JPWO2017183496A1 - Curable composition, cured film and overcoat film using the composition - Google Patents

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Abstract

[課題]フレキシブル配線板の保護膜を形成したときに、高温・高湿下で、高い電気絶縁信頼性を維持しながら、反りが十分に抑制されるとともに、耐屈曲性にも優れる熱硬化性樹脂組成物を提供すること。
[解決手段]本発明の硬化性組成物は、(成分A) 特定の構造単位を有し、かつイミド結合およびアミド結合の少なくとも1方の結合を有し、かつ硬化剤と反応する官能基を有する化合物、(成分B) 硬化剤、および(成分C) 有機溶媒を含有する。(成分A)が、(原料a)酸無水物基を有する3価および/または4価のポリカルボン酸誘導体、(原料b)下記式(2)で表されるポリオール、および(原料c)ポリイソシアネートを必須成分に用いて反応させて得られる化合物を含有することが好ましい。
[Problem] When a protective film for a flexible wiring board is formed, while maintaining high electrical insulation reliability at high temperatures and high humidity, warping is sufficiently suppressed and thermosetting is also excellent in bending resistance To provide a resin composition.
[Solution] The curable composition of the present invention comprises (Component A) a functional group having a specific structural unit, having at least one of an imide bond and an amide bond, and reacting with a curing agent. A compound having (Component B) a curing agent, and (Component C) an organic solvent. (Component A) is (raw material a) a trivalent and / or tetravalent polycarboxylic acid derivative having an acid anhydride group, (raw material b) a polyol represented by the following formula (2), and (raw material c) poly It is preferable to contain the compound obtained by making it react using an isocyanate as an essential component.

Description

本発明は、熱硬化性樹脂組成物、フレキシブル配線板の保護膜の形成方法及びフレキシブル配線板および電子部品、および該フレキシブル配線板の製造方法に関する。   The present invention relates to a thermosetting resin composition, a method for forming a protective film for a flexible wiring board, a flexible wiring board and an electronic component, and a method for manufacturing the flexible wiring board.

近年、電子部品の分野においては、小型化、薄型化、高速化への対応のために、電子部品に用いられる樹脂組成物(例えば、封止剤、ソルダーレジスト等)がより優れた耐熱性、電気特性及び耐湿性を有することが求められている。そのために、樹脂組成物を構成する樹脂として、エポキシ樹脂に代わり、ポリイミド樹脂、ポリアミドイミド樹脂、ポリアミド樹脂が使用されるようになってきた。しかし、これらの樹脂は、樹脂構造が剛直であり硬化膜が柔軟性に欠ける。そのため、薄膜基材に用いた場合、硬化後の基材が大きく反りやすく、また屈曲性に劣るなどの問題がある。   In recent years, in the field of electronic parts, resin compositions (for example, sealants, solder resists, etc.) used for electronic parts have better heat resistance in order to cope with downsizing, thinning, and speeding up. It is required to have electrical properties and moisture resistance. Therefore, as a resin constituting the resin composition, a polyimide resin, a polyamideimide resin, or a polyamide resin has been used instead of an epoxy resin. However, these resins have a rigid resin structure and a cured film lacks flexibility. Therefore, when it uses for a thin film base material, there exists a problem that the base material after hardening is easy to warp largely, and is inferior in flexibility.

上述の樹脂について、反り性及び柔軟性を改善するために、樹脂を変性して可撓化及び低弾性率化することがこれまでにも検討されており、種々の変性ポリアミドイミド樹脂が提案されている(例えば、特許文献1、2および3を参照)。   In order to improve the warpage and flexibility of the above-mentioned resins, it has been studied so far to make the resin flexible and to have a low elastic modulus, and various modified polyamideimide resins have been proposed. (See, for example, Patent Documents 1, 2, and 3).

一方、特許文献4には、低反り性、可撓性、はんだ耐熱性及び耐錫メッキ性の改善を図った熱硬化性樹脂組成物が開示されている。特許文献4の熱硬化性樹脂組成物は、高温・高湿下での高い電気特性を維持する電気絶縁特性においては、卓越した性能を有するものであった。   On the other hand, Patent Document 4 discloses a thermosetting resin composition that is improved in low warpage, flexibility, solder heat resistance, and tin plating resistance. The thermosetting resin composition of Patent Document 4 has excellent performance in terms of electrical insulation characteristics that maintain high electrical characteristics at high temperatures and high humidity.

しかし、近年、配線の微細化に伴い、フレキシブル配線板を接続したディスプレイパネルを筐体にセットすることを他の場所で実施する際に、輸送中に、配線折れが生じる問題が発生しており、配線折れに対する保護機能(以下、「耐屈曲性能」と記すこともある。)を有する保護膜が望まれていた。   However, in recent years, with the miniaturization of wiring, there has been a problem that wiring breakage occurs during transportation when the display panel connected with the flexible wiring board is set in the housing in another place. Therefore, a protective film having a protective function against wiring breakage (hereinafter sometimes referred to as “bending resistance”) has been desired.

また、特許文献5には、低反り性、可撓性、耐屈曲性能を有する、ポリアミドイミド変性ポリウレタン、硬化剤および有機溶剤を含む熱硬化性樹脂組成物が開示されている。なお、ここでは、低反り性、可撓性および高温・高湿下での電気絶縁特性を測定している。   Patent Document 5 discloses a thermosetting resin composition containing a polyamideimide-modified polyurethane, a curing agent, and an organic solvent having low warpage, flexibility, and bending resistance. Here, low warpage, flexibility, and electrical insulation characteristics under high temperature and high humidity are measured.

しかし、この熱硬化性樹脂組成物でも、市場で望まれている耐屈曲性能を完全に満たすものではなく、更なる、高い耐屈曲性能を有する電気絶縁性保護膜が望まれていた。   However, even this thermosetting resin composition does not completely satisfy the bending resistance desired in the market, and an electric insulating protective film having further higher bending resistance has been desired.

特開昭62−106960号公報JP 62-106960 A 特開平8−12763号公報Japanese Patent Laid-Open No. 8-12763 特開平7−196798号公報JP-A-7-196798 特開2006−117922号公報JP 2006-117922 A 特開2015−147940号公報JP-A-2015-147940

しかしながら、フレキシブル配線板の保護膜を形成する樹脂に関して、反り性及び柔軟性の改善された従来の樹脂組成物は、高温・高湿下では水分子が浸入し易く、高い電気特性を維持することが困難であった。高い電気特性を付与するためには、樹脂構造に剛直成分を導入し、高いガラス転移温度を持たせることが有効と考えられるが、この手法によれば、硬化後の基材が大きく反りやすく、また屈曲性に劣るなどの問題が発生してしまう。   However, with regard to the resin that forms the protective film of the flexible wiring board, the conventional resin composition with improved warpage and flexibility is easy to infiltrate water molecules under high temperature and high humidity, and maintains high electrical characteristics. It was difficult. In order to impart high electrical properties, it is considered effective to introduce a rigid component into the resin structure and to have a high glass transition temperature, but according to this technique, the substrate after curing tends to warp greatly, In addition, problems such as poor flexibility occur.

また、特許文献4に記載の熱硬化性樹脂組成物は、低反り性、可撓性、はんだ耐熱性及び耐錫メッキ性の点ではある程度改善が認められるものの、配線折れに対する保護機能を付与することが困難であった。   Further, the thermosetting resin composition described in Patent Document 4 provides a protective function against wiring breakage, although some improvement is recognized in terms of low warpage, flexibility, solder heat resistance and tin plating resistance. It was difficult.

また、特許文献5に記載の熱硬化性樹脂組成物は、耐屈曲性能はある程度有するものの未だ十分なものとは言えなかった。
そこで、本発明は、フレキシブル配線板の保護膜を形成したときに、高温・高湿下で、高い電気絶縁信頼性を維持しながら、反りが十分に抑制されるとともに、耐屈曲性にも優れる熱硬化性樹脂組成物を提供することを主な目的とする。
Moreover, although the thermosetting resin composition described in Patent Document 5 has a certain degree of bending resistance, it is still not sufficient.
Therefore, when the protective film of the flexible wiring board is formed, the present invention suppresses warping sufficiently while maintaining high electrical insulation reliability under high temperature and high humidity, and is excellent in bending resistance. The main object is to provide a thermosetting resin composition.

本発明者らは、上記課題を解決すべく研究を重ねた結果、特定の構造を有するとともに、イミド結合およびアミド結合の少なくとも1方の結合を有する化合物を必須成分とする硬化性組成物をフレキシブル配線板上に印刷すると、印刷された硬化性組成物が硬化する際のフレキシブル配線板の反りが小さいこと、この硬化性組成物の硬化物を含む保護膜が、可撓性及び長期電気絶縁特性に優れていること、さらに該保護膜によって被覆されているフレキシブル配線板が揺り動かされた際に、大きな配線折れの抑制効果を有することを見出し、本発明を完成するに至った。   As a result of repeated studies to solve the above problems, the present inventors have flexible a curable composition having a specific structure and a compound having an imide bond and / or an amide bond as an essential component. When printed on a wiring board, the warp of the flexible wiring board when the printed curable composition is cured is small, and the protective film containing a cured product of this curable composition has flexibility and long-term electrical insulation properties. The present invention has been completed by finding that it has an excellent effect of suppressing breakage of a large wiring when the flexible wiring board covered with the protective film is shaken.

すなわち本発明は、以下の事項に関する。
[1](成分A)下記式(1)で表される構造単位を有し、かつイミド結合およびアミド結合の少なくとも1方の結合を有し、かつ硬化剤と反応する官能基を有する化合物、
(成分B)硬化剤、および
(成分C)有機溶媒を含有することを特徴とする硬化性組成物。
That is, the present invention relates to the following matters.
[1] (Component A) A compound having a structural unit represented by the following formula (1), having a bond of at least one of an imide bond and an amide bond, and having a functional group that reacts with a curing agent,
A curable composition comprising (Component B) a curing agent, and (Component C) an organic solvent.

Figure 2017183496
(式(1)中、R1は、それぞれ独立に3〜36個の炭素を有するジオールから誘導される有機残基を表し、R2は、それぞれ独立にフェニレン基または置換基を有するフェニレン基を表す。)
Figure 2017183496
(In formula (1), each R 1 independently represents an organic residue derived from a diol having 3 to 36 carbon atoms, and each R 2 independently represents a phenylene group or a phenylene group having a substituent. Represents.)

[2]前記硬化剤と反応する官能基が、カルボキシル基、水酸基、酸無水物基、イソシアナト基、アミド基、アミノ基の少なくとも1種であることを特徴とする[1]に記載の硬化性組成物。   [2] The curability according to [1], wherein the functional group that reacts with the curing agent is at least one of a carboxyl group, a hydroxyl group, an acid anhydride group, an isocyanato group, an amide group, and an amino group. Composition.

[3](成分A)が、(原料a)酸無水物基を有する3価および/または4価のポリカルボン酸誘導体、(原料b)下記式(2)で表されるポリオール、および(原料c)ポリイソシアネートを必須成分に用いて反応させて得られる化合物を含有することを特徴とする[1]または[2]に記載の硬化性組成物。   [3] (Component A) is (raw material a) a trivalent and / or tetravalent polycarboxylic acid derivative having an acid anhydride group, (raw material b) a polyol represented by the following formula (2), and (raw material) c) The curable composition according to [1] or [2], comprising a compound obtained by reacting polyisocyanate as an essential component.

Figure 2017183496
(式(2)中、(n+1)個のR1は、それぞれ独立に炭素数3〜36のジオールから誘導される有機残基を表し、n個のR2は、それぞれ独立にフェニレン基または置換基を有するフェニレン基を表し、nは、1〜60の整数を表す。)
Figure 2017183496
(In the formula (2), (n + 1 ) number of R 1 represents an organic residue derived independently from diols 3 to 36 carbon atoms, n number of R 2 is a phenylene group or a substituted independently Represents a phenylene group having a group, and n represents an integer of 1 to 60.)

なお、[3]で規定される硬化性組成物中の(成分A)は、(原料a)酸無水物基を有する3価および/または4価のポリカルボン酸誘導体、(原料b)式(2)で表されるポリオール、(原料c)ポリイソシアネートを原料にしており、(原料a)、(原料b)、(原料c)に該当する多くの化合物どうしで反応が可能である。また、それぞれのモノマーの配合比や反応条件を変えれば得られる重合物も変化する。そのため得られる成分Aの構造は極めて多岐にわたり、特定の構造で規定することが困難であることは当業者の技術常識といえる。そして構造が特定できなければ特性も規定することはできない。即ち、[3]で規定される重合組成物は、その構造または特性をもって特定することが不可能であり、プロセス(製法)によって初めて特定することが可能となり、「出願時において当該物をその構造または特性により直接特定することが不可能またはおよそ非実際的である事情が存在すると考える。   In addition, (Component A) in the curable composition defined by [3] is (raw material a) trivalent and / or tetravalent polycarboxylic acid derivative having an acid anhydride group, (raw material b) formula ( The polyol represented by 2) and (raw material c) polyisocyanate are used as raw materials, and the reaction is possible between many compounds corresponding to (raw material a), (raw material b), and (raw material c). Moreover, the polymer obtained will also change if the compounding ratio and reaction conditions of each monomer are changed. Therefore, the structure of the component A obtained is extremely diverse, and it is difficult to define with a specific structure, it can be said that it is common technical knowledge of those skilled in the art. And if the structure cannot be specified, the characteristics cannot be specified. That is, the polymerization composition specified in [3] cannot be specified by its structure or characteristics, and can be specified for the first time by a process (production method). Or we think there are circumstances where it is impossible or nearly impractical to identify directly by property.

[3'](成分A)が、すくなくとも、(原料a)酸無水物基を有する3価および/または4価のポリカルボン酸誘導体、(原料b)下記式(2)で表されるポリオール、および(原料c)ポリイソシアネートからなる反応生成物を含有することを特徴とする[1]または[2]に記載の硬化性組成物。   [3 ′] (Component A) is at least (raw material a) a trivalent and / or tetravalent polycarboxylic acid derivative having an acid anhydride group, (raw material b) a polyol represented by the following formula (2), And (raw material c) a curable composition as described in [1] or [2], comprising a reaction product comprising polyisocyanate.

Figure 2017183496
(式(2)中、(n+1)個のR1は、それぞれ独立に炭素数3〜36のジオールから誘導される有機残基を表し、n個のR2は、それぞれ独立にフェニレン基または置換基を有するフェニレン基を表し、nは、1〜60の整数を表す。)
Figure 2017183496
(In the formula (2), (n + 1 ) number of R 1 represents an organic residue derived independently from diols 3 to 36 carbon atoms, n number of R 2 is a phenylene group or a substituted independently Represents a phenylene group having a group, and n represents an integer of 1 to 60.)

[4](成分A)が、さらにウレタン結合を有することを特徴とする[1]から[3]のいずれかに記載の硬化性組成物。
[5](成分A)が、酸価が10〜50mgKOH/gであることを特徴とする[1]〜[4]のいずれかに記載の硬化性組成物。
[6](成分B)が、1分子あたり2個以上のエポキシ基を有する化合物を含むことを特徴とする[1]〜[5]のいずれかに記載の硬化性組成物。
[7](成分C)が、エーテル系溶媒、エステル系溶媒、ケトン系溶媒、及び芳香族炭化水素系溶媒からなる群から選ばれる少なくとも1種の有機溶媒であることを特徴とする[1]〜[6]のいずれかに記載の硬化性組成物。
[8]さらに、
(成分D) 無機微粒子および有機微粒子からなる群から選ばれる少なくとも1種の微粒子を含むことを特徴とする[1]〜[7]のいずれかに記載の硬化性組成物。
[9]成分(A)と成分(B)の合計量を100質量部としたとき、成分(B)を1〜55質量部含むことを特徴とする[1]〜[8]のいずれか1項に記載の硬化性組成物。
[10]成分(A)、成分(B)、成分(C)、および成分(D)の合計量(成分(D)を含まない場合は、成分(A)、成分(B)、および成分(C)の合計量)を100質量部としたとき、成分(C)を25〜75質量部含むことを特徴とする[1]〜[9]のいずれか1項に記載の硬化性組成物。
[4] The curable composition according to any one of [1] to [3], wherein (Component A) further has a urethane bond.
[5] The curable composition according to any one of [1] to [4], wherein (Component A) has an acid value of 10 to 50 mgKOH / g.
[6] The curable composition according to any one of [1] to [5], wherein (Component B) contains a compound having two or more epoxy groups per molecule.
[7] (Component C) is at least one organic solvent selected from the group consisting of ether solvents, ester solvents, ketone solvents, and aromatic hydrocarbon solvents [1] -The curable composition in any one of [6].
[8] Furthermore,
(Component D) The curable composition according to any one of [1] to [7], comprising at least one fine particle selected from the group consisting of inorganic fine particles and organic fine particles.
[9] Any one of [1] to [8], wherein the total amount of the component (A) and the component (B) is 100 parts by mass, and the component (B) is included in an amount of 1 to 55 parts by mass. The curable composition according to item.
[10] Total amount of component (A), component (B), component (C), and component (D) (when component (D) is not included, component (A), component (B), and component ( The curable composition according to any one of [1] to [9], wherein 25 to 75 parts by mass of the component (C) is included when the total amount of C) is 100 parts by mass.

[11][1]〜[10]のいずれかに記載の硬化性組成物の硬化物。
[12][1]〜[10]のいずれかに記載の硬化性組成物をフレキシブル基板上に配線が形成されてなるフレキシブル配線板の、配線が形成されている表面の一部又は全部に塗布し硬化することによって得られるフレキシブル配線板用オーバーコート膜。
[13]フレキシブル基板上に配線が形成されてなるフレキシブル配線板の、配線が形成されている表面の一部又は全部が[12]に記載のオーバーコート膜によって被覆されていることを特徴とするフレキシブル配線板。
[14]配線が、錫メッキ銅配線であることを特徴とする[13]に記載のフレキシブル配線板。
[15]下記(工程1)および(工程3)と必要に応じて(工程2)とを含むことを特徴とする、オーバーコート膜によって被覆されたフレキシブル配線板の製造方法;
(工程1)
[1]〜[10]のいずれかに記載の硬化性組成物を、フレキシブル配線板の配線パターン部の少なくとも一部に印刷することで該パターン上に印刷膜を形成する工程
(工程2)
工程1で得られた印刷膜を40〜100℃の雰囲気下におくことで印刷膜中の溶媒の一部または全量を蒸発させる工程
(工程3)
工程1で得られた印刷膜または工程2で得られた印刷膜を、100〜170℃で加熱することによって、硬化させ、オーバーコート膜を形成する工程。
[16][11]に記載の硬化膜を有する電子部品。
なお、本明細書に記載の「(n+1)個のR1は、それぞれ独立に」という表現は、(n+1)個のR1は、すべて同じ構造であっても、一部が同じ構造であり、他の一部が異なる構造であっても、すべてが異なる構造であっても、いっこうに構わないことを意味する。また、本明細書に記載の「n個のR2は、それぞれ独立に」という表現も同様に、n個のR2は、すべて同じ構造であっても、一部が同じ構造であり、他の一部が異なる構造であっても、すべてが異なる構造であっても、いっこうに構わないことを意味する。
[11] A cured product of the curable composition according to any one of [1] to [10].
[12] The curable composition according to any one of [1] to [10] is applied to part or all of a surface of a flexible wiring board in which wiring is formed on a flexible substrate. An overcoat film for a flexible wiring board obtained by curing.
[13] A flexible wiring board in which wiring is formed on a flexible substrate is partially or entirely covered with the overcoat film described in [12]. Flexible wiring board.
[14] The flexible wiring board according to [13], wherein the wiring is tin-plated copper wiring.
[15] A method for producing a flexible wiring board covered with an overcoat film, comprising the following (Step 1) and (Step 3) and optionally (Step 2);
(Process 1)
The process of forming a printed film on this pattern by printing the curable composition in any one of [1]-[10] on at least one part of the wiring pattern part of a flexible wiring board (process 2)
A step of evaporating a part or all of the solvent in the printed film by placing the printed film obtained in step 1 in an atmosphere of 40 to 100 ° C. (step 3)
A step of curing the printed film obtained in step 1 or the printed film obtained in step 2 at 100 to 170 ° C. to form an overcoat film.
[16] An electronic component having the cured film according to [11].
Note that the expression “(n + 1) R 1 's are independent of each other” in this specification means that (n + 1) R 1 have the same structure even if they all have the same structure. This means that it does not matter whether the other part has a different structure or a different structure. Similarly, the expression “n R 2 's are independent of each other” described in the present specification is the same, even though all of the R R 2 have the same structure, Even if some of them have different structures, all of them have different structures.

本発明の硬化性組成物を硬化することにより、低反り性、可撓性、長期絶縁信頼性に優れた保護膜が得られ、かつ硬化膜によって被覆されたフレキシブル配線板が揺り動かされた際に配線折れの抑制効果の大きな保護膜を提供することができる。   By curing the curable composition of the present invention, a protective film excellent in low warpage, flexibility, and long-term insulation reliability is obtained, and when the flexible wiring board covered with the cured film is shaken. It is possible to provide a protective film having a great effect of suppressing wiring breakage.

また、本発明は、前記硬化性組成物の硬化物からなる保護膜、および該保護膜によって被覆されているフレキシブル配線板であって、高い絶縁信頼性を維持しながら、反りが十分に抑制されるとともに、屈曲性にも優れるフレキシブル配線板を提供することができる。   Further, the present invention is a protective film made of a cured product of the curable composition, and a flexible wiring board covered with the protective film, and warping is sufficiently suppressed while maintaining high insulation reliability. In addition, a flexible wiring board having excellent flexibility can be provided.

以下、本発明の好適な実施形態について詳細に説明する。ただし、本発明は以下の実施形態に限定されるものではない。
本発明は、
(成分A) 下記式(1)で表される構造単位を有し、かつイミド結合およびアミド結合の少なくとも1方の結合を有し、かつ硬化剤と反応する官能基を有する化合物、
(成分B) 硬化剤、および
(成分C) 有機溶媒
を含有することを特徴とする硬化性組成物である。
Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described in detail. However, the present invention is not limited to the following embodiments.
The present invention
(Component A) A compound having a structural unit represented by the following formula (1), having a bond of at least one of an imide bond and an amide bond, and having a functional group that reacts with a curing agent,
(Component B) A curable composition containing a curing agent, and (Component C) an organic solvent.

Figure 2017183496
(式(1)中、R1は、それぞれ独立に3〜36個の炭素を有するジオールから誘導される有機残基を表し、R2は、それぞれ独立にフェニレン基または置換基を有するフェニレン基を表す。)
本発明の硬化性組成物の必須成分である(成分A)は、式(1)で表される構造単位を有し、かつイミド結合
Figure 2017183496
(In formula (1), each R 1 independently represents an organic residue derived from a diol having 3 to 36 carbon atoms, and each R 2 independently represents a phenylene group or a phenylene group having a substituent. Represents.)
(Component A) which is an essential component of the curable composition of the present invention has a structural unit represented by the formula (1) and has an imide bond.

Figure 2017183496
およびアミド結合(−C(=O)−NH−)の少なくとも1方の結合を有する化合物である。(成分A)は、さらにウレタン結合(−O−C(=O)−NH−)を有していてもよい。さらに(成分A)は、硬化剤と反応する官能基を有している。硬化剤と反応する好ましい官能基としては、カルボキシル基、水酸基、酸無水物基、イソシアナト基、アミド基、アミノ基の少なくとも1種の官能基が挙げられる。イソシアナト基を有する場合には、イソシアナト基はブロック化剤で保護されていることが好ましい。またその他の基においてもブロック化剤で保護されていてもよく、ブロック体が外れて反応するものは官能基とみなすものとする。波線は結合の末端で、他の結合との結合部位を表す。
Figure 2017183496
And a compound having at least one bond of an amide bond (—C (═O) —NH—). (Component A) may further have a urethane bond (—O—C (═O) —NH—). Furthermore, (Component A) has a functional group that reacts with the curing agent. Preferable functional groups that react with the curing agent include at least one functional group of a carboxyl group, a hydroxyl group, an acid anhydride group, an isocyanato group, an amide group, and an amino group. When it has an isocyanato group, the isocyanato group is preferably protected with a blocking agent. In addition, other groups may be protected with a blocking agent, and those that react with the block body removed are regarded as functional groups. The wavy line is the end of the bond and represents the binding site with other bonds.

式(1)中、R1は、それぞれ独立に3〜36個の炭素原子を有するジオールから誘導される有機残基である。いいかえると、上記ジオールから誘導される有機残基とは、ジオールからヒドロキシ基が2個とれた2価の基である。In Formula (1), R 1 is an organic residue derived from a diol having 3 to 36 carbon atoms. In other words, the organic residue derived from the diol is a divalent group in which two hydroxy groups are removed from the diol.

3〜36個の炭素を有するジオールとしては、例えば、1,3−プロパンジオール、1,2−プロパンジオール、1,4−ブタンジオール、2−メチル−1,3−プロパンジオール、1,5−ペンタンジオール、1,6−ヘキサンジオール、3−メチル−1,5−ペンタンジオール、1,8−オクタンジオール、1,9−ノナンジオール、2−メチル−1,8−オクタンジオール、1,9−ノナンジオール、1,10−デカンジオール、1,12−ドデカンジオール、水添ダイマー(C36)ジオール、ジエチレングリコール、トリエチレングルコール等の鎖状のジオール、
1,2−シクロペンタンジメタノール、1,3−シクロペンタンジメタノール及びビス(ヒドロキシメチル)トリシクロ[5.2.1.0]デカン等の5員環ジオール、並びに、1,2−シクロヘキサンジオール、1,3−シクロヘキサンジオール、1,4−シクロヘキサンジオール、1,2−シクロヘキサンジメタノール、1,3−シクロヘキサンジメタノール、1,4−シクロヘキサンジメタノール、及び2,2−ビス(4−ヒドロキシシクロヘキシル)−プロパン等の6員環ジオール等の脂環構造を有するジオール等を挙げることができる。
Examples of the diol having 3 to 36 carbons include 1,3-propanediol, 1,2-propanediol, 1,4-butanediol, 2-methyl-1,3-propanediol, 1,5- Pentanediol, 1,6-hexanediol, 3-methyl-1,5-pentanediol, 1,8-octanediol, 1,9-nonanediol, 2-methyl-1,8-octanediol, 1,9- Chain diols such as nonanediol, 1,10-decanediol, 1,12-dodecanediol, hydrogenated dimer (C36) diol, diethylene glycol, triethylene glycol,
5-membered ring diols such as 1,2-cyclopentanedimethanol, 1,3-cyclopentanedimethanol and bis (hydroxymethyl) tricyclo [5.2.1.0] decane, and 1,2-cyclohexanediol, 1,3-cyclohexanediol, 1,4-cyclohexanediol, 1,2-cyclohexanedimethanol, 1,3-cyclohexanedimethanol, 1,4-cyclohexanedimethanol, and 2,2-bis (4-hydroxycyclohexyl) -The diol etc. which have alicyclic structures, such as 6-membered ring diols, such as propane, can be mentioned.

1の好ましいものとしては、炭素数は3〜18でかつ鎖状構造の炭化水素基であり、さらに、好ましいものとしては、炭素数4〜9でかつ鎖状構造の炭化水素基であり、特に好ましいものとしては、炭素数4〜6でかつ鎖状構造の炭化水素基である。即ち、R1の有機残基を誘導することの可能な、好ましいジオールとしては、例えば、1,3−プロパンジオール、1,2−プロパンジオール、1,4−ジタンジオール、2−メチル−1,3−プロパンジオール、1,5−ペンタンジオール、1,6−ヘキサンジオール、3−メチル−1,5−ペンタンジオール、1,8−オクタンジオール、1,9−ノナンジオール、2−メチル−1,8−オクタンジオール、1,9−ノナンジオール、1,10−デカンジオールを挙げることができ、さらに好ましいジオールとしては、例えば、1,4−ジタンジオール、2−メチル−1,3−プロパンジオール、1,5−ペンタンジオール、1,6−ヘキサンジオール、3−メチル−1,5−ペンタンジオール、1,8−オクタンジオール、1,9−ノナンジオール、2−メチル−1,8−オクタンジオール、1,9−ノナンジオールを挙げることができ、特に好ましいジオールとしては、例えば、1,4−ジタンジオール、2−メチル−1,3−プロパンジオール、1,5−ペンタンジオール、1,6−ヘキサンジオール、3−メチル−1,5−ペンタンジオールを挙げることができ、最も好ましいジオールとしては、1,6−ヘキサンジオール、3−メチル−1,5−ペンタンジオールである。R 1 is preferably a hydrocarbon group having 3 to 18 carbon atoms and a chain structure, and more preferably a hydrocarbon group having 4 to 9 carbon atoms and a chain structure. Particularly preferred is a hydrocarbon group having 4 to 6 carbon atoms and a chain structure. That is, preferable diols capable of deriving the organic residue of R 1 include, for example, 1,3-propanediol, 1,2-propanediol, 1,4-ditandiol, 2-methyl-1, 3-propanediol, 1,5-pentanediol, 1,6-hexanediol, 3-methyl-1,5-pentanediol, 1,8-octanediol, 1,9-nonanediol, 2-methyl-1, Examples include 8-octanediol, 1,9-nonanediol, and 1,10-decanediol, and more preferable diols include, for example, 1,4-ditandiol, 2-methyl-1,3-propanediol, 1,5-pentanediol, 1,6-hexanediol, 3-methyl-1,5-pentanediol, 1,8-octanediol, 1,9-no Diols, 2-methyl-1,8-octanediol, 1,9-nonanediol, and particularly preferred diols include, for example, 1,4-ditandiol, 2-methyl-1,3-propanediol. 1,5-pentanediol, 1,6-hexanediol, 3-methyl-1,5-pentanediol, and most preferred diols include 1,6-hexanediol, 3-methyl-1, 5-pentanediol.

また、式(1)中、R2は、それぞれ独立にフェニレン基または置換基を有するフェニレン基を表す。フェニレン基としては、例えば、1,2−フェニレン基、1,3−フェニレン基、1,4−フェニレン基を挙げることができる。置換基を有するフェニレン基の置換基としては、炭素数1〜10のアルキル基が挙げられ、具体的には、3−メチル−1,2−フェニレン基、4−メチル−1,2−フェニレン基、4−メチル−1,3−フェニレン基、2−メチル−1,4−フェニレン基、3−エチル−1,2−フェニレン基、4−エチル−1,2−フェニレン基、4−エチル−1,3−フェニレン基、2−エチル−1,4−フェニレン基などの置換基としてアルキル基を有するフェニレン基が挙げられる。また置換基を有するフェニレン基としては、3−ブロモ−1,2−フェニレン基、4−ブロモ−1,2−フェニレン基、4−ブロモ−1,3−フェニレン基、2−ブロモ−1,4−フェニレン基、3−クロロ−1,2−フェニレン基、4−クロロ−1,2−フェニレン基、4−クロロ−1,3−フェニレン基、2−クロロ−1,4−フェニレン基等のハロゲンを有するフェニレン基を挙げることもできる。In formula (1), R 2 independently represents a phenylene group or a phenylene group having a substituent. Examples of the phenylene group include a 1,2-phenylene group, a 1,3-phenylene group, and a 1,4-phenylene group. Examples of the substituent of the phenylene group having a substituent include an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, specifically, a 3-methyl-1,2-phenylene group and a 4-methyl-1,2-phenylene group. 4-methyl-1,3-phenylene group, 2-methyl-1,4-phenylene group, 3-ethyl-1,2-phenylene group, 4-ethyl-1,2-phenylene group, 4-ethyl-1 , 3-phenylene group, 2-ethyl-1,4-phenylene group, and the like, examples thereof include a phenylene group having an alkyl group. Examples of the phenylene group having a substituent include 3-bromo-1,2-phenylene group, 4-bromo-1,2-phenylene group, 4-bromo-1,3-phenylene group, and 2-bromo-1,4. Halogens such as -phenylene group, 3-chloro-1,2-phenylene group, 4-chloro-1,2-phenylene group, 4-chloro-1,3-phenylene group, 2-chloro-1,4-phenylene group A phenylene group containing

これらの中で、好ましいものとしては、1,2−フェニレン基、1,3−フェニレン基、1,4−フェニレン基および置換基としてアルキル基を有するフェニレン基であり、さらに、好ましくは、1,2−フェニレン基、1,3−フェニレン基、1,4−フェニレン基であり、特に好ましくは、1,2−フェニレン基、1,3−フェニレン基である。   Among these, preferred are 1,2-phenylene group, 1,3-phenylene group, 1,4-phenylene group, and phenylene group having an alkyl group as a substituent. A 2-phenylene group, a 1,3-phenylene group, and a 1,4-phenylene group are preferable, and a 1,2-phenylene group and a 1,3-phenylene group are particularly preferable.

また、最も好ましいR1とR2との組み合わせは、R2が1,2−フェニレン基の場合には、R1が1,6−ヘキサンジオールまたは3−メチル−1,5−ペンタンジオールから誘導される有機残基であり、R2が1,3−フェニレン基の場合には、R1が3−メチル−1,5−ペンタンジオールから誘導される有機残基である。Further, the most preferred combination of R 1 and R 2, in the case of R 2 is 1,2-phenylene group, induction R 1 is 1,6-hexanediol or 3-methyl-1,5-pentanediol When R 2 is a 1,3-phenylene group, R 1 is an organic residue derived from 3-methyl-1,5-pentanediol.

次に、(成分A)の合成方法について説明する。
(成分A)は、例えば、以下のような方法で合成することができる。
(方法1) (原料b)下記式(2)で表されるポリオールと
Next, a synthesis method of (Component A) will be described.
(Component A) can be synthesized, for example, by the following method.
(Method 1) (Raw material b) Polyol represented by the following formula (2)

Figure 2017183496
(式(2)中、(n+1)個のR1はそれぞれ独立に炭素数3〜36のジオールから誘導される有機残基を表し、n個のR2は、それぞれ独立にフェニレン基または置換基を有するフェニレン基を表し、nは、独立に1〜60の整数を表す。)
(原料c)ポリイソシアネートとを反応させて、ウレタン結合を有しかつ末端にイソシアナト基を有する化合物を得、得たウレタン結合を有しかつ末端にイソシアナト基を有する化合物を含むポリイソシアネートと(原料a)酸無水物基(下図)
Figure 2017183496
(In the formula (2), (n + 1) R 1 's each independently represents an organic residue derived from a diol having 3 to 36 carbon atoms, and each of the n R 2 ' s independently represents a phenylene group or a substituent. And n represents an integer of 1 to 60 independently.)
(Raw material c) A polyisocyanate is reacted with polyisocyanate to obtain a compound having a urethane bond and having an isocyanato group at the terminal, and the obtained polyisocyanate containing a compound having a urethane bond and having an isocyanato group at the terminal (raw material a) Acid anhydride group (see below)

Figure 2017183496
を有する3価および/または4価のポリカルボン酸誘導体とを反応させる。
Figure 2017183496
Is reacted with a trivalent and / or tetravalent polycarboxylic acid derivative.

(方法2) (原料c)ポリイソシアネートと(原料a)酸無水物基を有する3価および/または4価のポリカルボン酸誘導体とを反応させて、イミド結合およびアミド結合の少なくとも1方の結合を有するポリイソシアネートを得、これに、(原料b)式(2)で表されるポリオールを反応させる。   (Method 2) (raw material c) polyisocyanate and (raw material a) a trivalent and / or tetravalent polycarboxylic acid derivative having an acid anhydride group are reacted to bond at least one of an imide bond and an amide bond A polyisocyanate having the following formula (2) is reacted with a polyol represented by the formula (2).

(方法3) (原料c)ポリイソシアネートと(原料a)酸無水物基を有する3価および/または4価のポリカルボン酸誘導体とを反応させて、イミド結合およびアミド結合の少なくとも1方の結合を有しかつ末端に酸無水物基および/またはカルボキシル基を有する化合物を得、これに、(原料b)式(2)で表されるポリオールを反応させる。   (Method 3) (raw material c) polyisocyanate and (raw material a) a trivalent and / or tetravalent polycarboxylic acid derivative having an acid anhydride group are reacted to form at least one of an imide bond and an amide bond And a compound having an acid anhydride group and / or a carboxyl group at the terminal is obtained, and this is reacted with a polyol represented by (raw material b) formula (2).

(方法1)の合成法では、先ず、(原料b)式(2)で表されるポリオールと(原料c)ポリイソシアネートとを反応させて、ウレタン結合を有しかつ末端にイソシアナト基を有する化合物(以下、「(A1−1)化合物」と記す。)を合成する。In the synthesis method of (Method 1), first, (raw material b) a polyol represented by formula (2) and (raw material c) are reacted with polyisocyanate to have a urethane bond and an isocyanate group at the terminal. (Hereinafter referred to as “(A 1 -1) compound”).

式(2)中のR1、R2は、それぞれ、前記式(1)中のR1、R2と同じである。
式(2)中のnは、1〜60の整数を表す。好ましいnとしては、1〜45の整数であり、特に好ましくは、1〜30の整数である。nの平均値は、3〜11が好ましく、さらに、好ましくは5〜10である。
R 1, R 2 in the formula (2) are respectively the same as R 1, R 2 in the formula (1).
N in the formula (2) represents an integer of 1 to 60. As preferable n, it is an integer of 1-45, Most preferably, it is an integer of 1-30. The average value of n is preferably from 3 to 11, more preferably from 5 to 10.

式(2)のジオールの数平均分子量は500〜5000であることが好ましく、750〜4000であることがより好ましく、1000〜3000であることが特に好ましい。
(原料b)のポリオールと反応させるポリイソシアネート(即ち、(原料c))としては、イソシアナト基を2つ以上有する化合物であれば、特に制限はない。ポリイソシアネートの具体例としては、1,3−シクロヘキサンジイソシアネート、1,4−シクロヘキサンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、メチレンビス(4−シクロヘキシルイソシアネート)、1,3−ビス(イソシアナトメチル)シクロヘキサン、1,4−ビス(イソシアナトメチル)シクロヘキサン、ノルボルネンジイソシアネートおよびイソホロンジイソシアネートのビウレット体等の環状脂肪族ポリイソシアネート; ジフェニルメタン−2,4'−ジイソシアネート、3,2'−ジメチルジフェニルメタン−2,4'−ジイソシアネート、3,3'−ジメチルジフェニルメタン−2,4'−ジイソシアネート、4,2'−ジメチルジフェニルメタン−2,4'−ジイソシアネート、4,3'−ジメチルジフェニルメタン−2,4'−ジイソシアネート、5,2'−ジメチルジフェニルメタン−2,4'−ジイソシアネート、5,3'−ジメチルジフェニルメタン−2,4'−ジイソシアネート、6,2'−ジメチルジフェニルメタン−2,4'−ジイソシアネート、6,3'−ジメチルジフェニルメタン−2,4'−ジイソシアネート、3,2'−ジエチルジフェニルメタン−2,4'−ジイソシアネート、3,3'−ジエチルジフェニルメタン−2,4'−ジイソシアネート、4,2'−ジエチルジフェニルメタン−2,4'−ジイソシアネート、4,3'−ジエチルジフェニルメタン−2,4'−ジイソシアネート、5,2'−ジエチルジフェニルメタン−2,4'−ジイソシアネート、5,3'−ジエチルジフェニルメタン−2,4'−ジイソシアネート、6,2'−ジエチルジフェニルメタン−2,4'−ジイソシアネート、6,3'−ジエチルジフェニルメタン−2,4'−ジイソシアネート、3,2'−ジメトキシジフェニルメタン−2,4'−ジイソシアネート、3,3'−ジメトキシジフェニルメタン−2,4'−ジイソシアネート、4,2'−ジメトキシジフェニルメタン−2,4'−ジイソシアネート、4,3'−ジメトキシジフェニルメタン−2,4'−ジイソシアネート、5,2'−ジメトキシジフェニルメタン−2,4'−ジイソシアネート、5,3'−ジメトキシジフェニルメタン−2,4'−ジイソシアネート、6,2'−ジメトキシジフェニルメタン−2,4'−ジイソシアネート、6,3'−ジメトキシジフェニルメタン−2,4'−ジイソシアネート、ジフェニルメタン−4,4'−ジイソシアネート、ジフェニルメタン−3,3'−ジイソシアネート、ジフェニルメタン−3,4'−ジイソシアネート、ジフェニルエーテル−4,4'−ジイソシアネート、ベンゾフェノン−4,4'−ジイソシアネート、ジフェニルスルホン−4,4'−ジイソシアネート、2,4−トリレンジイソシアネート、2,6−トリレンジイソシアネート、m−キシリレンジイソシアネート、p−キシリレンジイソシアネート、1,5−ナフタレンジイソシアネート、4,4'−[2,2ビス(4−フェノキシフェニル)プロパン]ジイソシアネート等の芳香環を有するポリイソシアネート;
ヘキサメチレンジイソシアネートのビウレット体、リシントリイソシアネート、リシンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、2,4,4−トリメチルヘキサメチレンジイソシアネートおよび2,2,4−トリメチルヘキサンメチレンジイソシアネート等の鎖状脂肪族ポリイソシアネート;
イソホロンジイソシアネートのイソシアヌレート体、ヘキサメチレンジイソシアネートのイソシアヌレート体等の複素環を有するポリイソシアネート等を挙げることができ、これらを単独で用いても、2種以上を組み合わせて用いてもよい。
The number average molecular weight of the diol of the formula (2) is preferably 500 to 5000, more preferably 750 to 4000, and particularly preferably 1000 to 3000.
The polyisocyanate (that is, (raw material c)) to be reacted with the polyol of (raw material b) is not particularly limited as long as it is a compound having two or more isocyanato groups. Specific examples of the polyisocyanate include 1,3-cyclohexane diisocyanate, 1,4-cyclohexane diisocyanate, isophorone diisocyanate, methylene bis (4-cyclohexyl isocyanate), 1,3-bis (isocyanatomethyl) cyclohexane, 1,4-bis. (Isocyanatomethyl) cycloaliphatic polyisocyanates such as biuret of cyclohexane, norbornene diisocyanate and isophorone diisocyanate; diphenylmethane-2,4′-diisocyanate, 3,2′-dimethyldiphenylmethane-2,4′-diisocyanate, 3,3 '-Dimethyldiphenylmethane-2,4'-diisocyanate, 4,2'-dimethyldiphenylmethane-2,4'-diisocyanate, 4,3'-dimethyldiphenylmethane- , 4′-diisocyanate, 5,2′-dimethyldiphenylmethane-2,4′-diisocyanate, 5,3′-dimethyldiphenylmethane-2,4′-diisocyanate, 6,2′-dimethyldiphenylmethane-2,4′-diisocyanate 6,3′-dimethyldiphenylmethane-2,4′-diisocyanate, 3,2′-diethyldiphenylmethane-2,4′-diisocyanate, 3,3′-diethyldiphenylmethane-2,4′-diisocyanate, 4,2 ′ -Diethyldiphenylmethane-2,4'-diisocyanate, 4,3'-diethyldiphenylmethane-2,4'-diisocyanate, 5,2'-diethyldiphenylmethane-2,4'-diisocyanate, 5,3'-diethyldiphenylmethane-2 , 4'-diisocyanate, 6,2'-diethyldiphenyl Tan-2,4′-diisocyanate, 6,3′-diethyldiphenylmethane-2,4′-diisocyanate, 3,2′-dimethoxydiphenylmethane-2,4′-diisocyanate, 3,3′-dimethoxydiphenylmethane-2,4 '-Diisocyanate, 4,2'-dimethoxydiphenylmethane-2,4'-diisocyanate, 4,3'-dimethoxydiphenylmethane-2,4'-diisocyanate, 5,2'-dimethoxydiphenylmethane-2,4'-diisocyanate, 5 3,3′-dimethoxydiphenylmethane-2,4′-diisocyanate, 6,2′-dimethoxydiphenylmethane-2,4′-diisocyanate, 6,3′-dimethoxydiphenylmethane-2,4′-diisocyanate, diphenylmethane-4,4 ′ -Diisocyanate, diphenylmethane-3 , 3′-diisocyanate, diphenylmethane-3,4′-diisocyanate, diphenyl ether-4,4′-diisocyanate, benzophenone-4,4′-diisocyanate, diphenylsulfone-4,4′-diisocyanate, 2,4-tolylene diisocyanate Fragrance such as 2,6-tolylene diisocyanate, m-xylylene diisocyanate, p-xylylene diisocyanate, 1,5-naphthalene diisocyanate, 4,4 ′-[2,2bis (4-phenoxyphenyl) propane] diisocyanate A polyisocyanate having a ring;
Chain aliphatic polyisocyanates such as biuret of hexamethylene diisocyanate, lysine triisocyanate, lysine diisocyanate, hexamethylene diisocyanate, 2,4,4-trimethylhexamethylene diisocyanate and 2,2,4-trimethylhexanemethylene diisocyanate;
Examples thereof include polyisocyanates having a heterocyclic ring such as isocyanurate of isophorone diisocyanate and isocyanurate of hexamethylene diisocyanate, and these may be used alone or in combination of two or more.

合成されたウレタン結合を有しかつ末端にイソシアナト基を有する化合物と、この後反応をさせる(原料a)酸無水物基を有する3価および/または4価のポリカルボン酸誘導体との反応性を考慮すると、これらの中で、好ましいものとしては、芳香環を有するポリイソシアネートであり、さらに好ましくは、ジフェニルメタン−4,4'−ジイソシアネート、ジフェニルメタン−3,3'−ジイソシアネート、ジフェニルメタン−3,4'−ジイソシアネート、ジフェニルエーテル−4,4'−ジイソシアネート等の芳香環を有するポリイソシアネートであり、最も好ましくは、ジフェニルメタン−4,4'−ジイソシアネートである。   The reactivity between the synthesized compound having a urethane bond and an isocyanato group at the terminal and the trivalent and / or tetravalent polycarboxylic acid derivative having an acid anhydride group to be reacted thereafter (raw material a) In consideration, among these, polyisocyanates having an aromatic ring are preferable, and diphenylmethane-4,4′-diisocyanate, diphenylmethane-3,3′-diisocyanate, diphenylmethane-3,4 ′ are more preferable. -Polyisocyanates having an aromatic ring such as diisocyanate and diphenyl ether-4,4'-diisocyanate, and most preferably diphenylmethane-4,4'-diisocyanate.

また、ポリイソシアネートは、経日変化を避けるためにイソシアナト基がブロック剤で安定化されていてもよい。ブロック剤としては、ヒドロキシアクリレート、メタノール、2−ブタノンオキシムを代表とするアルコール、フェノール、オキシムが挙げられるが、特に制限はない。   In addition, in the polyisocyanate, an isocyanato group may be stabilized with a blocking agent in order to avoid changes over time. Examples of the blocking agent include hydroxy acrylate, methanol, alcohols such as 2-butanone oxime, phenol, and oxime, but there is no particular limitation.

(原料b)のポリオールと(原料c)のポリイソシアネートとの反応は、有機溶媒、好ましくは非含窒素系極性溶媒の存在下に、これらを加熱して反応させることにより行うことができる。   The reaction of the polyol of (raw material b) and the polyisocyanate of (raw material c) can be carried out by heating and reacting them in the presence of an organic solvent, preferably a non-nitrogen-containing polar solvent.

上記非含窒素系極性溶媒は、例えば、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、トリエチレングリコールジメチルエーテル及びトリエチレングリコールジエチルエーテル等のエーテル系溶媒;ジメチルスルホキシド、ジエチルスルホキシド、ジメチルスルホン及びスルホラン等の含硫黄系溶媒;γ−ブチロラクトン及び酢酸セロソルブ等のエステル系溶媒;シクロヘキサノン及びメチルエチルケトン等のケトン系溶媒;並びに、トルエン及びキシレン等の芳香族炭化水素系溶媒から選ばれる。これらは1種類を単独で又は2種類以上組み合わせて使用することができる。   Examples of the non-nitrogen-containing polar solvent include ether solvents such as diethylene glycol dimethyl ether, diethylene glycol diethyl ether, triethylene glycol dimethyl ether, and triethylene glycol diethyl ether; sulfur-containing solvents such as dimethyl sulfoxide, diethyl sulfoxide, dimethyl sulfone, and sulfolane. An ester solvent such as γ-butyrolactone and cellosolve acetate; a ketone solvent such as cyclohexanone and methyl ethyl ketone; and an aromatic hydrocarbon solvent such as toluene and xylene. These can be used alone or in combination of two or more.

上記溶媒の中でも、生成する樹脂が溶解可能な溶媒を選択して使用するのが好ましい。
また、合成後、そのまま熱硬化性樹脂組成物の溶媒として好適なものを使用することが好ましい。上記溶媒の中でも、揮発性と効率良く均一系で反応を行うこととを考慮すると、シクロヘキサノン、γ−ブチロラクトン及びジエチレングリコールジエチルエーテルが特に好ましい。
Among the above solvents, it is preferable to select and use a solvent in which the resin to be generated can be dissolved.
Moreover, it is preferable to use what is suitable as a solvent of a thermosetting resin composition as it is after a synthesis | combination. Among these solvents, cyclohexanone, γ-butyrolactone, and diethylene glycol diethyl ether are particularly preferable in view of volatility and efficient reaction in a homogeneous system.

溶媒の使用量は、(A1−1)化合物を合成する原材料の総量100質量部に対して、80〜500質量部であることが好ましい。この使用量が、(A1−1)化合物を合成する原材料の総量100質量部に対して、80〜500質量部であると、合成時の粘度も高くなりすぎず、攪拌不能により合成が困難になることもなくかつ反応速度も極端に低下することもなく好ましい。The amount of the solvent to be used, relative to (A 1 -1) 100 parts by mass of the total amount of the raw materials for synthesizing the compounds is preferably 80 to 500 parts by weight. When the amount used is 80 to 500 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the total amount of raw materials for synthesizing the (A 1 -1) compound, the viscosity at the time of synthesis does not become too high, and synthesis is difficult due to inability to stir. It is preferable that the reaction rate is not extremely reduced.

反応温度は、60〜210℃であることが好ましく、70〜190℃であることがより好ましく、80〜180℃であることが特に好ましい。この温度が60℃未満では反応時間が長くなり過ぎる傾向があり、210℃を超えると反応中ゲル化が起こり易くなる傾向がある。反応時間は、反応容器の容量、採用される反応条件により適宜選択することができる。   The reaction temperature is preferably 60 to 210 ° C, more preferably 70 to 190 ° C, and particularly preferably 80 to 180 ° C. If this temperature is less than 60 ° C, the reaction time tends to be too long, and if it exceeds 210 ° C, gelation tends to occur during the reaction. The reaction time can be appropriately selected depending on the capacity of the reaction vessel and the reaction conditions employed.

必要に応じて、三級アミン類、アルカリ金属、アルカリ土類金属、スズ、亜鉛、チタニウム、コバルト等の金属又は半金属化合物等の触媒存在下に反応を行ってもよい。 (原料b)のポリオールと(原料c)のポリイソシアネートとを反応させる際の配合割合は、生成する(A1−1)化合物の数平均分子量どのくらいにするかに応じて、適宜調整される。ただし、生成する(A1−1)化合物の末端をイソシアナト基にするので、(原料b)の水酸基数<(原料c)のイソシアナト基数である必要がある。If necessary, the reaction may be performed in the presence of a catalyst such as a tertiary amine, an alkali metal, an alkaline earth metal, a metal such as tin, zinc, titanium, cobalt, or a metalloid compound. The blending ratio at the time of reacting the polyol of (raw material b) and the polyisocyanate of (raw material c) is appropriately adjusted according to how many the number average molecular weight of the (A 1 -1) compound to be produced is. However, since the terminal of the compound (A 1 -1) to be generated is an isocyanato group, it is necessary that the number of hydroxyl groups in (raw material b) <the number of isocyanate groups in (raw material c).

末端にイソシアナト基を有する(A1−1)化合物を合成する場合、イソシアナト基数と水酸基数との比率(イソシアナト基数/水酸基数)が、1.01以上になるように調整することが好ましく、2.0以下に調整することがより好ましい。When synthesizing a compound (A 1 -1) having an isocyanato group at the terminal, the ratio between the number of isocyanato groups and the number of hydroxyl groups (the number of isocyanato groups / the number of hydroxyl groups) is preferably adjusted to be 1.01 or more. It is more preferable to adjust to 0.0 or less.

末端にイソシアナト基を有する(A1−1)化合物の数平均分子量は、500〜30000であることが好ましく、1000〜25000であることがより好ましく、1500〜20000であることが特に好ましい。The number average molecular weight of the (A 1 -1) compound having an isocyanato group at the terminal is preferably 500 to 30000, more preferably 1000 to 25000, and particularly preferably 1500 to 20000.

末端にイソシアナト基を有する(A1−1)化合物と、(原料a)酸無水物基を有する3価および/または4価のポリカルボン酸誘導体を反応させて、ウレタン結合と、アミド結合および/またはイミド結合とを有する化合物を生成させる。なお、(原料a)が酸無水物基を有する3価のポリカルボン酸誘導体の場合は、1組の酸無水物と1つカルボキシル基を有することとなる。また(原料a)が酸無水物基を有する4価のポリカルボン酸誘導体の場合は、2組の酸無水物を有するか、1組の酸無水物基と2つカルボキシル基を有することとなる。上記カルボキシル基はアルコールとエステル結合を形成して誘導体となってもよい。ここでポリカルボン酸誘導体とは、酸無水物基を有するポリカルボン酸、あるいはそのカルボン酸エステルなどの誘導体を意味するものとする。The (A 1 -1) compound having an isocyanato group at the terminal and the (raw material a) trivalent and / or tetravalent polycarboxylic acid derivative having an acid anhydride group are reacted to form a urethane bond, an amide bond and / or Alternatively, a compound having an imide bond is generated. In addition, when (raw material a) is a trivalent polycarboxylic acid derivative having an acid anhydride group, it has one set of acid anhydride and one carboxyl group. When (raw material a) is a tetravalent polycarboxylic acid derivative having an acid anhydride group, it has two sets of acid anhydrides, or one set of acid anhydride groups and two carboxyl groups. . The carboxyl group may form a derivative by forming an ester bond with alcohol. Here, the polycarboxylic acid derivative means a polycarboxylic acid having an acid anhydride group or a derivative such as a carboxylic acid ester thereof.

酸無水物基を有する3価のポリカルボン酸誘導体としては、特に限定されないが、例えば、下記一般式(3)又は(4)で表される化合物を挙げることができる。   Although it does not specifically limit as a trivalent polycarboxylic acid derivative which has an acid anhydride group, For example, the compound represented by following General formula (3) or (4) can be mentioned.

Figure 2017183496
(式(3)中、R3は、水素原子、炭素数1〜10のアルキル基又はフェニル基を表す。
Figure 2017183496
(In formula (3), R 3 represents a hydrogen atom, an alkyl group or a phenyl group having 1 to 10 carbon atoms.
)

Figure 2017183496
(式(4)中、R4は、水素原子、炭素数1〜10のアルキル基又はフェニル基を表し、Y1は、−CH2−、−CO−、−SO2−、または−O−を表す。)
Figure 2017183496
(In formula (4), R 4 represents a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, or a phenyl group, and Y 1 represents —CH 2 —, —CO—, —SO 2 —, or —O—. Represents.)

上記のR3、R4としては、水素原子が好ましく、Y1としては、−CO−、または−O−が好ましい。
なかでも酸無水物基を有する3価のポリカルボン酸誘導体としては、コスト面等から、無水トリメリット酸が特に好ましい。
酸無水物基を有する4価のポリカルボン酸誘導体についても特に限定されないが、例えば、下記一般式(5)で表されるテトラカルボン酸二無水物を挙げることができる。これらは、1種を単独で又は2種以上を組み合わせて使用することができる。
R 3 and R 4 are preferably a hydrogen atom, and Y 1 is preferably —CO— or —O—.
Among these, as the trivalent polycarboxylic acid derivative having an acid anhydride group, trimellitic anhydride is particularly preferable from the viewpoint of cost.
Although it does not specifically limit about the tetravalent polycarboxylic acid derivative which has an acid anhydride group, For example, the tetracarboxylic dianhydride represented by following General formula (5) can be mentioned. These can be used alone or in combination of two or more.

Figure 2017183496
(式(5)中、Y2は、4価の有機基を示す。)
Figure 2017183496
(In formula (5), Y 2 represents a tetravalent organic group.)

式(5)で表されるテトラカルボン酸二無水物としては、特に限定されないが、例えば、ピロメリット酸二無水物、3,3',4,4'−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、2,3,2',3'−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、2,3,3',4'−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、3,3',4,4'−ジフェニルテトラカルボン酸二無水物、2,2',3,3'−ジフェニルテトラカルボン酸二無水物、4,4'−オキシジフタル酸二無水物、2,2−ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)プロパン二無水物、2,2−ビス(2,3−ジカルボキシフェニル)プロパン二無水物、1,1−ビス(2,3−ジカルボキシフェニル)エタン二無水物、1,1−ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)エタン二無水物、ビス(2,3−ジカルボキシフェニル)メタン二無水物、ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)メタン二無水物、ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)スルホン二無水物、3,4,9,10−ペリレンテトラカルボン酸二無水物、ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)エーテル二無水物、1,2,5,6−ナフタレンテトラカルボン酸二無水物、2,3,6,7−ナフタレンテトラカルボン酸二無水物、1,2,4,5−ナフタレンテトラカルボン酸二無水物、1,4,5,8−ナフタレンテトラカルボン酸二無水物、フェナンスレン−1,8,9,10−テトラカルボン酸二無水物、ピラジン−2,3,5,6−テトラカルボン酸二無水物、チオフェン−2,3,4,5−テトラカルボン酸二無水物、ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)ジメチルシラン二無水物、ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)ジフェニルシラン二無水物、1,4−ビス(3,4−ジカルボキシフェニルジメチルシリル)ベンゼン二無水物、1,3−ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)−1,1,3,3−テトラメチルジシクロヘキサン二無水物、p−フェニルビス(トリメリット酸モノエステル酸無水物)、エチレンテトラカルボン酸二無水物、1,2,3,4−ブタンテトラカルボン酸二無水物、デカホドロナフタレン−1,4,5,8−テトラカルボン酸二無水物、4,8−ジメチル−1,2,3,5,6,7−ヘキサヒドロナフタレン−1,2,5,6−テトラカルボン酸二無水物、シクロペンタン−1,2,3,4−テトラカルボン酸二無水物、ピロリジン−2,3,4,5−テトラカルボン酸二無水物、1,2,3,4−シクロブタンテトラカルボン酸二無水物、ビス(エキソ−ビシクロ[2,2,1]ヘプタン−2,3−ジカルボン酸無水物)スルホン、ビシクロ−(2,2,2)−オクト(7)−エン−2,3,5,6−テトラカルボン酸二無水物、2,2−ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)ヘキサフルオロプロパン二無水物、2,2−ビス[4−(3,4−ジカルボキシフェノキシ)フェニル]ヘキサフルオロプロパン二無水物、4,4'−ビス(3,4−ジカルボキシフェノキシ)ジフェニルスルフィド二無水物、1,4−ビス(2−ヒドロキシヘキサフルオロイソプロピル)ベンゼンビス(トリメリット酸無水物)、1,3−ビス(2−ヒドロキシヘキサフルオロイソプロピル)ベンゼンビス(トリメリット酸水物)、5−(2,5−ジオキソテトラヒドロフリル)−3−メチル−3−シクロヘキセン−1,2−ジカルボン酸無水物、テトラヒドロフラン−2,3,4,5−テトラカルボン酸二無水物、1,3,3a,4,5,9b−ヘキサヒドロ−5(テトラヒドロ−2,5−ジオキソ−3−フラニル)ナフト[1,2−c]フラン−1,3−ジオン、エチレングリコールビス(トリメリット酸無水物)(「エチレングリコールビスアンヒドロトリメリテート」または「TMEG」とも称する)などが挙げられる。   The tetracarboxylic dianhydride represented by the formula (5) is not particularly limited. For example, pyromellitic dianhydride, 3,3 ′, 4,4′-benzophenone tetracarboxylic dianhydride, 2 , 3,2 ′, 3′-benzophenone tetracarboxylic dianhydride, 2,3,3 ′, 4′-benzophenone tetracarboxylic dianhydride, 3,3 ′, 4,4′-diphenyltetracarboxylic dianhydride Anhydride, 2,2 ', 3,3'-diphenyltetracarboxylic dianhydride, 4,4'-oxydiphthalic dianhydride, 2,2-bis (3,4-dicarboxyphenyl) propane dianhydride 2,2-bis (2,3-dicarboxyphenyl) propane dianhydride, 1,1-bis (2,3-dicarboxyphenyl) ethane dianhydride, 1,1-bis (3,4-di Carboxyphenyl) ethane dianhydride, bis 2,3-dicarboxyphenyl) methane dianhydride, bis (3,4-dicarboxyphenyl) methane dianhydride, bis (3,4-dicarboxyphenyl) sulfone dianhydride, 3,4,9,10 -Perylenetetracarboxylic dianhydride, bis (3,4-dicarboxyphenyl) ether dianhydride, 1,2,5,6-naphthalenetetracarboxylic dianhydride, 2,3,6,7-naphthalenetetra Carboxylic dianhydride, 1,2,4,5-naphthalene tetracarboxylic dianhydride, 1,4,5,8-naphthalene tetracarboxylic dianhydride, phenanthrene-1,8,9,10-tetracarboxylic Acid dianhydride, pyrazine-2,3,5,6-tetracarboxylic dianhydride, thiophene-2,3,4,5-tetracarboxylic dianhydride, bis (3,4-dicarboxyphenyl) ) Dimethylsilane dianhydride, bis (3,4-dicarboxyphenyl) diphenylsilane dianhydride, 1,4-bis (3,4-dicarboxyphenyldimethylsilyl) benzene dianhydride, 1,3-bis ( 3,4-dicarboxyphenyl) -1,1,3,3-tetramethyldicyclohexane dianhydride, p-phenylbis (trimellitic acid monoester anhydride), ethylenetetracarboxylic dianhydride, 1, 2,3,4-butanetetracarboxylic dianhydride, decahodronaphthalene-1,4,5,8-tetracarboxylic dianhydride, 4,8-dimethyl-1,2,3,5,6, 7-hexahydronaphthalene-1,2,5,6-tetracarboxylic dianhydride, cyclopentane-1,2,3,4-tetracarboxylic dianhydride, pyrrolidine-2,3,4,5-tetra Rubonic dianhydride, 1,2,3,4-cyclobutanetetracarboxylic dianhydride, bis (exo-bicyclo [2,2,1] heptane-2,3-dicarboxylic anhydride) sulfone, bicyclo- ( 2,2,2) -oct (7) -ene-2,3,5,6-tetracarboxylic dianhydride, 2,2-bis (3,4-dicarboxyphenyl) hexafluoropropane dianhydride, 2,2-bis [4- (3,4-dicarboxyphenoxy) phenyl] hexafluoropropane dianhydride, 4,4′-bis (3,4-dicarboxyphenoxy) diphenyl sulfide dianhydride, 1,4 -Bis (2-hydroxyhexafluoroisopropyl) benzenebis (trimellitic anhydride), 1,3-bis (2-hydroxyhexafluoroisopropyl) benzenebis (trimeric Acid water), 5- (2,5-dioxotetrahydrofuryl) -3-methyl-3-cyclohexene-1,2-dicarboxylic acid anhydride, tetrahydrofuran-2,3,4,5-tetracarboxylic acid dianhydride 1,3,3a, 4,5,9b-hexahydro-5 (tetrahydro-2,5-dioxo-3-furanyl) naphtho [1,2-c] furan-1,3-dione, ethylene glycol bis ( Trimellitic anhydride) (also referred to as “ethylene glycol bisanhydro trimellitate” or “TMEG”).

好ましくは、テトラカルボン酸二無水物は、エチレングリコールビス(トリメリット酸無水物)(TMEG)、3,3',4,4'−ジフェニルテトラカルボン酸二無水物(BPDA)、ピロメリット酸二無水物(PMDA)、3,3',4,4'−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物(BTDA)、4,4'−オキシジフタル酸二無水物(ODPA)である。   Preferably, the tetracarboxylic dianhydride is ethylene glycol bis (trimellitic anhydride) (TMEG), 3,3 ′, 4,4′-diphenyltetracarboxylic dianhydride (BPDA), pyromellitic dianhydride. Anhydride (PMDA), 3,3 ′, 4,4′-benzophenonetetracarboxylic dianhydride (BTDA), 4,4′-oxydiphthalic dianhydride (ODPA).

これらのテトラカルボン酸二無水物は、単独で使用してもよく、または2種以上を混合して使用してもよい。
方法1においては、(A1−1)化合物を、(A1−1)化合物以外のポリイソシアネート(以下、(A1−2)化合物と記す。)とともに、前記(原料a)と反応させて、ウレタン結合と、アミド結合および/またはイミド結合とを有する化合物を得てもよい。(A1−2)化合物としては、(A1−1)化合物以外のポリイソシアネートであれば、特に限定されず、例えば、前記(原料c)等を挙げることができる。これらは、1種を単独で又は2種類以上を組み合わせて使用することができる。原料aの酸無水物基とカルボキシル基を合わせた総数と、A1−1中のイソシアナト基及びA1−2中のイソシアナト基数を合わせたイソシアナト基の総数の比は、特に制限はないが、0.9:1.0〜1.1:1.0の範囲であることが好ましく、さらに好ましくは、0.95:1.0〜1.05:1.0の範囲である。
These tetracarboxylic dianhydrides may be used alone or in combination of two or more.
In Method 1, the (A 1 -1) compound is reacted with the (raw material a) together with a polyisocyanate other than the (A 1 -1) compound (hereinafter referred to as (A 1 -2) compound). A compound having a urethane bond and an amide bond and / or an imide bond may be obtained. The (A 1 -2) compound is not particularly limited as long as it is a polyisocyanate other than the (A 1 -1) compound, and examples thereof include the (raw material c). These can be used individually by 1 type or in combination of 2 or more types. And the combined total of the acid anhydride group and a carboxyl group of the starting material a, the ratio of the total number of isocyanate groups of the combined isocyanate groups of isocyanate group and A 1 in -2 in A 1 -1 is not particularly limited, The range is preferably 0.9: 1.0 to 1.1: 1.0, and more preferably 0.95: 1.0 to 1.05: 1.0.

本実施形態においては、上記ポリイソシアネートと共にアミン化合物を併用することもできる。アミン化合物としては、上記ポリイソシアネート化におけるイソシアナト基をアミノ基に転換した化合物が挙げられる。イソシアナト基のアミノ基への転換は、公知の方法により行うことができる。   In this embodiment, an amine compound can be used in combination with the polyisocyanate. As an amine compound, the compound which converted the isocyanato group in the said polyisocyanate conversion into the amino group is mentioned. Conversion of the isocyanato group to an amino group can be performed by a known method.

(A1−2)化合物の総量の50〜100質量%が芳香族ポリイソシアネートであることが好ましい。この芳香族ポリイソシアネートは、溶解性、機械特性及びコスト面等のバランスを考慮すれば、ジフェニルメタン−4,4'−ジイソシアネートであることが特に好ましい。It is preferred 50 to 100 wt% of the total amount of (A 1 -2) compound is an aromatic polyisocyanate. The aromatic polyisocyanate is particularly preferably diphenylmethane-4,4′-diisocyanate in consideration of the balance of solubility, mechanical properties, cost and the like.

(方法2)の合成法では、先ず、(原料c)ポリイソシアネートと(原料a)酸無水物基を有する3価および/または4価のポリカルボン酸誘導体とを反応させて、イミド結合およびアミド結合の少なくとも1方の結合を有するポリイソシアネート(以下、「(A2−1)化合物」と記す。)を合成する。In the synthesis method of (Method 2), first, (raw material c) polyisocyanate and (raw material a) a trivalent and / or tetravalent polycarboxylic acid derivative having an acid anhydride group are reacted to form an imide bond and an amide. A polyisocyanate having at least one bond (hereinafter referred to as “(A 2 −1) compound”) is synthesized.

(原料c)のポリイソシアネートと(原料a)酸無水物基を有する3価および/または4価のポリカルボン酸誘導体とを反応させる際の配合割合は、生成する(A2−1)化合物の数平均分子量をどのくらいにするかに応じて、適宜調整される。ただし、生成する(A2−1)化合物の末端をイソシアナト基にするので、(原料a)の酸無水物基の数とカルボキシル基の数を合わせた総数<(原料c)のイソシアナト基数である必要がある。ここで、カルボキシル基の数には、式(3)で表される化合物における‐COOR3および式(4)で表される化合物における‐COOR4のように、R3およびR4が水素原子であるカルボキシル基の数も含む。The blending ratio when reacting the (raw material c) polyisocyanate with the (raw material a) trivalent and / or tetravalent polycarboxylic acid derivative having an acid anhydride group is the ratio of the compound (A 2 -1) to be produced. The number average molecular weight is appropriately adjusted depending on how much the molecular weight is made. However, since the terminal of the compound (A 2 -1) to be generated is an isocyanato group, the total number of the acid anhydride groups and the number of carboxyl groups in (raw material a) <the total number of isocyanato groups in (raw material c). There is a need. Here, the number of carboxyl groups includes R 3 and R 4 as hydrogen atoms, such as —COOR 3 in the compound represented by formula (3) and —COOR 4 in the compound represented by formula (4). Also includes the number of certain carboxyl groups.

なお、(方法2)の合成法で使用される(原料a)および(原料c)は、それぞれ、(方法1)の合成法で使用される(原料a)および (原料c)と同じものが使用される。 末端にイソシアナト基を有する(A2−1)化合物を合成する場合、イソシアナト基数と酸無水物基の数とカルボキシル基の数を合わせた総数との比率(イソシアナト基数/酸無水物基の数とカルボキシル基の数を合わせた総数)が、1.01以上になるように調整することが好ましく、2.0以下に調整することが好ましい。Note that (raw material a) and (raw material c) used in the synthesis method of (Method 2) are the same as (raw material a) and (raw material c) used in the synthesis method of (Method 1), respectively. used. When synthesizing a compound (A 2 -1) having an isocyanato group at the terminal, the ratio of the number of isocyanato groups, the number of acid anhydride groups and the total number of carboxyl groups (the number of isocyanato groups / the number of acid anhydride groups) The total number of carboxyl groups is preferably adjusted to be 1.01 or more, and is preferably adjusted to 2.0 or less.

末端にイソシアナト基を有する(A2−1)化合物の数平均分子量は、500〜15000であることが好ましく、800〜10000であることがより好ましく、1000〜5000であることが特に好ましい。The number average molecular weight of the (A 2 -1) compound having an isocyanato group at the terminal is preferably 500 to 15000, more preferably 800 to 10,000, and particularly preferably 1,000 to 5,000.

次に、末端にイソシアナト基を有する(A2−1)化合物と、(原料b)式(2)で表されるポリオールを反応させて、ウレタン結合と、アミド結合および/またはイミド結合とを有する化合物を生成させる。Next, the (A 2 -1) compound having an isocyanato group at the terminal is reacted with the polyol represented by (raw material b) formula (2) to have a urethane bond and an amide bond and / or an imide bond. A compound is formed.

また、末端にイソシアナト基を有する(A2−1)化合物と、(原料b)式(2)で表されるポリオールを反応させる際に、2,2−ジメチロールプロピオン酸や2,2−ジメチロールブタン酸のようなカルボキシル基を有するポリオールを一緒に用いることもできる。Further, when reacting the (A 2 -1) compound having an isocyanato group at the terminal with the polyol represented by (raw material b) formula (2), 2,2-dimethylolpropionic acid or 2,2-dioxy A polyol having a carboxyl group such as methylol butanoic acid can also be used together.

2−1中のイソシアナト基の総数と、原料b中の水酸基数、及び2,2−ジメチロールプロピオン酸や2,2−ジメチロールブタン酸のようなカルボキシル基を有するポリオール中の水酸基数を合わせた水酸基の総数の比は、特に制限はないが、A2−1中にアミド基を有する場合には、0.9:1.0〜1.1:1.0の範囲であることが好ましく、さらに好ましくは、0.95:1.0〜1.05:1.0の範囲である。また、A2−1中にアミド基を有さずかつ2,2−ジメチロールプロピオン酸や2,2−ジメチロールブタン酸のようなカルボキシル基を有するポリオールも使用しない場合には、0.9:1.0〜0.95:1.0の範囲、あるいは1.0:0.95〜1.0:0.9の範囲であることが好ましい。The total number of isocyanate groups in A 2 -1, number of hydroxyl groups in the starting material b, and 2,2 number of hydroxyl groups in the polyol having a carboxyl group such as dimethylol propionic acid and 2,2-dimethylol butanoic acid The ratio of the total number of combined hydroxyl groups is not particularly limited, but when A 2 -1 has an amide group, it may be in the range of 0.9: 1.0 to 1.1: 1.0. More preferably, it is the range of 0.95: 1.0 to 1.05: 1.0. When a polyol having no amide group in A 2 -1 and having a carboxyl group such as 2,2-dimethylolpropionic acid or 2,2-dimethylolbutanoic acid is not used, 0.9. : 1.0 to 0.95: 1.0, or 1.0: 0.95 to 1.0: 0.9.

なお、(方法2)の合成法で使用される(原料b)は、前記(方法1)で説明した(原料b)と同じものを使用することができる。さらに、ポリオールを更に追加して末端イソシアナト基と追加したポリオールとの反応でウレタン結合が生成させてもよい。   The (raw material b) used in the synthesis method of (Method 2) can be the same as the (raw material b) described in (Method 1). Further, a polyol may be further added to form a urethane bond by a reaction between the terminal isocyanate group and the added polyol.

(方法3)の合成法では、先ず、(原料c)ポリイソシアネートと(原料a)酸無水物基を有する3価および/または4価のポリカルボン酸誘導体とを反応させて、イミド結合およびアミド結合の少なくとも1方の結合を有しかつ末端に酸無水物基および/またはカルボキシル基を有する化合物(以下、「(A3−1)化合物」と記す。)を合成する。In the synthesis method of (Method 3), first, (raw material c) polyisocyanate and (raw material a) a trivalent and / or tetravalent polycarboxylic acid derivative having an acid anhydride group are reacted to form an imide bond and an amide. A compound having at least one of the bonds and having an acid anhydride group and / or a carboxyl group at the terminal (hereinafter referred to as “(A 3 -1) compound”) is synthesized.

(原料c)のポリイソシアネートと(原料a)酸無水物基を有する3価および/または4価のポリカルボン酸誘導体とを反応させる際の配合割合は、生成する(A3−1)化合物の数平均分子量をどのくらいにするかに応じて、適宜調整される。ただし、生成する(A3−1)化合物の末端を酸無水物基および/またはカルボキシル基にするので、(原料a)の酸無水物基の数とカルボキシル基の数を合わせた総数>(原料c)のイソシアナト基数である必要がある。ここで、カルボキシル基の数には、式(3)で表される化合物における‐COOR3および式(4)で表される化合物における‐COOR4のように、R3およびR4が水素原子であるカルボキシル基の数も含む。The blending ratio when reacting the (raw material c) polyisocyanate with the (raw material a) trivalent and / or tetravalent polycarboxylic acid derivative having an acid anhydride group is the ratio of the compound (A 3 -1) to be produced. The number average molecular weight is appropriately adjusted depending on how much the molecular weight is made. However, since the terminal of the generated (A 3 -1) compound is an acid anhydride group and / or a carboxyl group, the total number of the acid anhydride group and the number of carboxyl groups in (raw material a)> (raw material c) the number of isocyanate groups. Here, the number of carboxyl groups includes R 3 and R 4 as hydrogen atoms, such as —COOR 3 in the compound represented by formula (3) and —COOR 4 in the compound represented by formula (4). Also includes the number of certain carboxyl groups.

なお、(方法3)の合成法で使用される(原料a)および(原料c)は、それぞれ、(方法1)の合成法で使用される(原料a)および (原料c)と同じものが使用される。
末端に酸無水物基および/またはカルボキシル基を有する(A3−1)化合物を合成する場合、酸無水物基の数とカルボキシル基の数を合わせた総数とイソシアナト基数との比率(酸無水物基の数とカルボキシル基の数を合わせた総数/イソシアナト基数)が、1.01以上になるように調整することが好ましく、2.0以下に調整することが好ましい。
Note that (raw material a) and (raw material c) used in the synthesis method of (Method 3) are the same as (raw material a) and (raw material c) used in the synthesis method of (Method 1), respectively. used.
When synthesizing a compound having an acid anhydride group and / or carboxyl group at the terminal (A 3 -1), the ratio of the total number of acid anhydride groups and the number of carboxyl groups to the number of isocyanate groups (acid anhydride) The total number of the groups and the number of carboxyl groups / isocyanato group number) is preferably adjusted to 1.01 or more, and more preferably to 2.0 or less.

末端に酸無水物基および/またはカルボキシル基を有する(A3−1)化合物の数平均分子量は、500〜15000であることが好ましく、800〜10000であることがより好ましく、1000〜5000であることが特に好ましい。The number average molecular weight of the (A 3 -1) compound having an acid anhydride group and / or a carboxyl group at the terminal is preferably 500 to 15,000, more preferably 800 to 10,000, and 1,000 to 5,000. It is particularly preferred.

次に、末端に酸無水物基および/またはカルボキシル基を有する(A3−1)化合物と、(原料b)式(2)で表されるポリオールを反応させて、アミド結合および/またはイミド結合とを有する化合物を生成させる。A3−1中の酸無水物基の総数と、原料b中の水酸基数の比は、特に制限はないが、0.9:1.0〜1.1:1.0の範囲であることが好ましく、さらに好ましくは、0.95:1.0〜1.05:1.0の範囲である。Next, the (A 3 -1) compound having an acid anhydride group and / or carboxyl group at the terminal is reacted with the polyol represented by (raw material b) formula (2) to form an amide bond and / or an imide bond. To produce a compound having: The ratio of the total number of acid anhydride groups in A 3 -1 to the number of hydroxyl groups in the raw material b is not particularly limited, but should be in the range of 0.9: 1.0 to 1.1: 1.0. Is more preferable, and the range of 0.95: 1.0 to 1.05: 1.0 is more preferable.

なお、(方法3)の合成法で使用される(原料b)は、前記(方法1)で説明した(原料b)と同じものを使用することができる。
耐薬品性及び電気特性の向上、酸価等の官能基のコントロールの観点からは、最初の反応で、末端にイソシアナト基を有する化合物を得る方法(即ち、(方法1)と(方法2))が好ましい。
The (raw material b) used in the synthesis method of (Method 3) can be the same as the (raw material b) described in (Method 1).
From the viewpoint of improving chemical resistance and electrical properties, and controlling functional groups such as acid value, a method for obtaining a compound having an isocyanato group at the terminal in the first reaction (that is, (Method 1) and (Method 2)) Is preferred.

これら(方法1)〜(方法3)の反応は、有機溶媒、好ましくは非含窒素系極性溶媒の存在下に、これらを加熱させることにより行うことができる。
上記非含窒素系極性溶媒は、例えば、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、トリエチレングリコールジメチルエーテル及びトリエチレングリコールジエチルエーテル等のエーテル系溶媒;ジメチルスルホキシド、ジエチルスルホキシド、ジメチルスルホン及びスルホラン等の含硫黄系溶媒;γ−ブチロラクトン及び酢酸セロソルブ等のエステル系溶媒;シクロヘキサノン及びメチルエチルケトン等のケトン系溶媒;並びに、トルエン及びキシレン等の芳香族炭化水素系溶媒から選ばれる。これらは1種類を単独で又は2種類以上組み合わせて使用することができる。
The reactions of (Method 1) to (Method 3) can be performed by heating them in the presence of an organic solvent, preferably a non-nitrogen-containing polar solvent.
Examples of the non-nitrogen-containing polar solvent include ether solvents such as diethylene glycol dimethyl ether, diethylene glycol diethyl ether, triethylene glycol dimethyl ether, and triethylene glycol diethyl ether; sulfur-containing solvents such as dimethyl sulfoxide, diethyl sulfoxide, dimethyl sulfone, and sulfolane. An ester solvent such as γ-butyrolactone and cellosolve acetate; a ketone solvent such as cyclohexanone and methyl ethyl ketone; and an aromatic hydrocarbon solvent such as toluene and xylene. These can be used alone or in combination of two or more.

上記溶媒の中でも、生成する樹脂が溶解可能な溶媒を選択して使用するのが好ましい。また、合成後、そのまま熱硬化性組成物の溶媒として好適なものを使用することが好ましい。上記溶媒の中でも、効率良く均一系で反応を行うためには、γ−ブチロラクトンや、γ−ブチロラクトンを含む混合溶媒であることが好ましい。   Among the above solvents, it is preferable to select and use a solvent in which the resin to be generated can be dissolved. Moreover, it is preferable to use what is suitable as a solvent of a thermosetting composition as it is after a synthesis | combination. Among the above solvents, in order to perform the reaction in a homogeneous system efficiently, γ-butyrolactone and a mixed solvent containing γ-butyrolactone are preferable.

(成分A)を合成するために、溶媒の使用量は、(成分A)の総量に対して、0.8〜5.0倍(質量比)であることが好ましい。この使用量が0.8〜5.0であると、合成時の粘度が高くなりすぎずかつ反応速度の低下も引き起こさないので好ましい。   In order to synthesize (Component A), the amount of solvent used is preferably 0.8 to 5.0 times (mass ratio) with respect to the total amount of (Component A). It is preferable that the amount used is 0.8 to 5.0 because the viscosity at the time of synthesis does not become too high and the reaction rate does not decrease.

反応温度は、60〜210℃であることが好ましく、70〜190℃であることがより好ましく、80〜180℃であることが特に好ましい。この温度が60℃未満では反応時間が長くなり過ぎる傾向があり、210℃を超えると反応中ゲル化が起こり易くなる傾向がある。反応時間は、反応容器の容量、採用される反応条件により適宜選択することができる。   The reaction temperature is preferably 60 to 210 ° C, more preferably 70 to 190 ° C, and particularly preferably 80 to 180 ° C. If this temperature is less than 60 ° C, the reaction time tends to be too long, and if it exceeds 210 ° C, gelation tends to occur during the reaction. The reaction time can be appropriately selected depending on the capacity of the reaction vessel and the reaction conditions employed.

必要に応じて、三級アミン類、アルカリ金属、アルカリ土類金属、スズ、亜鉛、チタニウム、コバルト等の金属又は半金属化合物等の触媒存在下に反応を行ってもよい。
なお、本明細書において、数平均分子量は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー(GPC)によって測定し、標準ポリスチレンの検量線を用いて換算した値を意味する。
数平均分子量、質量平均分子量及び分散度は、以下のように定義される。
(a)数平均分子量(Mn)
Mn=Σ(Nii)/ΣNi=ΣXii
(Xi=分子量Miの分子のモル分率=Ni/ΣNi
(b)質量平均分子量(Mw)
Mw=Σ(Nii 2)/ΣNii=ΣWii
(Wi=分子量Miの分子の質量分率=Nii/ΣNii
(c)分子量分布(分散度)
分散度=Mw/Mn
If necessary, the reaction may be performed in the presence of a catalyst such as a tertiary amine, an alkali metal, an alkaline earth metal, a metal such as tin, zinc, titanium, cobalt, or a metalloid compound.
In the present specification, the number average molecular weight means a value measured by gel permeation chromatography (GPC) and converted using a standard polystyrene calibration curve.
The number average molecular weight, mass average molecular weight, and degree of dispersion are defined as follows.
(A) Number average molecular weight (Mn)
Mn = Σ (N i M i ) / ΣN i = ΣX i M i
(X i = Mole fraction of molecules with molecular weight M i = N i / ΣN i )
(B) Mass average molecular weight (Mw)
Mw = Σ (N i M i 2 ) / ΣN i M i = ΣW i M i
(W i = mass fraction of molecules with molecular weight M i = N i M i / ΣN i M i )
(C) Molecular weight distribution (dispersion degree)
Dispersity = Mw / Mn

また、本明細書においては、特に断りのない限り、GPCの測定条件は以下のとおりである。
装置名:日本分光株式会社製HPLCユニット HSS−2000
カラム:Shodex(登録商標)カラムLF−804×3本(直列)
移動相:テトラヒドロフラン
流速:1.0mL/min
検出器:日本分光株式会社製RI−2031Plus
温度:40.0℃
試料量:サンプルループ 100μリットル
試料濃度:0.1質量%前後に調整。
Moreover, in this specification, unless otherwise indicated, the measurement conditions of GPC are as follows.
Device name: HPLC unit HSS-2000 manufactured by JASCO Corporation
Column: Shodex (registered trademark) column LF-804 × 3 (in series)
Mobile phase: Tetrahydrofuran Flow rate: 1.0 mL / min
Detector: JASCO Corporation RI-2031Plus
Temperature: 40.0 ° C
Sample amount: 100 μl of sample loop Sample concentration: adjusted to around 0.1% by mass.

(成分A)の酸価は、好ましくは10〜50mgKOH/gである。さらに、好ましくは、10〜35mgKOH/gであり、特に好ましくは、15〜30mgKOH/gである。(成分A)の酸価が10〜50mgKOH/gであると、反りが大きくなりすぎることもなく、硬化も十分であるために、耐候性や屈曲性等の低下を抑制でき、好ましい。   The acid value of (Component A) is preferably 10 to 50 mgKOH / g. Furthermore, Preferably it is 10-35 mgKOH / g, Most preferably, it is 15-30 mgKOH / g. When the acid value of (Component A) is from 10 to 50 mgKOH / g, the warpage is not excessively large and the curing is sufficient, so that it is possible to suppress a decrease in weather resistance, flexibility, and the like.

なお、(成分A)の酸価は、以下の方法により測定することができる。まず、(成分A)を含む溶液約1gを精秤する。その後、これに対して、イソプロピルアルコール/トルエン=1/2(質量比)の混合溶媒を30g添加し、均一に溶解する。得られた溶液に指示薬であるフェノールフタレインを適量添加し、0.1NのKOH溶液(アルコール性)を用いて滴定を行う。そして、滴定結果より以下の式(α):
A=10×Vf×56.1/(Wp×I)・・・・・式(α)
により酸価を算出する。式(α)中、Aは酸価(mgKOH/g)を示し、Vfは0.1NのKOH溶液の滴定量(mL)を示し、Wpは(成分A)を含む溶液の質量(g)を示し、Iは(成分A)を含む溶液の不揮発分の割合(質量%)を示す。
In addition, the acid value of (Component A) can be measured by the following method. First, about 1 g of the solution containing (Component A) is precisely weighed. Thereafter, 30 g of a mixed solvent of isopropyl alcohol / toluene = 1/2 (mass ratio) is added thereto and dissolved uniformly. An appropriate amount of phenolphthalein as an indicator is added to the obtained solution, and titration is performed using a 0.1N KOH solution (alcoholic). And from the titration result, the following formula (α):
A = 10 × Vf × 56.1 / (Wp × I) Expression (α)
To calculate the acid value. In the formula (α), A represents the acid value (mgKOH / g), Vf represents the titration amount (mL) of the 0.1N KOH solution, and Wp represents the mass (g) of the solution containing (Component A). I represents the proportion (% by mass) of the nonvolatile content of the solution containing (Component A).

このようにして得られる成分Aの数平均分子量は、5000〜50000であることが好ましく、6000〜40000であることがより好ましく、7000〜25000であることが特に好ましい。数平均分子量が5000〜50000であると、耐候性、又は耐薬品性の低下が抑制でき、非含窒素系極性溶媒への溶解性も維持できるので、好ましい。   The number average molecular weight of the component A thus obtained is preferably 5,000 to 50,000, more preferably 6,000 to 40,000, and particularly preferably 7,000 to 25,000. A number average molecular weight of 5,000 to 50,000 is preferable because it can suppress a decrease in weather resistance or chemical resistance and can maintain solubility in a non-nitrogen-containing polar solvent.

次に、本発明の硬化性組成物の必須成分である(成分B)について説明する。
本実施形態に係る硬化性組成物は、前記(成分A)を硬化させることのできる硬化剤を更に含有する。硬化剤としては、成分(A)の官能基と反応しうる官能基を1分子中に2個以上有する化合物である。成分(A)が、カルボキシル基、水酸基、酸無水物基、イソシアナト基、アミド基、アミノ基のいずれかを有するとき、成分(B)の硬化剤はそれらの官能基と反応するエポキシ基、イソシアナト基、水酸基、カルボキシル基を複数個有することが好ましい。
Next, (Component B) which is an essential component of the curable composition of the present invention will be described.
The curable composition which concerns on this embodiment further contains the hardening | curing agent which can harden the said (component A). The curing agent is a compound having two or more functional groups capable of reacting with the functional group of the component (A) in one molecule. When the component (A) has any of a carboxyl group, a hydroxyl group, an acid anhydride group, an isocyanato group, an amide group, and an amino group, the curing agent of the component (B) is an epoxy group or isocyanato that reacts with those functional groups. It preferably has a plurality of groups, hydroxyl groups and carboxyl groups.

硬化剤として使用されるエポキシ基含有化合物としては、1分子中にエポキシ基を有する1種以上の化合物でありかつその中の少なくとも1種が1分子中に2個以上のエポキシ基を有する化合物が含まれれば特に制限はない。   The epoxy group-containing compound used as a curing agent is one or more compounds having an epoxy group in one molecule, and at least one of them has two or more epoxy groups in one molecule. If included, there is no particular limitation.

硬化剤として使用されるエポキシ基含有化合物の具体例としては、フェノールノボラック型エポキシ樹脂、オルソクレゾールノボラック型エポキシ樹脂をはじめとするフェノール、クレゾール、キシレノール、レゾルシン、カテコール、フェノール類および/またはα−ナフトール、β−ナフトール、ジヒドロキシナフタレン等のナフトール類とホルムアルデヒド、アセトアルデヒド、プロピオンアルデヒド、ベンズアルデヒド、サリチルアルデヒド等のアルデヒド基を有する化合物とを酸性触媒下で縮合または共縮合させて得られるノボラック樹脂をエポキシ化したノボラック型エポキシ樹脂、ビスフェノールA、ビスフェノールF、ビスフェノールS、アルキル置換または非置換のビフェノール、スチルベン系フェノール類等のジグリシジルエーテル(ビスフェノールA型エポキシ化合物、ビスフェノールF型エポキシ化合物、ビスフェノールS型エポキシ化合物、ビフェニル型エポキシ化合物、スチルベン型エポキシ化合物)、ブタンジオール、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール等のアルコール類のグリシジルエーテル、フタル酸、イソフタル酸、テトラヒドロフタル酸等のカルボン酸類のグリシジルエステル型エポキシ樹脂、アニリン、ビス(4−アミノフェニル)メタン、イソシアヌル酸等の窒素原子に結合した活性水素をグリシジル基で置換したもの等のグリシジル型またはメチルグリシジル型のエポキシ樹脂、p−アミノフェノール等のアミノフェノール類の窒素原子に結合した活性水素およびフェノール性水酸基の活性水素をグリシジル基で置換したもの等のグリシジル型またはメチルグリシジル型のエポキシ樹脂、分子内のオレフィン結合をエポキシ化して得られるビニルシクロヘキセンジエポキシド、3,4−エポキシシクロヘキシルメチル−3,4−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート、2−(3,4−エポキシ)シクロヘキシル−5,5−スピロ(3,4−エポキシ)シクロヘキサン−m−ジオキサン等の脂環型エポキシ樹脂、パラキシリレンおよび/またはメタキシリレン変性フェノール樹脂のグリシジルエーテル、テルペン変性フェノール樹脂のグリシジルエーテル、ジシクロペンタジエン変性フェノール樹脂のグリシジルエーテル、シクロペンタジエン変性フェノール樹脂のグリシジルエーテル、多環芳香環変性フェノール樹脂のグリシジルエーテル、ナフタレン環含有フェノール樹脂のグリシジルエーテル、ハロゲン化フェノールノボラック型エポキシ樹脂、ハイドロキノン型エポキシ樹脂、トリメチロールプロパン型エポキシ樹脂、オレフィン結合を過酢酸等の過酸で酸化して得られる線状脂肪族エポキシ樹脂、ジフェニルメタン型エポキシ樹脂、フェノールアラルキル樹脂、ナフトールアラルキル樹脂等のアラルキル型フェノール樹脂のエポキシ化物、硫黄原子含有エポキシ樹脂、トリシクロ[5,2,1,02,6]デカンジメタノールのジグリシジルエーテル、1,3−ビス(1−アダマンチル)−4,6−ビス(グリシジロイル)ベンゼン、1−[2',4'−ビス(グリシジロイル)フェニル]アダマンタン、1,3−ビス(4'−グリシジロイルフェニル)アダマンタンおよび1,3−ビス[2',4'−ビス(グリシジロイル)フェニル]アダマンタン等のアダマンタン構造を有するエポキシ樹脂を挙げることができる。これらは1種単独でまたは2種以上組み合わせて使用することができる。   Specific examples of the epoxy group-containing compound used as the curing agent include phenol novolac type epoxy resins, orthocresol novolak type epoxy resins, phenol, cresol, xylenol, resorcin, catechol, phenols and / or α-naphthol. Epoxidized novolak resin obtained by condensation or cocondensation of naphthols such as β-naphthol and dihydroxynaphthalene with compounds having an aldehyde group such as formaldehyde, acetaldehyde, propionaldehyde, benzaldehyde and salicylaldehyde in the presence of an acidic catalyst Diglycidy such as novolak epoxy resin, bisphenol A, bisphenol F, bisphenol S, alkyl-substituted or unsubstituted biphenol, stilbene phenols Luether (bisphenol A type epoxy compound, bisphenol F type epoxy compound, bisphenol S type epoxy compound, biphenyl type epoxy compound, stilbene type epoxy compound), glycidyl ether of alcohols such as butanediol, polyethylene glycol, polypropylene glycol, phthalic acid, Glycidyl ester type epoxy resin of carboxylic acids such as isophthalic acid and tetrahydrophthalic acid, glycidyl type such as those in which active hydrogen bonded to nitrogen atom such as aniline, bis (4-aminophenyl) methane, isocyanuric acid is substituted with glycidyl group Alternatively, methyl glycidyl type epoxy resin, active hydrogen bonded to nitrogen atom of aminophenols such as p-aminophenol, and active hydrogen of phenolic hydroxyl group are replaced with glycidyl group Glycidyl type or methyl glycidyl type epoxy resin, vinylcyclohexene diepoxide obtained by epoxidizing an olefin bond in the molecule, 3,4-epoxycyclohexylmethyl-3,4-epoxycyclohexanecarboxylate, 2- ( Of alicyclic epoxy resins such as 3,4-epoxy) cyclohexyl-5,5-spiro (3,4-epoxy) cyclohexane-m-dioxane, glycidyl ether of paraxylylene and / or metaxylylene modified phenolic resin, terpene modified phenolic resin Glycidyl ether, glycidyl ether of dicyclopentadiene modified phenolic resin, glycidyl ether of cyclopentadiene modified phenolic resin, glycidyl ether of polycyclic aromatic ring modified phenolic resin, naphthalene -Containing phenolic resin glycidyl ether, halogenated phenol novolak epoxy resin, hydroquinone epoxy resin, trimethylolpropane epoxy resin, linear aliphatic epoxy resin obtained by oxidizing olefinic bonds with peracid such as peracetic acid, diphenylmethane Type epoxy resin, phenol aralkyl resin, epoxidized aralkyl type phenol resin such as naphthol aralkyl resin, sulfur atom-containing epoxy resin, diglycidyl ether of tricyclo [5,2,1,02,6] decandimethanol, 1,3 -Bis (1-adamantyl) -4,6-bis (glycidylyl) benzene, 1- [2 ', 4'-bis (glycidylyl) phenyl] adamantane, 1,3-bis (4'-glycidylylphenyl) adamantane And 1,3-bis [2 ' 4'-bis (Gurishijiroiru) phenyl] adamantane structure such as adamantane and epoxy resins having. These can be used alone or in combination of two or more.

前記1分子中に2個以上のエポキシ基を有する化合物としては、1分子中に2個以上のエポキシ基を有しかつ芳香環構造および/または脂環構造を有する化合物が好ましい。
後述の本発明の硬化膜の長期電気絶縁性能を重視する場合には、1分子中に2個以上のエポキシ基を有しかつ芳香環構造および/または脂環構造を有する化合物の中で、ジシクロペンタジエン変性フェノール樹脂のグリシジルエーテル(即ち、トリシクロ[5,2,1,02,6]デカン構造および芳香環構造を有しかつ2個以上のエポキシ基を有する化合物)、1,3−ビス(1−アダマンチル)−4,6−ビス(グリシジロイル)ベンゼン、1−[2',4'−ビス(グリシジロイル)フェニル]アダマンタン、1,3−ビス(4'−グリシジロイルフェニル)アダマンタンおよび1,3−ビス[2',4'−ビス(グリシジロイル)フェニル]アダマンタン等のアダマンタン構造を有するエポキシ樹脂(即ち、トリシクロ[3,3,1,13,7]デカン構造および芳香環構造を有しかつ2個以上のエポキシ基を有する化合物)等のトリシクロデカン構造および芳香環構造を有しかつ2個以上のエポキシ基を有する化合物が吸水率の低い硬化物を提供できるので好ましく、特に好ましくは、下記式(6)に記載の化合物である。
As the compound having two or more epoxy groups in one molecule, a compound having two or more epoxy groups in one molecule and having an aromatic ring structure and / or an alicyclic structure is preferable.
In the case where importance is attached to the long-term electrical insulation performance of the cured film of the present invention described later, among the compounds having two or more epoxy groups in one molecule and having an aromatic ring structure and / or an alicyclic structure, cyclopentadiene-modified phenolic resins of glycidyl ether (i.e., tricyclo [5,2,1,0 2,6] have decane structure and aromatic ring structure and a compound having two or more epoxy groups), 1,3-bis (1-adamantyl) -4,6-bis (glycidylyl) benzene, 1- [2 ′, 4′-bis (glycidylyl) phenyl] adamantane, 1,3-bis (4′-glycidylylphenyl) adamantane and 1 Epoxy resin having an adamantane structure such as 3,3-bis [2 ′, 4′-bis (glycidylyl) phenyl] adamantane (ie, tricyclo [3,3,1,1 3,7 ] decane A compound having a tricyclodecane structure and an aromatic ring structure and having two or more epoxy groups, such as a compound having a structure and an aromatic ring structure and having two or more epoxy groups). It is preferable because it can be provided, and a compound represented by the following formula (6) is particularly preferable.

Figure 2017183496
(式(6)中のmは正の整数を表す。)
Figure 2017183496
(M in the formula (6) represents a positive integer.)

一方、本発明の前述の(成分A)との反応性を重視する場合には、1分子中に2個以上のエポキシ基を有しかつ芳香環構造および/または脂環構造を有する化合物の中で、アニリン、ビス(4−アミノフェニル)メタンの窒素原子に結合した活性水素をグリシジル基で置換したもの等のグリシジル型またはメチルグリシジル型のエポキシ樹脂、p−アミノフェノール等のアミノフェノール類の窒素原子に結合した活性水素およびフェノール性水酸基の活性水素をグリシジル基で置換したもの等のグリシジル型またはメチルグリシジル型のエポキシ樹脂等のアミノ基および芳香環構造を有しかつ2個以上のエポキシ基を有する化合物が好ましく、特に好ましくは、下記式(7)に記載の化合物である。   On the other hand, when importance is attached to the reactivity with the aforementioned (Component A) of the present invention, among compounds having two or more epoxy groups in one molecule and having an aromatic ring structure and / or an alicyclic structure. , Glycidyl-type or methylglycidyl-type epoxy resins such as those in which active hydrogen bonded to the nitrogen atom of aniline or bis (4-aminophenyl) methane is substituted with a glycidyl group, nitrogen of aminophenols such as p-aminophenol An amino group and an aromatic ring structure such as an active hydrogen bonded to an atom and an active hydrogen of a phenolic hydroxyl group substituted with a glycidyl group or an epoxy resin of a methyl glycidyl type, and two or more epoxy groups The compound which has is preferable, Especially preferably, it is a compound as described in following formula (7).

Figure 2017183496
Figure 2017183496

また、硬化剤として使用されるイソシアナト基を複数個有する化合物、即ちポリイソシアネート化合物としては、例えば、ジイソシアネート化合物、トリイソシアネート、その他4官能以上のイソシアネートが挙げられる。(成分A)と硬化剤とを混合した際の経日変化のことを考慮すると、イソシアナト基がブロック剤で安定化されたポリイソシアネート化合物を使用することが好ましい。これらは1種単独でまたは2種以上組み合わせて使用することができる。   Examples of the compound having a plurality of isocyanato groups used as a curing agent, that is, a polyisocyanate compound, include diisocyanate compounds, triisocyanates, and other tetrafunctional or higher functional isocyanates. Considering the change over time when (Component A) and the curing agent are mixed, it is preferable to use a polyisocyanate compound in which an isocyanato group is stabilized with a blocking agent. These can be used alone or in combination of two or more.

ブロック剤としては、アルコール、フェノール、オキシム等が挙げられるが、特に制限はない。このブロックイソシアネートとしては、例えば、旭化成ケミカルズ社製の商品名「DURANATE17B−60PX、TPA−B80E、MF−B60X、MF−K60X、E402−B80T」、昭和電工社製の商品名「カレンズMOI−BM、MOI−BP」、住化バイエルウレタン社製の商品名「BL−3175、BL−4165、デスモカップ11、デスモカップ−12」などが挙げられる。ブロックイソシアネートは、(成分A)の熱硬化温度に合わせて選ぶことが好ましく、低温硬化の際は、BL−3175が特に好ましい。   Examples of the blocking agent include alcohol, phenol and oxime, but there is no particular limitation. As this blocked isocyanate, for example, trade names “DURANATE 17B-60PX, TPA-B80E, MF-B60X, MF-K60X, E402-B80T” manufactured by Asahi Kasei Chemicals Corporation, trade names “Karenz MOI-BM, MOI-BP ", trade names" BL-3175, BL-4165, Desmo Cup 11, Desmo Cup-12 "manufactured by Sumika Bayer Urethane Co., Ltd. and the like. The blocked isocyanate is preferably selected in accordance with the thermosetting temperature of (Component A), and BL-3175 is particularly preferable during low temperature curing.

硬化剤として使用される水酸基含有化合物としては、1分子中に水酸基を有する1種以上の化合物でありかつその中の少なくとも1種が1分子中に2個以上の水酸基を有する化合物が含まれれば特に制限はない。   The hydroxyl group-containing compound used as the curing agent is one or more compounds having a hydroxyl group in one molecule, and at least one of them has a compound having two or more hydroxyl groups in one molecule. There is no particular limitation.

硬化剤として使用される水酸基含有化合物には多価アルコール等が挙げられ、具体例としては、エチレングリコール、グリセリン、ブタンジオール、ペンタエリスリトール等が挙げられる。   Examples of the hydroxyl group-containing compound used as the curing agent include polyhydric alcohols, and specific examples include ethylene glycol, glycerin, butanediol, pentaerythritol and the like.

硬化剤として使用されるカルボキシル基含有化合物としては、1分子中にカルボキシル基を有する1種以上の化合物でありかつその中の少なくとも1種が1分子中に2個以上のカルボキシル基を有する化合物が含まれれば特に制限はない。   The carboxyl group-containing compound used as the curing agent is one or more compounds having a carboxyl group in one molecule, and at least one of them has a compound having two or more carboxyl groups in one molecule. If included, there is no particular limitation.

硬化剤として使用されるカルボキシル基含有化合物には多価カルボン酸等が挙げられ、具体例としては、フタル酸、コハク酸、トリメリット酸、アジピン酸、ピロメリット酸等が挙げられる。   Examples of the carboxyl group-containing compound used as the curing agent include polyvalent carboxylic acids, and specific examples include phthalic acid, succinic acid, trimellitic acid, adipic acid, pyromellitic acid and the like.

硬化剤としては、エポキシ基含有化合物、ポリイソシアネート化合物、水酸基含有化合物、及びカルボキシル基含有化合物を単独又は併用することが可能であり、(成分A)の反応性基に合わせて選ぶことができる。例えば、(成分A)がヒドロキシ基を有している場合、ブロックイソシアネートを用いることが好ましく、(成分A)がカルボキシル基又はアミノ基を有している場合、エポキシ含有化合物を用いることが好ましい。硬化剤は、(成分A)の反応性基と反応するものであれば、エポキシ基含有化合物、ポリイソシアネート化合物、水酸基含有化合物、及びカルボキシル基含有化合物に限定されない。   As the curing agent, an epoxy group-containing compound, a polyisocyanate compound, a hydroxyl group-containing compound, and a carboxyl group-containing compound can be used alone or in combination, and can be selected according to the reactive group of (Component A). For example, when (Component A) has a hydroxy group, it is preferable to use a blocked isocyanate, and when (Component A) has a carboxyl group or an amino group, it is preferable to use an epoxy-containing compound. The curing agent is not limited to an epoxy group-containing compound, a polyisocyanate compound, a hydroxyl group-containing compound, and a carboxyl group-containing compound as long as it reacts with the reactive group of (Component A).

本発明の硬化性組成物における(成分B)の量は、硬化性組成物中の(成分A)と(成分B)の総量に対して、1〜55質量%、好ましくは2〜45質量%であり、さらに好ましくは2.5〜30質量%である。本発明の硬化性組成物における(成分B)の量は、硬化性組成物中の(成分A)と(成分B)の総質量に対して1〜55質量%であると、後述の本発明の硬化膜の耐溶剤性の観点から好ましく、また、硬化膜によって被覆されていることを特徴とするフレキシブル配線板の低反り性と好適な電気絶縁信頼性と配線折れの抑制効果とのバランスをとることができる。   The amount of (Component B) in the curable composition of the present invention is 1 to 55% by mass, preferably 2 to 45% by mass, based on the total amount of (Component A) and (Component B) in the curable composition. More preferably, it is 2.5-30 mass%. The amount of (Component B) in the curable composition of the present invention is 1 to 55% by mass based on the total mass of (Component A) and (Component B) in the curable composition. It is preferable from the viewpoint of the solvent resistance of the cured film, and the balance between the low warpage of the flexible wiring board characterized by being covered with the cured film, suitable electrical insulation reliability, and the effect of suppressing the wiring breakage. Can take.

また、本発明の硬化性組成物における(成分A)の量は、硬化性組成物中の(成分A)と(成分B)の総量に対して、45〜99質量%、好ましくは55〜98質量%であり、さらに好ましくは70〜97.5質量%である。本発明の硬化性組成物における(成分A)の量は、硬化性組成物中の(成分A)と(成分B)の総量に対して45〜99質量%であると、後述の本発明の硬化膜の耐溶剤性の観点から好ましく、また、硬化膜によって被覆されていることを特徴とするフレキシブル配線板の低反り性と配線折れの抑制効果とのバランスをとることができる。   Moreover, the quantity of (component A) in the curable composition of this invention is 45-99 mass% with respect to the total amount of (component A) and (component B) in a curable composition, Preferably it is 55-98. It is mass%, More preferably, it is 70-97.5 mass%. The amount of (Component A) in the curable composition of the present invention is 45 to 99% by mass based on the total amount of (Component A) and (Component B) in the curable composition. It is preferable from the viewpoint of the solvent resistance of the cured film, and it is possible to balance the low warpage of the flexible wiring board characterized by being covered with the cured film and the effect of suppressing wiring breakage.

次に、本発明の硬化性組成物の必須成分である(成分C)について説明する。
(成分C)として用いられる有機溶媒としては、(成分A)、および(成分B)を溶解できる溶剤であれば、特に制限はないが、例えば、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールエチルメチルエーテル、ジエチレングリコールジブチルエーテル、ジエチレングリコールブチルメチルエーテル、ジエチレングリコールイソプロピルメチルエーテル、トリエチレングリコールジメチルエーテル、トリエチレングリコールブチルメチルエーテル、テトラエチレングリコールジメチルエーテル、ジプロピレングリコ−ルジメチルエーテル、トリプロピレングリコールジメチルエーテル等のエーテル系溶媒、エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジプロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、メトキシプロピオン酸メチル、メトキシプロピオン酸エチル、エトキシプロピオン酸メチル、エトキシプロピオン酸エチル、γ−ブチロラクトン等のエステル系溶媒、デカヒドロナフタリン等の炭化水素系溶媒、シクロヘキサノン等のケトン系溶媒、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素系溶媒を挙げることができ、これらの溶媒を単独で用いても、2種類以上を併用しても良い。
Next, (Component C) which is an essential component of the curable composition of the present invention will be described.
The organic solvent used as (Component C) is not particularly limited as long as it can dissolve (Component A) and (Component B). For example, diethylene glycol dimethyl ether, diethylene glycol diethyl ether, diethylene glycol ethyl methyl ether, Ether solvents such as diethylene glycol dibutyl ether, diethylene glycol butyl methyl ether, diethylene glycol isopropyl methyl ether, triethylene glycol dimethyl ether, triethylene glycol butyl methyl ether, tetraethylene glycol dimethyl ether, dipropylene glycol dimethyl ether, tripropylene glycol dimethyl ether, ethylene glycol Monomethyl ether acetate, ethylene glycol monoe Ether acetate, propylene glycol monomethyl ether acetate, propylene glycol monoethyl ether acetate, dipropylene glycol monomethyl ether acetate, dipropylene glycol monoethyl ether acetate, diethylene glycol monoethyl ether acetate, diethylene glycol monomethyl ether acetate, methyl methoxypropionate, methoxypropionic acid Ester solvents such as ethyl, methyl ethoxypropionate, ethyl ethoxypropionate and γ-butyrolactone, hydrocarbon solvents such as decahydronaphthalene, ketone solvents such as cyclohexanone, and aromatic hydrocarbon solvents such as toluene and xylene These solvents can be used alone or in combination of two or more. .

これらの中で、スクリーン印刷性および有機溶媒の揮発性のバランスを考慮すると、γ−ブチロラクトン、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノメチルエーテルアセテートが好ましく、さらに好ましくは、γ−ブチロラクトン、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールジエチルエーテルであり、最も好ましくは、γ−ブチロラクトンの単独溶媒、γ−ブチロラクトンとジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテートの2種混合溶媒、γ−ブチロラクトンとジエチレングリコールジエチルエーテルの2種混合溶媒、およびγ−ブチロラクトン、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテートおよびジエチレングリコールジエチルエーテルの3種混合溶媒である。   Among these, γ-butyrolactone, diethylene glycol diethyl ether, diethylene glycol monoethyl ether acetate, diethylene glycol monomethyl ether acetate are preferable, and more preferably γ-butyrolactone, diethylene glycol, in consideration of the balance between screen printability and organic solvent volatility. Monoethyl ether acetate and diethylene glycol diethyl ether, most preferably a single solvent of γ-butyrolactone, a mixed solvent of two types of γ-butyrolactone and diethylene glycol monoethyl ether acetate, a mixed solvent of two types of γ-butyrolactone and diethylene glycol diethyl ether, And γ-butyrolactone, diethylene glycol monoethyl ether acetate and diethylene glycol A three mixed solvent of call diethyl ether.

これらの好ましい溶剤の組み合わせは、スクリーン印刷インクの溶剤として優れているために好適である。
また、これらの好ましい有機溶媒の一部として、前述の(成分A)を製造する際の合成用の溶剤を、そのまま本発明の硬化性組成物の有機溶媒の一部として使用することが可能でありかつプロセス的に好ましい。
These preferable combinations of solvents are suitable because they are excellent as solvents for screen printing inks.
Moreover, as a part of these preferable organic solvents, it is possible to use the solvent for synthesis in producing the above-mentioned (Component A) as it is as a part of the organic solvent of the curable composition of the present invention. Yes and process-preferred.

本発明の硬化性組成物における(成分C)の含有量は、本発明の硬化性組成物の成分である(成分A)、(成分B)、(成分C)、および後述の(成分D)の総量(ただし、本発明の硬化性組成物に(成分D)が含まれない場合には、(成分A)、(成分B)および(成分C)の総量)に対して、好ましくは25〜75質量%であり、より好ましくは35〜65質量%である。(成分C)の含有量が、本発明の硬化性組成物の成分である(成分A)、(成分B)、(成分C)、および後述の充填材の総量(ただし、本発明の硬化性組成物に充填材が含まれない場合には、(成分A)、(成分B)および(成分C)の総量)に対して、25〜75質量%の範囲であると、硬化性組成物の粘度がスクリーン印刷法での印刷に良好でありかつスクリーン印刷後の硬化性組成物のにじみによる広がりがそれほど大きくならないので、その結果として、硬化性組成物を塗布したい部位(即ち、印刷版の形状)より、実際の硬化性組成物の印刷面積が大きくなりすぎない。   The content of (Component C) in the curable composition of the present invention is (Component A), (Component B), (Component C), and (Component D) described later, which are components of the curable composition of the present invention. Of the total amount (however, when (Component D) is not included in the curable composition of the present invention, the total amount of (Component A), (Component B) and (Component C)) is preferably 25 to 25%. It is 75 mass%, More preferably, it is 35-65 mass%. The total amount of (Component A), (Component B), (Component C), and the filler described later, where the content of (Component C) is a component of the curable composition of the present invention (however, the curability of the present invention) When the composition does not contain a filler, the total amount of (Component A), (Component B) and (Component C)) is in the range of 25 to 75% by mass. Since the viscosity is good for printing by the screen printing method and the spread due to bleeding of the curable composition after screen printing does not increase so much, as a result, the portion to be coated with the curable composition (that is, the shape of the printing plate) ), The printing area of the actual curable composition does not become too large.

また、上記硬化性組成物において、(成分C)は、(成分A)100質量部に対して0.5〜20質量部の量で含まれていることが好ましい。
また、本発明の硬化性組成物は、(成分D)である無機微粒子および有機微粒子からなる群から選ばれる少なくとも1種の微粒子を含むことができかつ含むことが好ましい。
Moreover, in the said curable composition, it is preferable that (Component C) is contained in the quantity of 0.5-20 mass parts with respect to 100 mass parts (Component A).
In addition, the curable composition of the present invention can and preferably includes at least one kind of fine particles selected from the group consisting of inorganic fine particles and organic fine particles which are (Component D).

無機微粒子としては、例えば、シリカ(SiO2)、アルミナ(Al23)、チタニア(TiO2)、酸化タンタル(Ta25)、ジルコニア(ZrO2)、窒化珪素(Si34)、チタン酸バリウム(BaO・TiO2)、炭酸バリウム(BaCO3)、チタン酸鉛(PbO・TiO2)、チタン酸ジルコン酸鉛(PZT)、チタン酸ジルコン酸、ランタン鉛(PLZT)、酸化ガリウム(Ga23)、スピネル(MgO・Al23)、ムライト(3Al23・2SiO2)、コーディエライト(2MgO・2Al23・5SiO2)、タルク(3MgO・4SiO2・H2O)、チタン酸アルミニウム(TiO2−Al23)、イットリア含有ジルコニア(Y23−ZrO2)、珪酸バリウム(BaO・8SiO2)、窒化ホウ素(BN)、炭酸カルシウム(CaCO3)、硫酸カルシウム(CaSO4)、酸化亜鉛(ZnO)、チタン酸マグネシウム(MgO・TiO2)、硫酸バリウム(BaSO4)、有機ベントナイト、カーボン(C)、ハイドロタルサイトなどが挙げられ、これらは1種単独でまたは2種以上組み合わせて使用することができる。Examples of the inorganic fine particles include silica (SiO 2 ), alumina (Al 2 O 3 ), titania (TiO 2 ), tantalum oxide (Ta 2 O 5 ), zirconia (ZrO 2 ), silicon nitride (Si 3 N 4 ). , Barium titanate (BaO · TiO 2 ), barium carbonate (BaCO 3 ), lead titanate (PbO · TiO 2 ), lead zirconate titanate (PZT), zirconate titanate, lanthanum lead (PLZT), gallium oxide (Ga 2 O 3 ), spinel (MgO.Al 2 O 3 ), mullite (3Al 2 O 3 .2SiO 2 ), cordierite (2MgO.2Al 2 O 3 .5SiO 2 ), talc (3MgO.4SiO 2. H 2 O), aluminum titanate (TiO 2 -Al 2 O 3) , yttria-containing zirconia (Y 2 O 3 -ZrO 2) , barium silicate (BaO · 8SiO 2), Boron (BN), calcium carbonate (CaCO 3), calcium sulfate (CaSO 4), zinc oxide (ZnO), magnesium titanate (MgO · TiO 2), barium sulfate (BaSO 4), organic bentonite, carbon (C) Hydrotalcite and the like, and these can be used alone or in combination of two or more.

有機微粒子としては、アミド結合、イミド結合、エステル結合またはエーテル結合を有する耐熱性樹脂の微粒子が好ましい。これらの樹脂としては、耐熱性および機械特性の観点から、好ましくはポリイミド樹脂若しくはその前駆体、ポリアミドイミド樹脂若しくはその前駆体、またはポリアミド樹脂が挙げられる。これらは1種単独でまたは2種以上組み合わせて使用することができる。
これらの中で、好ましいこととしては、(成分D)が、シリカ微粒子およびハイドロタルサイト微粒子から選ばれる少なくとも一方を含むことができる。
The organic fine particles are preferably heat-resistant resin fine particles having an amide bond, an imide bond, an ester bond or an ether bond. These resins are preferably polyimide resins or precursors thereof, polyamideimide resins or precursors thereof, or polyamide resins from the viewpoint of heat resistance and mechanical properties. These can be used alone or in combination of two or more.
Among these, (Component D) can preferably include at least one selected from silica fine particles and hydrotalcite fine particles.

本発明の硬化性組成物に使用されるシリカ微粒子は、粉末で物理的に被覆或いは有機化合物で化学的に表面処理したような微粒子も含むものと定義する。
本発明の硬化性組成物に使用されるシリカ粒子は、本発明の硬化性組成物中で分散してペーストを形成するものであれば、特に制限はないが、例えば、日本アエロジル社より提供されているアエロジル等を挙げることができる。
これらのアエロジルに代表されるシリカ微粒子は、スクリーン印刷時の印刷性を付与するために使用されることもあり、その場合にはチクソ性の付与を目的として使用される。
The silica fine particles used in the curable composition of the present invention are defined to include fine particles that are physically coated with a powder or chemically surface-treated with an organic compound.
The silica particles used in the curable composition of the present invention are not particularly limited as long as they are dispersed in the curable composition of the present invention to form a paste. For example, provided by Nippon Aerosil Co., Ltd. Aerosil etc. which can be mentioned.
Silica fine particles represented by these aerosils are sometimes used for imparting printability during screen printing, and in that case, they are used for the purpose of imparting thixotropy.

また、ハイドロタルサイトは、Mg6Al2(OH)16CO3・4H2O等に代表される天然に産出する粘土鉱物の一種であり、層状の無機化合物である。また、ハイドロタルサイトは、合成物であってもよく、このようなハイドロタルサイトは、Mg/Al系層状化合物であり、層間にある炭酸基とのイオン交換により塩化物イオン(Cl-)および/または硫酸イオン(SO4-)の陰イオンが固定化できる。この機能を使用して、銅や錫のマイグレーションの原因となる塩化物イオン(Cl-)や硫酸イオン(SO4-)を捕捉し、絶縁信頼性を向上する目的で、有用に用いることができる。Further, hydrotalcite is a kind of naturally occurring clay minerals typified by Mg 6 Al 2 (OH) 16 CO 3 .4H 2 O and is a layered inorganic compound. The hydrotalcite may be a synthetic material, and such a hydrotalcite is an Mg / Al-based layered compound, and chloride ions (Cl ) and ion are exchanged with a carbonate group between layers. / Or Anion of sulfate ion (SO 4− ) can be immobilized. Using this function, chloride ions (Cl ) and sulfate ions (SO 4− ), which cause migration of copper and tin, can be captured and used for the purpose of improving insulation reliability. .

ハイドロタルサイトの市販品としては、例えば、堺化学株式会社のSTABIACE HT−1、STABIACE HT−7、STABIACE HT−Pや、協和化学工業株式会社のDHT−4A、DHT−4A2、DHT−4C等が挙げられる。
これらの無機微粒子および/または有機微粒子の平均粒子径は、好ましくは0.01〜10μm、さらに好ましくは0.1〜5μmである。
Examples of commercially available hydrotalcite include STABIACE HT-1, STABIACE HT-7, STABIACE HT-P from Sakai Chemical Co., Ltd., DHT-4A, DHT-4A2, DHT-4C from Kyowa Chemical Industry Co., Ltd. Is mentioned.
The average particle diameter of these inorganic fine particles and / or organic fine particles is preferably 0.01 to 10 μm, more preferably 0.1 to 5 μm.

また、(成分D)の配合量は、(成分A)、(成分B)、(成分C)および(成分D)の総量に対して、0.1〜60質量%、好ましくは0.3〜55質量%であり、さらに好ましくは0.5〜40質量%である。(成分D)の配合量が、(成分A)、(成分B)、(成分C)および(成分D)の総量に対して、0.1〜60質量%の範囲にあると、硬化性組成物の粘度がスクリーン印刷法での印刷に良好でありかつスクリーン印刷後の硬化性組成物のにじみによる広がりがそれほど大きくならないので、その結果として、硬化性組成物を塗布したい部位(即ち、印刷版の形状)より、実際の硬化性組成物の印刷面積が大きくなりすぎない。   Moreover, the compounding quantity of (component D) is 0.1-60 mass% with respect to the total amount of (component A), (component B), (component C), and (component D), Preferably 0.3- It is 55 mass%, More preferably, it is 0.5-40 mass%. When the compounding quantity of (Component D) exists in the range of 0.1-60 mass% with respect to the total amount of (Component A), (Component B), (Component C), and (Component D), curable composition Since the viscosity of the product is good for printing by the screen printing method and the spread due to bleeding of the curable composition after screen printing does not increase so much, as a result, the portion where the curable composition is to be applied (that is, the printing plate) The actual printed area of the curable composition does not become too large.

また、上記硬化性組成物において、(成分D)は、(成分A)100質量部に対して1〜30質量部の量で含まれていることが好ましい。
本発明の硬化性組成物において、有機および/または無機の微粒子を分散させる方法としては、通常、塗料分野で行われているロール練り、ミキサー混合等が適用され、十分な分散が行われる方法であればよい。
Moreover, in the said curable composition, it is preferable that (Component D) is contained in the quantity of 1-30 mass parts with respect to 100 mass parts (Component A).
In the curable composition of the present invention, as a method of dispersing organic and / or inorganic fine particles, roll kneading, mixer mixing and the like usually performed in the paint field are applied, and sufficient dispersion is performed. I just need it.

さらに、本発明の硬化性組成物は、印刷の際の泡の発生を消す或いは抑制する目的で、消泡剤を含むことができかつ含むことが好ましい。
本発明の硬化性組成物に使用される消泡剤の具体例としては、例えば、BYK−077(ビックケミー・ジャパン株式会社製)、SNデフォーマー470(サンノプコ株式会社製)、TSA750S(モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ社製)、シリコーンオイルSH−203(東レ・ダウコーニング株式会社製)等のシリコーン系消泡剤、ダッポーSN−348(サンノプコ株式会社製)、ダッポーSN−354(サンノプコ株式会社製)、ダッポーSN−368(サンノプコ株式会社製)、ディスパロン230HF(楠本化成株式会社製)等のアクリル重合体系消泡剤、サーフィノールDF−110D(日信化学工業株式会社製)、サーフィノールDF−37(日信化学工業株式会社製)等のアセチレンジオール系消泡剤、FA−630等のフッ素含有シリコーン系消泡剤等を挙げることができる。これらは1種単独でまたは2種以上組み合わせて使用することができる。
Furthermore, the curable composition of the present invention can and preferably includes an antifoaming agent for the purpose of eliminating or suppressing the generation of bubbles during printing.
Specific examples of the antifoaming agent used in the curable composition of the present invention include, for example, BYK-077 (manufactured by Big Chemie Japan), SN deformer 470 (manufactured by San Nopco), TSA750S (momentive performance Materials), silicone-based antifoaming agents such as silicone oil SH-203 (Toray Dow Corning), Dappo SN-348 (San Nopco), Dappo SN-354 (San Nopco), Acrylic polymer antifoaming agents such as Dappo SN-368 (manufactured by San Nopco), Disparon 230HF (manufactured by Enomoto Kasei Co., Ltd.), Surfynol DF-110D (manufactured by Nissin Chemical Industry Co., Ltd.), Surfynol DF-37 ( Acetylenediol antifoaming agent such as Nissin Chemical Industry Co., Ltd. And the like fluorine-containing silicone-based defoaming agents such as -630. These can be used alone or in combination of two or more.

消泡剤の含有量は、(成分A)、(成分B)、(成分C)および(成分D)の総量(ただし、本発明の硬化性組成物に(成分D)が含まれない場合には、(成分A)、(成分B)および(成分C)の総量)100質量部に対して、0.01〜5質量部であることが好ましく、さらに好ましくは0.05〜4質量部であり、特に好ましくは、0.1〜3質量部である。   The content of the antifoaming agent is the total amount of (Component A), (Component B), (Component C) and (Component D) (provided that (Component D) is not included in the curable composition of the present invention). Is preferably 0.01 to 5 parts by weight, more preferably 0.05 to 4 parts by weight, based on 100 parts by weight of (component A), (component B) and (component C). Yes, particularly preferably 0.1 to 3 parts by mass.

また、上記硬化性組成物においては、消泡剤は、(成分A)100質量部に対して0.2〜10質量部の量で含まれていることが好ましい。
さらに、本発明の硬化性組成物は、硬化促進剤を含むことができかつ含むことが好ましい。硬化促進剤としては、エポキシ基とカルボキシル基の反応を促進する化合物であれば特に限定されるものではなく、例えば、メラミン、アセトグアナミン、ベンゾグアナミン、2,4−ジアミノ−6−メタクリロイルオキシエチル−S−トリアジン、2,4−メタクリロイルオキシエチル−s−トリアジン、2,4−ジアミノ−6−ビニル−s−トリアジン、2,4−ジアミノー6−ビニル−s−トリアジン・イソシアヌル酸付加物等のトリアジン系化合物、イミダゾール、2−メチルイミダゾール、2−エチル−4−メチルイミダゾール、2−フェニルイミダゾール、2−ウンデシルイミダゾール、2−ヘプタデシルイミダゾール、1−ベンジルー2−メチルイミダゾール、2−フェニルー4−メチルイミダゾール、1−シアノエチル−2−メチルイミダゾール、1−シアノエチル−2−エチル−4−メチルイミダゾール、1−アミノエチルー2−エチルー4−メチルイミダゾール、1−アミノエチル−2−メチルイミダゾール、1−(シアノエチルアミノエチル)−2−メチルイミダゾール、N−[2−(2−メチルー1−イミダゾリル)エチル]尿素、1−シアノエチル−2−ウンデシルイミダゾール、1−シアノエチル−2−メチルイミダゾリウムトリメリテート、1−シアノエチル−2−フェニルイミダゾリウムトリメリテート、1−シアノエチル−2−エチル−4−メチルイミダゾリウムトリメリテート、1−シアノエチル−2−ウンデシルイミダゾリウムトリメリテート、2,4−ジアミノ−6−[2'−メチルイミダゾリル−(1')]−エチル−s−トリアジン、2,4−ジアミノ−6−[2'−ウンデシルイミダゾリル−(1')]−エチル−s−トリアジン、2,4−ジアミノ−6−[2'−エチル−4'−メチルイミダゾリル−(1')]−エチル−s−トリアジン、1−ドデシル−2−メチル−3−ベンジルイミダゾリウムクロライド、N,N'−ビス(2−メチル−1−イミダゾリルエチル)尿素、N,N'−ビス(2−メチル−1−イミダゾリルエチル)アジポアミド、2−フェニル−4−メチル−5−ヒドロキシメチルイミダゾール、2−フェニル−4.5−ジヒドロキシメチルイミダゾール、2−メチルイミダゾール・イソシアヌル酸付加物、2−フェニルイミダゾール・イソシアヌル酸付加物、2,4−ジアミノ−6−[2'−メチルイミダゾリル−(1')]−エチル−s−トリアジン・イソシアヌル酸付加物、2−メチルー4−フォルミルイミダゾール、2−エチルー4−メチルー5−フォルミルイミダゾール、2−フェニル−4−メチルフォルミルイミダゾール、1−ベンジル−2−フェニルイミダゾール、1,2−ジメチルイミダゾール、1−(2−ヒドロキシエチル)イミダゾール、ビニルイミダゾール、1−メチルイミダゾール、1−アリルイミダゾール、2−エチルイミダゾール、2−ブチルイミダゾール、2−ブチル−5−ヒドロキシメチルイミダゾール、2,3−ジヒドロ−1H−ピロロ[1,2−a]ベンズイミダゾール、1−ベンジル−2−フェニルイミダゾール臭化水素塩、1−ドデシル−2−メチル−3−ベンジルイミダゾリウムクロライド等のイミダゾール化合物、1,5−ジアザビシクロ(4.3.0)ノネン−5およびその塩、1,8−ジアザビシクロ(5.4.0)ウンデセン−7およびその塩等のジアザビシクロアルケンなどのシクロアミジン化合物およびシクロアミジン化合物の誘導体、トリエチレンジアミン、ベンジルジメチルアミン、トリエタノールアミン、ジメチルアミノエタノール、トリス(ジメチルアミノメチル)フェノール等のアミン系化合物、トリフェニルホスフィン、ジフェニル(p−トリル)ホスフィン、トリス(アルキルフェニル)ホスフィン、トリス(アルコキシフェニル)ホスフィン、トリス(アルキル・アルコキシフェニル)ホスフィン、トリス(ジアルキルフェニル)ホスフィン、トリス(トリアルキルフェニル)ホスフィン、トリス(テトラアルキルフェニル)ホスフィン、トリス(ジアルコキシフェニル)ホスフィン、トリス(トリアルコキシフェニル)ホスフィン、トリス(テトラアルコキシフェニル)ホスフィン、トリアルキルホスフィン、ジアルキルアリールホスフィン、アルキルジアリールホスフィン等のホスフィン系化合物、ジシアンジアジド等を挙げることができる。
Moreover, in the said curable composition, it is preferable that the antifoamer is contained in the quantity of 0.2-10 mass parts with respect to 100 mass parts (component A).
Furthermore, the curable composition of the present invention can and preferably includes a curing accelerator. The curing accelerator is not particularly limited as long as it is a compound that accelerates the reaction between an epoxy group and a carboxyl group. -Triazines such as triazine, 2,4-methacryloyloxyethyl-s-triazine, 2,4-diamino-6-vinyl-s-triazine, 2,4-diamino-6-vinyl-s-triazine and isocyanuric acid adducts Compound, imidazole, 2-methylimidazole, 2-ethyl-4-methylimidazole, 2-phenylimidazole, 2-undecylimidazole, 2-heptadecylimidazole, 1-benzyl-2-methylimidazole, 2-phenyl-4-methylimidazole 1-cyanoethyl-2 Methylimidazole, 1-cyanoethyl-2-ethyl-4-methylimidazole, 1-aminoethyl-2-ethyl-4-methylimidazole, 1-aminoethyl-2-methylimidazole, 1- (cyanoethylaminoethyl) -2-methylimidazole, N- [2- (2-Methyl-1-imidazolyl) ethyl] urea, 1-cyanoethyl-2-undecylimidazole, 1-cyanoethyl-2-methylimidazolium trimellitate, 1-cyanoethyl-2-phenylimidazolium tri Melitrate, 1-cyanoethyl-2-ethyl-4-methylimidazolium trimellitate, 1-cyanoethyl-2-undecylimidazolium trimellitate, 2,4-diamino-6- [2'-methylimidazolyl- ( 1 ′)]-ethyl-s-triazine, 2 , 4-Diamino-6- [2'-undecylimidazolyl- (1 ')]-ethyl-s-triazine, 2,4-diamino-6- [2'-ethyl-4'-methylimidazolyl- (1' )]-Ethyl-s-triazine, 1-dodecyl-2-methyl-3-benzylimidazolium chloride, N, N′-bis (2-methyl-1-imidazolylethyl) urea, N, N′-bis (2 -Methyl-1-imidazolylethyl) adipamide, 2-phenyl-4-methyl-5-hydroxymethylimidazole, 2-phenyl-4.5-dihydroxymethylimidazole, 2-methylimidazole isocyanuric acid adduct, 2-phenylimidazole Isocyanuric acid adduct, 2,4-diamino-6- [2'-methylimidazolyl- (1 ')]-ethyl-s-triazine Luric acid adduct, 2-methyl-4-formylimidazole, 2-ethyl-4-methyl-5-formylimidazole, 2-phenyl-4-methylformylimidazole, 1-benzyl-2-phenylimidazole, 1,2- Dimethylimidazole, 1- (2-hydroxyethyl) imidazole, vinylimidazole, 1-methylimidazole, 1-allylimidazole, 2-ethylimidazole, 2-butylimidazole, 2-butyl-5-hydroxymethylimidazole, 2,3- Imidazole compounds such as dihydro-1H-pyrrolo [1,2-a] benzimidazole, 1-benzyl-2-phenylimidazole hydrobromide, 1-dodecyl-2-methyl-3-benzylimidazolium chloride, 1,5 -Diazabicyclo (4.3.0) -5 and salts thereof, cycloamidine compounds such as diazabicycloalkenes such as 1,8-diazabicyclo (5.4.0) undecene-7 and salts thereof, and derivatives of cycloamidine compounds, triethylenediamine, benzyldimethylamine, Amine compounds such as triethanolamine, dimethylaminoethanol, tris (dimethylaminomethyl) phenol, triphenylphosphine, diphenyl (p-tolyl) phosphine, tris (alkylphenyl) phosphine, tris (alkoxyphenyl) phosphine, tris (alkyl・ Alkoxyphenyl) phosphine, Tris (dialkylphenyl) phosphine, Tris (trialkylphenyl) phosphine, Tris (tetraalkylphenyl) phosphine, Tris (dialkoxyphenyl) ) Phosphine, tris (trialkoxyphenyl) phosphine, tris (tetraalkoxyphenyl) phosphine, trialkylphosphine, dialkylarylphosphine, alkyldiarylphosphine, and other phosphine compounds, dicyandiazide, and the like.

これらの硬化促進剤を単独で使用しても、或いは2種類以上を併用しても良い。
これらの硬化促進剤の中で、硬化促進作用および電気絶縁性能を両立させることを考慮すると、好ましいものとしては、メラミン、イミダゾール化合物、シクロアミジン化合物、シクロアミジン化合物の誘導体、ホスフィン系化合物およびアミン系化合物であり、さらに好ましくは、メラミン、1,5−ジアザビシクロ(4.3.0)ノネン−5およびその塩、1,8−ジアザビシクロ(5.4.0)ウンデセン−7およびその塩である。
These curing accelerators may be used alone or in combination of two or more.
Among these curing accelerators, in view of achieving both curing acceleration and electrical insulation performance, preferred are melamine, imidazole compounds, cycloamidine compounds, derivatives of cycloamidine compounds, phosphine compounds and amines. More preferred are melamine, 1,5-diazabicyclo (4.3.0) nonene-5 and salts thereof, and 1,8-diazabicyclo (5.4.0) undecene-7 and salts thereof.

これらの硬化促進剤の配合量は、硬化促進効果が達成できれば特に制限はない。しかし、本発明の硬化性組成物の硬化性および本発明の硬化性組成物を硬化して得られるオーバーコート膜の電気絶縁特性や耐水性の観点からは、本発明の硬化性組成物中の本発明の必須成分である(成分A)と(成分B)との総量100質量部に対し、0.05〜5質量部の範囲で配合することが好ましく、より好ましくは0.1〜3質量部である。配合量が、(成分A)と(成分B)との総量100質量部に対し、0.05〜5質量部の範囲であると、短時間で硬化させることが可能でかつ本発明の硬化性組成物を硬化して得られるオーバーコート膜の電気絶縁特性や耐水性が良好になる。   There is no restriction | limiting in particular if the compounding quantity of these hardening accelerators can achieve the hardening acceleration effect. However, from the viewpoint of the curability of the curable composition of the present invention and the electrical insulation properties and water resistance of the overcoat film obtained by curing the curable composition of the present invention, the curable composition of the present invention contains It is preferable to mix in the range of 0.05 to 5 parts by mass, more preferably 0.1 to 3 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the total amount of (component A) and (component B) which are essential components of the present invention. Part. When the blending amount is in the range of 0.05 to 5 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the total amount of (Component A) and (Component B), it can be cured in a short time and the curability of the present invention. The electrical insulation characteristics and water resistance of the overcoat film obtained by curing the composition are improved.

また、樹脂の酸価劣化および加熱時の変色を押さえることが必要な場合には、本発明の硬化性組成物に、フェノール系酸化防止剤、ホスファイト系酸化防止剤、チオエーテル系酸化防止剤等の酸化防止剤を添加することができる。   Moreover, when it is necessary to suppress acid value deterioration of the resin and discoloration during heating, the curable composition of the present invention includes a phenolic antioxidant, a phosphite antioxidant, a thioether antioxidant, and the like. An antioxidant can be added.

さらに、本発明の硬化性組成物には、塗工時の作業性及び被膜形成前後の膜特性を向上させるため、レベリング剤や、染料又は顔料等の着色剤類、難燃剤、滑剤を添加することもできる。   Furthermore, a leveling agent, a colorant such as a dye or a pigment, a flame retardant, and a lubricant are added to the curable composition of the present invention in order to improve workability during coating and film properties before and after film formation. You can also.

本発明の硬化性組成物の製造方法は、(成分A)、(成分B)および(成分C)と必要に応じてその他の成分とが有機溶媒に溶解または分散できる方法であれば特に制限されない。たとえば、本発明の硬化性組成物は、少なくとも(成分A)を含む主剤と、少なくとも(成分B)を含む硬化剤とを製造し、次いで主剤と硬化剤とを配合して製造してもよい。   The method for producing the curable composition of the present invention is not particularly limited as long as (Component A), (Component B) and (Component C) and, if necessary, other components can be dissolved or dispersed in an organic solvent. . For example, the curable composition of the present invention may be produced by producing a main agent containing at least (Component A) and a curing agent containing at least (Component B), and then blending the main agent and the curing agent. .

また、本発明の硬化性組成物は、スクリーン印刷性を良好にしかつ硬化性組成物を印刷した後に、該組成物が流動してしまい、一定の膜厚にならなかったりすることを防ぐために、チクソトロピー指数が、25℃で1.1以上であることが望ましく、さらに好ましくは1.1〜3.0の範囲であり、特に好ましくは、1.1〜2.5の範囲である。チクソトロピー指数が、25℃で1.1以上にするためには、前記無機微粒子や有機微粒子を用いてチクソトロピー指数を調整する方法、高分子添加剤を用いてチクソトロピー指数を調整する方法等があるが、無機微粒子や有機微粒子を用いてチクソトロピー指数を調整する方法の方が好ましい。   In addition, the curable composition of the present invention improves the screen printability and prevents the composition from flowing and not having a constant film thickness after printing the curable composition. The thixotropy index is desirably 1.1 or more at 25 ° C., more preferably in the range of 1.1 to 3.0, and particularly preferably in the range of 1.1 to 2.5. In order for the thixotropy index to be 1.1 or more at 25 ° C., there are a method of adjusting the thixotropy index using the inorganic fine particles and organic fine particles, a method of adjusting the thixotropy index using a polymer additive, and the like. The method of adjusting the thixotropy index using inorganic fine particles or organic fine particles is preferred.

なお、本明細書に記載の「チクソトロピー指数」とは、コーン/プレート型粘度計(Brookfield社製,型式:DV−II+Pro,スピンドルの型番:CPE−52)を用いて測定した、25℃における回転数1rpmのときの粘度と25℃における回転数10rpmのときの粘度の比であると定義する。   The “thixotropic index” described in this specification is a rotation at 25 ° C. measured using a cone / plate viscometer (manufactured by Brookfield, model: DV-II + Pro, spindle model number: CPE-52). It is defined as the ratio of the viscosity at several rpm and the viscosity at 10 rpm at 25 ° C.

硬化性組成物は、回転型粘度計により測定される25℃における粘度が、20Pa・s〜80Pa・sであることが好ましく、30Pa・s〜50Pa・sであることがより好ましい。係る粘度が、20Pa・s未満であると、印刷後の組成物の流れ出しが大きくなるとともに膜厚が薄膜化する傾向があり、80Pa・sを超えると、該組成物の基材への転写性が低下するとともに印刷膜中のボイド及びピンホールが増加する傾向がある。   The curable composition preferably has a viscosity at 25 ° C. of 20 Pa · s to 80 Pa · s, more preferably 30 Pa · s to 50 Pa · s, as measured by a rotary viscometer. When the viscosity is less than 20 Pa · s, there is a tendency that the flow of the composition after printing becomes large and the film thickness tends to be reduced, and when it exceeds 80 Pa · s, the transfer property of the composition to the substrate is increased. There is a tendency that voids and pinholes in the printed film increase with decreasing.

最後に、本発明の硬化膜、本発明のオーバーコート膜、フレキシブル配線板およびフレキシブル配線板の製造方法について説明する。
本発明の硬化膜は、本発明の硬化性組成物を硬化することで得ることができる硬化物を含む。また、本発明の電子部品は上記硬化膜を有する。
Finally, the cured film of the present invention, the overcoat film of the present invention, the flexible wiring board, and the method for producing the flexible wiring board will be described.
The cured film of the present invention includes a cured product that can be obtained by curing the curable composition of the present invention. Moreover, the electronic component of this invention has the said cured film.

また、本発明のオーバーコート膜は、本発明の硬化性組成物の硬化物を含むフレキシブル配線板用オーバーコート膜であり、より詳しくは、本発明の硬化性組成物をフレキシブル基板上に配線が形成されてなるフレキシブル配線板の、配線が形成されている表面の一部または全部に塗布し硬化することによって得られるフレキシブル配線板用オーバーコート膜である。   The overcoat film of the present invention is an overcoat film for a flexible wiring board containing a cured product of the curable composition of the present invention. More specifically, the curable composition of the present invention is wired on a flexible substrate. This is an overcoat film for a flexible wiring board obtained by applying and curing a part or all of the surface on which the wiring is formed of the formed flexible wiring board.

また、本発明のフレキシブル配線板は、フレキシブル基板上に配線が形成されてなるフレキシブル配線板の、配線が形成されている表面の一部または全部が前記オーバーコート膜によって被覆されたフレキシブル配線板である。   Moreover, the flexible wiring board of the present invention is a flexible wiring board in which a part or all of the surface on which the wiring is formed of the flexible wiring board formed by wiring on the flexible substrate is covered with the overcoat film. is there.

なお、このオーバーコート膜によって被覆される配線は、配線の酸化防止および経済的な面を考慮すると、錫メッキ銅配線であることが好ましい。
さらに、本発明のフレキシブル配線板の製造方法は、下記の工程1'および工程2'を含む、オーバーコート膜によって被覆されたフレキシブル配線板の製造方法である。
Note that the wiring covered with the overcoat film is preferably a tin-plated copper wiring in view of the oxidation prevention and economical aspect of the wiring.
Furthermore, the manufacturing method of the flexible wiring board of this invention is a manufacturing method of the flexible wiring board coat | covered with the overcoat film | membrane including the following process 1 'and process 2'.

(工程1')本発明の硬化性組成物を、フレキシブル配線板の配線パターン部の少なくとも一部に印刷することで該パターン上に印刷膜を形成する工程
(工程2')工程1'で得られた印刷膜、工程1'で得られた印刷膜を40〜100℃の雰囲気下におくことで印刷膜中の溶媒の一部を蒸発させた一部の溶媒が除去された印刷膜、または工程1'で得られた印刷膜を40〜100℃の雰囲気下におくことで印刷膜中の溶媒の全量を蒸発させた全量の溶媒が除去された印刷膜を、100〜170℃で加熱することによって硬化させ、オーバーコート膜を形成する工程。
(Step 1 ′) Step of forming a printed film on the pattern by printing the curable composition of the present invention on at least a part of the wiring pattern portion of the flexible wiring board (Step 2 ′) Obtained in Step 1 ′ The printed film obtained, the printed film obtained in step 1 ′ is placed in an atmosphere of 40 to 100 ° C. to remove a part of the solvent in the printed film, or the printed film from which a part of the solvent is removed, or The printing film obtained in step 1 ′ is placed in an atmosphere of 40 to 100 ° C. to evaporate all the solvent in the printing film, and the printing film from which the entire amount of solvent has been removed is heated at 100 to 170 ° C. The process of making it harden | cure and forming an overcoat film | membrane.

本発明の硬化性組成物は、例えば、配線の絶縁保護用オーバーコート膜用のインキとして使用することができ、本発明の硬化物は、絶縁保護用オーバーコート膜として用いることができる。特に、例えば、チップオンフィルム(COF)のようなフレキシブル配線板の配線の全部或いは一部を被覆することにより、配線の絶縁保護用オーバーコート膜として用いることができる。   The curable composition of the present invention can be used, for example, as an ink for an overcoat film for insulation protection of wiring, and the cured product of the present invention can be used as an overcoat film for insulation protection. In particular, for example, by covering all or part of the wiring of a flexible wiring board such as a chip-on-film (COF), it can be used as an overcoat film for insulating and protecting the wiring.

以下に、本発明のフレキシブル配線板の製造方法で行われる具体的な工程を記す。例えば、以下の工程1および工程3と、必要に応じて工程2とを経て、フレキシブル配線板のオーバーコート膜を形成することができる。   Below, the specific process performed with the manufacturing method of the flexible wiring board of this invention is described. For example, the overcoat film of the flexible wiring board can be formed through the following step 1 and step 3 and step 2 as necessary.

(工程1)
本発明の硬化性組成物を、フレキシブル配線板の配線パターン部の少なくとも一部に印刷することで該パターン上に印刷膜を形成する工程
(工程2)
工程1で得られた印刷膜を40〜100℃の雰囲気下におくことで印刷膜中の溶媒の一部または全量を蒸発させる工程
(工程3)
工程1で得られた印刷膜または工程2で得られた印刷膜を、100〜170℃で加熱することによって、硬化させ、オーバーコート膜を形成する工程。
(Process 1)
The process of forming a printed film on this pattern by printing the curable composition of this invention in at least one part of the wiring pattern part of a flexible wiring board (process 2)
A step of evaporating a part or all of the solvent in the printed film by placing the printed film obtained in step 1 in an atmosphere of 40 to 100 ° C. (step 3)
A step of curing the printed film obtained in step 1 or the printed film obtained in step 2 at 100 to 170 ° C. to form an overcoat film.

工程2で実施される、工程1で得られた印刷膜を40〜100℃の雰囲気下におくことで印刷膜中の溶媒を蒸発させる際の温度は、溶媒の蒸発速度および次操作(100〜170℃で加熱することによって、硬化させる操作)への速やかな移行を考慮すると、通常40〜100℃であり、好ましくは、60〜100℃であり、さらに好ましくは、70〜90℃である。工程2で実施される、工程1で得られた印刷膜を40〜100℃の雰囲気下におくことで印刷膜中の溶媒を蒸発させる時間は、特に制限はないが、好ましくは、10〜120分、さらに好ましくは、20〜100分である。   The temperature at which the solvent in the printed film is evaporated by placing the printed film obtained in Step 1 in an atmosphere of 40 to 100 ° C., which is carried out in Step 2, depends on the evaporation rate of the solvent and the subsequent operation (100 to 100). In consideration of a rapid transition to an operation of curing by heating at 170 ° C., it is usually 40 to 100 ° C., preferably 60 to 100 ° C., and more preferably 70 to 90 ° C. The time for evaporating the solvent in the printed film by placing the printed film obtained in Step 1 in an atmosphere of 40 to 100 ° C. carried out in Step 2 is not particularly limited, but preferably 10 to 120. Minutes, more preferably 20 to 100 minutes.

なお、この工程1で得られた印刷膜を40〜100℃の雰囲気下におくことで印刷膜中の溶媒を蒸発させる操作は、必要に応じて行われる操作であり、工程1の操作の後、すぐに工程3に移行して100〜170℃で加熱することによって、硬化させ、オーバーコート膜を形成する操作を行い、硬化反応と溶媒の除去とを一緒に行ってもよい。ここで行われる熱硬化の条件は、メッキ層の拡散を防ぎ、かつ保護膜として好適な低反り性、柔軟性を得る観点から、熱硬化温度は、105〜160℃が好ましく、より好ましくは110〜150℃である。加熱することによって、硬化させ、オーバーコート膜を形成する際の熱硬化の時間は、特に制限はないが、好ましくは、10〜150分、さらに好ましくは、15〜120分である。   The operation of evaporating the solvent in the printed film by placing the printed film obtained in Step 1 in an atmosphere of 40 to 100 ° C. is an operation performed as necessary. Immediately, the process may be shifted to Step 3 and heated at 100 to 170 ° C. to cure and form an overcoat film, and the curing reaction and the solvent removal may be performed together. The thermosetting conditions performed here are preferably 105 to 160 ° C., more preferably 110 from the viewpoint of preventing the diffusion of the plating layer and obtaining low warpage and flexibility suitable as a protective film. ~ 150 ° C. There is no particular limitation on the heat curing time when the film is cured by heating to form an overcoat film, but it is preferably 10 to 150 minutes, more preferably 15 to 120 minutes.

上記のような方法により、フレキシブル基板上に配線が形成されてなるフレキシブル配線板の、配線が形成されている表面の一部または全部が前記オーバーコート膜によって被覆されたフレキシブル配線板を得ることができる。   By the method as described above, a flexible wiring board in which wiring is formed on a flexible substrate, a flexible wiring board in which a part or all of the surface on which the wiring is formed is covered with the overcoat film can be obtained. it can.

また、本発明の硬化性組成物は、必要に応じて前述の任意成分が配合され、均一に混合され、被膜形成材料として、半導体素子や各種電子部品用オーバーコートインキ、ソルダーレジストインキ、層間絶縁膜に有用である他、塗料、コーティング剤、接着剤等としても使用できる。   In addition, the curable composition of the present invention is blended with the above-described optional components as necessary, and is uniformly mixed, and as a film forming material, an overcoat ink for semiconductor elements and various electronic components, solder resist ink, interlayer insulation Besides being useful as a film, it can also be used as a paint, a coating agent, an adhesive and the like.

以下実施例により本発明を更に具体的に説明するが、本発明は以下の実施例に限定されるものではない。
<酸価の測定>
本発明に使用する(成分A)を含む溶液を以下の方法によって酸価を測定し、式(α)を用いて、(成分A)の酸価を求めた。ただし、前記溶液に用いた溶媒には、酸価が「0」のものを用いる。
EXAMPLES Hereinafter, the present invention will be described more specifically with reference to examples, but the present invention is not limited to the following examples.
<Measurement of acid value>
The acid value of the solution containing (Component A) used in the present invention was measured by the following method, and the acid value of (Component A) was determined using the formula (α). However, the solvent used in the solution is one having an acid value of “0”.

まず、(成分A)を含む溶液約1gを精秤する。その後、これに対して、イソプロピルアルコール/トルエン=1/2(質量比)の混合溶媒を30g添加し、均一に溶解する。得られた溶液に指示薬であるフェノールフタレインを適量添加し、0.1NのKOH溶液(アルコール性)を用いて滴定を行う。そして、滴定結果より以下の式(α):
A=10×Vf×56.1/(Wp×I)・・・・・式(α)
により酸価を算出する。式(α)中、Aは酸価(mgKOH/g)を示し、Vfは0.1NのKOH溶液の滴定量(mL)を示し、Wpは(成分A)を含む溶液の質量(g)を示し、Iは(成分A)を含む溶液の成分(A)の割合(質量%)を示す。
First, about 1 g of the solution containing (Component A) is precisely weighed. Thereafter, 30 g of a mixed solvent of isopropyl alcohol / toluene = 1/2 (mass ratio) is added thereto and dissolved uniformly. An appropriate amount of phenolphthalein as an indicator is added to the obtained solution, and titration is performed using a 0.1N KOH solution (alcoholic). And from the titration result, the following formula (α):
A = 10 × Vf × 56.1 / (Wp × I) Expression (α)
To calculate the acid value. In the formula (α), A represents the acid value (mgKOH / g), Vf represents the titration amount (mL) of the 0.1N KOH solution, and Wp represents the mass (g) of the solution containing (Component A). I represents the ratio (mass%) of the component (A) of the solution containing (component A).

<水酸基価の測定>
JIS K0070に準拠して水酸基価を測定した。
<数平均分子量の測定>
数平均分子量はGPCで測定したポリスチレン換算の数平均分子量であり、GPCの測定条件は以下のとおりである。
装置名:日本分光株式会社製HPLCユニット HSS−2000
カラム:Shodex(登録商標)カラムLF−804×3本(直列)
移動相:テトラヒドロフラン
流速:1.0mL/min
検出器:日本分光株式会社製RI−2031Plus
温度:40.0℃
試料量:サンプルループ 100μリットル
試料濃度:0.1質量%前後に調整。
<Measurement of hydroxyl value>
The hydroxyl value was measured according to JIS K0070.
<Measurement of number average molecular weight>
The number average molecular weight is a polystyrene-reduced number average molecular weight measured by GPC, and GPC measurement conditions are as follows.
Device name: HPLC unit HSS-2000 manufactured by JASCO Corporation
Column: Shodex (registered trademark) column LF-804 × 3 (in series)
Mobile phase: Tetrahydrofuran Flow rate: 1.0 mL / min
Detector: JASCO Corporation RI-2031Plus
Temperature: 40.0 ° C
Sample amount: 100 μl of sample loop Sample concentration: adjusted to around 0.1% by mass.

<チクソトロピー指数の測定>
硬化性組成物のチクソトロピー指数を以下の方法により測定した。
硬化性組成物約0.8gを使用して、コーン/プレート型粘度計(Brookfield社製 型式;DV−II+Pro スピンドルの型番;CPE−52)を用いて、温度25.0℃、回転数10rpmの条件で測定開始から7分経過後の粘度を測定した。その後、温度25.0℃、回転数1rpmの条件で測定開始から7分経過後の粘度を測定した。
なお、チクソトロピー指数は以下の計算により求めた。
チクソトロピー指数の求め方:
チクソトロピー指数=[1rpmの粘度]÷[10rpmの粘度]
<Measurement of thixotropy index>
The thixotropy index of the curable composition was measured by the following method.
Using about 0.8 g of the curable composition, a cone / plate viscometer (Brookfield model: DV-II + Pro spindle model number: CPE-52) was used at a temperature of 25.0 ° C. and a rotation speed of 10 rpm. Under the conditions, the viscosity after 7 minutes from the start of measurement was measured. Thereafter, the viscosity was measured after 7 minutes from the start of measurement under the conditions of a temperature of 25.0 ° C. and a rotation speed of 1 rpm.
The thixotropy index was obtained by the following calculation.
How to find the thixotropy index:
Thixotropic index = [viscosity at 1 rpm] ÷ [viscosity at 10 rpm]

<ポリエステルポリオールの合成>
(参考合成例1) <ポリエステルジオール(α)>
攪拌装置、温度計および蒸留装置付きコンデンサーを備えた反応容器に、無水フタル酸983.5g(6.74mol)、1,6−ヘキサンジオール879.2g(7.44mol)を添加して、反応容器の内温をオイルバスを用いて140℃に昇温して、4時間撹拌を継続した。その後、撹拌を継続しながら、モノ−n−ブチル錫オキサイド1.74gを添加して、徐々に反応容器の内温を昇温して、真空ポンプを接続して、少しずつ反応容器内の圧力を減圧していき、水を反応容器外に減圧蒸留により除去していった。最終的には、内温を220℃まで昇温し、圧力を133.32Paまで減圧した。15時間経過して水が完全に留去しなくなったのを確認して反応を終了した。得られたポリエステルポリオール(以下、ポリエステルジオール(α)と記す。)は、前述の式(2)の構造を持ち、n=1〜20であった。その水酸基価を測定したところ、水酸基価は53.1mg−KOH/gであった。
<Synthesis of polyester polyol>
(Reference Synthesis Example 1) <Polyesterdiol (α)>
To a reaction vessel equipped with a stirrer, a thermometer and a condenser with a distillation device, 983.5 g (6.74 mol) of phthalic anhydride and 879.2 g (7.44 mol) of 1,6-hexanediol were added, and the reaction vessel The internal temperature was raised to 140 ° C. using an oil bath, and stirring was continued for 4 hours. Thereafter, while continuing stirring, 1.74 g of mono-n-butyltin oxide was added, the temperature inside the reaction vessel was gradually raised, a vacuum pump was connected, and the pressure inside the reaction vessel was gradually added. The pressure was reduced and water was removed by distillation under reduced pressure outside the reaction vessel. Finally, the internal temperature was raised to 220 ° C., and the pressure was reduced to 133.32 Pa. After 15 hours, it was confirmed that water was not completely distilled off, and the reaction was completed. The obtained polyester polyol (hereinafter referred to as polyester diol (α)) had the structure of the above formula (2), and n = 1 to 20. When the hydroxyl value was measured, the hydroxyl value was 53.1 mg-KOH / g.

<(成分A)の合成>
(合成例1) <А−1溶液>
攪拌機、冷却管、窒素導入管及び温度計を装備した四つ口フラスコに、テトラカルボン酸二無水物として、3,3',4,4'−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物(BTDA)270.7質量部と、溶剤としてγ−ブチロラクトン964.4質量部を加え、120℃にて撹拌、溶解した。そこへ、ジイソシアネート化合物として4,4'−ジフェニルメタンジイソシアネート(MDI)142.6質量部を添加・撹拌し、ここに触媒として1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]−7−ウンデセン(DBU)0.1質量部を添加し、窒素気流下、120℃で3時間反応させた。その後、室温まで冷却することで固形分濃度30質量%の末端酸無水物基含有イミドプレポリマーを得た。
<Synthesis of (Component A)>
(Synthesis example 1) <А-1 solution>
As a tetracarboxylic dianhydride, 3,3 ′, 4,4′-benzophenone tetracarboxylic dianhydride (BTDA) 270. was added to a four-necked flask equipped with a stirrer, a condenser, a nitrogen inlet tube and a thermometer. 7 parts by mass and 964.4 parts by mass of γ-butyrolactone as a solvent were added and stirred and dissolved at 120 ° C. Thereto, 142.6 parts by mass of 4,4′-diphenylmethane diisocyanate (MDI) as a diisocyanate compound was added and stirred, and 1,8-diazabicyclo [5.4.0] -7-undecene (DBU) was used as a catalyst here. 0.1 part by mass was added and reacted at 120 ° C. for 3 hours under a nitrogen stream. Then, the terminal acid anhydride group containing imide prepolymer with a solid content concentration of 30 mass% was obtained by cooling to room temperature.

次いで、得られた固形分濃度30質量%の末端酸無水物基含有イミドプレポリマーを100℃まで加熱、撹拌し、ポリエステルジオール(α)908.7質量部と、γ−ブチロラクトン1018.7質量部を添加・撹拌した。ここに触媒として4−ジメチルアミノピリジン(DMAP)2.4質量部を添加し、100℃で8時間反応させた。その後、室温まで冷却することで固形分濃度40質量%のイミド結合と水酸基を有する化合物(以下、「化合物(A−1)と記す。」)の溶液を得た。化合物(A−1)の数平均分子量は15000、分散度は4.0、固形分の酸価は25mgKOH/gあった。   Subsequently, the terminal acid anhydride group-containing imide prepolymer having a solid content concentration of 30% by mass was heated to 100 ° C. and stirred to obtain 908.7 parts by mass of polyester diol (α) and 1018.7 parts by mass of γ-butyrolactone. Was added and stirred. Here, 2.4 parts by mass of 4-dimethylaminopyridine (DMAP) was added as a catalyst and reacted at 100 ° C. for 8 hours. Then, the solution of the compound (henceforth "compound (A-1)") which has an imide bond and a hydroxyl group of 40 mass% of solid content concentration was obtained by cooling to room temperature. The number average molecular weight of the compound (A-1) was 15000, the degree of dispersion was 4.0, and the acid value of the solid content was 25 mgKOH / g.

(合成例2) <А−2溶液>
攪拌機、冷却管、窒素導入管及び温度計を装備した四つ口フラスコに、テトラカルボン酸二無水物として、3,3',4,4'−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物(BTDA)270.7質量部と、溶剤としてγ−ブチロラクトン964.4質量部を加え、120℃にて撹拌、溶解した。そこへ、ジイソシアネート化合物として4,4'−ジフェニルメタンジイソシアネート(MDI)142.6質量部を添加・撹拌し、ここに触媒として1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]−7−ウンデセン(DBU)0.1質量部を添加し、窒素気流下、120℃で3時間反応させた。その後、室温まで冷却することで固形分濃度30質量%の末端酸無水物基含有イミドプレポリマーを得た。
(Synthesis Example 2) <А-2 solution>
As a tetracarboxylic dianhydride, 3,3 ′, 4,4′-benzophenone tetracarboxylic dianhydride (BTDA) 270. was added to a four-necked flask equipped with a stirrer, a condenser, a nitrogen inlet tube and a thermometer. 7 parts by mass and 964.4 parts by mass of γ-butyrolactone as a solvent were added and stirred and dissolved at 120 ° C. Thereto, 142.6 parts by mass of 4,4′-diphenylmethane diisocyanate (MDI) as a diisocyanate compound was added and stirred, and 1,8-diazabicyclo [5.4.0] -7-undecene (DBU) was used as a catalyst here. 0.1 part by mass was added and reacted at 120 ° C. for 3 hours under a nitrogen stream. Then, the terminal acid anhydride group containing imide prepolymer with a solid content concentration of 30 mass% was obtained by cooling to room temperature.

次いで、得られた固形分濃度30質量%の末端酸無水物基含有イミドプレポリマーを100℃まで加熱、撹拌し、3−メチル−1,5−ペンタンジオール:イソフタル酸のポリエステルポリオール(クラレ社製 商品名:クラレポリオールP−2030(※))908.7質量部と、γ−ブチロラクトン1018.7質量部を添加・撹拌した。ここに触媒として4−ジメチルアミノピリジン(DMAP)2.4質量部を添加し、100℃で8時間反応させた。その後、室温まで冷却することで固形分濃度40質量%のイミド結合と水酸基を有する化合物(以下、「化合物(A−2)と記す。」)の溶液を得た。化合物(A−2)の数平均分子量は15000、分散度は4.0、固形分の酸価は25mgKOH/gあった。
(※ 前述の式(2)の構造をもつポリエステルポリオールで、nの平均は8.0〜8.1)
Subsequently, the terminal acid anhydride group-containing imide prepolymer having a solid content concentration of 30% by mass was heated to 100 ° C. and stirred, and a polyester polyol of 3-methyl-1,5-pentanediol: isophthalic acid (manufactured by Kuraray Co., Ltd.). Product name: 908.7 parts by mass of Kuraray polyol P-2030 (*) and 1018.7 parts by mass of γ-butyrolactone were added and stirred. Here, 2.4 parts by mass of 4-dimethylaminopyridine (DMAP) was added as a catalyst and reacted at 100 ° C. for 8 hours. Then, the solution of the compound (henceforth "compound (A-2)") which has an imide bond and a hydroxyl group of solid content concentration 40 mass% was obtained by cooling to room temperature. The number average molecular weight of the compound (A-2) was 15000, the degree of dispersion was 4.0, and the acid value of the solid content was 25 mgKOH / g.
(* Polyester polyol having the structure of the above formula (2), the average of n is 8.0 to 8.1)

(合成例3) <А−3溶液>
攪拌機、冷却管、窒素導入管及び温度計を装備した四つ口フラスコに、テトラカルボン酸二無水物として、3,3',4,4'−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物(BTDA)270.7質量部と、溶剤としてγ−ブチロラクトン863.2質量部を加え、120℃にて撹拌、溶解した。そこへ、ジイソシアネート化合物として2,4−トリレンジイソシアネートと2,6−トリレンジイソシアネートとの質量比80:20の混合物であるコスモネートT−80(三井化学ポリウレタン株式会社製)(TDI)99.3質量部を添加・撹拌し、ここに触媒として1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]−7−ウンデセン(DBU)0.1質量部を添加し、窒素気流下、120℃で3時間反応させた。その後、室温まで冷却することで固形分濃度30質量%の末端酸無水物基含有イミドプレポリマーを得た。
Synthesis Example 3 <А-3 Solution>
As a tetracarboxylic dianhydride, 3,3 ′, 4,4′-benzophenone tetracarboxylic dianhydride (BTDA) 270. was added to a four-necked flask equipped with a stirrer, a condenser, a nitrogen inlet tube and a thermometer. 7 parts by mass and 863.2 parts by mass of γ-butyrolactone as a solvent were added and stirred and dissolved at 120 ° C. Then, as a diisocyanate compound, Cosmonate T-80 (Mitsui Chemical Polyurethane Co., Ltd.) (TDI) which is a mixture of 2,4-tolylene diisocyanate and 2,6-tolylene diisocyanate in a mass ratio of 80:20. 3 parts by mass was added and stirred, and 0.1 part by mass of 1,8-diazabicyclo [5.4.0] -7-undecene (DBU) was added as a catalyst, and the mixture was stirred at 120 ° C. for 3 hours under a nitrogen stream. Reacted. Then, the terminal acid anhydride group containing imide prepolymer with a solid content concentration of 30 mass% was obtained by cooling to room temperature.

次いで、得られた固形分濃度30質量%の末端酸無水物基含有イミドプレポリマーを100℃まで加熱、撹拌し、ポリエステルジオール(α)908.7質量部と、γ−ブチロラクトン1054.8質量部を添加・撹拌した。ここに触媒として4−ジメチルアミノピリジン(DMAP)2.4質量部を添加し、100℃で8時間反応させた。その後、室温まで冷却することで固形分濃度40質量%のイミド結合と水酸基を有する化合物(以下、「化合物(A−3)と記す。」)の溶液を得た。化合物(A−3)の数平均分子量は15000、分散度は4.0、固形分の酸価は26mgKOH/gあった。   Subsequently, the terminal acid anhydride group-containing imide prepolymer having a solid content concentration of 30% by mass was heated to 100 ° C. and stirred to obtain 908.7 parts by mass of polyester diol (α) and 1054.8 parts by mass of γ-butyrolactone. Was added and stirred. Here, 2.4 parts by mass of 4-dimethylaminopyridine (DMAP) was added as a catalyst and reacted at 100 ° C. for 8 hours. Then, the solution of the compound (henceforth "compound (A-3)") which has an imide bond and a hydroxyl group of 40 mass% of solid content concentration was obtained by cooling to room temperature. The number average molecular weight of the compound (A-3) was 15000, the degree of dispersion was 4.0, and the acid value of the solid content was 26 mgKOH / g.

(合成例4) <А−4溶液>
攪拌機、冷却管、窒素導入管及び温度計を装備した四つ口フラスコに、テトラカルボン酸二無水物として、3,3',4,4'−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物(BTDA)270.7質量部と、溶剤としてγ−ブチロラクトン863.2質量部を加え、120℃にて撹拌、溶解した。そこへ、ジイソシアネート化合物として2,4−トリレンジイソシアネートと2,6−トリレンジイソシアネートとの質量比80:20の混合物であるコスモネートT−80(三井化学ポリウレタン株式会社製)(TDI)99.3質量部を添加・撹拌し、ここに触媒として1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]−7−ウンデセン(DBU)0.1質量部を添加し、窒素気流下、120℃で3時間反応させた。その後、室温まで冷却することで固形分濃度30質量%の末端酸無水物基含有イミドプレポリマーを得た。
(Synthesis Example 4) <А-4 solution>
As a tetracarboxylic dianhydride, 3,3 ′, 4,4′-benzophenone tetracarboxylic dianhydride (BTDA) 270. was added to a four-necked flask equipped with a stirrer, a condenser, a nitrogen inlet tube and a thermometer. 7 parts by mass and 863.2 parts by mass of γ-butyrolactone as a solvent were added and stirred and dissolved at 120 ° C. Then, as a diisocyanate compound, Cosmonate T-80 (Mitsui Chemical Polyurethane Co., Ltd.) (TDI) which is a mixture of 2,4-tolylene diisocyanate and 2,6-tolylene diisocyanate in a mass ratio of 80:20. 3 parts by mass was added and stirred, and 0.1 part by mass of 1,8-diazabicyclo [5.4.0] -7-undecene (DBU) was added as a catalyst, and the mixture was stirred at 120 ° C. for 3 hours under a nitrogen stream. Reacted. Then, the terminal acid anhydride group containing imide prepolymer with a solid content concentration of 30 mass% was obtained by cooling to room temperature.

次いで、得られた固形分濃度30質量%の末端酸無水物基含有イミドプレポリマーを100℃まで加熱、撹拌し、3−メチル−1,5−ペンタンジオール:イソフタル酸のポリエステルポリオール(クラレ社製 商品名:クラレポリオールP−2030)908.7質量部と、γ−ブチロラクトン1054.8質量部を添加・撹拌した。ここに触媒として4−ジメチルアミノピリジン(DMAP)2.4質量部を添加し、100℃で8時間反応させた。その後、室温まで冷却することで固形分濃度40質量%のイミド結合と水酸基を有する化合物(以下、「化合物(A−4)と記す。」)の溶液を得た。化合物(A−4)の数平均分子量は15000、分散度は4.0、固形分の酸価は26mgKOH/gあった。   Subsequently, the terminal acid anhydride group-containing imide prepolymer having a solid content concentration of 30% by mass was heated to 100 ° C. and stirred, and a polyester polyol of 3-methyl-1,5-pentanediol: isophthalic acid (manufactured by Kuraray Co., Ltd.). (Product name: Kuraray polyol P-2030) 908.7 parts by mass and γ-butyrolactone 1054.8 parts by mass were added and stirred. Here, 2.4 parts by mass of 4-dimethylaminopyridine (DMAP) was added as a catalyst and reacted at 100 ° C. for 8 hours. Then, the solution of the compound (henceforth "compound (A-4)") which has an imide bond and a hydroxyl group of 40 mass% of solid content concentration was obtained by cooling to room temperature. The number average molecular weight of the compound (A-4) was 15000, the degree of dispersion was 4.0, and the acid value of the solid content was 26 mgKOH / g.

(合成例5) <А−5溶液>
攪拌装置、温度計、コンデンサーを備えた反応容器にポリエステルジオール(α)を378.29g(0.179mol)を入れ、4,4'−ジフェニルメタンジイソシアネートであるMILLIONATE MT(日本ポリウレタン工業株式会社製)53.65g(0.214mol)、及び、2,4−トリレンジイソシアネートと2,6−トリレンジイソシアネートとの質量比80:20の混合物であるコスモネートT−80(三井化学ポリウレタン株式会社製)24.89g(0.143mol)と、γ−ブチロラクトン685.3gとを仕込み、150℃ですべての原料を溶解させ、4時間反応させて、ウレタン結合を有するポリイソシアネートを生成させた。
(Synthesis Example 5) <А-5 solution>
378.29 g (0.179 mol) of polyester diol (α) was placed in a reaction vessel equipped with a stirrer, a thermometer, and a condenser, and MILIONATE MT (produced by Nippon Polyurethane Industry Co., Ltd.) 53, which is 4,4′-diphenylmethane diisocyanate 53 Cosmonate T-80 (Mitsui Chemical Polyurethane Co., Ltd.) 24, which is a mixture of .65 g (0.214 mol) and a mass ratio of 2,4-tolylene diisocyanate and 2,6-tolylene diisocyanate of 80:20 .89 g (0.143 mol) and γ-butyrolactone 685.3 g were charged, and all raw materials were dissolved at 150 ° C. and reacted for 4 hours to produce a polyisocyanate having a urethane bond.

次いで、反応液の温度を60℃まで下げ、無水トリメリット酸63.71g(0.332mol)を加え完全に溶解させた後、MILLIONATE MTを23.00g(0.092mol)及びコスモネートT−80を10.67g(0.061mol)と、γ−ブチロラクトン146.07gとを加え、120℃に昇温してすべての原料を溶解させ、1時間反応させた。   Next, the temperature of the reaction solution was lowered to 60 ° C., and 63.71 g (0.332 mol) of trimellitic anhydride was added and completely dissolved, and then 23.00 g (0.092 mol) of MILLIONATE MT and Cosmonate T-80 were added. Was added with 10.67 g (0.061 mol) and 146.07 g of γ-butyrolactone, and the mixture was heated to 120 ° C. to dissolve all the raw materials and reacted for 1 hour.

その後、反応液の温度を180℃まで上げ、180℃で2時間反応させた。続いて、反応液の温度を120℃まで下げ、2−ブタノンオキシム(和光純薬株式会社製)5.61gを加え、反応を終了させ、室温まで冷却することで固形分濃度40質量%のアミド結合及びイミド結合とブロックイソシアナト基を有する化合物(以下、「化合物(A−5)と記す。」)の溶液を得た。
得られた化合物(A−5)の数平均分子量は10500、分散度は3.1、固形分の酸価は19mgKOH/gであった。
Thereafter, the temperature of the reaction solution was raised to 180 ° C. and reacted at 180 ° C. for 2 hours. Subsequently, the temperature of the reaction solution is lowered to 120 ° C., 5.61 g of 2-butanone oxime (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) is added, the reaction is terminated, and the mixture is cooled to room temperature, whereby an amide having a solid content concentration of 40 mass% A solution of a compound having a bond and an imide bond and a block isocyanato group (hereinafter referred to as “compound (A-5)”) was obtained.
The number average molecular weight of the obtained compound (A-5) was 10,500, the degree of dispersion was 3.1, and the acid value of the solid content was 19 mgKOH / g.

(合成例6) <А−6溶液>
攪拌装置、温度計、コンデンサーを備えた反応容器に3−メチル−1,5−ペンタンジオール:イソフタル酸のポリエステルポリオール(クラレ社製 商品名:クラレポリオールP−2030)378.29g(0.179mol)を入れ、4,4'−ジフェニルメタンジイソシアネートであるMILLIONATE MT(日本ポリウレタン工業株式会社製)53.65g(0.214mol)、及び、2,4−トリレンジイソシアネートと2,6−トリレンジイソシアネートとの質量比80:20の混合物であるコスモネートT−80(三井化学ポリウレタン株式会社製)24.89g(0.143mol)と、γ−ブチロラクトン685.3gとを仕込み、150℃ですべての原料を溶解させ、4時間反応させて、ウレタン結合を有するポリイソシアネートを生成させた。
(Synthesis Example 6) <А-6 solution>
In a reaction vessel equipped with a stirrer, a thermometer, and a condenser, 378.29 g (0.179 mol) of 3-methyl-1,5-pentanediol: polyester polyol of isophthalic acid (trade name: Kuraray Polyol P-2030 manufactured by Kuraray Co., Ltd.) 4,4′-diphenylmethane diisocyanate MILLIONATE MT (manufactured by Nippon Polyurethane Industry Co., Ltd.) 53.65 g (0.214 mol), and 2,4-tolylene diisocyanate and 2,6-tolylene diisocyanate Cosmonate T-80 (Mitsui Chemical Polyurethane Co., Ltd.) 24.89 g (0.143 mol) and γ-butyrolactone 685.3 g, which is a mixture with a mass ratio of 80:20, are charged and all raw materials are dissolved at 150 ° C. And react for 4 hours to obtain a urethane bond. To produce a isocyanate.

次いで、反応液の温度を60℃まで下げ、無水トリメリット酸63.71g(0.332mol)を加え完全に溶解させた後、MILLIONATE MTを23.00g(0.092mol)及びコスモネートT−80を10.67g(0.061mol)と、γ−ブチロラクトン146.07gとを加え、120℃に昇温してすべての原料を溶解させ、1時間反応させた。   Next, the temperature of the reaction solution was lowered to 60 ° C., and 63.71 g (0.332 mol) of trimellitic anhydride was added and completely dissolved, and then 23.00 g (0.092 mol) of MILLIONATE MT and Cosmonate T-80 were added. Was added with 10.67 g (0.061 mol) and 146.07 g of γ-butyrolactone, and the mixture was heated to 120 ° C. to dissolve all the raw materials and reacted for 1 hour.

その後、反応液の温度を180℃まで上げ、180℃で2時間反応させた。続いて、反応液の温度を120℃まで下げ、2−ブタノンオキシム(和光純薬株式会社製)5.61gを加え、反応を終了させ、室温まで冷却することで固形分濃度40質量%のアミド結合及びイミド結合とブロックイソシアナト基を有する化合物(以下、「化合物(A−6)と記す。」)の溶液を得た。
得られた化合物(A−6)の数平均分子量は10500、分散度は3.1、固形分の酸価は19mgKOH/gであった。
Thereafter, the temperature of the reaction solution was raised to 180 ° C. and reacted at 180 ° C. for 2 hours. Subsequently, the temperature of the reaction solution is lowered to 120 ° C., 5.61 g of 2-butanone oxime (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) is added, the reaction is terminated, and the mixture is cooled to room temperature, whereby an amide having a solid content concentration of 40 mass% A solution of a compound having a bond and an imide bond and a block isocyanato group (hereinafter referred to as “compound (A-6)”) was obtained.
The number average molecular weight of the obtained compound (A-6) was 10,500, the degree of dispersion was 3.1, and the acid value of the solid content was 19 mgKOH / g.

(合成例7) <А−7溶液>
攪拌装置、温度計、コンデンサーを備えた反応容器に、ポリエステルジオール(α)369.85g(0.175mol)と、4,4'−ジシクロヘキシルメタンジイソシアネートであるデスモジュール−W(住化バイエルウレタン株式会社製)91.70g(0.350mol)と、溶媒であるγ−ブチロラクトン(三菱化学株式会社製)692.33gとを仕込み、150℃ですべての原料を溶解させ、4時間反応させて、ウレタン結合を有するポリイソシアネートを生成させた。
(Synthesis Example 7) <А-7 solution>
In a reaction vessel equipped with a stirrer, a thermometer and a condenser, 369.85 g (0.175 mol) of polyester diol (α) and Desmodur-W (Sumika Bayer Urethane Co., Ltd.) which is 4,4′-dicyclohexylmethane diisocyanate Product) 91.70 g (0.350 mol) and 692.33 g of γ-butyrolactone (Mitsubishi Chemical Corporation) as a solvent are charged, all raw materials are dissolved at 150 ° C. and reacted for 4 hours to form a urethane bond. A polyisocyanate having was produced.

次いで、反応液の温度を80℃まで下げ、デスモジュール−Wを45.85g(0.175mol)と、無水トリメリット酸(三菱ガス化学株式会社製)33.60g(0.175mol)と、γ−ブチロラクトン(三菱化学株式会社製)119.18gとを加え、150℃に昇温してすべての原料を溶解させ、3時間反応させた。   Subsequently, the temperature of the reaction solution was lowered to 80 ° C., and Desmodur-W was 45.85 g (0.175 mol), trimellitic anhydride (manufactured by Mitsubishi Gas Chemical Co., Inc.) 33.60 g (0.175 mol), and γ -Butyrolactone (Mitsubishi Chemical Co., Ltd.) 119.18g was added, it heated up at 150 degreeC, all the raw materials were dissolved, and it was made to react for 3 hours.

反応液の温度を80℃まで下げ、ジオールであるネオペンチルグリコール(関東化学株式会社製)16.40g(0.158mol)を加え、120℃に昇温して全ての原料を溶解させ、4時間反応させた。その後反応液の温度を80℃まで下げ、トリオールであるグリセリン(関東化学株式会社製)9.67g(0.105mol)と、γ−ブチロラクトン(三菱化学株式会社製)39.10gとを加え、110℃に昇温して反応を進行させた。IR測定により反応液中のイソシアナト基の存在を確認しながら反応を行い、系中のイソシアナト基が確認されなくなった時点を反応を終了させ、室温まで冷却することで固形分濃度40質量%の水酸基、アミド結合およびイミド結合と水酸基を有する化合物(以下、「化合物(A−7)と記す。」)の溶液を得た。
得られた化合物(A−7)の数平均分子量は10000、分散度は4.3、固形分の酸価は17mgKOH/g、水酸基価は10mgKOH/gであった。
The temperature of the reaction solution is lowered to 80 ° C., 16.40 g (0.158 mol) of neopentyl glycol (manufactured by Kanto Chemical Co., Ltd.) as a diol is added, and the temperature is raised to 120 ° C. to dissolve all the raw materials for 4 hours. Reacted. Thereafter, the temperature of the reaction solution is lowered to 80 ° C., and 9.67 g (0.105 mol) of glycerin (manufactured by Kanto Chemical Co., Ltd.) as a triol and 39.10 g of γ-butyrolactone (manufactured by Mitsubishi Chemical Co., Ltd.) are added. The temperature was raised to 0 ° C. and the reaction was allowed to proceed. The reaction is carried out while confirming the presence of the isocyanate group in the reaction solution by IR measurement. When the isocyanate group is no longer confirmed in the system, the reaction is terminated, and the reaction mixture is cooled to room temperature. A solution of a compound having an amide bond, an imide bond and a hydroxyl group (hereinafter referred to as “compound (A-7)”) was obtained.
The number average molecular weight of the obtained compound (A-7) was 10,000, the degree of dispersion was 4.3, the acid value of the solid content was 17 mgKOH / g, and the hydroxyl value was 10 mgKOH / g.

(比較合成例1) <CА−1溶液>
攪拌機、冷却管、窒素導入管及び温度計を装備した四つ口フラスコに、テトラカルボン酸二無水物として、3,3',4,4'−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物(BTDA)270.7質量部と、溶剤としてγ−ブチロラクトン863.2質量部を加え、120℃にて撹拌、溶解した。そこへ、ジイソシアネート化合物として2,4−トリレンジイソシアネートと2,6−トリレンジイソシアネートとの質量比80:20の混合物であるコスモネートT−80(三井化学ポリウレタン株式会社製)99.27質量部を添加・撹拌し、ここに触媒として1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]−7−ウンデセン(DBU)0.1質量部を添加し、窒素気流下、120℃で3時間反応させた。その後、室温まで冷却することで固形分濃度30質量%の末端酸無水物基含有イミドプレポリマーを得た。
(Comparative Synthesis Example 1) <CА-1 solution>
As a tetracarboxylic dianhydride, 3,3 ′, 4,4′-benzophenone tetracarboxylic dianhydride (BTDA) 270. was added to a four-necked flask equipped with a stirrer, a condenser, a nitrogen inlet tube and a thermometer. 7 parts by mass and 863.2 parts by mass of γ-butyrolactone as a solvent were added and stirred and dissolved at 120 ° C. Thereto, 99.27 parts by mass of Cosmonate T-80 (Mitsui Chemical Polyurethane Co., Ltd.), which is a mixture of 2,4-tolylene diisocyanate and 2,6-tolylene diisocyanate in a mass ratio of 80:20 as a diisocyanate compound. Then, 0.1 part by mass of 1,8-diazabicyclo [5.4.0] -7-undecene (DBU) was added as a catalyst, and the mixture was reacted at 120 ° C. for 3 hours under a nitrogen stream. . Then, the terminal acid anhydride group containing imide prepolymer with a solid content concentration of 30 mass% was obtained by cooling to room temperature.

次いで、得られた固形分濃度30質量%の末端酸無水物基含有イミドプレポリマーを100℃まで加熱、撹拌し、ポリオール化合物として、ポリカーボネートジオール化合物(商品名:デュラノール T5650E:旭化成ケミカルズ(株)製、Mn=500)100.0質量部、およびアジピン酸/ネオペンチルグリコール/1,6−ヘキサンジオールのポリエステルジオール(商品名:OD−X−688 DIC(株)製、数平均分子量約2,000)460.0質量部と、γ−ブチロラクトン531.71質量部を添加・撹拌した。ここに触媒として4−ジメチルアミノピリジン(DMAP)2.4質量部を添加し、100℃で8時間反応させた。その後、室温まで冷却することで固形分濃度40質量%のイミド結合とカルボキシル基および水酸基を有する化合物(以下、「化合物(CA−1)と記す。」)の溶液を得た。化合物(CA−1)の数平均分子量は13500、分散度は4.0、固形分の酸価は36mgKOH/gあった。   Subsequently, the terminal acid anhydride group-containing imide prepolymer having a solid content concentration of 30% by mass was heated and stirred to 100 ° C., and as a polyol compound, a polycarbonate diol compound (trade name: DURANOL T5650E: manufactured by Asahi Kasei Chemicals Corporation) , Mn = 500) 100.0 parts by mass, and polyester diol of adipic acid / neopentyl glycol / 1,6-hexanediol (trade name: OD-X-688 manufactured by DIC Corporation, number average molecular weight of about 2,000) ) 460.0 parts by mass and 531.71 parts by mass of γ-butyrolactone were added and stirred. Here, 2.4 parts by mass of 4-dimethylaminopyridine (DMAP) was added as a catalyst and reacted at 100 ° C. for 8 hours. Then, the solution of the compound (henceforth "compound (CA-1)") which has an imide bond of 40 mass% of solid content concentration, a carboxyl group, and a hydroxyl group was obtained by cooling to room temperature. The number average molecular weight of the compound (CA-1) was 13,500, the degree of dispersion was 4.0, and the acid value of the solid content was 36 mgKOH / g.

(比較合成例2) <CА−2溶液>
攪拌装置、温度計、コンデンサーを備えた反応容器に、1,4−シクロヘキサンジメタノールに由来する構成単位と1,6−ヘキササンジオールに由来する構成単位とを1:1のモル比で含んでいるポリカーボネートジオールUM―CARB90(1/1)(宇部興産株式会社製)161.44g(0.179mol)を入れ、4,4'−ジフェニルメタンジイソシアネートであるMILLIONATE MT(日本ポリウレタン工業株式会社製)53.65g(0.214mol)、及び、2,4−トリレンジイソシアネートと2,6−トリレンジイソシアネートとの質量比80:20の混合物であるコスモネートT−80(三井化学ポリウレタン株式会社製)24.89g(0.143mol)と、γ−ブチロラクトン159.93gとを仕込み、150℃ですべての原料を溶解させ、4時間反応させて、ウレタン結合を有するポリイソシアネートを生成させた。
(Comparative Synthesis Example 2) <CА-2 solution>
A reaction vessel equipped with a stirrer, a thermometer, and a condenser contains a structural unit derived from 1,4-cyclohexanedimethanol and a structural unit derived from 1,6-hexasandiol at a molar ratio of 1: 1. Polycarbonate diol UM-CARB90 (1/1) (manufactured by Ube Industries Co., Ltd.) 161.44 g (0.179 mol) is added, and MILLOIONATE MT (manufactured by Nippon Polyurethane Industry Co., Ltd.), which is 4,4′-diphenylmethane diisocyanate 53. Cosmonate T-80 (Mitsui Chemical Polyurethane Co., Ltd.), which is a mixture of 65 g (0.214 mol) and a mass ratio of 2,4-tolylene diisocyanate and 2,6-tolylene diisocyanate of 80:20. 89 g (0.143 mol) and γ-butyrolactone 159.93 g were prepared. All raw materials were dissolved at 150 ° C. and reacted for 4 hours to produce a polyisocyanate having a urethane bond.

次いで、反応液の温度を60℃まで下げ、無水トリメリット酸63.71g(0.332mol)を加え完全に溶解させた後、MILLIONATE MTを23.00g(0.092mol)及びコスモネートT−80を10.67g(0.061mol)と、γ−ブチロラクトン342.98gとを加え、120℃に昇温してすべての原料を溶解させ、1時間反応させた。   Next, the temperature of the reaction solution was lowered to 60 ° C., and 63.71 g (0.332 mol) of trimellitic anhydride was added and completely dissolved, and then 23.00 g (0.092 mol) of MILLIONATE MT and Cosmonate T-80 were added. And 10.67 g (0.061 mol) of γ-butyrolactone and 342.98 g of γ-butyrolactone were added, the temperature was raised to 120 ° C., and all the raw materials were dissolved and reacted for 1 hour.

その後、反応液の温度を180℃まで上げ、180℃で2時間反応させた。続いて、反応液の温度を120℃まで下げ、2−ブタノンオキシム(和光純薬株式会社製)3.13gを加え、反応を終了させ、室温まで冷却することで固形分濃度40質量%のアミド結合及びイミド結合とカルボキシル基を有する化合物(以下、「化合物(CА−2)と記す。」)の溶液を得た。
得られた化合物(CА−2)の数平均分子量は9200、分散度は3.1、固形分の酸価は31mgKOH/gであった。
Thereafter, the temperature of the reaction solution was raised to 180 ° C. and reacted at 180 ° C. for 2 hours. Subsequently, the temperature of the reaction solution was lowered to 120 ° C., 3.13 g of 2-butanone oxime (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) was added, the reaction was terminated, and the amide having a solid content concentration of 40% by mass was cooled to room temperature. A solution of a compound having a bond, an imide bond and a carboxyl group (hereinafter referred to as “compound (CА-2)”) was obtained.
The number average molecular weight of the obtained compound (CА-2) was 9200, the degree of dispersion was 3.1, and the acid value of the solid content was 31 mgKOH / g.

(比較合成例3) <CА−3溶液>
攪拌装置、温度計、コンデンサーを備えた反応容器に、1,4−シクロヘキサンジメタノールに由来する構成単位と1,6−ヘキササンジオールに由来する構成単位とを3:1のモル比で含んでいるポリカーボネートジオールUM―CARB90(3/1)(宇部興産株式会社製、平均分子量:約900)156.98g(0.175mol)と、4,4'−ジシクロヘキシルメタンジイソシアネートであるデスモジュール−W(住化バイエルウレタン株式会社製)91.70g(0.350mol)と、溶媒であるγ−ブチロラクトン(三菱化学株式会社製)165.80gとを仕込み、150℃ですべての原料を溶解させ、4時間反応させて、ウレタン結合を有するポリイソシアネートを生成させた。
(Comparative Synthesis Example 3) <CА-3 solution>
A reaction vessel equipped with a stirrer, a thermometer, and a condenser contains a structural unit derived from 1,4-cyclohexanedimethanol and a structural unit derived from 1,6-hexasandiol in a molar ratio of 3: 1. Polycarbonate diol UM-CARB90 (3/1) (manufactured by Ube Industries, average molecular weight: about 900) 156.98 g (0.175 mol) and Desmodur-W (Sumi), which is 4,4′-dicyclohexylmethane diisocyanate Kay Bayer Urethane Co., Ltd.) 91.70 g (0.350 mol) and γ-butyrolactone (Mitsubishi Chemical Co., Ltd.) 165.80 g as a solvent are charged and all raw materials are dissolved at 150 ° C. for 4 hours. Thus, a polyisocyanate having a urethane bond was produced.

次いで、反応液の温度を80℃まで下げ、デスモジュール−Wを45.85g(0.175mol)と、無水トリメリット酸(三菱ガス化学株式会社製)33.60g(0.175mol)と、γ−ブチロラクトン(三菱化学株式会社製)162.33gとを加え、150℃に昇温してすべての原料を溶解させ、3時間反応させた。   Subsequently, the temperature of the reaction solution was lowered to 80 ° C., and Desmodur-W was 45.85 g (0.175 mol), trimellitic anhydride (manufactured by Mitsubishi Gas Chemical Co., Inc.) 33.60 g (0.175 mol), and γ -Butyrolactone (Mitsubishi Chemical Co., Ltd.) 162.33g was added, and it heated up at 150 degreeC, dissolved all the raw materials, and made it react for 3 hours.

反応液の温度を80℃まで下げ、ジオールであるネオペンチルグリコール(関東化学株式会社製)16.40g(0.158mol)を加え、120℃に昇温して全ての原料を溶解させ、4時間反応させた。その後反応液の温度を80℃まで下げ、トリオールであるグリセリン(関東化学株式会社製)9.67g(0.105mol)と、γ−ブチロラクトン(三菱化学株式会社製)26.07gとを加え、110℃に昇温して反応を進行させた。IR測定により反応液中のイソシアナト基の存在を確認しながら反応を行い、系中のイソシアナト基が確認されなくなった時点を反応を終了させ、γ−ブチロラクトン177.1gを加えて、固形分濃度40質量%の水酸基、アミド結合およびイミド結合と水酸基を有する化合物(以下、「化合物(CA−3)と記す。」)の溶液を得た。 得られた化合物(CA−3)の数平均分子量は8000、分散度は4.4、固形分の酸価は27mgKOH/g、水酸基価は16mgKOH/gであった。   The temperature of the reaction solution is lowered to 80 ° C., 16.40 g (0.158 mol) of neopentyl glycol (manufactured by Kanto Chemical Co., Ltd.) as a diol is added, and the temperature is raised to 120 ° C. to dissolve all the raw materials for 4 hours. Reacted. Thereafter, the temperature of the reaction solution is lowered to 80 ° C., 9.67 g (0.105 mol) of glycerin (manufactured by Kanto Chemical Co., Ltd.) as a triol and 26.07 g of γ-butyrolactone (manufactured by Mitsubishi Chemical Co., Ltd.) are added. The reaction was allowed to proceed to a temperature of 0 ° C. The reaction is carried out while confirming the presence of the isocyanate group in the reaction solution by IR measurement. When the isocyanate group is no longer confirmed in the system, the reaction is terminated, and 177.1 g of γ-butyrolactone is added to obtain a solid concentration of 40 A solution of a compound having a mass% hydroxyl group, amide bond, imide bond and hydroxyl group (hereinafter referred to as “compound (CA-3)”) was obtained. The number average molecular weight of the obtained compound (CA-3) was 8000, the degree of dispersion was 4.4, the acid value of the solid content was 27 mgKOH / g, and the hydroxyl value was 16 mgKOH / g.

<主剤配合物の製造>
(主剤配合物1)
化合物(A−1)の溶液を160.0質量部、シリカ粉(日本アエロジル株式会社製,商品名:アエロジルR−974)6.3質量部、硬化促進剤としてメラミン(日産化学工業株式会社製)0.72質量部およびジエチレングリコールジエチルエーテル8.4質量部を混合し、三本ロールミル(株式会社井上製作所製,型式:S−4 3/4×11)を用いて、化合物(A−1)へのシリカ粉、硬化促進剤の混合を行った。その後、消泡剤(モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ社製,商品名:TSA750S)2.0質量部を添加して、スパチュラを用いて混合した。この配合物を主剤配合物C1とした。
<Manufacture of base compound>
(Main compound 1)
160.0 parts by mass of the solution of the compound (A-1), 6.3 parts by mass of silica powder (manufactured by Nippon Aerosil Co., Ltd., trade name: Aerosil R-974), and melamine (manufactured by Nissan Chemical Industries, Ltd.) as a curing accelerator ) 0.72 parts by mass and 8.4 parts by mass of diethylene glycol diethyl ether were mixed, and a compound (A-1) was obtained using a three roll mill (manufactured by Inoue Seisakusho Co., Ltd., model: S-4 3/4 × 11). The silica powder and the curing accelerator were mixed. Thereafter, 2.0 parts by mass of an antifoaming agent (manufactured by Momentive Performance Materials, trade name: TSA750S) was added and mixed using a spatula. This blend was designated as a base blend C1.

(主剤配合物2〜7および比較主剤配合物1〜3)
主剤配合物1と同様の方法によって、表1に示す配合組成に従って配合した。それぞれ主剤配合物2〜7、比較主剤配合物比1〜比3とした。
尚、表中の数値は「質量部」を表す。
(Main agent formulations 2-7 and comparative main agent formulations 1-3)
According to the same method as the main agent formulation 1, the components were blended according to the blending composition shown in Table 1. The main agent formulations were 2 to 7, and the comparative main agent formulation ratios were 1 to 3, respectively.
In addition, the numerical value in a table | surface represents a "mass part."

Figure 2017183496
Figure 2017183496

<硬化剤溶液の製造>
(硬化剤溶液の配合例1) <B−1溶液>
撹拌機、温度計およびコンデンサーを備えた容器に、下記式(7)の構造を有するエポキシ樹脂(三菱化学社製,グレード名:JER604,エポキシ当量120g/eqv)16.85質量部、ジエチレングリコールジエチルエーテル18.25質量部を添加し、
撹拌を開始した。
<Production of curing agent solution>
(Formulation example 1 of curing agent solution) <B-1 solution>
In a container equipped with a stirrer, a thermometer and a condenser, an epoxy resin having a structure of the following formula (7) (Mitsubishi Chemical Corporation, grade name: JER604, epoxy equivalent 120 g / eqv) 16.85 parts by mass, diethylene glycol diethyl ether 18.25 parts by weight are added,
Agitation was started.

撹拌を継続しながら、オイルバスを用いて、容器内の温度を40℃に昇温した。内温を40℃に昇温後、30分間撹拌を継続した。その後、JER604が完全に溶解したのを確認して、室温まで冷却し、濃度48質量%のJER604含有溶液を取得した。この溶液を硬化剤溶液B−1する。   While continuing stirring, the temperature in the container was raised to 40 ° C. using an oil bath. After raising the internal temperature to 40 ° C., stirring was continued for 30 minutes. Then, after confirming that JER604 was melt | dissolved completely, it cooled to room temperature and acquired the JER604 containing solution with a density | concentration of 48 mass%. This solution is designated as a curing agent solution B-1.

Figure 2017183496
Figure 2017183496

(硬化剤溶液の配合例2) <B−2溶液>
撹拌機、温度計およびコンデンサーを備えた容器に、N,N−ジグリシジル−4−(グリシジルオキシ)アニリンを主成分とするエポキシ樹脂(三菱化学株式会社製,グレード名:JER630,エポキシ当量98g/eqv)16.85質量部、ジエチレングリコールジエチルエーテル18.25質量部を添加し、撹拌を開始した。
(Example 2 of curing agent solution) <B-2 solution>
An epoxy resin mainly composed of N, N-diglycidyl-4- (glycidyloxy) aniline (manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation, grade name: JER630, epoxy equivalent 98 g / eqv) in a container equipped with a stirrer, a thermometer and a condenser. ) 16.85 parts by mass and 18.25 parts by mass of diethylene glycol diethyl ether were added and stirring was started.

撹拌を継続しながら、オイルバスを用いて、容器内の温度を40℃に昇温した。内温を40℃に昇温後、30分間撹拌を継続した。その後、JER630が完全に溶解したのを確認して、室温まで冷却し、濃度48質量%のJER630含有溶液を取得した。この溶液を硬化剤溶液B−2とする。   While continuing stirring, the temperature in the container was raised to 40 ° C. using an oil bath. After raising the internal temperature to 40 ° C., stirring was continued for 30 minutes. Then, it confirmed that JER630 was melt | dissolving completely, it cooled to room temperature, and the JER630 containing solution with a density | concentration of 48 mass% was acquired. This solution is designated as a curing agent solution B-2.

<主剤配合物と硬化剤を含む溶液の混合>
(硬化性組成物の実施例1)
主剤配合物C1を88.71質量部と硬化剤溶液B−1を3.51質量部とをプラスチック容器に入れた。さらに、後述する他の配合例、比較配合例の硬化性組成物と粘度を合わせるために、溶媒としてジエチレングリコールジエチルエーテル3.0質量部およびジエチレングリコールエチルエーテルアセテート1.5質量部を添加した。混合は、スパーテルを用い、室温で5分間攪拌することで行い、硬化性組成物(以下、「硬化性組成物F1」と記す。)を得た。
<Mixing of the solution containing the main compound blend and curing agent>
(Example 1 of curable composition)
88.71 parts by mass of the main compound formulation C1 and 3.51 parts by mass of the curing agent solution B-1 were placed in a plastic container. Further, 3.0 parts by mass of diethylene glycol diethyl ether and 1.5 parts by mass of diethylene glycol ethyl ether acetate were added as solvents in order to match the viscosity with the curable compositions of other formulation examples and comparative formulation examples described later. Mixing was performed by stirring for 5 minutes at room temperature using a spatula to obtain a curable composition (hereinafter referred to as “curable composition F1”).

(実施例2〜8および比較例1〜3)
硬化性組成物の実施例1と同様の方法によって、表2に示す配合組成に従って配合した。硬化性組成物の実施例2〜8で調製した配合物を、それぞれ硬化性組成物F2〜F8、硬化性組成物の比較例1〜3で調製した配合物を、それぞれ硬化性組成物G1〜G3とした。ここで、硬化性組成物F8、G3においては、さらに(成分B)に相当するBaxenden社製ブロックイソシアネート「7950」も配合した。
(Examples 2-8 and Comparative Examples 1-3)
The curable composition was formulated according to the composition shown in Table 2 by the same method as in Example 1. The formulations prepared in Examples 2 to 8 of the curable composition were respectively curable compositions F2 to F8, and the formulations prepared in Comparative Examples 1 to 3 of the curable composition were respectively curable compositions G1 to G1. G3. Here, in the curable compositions F8 and G3, a block isocyanate “7950” manufactured by Baxenden corresponding to (Component B) was further blended.

尚、表中の数値は「質量部」を表す。
なお、硬化性組成物F1〜F8、硬化性組成物G1〜G3の配合組成を表2に記す。また、前記硬化性組成物F1〜F8、硬化性組成物G1〜G3の成分ごとの質量部をまとめたものを表3に記す。また、表2、3におけるエポキシ基数/カルボキシル基数は、酸価から計算して求めた。
In addition, the numerical value in a table | surface represents a "mass part."
In addition, Table 2 shows the composition of the curable compositions F1 to F8 and the curable compositions G1 to G3. Moreover, what put together the mass part for every component of the said curable composition F1-F8 and the curable composition G1-G3 is described in Table 3. Moreover, the number of epoxy groups / the number of carboxyl groups in Tables 2 and 3 was calculated from the acid value.

Figure 2017183496
Figure 2017183496

Figure 2017183496
Figure 2017183496

(実施例1〜8および比較例1〜3)
硬化性組成物F1〜F8、硬化性組成物G1〜G3を用いて、以下に説明する方法により、可撓性、断線抑制性、反り性の評価および長期電気絶縁信頼性の評価を行った。その結果を表4に記す。
(Examples 1-8 and Comparative Examples 1-3)
Using the curable compositions F1 to F8 and the curable compositions G1 to G3, evaluation of flexibility, wire breakage suppression, warpage and long-term electrical insulation reliability were performed by the methods described below. The results are shown in Table 4.

<可撓性の評価>
フレキシブル銅張り積層板(住友金属鉱山株式会社製,グレード名:エスパーフレックス,銅厚:8μm、ポリイミド厚:38μm)の銅上に、幅75mm、長さ110mmの大きさ、硬化後の塗膜の厚み15μmになるように硬化性組成物F1を、スクリーン印刷により塗布し、10分間室温で保持し、120℃の熱風循環式乾燥機に60分間入れることにより硬化させた。作製した試験片の裏打ちの保護PETフィルムを剥離し、幅10mmの短冊状にカッターナイフで切り出した後、塗膜面が外側になる様に約180度折り曲げ、圧縮機を用いて0.5±0.2MPaで3秒間圧縮した。屈曲部を曲げた状態で30倍の顕微鏡で観察し、クラックの発生の有無を確認した。結果を表4に記す。
また、硬化性組成物F2〜F8、硬化性組成物G1〜G3を用いて、同様の評価を行った。それらの結果もあわせて表4に記す。
<Evaluation of flexibility>
A flexible copper-clad laminate (manufactured by Sumitomo Metal Mining Co., Ltd., grade name: Esperflex, copper thickness: 8 μm, polyimide thickness: 38 μm) on copper with a width of 75 mm, a length of 110 mm, and a cured coating film The curable composition F1 was applied by screen printing so as to have a thickness of 15 μm, held at room temperature for 10 minutes, and cured by placing it in a 120 ° C. hot air circulation dryer for 60 minutes. The protective PET film on the backing of the prepared test piece was peeled off, cut into a strip shape with a width of 10 mm with a cutter knife, bent about 180 degrees so that the coating surface was on the outside, and 0.5 ± using a compressor. Compressed at 0.2 MPa for 3 seconds. The bent part was bent and observed with a 30-fold microscope to confirm the presence or absence of cracks. The results are shown in Table 4.
Moreover, the same evaluation was performed using the curable compositions F2 to F8 and the curable compositions G1 to G3. The results are also shown in Table 4.

<配線板の配線の断線抑制性の評価(MIT試験)>
フレキシブル銅張り積層板(住友金属鉱山株式会社製,グレード名:エスパーフレックスUS,銅厚:8μm、ポリイミド厚:38μm)をエッチングして製造した、JPCA−ET01に記載の微細くし形パターン形状の基板(銅配線幅/銅配線間幅=15μm/15μm)に錫メッキ処理を施したフレキシブル配線板に、硬化性組成物F1を、スクリーン印刷法により、塗膜のポリイミド面からの厚みが10μmの厚さ(乾燥後)になるように塗布した。得られた塗膜形成配線板を、80℃の熱風循環式乾燥機に30分間入れ、その後、120℃の熱風循環式乾燥機に120分間入れることにより前記塗膜を硬化させた。
この試験片を用いて、JIS C−5016に記載のやり方で下記の試験条件で実施した。
<Evaluation of wire breakage suppression of wiring board (MIT test)>
Substrate with a fine comb pattern described in JPCA-ET01, manufactured by etching a flexible copper-clad laminate (manufactured by Sumitomo Metal Mining Co., Ltd., grade name: Esperflex US, copper thickness: 8 μm, polyimide thickness: 38 μm) A thickness of 10 μm from the polyimide surface of the coating film is applied to the flexible wiring board (copper wiring width / inter-copper wiring width = 15 μm / 15 μm) with a curable composition F1 by screen printing. It applied so that it might become (after drying). The obtained coating film-formed wiring board was placed in an 80 ° C. hot air circulation dryer for 30 minutes, and then placed in a 120 ° C. hot air circulation dryer for 120 minutes to cure the coating film.
Using this test piece, it was carried out under the following test conditions in the manner described in JIS C-5016.

(試験条件)
試験機:テスター産業株式会社製 MITテスターBE202
折り曲げ速度:10回/分
荷重:200g
折り曲げ角度:±90°
つかみ具先端部の半径:0.5mm
上記試験条件で10回ずつ折り曲げ回数を増やしていき、目視にて配線のクラックの有無を観察し、クラックが発生したときの折り曲げ回数を記録した。結果を表3に記す。
また、硬化性組成物F2〜F8、硬化性組成物G1〜G3を用いて、同様の評価を行った。それらの結果についてもあわせて表4に記す。
(Test conditions)
Testing machine: MIT Tester BE202 manufactured by Tester Sangyo Co., Ltd.
Bending speed: 10 times / min Load: 200g
Bending angle: ± 90 °
Radius of gripper tip: 0.5mm
The number of bendings was increased 10 times under the above test conditions, the presence or absence of cracks in the wiring was visually observed, and the number of bendings when a crack occurred was recorded. The results are shown in Table 3.
Moreover, the same evaluation was performed using the curable compositions F2 to F8 and the curable compositions G1 to G3. The results are also shown in Table 4.

<反り性の評価>
硬化性組成物F1を、#180メッシュポリエステル版で、基板にスクリーン印刷により塗布し、該基板を80℃の熱風循環式乾燥機に30分間入れた。その後、前記基板を120℃の熱風循環式乾燥機に60分間入れることにより、塗布した硬化性組成物F1を硬化させた。前記基板としては、25μm厚ポリイミドフィルム〔カプトン(登録商標)100EN、東レ・デュポン株式会社製〕を用いた。
<Evaluation of warpage>
The curable composition F1 was applied to a substrate by screen printing with a # 180 mesh polyester plate, and the substrate was placed in a hot air circulation dryer at 80 ° C. for 30 minutes. Then, the applied curable composition F1 was cured by placing the substrate in a 120 ° C. hot air circulation dryer for 60 minutes. As the substrate, a 25 μm-thick polyimide film [Kapton (registered trademark) 100EN, manufactured by Toray DuPont Co., Ltd.] was used.

硬化した塗膜を、基板ごと、直径50mmφにサークルカッターでカットした。円形にカットされたものは中心付近が凸状または凹状に反る形の変形を呈する。サークルカッターでカットされた、基板上に硬化膜が形成されたものを、1時間後に下に凸の状態で、すなわち基板上に硬化膜が形成されたものの中心付近が水平面に接するようにして静置し、水平面からの反りの高さの最大、最小値を測定し、その平均値を求めた。符号は反りの方向を表し、下に凸の状態で静置した際、銅基板またはポリイミドフィルムに対し硬化膜が上側になる場合を「+」、硬化膜が下側になる場合を「−」とした。そして、反りが+3.0mm未満であれば合格とした。   The cured coating film was cut with a circle cutter to a diameter of 50 mmφ together with the substrate. What is cut into a circle exhibits a deformation in which the vicinity of the center warps in a convex or concave shape. The one that has been cut with a circle cutter and has a cured film formed on the substrate is placed in a convex state after 1 hour, that is, with the cured film formed on the substrate so that the vicinity of the center is in contact with the horizontal plane. The maximum and minimum values of the warp height from the horizontal plane were measured, and the average value was obtained. The sign represents the direction of warping, and when left in a convex state, “+” indicates that the cured film is on the upper side of the copper substrate or polyimide film, and “−” indicates that the cured film is on the lower side. It was. And if curvature was less than +3.0 mm, it was set as the pass.

結果を表4に記す。
また、硬化性組成物F2〜F8、硬化性組成物G1〜G3を用いて、同様の評価を行った。それらの結果もあわせて表4に記す。
The results are shown in Table 4.
Moreover, the same evaluation was performed using the curable compositions F2 to F8 and the curable compositions G1 to G3. The results are also shown in Table 4.

<長期電気絶縁信頼性の評価>
フレキシブル銅張り積層板(住友金属鉱山株式会社製,グレード名:エスパーフレックスUS,銅厚:8μm,ポリイミド厚:38μm)をエッチングして製造した、JPCA−ET01に記載の微細くし形パターン形状の基板(銅配線幅/銅配線間幅=15μm/15μm)に錫メッキ処理を施したフレキシブル配線板に、硬化性組成物F1を、スクリーン印刷法により、ポリイミド面からの厚みが15μmの厚さ(乾燥後)になるように塗布した。前記フレキシブル配線板を80℃の熱風循環式乾燥機に30分間入れ、その後、120℃の熱風循環式乾燥機に120分間入れることにより、塗布した硬化性組成物F1を硬化させた。
<Evaluation of long-term electrical insulation reliability>
Substrate with a fine comb pattern described in JPCA-ET01, manufactured by etching a flexible copper-clad laminate (manufactured by Sumitomo Metal Mining Co., Ltd., grade name: Esperflex US, copper thickness: 8 μm, polyimide thickness: 38 μm) A flexible wiring board (copper wiring width / inter-copper wiring width = 15 μm / 15 μm) subjected to tin plating is coated with the curable composition F1 by a screen printing method to a thickness of 15 μm from the polyimide surface (dried). It was applied so that The applied curable composition F1 was cured by placing the flexible wiring board in a hot air circulation dryer at 80 ° C. for 30 minutes and then in a 120 ° C. hot air circulation dryer for 120 minutes.

この試験片を用いて、バイアス電圧60Vを印加し、温度120℃、湿度85%RHの条件での温湿度定常試験を、MIGRATION TESTER MODEL MIG−8600(IMV社製)を用いて行った。前記温湿度定常試験のスタート初期およびスタートしてから100時間後、250時間後、400時間後の前記微細くし型パターン形状の基板の抵抗値を表4に記す。
また、硬化性組成物F2〜F8、硬化性組成物G1〜G3を用いて、同様の評価を行った。それらの結果についてもあわせて表4に記す。
Using this test piece, a bias voltage of 60 V was applied, and a constant temperature and humidity test under the conditions of a temperature of 120 ° C. and a humidity of 85% RH was performed using MIGRATION TESTER MODEL MIG-8600 (manufactured by IMV). Table 4 shows the resistance values of the substrate having the fine comb pattern shape at the initial start of the temperature and humidity test and at 100 hours, 250 hours, and 400 hours after the start.
Moreover, the same evaluation was performed using the curable compositions F2 to F8 and the curable compositions G1 to G3. The results are also shown in Table 4.

Figure 2017183496
表4の結果より、本発明の硬化性組成物は、可撓性、断線抑制性および長期電気絶縁信頼性に優れており、該硬化物はフレキシブル配線板用の絶縁保護膜として有用である。
Figure 2017183496
From the results of Table 4, the curable composition of the present invention is excellent in flexibility, wire breakage suppression and long-term electrical insulation reliability, and the cured product is useful as an insulating protective film for flexible wiring boards.

本発明の硬化性組成物は、フレキシブル配線板の絶縁保護に好適に利用することができる。   The curable composition of this invention can be utilized suitably for the insulation protection of a flexible wiring board.

Claims (16)

(成分A) 下記式(1)で表される構造単位を有し、かつイミド結合およびアミド結合の少なくとも1方の結合を有し、かつ硬化剤と反応する官能基を有する化合物、
(成分B) 硬化剤、および
(成分C) 有機溶媒
を含有することを特徴とする硬化性組成物。
Figure 2017183496
(式(1)中、R1は、それぞれ独立に3〜36個の炭素原子を有するジオールから誘導される有機残基を表し、R2は、それぞれ独立にフェニレン基または置換基を有するフェニレン基を表す。)
(Component A) A compound having a structural unit represented by the following formula (1), having a bond of at least one of an imide bond and an amide bond, and having a functional group that reacts with a curing agent,
A curable composition comprising (Component B) a curing agent, and (Component C) an organic solvent.
Figure 2017183496
(In Formula (1), R 1 represents an organic residue derived from a diol having 3 to 36 carbon atoms each independently, and R 2 represents a phenylene group or a phenylene group having a substituent each independently. Represents.)
前記硬化剤と反応する官能基が、カルボキシル基、水酸基、酸無水物基、イソシアナト基、アミド基、アミノ基の少なくとも1種であることを特徴とする請求項1に記載の硬化性組成物。   The curable composition according to claim 1, wherein the functional group that reacts with the curing agent is at least one of a carboxyl group, a hydroxyl group, an acid anhydride group, an isocyanato group, an amide group, and an amino group. (成分A)が、(原料a)酸無水物基を有する3価および/または4価のポリカルボン酸誘導体、(原料b)下記式(2)で表されるポリオール、および(原料c)ポリイソシアネートを必須成分に用いて反応させて得られる化合物を含有することを特徴とする請求項1または2に記載の硬化性組成物。
Figure 2017183496
(式(2)中、(n+1)個のR1は、それぞれ独立に炭素数3〜36のジオールから誘導される有機残基を表し、n個のR2は、それぞれ独立にフェニレン基または置換基を有するフェニレン基を表し、nは、1〜60の整数を表す。)
(Component A) is (raw material a) a trivalent and / or tetravalent polycarboxylic acid derivative having an acid anhydride group, (raw material b) a polyol represented by the following formula (2), and (raw material c) poly The curable composition according to claim 1, comprising a compound obtained by reacting with an isocyanate as an essential component.
Figure 2017183496
(In the formula (2), (n + 1 ) number of R 1 represents an organic residue derived independently from diols 3 to 36 carbon atoms, n number of R 2 is a phenylene group or a substituted independently Represents a phenylene group having a group, and n represents an integer of 1 to 60.)
(成分A)が、さらにウレタン結合を有することを特徴とする請求項1〜3のいずれかに記載の硬化性組成物。   (Component A) has a urethane bond further, The curable composition in any one of Claims 1-3 characterized by the above-mentioned. (成分A)の酸価が10〜50mgKOH/gであることを特徴とする請求項1〜4のいずれか1項に記載の硬化性組成物。   The curable composition according to any one of claims 1 to 4, wherein the acid value of (Component A) is 10 to 50 mgKOH / g. (成分B)が、1分子あたり2個以上のエポキシ基を有する化合物を含むことを特徴とする請求項1〜5のいずれか1項に記載の硬化性組成物。   (Component B) contains the compound which has a 2 or more epoxy group per molecule | numerator, The curable composition of any one of Claims 1-5 characterized by the above-mentioned. (成分C)が、エーテル系溶媒、エステル系溶媒、ケトン系溶媒、及び芳香族炭化水素系溶媒からなる群から選ばれる少なくとも1種の有機溶媒であることを特徴とする請求項1〜6のいずれか1項に記載の硬化性組成物。   (Component C) is at least one organic solvent selected from the group consisting of ether solvents, ester solvents, ketone solvents, and aromatic hydrocarbon solvents. The curable composition of any one of Claims. さらに、
(成分D) 無機微粒子および有機微粒子からなる群から選ばれる少なくとも1種の微粒子を含むことを特徴とする請求項1〜7のいずれか1項に記載の硬化性組成物。
further,
(Component D) The curable composition according to any one of claims 1 to 7, comprising at least one fine particle selected from the group consisting of inorganic fine particles and organic fine particles.
成分(A)と成分(B)の合計量を100質量部としたとき、成分(B)を1〜55質量部含むことを特徴とする請求項1〜8のいずれか1項に記載の硬化性組成物。   The curing according to any one of claims 1 to 8, comprising 1 to 55 parts by mass of the component (B) when the total amount of the component (A) and the component (B) is 100 parts by mass. Sex composition. 成分(A)、成分(B)、成分(C)、および成分(D)の合計量(成分(D)を含まない場合は、成分(A)、成分(B)、および成分(C)の合計量)を100質量部としたとき、成分(C)を25〜75質量部含むことを特徴とする請求項1〜9のいずれか1項に記載の硬化性組成物。   Total amount of component (A), component (B), component (C), and component (D) (when component (D) is not included, component (A), component (B), and component (C) The curable composition according to any one of claims 1 to 9, comprising 25 to 75 parts by mass of the component (C) when the total amount is 100 parts by mass. 請求項1〜10のいずれか1項に記載の硬化性組成物の硬化物を含む硬化膜。   The cured film containing the hardened | cured material of the curable composition of any one of Claims 1-10. 請求項1〜10のいずれか1項に記載の硬化性組成物をフレキシブル基板上に配線が形成されてなるフレキシブル配線板の、配線が形成されている表面の一部又は全部に塗布し硬化することによって得られるフレキシブル配線板用オーバーコート膜。   The curable composition according to any one of claims 1 to 10 is applied to a part or all of a surface of a flexible wiring board in which wiring is formed on a flexible substrate and cured. The overcoat film for flexible wiring boards obtained by this. フレキシブル基板上に配線が形成されてなるフレキシブル配線板の、配線が形成されている表面の一部又は全部が請求項12に記載のオーバーコート膜によって被覆されていることを特徴とするフレキシブル配線板。   A flexible wiring board having a wiring formed on a flexible substrate, wherein a part or all of the surface on which the wiring is formed is covered with the overcoat film according to claim 12. . 配線が、錫メッキ銅配線であることを特徴とする請求項13に記載のフレキシブル配線板。   The flexible wiring board according to claim 13, wherein the wiring is tin-plated copper wiring. 下記(工程1)および(工程3)と必要に応じて(工程2)とを含むことを特徴とする、オーバーコート膜によって被覆されたフレキシブル配線板の製造方法;
(工程1)
請求項1〜10のいずれか1項に記載の硬化性組成物を、フレキシブル配線板の配線パターン部の少なくとも一部に印刷することで該パターン上に印刷膜を形成する工程
(工程2)
工程1で得られた印刷膜を40〜100℃の雰囲気下におくことで印刷膜中の溶媒の一部または全量を蒸発させる工程
(工程3)
工程1で得られた印刷膜または工程2で得られた印刷膜を、100〜170℃で加熱することによって、硬化させ、オーバーコート膜を形成する工程。
A process for producing a flexible wiring board covered with an overcoat film, comprising the following (Step 1) and (Step 3) and (Step 2) as necessary;
(Process 1)
The process of forming a printed film on this pattern by printing the curable composition of any one of Claims 1-10 on at least one part of the wiring pattern part of a flexible wiring board (process 2)
A step of evaporating a part or all of the solvent in the printed film by placing the printed film obtained in step 1 in an atmosphere of 40 to 100 ° C. (step 3)
A step of curing the printed film obtained in step 1 or the printed film obtained in step 2 at 100 to 170 ° C. to form an overcoat film.
請求項11に記載の硬化膜を有する電子部品。   An electronic component having the cured film according to claim 11.
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