JP2015054923A - Resin composition, resin film using the same, and method for producing the film - Google Patents

Resin composition, resin film using the same, and method for producing the film Download PDF

Info

Publication number
JP2015054923A
JP2015054923A JP2013189236A JP2013189236A JP2015054923A JP 2015054923 A JP2015054923 A JP 2015054923A JP 2013189236 A JP2013189236 A JP 2013189236A JP 2013189236 A JP2013189236 A JP 2013189236A JP 2015054923 A JP2015054923 A JP 2015054923A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
acid
resin
diisocyanate
resin composition
film
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2013189236A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
梨恵 林内
Rie Rinnai
梨恵 林内
裕香 関口
Yuka Sekiguchi
裕香 関口
俊輔 正木
Toshisuke Masaki
俊輔 正木
伸治 九鬼
Shinji Kuki
伸治 九鬼
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Nitto Denko Corp
Original Assignee
Nitto Denko Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Nitto Denko Corp filed Critical Nitto Denko Corp
Priority to JP2013189236A priority Critical patent/JP2015054923A/en
Publication of JP2015054923A publication Critical patent/JP2015054923A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a resin composition which makes it possible to produce a film with excellent mechanical properties with reduced cost.SOLUTION: The resin composition of the invention includes a polyamide-imide resin and an imidazole compound. In one embodiment, the above imidazole compound has a boiling point of 200°C or more. In one embodiment, the above polyamide-imide resin is obtained by reacting the following (a) and (b-1)-(b-3): in which (a) is a tricarboxylic acid anhydride, (b-1) is 3,3'-dimethylbiphenyl-4,4'-diisocyanate, (b-2) is a polyol with a terminal hydroxyl group modified with a diisocyanate, and (b-3) is an aromatic diisocyanate other than (b-1).

Description

本発明は、樹脂組成物、該樹脂組成物を用いた樹脂フィルム、および該樹脂フィルムの製造方法に関する。   The present invention relates to a resin composition, a resin film using the resin composition, and a method for producing the resin film.

従来、複写機、印刷機等の電子写真方式の画像形成装置等に使用される各種導電性ベルトとして、ポリイミド樹脂に導電性カーボンを分散させた材料から形成される導電性ベルトが多用されている。しかし、ポリイミド樹脂を用いた導電性ベルトは、コストが高いという問題がある。   Conventionally, as various conductive belts used in electrophotographic image forming apparatuses such as copying machines and printing machines, conductive belts formed from a material in which conductive carbon is dispersed in polyimide resin are widely used. . However, a conductive belt using a polyimide resin has a problem of high cost.

特開2009−166388号公報JP 2009-166388 A 特開2010−139925号公報JP 2010-139925 A

本発明の目的は、機械的特性に優れるフィルムを、低コストで製造し得る樹脂組成物を提供することにある。   An object of the present invention is to provide a resin composition capable of producing a film having excellent mechanical properties at low cost.

本発明の樹脂組成物は、ポリアミドイミド樹脂とイミダゾール系化合物とを含む。
1つの実施形態においては、上記イミダゾール系化合物の沸点が200℃以上である。
1つの実施形態においては、上記ポリアミドイミド樹脂が、下記(a)および(b−1)〜(b−3)を反応させて得られる:
(a)トリカルボン酸無水物
(b−1)3,3´−ジメチルビフェニル−4,4´−ジイソシアネート
(b−2)末端水酸基をジイソシアネートで変性したポリオール
(b−3)(b−1)以外の芳香族ジイソシアネート。
1つの実施形態においては、上記ポリアミドイミド樹脂は、触媒として環状アミンを用いて重合される。
1つの実施形態においては、上記末端水酸基をジイソシアネートで変性したポリオールが、分岐構造を含むポリエステルポリオールとジイソシアネートとを反応させて得られる。
1つの実施形態においては、本発明の樹脂組成物は、導電性ポリマーをさらに含む。
1つの実施形態においては、上記導電性ポリマーが、導電性ポリアニリンである。
本発明の別の局面によれば、樹脂フィルムが提供される。この樹脂フィルムは、上記樹脂組成物を用いて得られ、ポリアミドイミド樹脂とイミダゾール系化合物とを含む。
本発明のさらに別の局面によれば、シームレスベルトが提供される。このシームレスベルトは、上記樹脂フィルムから構成される。
本発明のさらに別の局面によれば、樹脂フィルムの製造方法が提供される。この樹脂フィルムの製造方法は、酸成分と、ジイソシアネート成分とを反応させてポリアミドイミド樹脂を得る工程と、該ポリアミドイミド樹脂と、イミダゾール系化合物とを混合して樹脂組成物を調製する工程と、該樹脂組成物を基材に塗布した後、加熱処理を行う工程とを含む。
1つの実施形態においては、上記トリカルボン酸無水物を含む酸成分とジイソシアネート成分とを反応させてポリアミドイミド樹脂を得る工程において、触媒として環状アミンを用いる。
The resin composition of the present invention contains a polyamideimide resin and an imidazole compound.
In one embodiment, the boiling point of the imidazole compound is 200 ° C. or higher.
In one embodiment, the polyamideimide resin is obtained by reacting the following (a) and (b-1) to (b-3):
(A) Tricarboxylic acid anhydride (b-1) 3,3′-dimethylbiphenyl-4,4′-diisocyanate (b-2) Polyols whose terminal hydroxyl groups are modified with diisocyanate (b-3) Other than (b-1) Aromatic diisocyanates.
In one embodiment, the polyamideimide resin is polymerized using a cyclic amine as a catalyst.
In one embodiment, the polyol obtained by modifying the terminal hydroxyl group with diisocyanate is obtained by reacting a polyester polyol containing a branched structure with diisocyanate.
In one embodiment, the resin composition of the present invention further comprises a conductive polymer.
In one embodiment, the conductive polymer is a conductive polyaniline.
According to another aspect of the present invention, a resin film is provided. This resin film is obtained using the above resin composition, and includes a polyamideimide resin and an imidazole compound.
According to still another aspect of the present invention, a seamless belt is provided. This seamless belt is composed of the resin film.
According to still another aspect of the present invention, a method for producing a resin film is provided. The method for producing this resin film includes a step of reacting an acid component and a diisocyanate component to obtain a polyamideimide resin, a step of preparing a resin composition by mixing the polyamideimide resin and an imidazole compound, And applying a heat treatment after applying the resin composition to the substrate.
In one embodiment, a cyclic amine is used as a catalyst in the step of obtaining a polyamide-imide resin by reacting an acid component containing the tricarboxylic acid anhydride with a diisocyanate component.

本発明の樹脂組成物は、ポリアミドイミド樹脂とイミダゾール系化合物とを含む。本発明の樹脂組成物を用いて得られたフィルムは、ポリアミドイミド樹脂をベースとするためコストが低く、かつ、機械的特性(例えば、耐折性、弾性率、強度、伸び)に優れる。具体的には、本発明の樹脂組成物によれば、ポリイミド樹脂製フィルムと同等以上の機械的特性を有するフィルムを製造することができる。本発明の樹脂組成物は、機械的強度が要求される印刷機等のシームレスベルト用途に特に好適に用いることができる。   The resin composition of the present invention contains a polyamideimide resin and an imidazole compound. Since the film obtained using the resin composition of the present invention is based on a polyamideimide resin, the cost is low and the mechanical properties (for example, folding resistance, elastic modulus, strength, elongation) are excellent. Specifically, according to the resin composition of the present invention, a film having mechanical properties equal to or higher than that of a polyimide resin film can be produced. The resin composition of the present invention can be particularly suitably used for seamless belt applications such as printing presses that require mechanical strength.

A.樹脂組成物
本発明の樹脂組成物は、ポリアミドイミド樹脂とイミダゾール系化合物とを含む。
A. Resin Composition The resin composition of the present invention contains a polyamideimide resin and an imidazole compound.

A−1.ポリアミドイミド樹脂
上記ポリアミドイミド樹脂は、例えば、酸成分とジイソシアネート成分とを任意の適切な溶媒中で反応させるジイソシアネート法、無水トリメリット酸クロライドとジアミンとを反応させる酸クロライド法、またはトリメリット酸無水物とジアミンとを反応させる直接重合法により合成することができる。なかでも、作業の効率性に優れることから、ジイソシアネート法が好ましい。
A-1. Polyamideimide resin The polyamideimide resin is, for example, a diisocyanate method in which an acid component and a diisocyanate component are reacted in any appropriate solvent, an acid chloride method in which trimellitic anhydride chloride and diamine are reacted, or trimellitic anhydride. It can be synthesized by a direct polymerization method in which a product and a diamine are reacted. Of these, the diisocyanate method is preferred because of its excellent work efficiency.

上記ポリアミドイミド樹脂の合成に用いる酸成分とジイソシアネート成分との配合割合は当量比(ジイソシアネート成分/酸成分)で好ましくは0.8〜1.4であり、より好ましくは0.9〜1.3であり、さらに好ましくは0.9〜1.2である。   The mixing ratio of the acid component and the diisocyanate component used for the synthesis of the polyamideimide resin is preferably 0.8 to 1.4, more preferably 0.9 to 1.3 in terms of equivalent ratio (diisocyanate component / acid component). More preferably, it is 0.9-1.2.

上記ポリアミドイミド樹脂の数平均分子量(ゲルパーミエーションクロマトグラフィー(GPC)により、標準ポリスチレンの検量線を用いて測定した値)は、好ましくは5,000〜50,000であり、より好ましくは10,000〜40,000であり、さらに好ましくは15,000〜35,000である。ポリアミドイミド樹脂の数平均分子量が上記範囲外である場合、フィルム化が困難となる場合やポリアミドイミド樹脂を用いて得られたフィルムの機械特性が著しく低下するおそれがある。   The number average molecular weight of the polyamideimide resin (a value measured by gel permeation chromatography (GPC) using a standard polystyrene calibration curve) is preferably 5,000 to 50,000, more preferably 10,000. 000 to 40,000, more preferably 15,000 to 35,000. When the number average molecular weight of the polyamideimide resin is outside the above range, film formation may be difficult, or the mechanical properties of the film obtained using the polyamideimide resin may be significantly reduced.

A−1−1.酸成分
上記酸成分は、好ましくは、トリカルボン酸無水物を含む。上記トリカルボン酸無水物としては、トリメリット酸無水物、シクロヘキサントリカルボン酸無水物等が挙げられる。コスト面、反応性、溶解性等の面から、トリメリット酸無水物が好ましい。トリカルボン酸無水物は、単独で用いてもよく、2種以上を組み合わせて用いてもよい。
A-1-1. Acid component The acid component preferably contains a tricarboxylic acid anhydride. Examples of the tricarboxylic acid anhydride include trimellitic acid anhydride and cyclohexanetricarboxylic acid anhydride. Trimellitic anhydride is preferable from the viewpoints of cost, reactivity, solubility, and the like. A tricarboxylic acid anhydride may be used independently and may be used in combination of 2 or more type.

上記酸成分は、上記トリカルボン酸無水物以外の他の酸成分を含んでいてもよい。上記他の酸成分としては、任意の適切な酸成分が用いられる。例えば、ピロメリット酸無水物、ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、オキシジフタル酸無水物等のテトラカルボン酸二無水物;テレフタル酸、イソフタル酸等の芳香族ジカルボン酸;シクロヘキサンジカルボン酸等の脂環式ジカルボン酸;アジピン酸、セバシン酸等の脂肪族ジカルボン酸等が挙げられる。他の酸成分は、単独で用いてもよく、2種以上を組み合わせて用いてもよい。   The acid component may contain an acid component other than the tricarboxylic acid anhydride. Any appropriate acid component is used as the other acid component. For example, tetracarboxylic dianhydrides such as pyromellitic anhydride, biphenyltetracarboxylic dianhydride and oxydiphthalic anhydride; aromatic dicarboxylic acids such as terephthalic acid and isophthalic acid; alicyclic dicarboxylics such as cyclohexanedicarboxylic acid Acid; aliphatic dicarboxylic acids such as adipic acid and sebacic acid; Another acid component may be used independently and may be used in combination of 2 or more type.

上記酸成分に対するトリカルボン酸無水物のモル比(トリカルボン酸無水物/酸成分)は、好ましくは0.5〜1.0であり、より好ましくは0.7〜1.0である。   The molar ratio of the tricarboxylic acid anhydride to the acid component (tricarboxylic acid anhydride / acid component) is preferably 0.5 to 1.0, more preferably 0.7 to 1.0.

A−1−2.ジイソシアネート成分
上記ジイソシアネート成分に含まれるジイソシアネートとしては、例えば、4,4´−ジフェニルメタンジイソシアネート、トリレンジイソシアネート、テトラメチルキシレンジイソシアネート、3,3´−ジメチルビフェニル−4,4´−ジイソシアネート、ナフタレンジイソシアネート等の芳香族ジイソシアネート;ヘキサメチレンジイソシアネート等の脂肪族イソシアネート;イソホロンジイソシアネート、水添キシリレンジイソシアネート、ノルボルネンジイソシアネート、ジシクロへキシルメタンジイソシアネート等の脂環式ジイソシアネート等が挙げられる。ジイソシアネートは、単独で用いてもよく、2種以上を組み合わせて用いてもよい。
A-1-2. Diisocyanate component Examples of the diisocyanate contained in the diisocyanate component include 4,4'-diphenylmethane diisocyanate, tolylene diisocyanate, tetramethylxylene diisocyanate, 3,3'-dimethylbiphenyl-4,4'-diisocyanate, naphthalene diisocyanate, and the like. Aromatic diisocyanates; aliphatic isocyanates such as hexamethylene diisocyanate; alicyclic diisocyanates such as isophorone diisocyanate, hydrogenated xylylene diisocyanate, norbornene diisocyanate, and dicyclohexylmethane diisocyanate. A diisocyanate may be used independently and may be used in combination of 2 or more type.

(芳香族ジイソシアネート)
上記ジイソシアネート成分は、好ましくは芳香族ジイソシアネートを含み、より好ましくは3,3´−ジメチルビフェニル−4,4´−ジイソシアネートを含む。このような芳香族ジイソシアネートを含むジイソシアネート成分を用いれば、高弾性の樹脂フィルムを形成し得るポリアミドイミド樹脂を合成することができる。なお、本明細書において、芳香族ジイソシアネートとは、芳香族基を有し、かつ、ポリオール由来の構成単位を有さないジイソシアネートを意味する。
(Aromatic diisocyanate)
The diisocyanate component preferably contains an aromatic diisocyanate, more preferably 3,3′-dimethylbiphenyl-4,4′-diisocyanate. If a diisocyanate component containing such an aromatic diisocyanate is used, a polyamide-imide resin capable of forming a highly elastic resin film can be synthesized. In the present specification, the aromatic diisocyanate means a diisocyanate having an aromatic group and having no polyol-derived structural unit.

上記ジイソシアネート成分に対する芳香族ジイソシアネートのモル比(芳香族ジイソシアネート/ジイソシアネート成分)は、好ましくは0.5〜0.995であり、より好ましくは0.8〜0.995であり、さらに好ましくは0.9〜0.99である。   The molar ratio of the aromatic diisocyanate to the diisocyanate component (aromatic diisocyanate / diisocyanate component) is preferably 0.5 to 0.995, more preferably 0.8 to 0.995, and still more preferably 0.8. 9-0.99.

上記芳香族ジイソシアネートに対する3,3´−ジメチルビフェニル−4,4´−ジイソシアネートのモル比は、好ましくは0.3〜0.9であり、より好ましくは0.5〜0.8である。芳香族ジイソシアネートに対する3,3´−ジメチルビフェニル−4,4´−ジイソシアネートのモル比が上記の範囲内であれば、高弾性の樹脂フィルムを形成し得るポリアミドイミド樹脂を合成することができる。   The molar ratio of 3,3′-dimethylbiphenyl-4,4′-diisocyanate to the aromatic diisocyanate is preferably 0.3 to 0.9, more preferably 0.5 to 0.8. If the molar ratio of 3,3′-dimethylbiphenyl-4,4′-diisocyanate to aromatic diisocyanate is within the above range, a polyamideimide resin capable of forming a highly elastic resin film can be synthesized.

(末端水酸基をジイソシアネートで変性したポリオール)
また、上記ジイソシアネート成分は、末端水酸基をジイソシアネートで変性したポリオール(以下、イソシアネート変性ポリオールともいう)を含むことが好ましい。イソシアネート変性ポリオールを含むジイソシアネート成分を用いれば、引っ張り弾性率が高く、かつ、耐折性に優れる樹脂フィルムを形成し得るポリアミドイミド樹脂を合成することができる。
(Polyol whose terminal hydroxyl group is modified with diisocyanate)
The diisocyanate component preferably contains a polyol having a terminal hydroxyl group modified with diisocyanate (hereinafter also referred to as an isocyanate-modified polyol). If a diisocyanate component containing an isocyanate-modified polyol is used, a polyamide-imide resin that can form a resin film having a high tensile modulus and excellent folding resistance can be synthesized.

上記ジイソシアネート成分に対するイソシアネート変性ポリオールのモル比(イソシアネート変性ポリオール/ジイソシアネート成分)は、好ましくは0.005〜0.2であり、より好ましくは0.01〜0.1である。ジイソシアネート成分に対するイソシアネート変性ポリオールのモル比が0.005未満の場合、機械特性の向上効果が十分に得られないおそれがある。ジイソシアネート成分に対するイソシアネート変性ポリオールのモル比が0.2を超える場合には、ポリアミドイミド樹脂が有する特性が十分に発揮されないおそれがある。   The molar ratio of the isocyanate-modified polyol to the diisocyanate component (isocyanate-modified polyol / diisocyanate component) is preferably 0.005 to 0.2, more preferably 0.01 to 0.1. When the molar ratio of the isocyanate-modified polyol to the diisocyanate component is less than 0.005, the effect of improving mechanical properties may not be sufficiently obtained. When the molar ratio of the isocyanate-modified polyol to the diisocyanate component exceeds 0.2, the properties of the polyamideimide resin may not be sufficiently exhibited.

上記イソシアネート変性ポリオールの数平均分子量(ゲルパーミエーションクロマトグラフィー(GPC)により、標準ポリスチレンの検量線を用いて測定した値)は、好ましくは500〜10,000であり、より好ましくは1,000〜9,500であり、さらに好ましくは1,500〜9,000である。イソシアネート変性ポリオールの数平均分子量が500未満の場合、得られたポリアミドイミド樹脂を含むフィルムの破断伸びが低下するおそれがある。イソシアネート変性ポリオールの数平均分子量が10,000を超える場合、ジイソシアネートの反応性が低下し、ポリアミドイミド樹脂の高分子量化が困難となる傾向がある。   The number average molecular weight of the isocyanate-modified polyol (a value measured by gel permeation chromatography (GPC) using a standard polystyrene calibration curve) is preferably 500 to 10,000, more preferably 1,000 to It is 9,500, More preferably, it is 1,500-9,000. When the number average molecular weight of the isocyanate-modified polyol is less than 500, the elongation at break of the film containing the obtained polyamideimide resin may be lowered. When the number average molecular weight of the isocyanate-modified polyol exceeds 10,000, the reactivity of the diisocyanate decreases, and it tends to be difficult to increase the molecular weight of the polyamideimide resin.

上記イソシアネート変性ポリオールは、任意の適切な溶媒中で、ポリオールと、該ポリオールに対して2倍モル当量以上のジイソシアネートとを反応させることにより得ることができる。該反応に用いられる溶媒としては、N−メチル−2−ピロリドン等のケトン系溶媒、エステル系溶媒、エーテル系溶媒、セロソルブ系溶媒、芳香族炭化水素系溶媒、テトラヒドロフラン、ジオキサンN,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド、ジメチルスルホキシド等が挙げられる。反応温度は、例えば、100℃〜150℃に設定され得る。反応時間は、例えば、1時間〜5時間に設定され得る。   The isocyanate-modified polyol can be obtained by reacting a polyol with a diisocyanate having a molar equivalent of 2 times or more with respect to the polyol in any appropriate solvent. Solvents used for the reaction include ketone solvents such as N-methyl-2-pyrrolidone, ester solvents, ether solvents, cellosolve solvents, aromatic hydrocarbon solvents, tetrahydrofuran, dioxane N, N-dimethylformamide. , N, N-dimethylacetamide, dimethyl sulfoxide and the like. The reaction temperature can be set to, for example, 100 ° C to 150 ° C. The reaction time can be set to 1 hour to 5 hours, for example.

上記ポリオールの数平均分子量(ゲルパーミエーションクロマトグラフィー(GPC)により、標準ポリスチレンの検量線を用いて測定した値)は、任意の適切な値に設定され得る。上記ポリオールの数平均分子量は好ましくは500〜8,000であり、より好ましくは1,000〜4,000である。ポリオールの数平均分子量が上記の範囲内であれば、機械特性に優れる樹脂フィルムを形成し得るポリアミドイミド樹脂組成物を得ることができる。   The number average molecular weight of the polyol (a value measured by gel permeation chromatography (GPC) using a standard polystyrene calibration curve) can be set to any appropriate value. The number average molecular weight of the polyol is preferably 500 to 8,000, more preferably 1,000 to 4,000. When the number average molecular weight of the polyol is within the above range, a polyamideimide resin composition capable of forming a resin film having excellent mechanical properties can be obtained.

上記ポリオールとしては、例えば、ポリカーボネートポリオール、ポリエーテルポリオール、ポリエステルポリオール等が挙げられる。なかでも好ましくは、ポリエステルポリオールである。ポリエステルポリオールは、例えば、ジカルボン酸とジオールとを縮合重合することにより得られ得る。上記ポリエステルポリオールは、市販品を用いてもよい。市販の直鎖状(分岐構造を含まない)ポリエステルポリオールとしては、DIC社製の商品名「OD−X−102」、「OD−X−668」、「OD−X−2068」等が挙げられる。市販の分岐構造を含むポリエステルポリオールとしては、クラレ社製の商品名「P−1010」、「P−2010」、「P−3010」、「P−4010」、「P−1020」、「P−2020」、「P−1030」、「P−2030」、「P−1050」、「P−2050」、「P−3050」、「P−4050」等が挙げられる。   Examples of the polyol include polycarbonate polyol, polyether polyol, and polyester polyol. Of these, polyester polyol is preferable. The polyester polyol can be obtained, for example, by condensation polymerization of a dicarboxylic acid and a diol. A commercial item may be used for the polyester polyol. Examples of commercially available linear (not including a branched structure) polyester polyol include trade names “OD-X-102”, “OD-X-668”, and “OD-X-2068” manufactured by DIC. . Examples of commercially available polyester polyols having a branched structure include trade names “P-1010”, “P-2010”, “P-3010”, “P-4010”, “P-1020”, “P-” manufactured by Kuraray Co., Ltd. 2020 "," P-1030 "," P-2030 "," P-1050 "," P-2050 "," P-3050 "," P-4050 ", and the like.

上記ジカルボン酸としては、任意の適切なジカルボン酸を用いることができる。例えば、アジピン酸、アゼライン酸、セバシン酸、ドデカン二酸等の脂肪族カルボン酸;テレフタル酸、イソフタル酸等の芳香族カルボン酸等が挙げられる。   Any appropriate dicarboxylic acid can be used as the dicarboxylic acid. Examples thereof include aliphatic carboxylic acids such as adipic acid, azelaic acid, sebacic acid, and dodecanedioic acid; aromatic carboxylic acids such as terephthalic acid and isophthalic acid.

上記ジオールとしては、任意の適切なジオールを用いることができる。例えば、エチレングリコール、1,4−ブタンジオール、1,6−ヘキサンジオール、1,9−ノナンジオール、ジエチレングリコール等の直鎖構造のジオール;1,2−プロピレングリコール、1,3−ブチレングリコール、2−メチル−1,3−プロパンジオール、ネオペンチルグリコール、3−メチル−1,5−ペンタジオール、2,2−ジメチル−1,3−プロパンジオール、2−メチル−1,8−オクタンジオール等の分岐構造を含むジオール等が挙げられる。   Any appropriate diol can be used as the diol. For example, diols having a linear structure such as ethylene glycol, 1,4-butanediol, 1,6-hexanediol, 1,9-nonanediol, diethylene glycol; 1,2-propylene glycol, 1,3-butylene glycol, 2 -Methyl-1,3-propanediol, neopentyl glycol, 3-methyl-1,5-pentadiol, 2,2-dimethyl-1,3-propanediol, 2-methyl-1,8-octanediol, etc. Examples include diols having a branched structure.

上記ポリエステルポリオールの水酸基価は、任意の適切な値に設定される。上記ポリエステルポリオールの水酸基価は、通常、15mgKOH/g〜230mgKOH/gであり、好ましくは18mgKOH/g〜140mgKOH/gであり、より好ましくは25mgKOH/g〜115mgKOH/gである。水酸基価が230mgKOH/gを超える場合には、得られたフィルムが十分な破断強度および破断伸びを有していないおそれがある。水酸基価が15mgKOH/g未満の場合には、ポリエステルポリオールとジイソシアネートとの反応性が低下し、所望のポリアミドイミド樹脂を得ることが困難となるおそれがある。   The hydroxyl value of the polyester polyol is set to any appropriate value. The hydroxyl value of the polyester polyol is usually 15 mgKOH / g to 230 mgKOH / g, preferably 18 mgKOH / g to 140 mgKOH / g, more preferably 25 mgKOH / g to 115 mgKOH / g. When the hydroxyl value exceeds 230 mgKOH / g, the obtained film may not have sufficient breaking strength and breaking elongation. When the hydroxyl value is less than 15 mgKOH / g, the reactivity between the polyester polyol and the diisocyanate is lowered, and it may be difficult to obtain a desired polyamideimide resin.

ポリエステルポリオールとして、分岐構造を含むポリエステルポリオールを用いることが好ましい。分岐構造を含むポリエステルポリオールを用いれば、柔軟性に優れる樹脂フィルムを形成し得るポリアミドイミド樹脂を合成することができる。分岐構造を含むポリエステルポリオールは、例えば、ジカルボン酸と分岐構造を含むジオールとの縮合重合等により得られ得る。   As the polyester polyol, it is preferable to use a polyester polyol containing a branched structure. If the polyester polyol containing a branched structure is used, a polyamideimide resin capable of forming a resin film having excellent flexibility can be synthesized. The polyester polyol containing a branched structure can be obtained, for example, by condensation polymerization of a dicarboxylic acid and a diol containing a branched structure.

1つの実施形態においては、弾性率と強度とをより高度に両立することが可能であり、機械特性がさらに優れたフィルムを形成可能なポリアミドイミド樹脂が得られるという点から、ポリオールとして分岐構造を含むポリエステルポリオールのみが使用される。分岐構造を含むポリエステルポリオールを使用することで、分子鎖間の凝集力が弱められ、得られるポリアミドイミド樹脂に柔軟性が付与されると推測される。そのため、分岐構造を含むポリエステルポリオールを用いることにより、機械特性がさらに優れたフィルムを形成可能なポリアミドイミド樹脂が得られると考えられる。   In one embodiment, it is possible to obtain a polyamide-imide resin capable of forming a film with higher elastic modulus and strength and capable of forming a film with further excellent mechanical properties. Only the polyester polyols contained are used. By using a polyester polyol containing a branched structure, it is presumed that the cohesive force between molecular chains is weakened and flexibility is imparted to the resulting polyamideimide resin. Therefore, it is considered that a polyamideimide resin capable of forming a film having further excellent mechanical properties can be obtained by using a polyester polyol having a branched structure.

別の実施形態においては、得られるフィルムの機械特性以外の特性を調整するため、分岐構造を含むポリエステルポリオールと直鎖構造の(分岐構造を含まない)ポリエステルポリオールとを併用してもよい。分岐構造を含むポリエステルポリオールと直鎖構造のポリエステルポリオールとを併用する場合、分岐構造を含むポリエステルポリオールと直鎖構造のポリエステルポリオールとのモル比(分岐構造を含むポリエステルポリオール/直鎖構造のポリエステルポリオール)は、例えば、9.9/0.1〜5.0/5.0であり、好ましくは9.9/0.1〜7.0/3.0である。   In another embodiment, in order to adjust properties other than mechanical properties of the obtained film, a polyester polyol containing a branched structure and a polyester polyol having a linear structure (not containing a branched structure) may be used in combination. When a polyester polyol having a branched structure and a polyester polyol having a linear structure are used in combination, the molar ratio between the polyester polyol having a branched structure and the polyester polyol having a linear structure (polyester polyol having a branched structure / polyester polyol having a linear structure) ) Is, for example, 9.9 / 0.1 to 5.0 / 5.0, and preferably 9.9 / 0.1 to 7.0 / 3.0.

上記分岐構造を含むポリエステルポリオールは、任意の適切なジカルボン酸と任意の適切な分岐構造を含むジオールとを組み合わせることにより得られる。分岐構造を含むポリエステルポリオールとしては、反応性、ハンドリング性、および、コスト面から、ジカルボン酸としてアジピン酸を、分岐構造を含むジオールとして3−メチル−1,5−ペンタジオールを用いて得られるポリエステルポリオール、ジカルボン酸としてアジピン酸を、分岐構造を含むジオールとしてネオペンチルグリコールを用いて得られるポリエステルポリオール、および、ジカルボン酸としてアジピン酸を、分岐構造を含むジオールとして2−メチル−1,8−オクタンジオールを用いて得られるポリエステルポリオールが好ましい。   The polyester polyol containing the above branched structure can be obtained by combining any suitable dicarboxylic acid and a diol containing any suitable branched structure. As a polyester polyol containing a branched structure, polyester obtained by using adipic acid as a dicarboxylic acid and 3-methyl-1,5-pentadiol as a diol containing a branched structure from the viewpoint of reactivity, handling properties, and cost Polyol polyol obtained by using adipic acid as a polyol, dicarboxylic acid and neopentyl glycol as a diol containing a branched structure, and adipic acid as a dicarboxylic acid and 2-methyl-1,8-octane as a diol containing a branched structure Polyester polyols obtained using diols are preferred.

上記分岐構造を含むポリエステルポリオールの分岐構造を構成する基(ポリエステルポリオールの側鎖)としては、任意の適切な基が含まれる。例えば、メチル基等の炭素数1〜5のアルキル基等が挙げられる。反応性、ハンドリング性、および、コスト面という点から、炭素数1〜5のアルキル基を分岐構造として含むポリエステルポリオールが好ましい。上記の基を含むポリエステルポリオールは、例えば、この基を含むジオールと任意の適切なジカルボン酸とを縮合重合させることにより得られ得る。   Arbitrary appropriate groups are contained as group (side chain of polyester polyol) which constitutes the branched structure of polyester polyol containing the above-mentioned branched structure. For example, C1-C5 alkyl groups, such as a methyl group, etc. are mentioned. From the viewpoints of reactivity, handling properties, and cost, a polyester polyol containing an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms as a branched structure is preferable. The polyester polyol containing the above group can be obtained, for example, by condensation polymerization of a diol containing this group and any appropriate dicarboxylic acid.

上記分岐構造を含むポリエステルポリオールは、分岐構造を含む繰り返し単位を好ましくは50重量%〜100重量%含む。分岐構造を含む繰り返し単位が50重量%〜100重量%であれば、上記ポリアミドイミド樹脂を用いて得られたフィルムの機械特性がさらに向上し得る。   The polyester polyol containing a branched structure preferably contains 50% by weight to 100% by weight of a repeating unit containing a branched structure. When the repeating unit containing a branched structure is 50% by weight to 100% by weight, the mechanical properties of the film obtained using the polyamideimide resin can be further improved.

上記ポリオールと反応させるジイソシアネートとしては、任意の適切なジイソシアネートを用いることができる。例えば、4,4´−ジフェニルメタンジイソシアネート、トリレンジイソシアネート、テトラメチルキシレンジイソシアネート、3,3´−ジメチルビフェニル−4,4´−ジイソシアネート、ナフタレンジイソシアネート等の芳香族ジイソシアネート;ヘキサメチレンジイソシアネート等の脂肪族ジイソシアネート;イソホロンジイソシアネート、水添キシリレンジイソシアネート、ノルボルネンジイソシアネート、ジシクロへキシルメタンジイソシアネート等の脂環式ジイソシアネートが挙げられる。これらのジイソシアネートは単独で用いてもよく、2種以上を組み合わせて用いてもよい。   Any appropriate diisocyanate can be used as the diisocyanate to be reacted with the polyol. For example, aromatic diisocyanates such as 4,4'-diphenylmethane diisocyanate, tolylene diisocyanate, tetramethylxylene diisocyanate, 3,3'-dimethylbiphenyl-4,4'-diisocyanate, naphthalene diisocyanate; aliphatic diisocyanates such as hexamethylene diisocyanate And cycloaliphatic diisocyanates such as isophorone diisocyanate, hydrogenated xylylene diisocyanate, norbornene diisocyanate, and dicyclohexylmethane diisocyanate. These diisocyanates may be used alone or in combination of two or more.

A−1−3.ポリアミドイミド樹脂の合成
上記ポリアミドイミド樹脂は、例えば、上記酸成分とジイソシアネート成分とを任意の適切な溶媒中で反応させて合成することができる(ジイソシアネート法)。
A-1-3. Synthesis of Polyamideimide Resin The polyamideimide resin can be synthesized , for example, by reacting the acid component and the diisocyanate component in any appropriate solvent (diisocyanate method).

酸成分とジイソシアネート成分とを反応させる際に用いられる溶媒としては、例えば、N−メチル−2−ピロリドン、N,N−ジメチルアセトアミド、γ−ブチロラクトン等が挙げられる。   Examples of the solvent used for reacting the acid component with the diisocyanate component include N-methyl-2-pyrrolidone, N, N-dimethylacetamide, and γ-butyrolactone.

上記ポリアミドイミド樹脂の合成には、必要に応じて、触媒を用いてもよい。該触媒としては、任意の適切な触媒を用いることができる。例えば、ジアザビシクロウンデンセン等の環状アミン、トリエチレンジアミン、フッ化カリウム、フッ化セシウム等が挙げられる。上記触媒の添加量は、反応に用いる材料の仕込み量や反応条件等に応じて、任意の適切な値に設定され得る。   A catalyst may be used for the synthesis of the polyamideimide resin, if necessary. Any appropriate catalyst can be used as the catalyst. Examples thereof include cyclic amines such as diazabicycloundenecene, triethylenediamine, potassium fluoride, cesium fluoride, and the like. The addition amount of the catalyst can be set to any appropriate value depending on the amount of materials used for the reaction, reaction conditions, and the like.

本発明においては、上記触媒として、環状アミンを用いることが好ましく、ジアザビシクロウンデンセンを用いることがより好ましい。このような触媒を用いれば、アミド結合の多いポリアミドイミド樹脂を得ることができる。該アミド結合は、後述のように、イミダゾール系化合物の作用による分子間イミド結合の起点となり得るため、アミド結合の多いポリアミドイミド樹脂を用いれば、機械的特性のバランスに優れる樹脂フィルムを得ることができる。   In the present invention, it is preferable to use a cyclic amine as the catalyst, and it is more preferable to use diazabicycloundenecene. If such a catalyst is used, a polyamidoimide resin with many amide bonds can be obtained. As will be described later, the amide bond can be a starting point of an intermolecular imide bond due to the action of an imidazole compound, and therefore, if a polyamide-imide resin having many amide bonds is used, a resin film having an excellent balance of mechanical properties can be obtained. it can.

上記ポリアミドイミド樹脂の合成において、反応温度および反応時間は、適宜設定すればよい。例えば、反応温度は100℃〜250℃に、反応時間は3時間〜20時間に設定され得る。   In the synthesis of the polyamideimide resin, the reaction temperature and reaction time may be set as appropriate. For example, the reaction temperature can be set to 100 ° C. to 250 ° C., and the reaction time can be set to 3 hours to 20 hours.

1つの実施形態においては、上記の酸成分およびジイソシアネート成分を以下の組み合わせで用いて、重合することにより、ポリアミドイミド樹脂が得られる。このようにして得られたポリアミドイミド樹脂は、機械特性のバランスがよく、なかでも耐折性に優れる樹脂フィルムを形成することができる。
(a)トリカルボン酸無水物(酸成分)
(b−1)3,3´−ジメチルビフェニル−4,4´−ジイソシアネート(ジイソシアネート成分)
(b−2)イソシアネート変性ポリオール(ジイソシアネート成分)
(b−3)(b−1)以外の芳香族ジイソシアネート(ジイソシアネート成分)
In one embodiment, a polyamidoimide resin is obtained by superposing | polymerizing using said acid component and diisocyanate component in the following combinations. The polyamideimide resin thus obtained has a good balance of mechanical properties, and can form a resin film having excellent folding resistance.
(A) Tricarboxylic acid anhydride (acid component)
(B-1) 3,3′-dimethylbiphenyl-4,4′-diisocyanate (diisocyanate component)
(B-2) Isocyanate-modified polyol (diisocyanate component)
(B-3) Aromatic diisocyanates other than (b-1) (diisocyanate component)

A−2.イミダゾール系化合物
本発明の樹脂組成物は、重合後のポリアミドイミド樹脂とイミダゾール系化合物とを混合して得られる。本発明の樹脂組成物を用いれば、成形体(例えば、フィルム)を形成する際に、イミダゾール系化合物の作用により、イミダゾール系化合物を混合しない場合よりも低温または短時間の加熱でも、ポリアミドイミド樹脂間でアミド結合同士が結合して、イミド結合を形成しやすくなる。その結果、本発明の樹脂組成物を用いて得られたフィルムは、架橋点の多い樹脂から構成されることとなる。このようなフィルムは、引っ張られた際には架橋点を起点に分子鎖が伸び、また、分子鎖同士の離脱の割合が小さくなる。したがって、本発明の樹脂組成物を用いれば、機械特性に優れ、特に耐折れ性に優れたフィルムを得ることができる。なお、イミダゾール系化合物とは、イミダゾールおよびイミダゾールの誘導体を含む概念である。また、以下、本明細書において、ポリアミドイミド樹脂内のイミド結合と区別して、ポリアミドイミド樹脂同士のイミド結合を分子間イミド結合と称する。
A-2. Imidazole-based compound The resin composition of the present invention is obtained by mixing a polymerized polyamideimide resin and an imidazole-based compound. When the resin composition of the present invention is used, the polyamideimide resin can be formed at a lower temperature or in a shorter time than when no imidazole compound is mixed due to the action of the imidazole compound when forming a molded body (for example, a film). Between the amide bonds, it becomes easy to form an imide bond. As a result, the film obtained using the resin composition of the present invention is composed of a resin having many crosslinking points. When such a film is pulled, the molecular chain extends from the cross-linking point, and the separation rate of the molecular chains decreases. Therefore, if the resin composition of the present invention is used, it is possible to obtain a film having excellent mechanical properties and particularly excellent folding resistance. The imidazole compound is a concept including imidazole and imidazole derivatives. Hereinafter, in the present specification, an imide bond between polyamideimide resins is referred to as an intermolecular imide bond, as distinguished from an imide bond in the polyamideimide resin.

上記イミダゾール系化合物としては、例えば、イミダゾール、2−メチルイミダゾール、2−フェニルイミダゾール、1,3−ジメチルイミダゾール、2−エチル4−メチルイミダゾール、2−ウンデシルイミダゾール、2−ヘプタデシルイミダゾール、2−フェニル−4−メチルイミダゾール、1−ベンジル−2−メチルイミダゾール、1−ベンジル−2−フェニルイミダゾール、1−シアノエチル−2−メチルイミダゾール、1−シアノエチル−2−エチル4−メチルイミダゾール等が挙げられる。なかでも好ましくは、2−メチルイミダゾールまたは2−フェニルイミダゾールである。このようなイミダゾール系化合物を用いれば、機械特性に優れたフィルムを形成し得る樹脂組成物を得ることができる。なお、イミダゾール系化合物は、単独で、または2種以上組み合わせて用いてもよい。   Examples of the imidazole compound include imidazole, 2-methylimidazole, 2-phenylimidazole, 1,3-dimethylimidazole, 2-ethyl 4-methylimidazole, 2-undecylimidazole, 2-heptadecylimidazole, 2- Examples include phenyl-4-methylimidazole, 1-benzyl-2-methylimidazole, 1-benzyl-2-phenylimidazole, 1-cyanoethyl-2-methylimidazole, 1-cyanoethyl-2-ethyl 4-methylimidazole, and the like. Of these, 2-methylimidazole or 2-phenylimidazole is preferable. If such an imidazole compound is used, a resin composition capable of forming a film having excellent mechanical properties can be obtained. In addition, you may use an imidazole type compound individually or in combination of 2 or more types.

上記イミダゾール系化合物の沸点は、好ましくは200℃以上であり、より好ましくは230℃以上であり、さらに好ましくは260℃以上である。このような範囲であれば、成形体(例えば、フィルム)を形成する際の加熱によって、イミダゾール系化合物が減少することを防止することができる。なお、上記範囲の沸点を有するイミダゾール系化合物としては、例えば、2−メチルイミダゾール(沸点:267℃)または2−フェニルイミダゾール(沸点:340℃)等が挙げられる。   The boiling point of the imidazole compound is preferably 200 ° C. or higher, more preferably 230 ° C. or higher, and further preferably 260 ° C. or higher. If it is such a range, it can prevent that an imidazole type compound reduces by the heating at the time of forming a molded object (for example, film). Examples of the imidazole compound having a boiling point in the above range include 2-methylimidazole (boiling point: 267 ° C.) and 2-phenylimidazole (boiling point: 340 ° C.).

上記樹脂組成物において、イミダゾール系化合物の含有割合は、ポリアミドイミド樹脂100gに対して、好ましくは5mmol〜30mmolであり、より好ましくは8mmol〜30mmolであり、さらに好ましくは10mmol〜30mmolである。このような範囲であれば、ポリアミドイミド樹脂が適度に架橋し得るので、機械特性のバランスに優れ、特に耐折性に優れる樹脂フィルムを形成し得る樹脂組成物を得ることができる。   In the resin composition, the content ratio of the imidazole compound is preferably 5 mmol to 30 mmol, more preferably 8 mmol to 30 mmol, and further preferably 10 mmol to 30 mmol with respect to 100 g of the polyamideimide resin. If it is such a range, since a polyamide-imide resin can be bridge | crosslinked moderately, it can obtain the resin composition which can form the resin film which is excellent in the balance of mechanical characteristics, and is excellent in especially bending resistance.

A−3.導電性ポリマー
上記樹脂組成物は、導電性ポリマーをさらに含んでいてもよい。導電性ポリマーを含む樹脂組成物は、例えば、中間転写ベルト等の導電性ベルトを形成するフィルムの材料として用いられ得る。
A-3. Conductive polymer The resin composition may further contain a conductive polymer. The resin composition containing a conductive polymer can be used as a film material for forming a conductive belt such as an intermediate transfer belt.

上記樹脂組成物における導電性ポリマーの含有量は、所望の電気的特性や機械特性に応じて任意の適切な値に設定され得る。上記導電性ポリマーの含有量は、上記ポリアミドイミド樹脂100重量部に対して、好ましくは1重量部〜40重量部、さらに好ましくは3重量部〜30重量部である。   The content of the conductive polymer in the resin composition can be set to any appropriate value according to desired electrical characteristics and mechanical characteristics. The content of the conductive polymer is preferably 1 to 40 parts by weight, more preferably 3 to 30 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the polyamideimide resin.

導電性ポリマーとしては、任意の適切なポリマーが用いられ得る。導電性ポリマーとしては、例えば、ポリチオフェン系ポリマー、ポリアセチレン系ポリマー、ポリパラフェニレン系ポリマー、ポリアニリン系ポリマー、ポリパラフェニレンビニレン系ポリマー、ポリピロール系ポリマー、ポリフェニレン系ポリマー、アクリル系ポリマーで変性されたポリエステル系ポリマー等が挙げられる。   Any appropriate polymer can be used as the conductive polymer. Examples of conductive polymers include polythiophene polymers, polyacetylene polymers, polyparaphenylene polymers, polyaniline polymers, polyparaphenylene vinylene polymers, polypyrrole polymers, polyphenylene polymers, and polyester polymers modified with acrylic polymers. Examples thereof include polymers.

好ましくは、上記導電性ポリマーとして、ポリアニリン系ポリマーが用いられる。本発明においては、ポリアミドイミド樹脂およびイミダゾール系化合物と、ポリアニリン系ポリマーとを組み合わせて用いることにより、より低温または短時間で成形体(例えば、フィルム)を形成することができるため、ポリアニリン系ポリマーの劣化を少なくできる。その結果、導電性の低下が少ない成形体を得ることができる。また、コスト削減の効果も得ることができる。   Preferably, a polyaniline polymer is used as the conductive polymer. In the present invention, a molded body (for example, a film) can be formed at a lower temperature or in a shorter time by using a combination of a polyamideimide resin and an imidazole compound and a polyaniline polymer. Deterioration can be reduced. As a result, it is possible to obtain a molded body with little decrease in conductivity. Moreover, the effect of cost reduction can also be acquired.

(導電性ポリアニリン)
上記ポリアニリン系ポリマーは、還元型構造単位を有するエメラルジンベース状態のポリアニリンにドーパントを添加して得られる導電性ポリアニリンである。
(Conductive polyaniline)
The polyaniline-based polymer is a conductive polyaniline obtained by adding a dopant to polyaniline in an emeraldine base state having a reduced structural unit.

好ましくは、導電性ポリアニリンは、還元型構造単位を有するエメラルジンベース状態のポリアニリンに、該ポリアニリンに付加可能な量より過剰なドーパントを添加して得られる。具体的には、エメラルジンベース状態のポリアニリンに、該ポリアニリンの還元型構造単位1molに対して2molより多いドーパントを添加することが好ましい。   Preferably, the conductive polyaniline is obtained by adding an excess of dopant to the emeraldine-based polyaniline having a reduced structural unit in an amount that can be added to the polyaniline. Specifically, it is preferable to add more than 2 mol of dopant to 1 mol of the reduced structural unit of the polyaniline to the emeraldine-based polyaniline.

上記エメラルジンベース状態のポリアニリン(以下、単にポリアニリンともいう)は、下記式(1)で示されるような、酸化型構造単位と還元型構造単位とが略等しいモル分率で存在する基本骨格を繰り返し単位として有する。

Figure 2015054923

(式中、mは繰り返し単位中の酸化型構造単位のモル分率を示し、nは繰り返し単位中の還元型構造単位のモル分率を示し、m+n=1であり、mとnの値は略等しい。) The polyaniline in the emeraldine base state (hereinafter also simply referred to as polyaniline) repeats a basic skeleton in which an oxidized structural unit and a reduced structural unit are present in substantially equal molar fractions as represented by the following formula (1). Have as a unit.
Figure 2015054923

(In the formula, m represents the molar fraction of the oxidized structural unit in the repeating unit, n represents the molar fraction of the reduced structural unit in the repeating unit, m + n = 1, and the values of m and n are Approximately equal.)

上記ポリアニリンの製造方法は、例えば、特開平3−28229号公報に記載されており、その記載は本明細書に参考として援用される。   The method for producing the polyaniline is described in, for example, JP-A-3-28229, the description of which is incorporated herein by reference.

上記ドーパントは、上記ポリアニリンをドープして導電性を付与し得る限り、任意の適切なものが採用され得る。上記ドーパントは、好ましくは、プロトン酸である。プロトン酸は有機酸であってもよく、無機酸であってもよい。   Any appropriate dopant can be adopted as long as the dopant can impart conductivity by doping the polyaniline. The dopant is preferably a protonic acid. The proton acid may be an organic acid or an inorganic acid.

上記プロトン酸の酸解離定数pKa値は、好ましくは4.8以下であり、さらに好ましくは1〜4.8である。このようなプロトン酸としては、例えば、塩酸、硫酸、硝酸、リン酸、ホウフッ化水素酸、リンフッ化水素酸、過塩素酸等の無機酸;酸溶解定数pKa値が4.8以下の有機酸等が挙げられる。pKa値が1〜4.8のプロトン酸を用いるときは、そのpKa値が小さいほど、すなわち、酸性が強いほど、導電性の高い樹脂組成物が得られる。しかし、通常、pKa値が1よりも小さいときは、得られる樹脂組成物の導電性は、一定以上には変化しない。勿論、必要に応じて、pKa値が1以下のプロトン酸を用いてもよい。   The acid dissociation constant pKa value of the protonic acid is preferably 4.8 or less, more preferably 1 to 4.8. Examples of such a protonic acid include inorganic acids such as hydrochloric acid, sulfuric acid, nitric acid, phosphoric acid, borohydrofluoric acid, phosphorous hydrofluoric acid and perchloric acid; organic acids having an acid solubility constant pKa value of 4.8 or less. Etc. When a protonic acid having a pKa value of 1 to 4.8 is used, the smaller the pKa value, that is, the stronger the acidity, the higher the conductive resin composition can be obtained. However, usually, when the pKa value is smaller than 1, the conductivity of the resulting resin composition does not change beyond a certain level. Of course, if necessary, a protonic acid having a pKa value of 1 or less may be used.

上記有機酸としては、例えば、有機カルボン酸等の脂肪族有機酸;フェノール類等の芳香族有機酸または芳香脂肪族有機酸;脂環式有機酸等が挙げられる。これらの有機酸は一塩基酸であってもよく、多塩基酸であってもよい。上記有機酸は、置換基を有していてもよい。当該置換基としては、例えば、スルホン酸基、硫酸基、水酸基、ハロゲン基、ニトロ基、シアノ基、アミノ基等が挙げられる。   Examples of the organic acid include aliphatic organic acids such as organic carboxylic acids; aromatic organic acids such as phenols or araliphatic organic acids; alicyclic organic acids and the like. These organic acids may be monobasic acids or polybasic acids. The organic acid may have a substituent. Examples of the substituent include a sulfonic acid group, a sulfuric acid group, a hydroxyl group, a halogen group, a nitro group, a cyano group, and an amino group.

上記有機酸の具体例としては、酢酸、酪酸、オクタン酸、ギ酸、シュウ酸、安息香酸、ピクリン酸、サリチル酸、1,6−ジニトロ−4−クロロフェノール、2,6−ジニトロフェノール、2,4−ジニトロフェノール、マンデル酸、フタル酸、イソフタル酸、マレイン酸、フマル酸、マロン酸、酒石酸、クエン酸、乳酸、コハク酸、α−アラニン、β−アラニン、グリシン、グリコール酸、これらの誘導体等を挙げることができる。   Specific examples of the organic acid include acetic acid, butyric acid, octanoic acid, formic acid, oxalic acid, benzoic acid, picric acid, salicylic acid, 1,6-dinitro-4-chlorophenol, 2,6-dinitrophenol, 2,4 -Dinitrophenol, mandelic acid, phthalic acid, isophthalic acid, maleic acid, fumaric acid, malonic acid, tartaric acid, citric acid, lactic acid, succinic acid, α-alanine, β-alanine, glycine, glycolic acid, derivatives thereof, etc. Can be mentioned.

スルホン酸基および/または硫酸基を有する有機酸の具体例としては、アミノナフトールスルホン酸;メタニル酸;スルファニル酸;アリルスルホン酸;ラウリル硫酸;キシレンスルホン酸;クロロベンゼンスルホン酸;メタンスルホン酸等のアルキルスルホン酸;ベンゼンスルホン酸;スチレンスルホン酸;p−トルエンスルホン酸;ナフタレンスルホン酸;エチルベンゼンスルホン酸、プロピルベンゼンスルホン酸、ブチルベンゼンスルホン酸、ペンチルベンゼンスルホン酸、ヘキシルベンゼンスルホン酸、ヘプチルベンゼンスルホン酸、オクチルベンゼンスルホン酸、ノニルベンゼンスルホン酸、デシルベンゼンスルホン酸、ウンデシルベンゼンスルホン酸、ドデシルベンゼンスルホン酸、ペンタデシルベンゼンスルホン酸、オクタデシルベンゼンスルホン酸等のアルキルベンゼンスルホン酸;ジエチルベンゼンスルホン酸等のジアルキルベンゼンスルホン酸;メチルナフタレンスルホン酸、エチルナフタレンスルホン酸、プロピルナフタレンスルホン酸等のアルキルナフタレンスルホン酸;ジメチルナフタレンスルホン酸、ジエチルナフタレンスルホン酸等のジアルキルナフタレンスルホン酸;トリメチルナフタレンスルホン酸;トリエチルナフタレンスルホン酸;トリプロピルナフタレンスルホン酸;トリブチルナフタレンスルホン酸;カンファスルホン酸;アクリルアミド−t−ブチルスルホン酸等が挙げられる。   Specific examples of the organic acid having a sulfonic acid group and / or a sulfuric acid group include amino naphthol sulfonic acid; metanilic acid; sulfanilic acid; allyl sulfonic acid; lauryl sulfuric acid; xylene sulfonic acid; chlorobenzene sulfonic acid; Sulfonic acid; benzenesulfonic acid; styrenesulfonic acid; p-toluenesulfonic acid; naphthalenesulfonic acid; ethylbenzenesulfonic acid, propylbenzenesulfonic acid, butylbenzenesulfonic acid, pentylbenzenesulfonic acid, hexylbenzenesulfonic acid, heptylbenzenesulfonic acid, Octylbenzenesulfonic acid, nonylbenzenesulfonic acid, decylbenzenesulfonic acid, undecylbenzenesulfonic acid, dodecylbenzenesulfonic acid, pentadecylbenzenesulfonic acid, octadecylbenzenesulfonic acid Alkylbenzenesulfonic acid such as rubenzenesulfonic acid; Dialkylbenzenesulfonic acid such as diethylbenzenesulfonic acid; Alkylnaphthalenesulfonic acid such as methylnaphthalenesulfonic acid, ethylnaphthalenesulfonic acid, propylnaphthalenesulfonic acid; Dimethylnaphthalenesulfonic acid, diethylnaphthalenesulfonic acid Trialkylnaphthalenesulfonic acid; triethylnaphthalenesulfonic acid; tripropylnaphthalenesulfonic acid; tributylnaphthalenesulfonic acid; camphorsulfonic acid; acrylamide-t-butylsulfonic acid and the like.

上記有機酸として、分子内に2つ以上のスルホン酸基を有する多官能有機スルホン酸も用いることができる。当該多官能有機スルホン酸の具体例としては、エタンジスルホン酸、プロパンジスルホン酸等のアルキルジスルホン酸;ベンゼンジスルホン酸;ナフタレンジスルホン酸等のアルキルベンゼンジスルホン酸;ジメチルベンゼンジスルホン酸、ジエチルベンゼンジスルホン酸等のジアルキルベンゼンジスルホン酸;メチルナフタレンジスルホン酸、エチルナフタレンジスルホン酸等のアルキルナフタレンジスルホン酸;ジエチルナフタレンジスルホン酸等のジアルキルナフタレンスルホン酸等が挙げられる。上記多官能有機スルホン酸が芳香環を有する場合、当該芳香環におけるスルホン酸基の位置としては、任意の適切な位置が選択され得る。   As the organic acid, a polyfunctional organic sulfonic acid having two or more sulfonic acid groups in the molecule can also be used. Specific examples of the polyfunctional organic sulfonic acid include alkyl disulfonic acids such as ethanedisulfonic acid and propanedisulfonic acid; benzene disulfonic acid; alkylbenzene disulfonic acids such as naphthalenedisulfonic acid; dialkylbenzenes such as dimethylbenzene disulfonic acid and diethylbenzene disulfonic acid. Examples include disulfonic acid; alkyl naphthalene disulfonic acid such as methyl naphthalene disulfonic acid and ethyl naphthalene disulfonic acid; dialkyl naphthalene sulfonic acid such as diethyl naphthalene disulfonic acid and the like. When the polyfunctional organic sulfonic acid has an aromatic ring, any appropriate position can be selected as the position of the sulfonic acid group in the aromatic ring.

上記有機酸は、ポリマー酸であってもよい。当該ポリマー酸の具体例としては、ポリビニルスルホン酸、ポリビニル硫酸、ポリスチレンスルホン酸、スルホン化スチレン−ブタジエン共重合体、ポリアリルスルホン酸、ポリメタリルスルホン酸、ポリ−2−アクリルアミド−2−メチルプロパンスルホン酸、ポリハロゲン化アクリル酸、ポリイソプレンスルホン酸、N−スルホアルキル化ポリアニリン、核スルホン化ポリアニリン等が挙げられる。ナフイオン(米国デュポン社登録商標)として知られている含フッ素重合体も、ポリマー酸として好適に用いられる。   The organic acid may be a polymer acid. Specific examples of the polymer acid include polyvinyl sulfonic acid, polyvinyl sulfuric acid, polystyrene sulfonic acid, sulfonated styrene-butadiene copolymer, polyallyl sulfonic acid, polymethallyl sulfonic acid, poly-2-acrylamido-2-methylpropane. Examples include sulfonic acid, polyhalogenated acrylic acid, polyisoprene sulfonic acid, N-sulfoalkylated polyaniline, and nuclear sulfonated polyaniline. A fluorine-containing polymer known as naphthion (registered trademark of DuPont, USA) is also preferably used as the polymer acid.

上記のように例示した有機酸のなかでも好ましくはスルホン酸基を有する有機酸であり、より好ましくはドデシルベンゼンスルホン酸またはカンファスルホン酸であり、さらに好ましくは、安価であり取り扱い性優れる点からドデシルベンゼンスルホン酸である。   Among the organic acids exemplified above, an organic acid having a sulfonic acid group is preferable, more preferably dodecylbenzenesulfonic acid or camphorsulfonic acid, and still more preferably dodecyl because it is inexpensive and has excellent handleability. Benzenesulfonic acid.

1つの実施形態においては、上記導電性ポリアニリンは、上記ポリアニリンと上記ドーパントとを撹拌混合し、混合物を加熱することにより得られる。撹拌時間は、好ましくは1分〜60分であり、より好ましくは2分〜20分であり、さらに好ましくは3分〜10分である。加熱時間は、好ましくは1分〜60分であり、より好ましくは2分〜20分であり、さらに好ましくは3分〜10分である。加熱温度は、好ましくは120℃〜200℃であり、特に好ましくは140℃〜180℃である。   In one embodiment, the conductive polyaniline is obtained by stirring and mixing the polyaniline and the dopant and heating the mixture. The stirring time is preferably 1 minute to 60 minutes, more preferably 2 minutes to 20 minutes, and further preferably 3 minutes to 10 minutes. The heating time is preferably 1 minute to 60 minutes, more preferably 2 minutes to 20 minutes, and even more preferably 3 minutes to 10 minutes. The heating temperature is preferably 120 ° C to 200 ° C, particularly preferably 140 ° C to 180 ° C.

別の実施形態においては、上記導電性ポリアニリンは、上記ポリアニリンと上記ドーパントとを加熱混練して得られる。加熱混練されて得られる導電性ポリアニリンは、分子鎖の絡み合いがほどけていると考えられる。加熱混練して得られた上記導電性ポリアニリンは、極性溶媒に溶解して長期間(例えば、1ヶ月以上)にわたって保存しても、ゲル化することがなく、保存安定性に優れる。上記加熱混練に用いることのできる装置としては、例えば、バンバリーミキサー、ニーダー、ロール等の密閉式混練装置またはバッチ式混練装置;単軸押出機、二軸押出機等の連続式混練装置が挙げられる。   In another embodiment, the conductive polyaniline is obtained by heat-kneading the polyaniline and the dopant. It is considered that the conductive polyaniline obtained by heating and kneading is entangled in molecular chains. The conductive polyaniline obtained by heating and kneading is excellent in storage stability without being gelated even when dissolved in a polar solvent and stored for a long period of time (for example, 1 month or longer). Examples of the apparatus that can be used for the heat kneading include a closed kneading apparatus such as a Banbury mixer, a kneader, and a roll, or a batch kneading apparatus; a continuous kneading apparatus such as a single screw extruder and a twin screw extruder. .

上記加熱混練の際の混練温度は、好ましくは120℃〜200℃であり、特に好ましくは140℃〜180℃である。混練温度がこのような範囲であれば、ポリアニリンの分子鎖の絡み合いがほどかれ、その結果、上記ドーパントが十分にドープされた導電性ポリアニリンを得ることができ、さらに、極性溶媒中でゲル化し難い樹脂組成物を得ることができると推定される。   The kneading temperature in the heat kneading is preferably 120 ° C. to 200 ° C., particularly preferably 140 ° C. to 180 ° C. If the kneading temperature is in such a range, the molecular chains of the polyaniline are entangled, and as a result, a conductive polyaniline sufficiently doped with the dopant can be obtained, and further, it is difficult to gel in a polar solvent. It is estimated that a resin composition can be obtained.

上記加熱混練の際の混練時間は、好ましくは1分〜60分である。混練時間がこのような範囲であれば、上記プロトン酸が十分にドープされた導電性ポリアニリンを得ることができ、さらに、極性溶媒中でゲル化し難い樹脂組成物を得ることができる。   The kneading time in the above heat kneading is preferably 1 minute to 60 minutes. When the kneading time is in such a range, the conductive polyaniline sufficiently doped with the proton acid can be obtained, and further, a resin composition that is hardly gelled in a polar solvent can be obtained.

上記ドーパントの添加量は、上記のとおり、上記ポリアニリンの還元型構造単位1molに対して、2molより多いことが好ましい。上記ドーパントの添加量は、上記ポリアニリンの還元型構造単位1molに対して、より好ましくは、3mol〜6molである。   As described above, the addition amount of the dopant is preferably more than 2 mol with respect to 1 mol of the reduced structural unit of the polyaniline. The amount of the dopant added is more preferably 3 mol to 6 mol with respect to 1 mol of the reduced structural unit of the polyaniline.

上記ポリアニリンの還元型構造単位1molに対して、付加可能なドーパントは理論上2molである。本発明においては、ポリアニリンに、理論上付加可能な量よりも過剰なドーパントを添加することにより、導電性ポリアニリンを十分に得ることができる。導電性ポリアニリンを十分に含む樹脂組成物を用いれば、導電性および柔軟性に優れる導電性材料(例えば、導電性フィルム)を得ることができる。一方、ドーパントの添加量が多すぎても、ポリアニリンに対するドーパントの実際の付加量は理論値を越えることはなく、ポリアニリンの還元型構造単位1mol当たりのドーパント添加量が6molより多い場合、樹脂組成物中の残存ドーパントを効率的に除去できないおそれがある。   Theoretically, 2 mol of dopant can be added to 1 mol of the reduced structural unit of the polyaniline. In the present invention, the conductive polyaniline can be sufficiently obtained by adding an excessive amount of dopant to the polyaniline beyond the theoretically possible amount. If the resin composition which fully contains electroconductive polyaniline is used, the electroconductive material (for example, electroconductive film) excellent in electroconductivity and a softness | flexibility can be obtained. On the other hand, even if the amount of dopant added is too large, the actual amount of dopant added to polyaniline does not exceed the theoretical value. When the amount of dopant added per mol of reduced structural unit of polyaniline is more than 6 mol, the resin composition There exists a possibility that the residual dopant in it cannot be removed efficiently.

上記のように調製することにより、上記ポリアニリンの還元型構造単位の大部分がドープされる(すなわち、ポリアニリンの大部分が導電性ポリアニリンに転換する)。ドープされた還元型構造単位の割合は、ドープされた還元型構造単位とドープされていない還元型構造単位との合計に対して、好ましくは80mol%以上であり、より好ましくは90mol%以上であり、さらに好ましくは98mol%以上であり、特に好ましくは100mol%である。   By preparing as described above, most of the reduced structural unit of the polyaniline is doped (that is, most of the polyaniline is converted into conductive polyaniline). The ratio of the doped reduced structural unit is preferably 80 mol% or more, more preferably 90 mol% or more, based on the total of the doped reduced structural unit and the undoped reduced structural unit. More preferably, it is 98 mol% or more, and particularly preferably 100 mol%.

また、ドープされた還元型構造単位の割合は、ポリアニリン中の(すなわち、ドーパント添加前の)酸化型構造単位と還元型構造単位の合計に対して、好ましくは40mol%以上であり、より好ましくは45mol%以上であり、さらに好ましくは49mol%以上であり、最も好ましくは50mol%である。   Further, the ratio of the doped reduced structural unit is preferably 40 mol% or more, more preferably, based on the total of the oxidized structural unit and the reduced structural unit in the polyaniline (that is, before the addition of the dopant). It is 45 mol% or more, more preferably 49 mol% or more, and most preferably 50 mol%.

上記のように過剰に添加されて残存したドーパントは、任意の適切な方法で除去されることが好ましい。上記量のドーパントを添加して調製された導電性ポリアニリンを含み、かつ、残存ドーパントを実質的に含まない樹脂組成物を用いれば、導電性と機械的強度とが両立した導電性材料(例えば、導電性フィルム)を形成することができる。なお、本明細書において、残存ドーパントを実質的に含まないとは、樹脂組成物中の残存ドーパントの含有割合が、導電性ポリアニリン100重量部に対して、10重量部以下であることをいう。樹脂組成物中のドーパントの含有割合は、導電性ポリアニリン100重量部に対して、好ましくは5重量部以下であり、より好ましくは3重量部以下であり、さらに好ましくは1重量部以下である。最も好ましくは、本発明の樹脂組成物は、残存ドーパントを含まない。   It is preferable that the dopant added excessively as described above is removed by any appropriate method. If a resin composition containing conductive polyaniline prepared by adding the above-mentioned amount of dopant and substantially free of residual dopant is used, a conductive material having both conductivity and mechanical strength (for example, A conductive film) can be formed. In the present specification, the phrase “substantially free of residual dopant” means that the content ratio of residual dopant in the resin composition is 10 parts by weight or less with respect to 100 parts by weight of conductive polyaniline. The content ratio of the dopant in the resin composition is preferably 5 parts by weight or less, more preferably 3 parts by weight or less, and further preferably 1 part by weight or less with respect to 100 parts by weight of the conductive polyaniline. Most preferably, the resin composition of the present invention contains no residual dopant.

上記残存ドーパントの除去は、例えば、導電性ポリアニリンと残存ドーパントとを含む混合物に残存ドーパントのみを溶解し得る溶媒を加えて、該混合物を洗浄し、その後、ろ過することにより、行うことができる。該溶媒としては、例えば、水、メタノール等が挙げられる。   The removal of the residual dopant can be performed, for example, by adding a solvent capable of dissolving only the residual dopant to the mixture containing the conductive polyaniline and the residual dopant, washing the mixture, and then filtering. Examples of the solvent include water, methanol and the like.

上記樹脂組成物は、目的等に応じて、任意の適切な添加剤を含み得る。添加剤としては、例えば、摺動性フィラー、熱伝導性フィラー、断熱性フィラー、耐摩耗性フィラー等が挙げられる。添加剤は、導電性ポリアニリンの調製時に添加してもよく、残存ドーパントの除去工程後に添加してもよい。   The resin composition may contain any appropriate additive depending on the purpose and the like. Examples of the additive include a slidable filler, a heat conductive filler, a heat insulating filler, and an abrasion resistant filler. The additive may be added during the preparation of the conductive polyaniline, or may be added after the residual dopant removing step.

B.樹脂フィルム
本発明の樹脂フィルムは、上記樹脂組成物を用いて形成され、上記ポリアミドイミド樹脂を含む。そのため、本発明の樹脂フィルムは、十分な弾性を保持し、さらに他の機械特性にも優れる。また、本発明の樹脂組成物を用いて得られた上記樹脂フィルムは、樹脂フィルムを形成する際に、イミダゾール系化合物の作用により、ポリアミドイミド樹脂が適度に架橋して、耐折性に優れる。本発明の樹脂フィルムは、機械特性に優れるため、様々な用途に用いることができる。なかでも、優れた機械特性が特に要求される複写機等で使用される中間転写用ベルト、定着用ベルト、搬送用ベルトといったシームレスベルトに好適に用いることができる。また、上記導電性ポリマーを含む樹脂組成物を用いれば、これらのベルトに導電性を付与することができる。1つの実施形態においては、本発明の樹脂フィルムは、ポリアミドイミド樹脂に加えて、上記イミダゾール系化合物を含み得る。
B. Resin film The resin film of this invention is formed using the said resin composition, and contains the said polyamidoimide resin. Therefore, the resin film of the present invention retains sufficient elasticity and is excellent in other mechanical properties. Moreover, when the resin film obtained using the resin composition of the present invention is formed, the polyamideimide resin is appropriately cross-linked by the action of the imidazole compound, and is excellent in folding resistance. Since the resin film of the present invention is excellent in mechanical properties, it can be used for various applications. Of these, seamless belts such as intermediate transfer belts, fixing belts, and transport belts used in copying machines and the like that particularly require excellent mechanical properties can be suitably used. Moreover, if the resin composition containing the said conductive polymer is used, electroconductivity can be provided to these belts. In one embodiment, the resin film of the present invention may contain the imidazole compound in addition to the polyamideimide resin.

本発明の樹脂フィルムは、上記樹脂組成物を任意の適切な基材に塗布して塗膜を作製し、該塗膜から溶媒を除去、加熱処理することにより得られ得る。上記樹脂組成物の基材への塗布方法としては、任意の適切な方法を用いることができる。該樹脂組成物の製造方法は、上記A項で説明したとおりである。すなわち、本発明の樹脂フィルムの製造方法は、酸成分と、ジイソシアネート成分とを反応させてポリアミドイミド樹脂を得る工程と、該ポリアミドイミド樹脂とイミダゾール系化合物とを混合して樹脂組成物を調製する工程と、該樹脂組成物を基材に塗布した後に加熱処理を行う工程とを含む。   The resin film of this invention can be obtained by apply | coating the said resin composition to arbitrary appropriate base materials, producing a coating film, removing a solvent from this coating film, and heat-processing. Any appropriate method can be used as a method of applying the resin composition to the substrate. The method for producing the resin composition is as described in the above section A. That is, the method for producing a resin film of the present invention prepares a resin composition by mixing an acid component and a diisocyanate component to obtain a polyamideimide resin, and mixing the polyamideimide resin and an imidazole compound. And a step of performing a heat treatment after applying the resin composition to the substrate.

酸成分とジイソシアネート成分とを反応させてポリアミドイミド樹脂を得る工程において、触媒として環状アミンを用いることが好ましく。環状アミンとして、ジアザビシクロウンデンセンを用いることが好ましい。   In the step of obtaining a polyamideimide resin by reacting an acid component with a diisocyanate component, it is preferable to use a cyclic amine as a catalyst. It is preferable to use diazabicycloundenecene as the cyclic amine.

上記基材としては、例えば、ガラス、金属、高分子フィルム等が挙げられる。また、上記基材として、円筒状の金型を用いることにより、シームレスベルト用の樹脂フィルムを作製することができる。シームレスベルト用の樹脂フィルムは、例えば、上記樹脂組成物を円筒状の金型内に供給して金型内面に塗膜を形成した後、加熱処理により溶剤を除去、乾燥することにより作製される。   As said base material, glass, a metal, a polymer film etc. are mentioned, for example. Moreover, the resin film for seamless belts can be produced by using a cylindrical metal mold | die as said base material. The resin film for the seamless belt is produced, for example, by supplying the resin composition into a cylindrical mold to form a coating film on the inner surface of the mold, and then removing the solvent by heat treatment and drying. .

上記シームレスベルト用の樹脂フィルム作製時の塗膜の形成方法としては、任意の適切な方法が採用される。例えば、回転する金型内に塗布液を供給し、遠心力により均一な塗膜とする方法、ノズルを金型内面に沿うように挿入し、回転する金型内に塗布液をノズルから吐出させて、ノズルまたは金型を走行させながら螺旋状に塗布する方法、螺旋状の塗布を粗く行った後に、金型との間に一定のクリアランスを有する走行体(弾丸状、球状)を走行させる方法、塗布液中に金型を浸潰して内面に塗布膜を形成した後、円筒状ダイス等で成膜する方法、金型内面の片端部に塗布液を供給した後、金型との間に一定のクリアランスを有する走行体(弾丸状、球状)を走行させる方法等が挙げられる。   Any appropriate method is adopted as a method of forming the coating film when the resin film for the seamless belt is produced. For example, a method of supplying a coating liquid into a rotating mold and forming a uniform coating film by centrifugal force, inserting a nozzle along the inner surface of the mold, and discharging the coating liquid from the nozzle into the rotating mold. A method of applying a spiral while running a nozzle or a mold, or a method of running a traveling body (bullet shape, spherical shape) having a certain clearance between the mold after the spiral application is performed roughly After immersing the mold in the coating liquid to form a coating film on the inner surface, a method of forming a film with a cylindrical die or the like, after supplying the coating liquid to one end of the inner surface of the mold, between the mold Examples thereof include a method of traveling a traveling body (bullet shape, spherical shape) having a certain clearance.

上記加熱処理の温度は、好ましくは100℃〜300℃であり、より好ましくは150℃〜250℃であり、さらに好ましくは150℃〜200℃である。加熱処理の時間は、好ましくは10分〜60分である。本発明においては、該加熱処理の際、イミダゾール系化合物の作用により、ポリアミドイミド樹脂が適度に架橋する。   The temperature of the heat treatment is preferably 100 ° C to 300 ° C, more preferably 150 ° C to 250 ° C, and further preferably 150 ° C to 200 ° C. The heat treatment time is preferably 10 minutes to 60 minutes. In the present invention, the polyamideimide resin is appropriately crosslinked by the action of the imidazole compound during the heat treatment.

ポリアミドイミド樹脂の架橋の度合いは、分子間イミド結合の量が指標となり得る。分子間イミド結合の量は、赤外分光法を用いて、以下のようにして測定することができる。
(i)樹脂フィルムのFT−IR吸収スペクトルを測定する。
(ii)ジイソシアネート成分由来のベンゼン環のC=C結合ピークのピーク強度B(ピーク面積)求める。なお、2種以上のイソシアネートを含む場合は、それぞれのピーク強度を平均した値をピーク強度Bとする。
(iii)ポリアミドイミド樹脂の分子鎖を構成するイミド結合(分子内イミド結合)のC=O結合由来のピーク(1780cm−1付近)のピーク強度I(ピーク面積)を求める。
(iii)樹脂フィルム中の全イミド結合(すなわち、分子内イミド結合と分子間イミド結合との和)のC=O結合由来のピーク(1380cm−1付近)のピーク強度I(ピーク面積)を求める。
(iv)ピーク強度Bに対するピーク強度Iの比を、分子内イミド結合の量とする。
(v)ピーク強度Bに対するピーク強度Iの比を、樹脂フィルム中の全イミド結合の量とする。
(vi)(全イミド結合の量)−(分子内イミド結合の量)、すなわち、(ピーク強度I/ピーク強度B)−(ピーク強度I/ピーク強度B)から算出される値を、分子間イミド結合の量とする。
The degree of cross-linking of the polyamide-imide resin can be determined by the amount of intermolecular imide bonds. The amount of intermolecular imide bond can be measured using infrared spectroscopy as follows.
(I) The FT-IR absorption spectrum of the resin film is measured.
(Ii) The peak intensity B (peak area) of the C═C bond peak of the benzene ring derived from the diisocyanate component is determined. In addition, when 2 or more types of isocyanate is included, the value which averaged each peak intensity is made into peak intensity B.
(Iii) The peak intensity I 1 (peak area) of the peak (near 1780 cm −1 ) derived from the C═O bond of the imide bond (intramolecular imide bond) constituting the molecular chain of the polyamideimide resin is determined.
(Iii) The peak intensity I a (peak area) of the peak (near 1380 cm −1 ) derived from the C═O bond of all imide bonds (that is, the sum of intramolecular imide bonds and intermolecular imide bonds) in the resin film. Ask.
(Iv) The ratio of the peak intensity I 1 to the peak intensity B is defined as the amount of intramolecular imide bond.
(V) the ratio of the peak intensity I a to the peak intensity B, and the amount of total imide bond in the resin film.
(Vi) (amount of total imide bond) − (amount of intramolecular imide bond), that is, a value calculated from (peak intensity I a / peak intensity B) − (peak intensity I 1 / peak intensity B), The amount of intermolecular imide bond.

上記樹脂フィルム中、上記分子間イミド結合の量は、好ましくは0.75以上であり、より好ましくは0.8以上であり、さらに好ましくは0.85以上である。   In the resin film, the amount of the intermolecular imide bond is preferably 0.75 or more, more preferably 0.8 or more, and further preferably 0.85 or more.

上記樹脂フィルムの厚みは、用途に応じて任意の適切な厚みに設定され得る。代表的には、25μm〜150μmであり、より好ましくは50μm〜100μmである。   The thickness of the resin film can be set to any appropriate thickness depending on the application. Typically, it is 25 μm to 150 μm, and more preferably 50 μm to 100 μm.

上記樹脂フィルムのJIS P8115に準拠したMIT試験による耐折回数は、好ましくは3000回以上であり、より好ましくは3500回以上であり、さらに好ましくは4000回以上であり、特に好ましくは4000回〜10000回である。本発明の樹脂組成物を用いて形成された樹脂フィルムは、ポリアミドイミド樹脂が適度に架橋して、耐折性に優れる。また、樹脂組成物に導電性を付与する場合には、上記のように、十分にドープされた導電性ポリアニリンを含み、かつ、残存ドーパントを実質的に含まないようにすることで、ドーパントによるポリアミドイミド樹脂の劣化を防止することができる。その結果、機械特性に優れる(具体的には、上記のように耐折回数が多い)導電性フィルムを得ることができる。   The folding resistance of the resin film according to MIT test according to JIS P8115 is preferably 3000 times or more, more preferably 3500 times or more, further preferably 4000 times or more, and particularly preferably 4000 times to 10,000. Times. In the resin film formed using the resin composition of the present invention, the polyamideimide resin is appropriately cross-linked and has excellent folding resistance. Moreover, when providing electroconductivity to a resin composition, as above-mentioned, it contains the fully doped electroconductive polyaniline, and it is made not to contain a residual dopant substantially, The polyamide by a dopant Deterioration of the imide resin can be prevented. As a result, a conductive film having excellent mechanical properties (specifically, having a large number of folding times as described above) can be obtained.

上記樹脂フィルムの25℃における引っ張り弾性率は、好ましくは1GPa以上であり、より好ましくは2GPa以上であり、さらに好ましくは3GPa〜20GPaである。引っ張り弾性率の測定方法は後述する。   The tensile elastic modulus at 25 ° C. of the resin film is preferably 1 GPa or more, more preferably 2 GPa or more, and further preferably 3 GPa to 20 GPa. A method for measuring the tensile modulus will be described later.

上記樹脂フィルムの25℃における破断強度は、好ましくは50MPa以上であり、より好ましくは80MPa以上であり、さらに好ましくは100MPa以上であり、特に好ましくは140MPa〜500MPaであり、最も好ましくは150MPa〜500MPaである。破断強度の測定方法は後述する。   The breaking strength at 25 ° C. of the resin film is preferably 50 MPa or more, more preferably 80 MPa or more, further preferably 100 MPa or more, particularly preferably 140 MPa to 500 MPa, and most preferably 150 MPa to 500 MPa. is there. A method for measuring the breaking strength will be described later.

上記樹脂フィルムの25℃における破断伸びは、好ましくは5%以上であり、より好ましくは10%以上であり、さらに好ましくは20%〜60%であり、特に好ましくは20%〜40%である。破断伸びがこのような範囲の樹脂フィルムは、耐久性に優れる。破断伸びの測定方法は後述する。   The elongation at break of the resin film at 25 ° C. is preferably 5% or more, more preferably 10% or more, still more preferably 20% to 60%, and particularly preferably 20% to 40%. A resin film having a break elongation in such a range is excellent in durability. A method for measuring the breaking elongation will be described later.

上記樹脂フィルムの表面抵抗率(ρs)は、用途に応じて任意の適切な値に設定され得る。上記樹脂組成物が導電性ポリマーを含む場合、上記樹脂フィルムの表面抵抗率(ρs)は、例えば、1×10Ω/□〜1×1012Ω/□であり、好ましくは1×10Ω/□〜1×1012Ω/□である。また、該シームレスベルトの体積抵抗率は、例えば、1×10Ω・cm〜1×1012Ω・cmであり、好ましくは1×10Ω・cm〜1×1012Ω・cmである。 The surface resistivity (ρs) of the resin film can be set to any appropriate value depending on the application. When the resin composition contains a conductive polymer, the surface resistivity (ρs) of the resin film is, for example, 1 × 10 8 Ω / □ to 1 × 10 12 Ω / □, and preferably 1 × 10 9. Ω / □ to 1 × 10 12 Ω / □. The volume resistivity of the seamless belt is, for example, 1 × 10 8 Ω · cm to 1 × 10 12 Ω · cm, preferably 1 × 10 9 Ω · cm to 1 × 10 12 Ω · cm. .

C.シームレスベルト
本発明のシームレスベルトは、上記樹脂フィルムを含む。本発明によれば、機械特性に優れた樹脂フィルムを提供することができる。そのため、本発明の樹脂フィルムは、優れた機械特性が要求される用途に特に好適に用いることができる。したがって、本発明のシームレスベルトは、印刷機等のシームレスベルトのような優れた機械特性が特に要求される用途にも好適に用いることができる。本発明のシームレスベルトは、用途に応じて、上記樹脂フィルム以外の任意の他の層を含み得る。
C. Seamless belt The seamless belt of the present invention includes the resin film. According to the present invention, a resin film having excellent mechanical properties can be provided. Therefore, the resin film of the present invention can be used particularly suitably for applications that require excellent mechanical properties. Therefore, the seamless belt of the present invention can be suitably used for applications requiring excellent mechanical properties such as seamless belts for printing presses and the like. The seamless belt of the present invention may include any other layer other than the resin film, depending on the application.

上記の任意の他の層としては、例えば、耐摩耗性を付与するための無機金属酸化物薄層、または滑り性を調整するためのフッ素樹脂粉末もしくはセラミック粉末の含有層が挙げられる。また、シームレスベルトを離型ベルトとして用いる場合は、フッ素樹脂またはシリコーンゴム等からなる離型層が挙げられる。   Examples of the optional other layer include a thin layer of an inorganic metal oxide for imparting abrasion resistance, or a layer containing a fluororesin powder or a ceramic powder for adjusting slipperiness. Moreover, when using a seamless belt as a release belt, the release layer which consists of a fluororesin or silicone rubber etc. is mentioned.

以下、実施例により本発明を具体的に説明するが、本発明はこれら実施例になんら限定されるものではない。   EXAMPLES Hereinafter, although an Example demonstrates this invention concretely, this invention is not limited to these Examples at all.

[実施例1]
撹拌翼付メカニカルスターラーと冷却管を取り付けた4つ口フラスコに、アジピン酸と3−メチル−1,5−ペンタンジオールから得られる分岐構造を含むポリエステルポリオール(クラレ社製、商品名:P−2010、水酸基価:56mgKOH/g)31.28g(0.008mol)と4,4´−ジフェニルメタンジイソシアネート(MDI)4.01g(0.016mol)とN−メチル−2−ピロリドン(NMP)23.52gを仕込み、窒素気流下、120℃で3時間加熱撹拌し、両末端の水酸基をジイソシアネートで変性したポリエステルポリオールを含む反応溶液1を得た。
得られた反応溶液1に、無水トリメリット酸無水物124.5g(0.648mol)と3,3´−ジメチルビフェニル−4,4´−ジイソシアネート(TODI)126.85g(0.48mol)とMDI43.32g(0.173mol)とジアザビシクロウンデンセン(DBU)1.52g(0.01mol)とNMP385.86gとを仕込み、85℃まで1.5時間かけて昇温した。次いで、温度を保持し、そのまま1時間反応させた。その後、固形分濃度が25重量%となるようにNMPをさらに添加し、85℃で4時間反応させて、ポリアミドイミド樹脂を含むワニスを得た。
上記ポリアミドイミド樹脂を含むワニス400g(固形分100g)に2−メチルイミダゾール(2−Mz)0.8211g(10mmol)を加えて樹脂組成物を得た。該樹脂組成物をガラス基板上に塗布し、80℃で15分間、150℃で15分間加熱した後、室温まで冷却して、樹脂フィルム前駆体を形成した。該樹脂フィルム前駆体を、ガラス基板から剥離した後、樹脂フィルム前駆体の端部を固定した状態で、200℃で15分間さらに加熱して、樹脂フィルム(厚み80μm)を得た。
[Example 1]
A polyester polyol containing a branched structure obtained from adipic acid and 3-methyl-1,5-pentanediol (trade name: P-2010, manufactured by Kuraray Co., Ltd.) in a four-necked flask equipped with a mechanical stirrer with a stirring blade and a cooling tube. Hydroxyl value: 56 mg KOH / g) 31.28 g (0.008 mol), 4,4′-diphenylmethane diisocyanate (MDI) 4.01 g (0.016 mol) and N-methyl-2-pyrrolidone (NMP) 23.52 g. The reaction solution 1 containing the polyester polyol which prepared and stirred under nitrogen stream at 120 degreeC for 3 hours, and modified the hydroxyl group of both ends with diisocyanate was obtained.
To the obtained reaction solution 1, trimellitic anhydride 124.5 g (0.648 mol), 3,3′-dimethylbiphenyl-4,4′-diisocyanate (TODI) 126.85 g (0.48 mol) and MDI 43 .32 g (0.173 mol), diazabicycloundenecene (DBU) 1.52 g (0.01 mol) and NMP 385.86 g were charged, and the temperature was raised to 85 ° C. over 1.5 hours. Next, the temperature was maintained and the reaction was allowed to proceed for 1 hour. Thereafter, NMP was further added so that the solid content concentration was 25% by weight, and reacted at 85 ° C. for 4 hours to obtain a varnish containing a polyamideimide resin.
A resin composition was obtained by adding 0.8211 g (10 mmol) of 2-methylimidazole (2-Mz) to 400 g of varnish containing the polyamideimide resin (solid content: 100 g). The resin composition was applied on a glass substrate, heated at 80 ° C. for 15 minutes and 150 ° C. for 15 minutes, and then cooled to room temperature to form a resin film precursor. After the resin film precursor was peeled from the glass substrate, the resin film precursor was further heated at 200 ° C. for 15 minutes with the ends of the resin film precursor fixed, to obtain a resin film (thickness 80 μm).

[実施例2]
実施例1と同様にして、両末端の水酸基をジイソシアネートで変性したポリエステルポリオールを含む反応溶液1を得た。
得られた反応溶液1に、無水トリメリット酸無水物124.5g(0.648mol)と3,3´−ジメチルビフェニル−4,4´−ジイソシアネート(TODI)126.85g(0.48mol)と4,4´−ジフェニルメタンジイソシアネート(MDI)43.32g(0.173mol)とNMP385.86gとを仕込み、140℃まで1.5時間かけて昇温した。次いで、温度を保持し、そのまま1時間反応させた。その後、固形分濃度が20重量%となるようにNMPをさらに添加し、140℃で4時間反応させて、ポリアミドイミド樹脂を含むワニスを得た。
上記ポリアミドイミド樹脂を含むワニス500g(固形分100g)に2−メチルイミダゾール(2−Mz)0.8211g(10mmol)を加えて樹脂組成物を得た。該樹脂組成物をガラス基板上に塗布し、80℃で15分間、150℃で15分間加熱した後、室温まで冷却して、樹脂フィルム前駆体を形成した。該樹脂フィルム前駆体を、ガラス基板から剥離した後、樹脂フィルム前駆体の端部を固定した状態で、200℃で15分間さらに加熱して、樹脂フィルム(厚み80μm)を得た。
[Example 2]
In the same manner as in Example 1, a reaction solution 1 containing a polyester polyol having hydroxyl groups at both ends modified with diisocyanate was obtained.
In the obtained reaction solution 1, trimellitic anhydride 124.5 g (0.648 mol), 3,3′-dimethylbiphenyl-4,4′-diisocyanate (TODI) 126.85 g (0.48 mol) and 4 4,4′-diphenylmethane diisocyanate (MDI) 43.32 g (0.173 mol) and NMP 385.86 g were charged, and the temperature was raised to 140 ° C. over 1.5 hours. Next, the temperature was maintained and the reaction was allowed to proceed for 1 hour. Thereafter, NMP was further added so that the solid content concentration was 20% by weight and reacted at 140 ° C. for 4 hours to obtain a varnish containing a polyamideimide resin.
A resin composition was obtained by adding 0.8211 g (10 mmol) of 2-methylimidazole (2-Mz) to 500 g of varnish containing the polyamideimide resin (solid content: 100 g). The resin composition was applied on a glass substrate, heated at 80 ° C. for 15 minutes and 150 ° C. for 15 minutes, and then cooled to room temperature to form a resin film precursor. After the resin film precursor was peeled from the glass substrate, the resin film precursor was further heated at 200 ° C. for 15 minutes with the ends of the resin film precursor fixed, to obtain a resin film (thickness 80 μm).

[実施例3]
2−メチルイミダゾールの添加量を0.4105g(5mmol)とした以外は、実施例2と同様にして、樹脂フィルム(厚み80μm)を得た。
[Example 3]
A resin film (thickness 80 μm) was obtained in the same manner as in Example 2 except that the amount of 2-methylimidazole added was 0.4105 g (5 mmol).

[実施例4]
2−メチルイミダゾールの添加量を1.642g(20mmol)とした以外は、実施例2と同様にして、樹脂フィルム(厚み80μm)を得た。
[Example 4]
A resin film (thickness 80 μm) was obtained in the same manner as in Example 2 except that the amount of 2-methylimidazole added was 1.642 g (20 mmol).

[実施例5]
2−メチルイミダゾールの添加量を3.284g(40mmol)とした以外は、実施例2と同様にして、樹脂フィルム(厚み80μm)を得た。
[Example 5]
A resin film (thickness: 80 μm) was obtained in the same manner as in Example 2 except that the amount of 2-methylimidazole added was 3.284 g (40 mmol).

[実施例6]
2−メチルイミダゾール0.8211g(10mmol)に代えて、2−フェニルイミダゾール(2−Pz)1.142g(10mmol)を用いたこと以外は、実施例2と同様にして、樹脂フィルム(厚み80μm)を得た。
[Example 6]
Resin film (thickness: 80 μm) in the same manner as in Example 2 except that 1.142 g (10 mmol) of 2-phenylimidazole (2-Pz) was used instead of 0.8211 g (10 mmol) of 2-methylimidazole. Got.

[実施例7]
2−フェニルイミダゾールの添加量を0.5709g(5mmol)とした以外は、実施例5と同様にして、樹脂フィルム(厚み80μm)を得た。
[Example 7]
A resin film (thickness 80 μm) was obtained in the same manner as in Example 5 except that the amount of 2-phenylimidazole added was 0.5709 g (5 mmol).

[実施例8]
2−フェニルイミダゾールの添加量を2.284g(20mmol)とした以外は、実施例4と同様にして、樹脂フィルム(厚み80μm)を得た。
[Example 8]
A resin film (thickness 80 μm) was obtained in the same manner as in Example 4 except that the amount of 2-phenylimidazole added was 2.284 g (20 mmol).

[比較例1]
2−メチルイミダゾールを加えなかったこと以外は、実施例1と同様にして、樹脂フィルム(厚み80μm)を得た。
[Comparative Example 1]
A resin film (thickness 80 μm) was obtained in the same manner as in Example 1 except that 2-methylimidazole was not added.

[比較例2]
2−メチルイミダゾールを加えなかったこと以外は、実施例2と同様にして、樹脂フィルム(厚み80μm)を得た。
[Comparative Example 2]
A resin film (thickness 80 μm) was obtained in the same manner as in Example 2 except that 2-methylimidazole was not added.

[評価]
実施例1〜8および比較例1〜2で得られた樹脂フィルムを以下の評価に供した。結果を表1に示す。
(1)引張弾性率、破断強度、破断伸び
得られたフィルムをダンベル3号で打ち抜いたものを試験片として用いた。テンシロン万能試験機(東洋ボールドウィン製)を用いて、100mm/分の引張速度で引張弾性率、破断強度、破断伸びを測定した。
(2)耐折性
得られた樹脂フィルムから15mm×110mmの試験片を切り出した。テスター産業社製耐折度試験機を使用し、JIS−P8115(2001)に準じて耐折強さ(MIT耐折強さ)を評価した(荷重:9.8N)。試験開始後、試験片が破断するまでの回数を、耐折回数とした。
(3)分子間イミド結合の量
(i)FT−IR装置、より詳細には、1回反射ATRアクセサリーを備えたFT−IR装置(パーキンエルマー社製、商品名:Spectrum One)を用いて、得られた樹脂フィルムの吸収スペクトルを測定した。測定の際には、ATRアクセサリーのGeクリスタルを覆うようにサンプルを置いた。また、測定は数は、4000cm−1〜650cm−1、波数分解能は4cm−1、積算回数は8回とした。得られた吸収スペクトルを用いて、分子間イミド結合の量を以下の方法で求めた。
(ii)MDI成分由来のベンゼン環のC=C結合ピーク(1563〜1505cm−1付近)のピーク強度(ピーク面積)およびTODI成分由来のベンゼン環のC=C結合ピーク(1497〜1465cm−1付近)のピーク強度(ピーク面積)の平均値を、ピーク強度B(ピーク面積)として求めた。
(iii)ポリアミドイミド樹脂の分子鎖を構成するイミド結合(分子内イミド結合)のC=O結合由来のピーク(1780cm−1付近)のピーク強度I(ピーク面積)を求めた。
(iii)樹脂フィルム中の全イミド結合(すなわち、分子内イミド結合と分子間イミド結合との和)のC=O結合由来のピーク(1380cm−1付近)のピーク強度Iを求めた。
(iv)ピーク強度Bに対するピーク強度Iの比を、分子内イミド結合の量とした。
(v)ピーク強度Bに対するピーク強度Iの比を、樹脂フィルム中の全イミド結合の量とした。
(vi)(全イミド結合の量)−(分子内イミド結合の量)、すなわち、(ピーク強度I/ピーク強度B)−(ピーク強度I/ピーク強度B)から算出される値を、分子間イミド結合の量とした。
[Evaluation]
The resin films obtained in Examples 1 to 8 and Comparative Examples 1 and 2 were subjected to the following evaluation. The results are shown in Table 1.
(1) Tensile elastic modulus, breaking strength, breaking elongation The obtained film was punched with dumbbell No. 3 and used as a test piece. Using a Tensilon universal testing machine (manufactured by Toyo Baldwin), the tensile modulus, breaking strength, and breaking elongation were measured at a tensile speed of 100 mm / min.
(2) Folding resistance A 15 mm × 110 mm test piece was cut out from the obtained resin film. Using a tester industry folding resistance tester, the folding strength (MIT folding strength) was evaluated according to JIS-P8115 (2001) (load: 9.8 N). The number of times until the test piece broke after the start of the test was defined as the number of folding times.
(3) Amount of intermolecular imide bond (i) FT-IR apparatus, more specifically, using an FT-IR apparatus (Perkin Elmer, trade name: Spectrum One) equipped with a one-time reflection ATR accessory, The absorption spectrum of the obtained resin film was measured. At the time of measurement, a sample was placed so as to cover the Ge crystal of the ATR accessory. The number is measured, 4000cm -1 ~650cm -1, wavenumber resolution 4 cm -1, the number of integrations was 8 times. Using the obtained absorption spectrum, the amount of intermolecular imide bond was determined by the following method.
(Ii) MDI component peak intensity (peak area) from the benzene ring C = C bond peak (1563~1505Cm around -1) and TODI component from the benzene ring of the C = C bond peak (1497~1465Cm around -1 ) Peak intensity (peak area) was determined as peak intensity B (peak area).
(Iii) The peak intensity I 1 (peak area) of the peak (near 1780 cm −1 ) derived from the C═O bond of the imide bond (intramolecular imide bond) constituting the molecular chain of the polyamideimide resin was determined.
(Iii) the total imide bonds in the resin film (i.e., the sum of the intramolecular imide bond and intermolecular imide bond) was calculated and the peak intensity I a of C = O bonds derived peak (1380 cm around -1).
(Iv) The ratio of the peak intensity I 1 to the peak intensity B was defined as the amount of intramolecular imide bond.
The (v) the ratio of the peak intensity I a to the peak intensity B, and the amount of total imide bond in the resin film.
(Vi) (amount of total imide bond) − (amount of intramolecular imide bond), that is, a value calculated from (peak intensity I a / peak intensity B) − (peak intensity I 1 / peak intensity B), It was set as the amount of intermolecular imide bonds.

Figure 2015054923
Figure 2015054923

表1から明らかなように、本発明の樹脂組成物は、機械特性のバランスに優れ、特に耐折性に優れる樹脂フィルムを形成し得る。このような効果は、イミダゾール系化合物の含有割合を適切に設定することで、より顕著となる。   As is clear from Table 1, the resin composition of the present invention can form a resin film that is excellent in the balance of mechanical properties and particularly excellent in folding resistance. Such an effect becomes more remarkable by appropriately setting the content ratio of the imidazole compound.

本発明の樹脂組成物は、優れた機械特性を有するフィルムを提供可能である。したがって、優れた機械特性が要求される複写機等で使用される中間転写ベルト、定着用ベルト、搬送用ベルト等に代表されるシームレスベルトに特に好適に用いることができる。   The resin composition of the present invention can provide a film having excellent mechanical properties. Therefore, it can be particularly suitably used for a seamless belt represented by an intermediate transfer belt, a fixing belt, a conveying belt, etc. used in a copying machine or the like that requires excellent mechanical characteristics.

Claims (11)

ポリアミドイミド樹脂とイミダゾール系化合物とを含む、樹脂組成物。   A resin composition comprising a polyamideimide resin and an imidazole compound. 前記イミダゾール系化合物の沸点が200℃以上である、請求項1に記載の樹脂組成物。   The resin composition according to claim 1, wherein the imidazole compound has a boiling point of 200 ° C. or higher. 前記ポリアミドイミド樹脂が、下記(a)および(b−1)〜(b−3)を反応させて得られる、請求項1または2に記載の樹脂組成物:
(a)トリカルボン酸無水物
(b−1)3,3´−ジメチルビフェニル−4,4´−ジイソシアネート
(b−2)末端水酸基をジイソシアネートで変性したポリオール
(b−3)(b−1)以外の芳香族ジイソシアネート
The resin composition according to claim 1 or 2, wherein the polyamideimide resin is obtained by reacting the following (a) and (b-1) to (b-3):
(A) Tricarboxylic acid anhydride (b-1) 3,3′-dimethylbiphenyl-4,4′-diisocyanate (b-2) Polyols whose terminal hydroxyl groups are modified with diisocyanate (b-3) Other than (b-1) Aromatic diisocyanates
前記ポリアミドイミド樹脂が、触媒として環状アミンを用いて重合されたポリアミドイミド樹脂である、請求項1から3のいずれかに記載の樹脂組成物。   The resin composition according to any one of claims 1 to 3, wherein the polyamide-imide resin is a polyamide-imide resin polymerized using a cyclic amine as a catalyst. 前記末端水酸基をジイソシアネートで変性したポリオールが、分岐構造を含むポリエステルポリオールとジイソシアネートとを反応させて得られる、請求項3または4に記載の樹脂組成物。   The resin composition according to claim 3 or 4, wherein the polyol obtained by modifying the terminal hydroxyl group with a diisocyanate is obtained by reacting a polyester polyol containing a branched structure with a diisocyanate. 導電性ポリマーをさらに含む、請求項1から5のいずれかに記載の樹脂組成物。   The resin composition according to claim 1, further comprising a conductive polymer. 前記導電性ポリマーが、導電性ポリアニリンである、請求項6に記載の樹脂組成物。   The resin composition according to claim 6, wherein the conductive polymer is conductive polyaniline. 請求項1から7のいずれかに記載の樹脂組成物を用いて得られ、ポリアミドイミド樹脂とイミダゾール系化合物とを含む、樹脂フィルム。   A resin film obtained using the resin composition according to claim 1 and comprising a polyamideimide resin and an imidazole compound. 請求項8に記載の樹脂フィルムから構成されるシームレスベルト。   A seamless belt comprising the resin film according to claim 8. 酸成分と、ジイソシアネート成分とを反応させてポリアミドイミド樹脂を得る工程と、
該ポリアミドイミド樹脂と、イミダゾール系化合物とを混合して樹脂組成物を調製する工程と、
該樹脂組成物を基材に塗布した後、加熱処理を行う工程とを含む、
樹脂フィルムの製造方法。
A step of reacting an acid component with a diisocyanate component to obtain a polyamideimide resin;
Mixing the polyamideimide resin and an imidazole compound to prepare a resin composition;
And a step of performing a heat treatment after applying the resin composition to a substrate.
A method for producing a resin film.
前記トリカルボン酸無水物を含む酸成分とジイソシアネート成分とを反応させてポリアミドイミド樹脂を得る工程において、触媒として環状アミンを用いる、請求項10に記載の樹脂フィルムの製造方法。

The method for producing a resin film according to claim 10, wherein a cyclic amine is used as a catalyst in the step of obtaining a polyamideimide resin by reacting an acid component containing the tricarboxylic acid anhydride with a diisocyanate component.

JP2013189236A 2013-09-12 2013-09-12 Resin composition, resin film using the same, and method for producing the film Pending JP2015054923A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2013189236A JP2015054923A (en) 2013-09-12 2013-09-12 Resin composition, resin film using the same, and method for producing the film

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2013189236A JP2015054923A (en) 2013-09-12 2013-09-12 Resin composition, resin film using the same, and method for producing the film

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2015054923A true JP2015054923A (en) 2015-03-23

Family

ID=52819552

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2013189236A Pending JP2015054923A (en) 2013-09-12 2013-09-12 Resin composition, resin film using the same, and method for producing the film

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2015054923A (en)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2017183496A1 (en) * 2016-04-22 2017-10-26 昭和電工株式会社 Curable composition, cured film using said composition and overcoat film

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2017183496A1 (en) * 2016-04-22 2017-10-26 昭和電工株式会社 Curable composition, cured film using said composition and overcoat film
CN109071955A (en) * 2016-04-22 2018-12-21 昭和电工株式会社 Solidification compound, the cured film using the composition and outer film
JPWO2017183496A1 (en) * 2016-04-22 2019-02-21 昭和電工株式会社 Curable composition, cured film and overcoat film using the composition

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP5024517B2 (en) Thermosetting polyamide-imide resin composition, cured polyamide-imide resin, insulated wire and molded belt
TWI585156B (en) Polyimide resin composition, film, adhesive and component
JP4345079B2 (en) Heat resistant conductive composition and seamless belt using the same
JP4622584B2 (en) Endless belt for electrophotographic equipment and method for producing the same
CN103509341A (en) Polyamide-imide resin film and seamless belt including the resin film
JP6332615B2 (en) Polyamideimide resin and seamless belt using the same
JP4650129B2 (en) Polyamideimide resin heat-resistant resin composition, seamless tubular body, coating film, coating plate and heat-resistant paint
JP2015054923A (en) Resin composition, resin film using the same, and method for producing the film
EP2065763B1 (en) Semiconductive seamless belt
JP2007099891A (en) Heat-resistant resin composition of polyamideimide resin, and seamless tubular body, coating film, coated plate and heat-resistant coating material using the heat-resistant resin composition
US20140005328A1 (en) Polyamide-imide resin composition, polyamide-imide resin film using the resin composition, and seamless belt including the resin film
JP2016071100A (en) Conductive composition of electrophotographic member, and electrophotographic member
JP2013216856A (en) Polyamideimide resin, and resin composition, resin film and seamless belt using the same
JP2012004102A (en) Method for producing resin film using conductive resin composition
WO2021079670A1 (en) Adhesive composition for flexible printed wiring board, adhesive for flexible printed wiring board, and flexible printed wiring board
KR101443830B1 (en) Endless tubular polyimide film
JP2015054925A (en) Conductive resin composition
JP2005290019A (en) Electroconductive composition and seamless belt using the same
JP2004155947A (en) Manufacturing method of polyamideimide resin
JP2015054924A (en) Conductive resin composition
JP2014101500A (en) Polyamide-imide resin composition
JP5477327B2 (en) Method for producing polyimide resin
JP2004296126A (en) Semiconductive resin molded body
JP2011079965A (en) Heat resistant polyamideimide resin, and seamless tubular body, coating film, coating film plate and heat resistant coating material using the same
JP2022023579A (en) Polyamide-imide solution for belt molding and method of manufacturing polyamide-imide belt