 2.80g、MAAm 0.66g、CHMI 1.38g、AIBN 0.49gをPGME 24.11gに溶解し、80℃にて20時間反応させることによりアクリル重合体溶液(固形分濃度30質量%)を得た(P4)。得られたアクリル重合体のMnは5800、Mwは7600であった。
PFHMA 5.00g、KBM−503 2.87g、HEMA 1.00g、CHMI 1.38g、AIBN 0.51gをPGME 25.14gに溶解し、80℃にて20時間反応させることによりアクリル重合体溶液(固形分濃度30質量%)を得た(P5)。得られたアクリル重合体のMnは4900、Mwは6600であった。
PFHMA 5.00g、KBM−503 3.83g、HEMA 1.51g、AIBN 0.52gをPGME 25.32gに溶解し、80℃にて20時間反応させることによりアクリル重合体溶液(固形分濃度30質量%)を得た(P6)。得られたアクリル重合体のMnは4800、Mwは6700であった。
PFHMA 5.00g、MMA 1.16g、HEMA 1.00g、CHMI 1.38g、AIBN 0.43gをPGME 20.93gに溶解し、80℃にて20時間反応させることによりアクリル重合体溶液(固形分濃度30質量%)を得た(P7)。得られたアクリル重合体のMnは4800、Mwは6600であった。
PFHMA 5.00g、MAAm 0.98g、HEMA 1.00g、CHMI 1.38g、AIBN 0.42gをPGME 20.51gに溶解し、80℃にて20時間反応させることによりアクリル重合体溶液(固形分濃度30質量%)を得た(P8)。得られたアクリル重合体のMnは4900、Mwは6700であった。
MAA 90.00g、HEMA 225.00g、HPMA 45.00g、MMA 180・00g、CHMI 360.00g、AIBN 57.60gをPGME 1436.40gに溶解し、80℃にて20時間反応させることによりアクリル重合体溶液(固形分濃度40質量%)を得た(P9)。得られたアクリル重合体のMnは3100、Mwは6100であった。
MAA 100.00g、HEMA 188.89g、MMA 190.37g、CHMI 262.96g、AIBN 47.50gをPGME 1184.59gに溶解し、80℃にて20時間反応させることによりアクリル重合体溶液(固形分濃度40質量%)を得た(P10)。得られたアクリル重合体のMnは3800、Mwは7300であった。
HPMA−QD 2.50g、TMSSMA 2.58g、PFHMA 5.26g、MAA 0.70g、CHMI 1.46g、AIBN 0.33gをCHN 51.3gに溶解し、110℃にて20時間撹拌させることによりアクリル重合体溶液(固形分濃度20質量%)を得た(P12)。得られたアクリル重合体のMnは7,200、Mwは11,000であった。
PFHMA 5.00g、BMAA 3.03g、CHMI 1.38g、AIBN 0.47gをPGME 23.06gに溶解し、80℃にて20時間反応させることによりアクリル重合体溶液(固形分濃度30質量%)を得た(P13)。得られたアクリル重合体のMnは3900、Mwは6900であった。
PFHMA 5.00g、KBM−503 6.70g、AIBN 0.59gをPGME 28.68gに溶解し、80℃にて20時間反応させることによりアクリル重合体溶液(固形分濃度30質量%)を得た(P14)。得られたアクリル重合体のMnは6700、Mwは9800であった。
表1に示す組成で(A)乃至(E)の各成分及び溶剤を混合し、最終組成物の固形分濃度が21.0質量%となるように溶剤の添加量を調整することで実施例1乃至13、比較例1乃至2の感光性樹脂組成物を調製した。また、最終組成物の固形分濃度が17.0の質量%となるように溶剤の添加量を調整することで実施例14乃至18、比較例3の感光性樹脂組成物を調製した。なお、表1中の組成比は固形分での比を表すものとする。
ポジ型感光性樹脂組成物をITO−ガラス上にスピンコーターを用いて塗布した後、温度100℃で120秒間ホットプレート上においてプリベークを行い、膜厚1.7μmの塗膜を形成した。この塗膜に長さ50μm、幅100μmの長方形パターンが、バンク幅が30μmとなるように碁盤目状に形成されたマスクを介しキヤノン(株)製紫外線照射装置PLA−600FAにより365nmにおける光強度が5.5mW/cm2の紫外線を一定時間照射した。その後2.58%TMAH水溶液に20秒間浸漬することで現像を行った後、超純水で20秒間流水洗浄を行った。次いでこの長方形パターンが形成された塗膜を温度230℃で30分間加熱することによりポストベークを行い硬化させた。得られた硬化膜の長方形開口部上にクラスターテクノロジー(株)製 Inkjet Designerを用いて駆動波形:B、繰り返し周波数:1kHz、駆動電圧:8Vで約20plの溶液を吐出した。吐出溶液は特願2016−141326、実施例1−1に記載の溶液を使用した。得られた結果を表2に示す。
Claims (13)
- 下記(A)成分、(B)成分、(C)溶剤及び(D)成分を含有する熱硬化可能な感光性樹脂組成物。
(A)成分:下記基(A1)及び(A2)を有する重合体
(A1)撥液性基
(A2)N−アルコキシメチルアミド基、ブロックイソシアネート基及びトリアルコキシシリル基から選ばれる基、
(B)成分:アルカリ可溶性樹脂、
(C)溶剤、
(D)成分:キノンジアジド基を有する化合物。 - 更に(A)成分が下記(A3)を有する重合体である請求項1に記載の感光性樹脂組成物。
(A3):ヒドロキシ基、カルボキシル基、アミド基及びアミノ基からなる群から選ばれる少なくとも1つの基 - 更に下記(Z1)及び(Z2)の少なくとも一方を満足する請求項1または2に記載の感光性樹脂組成物。
(Z1):(E)成分である架橋剤をさらに含有する、
(Z2):(B)成分のアルカリ可溶性樹脂が、自己架橋性基をさらに有するか、又はヒドロキシ基、カルボキシル基、アミド基及びアミノ基からなる群から選ばれる少なくとも1つの基と反応する基をさらに有する。 - (A)成分の上記撥液性基が炭素原子数3乃至10のフルオロアルキル基、ポリフルオロエーテル基、シリルエーテル基及びポリシロキサン基から選ばれる少なくとも一種の基である請求項1乃至3のいずれか一項に記載の感光性樹脂組成物。
- (A)成分の重合体がアクリル重合体である請求項1乃至4のいずれか一項に記載の感光性樹脂組成物。
- (A)成分のアクリル重合体の数平均分子量がポリスチレン換算で2,000乃至100,000である請求項5に記載の感光性樹脂組成物。
- (B)成分のアルカリ可溶性樹脂の数平均分子量がポリスチレン換算で2,000乃至50,000である請求項1乃至6のいずれか一項に記載の感光性樹脂組成物。
- (B)成分100質量部に対して0.1質量部乃至20質量部の(A)成分を含有することを特徴とする請求項1乃至7のいずれか一項に記載の感光性樹脂組成物。
- (A)成分と(B)成分の合計100質量部に対して、(D)成分が5質量部乃至100質量部であることを特徴とする請求項1乃至8のいずれか一項に記載の感光性樹脂組成物。
- (A)成分と(B)成分の合計100質量部に対して、(E)成分が1質量部乃至50質量部であることを特徴とする請求項3乃至9のいずれか一項に記載の感光性樹脂組成物。
- 請求項1乃至10のいずれか一項に記載の感光性樹脂組成物を用いて得られる硬化膜。
- 請求項11に記載の硬化膜を有する表示素子。
- 請求項11に記載の硬化膜を画像形成用隔壁として有する表示素子。
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