JPWO2018066629A1 - 銅化合物−グラフェンオキサイド複合体 - Google Patents
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Abstract
水素の製造に使用することができる、新規な銅化合物−グラフェンオキサイド複合体を提供する。銅化合物とグラフェンオキサイドとの複合体であって、赤外吸収スペクトルにおいて、O−H基及びC=O基に由来する吸収が実質上存在せず、C−O基に由来する吸収が存在する、銅化合物−グラフェンオキサイド複合体。
Description
本発明は、銅化合物−グラフェンオキサイド複合体に関する。
従来、太陽光等の光エネルギーを利用して、水やアルコール等から水素を発生させる技術が知られており、このような技術には、光触媒が使用されている(例えば、特許文献1を参照)。光触媒としては、助触媒として白金等を使用する酸化チタン等の金属酸化物半導体や、白金、ルテニウム、コバルト、ニッケル等を用いた金属錯体等が知られており、これらを用いて水素発生効率を高める技術が広く研究されている。
また、グラフェンオキサイド上に半導体酸化チタンと銅とを担持した光水素発生触媒および白金、銅酸化物、グラフェンオキサイドを組み合わせた半導体を光水素発生電極として用いる方法が知られている(非特許文献1および2)。
Journal Materials Chemistry, 22, 18542−18549, 2012
Nanoscale, 4, 3875−3878, 2012
本発明は、水素の製造に使用することができる、新規な銅化合物−グラフェンオキサイド複合体を提供することを主な目的とする。また、本発明は、当該複合体を含む光触媒、当該複合体の製造方法、当該複合体を触媒として備える水素製造装置、及び当該複合体を含む、水の分解反応に使用する電極を提供することも目的とする。
本発明者らは、水素発生効率に優れた新規な物質について鋭意検討を重ねた。その結果、銅化合物とグラフェンオキサイドとの複合体であって、赤外吸収スペクトルにおいて、O−H基及びC=O基に由来する吸収が実質上存在せず、C−O基に由来する吸収が存在する、銅化合物−グラフェンオキサイド複合体を、光触媒として用いると、水などの水素源から効率的に水素を製造できることを見出した。本発明は、これらの知見に基づいて、さらに検討を重ねることにより、完成したものである。
本発明によれば、水素の製造に使用することができる、新規な銅化合物−グラフェンオキサイド複合体を提供することができる。また、本発明によれば、当該複合体を含む光触媒、当該複合体の製造方法、当該複合体を触媒として備える水素製造装置、及び当該複合体を含む、水の分解反応に使用する電極を提供することもできる。
すなわち、本発明は、下記に掲げる態様の発明を提供する。
項1. 銅化合物とグラフェンオキサイドとの複合体であって、
赤外吸収スペクトルにおいて、O−H基及びC=O基に由来する吸収が実質上存在せず、C−O基に由来する吸収が存在する、銅化合物−グラフェンオキサイド複合体。
項2. 粒子径0.06μm以上のCu2O粒子が、前記グラフェンオキサイドの表面に担持されている、項1に記載の銅化合物−グラフェンオキサイド複合体。
項3. 走査型電子顕微鏡/エネルギー分散型分光法による、銅化合物−グラフェンオキサイド複合体の表面に関する元素分析測定結果から算出される、前記Cu2O粒子が確認できない部分における銅の含有量が、0.1〜50質量%である、項1または2に記載の銅化合物−グラフェンオキサイド複合体。
項4. 一次粒子径が、100μm以下である、項1〜3のいずれか1項に記載の銅化合物−グラフェンオキサイド複合体。
項5. 前記グラフェンオキサイドの表面において、走査型電子顕微鏡/エネルギー分散型分光法及び透過型電子顕微鏡/エネルギー分散型分光法による分析により、前記Cu2O粒子が確認できない部分に、粒子径が10nm以下の銅化合物粒子がさらに担持されている、項1〜4のいずれか1項に記載の銅化合物−グラフェンオキサイド複合体。
項6. 原料とする銅化合物と、グラフェンオキサイドとを、不活性溶媒中で混合して懸濁液を調製する工程と、
前記懸濁液に、波長が100nm〜800nmの範囲にある光を照射する工程
を備える、銅化合物−グラフェンオキサイド複合体の製造方法。
項7. 前記原料とする銅化合物が、銅と無機酸との塩、銅とカルボン酸との塩、銅とスルホン酸との塩、水酸化銅、銅複塩、及び銅錯体の少なくとも1種である、項6に記載の銅化合物−グラフェンオキサイド複合体の製造方法。
項8. 項1〜5のいずれか1項に記載の銅化合物−グラフェンオキサイド複合体を含む、光触媒。
項9. 項1〜5のいずれか1項に記載の銅化合物−グラフェンオキサイド複合体の存在下、水及びアルコールの少なくとも一方を含む水素源に光を照射する工程を備える、水素の製造方法。
項10. 前記における照射光として、太陽光及び白色LED光の少なくとも一方を用いる、項9に記載の水素の製造方法。
項11. 項1〜5のいずれか1項に記載の銅化合物−グラフェンオキサイド複合体を触媒として備える、水素製造装置。
項1. 銅化合物とグラフェンオキサイドとの複合体であって、
赤外吸収スペクトルにおいて、O−H基及びC=O基に由来する吸収が実質上存在せず、C−O基に由来する吸収が存在する、銅化合物−グラフェンオキサイド複合体。
項2. 粒子径0.06μm以上のCu2O粒子が、前記グラフェンオキサイドの表面に担持されている、項1に記載の銅化合物−グラフェンオキサイド複合体。
項3. 走査型電子顕微鏡/エネルギー分散型分光法による、銅化合物−グラフェンオキサイド複合体の表面に関する元素分析測定結果から算出される、前記Cu2O粒子が確認できない部分における銅の含有量が、0.1〜50質量%である、項1または2に記載の銅化合物−グラフェンオキサイド複合体。
項4. 一次粒子径が、100μm以下である、項1〜3のいずれか1項に記載の銅化合物−グラフェンオキサイド複合体。
項5. 前記グラフェンオキサイドの表面において、走査型電子顕微鏡/エネルギー分散型分光法及び透過型電子顕微鏡/エネルギー分散型分光法による分析により、前記Cu2O粒子が確認できない部分に、粒子径が10nm以下の銅化合物粒子がさらに担持されている、項1〜4のいずれか1項に記載の銅化合物−グラフェンオキサイド複合体。
項6. 原料とする銅化合物と、グラフェンオキサイドとを、不活性溶媒中で混合して懸濁液を調製する工程と、
前記懸濁液に、波長が100nm〜800nmの範囲にある光を照射する工程
を備える、銅化合物−グラフェンオキサイド複合体の製造方法。
項7. 前記原料とする銅化合物が、銅と無機酸との塩、銅とカルボン酸との塩、銅とスルホン酸との塩、水酸化銅、銅複塩、及び銅錯体の少なくとも1種である、項6に記載の銅化合物−グラフェンオキサイド複合体の製造方法。
項8. 項1〜5のいずれか1項に記載の銅化合物−グラフェンオキサイド複合体を含む、光触媒。
項9. 項1〜5のいずれか1項に記載の銅化合物−グラフェンオキサイド複合体の存在下、水及びアルコールの少なくとも一方を含む水素源に光を照射する工程を備える、水素の製造方法。
項10. 前記における照射光として、太陽光及び白色LED光の少なくとも一方を用いる、項9に記載の水素の製造方法。
項11. 項1〜5のいずれか1項に記載の銅化合物−グラフェンオキサイド複合体を触媒として備える、水素製造装置。
1.銅化合物−グラフェンオキサイド複合体
本発明の銅化合物−グラフェンオキサイド複合体は、銅化合物と、グラフェンオキサイドとの複合体である。さらに、本発明の銅化合物−グラフェンオキサイド複合体は、赤外吸収スペクトルにおいて、O−H基及びC=O基に由来する吸収が実質上存在せず、C−O基に由来する吸収が存在することを特徴としている。以下、本発明の銅化合物−グラフェンオキサイド複合体について、詳述する。
本発明の銅化合物−グラフェンオキサイド複合体は、銅化合物と、グラフェンオキサイドとの複合体である。さらに、本発明の銅化合物−グラフェンオキサイド複合体は、赤外吸収スペクトルにおいて、O−H基及びC=O基に由来する吸収が実質上存在せず、C−O基に由来する吸収が存在することを特徴としている。以下、本発明の銅化合物−グラフェンオキサイド複合体について、詳述する。
本発明の銅化合物−グラフェンオキサイド複合体において、銅化合物は、好ましくは粒子状である。また、当該銅化合物は、好ましくは、グラフェンオキサイドの表面に分散して担持されている。本発明の銅化合物−グラフェンオキサイド複合体に含まれる、銅化合物は、1種類であってもよいし、2種類以上であってもよい。
本発明の銅化合物−グラフェンオキサイド複合体におけるCu2O粒子とは、Cu2Oを主な構成成分とする銅化合物の粒子を意味し、当該粒子におけるCu2Oの含有量としては、通常50質量%以上、好ましくは60質量%以上、より好ましくは70質量%以上をあげることができる。本発明の銅化合物−グラフェンオキサイド複合体においては、Cu2Oを主構成成分とする銅化合物の粒子が、グラフェンオキサイドの表面に担持されている構造を備えていることが好ましい。Cu2O粒子の粒子径としては、好ましくは0.06μm〜5μm程度、より好ましくは0.06μm〜3μm程度が挙げられる。なお、当該粒子の粒子径は、本発明の銅化合物−グラフェンオキサイド複合体について、走査型電子顕微鏡/エネルギー分散型分光法(SEM/EDX)及び透過型電子顕微鏡/エネルギー分散型分光法(TEM/EDX)で観察して測定され得る値である。
また、本発明の銅化合物−グラフェンオキサイド複合体の表面のうち、走査型電子顕微鏡/エネルギー分散型分光法(SEM/EDX)及び透過型電子顕微鏡/エネルギー分散型分光法(TEM/EDX)による分析により、前記のCu2Oを主な構成成分とする銅化合物の粒子が確認できない部分には、ナノメートルサイズ(例えば、後述10nm以下)のアモルファスの銅化合物粒子がさらに担持されていることが好ましい。
上記アモルファスの銅化合物粒子の粒子径としては、水素製造効率を高める観点から、好ましくは10nm以下、より好ましくは5nm以下、さらに好ましくは4nm以下、特に好ましくは3nm以下が挙げられる。なお、当該銅化合物粒子の粒子径は、本発明の銅化合物−グラフェンオキサイド複合体について、透過型電子顕微鏡/エネルギー分散型分光法(TEM/EDX)等で観察して推定される値である。
当該銅化合物粒子としては、特に制限されないが、水素製造効率を高める観点から、好ましくは銅酸化物、より好ましくは1価の銅酸化物などが挙げられる。銅化合物−グラフェンオキサイド複合体に含まれる銅化合物は、1種類であってもよいし、2種類以上であってもよい。
なお、本発明の銅化合物−グラフェンオキサイド複合体には、銅化合物が金属銅を含んでいてもよく、金属銅が部分的に担持された銅化合物−グラフェンオキサイド複合体も本発明の範囲に含まれるものである。
本発明の銅化合物−グラフェンオキサイド複合体において、銅化合物の含有量としては、特に制限されない。本発明の銅化合物−グラフェンオキサイド複合体による水素製造効率を高める観点からは、走査型電子顕微鏡/エネルギー分散型分光法(SEM/EDX)による、銅化合物−グラフェンオキサイド複合体の表面に関する元素分析測定結果から算出される、Cu2O粒子が確認できない部分における銅の含有量が、0.1〜50質量%であることが好ましく、0.5〜50質量%であることがより好ましく、2〜50質量%であることがさらに好ましい。
本発明の銅化合物−グラフェンオキサイド複合体に含まれるグラフェンオキサイドは、グラフェンの酸化物である。グラフェンオキサイドとしては、例えば、市販品やグラファイトもしくはグラフェンを酸化することにより製造されたものを用いることができ、好ましくは、グラファイトを酸化することにより製造されたもの(例えば、グラファイトを硫酸や過マンガン酸カリウム等を用いて酸化して、製造されたもの)である。
グラフェンオキサイドの市販品としては、例えば、酸化グラフェン粉末、酸化グラフェン、還元的酸化グラフェン、高比表面積グラフェンナノパウダーとして販売されているものを用いることができ、具体的には、Sigma Aldrich社などから市販されているものを使用することができる。なお、グラファイトを、硫酸を用いて酸化した場合には、得られるグラフェンオキサイドには、微量の硫黄が存在する。このため、当該グラフェンオキサイドを用いて製造された、銅化合物−グラフェンオキサイド複合体中にも、通常、微量の硫黄が存在する。本発明の銅化合物−グラフェンオキサイド複合体には、グラフェンオキサイドの製造過程で発生する微量の硫黄等が含まれていてもよい。
グラフェンオキサイドの製造に用いられるグラファイトは、本発明の複合体に適しているものであれば、いずれのものを用いてもよい。グラファイトの形状としては、例えば、球状グラファイト、粒状グラファイト、鱗状グラファイト、鱗片状グラファイト、及び粉末グラファイトを使用することができ、銅化合物の担持のしやすさや触媒活性から、鱗状グラファイト、鱗片状グラファイトの使用が好ましい。具体的には、ナカライテスク社製の粉末グラファイト、イーエムジャパン社の高比表面積グラフェンナノパウダーなど、市販されているものを使用することができる。当該グラファイトの一次粒子径としては、好ましくは0.1〜100μm程度、より好ましくは0.5〜80μm程度、さらに好ましくは2〜40μm程度が挙げられる。
本発明の銅化合物−グラフェンオキサイド複合体において、グラフェンオキサイドの一次粒子径としては、好ましくは0.1〜100μm程度、より好ましくは0.5〜80μm程度、さらに好ましくは2〜40μm程度が挙げられる。また、本発明の銅化合物−グラフェンオキサイド複合体の一次粒子径としては、好ましくは0.1〜100μm程度、より好ましくは0.5〜80μm程度、さらに好ましくは2〜40μm程度が挙げられる。これらの粒子径は、走査型電子顕微鏡(SEM)写真によって確認することができる。
グラフェンオキサイドの組成式は、例えば、[CxOyHz]kで表すことができる。ここで、好ましくは、xは5〜12であり、yは2〜8であり、zは2〜10であり、kは8〜15であり、より好ましくは、xは6〜10であり、yは3〜6であり、zは2〜5であり、kは10〜13である。
また、グラフェンオキサイドの分子量としては、好ましくは500〜5000程度、より好ましくは800〜4000程度、さらに好ましくは1500〜3000程度、特に好ましくは2000〜2500程度が挙げられる。
本発明の銅化合物−グラフェンオキサイド複合体においては、好ましくは、上記粒子径0.06μm以上のCu2Oを主な構成成分とする銅化合物の粒子と、上記ナノサイズ(例えば、10nm以下)の銅化合物粒子とが、ミクロンサイズ(例えば、0.1〜100μm)のグラフェンオキサイドの表面に担持されており、この一次粒子が凝集した粒子状態を形成している。
本発明の銅化合物−グラフェンオキサイド複合体は、赤外吸収スペクトルにおいて、O−H基及びC=O基に由来する吸収が実質上存在せず、C−O基に由来する吸収が存在している。より具体的には、本発明の銅化合物−グラフェンオキサイド複合体の赤外吸収スペクトルを測定した場合に、O−H基(ヒドロキシ基)に由来する吸収(3000cm-1〜3800cm-1のブロードな吸収)、C=O基(カルボニル基)に由来する吸収(1700cm-1付近の吸収)が実質的に存在せず、C−O基に由来する吸収(930cm-1〜1310cm-1の範囲の吸収)が存在する。
このように、本発明の銅化合物−グラフェンオキサイド複合体においては、グラフェンオキサイドの炭素原子に結合している酸素は、水酸基またはカルボニル基ではなく、実質的にC−O基であるといえる。
なお、本発明の銅化合物−グラフェンオキサイド複合体の赤外吸収スペクトルを測定した場合に、僅かにヒドロキシ基やカルボニル基の吸収が存在していてもよい。すなわち、本発明において、前述の吸収が実質的に存在しないとは、C−O基に由来する吸収のピーク高に対する、これらの吸収のピーク高の相対比が、0.1以下であることを意味する。
本発明の銅化合物−グラフェンオキサイド複合体における銅化合物は、アモルファス構造であってもよく、また結晶構造を有してもよい。結晶構造を有する場合には、粉末X線回折測定における2θ=20°以上に、前記Cu2Oを主な構成成分とする銅化合物の粒子を含む銅化合物の結晶に基づくシグナルを有していることが好ましい。
本発明の銅化合物−グラフェンオキサイド複合体の製造方法としては、特に制限されないが、例えば、結晶構造を有する銅化合物−グラフェンオキサイド複合体は以下の「2.銅化合物−グラフェンオキサイド複合体の製造方法」の欄に記載の方法により、製造することができる。
2.銅化合物−グラフェンオキサイド複合体の製造方法
本発明の銅化合物−グラフェンオキサイド複合体の製造方法は、以下の工程1及び工程2を備えていることを特徴としている。以下、本発明の製造方法について、詳述する。
工程1:原料とする銅化合物と、グラフェンオキサイドとを、不活性溶媒中で混合して懸濁液を調製する工程。
工程2:懸濁液に、波長が100nm〜800nmの範囲にある光を照射する工程。
本発明の銅化合物−グラフェンオキサイド複合体の製造方法は、以下の工程1及び工程2を備えていることを特徴としている。以下、本発明の製造方法について、詳述する。
工程1:原料とする銅化合物と、グラフェンオキサイドとを、不活性溶媒中で混合して懸濁液を調製する工程。
工程2:懸濁液に、波長が100nm〜800nmの範囲にある光を照射する工程。
(工程1)
工程1は、原料とする銅化合物(銅化合物原料)と、グラフェンオキサイドとを、不活性溶媒中で混合して懸濁液を調製する工程である。
工程1は、原料とする銅化合物(銅化合物原料)と、グラフェンオキサイドとを、不活性溶媒中で混合して懸濁液を調製する工程である。
工程1において、銅化合物原料としては、後述の工程2を経て、前述の銅化合物−グラフェンオキサイド複合体を形成できるものであれば、特に制限されない。銅化合物原料は、1種類単独で使用してもよいし、2種類以上を組み合わせて使用してもよい。
原料とする銅化合物の具体例としては、銅と無機酸との塩、銅とカルボン酸との塩、銅とスルホン酸との塩、水酸化銅、銅複塩、銅錯体などが挙げられる。好ましくは酢酸銅(II)、塩化銅などが挙げられる。原料とする銅化合物としては、1種類単独で使用してもよいし、2種類以上を組み合わせて使用してもよい。
また、グラフェンオキサイドとしては、前述の「1.銅化合物−グラフェンオキサイド複合体」の欄に記載したものを使用することができる。
銅化合物原料とグラフェンオキサイドとの混合割合は、特に制限されず、目的とする銅化合物−グラフェンオキサイド複合体の組成に応じて、適宜設定することができる。例えば、前述のように、走査型電子顕微鏡/エネルギー分散型分光法による、銅化合物−グラフェンオキサイド複合体の表面に関する元素分析測定結果から算出される、Cu2O粒子が確認できない部分における銅の含有量が、0.1〜50質量%となるようにする観点からは、グラフェンオキサイド100質量部に対して、銅化合物原料を100質量部程度使用すればよい。
不活性溶媒としては、特に限定されないが、例えば、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル類;メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール等のアルコール類;酢酸エチル、酢酸プロピル等のエステル類;ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド等のアミド類;ジメチルスルホキシド等のスルホキシド類;水;又はこれらの混合溶媒などが挙げられ、好ましくは、エーテル類、アルコール類、アミド類、水又はこれらの混合溶媒などが挙げられ、さらに好まくは、テトラヒドロフラン、エタノール、ジメチルホルムアミド、水又はこれらの1種以上の混合溶媒などが挙げられる。
(工程2)
工程2は、工程1で調製した懸濁液に、波長が100nm〜800nmの範囲にある光を照射する工程である。工程2において、懸濁液には、波長が100nm〜800nmの範囲にある光、より具体的には紫外光を含む光、さらには紫外光のみを照射してもよいし、可視光、赤外光などの他の波長の光を照射してもよい。すなわち、波長が100nm〜800nmの範囲にある光の中でも、紫外光を含む光であることが好ましく、紫外光に加えて、可視光や赤外光などの他の波長の光を含む光であることも好ましく、紫外光のみを含む光であることも好ましい。また、波長が100nm〜800nmの範囲にある光に加えて、波長が当該範囲外にある光をさらに照射してもよい。本工程で実際に使用し得る光としては、水銀灯の光(例えば高圧水銀灯光)などを具体例としてあげることができる。
工程2は、工程1で調製した懸濁液に、波長が100nm〜800nmの範囲にある光を照射する工程である。工程2において、懸濁液には、波長が100nm〜800nmの範囲にある光、より具体的には紫外光を含む光、さらには紫外光のみを照射してもよいし、可視光、赤外光などの他の波長の光を照射してもよい。すなわち、波長が100nm〜800nmの範囲にある光の中でも、紫外光を含む光であることが好ましく、紫外光に加えて、可視光や赤外光などの他の波長の光を含む光であることも好ましく、紫外光のみを含む光であることも好ましい。また、波長が100nm〜800nmの範囲にある光に加えて、波長が当該範囲外にある光をさらに照射してもよい。本工程で実際に使用し得る光としては、水銀灯の光(例えば高圧水銀灯光)などを具体例としてあげることができる。
工程2で懸濁液に照射する光の波長としては、100〜800nm程度、好ましくは180〜600nm程度が挙げられ、波長がこのような範囲であり、紫外光の波長の光を含むことが望ましい。
また、工程2において、波長が100nm〜800nmの範囲にある光を照射して反応を進行させる際の温度としては、光の波長や照射時間等に応じて適宜調整すればよいが、通常、0℃〜50℃程度、好ましくは10℃〜30℃程度、より好ましくは20℃〜30℃が挙げられる。
また、工程2において、波長が100nm〜800nmの範囲にある光を照射する時間としては、光の波長や温度等に応じて適宜調整すればよいが、通常、1分間〜24時間程度、好ましくは10分間〜10時間程度、より好ましくは30分間〜5時間程度が挙げられる。
工程2により、懸濁液中に、本発明の銅化合物−グラフェンオキサイド複合体が生成する。
本発明の製造方法おいて、工程1及び工程2は、不活性ガス(例えば、窒素ガス、アルゴンガス等)の雰囲気下に行うことが好ましい。
本発明の製造方法においては、工程2の後に、さらに、得られた銅化合物−グラフェンオキサイド複合体を単離する工程を備えていてもよい。単離工程は、常法によって行うことができる。例えば、得られた銅化合物−グラフェンオキサイド複合体を、濾取、洗浄、乾燥して単離することができる。
また、アモルファス構造を有する本発明の銅化合物−グラフェンオキサイド複合体は、例えば、上記の「2.銅化合物−グラフェンオキサイド複合体の製造方法」の工程1において、懸濁液の調製に使用されるグラフェンオキサイドとして、乾燥工程を経ていない懸濁液の状態のグラフェンオキサイドを用いることにより、好適に製造することができる。なお、当該工程1において、懸濁液の調製に使用されるグラフェンオキサイドとして、乾燥工程を経たものを用いると、前述の結晶構造を有する銅化合物−グラフェンオキサイド複合体を好適に製造することができる。
3.銅化合物−グラフェンオキサイド複合体の用途
(1)光触媒としての用途
本発明の銅化合物−グラフェンオキサイド複合体を光触媒として用いることにより、水やエタノールなどの水素源から、水素を製造することができる。
(1)光触媒としての用途
本発明の銅化合物−グラフェンオキサイド複合体を光触媒として用いることにより、水やエタノールなどの水素源から、水素を製造することができる。
本発明の銅化合物−グラフェンオキサイド複合体を光触媒として用いる場合、銅化合物−グラフェンオキサイド複合体を含む光触媒の存在下、例えば、水及びアルコールの少なくとも一方を含む水素源に、光照射する方法により、水素を製造することができる。
水素製造の原料となる水素源としては、水及びアルコールの少なくとも一方が挙げられる。水素源の具体例としては、水、メタノール、エタノール、プロパノール等のアルコール類又はそれらの混合物が挙げられ、好ましくは、水、エタノール、それらの混合物などが挙げられ、特に好ましくは、水などが挙げられる。また、水としては、例えば、水道水、蒸留水、イオン交換水、純水、工業用水等が挙げられ、好ましくは、水道水、蒸留水、工業用水などが挙げられる。水素源は、1種類のみを用いてもよいし、2種類以上を混合して用いてもよい。
照射する光は、例えば、太陽光、白色LED光、蛍光灯光、水銀灯の光(例えば高圧水銀灯光)などが挙げられ、好ましくは、太陽光、白色LED光が挙げられる。照射する光は、1種類のみを用いてもよいし、2種類以上を混合して用いてもよい。
水素製造の原料である水素源に対する光触媒の割合としては、通常、0.0001〜5質量%程度、好ましくは0.001〜1質量%程度、より好ましくは0.01〜0.1質量%程度が挙げられる。
本発明の銅化合物−グラフェンオキサイド複合体は、水素源中に分散させてもよいし、例えば、当該複合体を担体に担持させて、水素源中に存在させてもよい。担体に担持させる態様としては、例えば、ガラス、プラスチック製等の透明な板等を担体とし、樹脂系の接着剤等を用いて銅化合物−グラフェンオキサイド複合体を担持させてもいい。
水素の製造においては、本発明の銅化合物−グラフェンオキサイド複合体と、水及びアルコールの少なくとも一方の水素源に加えて、例えば、光増感剤、電子供与剤などの反応助剤を用いてもよい。
反応助剤として使用される光増感剤としては、公知の光増感剤を使用することができる。光増感剤としては、例えば、芳香族炭化水素系色素(例えば、クマリン、フルオレセイン、ジブロモフルオレセイン、エオシンY、エオシンB、エリトロシンB、ローダミンB、ローズベンガル、クリスタルバイオレッド、マラカイトグリーン、オーラミンO、アクリジンオレンジ、ブリリアントクレイスルブルー、ニュートラルレッド、チオニン、メチレンブルー、オレンジII、インジゴ、アリザリン、ピナシアノール、ベルベリン、テトラサイクリン、パープリン、チアゾールオレンジ等)、ピリリウム塩系色素(例えば、ピリリウム、チオピリリウム、セレノピリリウム等)、シアニン系色素、オキソノール系色素、メロシアニン系色素、トリアリルカルボニウム系色素等);フラーレン誘導体(例えば、水酸化フラーレン、アミノ酪酸フラーレン、アミノカプロン酸フラーレン、カルボン酸フラーレン、ビスマロン酸ジエチルフラーレン、ビスマロン酸エチルフラーレン等);ポルフィリン、フタロシアニン類縁体(例えば、フォトフリン、レザフィリン、ビスダイン、ヘマトポルフィリン、デュートロポルフィリンIX−2,4−ジ−アクリン酸、デュートロポルフィリンIX−2,4−ジ−スルホン酸、2,4−ジアセチルデュートロポルフィリンIX、TSPP、フタロシアニンテトラカルボン酸、フタロシアニンジスルホン酸、フタロシアニンテトラスルホン酸、それらの亜鉛、銅、カドミウム、コバルト、マグネシウム、アルミニウム、白金、パラジウム、ガリウム、ゲルマニウム、シリカ、錫等の金属錯体等);金属錯体系色素(例えば、ルテニウム−ビピリジン錯体、ルテニウム−フェナントロリン錯体、ルテニウム−ビピラジン錯体、ルテニウム−4,7−ジフェニルフェナントロリン錯体、ルテニウム−ジフェニル−フェナントロリン−4,7−ジスルホネイト錯体、白金−ジピリジルアミン錯体、パラジウム−ジピリジルアミン錯体等)などが挙げられる。これらの中でも、好ましくはフルオレセイン、ジブロモフルオレセインなどが挙げられ、より好ましくはフルオレセインが挙げられる。光増感剤は、1種類単独で使用してもよいし、2種類以上を組み合わせて使用してもよい。
光増感剤の使用量としては、光触媒1質量部に対して、好ましくは0.1〜100質量部程度、より好ましくは1〜10質量部が挙げられる。
また、電子供与体は、前述の光増感剤に電子を供与できる化合物であり、例えば、トリエチルアミン、トリエタノールアミン、エチレンジアミン四酢酸(EDTA)、アスコルビン酸等が挙げられ、好ましくは、トリエチルアミン、トリエタノールアミンなどが挙げられる。電子供与体は、1種類単独で使用してもよいし、2種類以上を組み合わせて使用してもよい。
電子供与体の使用量としては、例えば、光触媒1質量部に対して、好ましくは10〜1000質量部程度、より好ましくは100〜750質量部程度が挙げられる。
反応温度としては、例えば0〜60℃程度、より好ましくは20〜50℃程度が挙げられる。また、光触媒に光を照射している間は、継続して水素が製造されるため、水素を製造する時間に応じて、光を照射すればよい。
製造した水素は、ガス導出管などを通して、外部に継続的に導出できるので、必要に応じて、ボンベ等に入れ、保存・運搬等ができる。
本発明の銅化合物−グラフェンオキサイド複合体を触媒とすることにより、これを備える水素製造装置が好適に得られる。
(2)電極の有効成分としての用途
また、本発明の銅化合物−グラフェンオキサイド複合体は、電極材料として用いることもできる。電極材料を用いた電極は、常法により製造することができる。
また、本発明の銅化合物−グラフェンオキサイド複合体は、電極材料として用いることもできる。電極材料を用いた電極は、常法により製造することができる。
本発明の電極は、実質的に、本発明の銅化合物−グラフェンオキサイド複合体のみによって構成してもよいし(該複合体を実質的に有効成分として含有してもよいし)、電極の表面を本発明の複合体により構成し、内部を他の金属等により構成してもよい。
さらに、本発明の電極は、その電極の大きさ、形状等を、公知の(水素発生)電極と同様とすることができ、水の電気分解に使用される公知の電極の代替として使用することができる。
さらにまた、本発明の(水素発生)電極は、安価で製造することができ、なおかつ、水素発生効率が高いため、水素の製造コストを大幅に低減することが可能となる。
以上に加え、本発明の複合体は、特別な装置や煩雑な方法を使用することなく、簡便な装置や方法により極めて容易に製造することが可能であり、製造方法としての操作の容易性やコスト面で極めて優れたものである。また、本発明の複合体は、上記のごとく結晶を有する複合体或いはアモルファス状複合体として製造し得るものであり、それぞれの複合体を選択的に製造することも可能である。更に加えて、本発明の複合体は、構成する銅化合物が酸化されにくく、複合体としての安定性や、更には光触媒としての安定性、即ち触媒能を長期間発揮する能力等において優れた性質を有するものである。
以下に、実施例を示して、本発明をより具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されない。
[合成例−1] グラフェンオキサイドの合成
第一工程
500cm3の一口ナスフラスコに濃硫酸(95〜98%、133cm3)とグラファイト(Graphite flakes、ナカライテスク社製)(1.01g)を加え、室温(約20℃)で、15分間攪拌した。次に、KMnO4(1.04g)を加え、室温(約20℃)で、約1日攪拌した。さらに、KMnO4(1.03g)を加え、室温(約20℃)で、約1日攪拌した。さらにまた、KMnO4(1.04g)を加え、室温(約20℃)で、約1日攪拌した。最後に、KMnO4(1.03g)を加え、室温(約20℃)で、約1日攪拌して、淡紫色の懸濁液を得た。
第一工程
500cm3の一口ナスフラスコに濃硫酸(95〜98%、133cm3)とグラファイト(Graphite flakes、ナカライテスク社製)(1.01g)を加え、室温(約20℃)で、15分間攪拌した。次に、KMnO4(1.04g)を加え、室温(約20℃)で、約1日攪拌した。さらに、KMnO4(1.03g)を加え、室温(約20℃)で、約1日攪拌した。さらにまた、KMnO4(1.04g)を加え、室温(約20℃)で、約1日攪拌した。最後に、KMnO4(1.03g)を加え、室温(約20℃)で、約1日攪拌して、淡紫色の懸濁液を得た。
第二工程
次に、ビーカーに氷(100cm3)を入れ、上記の淡紫色の液体をゆっくりと注ぎ入れた。さらに、このビーカーを氷浴で冷却しながら、30%H2O2水溶液を淡紫色が淡緑色になるまでゆっくり加えた。得られた懸濁液を遠心管に小分けに入れ、遠心分離した(2600×g、3時間)。上澄み液を取り除き、沈殿物を水で洗った後、遠心分離した(2600×g、30分間)。上澄み液を取り除き、沈殿物を5%HCl水溶液で洗浄した後、遠心分離した(2600×g、30分間)。同様に、上澄み液を取り除き、沈殿物をエタノールで洗浄した後、遠心分離した(2600×g、30分間)。さらに、上澄み液を取り除き、沈殿物をエタノールで洗浄した後、遠心分離した(2600×g、30分間)。最後に、上澄み液を取り除き、沈殿物をジエチルエーテルで洗浄した後、濾取し、デシケータで減圧乾燥することにより、茶色固体のグラフェンオキサイドを得た(収量 1.80g)。
次に、ビーカーに氷(100cm3)を入れ、上記の淡紫色の液体をゆっくりと注ぎ入れた。さらに、このビーカーを氷浴で冷却しながら、30%H2O2水溶液を淡紫色が淡緑色になるまでゆっくり加えた。得られた懸濁液を遠心管に小分けに入れ、遠心分離した(2600×g、3時間)。上澄み液を取り除き、沈殿物を水で洗った後、遠心分離した(2600×g、30分間)。上澄み液を取り除き、沈殿物を5%HCl水溶液で洗浄した後、遠心分離した(2600×g、30分間)。同様に、上澄み液を取り除き、沈殿物をエタノールで洗浄した後、遠心分離した(2600×g、30分間)。さらに、上澄み液を取り除き、沈殿物をエタノールで洗浄した後、遠心分離した(2600×g、30分間)。最後に、上澄み液を取り除き、沈殿物をジエチルエーテルで洗浄した後、濾取し、デシケータで減圧乾燥することにより、茶色固体のグラフェンオキサイドを得た(収量 1.80g)。
得られたグラフェンオキサイドについて、Bruker Daltonics社製のSolarixを用いて、マトリックス支援レーザー脱離イオン化法(MALDI)、フーリエ変換イオンサイクロトロン共鳴質量分析(FT−ICR−MS分析)を行った。結果を図1に示す。図1から、最大ピーク付近(分子量2000付近)におけるグラフェンオキサイドの化学種は[C8O4H3]12.3であることが確認された。
得られたグラフェンオキサイドの、紫外可視吸収スペクトル(日本分光株式会社製、UV/VIS/NIR Spectrophotometer V−570)を図2に、粉末X線回折((株)リガク社製、デスクトップX線回折装置MiniFlex600)を図3に示す。
[合成例−2] グラフェンオキサイド懸濁液の合成
合成例1の第一工程で得られた淡紫色懸濁液を、氷(100cm3)を入れたビーカーにゆっくりと注ぎ入れた。さらに、このビーカーを氷浴で冷却しながら、30%H2O2水溶液を淡紫色が淡緑色になるまでゆっくり加えた。得られた懸濁液を遠心管に小分けし、遠心分離した(18800×g、20分間)。上澄み液を取り除き、沈殿物を水で洗った後、遠心分離した(18800×g、20分間)。上澄み液を取り除き、沈殿物を5%HCl水溶液で洗浄した後、遠心分離した(18800×g、20分間)。同様に、上澄み液を取り除き、沈殿物を水で洗浄した後、遠心分離した(18800×g、20分間)。さらに、上澄み液を取り除き、沈殿物を水で洗浄した後、遠心分離した(18800×g、20分間)。最後に、上澄み液を取り除き、得られた沈殿物を水で希釈し、グラフェンオキサイドの懸濁液を得た(懸濁液1cm3に含まれるグラフェンオキサイドは約7.2mgになるよう調製)。
合成例1の第一工程で得られた淡紫色懸濁液を、氷(100cm3)を入れたビーカーにゆっくりと注ぎ入れた。さらに、このビーカーを氷浴で冷却しながら、30%H2O2水溶液を淡紫色が淡緑色になるまでゆっくり加えた。得られた懸濁液を遠心管に小分けし、遠心分離した(18800×g、20分間)。上澄み液を取り除き、沈殿物を水で洗った後、遠心分離した(18800×g、20分間)。上澄み液を取り除き、沈殿物を5%HCl水溶液で洗浄した後、遠心分離した(18800×g、20分間)。同様に、上澄み液を取り除き、沈殿物を水で洗浄した後、遠心分離した(18800×g、20分間)。さらに、上澄み液を取り除き、沈殿物を水で洗浄した後、遠心分離した(18800×g、20分間)。最後に、上澄み液を取り除き、得られた沈殿物を水で希釈し、グラフェンオキサイドの懸濁液を得た(懸濁液1cm3に含まれるグラフェンオキサイドは約7.2mgになるよう調製)。
[実施例1] 銅化合物−グラフェンオキサイド複合体の合成1
図4(a)に示す構成の装置を用いて、銅化合物−グラフェンオキサイド複合体を合成した。本装置は、硬質ガラス製の容器(1)に、撹拌子及び、不活性ガスの導入口(3)及び導出口(4)を備えている。また、硬質ガラス製の容器(1)の内部に、石英ガラス製の冷却ジャケット(5)で覆った100W高圧水銀灯(セン特殊光源株式会社、HL100CH−4)(2)を備えている。冷却ジャケット(5)には循環型冷却装置が接続されており、冷却水が流れる。
図4(a)に示す構成の装置を用いて、銅化合物−グラフェンオキサイド複合体を合成した。本装置は、硬質ガラス製の容器(1)に、撹拌子及び、不活性ガスの導入口(3)及び導出口(4)を備えている。また、硬質ガラス製の容器(1)の内部に、石英ガラス製の冷却ジャケット(5)で覆った100W高圧水銀灯(セン特殊光源株式会社、HL100CH−4)(2)を備えている。冷却ジャケット(5)には循環型冷却装置が接続されており、冷却水が流れる。
容器(1)の内部を窒素ガス雰囲気下とし、上記の合成例−1の第二工程で得られた乾燥固体状のグラフェンオキサイド(0.50g)及び50%エタノール水溶液の懸濁液に、酢酸銅・一水和物(0.50g)を加え、室温(25℃)下、10分間攪拌した。次に、懸濁液中に窒素ガスをバブリングしながら、高圧水銀灯(2)を用いて光照射した(1.5時間)。照射した光の波長は、180〜600nmである。また、光照射中、冷却ジャケット(5)には30℃の冷却水を流し続けた。光照射により、懸濁液は茶色から黒色に変化した。次に、窒素ガス雰囲気下において、得られた反応液を濾過し、黒色固体を得た。この黒色固体を水とエタノールを用いて洗浄した後、デシケータを用いて減圧乾燥することにより、銅化合物−グラフェンオキサイド複合体(黒色粉末、0.55g)を得た。
[実施例2] 銅化合物−グラフェンオキサイド複合体の合成2
実施例1同様に図4(a)に示す構成の装置を用いた。容器(1)の内部を窒素ガス雰囲気下とし、合成例−2で得られたグラフェンオキサイド懸濁液(50cm3)に、酢酸銅・一水和物(0.30g)を用いて調製した水溶液(50cm3)を加え、室温(25℃)下、20分間攪拌した。次に、懸濁液中に窒素ガスをバブリングしながら、高圧水銀灯(2)を用いて光照射した(1.5時間)。照射した光の波長は、180〜600nmである。また、光照射中、冷却ジャケット(5)には30℃の冷却水を流し続けた。光照射により、懸濁液は茶色から黒色に変化した。次に、窒素ガス雰囲気下において、得られた反応液を濾過し、黒色固体を得た。この黒色固体を水とエタノールを用いて洗浄した後、デシケータを用いて減圧乾燥することにより、銅化合物−グラフェンオキサイド複合体(黒色粉末、0.28g)を得た。
実施例1同様に図4(a)に示す構成の装置を用いた。容器(1)の内部を窒素ガス雰囲気下とし、合成例−2で得られたグラフェンオキサイド懸濁液(50cm3)に、酢酸銅・一水和物(0.30g)を用いて調製した水溶液(50cm3)を加え、室温(25℃)下、20分間攪拌した。次に、懸濁液中に窒素ガスをバブリングしながら、高圧水銀灯(2)を用いて光照射した(1.5時間)。照射した光の波長は、180〜600nmである。また、光照射中、冷却ジャケット(5)には30℃の冷却水を流し続けた。光照射により、懸濁液は茶色から黒色に変化した。次に、窒素ガス雰囲気下において、得られた反応液を濾過し、黒色固体を得た。この黒色固体を水とエタノールを用いて洗浄した後、デシケータを用いて減圧乾燥することにより、銅化合物−グラフェンオキサイド複合体(黒色粉末、0.28g)を得た。
[参考例] 鉄化合物−グラフェンオキサイド複合体の合成
実施例1とほぼ同じ構成の装置を用いて、鉄化合物−グラフェンオキサイド複合体を合成した。使用した反応装置は、図4(b)に示されるように、硬質ガラス製の容器(3)に、バブラー付き窒素供給ライン(1)、反応液の逆流止め(2)、撹拌子、不活性ガス導入口、及び導出口を有している。また、硬質ガラス製の容器(3)の外部に、石英ジャケット付き水銀ランプ(USHIO450W高圧水銀灯(4))及び循環型冷却装置付水浴(5)を備えている。容器(3)の内部を窒素ガス雰囲気下とし、上記[合成例]の方法で得られたグラフェンオキサイド(0.18g)及びFe(CO)5(0.18g)をテトラヒドロフラン(THF、20cm3、脱酸素処理済み)中に加え、室温(25℃)下、10分間攪拌した。次に、懸濁液中に窒素ガスをバブリングしながら、高圧水銀灯(4)を用いて光照射した(1.5時間)。照射した光の波長は、260〜600nmである。また、容器(3)は、循環型冷却装置付水浴(5)を用いて外部から冷却した。水浴の温度は30℃に保った。光照射により、懸濁液は茶色から黒色に変化した。次に、窒素ガス雰囲気下において、得られた反応液を濾取し、黒色固体を得た。この黒色固体をTHF(10cm3)、ジクロロメタン(10cm3)及びエーテル(10cm3)で洗浄したのち、減圧乾燥することにより、鉄化合物−グラフェンオキサイド複合体を得た(黒色粉末、0.16g)。
実施例1とほぼ同じ構成の装置を用いて、鉄化合物−グラフェンオキサイド複合体を合成した。使用した反応装置は、図4(b)に示されるように、硬質ガラス製の容器(3)に、バブラー付き窒素供給ライン(1)、反応液の逆流止め(2)、撹拌子、不活性ガス導入口、及び導出口を有している。また、硬質ガラス製の容器(3)の外部に、石英ジャケット付き水銀ランプ(USHIO450W高圧水銀灯(4))及び循環型冷却装置付水浴(5)を備えている。容器(3)の内部を窒素ガス雰囲気下とし、上記[合成例]の方法で得られたグラフェンオキサイド(0.18g)及びFe(CO)5(0.18g)をテトラヒドロフラン(THF、20cm3、脱酸素処理済み)中に加え、室温(25℃)下、10分間攪拌した。次に、懸濁液中に窒素ガスをバブリングしながら、高圧水銀灯(4)を用いて光照射した(1.5時間)。照射した光の波長は、260〜600nmである。また、容器(3)は、循環型冷却装置付水浴(5)を用いて外部から冷却した。水浴の温度は30℃に保った。光照射により、懸濁液は茶色から黒色に変化した。次に、窒素ガス雰囲気下において、得られた反応液を濾取し、黒色固体を得た。この黒色固体をTHF(10cm3)、ジクロロメタン(10cm3)及びエーテル(10cm3)で洗浄したのち、減圧乾燥することにより、鉄化合物−グラフェンオキサイド複合体を得た(黒色粉末、0.16g)。
<赤外吸収スペクトルの測定>
実施例1及び参考例で得られた各金属化合物−グラフェンオキサイド複合体について、FT−IR Spectrometer FT/IR−6200(日本分光株式会社製)を用いて、赤外吸収スペクトル(IR)をATR法により測定した。実施例1で得られた銅化合物−グラフェンオキサイド複合体の赤外吸収スペクトルを図5に示す(Cu−GO)。また、図6には、上記で得られたグラフェンオキサイドの赤外吸収スペクトル(GO)を示す。なお、参考例で得られた鉄化合物−グラフェンオキサイド複合体の赤外吸収スペクトル(Fe−GO)は、図5及び図6に併記した。
実施例1及び参考例で得られた各金属化合物−グラフェンオキサイド複合体について、FT−IR Spectrometer FT/IR−6200(日本分光株式会社製)を用いて、赤外吸収スペクトル(IR)をATR法により測定した。実施例1で得られた銅化合物−グラフェンオキサイド複合体の赤外吸収スペクトルを図5に示す(Cu−GO)。また、図6には、上記で得られたグラフェンオキサイドの赤外吸収スペクトル(GO)を示す。なお、参考例で得られた鉄化合物−グラフェンオキサイド複合体の赤外吸収スペクトル(Fe−GO)は、図5及び図6に併記した。
なお、図5に示されるCu−GO及びFe−GOのスペクトルにおいて、原料であるグラフェンオキサイドの赤外吸収スペクトル(図6)で確認されたO−H基に由来する、3000−3800cm-1のブロードな吸収並びにC=O基に由来する1700cm-1付近の吸収が消失し(C−O基に由来する吸収のピーク高に対する、これらの吸収のピーク高の相対比が0.1以下である)、C−O基に由来する吸収(930cm-1〜1310cm-1の範囲の吸収)が残存したままである。このことから、実施例1及び参考例で得られた各複合体においては、原料であるグラフェンオキサイドのカルボキシル基と水酸基が消失し、C−O基は残存していることが分かる。
<粉末X線回折測定>
実施例1及び参考例で得られた各金属化合物−グラフェンオキサイド複合体について、デスクトップX線回折装置MiniFlex600((株)リガク社製)を用いて、粉末X線回折(XRD)測定を行った。実施例1で得られた銅化合物−グラフェンオキサイド複合体のXRDスペクトル(Cu−GO)を図7に示す。参考例で得られた鉄化合物−グラフェンオキサイド複合体のXRDスペクトルを図8に示す。
実施例1及び参考例で得られた各金属化合物−グラフェンオキサイド複合体について、デスクトップX線回折装置MiniFlex600((株)リガク社製)を用いて、粉末X線回折(XRD)測定を行った。実施例1で得られた銅化合物−グラフェンオキサイド複合体のXRDスペクトル(Cu−GO)を図7に示す。参考例で得られた鉄化合物−グラフェンオキサイド複合体のXRDスペクトルを図8に示す。
図7及び図8のXRDスペクトルから明らかな通り、実施例1及び参考例で得られた各金属化合物−グラフェンオキサイド複合体は、2θ=9.65°に比較的シャープなシグナルを有しており、グラフェンオキサイドの層間秩序は部分的に保たれていることが分かる。また、図7のXRDスペクトルから明らかな通り、実施例1で得られた銅化合物−グラフェンオキサイド複合体は、2θ=20°以上にCu2Oの結晶に基づくシグナルを有していることが分かる。なお、粉末X線回折測定の比較から、これらの複合体中におけるグラフェンオキサイドは、原料に用いたグラフェンオキサイドよりも全体がアモルファスに変化していることも分かる。
また、実施例2で得られた銅化合物−グラフェンオキサイド複合体について、上記と同様にしてXRD測定を行った。結果を図7Aに示す。図7Aに示されるように、実施例2で得られた銅化合物−グラフェンオキサイド複合体は、結晶性のピークが観測されなかった。この結果は同複合体に担持された銅化合物がアモルファス状態であることを示す。
<走査型電子顕微鏡/エネルギー分散型分光法による分析>
実施例1で得られた銅化合物−グラフェンオキサイド複合体の表面について、株式会社日立ハイテクノロジーズ社製の走査型電子顕微鏡SU6600及びブルッカー社製の付属装置(ブルッカーASX QUANTAX XFlash 5060FQ:エネルギー分散型分光法)を用いて、それぞれSEM画像および各原子のマッピング画像の観察、元素分析を行った。試料は炭素テープに貼付けて、測定を行った。
実施例1で得られた銅化合物−グラフェンオキサイド複合体の表面について、株式会社日立ハイテクノロジーズ社製の走査型電子顕微鏡SU6600及びブルッカー社製の付属装置(ブルッカーASX QUANTAX XFlash 5060FQ:エネルギー分散型分光法)を用いて、それぞれSEM画像および各原子のマッピング画像の観察、元素分析を行った。試料は炭素テープに貼付けて、測定を行った。
実施例1で得られた銅化合物−グラフェンオキサイド複合体のSEM画像を図9に示す。また、銅原子のマッピング画像(Cu−L)(なお、白く表示されている部分が銅原子の存在する場所である)、酸素原子のマッピング画像(O−K)(なお、白く表示されている部分が酸素原子の存在する場所である)、及び炭素原子のマッピング画像(C−K)(なお、白く表示されている部分が炭素原子の存在する場所である)を並べて図10に示す。
また、実施例1で得られた銅化合物−グラフェンオキサイド複合体の組成を、走査型電子顕微鏡/エネルギー分散型分光法(SEM/EDX)を用いた元素分析により測定した。具体的には、走査型電子顕微鏡/エネルギー分散型分光法及び透過型電子顕微鏡/エネルギー分散型分光法による分析により、前記Cu2O粒子が確認できない部分について、組成を元素分析により測定した。Cu2Oが粒子として存在している部分は、TEM画像及びSEM画像と、これらの元素マッピングによって確認することができる。その結果、実施例1で得られた銅化合物−グラフェンオキサイド複合体の当該部分においては、Cが48.95質量%、Oが26.96質量%、Cuが23.06質量%、Sが0.39質量%であった。なお、硫黄(S)は、グラフェンオキサイドに含まれている不純物である。
実施例2で得られた銅化合物−グラフェンオキサイド複合体の表面について、実施例1の複合体の試験同様に、それぞれSEM画像および各原子のマッピング画像の観察、元素分析を行った。試料は炭素テープに貼付けて、測定を行った。
実施例2で得られた銅化合物−グラフェンオキサイド複合体のSEM画像を図9Aに示す。また、銅原子のマッピング画像(Cu−L)(なお、白く表示されている部分が銅原子の存在する場所である)、酸素原子のマッピング画像(O−K)(なお、白く表示されている部分が酸素原子の存在する場所である)、及び炭素原子のマッピング画像(C−K)(なお、白く表示されている部分が炭素原子の存在する場所である)を並べて図10Aに示す。
また、実施例2で得られた銅化合物−グラフェンオキサイド複合体の組成を、走査型電子顕微鏡/エネルギー分散型分光法(SEM/EDX)を用いた元素分析により測定した。具体的には、走査型電子顕微鏡/エネルギー分散型分光法及び透過型電子顕微鏡/エネルギー分散型分光法による分析により、図10Bの白線で囲った領域2における炭素、酸素、銅、他の元素の含有量(質量)を測定した。結果を以下に示す。その結果、実施例2で得られた銅化合物−グラフェンオキサイド複合体の当該部分においては、Cが48.91質量%、Oが31.50質量%、Cuが18.22質量%、Sが1.25質量%であった。なお、硫黄(S)は、グラフェンオキサイドに含まれている不純物である。
<透過型電子顕微鏡/エネルギー分散型分光法による分析>
実施例1で得られた銅化合物−グラフェンオキサイド複合体の表面について、日本電子株式会社製、JEOL、FEG 透過型電子顕微鏡(300kV)を用いて、エネルギー分散型分光法(TEM/EDX)により観察した。
実施例1で得られた銅化合物−グラフェンオキサイド複合体の表面について、日本電子株式会社製、JEOL、FEG 透過型電子顕微鏡(300kV)を用いて、エネルギー分散型分光法(TEM/EDX)により観察した。
実施例1で得られた銅化合物−グラフェンオキサイド複合体の4種の倍率における各TEM画像を図11に示す。また、TEM画像(BF)と、銅原子のマッピング画像(Cu−K)と、酸素原子のマッピング画像(O−K)と、炭素原子のマッピング画像(C−K)を並べて図12に示す。
図11及び図12から、実施例1で得られた銅化合物−グラフェンオキサイド複合体においては、それぞれ、0.06μm以上の粒子径のCu2Oがグラフェンオキサイドの表面に担持されており、さらに、銅原子と酸素原子が、グラフェンオキサイドの表面に均一性高く分散して担持されていることが分かる。この銅原子と酸素原子は、同じ場所に存在していることから、多くが、10nm以下の銅化合物(銅酸化物)としてグラフェンオキサイドの表面に存在していることが分かる。
[試験例1] 水素の製造
実施例1及び参考例で得られた各金属化合物−グラフェンオキサイド複合体を光触媒として用いて、水及びエタノールから水素の製造を行った。反応装置として、図13の写真で示される装置を用いた。この装置は、バイアル[1](30cm3)に、セプタム栓[2]、および白色LED[3](OSW4XME3ClE、 Optosupply)を備えている。
実施例1及び参考例で得られた各金属化合物−グラフェンオキサイド複合体を光触媒として用いて、水及びエタノールから水素の製造を行った。反応装置として、図13の写真で示される装置を用いた。この装置は、バイアル[1](30cm3)に、セプタム栓[2]、および白色LED[3](OSW4XME3ClE、 Optosupply)を備えている。
まず、実施例1、実施例2及び参考例の各金属化合物−グラフェンオキサイド複合体(1mg(実施例2)または1.5mg(実施例1及び参考例))、フルオレセイン(6.6mg)、トリエチルアミン(5%v/v)、エタノール及び水(エタノールと水の体積比=1:1)を混合した(混合液A1)。混合液A1(10cm3)をバイアル(30cm3)に入れて、セプタム栓をして、スターラーで攪拌しながら、20℃において、このバイアルに白色LED光(OSW4XME3ClE、Optosupply)を照射した。光照射後、一定時間ごとに(1.5時間後、3時間後、4.5時間後、6時間後)、バイアル中の空間の気体0.1cm3をガスタイトシリンジで採取し、採取した気体中の水素の量をガスクロマトグラフィー(装置:GL Science(株)製、GC−3200、カラム:ジーエルサイエンス(株)製、Molecular Sieve 13X 60/80、外径=1/8インチ、内径=2.2mm、長さ=4m、カラム温度:60℃、TCD温度:60℃、インジェクター温度:60℃、キャリアガス:窒素ガス、TCD電流:60mA、カラム圧力:200kPa)を用いて定量した。バイアル中の空間の体積(セプタム栓と溶液を除くバイアルの容積)が20cm3であることから、以下の式により、光照射時間と発生した水素の総量との関係を算出した。なお、ガスクロマトグラフのピーク面積を水素の体積に換算する際は、気体発生によるバイアル内の圧力の変化は無視した。
(採取した気体中の水素の量)×200≒(系から発生した水素の総量)
(採取した気体中の水素の量)×200≒(系から発生した水素の総量)
実施例1で得られた銅化合物−グラフェンオキサイド複合体(Cu−GO)を用いた場合の光照射時間と発生した水素の総量との関係を示すグラフを図14に示す。また、参考例で得られた鉄化合物−グラフェンオキサイド複合体(Fe−GO)を用いた場合の光照射時間と発生した水素の総量との関係示すグラフを図14に併記した。また、図14のグラフにおいては、4回の実験の平均値を標準誤差と共に示した。
図14に示される結果から、本発明の銅化合物−グラフェンオキサイド複合体は、水素を発生させる光触媒として優れていることが分かる。
実施例2で得られた銅化合物−グラフェンオキサイド複合体を光触媒として用いて、水及びエタノールから水素の製造を行った。結果を図14Aに示す。図14Aに示される結果から、本発明の銅化合物−グラフェンオキサイド複合体は、アモルファス状でも水素を発生させる光触媒として優れていることが確認された。
Claims (11)
- 銅化合物とグラフェンオキサイドとの複合体であって、
赤外吸収スペクトルにおいて、O−H基及びC=O基に由来する吸収が実質上存在せず、C−O基に由来する吸収が存在する、銅化合物−グラフェンオキサイド複合体。 - 粒子径0.06μm以上のCu2O粒子が、前記グラフェンオキサイドの表面に担持されている、請求項1に記載の銅化合物−グラフェンオキサイド複合体。
- 走査型電子顕微鏡/エネルギー分散型分光法による、銅化合物−グラフェンオキサイド複合体の表面に関する元素分析測定結果から算出される、Cu2O粒子が確認できない部分における銅の含有量が、0.1〜50質量%である、請求項1または2に記載の銅化合物−グラフェンオキサイド複合体。
- 一次粒子径が、100μm以下である、請求項1〜3のいずれか1項に記載の銅化合物−グラフェンオキサイド複合体。
- 前記グラフェンオキサイドの表面において、走査型電子顕微鏡/エネルギー分散型分光法及び透過型電子顕微鏡/エネルギー分散型分光法による分析により、前記Cu2O粒子が確認できない部分に、粒子径が10nm以下の銅化合物粒子がさらに担持されている、請求項1〜4のいずれか1項に記載の銅化合物−グラフェンオキサイド複合体。
- 原料とする銅化合物と、グラフェンオキサイドとを、不活性溶媒中で混合して懸濁液を調製する工程と、
前記懸濁液に、波長が100nm〜800nmの範囲にある光を照射する工程
を備える、銅化合物−グラフェンオキサイド複合体の製造方法。 - 前記原料とする銅化合物が、銅と無機酸との塩、銅とカルボン酸との塩、銅とスルホン酸との塩、水酸化銅、銅複塩、及び銅錯体の少なくとも1種である、請求項6に記載の銅化合物−グラフェンオキサイド複合体の製造方法。
- 請求項1〜5のいずれか1項に記載の銅化合物−グラフェンオキサイド複合体を含む、光触媒。
- 請求項1〜5のいずれか1項に記載の銅化合物−グラフェンオキサイド複合体の存在下、水及びアルコールの少なくとも一方を含む水素源に光を照射する工程を備える、水素の製造方法。
- 前記における照射光として、太陽光及び白色LED光の少なくとも一方を用いる、請求項9に記載の水素の製造方法。
- 請求項1〜5のいずれか1項に記載の銅化合物−グラフェンオキサイド複合体を触媒として備える、水素製造装置。
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