JPWO2017183259A1 - Silicon-containing curable composition and cured product thereof - Google Patents

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Abstract

(A)成分として、SiH基との反応性を有する炭素−炭素二重結合を有する化合物、(B)成分として、SiH基を有するシロキサン化合物、(C)成分として、下記一般式(1)で表されるシラン化合物、(D)成分として、フィラーを含有することを特徴とするケイ素含有硬化性組成物。(式中、R1は水素原子又は炭素原子数1〜4のアルキル基を表し、Aは炭素原子数1〜10のアルカンジイル基を表し、kは2又は3の数を表す。)As the component (A), a compound having a carbon-carbon double bond having reactivity with the SiH group, as the component (B), a siloxane compound having an SiH group, and as the component (C), the following general formula (1) The silicon-containing curable composition characterized by containing a filler as a silane compound and (D) component represented. (In the formula, R1 represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, A represents an alkanediyl group having 1 to 10 carbon atoms, and k represents a number of 2 or 3).

Description

本発明は、ケイ素含有硬化性組成物及びそれを硬化させた硬化物に関する。本発明のケイ素含有硬化性組成物及びその硬化物は、半導体向けの材料、特にLED用等のパッケージやリードフレームに有用である。   The present invention relates to a silicon-containing curable composition and a cured product obtained by curing the same. The silicon-containing curable composition of the present invention and the cured product thereof are useful for materials for semiconductors, particularly for packages such as LEDs and lead frames.

ケイ素含有化合物については、さまざまな研究がなされており、工業的にもシリコーン樹脂に代表されるようにポリシロキサン化合物が古くから利用されている。しかし、シリコーン樹脂は、耐熱性、可撓性に優れてはいるが、アウトガス成分(揮発成分)が多いため、電子部材の製造工程等では汚染問題から使用が制限されていた。
また近年、電子情報分野では、技術の発展に伴い、使用される各種材料にも高度の性能が要求されることから、ケイ素の特長ある性質を生かして耐熱性、物理的・電気的特性に優れた材料が検討されてきている。その中で、ケイ素化合物のヒドロシリル化反応を応用して有用な化合物を製造する技術が多種、検討されている。また、電子情報分野での部材製造工程では、リソグラフィ工程が多用され、高い耐塩基性・耐溶剤性が要求されるようになってきている。そのため、高い耐塩基性・耐溶剤性を保持しつつ、高度の耐熱性、耐クラック性を同時に満足する材料が求められるようになってきている。
これらの要求に対し、種々のケイ素含有硬化性組成物が提案されている(例えば特許文献1〜7等参照)。
Various studies have been made on silicon-containing compounds, and polysiloxane compounds have been used for a long time as represented by silicone resins in industry. However, although the silicone resin is excellent in heat resistance and flexibility, its use is restricted due to contamination problems in the manufacturing process of the electronic member and the like because there are many outgas components (volatile components).
In recent years, in the field of electronic information, with the development of technology, various materials used require high performance. Therefore, taking advantage of the unique properties of silicon, it excels in heat resistance and physical and electrical characteristics. Materials have been studied. Among them, various techniques for producing useful compounds by applying hydrosilylation reaction of silicon compounds have been studied. In addition, in the member manufacturing process in the field of electronic information, a lithography process is frequently used, and high base resistance and solvent resistance have been demanded. For this reason, there has been a demand for a material that satisfies both high heat resistance and crack resistance while maintaining high base resistance and solvent resistance.
In response to these requirements, various silicon-containing curable compositions have been proposed (see, for example, Patent Documents 1 to 7).

しかしながら、これらに提案された技術は、個々の特徴をそれぞれ有するが、最近の電子情報分野での材料に要求される、耐熱性、耐光性、耐クラック性、着色性、接着性等の点で満足のいくものではなかった。なかでも、銀基体や銅基体等への密着性が悪いことが大きな問題となっていた。   However, these proposed technologies have individual characteristics, but they are required for materials in the recent electronic information field in terms of heat resistance, light resistance, crack resistance, colorability, adhesiveness, etc. It was not satisfactory. Among them, a serious problem is that adhesion to a silver substrate or a copper substrate is poor.

米国特許第5645941号明細書US Pat. No. 5,645,941 特開平8−73743号公報JP-A-8-73743 特開2004−107577号公報JP 2004-107577 A 特開2005−68295号公報JP 2005-68295 A 米国特許出願公開第2009/012256号明細書US Patent Application Publication No. 2009/012256 特開2007−332259号公報JP 2007-332259 A 特開2009−120732号公報JP 2009-120732 A

従って、本発明の目的は、銀基体や銅基体への密着性に優れ電気・電子材料等に有用な硬化物を製造することができるケイ素含有硬化性組成物を提供することにある。   Accordingly, an object of the present invention is to provide a silicon-containing curable composition that has excellent adhesion to a silver substrate or a copper substrate and can produce a cured product useful for an electric / electronic material.

本発明者らは、特定のケイ素含有化合物の構造とプレポリマーに着目して上記課題を解決すべく鋭意検討した結果、本発明を完成するに至った。   The inventors of the present invention have intensively studied to solve the above problems by paying attention to the structure and prepolymer of a specific silicon-containing compound, and as a result, the present invention has been completed.

即ち、本発明は、
(A)成分として、SiH基との反応性を有する炭素−炭素二重結合を有する化合物、
(B)成分として、SiH基を有するシロキサン化合物、
(C)成分として、下記一般式(1)で表されるシラン化合物、
(D)成分として、フィラー
を含有することを特徴とするケイ素含有硬化性組成物を提供するものである。
That is, the present invention
As the component (A), a compound having a carbon-carbon double bond having reactivity with the SiH group,
(B) As a component, a siloxane compound having a SiH group,
As the component (C), a silane compound represented by the following general formula (1),
(D) The silicon-containing curable composition characterized by containing a filler as a component is provided.

(式中、Rは水素原子又は炭素原子数1〜4のアルキル基を表し、Aは炭素原子数1〜10のアルカンジイル基を表し、kは2又は3の数を表す。) (In the formula, R 1 represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, A represents an alkanediyl group having 1 to 10 carbon atoms, and k represents a number of 2 or 3).

また、本発明は、上記ケイ素含有硬化性組成物を加熱することを含む、上記ケイ素含有硬化性組成物を硬化させる方法を提供するものである。   Moreover, this invention provides the method of hardening the said silicon-containing curable composition including heating the said silicon-containing curable composition.

また、本発明は、上記ケイ素含有硬化性組成物を硬化させてなる硬化物を提供するものである。   The present invention also provides a cured product obtained by curing the silicon-containing curable composition.

以下、本発明のケイ素含有硬化性組成物及びそれを硬化させてなる硬化物について詳細に説明する。   Hereinafter, the silicon-containing curable composition of the present invention and a cured product obtained by curing the same will be described in detail.

本発明のケイ素含有硬化性組成物において、(A)成分はSiH基との反応性を有する炭素−炭素二重結合を有する化合物である。SiH基との反応性を有する炭素−炭素二重結合の結合位置は特に限定されず、分子内の何れの位置も可能である。SiH基との反応性を有する炭素−炭素二重結合としては、特に限定されるものではないが、例えば、下記一般式(2)で表される基及び下記一般式(3)で表される脂環を形成する基を挙げることができる。下記一般式(3)で表される脂環を形成する基を用いると、硬化物の耐熱性が高くなるため好ましい。   In the silicon-containing curable composition of the present invention, the component (A) is a compound having a carbon-carbon double bond having reactivity with a SiH group. The bonding position of the carbon-carbon double bond having reactivity with the SiH group is not particularly limited, and any position in the molecule is possible. Although it does not specifically limit as a carbon-carbon double bond which has the reactivity with SiH group, For example, it represents with the group represented by following General formula (2), and following General formula (3) The group which forms an alicyclic ring can be mentioned. Use of a group that forms an alicyclic ring represented by the following general formula (3) is preferable because the heat resistance of the cured product is increased.

(式中、Lは水素又はメチル基を表し、*は結合手を表す。) (In the formula, L 1 represents hydrogen or a methyl group, and * represents a bond.)

(式中、Lは水素又はメチル基を表し、*は結合手を表す。) (In the formula, L 2 represents hydrogen or a methyl group, and * represents a bond.)

一般式(2)で表される基の中でも、Lが水素であるものは反応性が良好なことから特に好ましい。Among the groups represented by the general formula (2), those in which L 1 is hydrogen are particularly preferable because of good reactivity.

一般式(3)で表される脂環を形成する基の中でも、Lが水素であるものは反応性が良好なことから特に好ましい。Among the groups forming the alicyclic ring represented by the general formula (3), those in which L 2 is hydrogen are particularly preferable because of good reactivity.

上記SiH基との反応性を有する炭素−炭素二重結合を有する化合物としては、SiH基との反応性を有する炭素−炭素二重結合を有する有機化合物(以下、(A−α)と略す場合がある)やSiH基との反応性を有する炭素−炭素二重結合を有するシリコーン化合物(以下、(A−β)と略す場合がある)を好ましく使用できる化合物として挙げることができる。(A−α)は1種の化合物のみを用いることもできるし、異なる構造を有する複数種の化合物を用いることもできる。(A−β)は1種の化合物のみを用いることもできるし、異なる構造を有する複数種の化合物を用いることもできる。また、(A−α)及び(A−β)は混合して使用することもできる。   The compound having a carbon-carbon double bond having reactivity with the SiH group is an organic compound having a carbon-carbon double bond having reactivity with the SiH group (hereinafter abbreviated as (A-α)). And a silicone compound having a carbon-carbon double bond having reactivity with the SiH group (hereinafter sometimes abbreviated as (A-β)) can be mentioned as a preferred compound. As (A-α), only one type of compound can be used, or a plurality of types of compounds having different structures can be used. As (A-β), only one type of compound can be used, or a plurality of types of compounds having different structures can be used. In addition, (A-α) and (A-β) can be used in combination.

上記(A−α)は、SiH基との反応性を有する炭素−炭素二重結合を有する有機化合物であればよく、特に限定されないが、構成元素として、C、H、N、O、S及びハロゲン以外の元素を含まない有機化合物が好ましい。特に好ましい(A−α)としては、トリメタリルイソシアヌレート、トリアリルイソシアヌレートを挙げることができる。これらは、タイク及びタイク誘導品(日本化成株式会社製)として市販されており、これらの市販品を本発明において(A−α)として使用することができる。   The (A-α) is not particularly limited as long as it is an organic compound having a carbon-carbon double bond that is reactive with a SiH group, but as constituent elements, C, H, N, O, S and Organic compounds containing no elements other than halogen are preferred. Particularly preferred (A-α) includes trimethallyl isocyanurate and triallyl isocyanurate. These are marketed as a tie and a tie derivative (manufactured by Nippon Kasei Co., Ltd.), and these commercially available products can be used as (A-α) in the present invention.

上記(A−β)は、SiH基との反応性を有する炭素−炭素二重結合を有するシリコーン化合物であればよく、特に限定されないが、例えば、下記一般式(4)で表されるユニットを含有するケイ素含有重合体を挙げることができる。   The (A-β) is not particularly limited as long as it is a silicone compound having a carbon-carbon double bond having reactivity with the SiH group. For example, a unit represented by the following general formula (4) Examples thereof include silicon-containing polymers.

(式中、Rは炭素原子数2〜6のアルケニル基を表し、*は結合手を表す。) (In the formula, R 2 represents an alkenyl group having 2 to 6 carbon atoms, and * represents a bond.)

上記一般式(4)におけるRで表される炭素原子数2〜6のアルケニル基としては、ビニル基、2−プロペニル基、3−ブテニル基等が挙げられる。Rは、反応性の点から、ビニル基であることが好ましい。Examples of the alkenyl group having 2 to 6 carbon atoms represented by R 2 in the general formula (4) include a vinyl group, a 2-propenyl group, and a 3-butenyl group. R 2 is preferably a vinyl group from the viewpoint of reactivity.

上記一般式(4)で表されるユニットを含有するケイ素含有重合体は、例えば、下記一般式(A−1)で表されるオルガノシランの1種以上のみを加水分解・縮合すること、又は下記一般式(A−1)で表されるオルガノシランの1種以上と、下記一般式(A−2)で表されるオルガノシラン及び下記一般式(A−3)で表されるオルガノシランから選ばれる少なくとも1種のオルガノシランとを含む混合物を加水分解・縮合することで製造することができる。   The silicon-containing polymer containing a unit represented by the general formula (4) is, for example, hydrolyzing / condensing only one or more types of organosilanes represented by the following general formula (A-1), or From one or more types of organosilane represented by the following general formula (A-1), an organosilane represented by the following general formula (A-2), and an organosilane represented by the following general formula (A-3) It can be produced by hydrolyzing and condensing a mixture containing at least one selected organosilane.

(式中、Rは炭素原子数2〜6のアルケニル基を表し、R、R及びRはそれぞれ独立に水素原子又は炭化水素基を表し、Xは水酸基、炭素原子数1〜6のアルコキシ基又はハロゲン原子を表す。) (In the formula, R 3 represents an alkenyl group having 2 to 6 carbon atoms, R 4 , R 5 and R 6 each independently represents a hydrogen atom or a hydrocarbon group, and X 1 represents a hydroxyl group and 1 to 1 carbon atoms. 6 represents an alkoxy group or a halogen atom.)

上記一般式(A−1)においてRで表される炭素原子数2〜6のアルケニル基としては、ビニル基、2−プロペニル基、3−ブテニル基等が挙げられる。Rは、反応性の点から、ビニル基であることが好ましい。Examples of the alkenyl group having 2 to 6 carbon atoms represented by R 3 in the general formula (A-1) include a vinyl group, a 2-propenyl group, and a 3-butenyl group. R 3 is preferably a vinyl group from the viewpoint of reactivity.

上記一般式(A−2)及び上記一般式(A−3)において、R、R及びRで表される炭化水素基としては、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基等の脂肪族炭化水素基、シクロアルキル基等の脂環族炭化水素基、アリール基、アリールアルキル基等の芳香族炭化水素基が挙げられる。炭化水素基としては炭素原子数1〜10のものが好ましい。In the general formula (A-2) and the general formula (A-3), examples of the hydrocarbon group represented by R 4 , R 5, and R 6 include aliphatic carbon such as an alkyl group, an alkenyl group, and an alkynyl group. Examples thereof include alicyclic hydrocarbon groups such as hydrogen groups and cycloalkyl groups, and aromatic hydrocarbon groups such as aryl groups and arylalkyl groups. As the hydrocarbon group, those having 1 to 10 carbon atoms are preferable.

また、上記一般式(A−1)、上記一般式(A−2)及び上記一般式(A−3)において、Xで表される炭素原子数1〜6のアルコキシ基としては、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基等が挙げられ、Xで表されるハロゲン原子としては、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等が挙げられる。Xは、反応性の点から、メトキシ基又はエトキシ基であることが好ましい。
尚、上記一般式(A−1)〜(A−3)におけるそれぞれのXは、互いに同一である場合もあり、異なる場合もある。
In the general formula (A-1), the general formula (A-2), and the general formula (A-3), the alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms represented by X 1 is a methoxy group. , An ethoxy group, a propoxy group, a butoxy group, and the like. Examples of the halogen atom represented by X 1 include a chlorine atom, a bromine atom, and an iodine atom. X 1 is preferably a methoxy group or an ethoxy group from the viewpoint of reactivity.
Incidentally, each of X 1 in formula (A-1) ~ (A -3) can sometimes be identical to each other, it may be different.

これらのなかでも、上記一般式(A−1)で表されるオルガノシラン(以下、(a)と略す場合がある)の1種以上5〜50モル%、下記一般式(A−4)で表されるオルガノシラン(以下、(b)と略す場合がある)の1種以上0〜50モル%、下記一般式(A−5)で表されるオルガノシラン(以下、(c)と略す場合がある)の1種以上0〜40モル%、下記一般式(A−6)で表されるオルガノシラン(以下、(d)と略す場合がある)の1種以上0〜50モル%及び下記一般式(A−7)で表されるオルガノシラン(以下、(e)と略す場合がある)の1種以上0〜40モル%からなり、オルガノシラン(b)とオルガノシラン(c)との和が5〜60モル%であるオルガノシラン混合物を、加水分解・縮合することにより得られるケイ素含有重合体を用いることが、特に好ましい。   Among these, 1 to 5 mol% of organosilanes represented by the above general formula (A-1) (hereinafter sometimes abbreviated as (a)), and the following general formula (A-4) One or more types of organosilanes represented by the following formula (A-5) (hereinafter abbreviated as (c)) 1) or more of 0 to 40 mol%, organosilane represented by the following general formula (A-6) (hereinafter sometimes abbreviated as (d)) of 0 to 50 mol% and It consists of one or more kinds of organosilanes represented by the general formula (A-7) (hereinafter sometimes abbreviated as (e)) in an amount of 0 to 40 mol%, and consists of organosilane (b) and organosilane (c). It is obtained by hydrolyzing and condensing an organosilane mixture whose sum is 5 to 60 mol%. It is particularly preferable to use a silicon-containing polymer.

(式中、Rは水素原子又は炭素原子数1〜6のアルキル基を表し、R及びRはそれぞれ独立に、水素原子、炭素原子数1〜6のアルキル基、炭素原子数2〜6のアルケニル基、又は炭素原子数1〜6のアルキル基で置換されている場合もあるフェニル基を表し、R、R及びRのうちの少なくとも1つはメチル基であり、R10は炭素原子数1〜6のアルキル基で置換されていている場合もあるフェニル基を表し、R11は、炭素原子数2〜10のエポキシ基を表し、Xは水酸基、炭素原子数1〜6のアルコキシ基又はハロゲン原子を表す。) (Wherein R 7 represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, and R 8 and R 9 each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, or 2 to 2 carbon atoms. 6 alkenyl group, or an also phenyl group when substituted with an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, at least one of R 7, R 8 and R 9 are methyl groups, R 10 Represents a phenyl group which may be substituted with an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, R 11 represents an epoxy group having 2 to 10 carbon atoms, X 2 represents a hydroxyl group, and 1 to 1 carbon atoms. 6 represents an alkoxy group or a halogen atom.)

上記一般式(A−4)において、Rで表される炭素原子数1〜6のアルキル基は、直鎖、分岐、環状の何れも可能であり、具体例としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、s−ブチル基、t−ブチル基、イソブチル基、アミル基、イソアミル基、t−アミル基、へキシル基、シクロへキシル基等が挙げられる。Rは、反応性の点から、メチル基であることが好ましい。In the general formula (A-4), the alkyl group having 1 to 6 carbon atoms represented by R 7 can be linear, branched or cyclic, and specific examples thereof include a methyl group and an ethyl group. Propyl group, isopropyl group, butyl group, s-butyl group, t-butyl group, isobutyl group, amyl group, isoamyl group, t-amyl group, hexyl group, cyclohexyl group and the like. R 7 is preferably a methyl group from the viewpoint of reactivity.

上記一般式(A−5)において、R及びRで表される炭素原子数1〜6のアルキル基、並びにR及びRで表されるフェニル基を置換する場合もある炭素原子数1〜6のアルキル基としては、上記Rで表されるものとして挙げたものと同様のものが挙げられる。R及びRで表される炭素原子数2〜6のアルケニル基としては、上記Rで表されるものとして挙げたものと同様のものが挙げられる。R及びRは、工業的入手性の点から、メチル基、置換されていないフェニル基であることが好ましく、メチル基であることが特に好ましい。
上記一般式(A−6)において、R10で表されるフェニル基を置換する場合もある炭素原子数1〜6のアルキル基としては、上記Rで表されるものとして挙げたものと同様のものが挙げられる。R10は、工業的入手性の点から、置換されていないフェニル基であることが好ましい。
In formula (A-5), an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms represented by R 8 and R 9, as well as the number of carbon atoms, sometimes substituted phenyl group represented by R 8 and R 9 Examples of the alkyl group of 1 to 6 include the same groups as those described above for R 7 . Examples of the alkenyl group having 2 to 6 carbon atoms represented by R 8 and R 9 include the same alkenyl groups as those represented by R 3 above. R 8 and R 9 are preferably a methyl group or an unsubstituted phenyl group, and particularly preferably a methyl group, from the viewpoint of industrial availability.
In the general formula (A-6), the alkyl group having 1 to 6 carbon atoms that may substitute the phenyl group represented by R 10 is the same as those exemplified as those represented by R 7. Can be mentioned. R 10 is preferably an unsubstituted phenyl group from the viewpoint of industrial availability.

上記一般式(A−7)において、R11で表される炭素原子数2〜10のエポキシ基は、三員環の環状エーテルを有する置換基であり、例えば、エポキシエチル基、グリシジル基、2,3−エポキシブチル基、3,4−エポキシブチル基、エポキシエチルフェニル基、4−エポキシエチルフェニルエチル基、3,4−エポキシシクロヘキシル基、2−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチル基、2,3−エポキシノルボルニルエチル基等が挙げられる。R11は、異種材料への密着性付与の点から、グリシジル基、3,4−エポキシシクロヘキシル基又は2−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチル基であることが好ましい。In the general formula (A-7), the epoxy group having 2 to 10 carbon atoms represented by R 11 is a substituent having a three-membered cyclic ether, such as an epoxyethyl group, a glycidyl group, 2 , 3-epoxybutyl group, 3,4-epoxybutyl group, epoxyethylphenyl group, 4-epoxyethylphenylethyl group, 3,4-epoxycyclohexyl group, 2- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyl group, 2 , 3-epoxynorbornylethyl group and the like. R 11 is preferably a glycidyl group, a 3,4-epoxycyclohexyl group, or a 2- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyl group from the viewpoint of imparting adhesion to different materials.

上記一般式(A−4)〜(A−7)において、Xで表される炭素原子数1〜6のアルコキシ基としては、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基等が挙げられ、Xで表されるハロゲン原子としては、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等が挙げられる。Xは、反応性の点から、メトキシ基又はエトキシ基であることが好ましい。尚、上記一般式(A−1)におけるX及び上記一般式(A−4)〜(A−7)におけるそれぞれのXは、互いに同一である場合もあり、異なっている場合もある。In the general formulas (A-4) to (A-7), examples of the alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms represented by X 2 include a methoxy group, an ethoxy group, a propoxy group, and a butoxy group. Examples of the halogen atom represented by X 2 include a chlorine atom, a bromine atom, and an iodine atom. X 2 is preferably a methoxy group or an ethoxy group from the viewpoint of reactivity. Incidentally, X 1 and the general formula in formula (A-1) (A- 4) ~ each X 2 in (A-7) may, in some cases the same as each other or may be different.

上記5成分として、X及びXが全て炭素原子数1〜6のアルコキシ基であるもの(アルコキシシラン)を用いる場合、アルコキシシランの加水分解・縮合反応は、いわゆるゾル・ゲル反応を行えばよく、該ゾル・ゲル反応としては、無溶媒又は溶媒中で、酸又は塩基等の触媒で加水分解・縮合反応を行う方法が挙げられる。ここで用いる溶媒は、特に限定されず、具体的には、水、メタノール、エタノール、n−プロパノール、イソプロパノール、n−ブタノール、イソブタノール、t−ブタノール、アセトン、メチルエチルケトン、ジオキサン、テトラヒドロフラン、トルエン等が挙げられ、これらの1種を用いることも、2種以上を混合して用いることもできる。When X 1 and X 2 are all alkoxy groups having 1 to 6 carbon atoms (alkoxysilane) as the above five components, the hydrolysis / condensation reaction of alkoxysilane is carried out by performing a so-called sol-gel reaction. Often, the sol-gel reaction includes a method of performing a hydrolysis / condensation reaction with a catalyst such as an acid or a base in the absence of a solvent or in a solvent. The solvent used here is not particularly limited. Specifically, water, methanol, ethanol, n-propanol, isopropanol, n-butanol, isobutanol, t-butanol, acetone, methyl ethyl ketone, dioxane, tetrahydrofuran, toluene and the like can be used. 1 type of these can be used, and 2 or more types can also be mixed and used.

上記アルコキシシランの加水分解・縮合反応は、アルコキシシランが、水による加水分解によりシラノール基(Si−OH)を生成し、この生成したシラノール基同士又はシラノール基とアルコキシ基が縮合することにより進む。この反応を進ませるためには、適量の水を加えることが好ましく、水は溶媒中に加えることができ、又は触媒を水に溶解して加えることもできる。尚、加水分解・縮合反応は、空気中の水分、又は溶媒中に含まれる微量の水分によっても進む。   The hydrolysis / condensation reaction of the alkoxysilane proceeds when the alkoxysilane generates silanol groups (Si—OH) by hydrolysis with water, and the generated silanol groups or silanol groups and alkoxy groups condense. In order to advance this reaction, it is preferable to add an appropriate amount of water, which can be added to the solvent, or the catalyst can be added by dissolving it in water. The hydrolysis / condensation reaction proceeds even with moisture in the air or a trace amount of moisture contained in the solvent.

上記加水分解・縮合反応で用いられる酸、塩基等の触媒は、加水分解・縮合反応を促進するものであれば特に限定されず、具体的には、塩酸、リン酸、硫酸等の無機酸類;酢酸、シュウ酸、p−トルエンスルホン酸、リン酸モノイソプロピル等の有機酸類;水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化リチウム、アンモニア等の無機塩基類;トリメチルアミン、トリエチルアミン、モノエタノールアミン、ジエタノールアミン等のアミン化合物類;テトライソプロピルチタネート、テトラブチルチタネート等のチタンエステル類;ジブチル錫ラウレート、オクチル酸錫等の錫カルボン酸塩類;トリフルオロボロン等のホウ素化合物類;鉄、コバルト、マンガン、亜鉛等の金属の塩化物やナフテン酸塩又はオクチル酸塩等の金属カルボン酸塩類;アルミニウムトリスアセチルアセテート等のアルミニウム化合物等が挙げられ、これらの1種を用いることも、2種以上を併用することもできる。   The catalyst such as acid and base used in the hydrolysis / condensation reaction is not particularly limited as long as it promotes the hydrolysis / condensation reaction, and specifically, inorganic acids such as hydrochloric acid, phosphoric acid, sulfuric acid; Organic acids such as acetic acid, oxalic acid, p-toluenesulfonic acid, monoisopropyl phosphate; inorganic bases such as sodium hydroxide, potassium hydroxide, lithium hydroxide, ammonia; trimethylamine, triethylamine, monoethanolamine, diethanolamine, etc. Amine compounds; titanium esters such as tetraisopropyl titanate and tetrabutyl titanate; tin carboxylates such as dibutyltin laurate and tin octylate; boron compounds such as trifluoroboron; metals such as iron, cobalt, manganese and zinc Metal carboxylates such as chlorides, naphthenates or octylates Aluminum compounds such as aluminum tris acetylacetonate and the like, also the use of these one may be used in combination of two or more.

上記アルコキシシランの加水分解・縮合反応としては、塩基触媒を加えて塩基性下(pH7以上)で重縮合反応を行う方法が好ましい例として挙げられる。また、酸触媒を加えて、酸性下(pH7以下)で、加水分解及び脱水重縮合を行うこともできる。   A preferred example of the hydrolysis / condensation reaction of the alkoxysilane is a method in which a base catalyst is added and a polycondensation reaction is performed under basic conditions (pH 7 or more). In addition, hydrolysis and dehydration polycondensation can be performed under the acidic condition (pH 7 or less) by adding an acid catalyst.

尚、上記加水分解・縮合反応を行うときには、反応系を撹拌することが好ましく、また40〜150℃に加熱することで反応を促進することができる。   In addition, when performing the said hydrolysis and condensation reaction, it is preferable to stir a reaction system, and reaction can be accelerated | stimulated by heating at 40-150 degreeC.

上記加水分解・縮合反応の順序は特に限定されず、例えば、アルケニル基を有するアルコキシシラン(RSi(X3)と他のアルコキシシラン(RSi(X3、RSi(X2、R10Si(X3、R11Si(X3)とを両者混合して加水分解・縮合反応を行うことができ、これらの5成分のうちの1種類のアルコキシシラン単独である程度加水分解・縮合反応を行った後、他のアルコキシシランを加えて更に加水分解・縮合反応を行うこともできる。The order of the hydrolysis / condensation reaction is not particularly limited. For example, an alkoxysilane having an alkenyl group (R 3 Si (X 1 ) 3 ) and another alkoxysilane (R 7 Si (X 2 ) 3 , R 8 R 9 Si (X 2 ) 2 , R 10 Si (X 2 ) 3 , R 11 Si (X 2 ) 3 ) can be mixed together to carry out a hydrolysis / condensation reaction. It is also possible to carry out hydrolysis / condensation reaction to some extent by using one kind of alkoxysilane alone, and further adding other alkoxysilane to carry out hydrolysis / condensation reaction.

上記5成分として、X又はXが水酸基であるものと、X又はXがアルコキシ基であるものを併用することもでき、この場合、X及びXが水酸基であるものは加水分解を行わずに用いることができる。As the 5 components, as X 1 or X 2 is a hydroxyl group, X 1 or X 2 can be used in combination as an alkoxy group, in this case, hydrolysis is one X 1 and X 2 is a hydroxyl group It can be used without decomposition.

クロロシラン等のハロゲノシラン(上記5成分のX及びXがハロゲン原子であるもの)を使用する場合も、アルコキシシランの場合と同様に加水分解・縮合反応を行なうことができる。When using halogenosilanes such as chlorosilane (wherein the above five components X 1 and X 2 are halogen atoms), hydrolysis / condensation reaction can be carried out in the same manner as in the case of alkoxysilane.

上記加水分解・縮合反応が終了した反応系から、生成したケイ素含有重合体を得るためには、反応溶媒、水、触媒を除去すればよく、例えば、トルエン等の溶媒を加えて溶媒抽出後、抽出溶媒を窒素気流下で減圧留去すればよい。   In order to obtain the produced silicon-containing polymer from the reaction system in which the hydrolysis / condensation reaction is completed, the reaction solvent, water, and catalyst may be removed. For example, after solvent extraction by adding a solvent such as toluene, The extraction solvent may be distilled off under reduced pressure under a nitrogen stream.

上記オルガノシラン混合物中、オルガノシラン(a)は、硬化時の架橋密度の制御の点から、10〜40モル%であることが好ましい。
オルガノシラン(b)及び(c)は、オルガノシラン(b)とオルガノシラン(c)との和が5〜60モル%である限り、何れか一方の成分を用いないことも可能であるが、オルガノシラン(b)は、硬化時の架橋密度の制御の点から、20〜40モル%であることが好ましく、オルガノシラン(c)は、樹脂への可撓性付与の点から、10〜25モル%であることが好ましい。
オルガノシラン(d)は、用いないことも可能であるが、樹脂溶融温度の制御の点から、5〜45モル%であることが好ましい。オルガノシラン(e)は、用いないことも可能であるが、異種材料への密着性付与の点から、5〜25モル%であることが好ましい。
また、オルガノシラン(b)とオルガノシラン(c)との和は、硬化時の架橋密度の制御の点から、25〜55モル%であることが好ましい。
また、上記オルガノシラン混合物に含まれるオルガノシランは、ケイ素含有重合体の分子量制御の点から、オルガノシラン(a)、(b)、(c)、(d)及び(e)の5成分のみであることが好ましい。
In the organosilane mixture, the organosilane (a) is preferably 10 to 40 mol% from the viewpoint of controlling the crosslinking density during curing.
As long as the sum of organosilane (b) and organosilane (c) is 5 to 60 mol%, either one of the components can be used as organosilane (b) and (c). The organosilane (b) is preferably 20 to 40 mol% from the viewpoint of controlling the crosslinking density at the time of curing, and the organosilane (c) is preferably 10 to 25 from the viewpoint of imparting flexibility to the resin. It is preferable that it is mol%.
The organosilane (d) can be omitted, but is preferably 5 to 45 mol% from the viewpoint of controlling the resin melting temperature. The organosilane (e) may be not used, but is preferably 5 to 25 mol% from the viewpoint of imparting adhesion to different materials.
Moreover, it is preferable that the sum of organosilane (b) and organosilane (c) is 25-55 mol% from the point of control of the crosslinking density at the time of hardening.
The organosilane contained in the organosilane mixture is composed of only five components of organosilanes (a), (b), (c), (d) and (e) from the viewpoint of controlling the molecular weight of the silicon-containing polymer. Preferably there is.

上記一般式(4)で表されるユニットを含有するケイ素含有重合体においては、例えば、オルガノシラン(a)、(b)、(c)、(d)及び(e)それぞれに由来する(RSiO3/2)、(RSiO3/2)、(RSiO)、(R10SiO3/2)及び(R11SiO3/2)で表される5種の構成ユニットが、ランダムに二次元・三次元につながっており、それぞれの末端はOH基、X及びXの何れかになっている。X及びXは、オルガノシラン(a)、(b)、(c)、(d)又は(e)に由来する基である。
尚、上記(RSiO3/2)には(RSiX’O2/2)も含むものとし、上記(RSiO3/2)には(RSiX’O2/2)も含むものとし、上記(R10SiO3/2)には(R10SiX’O2/2)も含むものとし、上記(R11SiO3/2)には(R11SiX’O2/2)も含むものとする。X’は、オルガノシラン(a)、(b)、(d)及び(e)それぞれに含まれていたX及びXと同じであるか、OH基を表す。
In the silicon-containing polymer containing the unit represented by the general formula (4), for example, it is derived from each of the organosilanes (a), (b), (c), (d) and (e) (R 3 SiO 3/2 ), (R 7 SiO 3/2 ), (R 8 R 9 SiO), (R 10 SiO 3/2 ) and (R 11 SiO 3/2 ) Are connected in two dimensions or three dimensions at random, and each terminal is an OH group, X 1 or X 2 . X 1 and X 2 are groups derived from organosilane (a), (b), (c), (d) or (e).
The (R 3 SiO 3/2 ) includes (R 3 SiX′O 2/2 ), and the (R 7 SiO 3/2 ) includes (R 7 SiX′O 2/2 ). (R 10 SiO 3/2 ) includes (R 10 SiX′O 2/2 ), and (R 11 SiO 3/2 ) includes (R 11 SiX′O 2/2 ). Shall be. X ′ is the same as X 1 and X 2 contained in each of the organosilanes (a), (b), (d) and (e), or represents an OH group.

上記一般式(4)で表されるユニットを含有するケイ素含有重合体のなかでも、全有機成分(ケイ素を除く成分)中のフェニル基の割合が、50質量%以下、特に40質量%以下であるものが好ましく、メチル基の割合が、85質量%以下、特に70質量%以下の範囲内であるものが好ましい。フェニル基の割合が多いとケイ素含有重合体の融点が高くなり成形時の温度で溶融しにくくなり、成形時に硬化物(重合物)の分子量を大きくすることが困難となる。そのため、フェニル基の割合が少なく、メチル基の割合が多いことが好ましく、フェニル基の割合とメチル基の割合の比(前者:後者)が、30:50〜30:80であることがより好ましい。   Among the silicon-containing polymers containing the unit represented by the general formula (4), the proportion of phenyl groups in all organic components (components excluding silicon) is 50% by mass or less, particularly 40% by mass or less. Some are preferable, and those having a methyl group ratio of 85% by mass or less, particularly 70% by mass or less are preferable. When the proportion of the phenyl group is large, the melting point of the silicon-containing polymer becomes high and it is difficult to melt at the molding temperature, and it becomes difficult to increase the molecular weight of the cured product (polymer) at the time of molding. Therefore, it is preferable that the ratio of the phenyl group is small and the ratio of the methyl group is large, and the ratio of the ratio of the phenyl group to the ratio of the methyl group (the former: the latter) is more preferably 30:50 to 30:80. .

上記一般式(4)で表されるユニットを含有するケイ素含有重合体のなかでも、重量平均分子量がポリスチレン換算で300〜100,000であるケイ素含有重合体が好ましく、重量平均分子量は、より好ましくは800〜50,000の範囲内である。ここで、ケイ素含有重合体の重量平均分子量が300より小さいと、熱安定性が悪くなる場合があり、100,000より大きいと、トランスファー成形における処理温度で溶融しない場合があったり、溶融しても高粘度で樹脂の流動性が低く、成形性が低下する場合がある。   Among the silicon-containing polymers containing the unit represented by the general formula (4), a silicon-containing polymer having a weight average molecular weight of 300 to 100,000 in terms of polystyrene is preferable, and a weight average molecular weight is more preferable. Is in the range of 800 to 50,000. Here, if the weight average molecular weight of the silicon-containing polymer is smaller than 300, the thermal stability may be deteriorated. If it is larger than 100,000, the silicon-containing polymer may not melt at the processing temperature in transfer molding, or may melt. However, the viscosity of the resin is low and the fluidity of the resin is low, and the moldability may be reduced.

上記一般式(4)で表されるユニットを含有するケイ素含有重合体は、変性して用いることもできる。上記ケイ素含有重合体に施す変性としては、特に制限されず、シリコーン樹脂を反応性シリコーン樹脂とするために行うことができる各種変性が可能であり、より具体的には、アミノ変性、エポキシ変性、カルボキシ変性、カルビノール変性、メタクリル変性、メルカプト変性、フェノール変性等を常法により行うことができる。   The silicon-containing polymer containing the unit represented by the general formula (4) can be modified and used. The modification applied to the silicon-containing polymer is not particularly limited, and various modifications that can be performed to make the silicone resin a reactive silicone resin are possible. More specifically, amino modification, epoxy modification, Carboxyl modification, carbinol modification, methacryl modification, mercapto modification, phenol modification and the like can be carried out by conventional methods.

以上に詳述した上記一般式(4)で表されるユニットを含有するケイ素含有重合体は、1種のみで又は2種以上の混合物として使用することができる。   The silicon-containing polymer containing the unit represented by the general formula (4) described in detail above can be used alone or as a mixture of two or more.

また、上記(A−β)として好ましく用いることができるシリコーン化合物としては、例えば、Si−H基との反応性を有する炭素−炭素二重結合を1分子中に1個以上含有するシロキサン化合物を挙げることができる。該シロキサン化合物としては、Si−H基との反応性を有する炭素−炭素二重結合を1分子中に1個以上含有するシロキサン化合物であればよく、特に限定されるものではないが、例えば、直鎖状、環状、分岐状、部分ネットワークを有するもの等、種々のものを用いることができる。これらのなかでも、Si−H基との反応性を有する炭素−炭素二重結合を1分子中に2個以上含有するシロキサン化合物が好ましく、Si−H基との反応性を有する炭素−炭素二重結合を1分子中に2個以上含有する直鎖状シロキサン化合物又はSi−H基との反応性を有する炭素−炭素二重結合を1分子中に2個以上含有する環状シロキサン化合物を用いた場合には、より密着力の高いケイ素含有硬化性組成物が得られることから特に好ましい。   Moreover, as a silicone compound which can be preferably used as said (A- (beta)), the siloxane compound which contains one or more carbon-carbon double bonds which have reactivity with Si-H group in 1 molecule is mentioned, for example. Can be mentioned. The siloxane compound is not particularly limited as long as it is a siloxane compound containing at least one carbon-carbon double bond having reactivity with the Si-H group in one molecule. Various types such as linear, cyclic, branched, and those having a partial network can be used. Among these, a siloxane compound containing two or more carbon-carbon double bonds having reactivity with Si—H groups in one molecule is preferable, and carbon-carbon two having reactivity with Si—H groups is preferable. A linear siloxane compound containing two or more heavy bonds in one molecule or a cyclic siloxane compound containing two or more carbon-carbon double bonds having reactivity with Si-H groups was used. In this case, a silicon-containing curable composition having higher adhesion is particularly preferable.

上記Si−H基との反応性を有する炭素−炭素二重結合を1分子中に2個以上含有する直鎖状シロキサン化合物は、Si−H基との反応性を有する炭素−炭素二重結合を1分子中に2個以上含有する直鎖状シロキサン共重合体である。該直鎖状シロキサン共重合体は、ランダム共重合体である場合もあり、ブロック共重合体である場合もある。Si−H基との反応性を有する炭素−炭素二重結合の数は、2〜10が好ましく、硬化物の架橋密度の点から2〜6がより好ましい。また、該炭素−炭素二重結合としては、ビニル基、2−プロペニル基、3−ブテニル基等のアルケニル基が挙げられるが、反応性が良好なことから、ケイ素原子に結合したビニル基(Si−CH=CH基)であることが好ましい。
Si−H基との反応性を有する炭素−炭素二重結合を1分子中に2個以上含有する直鎖状シロキサン共重合体の中でも、硬化物の物性の点から特に好ましいものとして、下記一般式(A−8)で表される直鎖状シロキサン共重合体を挙げることができる。
The linear siloxane compound containing two or more carbon-carbon double bonds having reactivity with the Si-H group in one molecule is a carbon-carbon double bond having reactivity with the Si-H group. Is a linear siloxane copolymer containing 2 or more per molecule. The linear siloxane copolymer may be a random copolymer or a block copolymer. 2-10 are preferable and, as for the number of the carbon-carbon double bond which has reactivity with Si-H group, 2-6 are more preferable from the point of the crosslinking density of hardened | cured material. Examples of the carbon-carbon double bond include alkenyl groups such as a vinyl group, 2-propenyl group, and 3-butenyl group. Since the reactivity is good, a vinyl group bonded to a silicon atom (Si is preferably -CH = a CH 2 group).
Among linear siloxane copolymers containing 2 or more carbon-carbon double bonds having reactivity with Si-H groups in one molecule, the following general ones are particularly preferable from the viewpoint of physical properties of the cured product. A linear siloxane copolymer represented by the formula (A-8) can be given.

(式中、R12及びR31は、それぞれ独立に、炭素原子数2〜6のアルケニル基、炭素原子数1〜6のアルキル基、炭素原子数2〜10のエポキシ基又はトリメチルシリル基を表し、R13、R14、R15、R16、R20、R24、R28、R29及びR30は、それぞれ独立に、水素原子又は炭素原子数1〜6のアルキル基を表し、R17、R18及びR19は、フェニル基を表し、R21、R22及びR23は、それぞれ独立に、炭素原子数2〜6のアルケニル基を表し、R25、R26及びR27は、それぞれ独立に、炭素原子数2〜10のエポキシ基を表し、R12及びR31が炭素原子数1〜6のアルキル基である時、v≧1又はv+w≧2であり、R13、R14、R15、R16、R20、R24、R28、R29及びR30のうち少なくとも一つが水素原子である時、v≧1又はw≧1であり、p個のR15及びR16はそれぞれ同一である場合も異なる場合もあり、q個のR17及びR18、r個のR19及びR20、v個のR21びR22、w個のR23びR24、x個のR25びR26、y個のR27びR28もそれぞれ同一である場合も異なる場合もある。p、q、r、v、w、x及びyは、それぞれ独立に、0〜3000の数を表し、p+q+r+v+w+x+y≧1である。) (Wherein R 12 and R 31 each independently represents an alkenyl group having 2 to 6 carbon atoms, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, an epoxy group having 2 to 10 carbon atoms, or a trimethylsilyl group, R 13 , R 14 , R 15 , R 16 , R 20 , R 24 , R 28 , R 29 and R 30 each independently represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, R 17 , R 18 and R 19 each represent a phenyl group, R 21 , R 22 and R 23 each independently represent an alkenyl group having 2 to 6 carbon atoms, and R 25 , R 26 and R 27 each independently represent Represents an epoxy group having 2 to 10 carbon atoms, and when R 12 and R 31 are alkyl groups having 1 to 6 carbon atoms, v ≧ 1 or v + w ≧ 2, and R 13 , R 14 , R 15, R 16, R 20, 24, when at least one of R 28, R 29 and R 30 are hydrogen atoms, v is ≧ 1 or w ≧ 1, the p number of R 15 and R 16 there may also respectively identical differ , Q R 17 and R 18 , r R 19 and R 20 , v R 21 and R 22 , w R 23 and R 24 , x R 25 and R 26 , y R 27 and R 28 may be the same as or different from each other, p, q, r, v, w, x and y each independently represent a number from 0 to 3000, and p + q + r + v + w + x + y ≧ 1.

上記一般式(A−8)において、R12及びR31、並びにR21、R22、及びR23で表わされる炭素原子数2〜6のアルケニル基としては、上記Rで表されるものとして挙げたものと同様のものが挙げられる。
またR12及びR31、並びにR13、R14、R15、R16、R20、R24、R28、R29及びR30で表わされる炭素原子数1〜6のアルキル基としては、上記Rで表されるものとして挙げたものと同様のものが挙げられる。
またR12及びR31、並びにR25、R26及びR27で表わされる炭素原子数2〜10のエポキシ基としては、上記R11で表されるものとして挙げたものと同様のものが挙げられる。
In the general formula (A-8), the alkenyl group having 2 to 6 carbon atoms represented by R 12 and R 31 , R 21 , R 22 , and R 23 is represented by R 3 above. The thing similar to what was mentioned is mentioned.
Examples of the alkyl group having 1 to 6 carbon atoms represented by R 12 and R 31 , and R 13 , R 14 , R 15 , R 16 , R 20 , R 24 , R 28 , R 29 and R 30 include It includes the same groups as represented by R 7.
Examples of the epoxy group having 2 to 10 carbon atoms represented by R 12 and R 31 , R 25 , R 26, and R 27 include the same as those exemplified as those represented by R 11 above. .

上記一般式(A−8)において、R12及びR31は、反応性の点から、ビニル基又は2−プロペニル基が好ましく、R13、R14、R15、R16、R20、R24、R28、R29及びR30は、工業的入手性の点から、メチル基又はエチル基が好ましく、R21、R22及びR23は、工業的入手性の点から、ビニル基又は2−プロペニル基が好ましい。
これらのなかでも、Si−H基との反応性を有する炭素−炭素二重結合を1分子中に2個以上含有する直鎖状シロキサン共重合体の好ましい具体例としては、下記の式(A−9)〜(A−17)で示される直鎖状シロキサン化合物が挙げられる。
In the general formula (A-8), R 12 and R 31 are preferably a vinyl group or a 2-propenyl group from the viewpoint of reactivity, and R 13 , R 14 , R 15 , R 16 , R 20 , R 24 are preferable. , R 28 , R 29 and R 30 are preferably a methyl group or an ethyl group from the viewpoint of industrial availability, and R 21 , R 22 and R 23 are preferably a vinyl group or 2- A propenyl group is preferred.
Among these, preferable specific examples of the linear siloxane copolymer containing two or more carbon-carbon double bonds having reactivity with Si-H group in one molecule include the following formula (A The linear siloxane compound shown by -9)-(A-17) is mentioned.

(式中、p、q及びrは、上記一般式(A−8)と同義である。) (In the formula, p, q and r have the same meanings as in the general formula (A-8).)

(式中、r及びqは、上記一般式(A−8)と同義である。) (In the formula, r and q have the same meaning as in the general formula (A-8).)

(式中、pは、上記一般式(A−8)と同義である。) (In the formula, p has the same meaning as the above general formula (A-8).)

(式中、p及びqは、上記一般式(A−8)と同義である。) (In the formula, p and q are as defined in the general formula (A-8).)

(式中、p及びwは、上記一般式(A−8)と同義である。) (In the formula, p and w are as defined in the general formula (A-8).)

(式中、p、r及びwは、上記一般式(A−8)と同義である。) (In the formula, p, r and w have the same meanings as in the general formula (A-8).)

(式中、p、r及びwは、上記一般式(A−8)と同義である。) (In the formula, p, r and w have the same meanings as in the general formula (A-8).)

(式中、p、r及びwは、上記一般式(A−8)と同義である。) (In the formula, p, r and w have the same meanings as in the general formula (A-8).)

また、上記Si−H基との反応性を有する炭素−炭素二重結合を1分子中に2個以上含有する環状シロキサン化合物においては、炭素−炭素二重結合の数は、2〜10が好ましく、硬化物の架橋密度が高くなることから2〜6がより好ましい。また、該炭素−炭素二重結合としては、ビニル基、2−プロペニル基、3−ブテニル基等のアルケニル基が挙げられるが、反応性が良好なことから、ケイ素原子に結合したビニル基(Si−CH=CH基)であることが好ましい。
Si−H基との反応性を有する炭素−炭素二重結合を1分子中に2個以上含有する環状シロキサン化合物の中でも、硬化物の物性の点から特に好ましいものとして、下記一般式(A−18)で表される環状シロキサン化合物を挙げることができる。
In the cyclic siloxane compound containing two or more carbon-carbon double bonds having reactivity with the Si-H group in one molecule, the number of carbon-carbon double bonds is preferably 2 to 10. 2 to 6 is more preferable because the crosslink density of the cured product is increased. Examples of the carbon-carbon double bond include alkenyl groups such as a vinyl group, 2-propenyl group, and 3-butenyl group. Since the reactivity is good, a vinyl group bonded to a silicon atom (Si is preferably -CH = a CH 2 group).
Among the cyclic siloxane compounds containing two or more carbon-carbon double bonds having reactivity with Si-H group in one molecule, the following general formula (A- The cyclic siloxane compound represented by 18) can be mentioned.

(式中、R32、R33及びR34は、それぞれ炭素原子数1〜6のアルキル基又はフェニル基を表し、n個のR32は同一である場合も異なる場合もあり、m個のR33、m個のR34もそれぞれ同一である場合も異なる場合もある。nは2〜10の数を表し、mは0〜8の数を表し、m+n≧2である。) (In the formula, R 32 , R 33 and R 34 each represent an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms or a phenyl group, and n R 32 may be the same or different, and m R 33 and m R 34 may be the same as or different from each other, n represents a number of 2 to 10, m represents a number of 0 to 8, and m + n ≧ 2.

上記R32、R33及びR34で表される炭素原子数1〜6のアルキル基としては、上記Rで表されるものとして挙げたものと同様のものが挙げられる。上記一般式(A−18)中、工業的入手性の点から、R32、R33及びR34はメチル基又はフェニル基が好ましい。nは架橋密度が良好なことから2〜4が好ましく、mは粘度の点から1〜3が好ましい。
これらのなかでも、Si−H基との反応性を有する炭素−炭素二重結合を1分子中に2個以上含有する環状シロキサン共重合体の好ましい具体例としては、下記の式(A−19)〜(A−21)で示される環状シロキサン化合物が挙げられる。
Examples of the alkyl group having 1 to 6 carbon atoms represented by R 32 , R 33 and R 34 are the same as those exemplified as those represented by R 7 . In the general formula (A-18), R 32 , R 33 and R 34 are preferably a methyl group or a phenyl group from the viewpoint of industrial availability. n is preferably 2 to 4 because the crosslink density is good, and m is preferably 1 to 3 from the viewpoint of viscosity.
Among these, preferred specific examples of the cyclic siloxane copolymer containing two or more carbon-carbon double bonds having reactivity with Si—H group in one molecule include the following formula (A-19): ) To (A-21).

尚、SiH基との反応性を有する炭素−炭素二重結合を有する化合物がSiH基も有する場合がある(例えば、上記式(A−17)で示される化合物)が、このような化合物は、(B)成分ではなく、(A)成分として扱う。(B)成分は、SiH基との反応性を有する炭素−炭素二重結合を有しない。   In addition, a compound having a carbon-carbon double bond that is reactive with a SiH group may also have a SiH group (for example, a compound represented by the above formula (A-17)). It is handled as the component (A), not the component (B). The component (B) does not have a carbon-carbon double bond having reactivity with the SiH group.

本発明のケイ素含有硬化性組成物における(B)成分は、SiH基を有するシロキサン化合物である。(B)成分はSiH基を1分子中に1つ以上有するシロキサン化合物であればよく、特に限定されるものではないが、SiH基を1分子中に2つ以上有するシロキサン化合物を好ましく使用することができる。   The component (B) in the silicon-containing curable composition of the present invention is a siloxane compound having a SiH group. The component (B) is not particularly limited as long as it is a siloxane compound having one or more SiH groups in one molecule, but a siloxane compound having two or more SiH groups in one molecule is preferably used. Can do.

本発明のケイ素含有硬化性組成物における(B)成分の含有量は、上記(A)成分100質量部に対して0.1〜100質量部の範囲であることが好ましく、1〜60質量部の範囲であることがより好ましく、5〜40質量部の範囲がより好ましい。   The content of the component (B) in the silicon-containing curable composition of the present invention is preferably in the range of 0.1 to 100 parts by mass, and 1 to 60 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the component (A). Is more preferable, and a range of 5 to 40 parts by mass is more preferable.

上記SiH基を1分子中に2つ以上有するシロキサン化合物のなかでも、下記一般式(B−1)で表される環状シロキサン化合物から選ばれる1種以上及び下記一般式(B−2)、下記式(B−3)又は下記一般式(B−4)で表される化合物から選ばれる1種以上をヒドロシリル化反応させて得られる、1分子中に2個以上のSiH基を有するシロキサン化合物(以下、(B−α)と略す場合がある)を好ましく使用することができる。   Among the siloxane compounds having two or more SiH groups in one molecule, one or more selected from cyclic siloxane compounds represented by the following general formula (B-1), the following general formula (B-2), and the following A siloxane compound having two or more SiH groups in one molecule, obtained by hydrosilylation reaction of one or more selected from compounds represented by formula (B-3) or the following general formula (B-4) Hereinafter, (B-α) may be preferably used.

(式中、R35、R36及びR37は、それぞれ独立に、炭素原子数1〜6のアルキル基又は炭素原子数1〜6のアルキル基で置換されている場合もあるフェニル基を表し、f個のR35は同一である場合も異なる場合もあり、g個のR36、g個のR37もそれぞれ同一である場合も異なる場合もある。fは2〜10の数を表し、gは0〜8の数を表し、
f+g≧2である。)
(Wherein R 35 , R 36 and R 37 each independently represent a phenyl group which may be substituted with an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms or an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, f R 35 may be the same or different, and g R 36 and g R 37 may be the same or different, respectively, and f represents a number of 2 to 10 and g Represents a number from 0 to 8,
f + g ≧ 2. )

(式中、R38は炭素原子数2〜10のアルケニル基を表し、R39及びR40は、それぞれ独立に、炭素原子数1〜10のアルキル基、炭素原子数2〜10のアルケニル基又は炭素原子数2〜10のエポキシ基を表し、hは1又は2を表す。) (In the formula, R 38 represents an alkenyl group having 2 to 10 carbon atoms, and R 39 and R 40 each independently represents an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, an alkenyl group having 2 to 10 carbon atoms, or Represents an epoxy group having 2 to 10 carbon atoms, and h represents 1 or 2.)

上記一般式(B−1)において、R35、R36及びR37で表される炭素原子数1〜6のアルキル基は、直鎖、分岐、環状の何れも可能であり、具体例としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、s−ブチル基、t−ブチル基、イソブチル基、アミル基、イソアミル基、t−アミル基、へキシル基、シクロへキシル基等が挙げられる。In the general formula (B-1), the alkyl group having 1 to 6 carbon atoms represented by R 35 , R 36 and R 37 can be linear, branched or cyclic. Methyl group, ethyl group, propyl group, isopropyl group, butyl group, s-butyl group, t-butyl group, isobutyl group, amyl group, isoamyl group, t-amyl group, hexyl group, cyclohexyl group, etc. Can be mentioned.

上記一般式(B−1)において、R35はメチル基が好ましく、R36及びR37はメチル基又はフェニル基が好ましい。fは4〜6が好ましく、gは硬化反応の架橋密度の点から0〜1が好ましい。メチル基とフェニル基を両方含む場合は、R35〜R37の置換基全体の数において、メチル基の数とフェニル基の数との比(前者:後者)が4:1〜1:4の範囲であることが、安定的に分子量を制御することができることから好ましい。In the general formula (B-1), R 35 is preferably a methyl group, and R 36 and R 37 are preferably a methyl group or a phenyl group. f is preferably from 4 to 6, and g is preferably from 0 to 1 from the viewpoint of the crosslinking density of the curing reaction. When both a methyl group and a phenyl group are included, the ratio of the number of methyl groups to the number of phenyl groups (the former: the latter) is 4: 1 to 1: 4 in the total number of substituents R 35 to R 37 . The range is preferable because the molecular weight can be controlled stably.

上記一般式(B−4)において、R38、R39及びR40で表される炭素原子数2〜10のアルケニル基としては、ビニル基、2−プロペニル基、3−ブテニル基等が挙げられる。In the general formula (B-4), examples of the alkenyl group having 2 to 10 carbon atoms represented by R 38 , R 39, and R 40 include a vinyl group, a 2-propenyl group, and a 3-butenyl group. .

上記一般式(B−4)において、R39及びR40で表される炭素原子数1〜10のアルキル基は、直鎖、分岐、環状の何れも可能であり、具体例としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、s−ブチル基、t−ブチル基、イソブチル基、アミル基、イソアミル基、t−アミル基、へキシル基、シクロへキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、エチルヘキシル基等が挙げられる。In the general formula (B-4), the alkyl group having 1 to 10 carbon atoms represented by R 39 and R 40 may be linear, branched or cyclic, and specific examples include a methyl group. , Ethyl group, propyl group, isopropyl group, butyl group, s-butyl group, t-butyl group, isobutyl group, amyl group, isoamyl group, t-amyl group, hexyl group, cyclohexyl group, heptyl group, octyl Group, nonyl group, decyl group, ethylhexyl group and the like.

上記一般式(B−4)において、R39及びR40で表される炭素原子数2〜10のエポキシ基は、三員環の環状エーテルを有する置換基であり、例えば、エポキシエチル基、グリシジル基、2,3−エポキシブチル基、3,4−エポキシブチル基、エポキシエチルフェニル基、4−エポキシエチルフェニルエチル基、3,4−エポキシシクロヘキシル基、2−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチル基、2,3−エポキシノルボルニルエチル基等が挙げられる。In the general formula (B-4), the epoxy group having 2 to 10 carbon atoms represented by R 39 and R 40 is a substituent having a three-membered cyclic ether, such as an epoxyethyl group or glycidyl. Group, 2,3-epoxybutyl group, 3,4-epoxybutyl group, epoxyethylphenyl group, 4-epoxyethylphenylethyl group, 3,4-epoxycyclohexyl group, 2- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyl Group, a 2,3-epoxynorbornylethyl group, and the like.

上記一般式(B−1)で表される環状シロキサン化合物としては、例えば、1,3,5,7−テトラメチルシクロテトラシロキサン、1,3,5,7,9−ペンタメチルシクロペンタシロキサン、1,3,5,7,9,11−ヘキサメチルシクロヘキサシロキサン等が挙げられ、1,3,5,7−テトラメチルシクロテトラシロキサンが好ましい。上記一般式(B−1)で表される環状シロキサン化合物は単独で使用することもできるし、2種以上を組み合わせて用いることもできる。   Examples of the cyclic siloxane compound represented by the general formula (B-1) include 1,3,5,7-tetramethylcyclotetrasiloxane, 1,3,5,7,9-pentamethylcyclopentasiloxane, Examples include 1,3,5,7,9,11-hexamethylcyclohexasiloxane, and 1,3,5,7-tetramethylcyclotetrasiloxane is preferred. The cyclic siloxane compound represented by the general formula (B-1) can be used alone or in combination of two or more.

上記一般式(B−2)で表される化合物は、hが1である場合は、ジビニルベンゼンを示し、o−ジビニルベンゼン、m−ジビニルベンゼン又はp−ジビニルベンゼンの何れも可能であり、hが2である場合は、トリビニルベンゼンを示し、1,2,3−トリビニルベンゼン、1,2,4−トリビニルベンゼン、1,3,5−トリビニルベンゼンの何れも可能である。上記一般式(B−2)で表される化合物は、ビニル基以外の官能基(例えばメチル基等のアルキル基)がベンゼン環に結合している場合もあり、これらの混合物である場合もある。   The compound represented by the general formula (B-2) represents divinylbenzene when h is 1, and can be any of o-divinylbenzene, m-divinylbenzene or p-divinylbenzene, h Is 2, it indicates trivinylbenzene, and any of 1,2,3-trivinylbenzene, 1,2,4-trivinylbenzene and 1,3,5-trivinylbenzene is possible. In the compound represented by the general formula (B-2), a functional group other than a vinyl group (for example, an alkyl group such as a methyl group) may be bonded to a benzene ring or a mixture thereof. .

上記一般式(B−2)、上記式(B−3)及び上記一般式(B−4)で表される化合物のなかでも、ジビニルベンゼンが好ましい。上記一般式(B−2)、上記式(B−3)及び上記一般式(B−4)で表される化合物は、単独で使用することができ、2種以上を組み合わせて使用することもできる。   Of the compounds represented by the above general formula (B-2), the above formula (B-3) and the above general formula (B-4), divinylbenzene is preferable. The compounds represented by the above general formula (B-2), the above formula (B-3) and the above general formula (B-4) can be used alone or in combination of two or more. it can.

上記(B−α)は、上記一般式(B−1)で表される環状シロキサン化合物から選ばれる1種以上及び上記一般式(B−2)、上記式(B−3)又は上記一般式(B−4)で表される化合物から選ばれる1種以上をヒドロシリル化反応させることで得ることができる。上記一般式(B−1)で表される環状シロキサン化合物から選ばれる1種以上と、上記一般式(B−2)、上記式(B−3)又は上記一般式(B−4)で表される化合物から選ばれる1種以上の配合比率は、1分子中に2個以上のSiH基を有するようにする限り、特に限定されるものではない。好ましくは、上記一般式(B−1)で表される環状シロキサン化合物から選ばれる1種以上に含まれるSiH基の数と、上記一般式(B−2)、上記式(B−3)又は上記一般式(B−4)で表される化合物から選ばれる1種以上に含まれる、SiH基との反応性を有する炭素−炭素二重結合の数との比(前者:後者)が10:1〜2:1の範囲であり、より好ましくは4:1〜2:1の範囲である。   The (B-α) is one or more selected from the cyclic siloxane compounds represented by the general formula (B-1) and the general formula (B-2), the formula (B-3), or the general formula. It can be obtained by hydrosilylating one or more selected from the compounds represented by (B-4). One or more selected from the cyclic siloxane compounds represented by the above general formula (B-1) and the above general formula (B-2), the above formula (B-3) or the above general formula (B-4). The compounding ratio of one or more selected from the compounds to be selected is not particularly limited as long as it has two or more SiH groups in one molecule. Preferably, the number of SiH groups contained in one or more selected from the cyclic siloxane compound represented by the general formula (B-1), the general formula (B-2), the formula (B-3), or The ratio (the former: the latter) to the number of carbon-carbon double bonds having reactivity with SiH groups contained in one or more selected from the compounds represented by the general formula (B-4) is 10: It is the range of 1-2: 1, More preferably, it is the range of 4: 1-2: 1.

上記(B−α)のSiH基の濃度は、硬化性が良好になることから、0.0001mmol/g〜100mmol/gが好ましく、0.01mmol/g〜20mmol/gが更に好ましい。   The concentration of the (B-α) SiH group is preferably 0.0001 mmol / g to 100 mmol / g, and more preferably 0.01 mmol / g to 20 mmol / g, since the curability is improved.

上記(B−α)は、重量平均分子量が500〜500,000が好ましく、耐熱性が良好なことから、1000〜300,000がより好ましい。重量平均分子量の測定はGPCを使用すればよく、ポリスチレン換算により求めればよい。   The (B-α) preferably has a weight average molecular weight of 500 to 500,000, and more preferably 1000 to 300,000, because of good heat resistance. The weight average molecular weight may be measured using GPC, and may be determined by polystyrene conversion.

上記ヒドロシリル化反応は白金系触媒を用いて行うとよい。該白金系触媒としては、ヒドロシリル化反応を促進する白金、パラジウム及びロジウムの1種以上の金属を含有する公知の触媒を用いることができる。ヒドロシリル化反応用の触媒として用いられるこれらの白金系触媒としては、白金−カルボニルビニルメチル錯体、白金−ジビニルテトラメチルジシロキサン錯体、白金−シクロビニルメチルシロキサン錯体、白金−オクチルアルデヒド錯体等の白金系触媒をはじめ、白金の代わりに同じく白金系金属であるパラジウム、ロジウム等を含有する化合物が挙げられ、これらの1種を単独で用いることができ、又は2種以上を併用することもできる。特に硬化性の点から、白金を含有するものが好ましく、具体的には、白金−ジビニルテトラメチルジシロキサン錯体(Karstedt触媒)、白金−カルボニルビニルメチル錯体(Ossko触媒)が好ましい。また、クロロトリストリフェニルホスフィンロジウム(I)等の、上記白金系の金属を含有するいわゆるWilkinson触媒も、本発明では白金系触媒に含まれる。上記白金系触媒の使用量は、反応性の点から、上記一般式(B−1)で表される環状シロキサン化合物から選ばれる1種以上、及び上記一般式(B−2)、上記式(B−3)又は上記一般式(B−4)で表される化合物から選ばれる1種以上の合計量の5質量% 以下が好ましく、0.0001〜1.0質量%がより好ましい。上記ヒドロシリル化反応条件は特に限定されず、上記触媒を使用して従来公知の条件で行えばよいが、硬化速度の点から、室温〜130℃で行なうのが好ましく、反応時にトルエン、キシレン、ヘキサン、MIBK(メチルイソブチルケトン)、シクロペンタノン、PGMEA(プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート)等の従来公知の溶媒を使用することもできる。また、上記触媒は、ヒドロシリル化反応を行った後、除去することができ、除去せずそのままケイ素含有硬化性組成物に用いることもできる。   The hydrosilylation reaction may be performed using a platinum-based catalyst. As the platinum-based catalyst, a known catalyst containing one or more metals of platinum, palladium and rhodium that promote the hydrosilylation reaction can be used. These platinum-based catalysts used as hydrosilylation catalysts include platinum-carbonyl vinylmethyl complexes, platinum-divinyltetramethyldisiloxane complexes, platinum-cyclovinylmethylsiloxane complexes, platinum-octylaldehyde complexes, etc. In addition to the catalyst, compounds containing platinum-based metals such as palladium and rhodium can be used instead of platinum. One of these can be used alone, or two or more can be used in combination. In particular, those containing platinum are preferable from the viewpoint of curability, and specifically, platinum-divinyltetramethyldisiloxane complex (Karsttedt catalyst) and platinum-carbonylvinylmethyl complex (Ossko catalyst) are preferable. In addition, a so-called Wilkinson catalyst containing the above platinum-based metal such as chlorotristriphenylphosphine rhodium (I) is also included in the platinum-based catalyst in the present invention. The amount of the platinum-based catalyst used is one or more selected from cyclic siloxane compounds represented by the above general formula (B-1), the above general formula (B-2), the above formula ( 5-3 mass% or less of the total amount of 1 or more types chosen from the compound represented by B-3) or the said general formula (B-4) is preferable, and 0.0001-1.0 mass% is more preferable. The hydrosilylation reaction conditions are not particularly limited, and may be carried out under the conditions known in the art using the above catalyst. From the viewpoint of curing speed, it is preferably carried out at room temperature to 130 ° C. During the reaction, toluene, xylene, hexane Conventionally known solvents such as MIBK (methyl isobutyl ketone), cyclopentanone, and PGMEA (propylene glycol monomethyl ether acetate) can also be used. The catalyst can be removed after the hydrosilylation reaction, and can be used as it is in the silicon-containing curable composition without being removed.

本発明のケイ素含有硬化性組成物における(C)成分は、上記一般式(1)で表されるシラン化合物である。(C)成分を、(A)成分、(B)成分及び(D)成分と組み合わせて使用することで、銀基体や銅基体に対して優れた密着性を有するケイ素含有硬化物を製造することができるケイ素含有硬化性組成物を得ることができる。本発明のケイ素含有硬化性組成物における(C)成分の含有量は、上記(A)成分100質量部に対して、0.001〜0.1質量部であることが好ましい。0.001質量部より少ない場合には、添加効果が発現しにくい。また、0.1質量部より多く加えても、配合効果はほとんど向上しない。   (C) component in the silicon-containing curable composition of this invention is a silane compound represented by the said General formula (1). A silicon-containing cured product having excellent adhesion to a silver substrate or a copper substrate is produced by using the component (C) in combination with the component (A), the component (B) and the component (D). A silicon-containing curable composition that can be obtained can be obtained. It is preferable that content of (C) component in the silicon-containing curable composition of this invention is 0.001-0.1 mass part with respect to 100 mass parts of said (A) component. When the amount is less than 0.001 part by mass, the effect of addition is hardly exhibited. Moreover, even if it adds more than 0.1 mass part, a mixing effect will hardly improve.

上記一般式(1)において、Rで表される炭素原子数1〜4のアルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、第2ブチル基、第3ブチル基を挙げることができる。得られる硬化物が銀基体や銅基体に対して優れた密着性を有する効果が高いことから、これらのなかでもメチル基又はエチル基が好ましい。In the general formula (1), examples of the alkyl group having 1 to 4 carbon atoms represented by R 1 include a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an isopropyl group, a butyl group, a second butyl group, and a third group. A butyl group can be mentioned. Among these, a methyl group or an ethyl group is preferable because the obtained cured product has a high effect of having excellent adhesion to a silver substrate or a copper substrate.

上記一般式(1)において、Aで表される炭素原子数1〜10のアルカンジイル基としては、例えば、メチレン基、エチレン基、プロピレン基、ブチレン基、イソブチレン基、ペンチレン基、ヘキシレン基、ヘプチレン基、オクチレン基等が挙げられる。得られる硬化物が銀基体や銅基体に対して優れた密着性を有する効果が高いことから、炭素原子数1〜5のアルカンジイル基がより好ましく、プロピレン基が特に好ましい。   In the general formula (1), examples of the alkanediyl group having 1 to 10 carbon atoms represented by A include, for example, a methylene group, an ethylene group, a propylene group, a butylene group, an isobutylene group, a pentylene group, a hexylene group, and a heptylene. Group, octylene group and the like. Since the obtained hardened | cured material has the high effect which has the outstanding adhesiveness with respect to a silver base or a copper base, a C1-C5 alkanediyl group is more preferable, and a propylene group is especially preferable.

上記一般式(1)において、kは2又は3の数を表す。得られる硬化物が銀基体や銅基体に対して優れた密着性を有する効果が高いことから、kが3であることが好ましい。   In the general formula (1), k represents a number of 2 or 3. Since the obtained cured product has a high effect of having excellent adhesion to a silver substrate or a copper substrate, k is preferably 3.

一般式(1)で表される化合物の好ましい具体例としては、下記化学式No.1〜No.20で表される化合物が挙げられる。尚、下記化学式No.1〜No.20において「Me」はメチル基を表し、「Et」はエチル基を表す。   Preferable specific examples of the compound represented by the general formula (1) include the following chemical formula No. 1-No. The compound represented by 20 is mentioned. In addition, the following chemical formula No. 1-No. In 20, “Me” represents a methyl group, and “Et” represents an ethyl group.

本発明のケイ素含有硬化性組成物における(D)成分は、フィラーである。(D)成分を上記(A)〜(C)成分と組み合わせて使用することで、得られる硬化物を所望の色に着色することができ、また得られる硬化物の硬度を上げることができる。該フィラーとしては、透明フィラー、白色顔料及び無機充填剤が好ましい。本発明のケイ素含有硬化性組成物における(D)成分の含有量は、上記(A)成分100質量部に対して、100〜1500質量部であることが好ましく、100〜1400質量部がより好ましく、300〜1350質量部が更に好ましい。本発明のケイ素含有硬化性組成物においては、(D)成分として上記白色顔料と上記無機充填剤とを併用することも好ましい。   The component (D) in the silicon-containing curable composition of the present invention is a filler. By using the component (D) in combination with the components (A) to (C), the obtained cured product can be colored in a desired color, and the hardness of the obtained cured product can be increased. As the filler, a transparent filler, a white pigment and an inorganic filler are preferable. The content of the component (D) in the silicon-containing curable composition of the present invention is preferably 100 to 1500 parts by mass, more preferably 100 to 1400 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the component (A). 300 to 1350 parts by mass is more preferable. In the silicon-containing curable composition of the present invention, it is also preferable to use the white pigment and the inorganic filler in combination as the component (D).

上記白色顔料は、白色着色剤として白色度を高めるために配合するものであり、例えば酸化チタンを用いることが好ましく、この酸化チタンの単位格子はルチル型、アナタース型、ブルカイト型の何れでも構わないが、耐光性を考えるとルチル型が好ましく使用される。また、平均粒径や形状も限定されないが、平均粒径は通常0.05〜5.0μmである。上記酸化チタンは、樹脂や無機充填剤との相溶性、分散性を高めるため、AlやSi等の含水酸化物等で予め表面処理することができる。
尚、平均粒径は、レーザー光回折法による粒度分布測定における質量平均値D50(又はメジアン径)として求めることができる。
The white pigment is blended to increase whiteness as a white colorant. For example, titanium oxide is preferably used, and the unit cell of the titanium oxide may be any of rutile type, anatase type, and brookite type. However, in consideration of light resistance, a rutile type is preferably used. Moreover, although an average particle diameter and a shape are not limited, an average particle diameter is 0.05-5.0 micrometers normally. The titanium oxide can be surface-treated in advance with a hydrous oxide such as Al or Si in order to enhance compatibility and dispersibility with a resin or an inorganic filler.
The average particle size can be determined as a mass average value D 50 in the particle size distribution measurement by laser diffraction method (or median diameter).

また、白色顔料として、酸化チタン以外に、チタン酸カリウム、酸化ジルコン、硫化亜鉛、アルミナ、酸化亜鉛、酸化マグネシウム、酸化ベリリウム、硫酸バリウム等を用いることもできる。これらの中でも、酸化マグネシウム、酸化亜鉛が好ましい。これらの白色顔料は、単独で使用することができ、又は酸化チタンと併用して使用することもできる。   In addition to titanium oxide, potassium titanate, zircon oxide, zinc sulfide, alumina, zinc oxide, magnesium oxide, beryllium oxide, barium sulfate, and the like can be used as the white pigment. Among these, magnesium oxide and zinc oxide are preferable. These white pigments can be used alone or in combination with titanium oxide.

上記無機充填剤は、通常シリコーン樹脂組成物、エポキシ樹脂組成物等の封止材料に配合されるものを使用することができる。例えば、溶融シリカ、溶融球状シリカ、結晶性シリカ、コロイダルシリカ、ヒュームドシリカ、シリカゲル等のシリカ類;アルミナ、酸化鉄、酸化チタン、三酸化アンチモン等の金属酸化物;窒化ケイ素、窒化アルミニウム、窒化ホウ素、炭化ケイ素等のセラミックス;マイカやモンモリロナイト等の鉱物;水酸化アルミニウム、水酸化マグネシウム等の金属水酸化物又はこれらを有機変性処理等により改質したもの;炭酸カルシウム、ケイ酸カルシウム、炭酸マグネシウム、炭酸バリウム等の金属炭酸塩又はこれらを有機変性処理等により改質したもの;金属ホウ酸塩、カーボンブラック等の顔料;炭素繊維、グラファイト、ウィスカ、カオリン、タルク、ガラス繊維、ガラスビーズ、ガラスマイクロスフィア、シリカガラス、層状粘土鉱物、クレー、炭化ケイ素、石英、アルミニウム、亜鉛等が挙げられる。尚、フィラー(D)として、アクリルビーズ、ポリマー微粒子、透明樹脂ビーズ、木粉、パルプ、木綿チップ等の有機充填剤を用いることもできる。
これら無機充填剤及び有機充填剤の平均粒径や形状は特に限定されないが、平均粒径は通常0.1〜80μmである。尚、平均粒径は、レーザー光回折法による粒度分布測定における質量平均値D50(又はメジアン径)として求めることができる。
The said inorganic filler can use what is normally mix | blended with sealing materials, such as a silicone resin composition and an epoxy resin composition. For example, silicas such as fused silica, fused spherical silica, crystalline silica, colloidal silica, fumed silica, and silica gel; metal oxides such as alumina, iron oxide, titanium oxide, and antimony trioxide; silicon nitride, aluminum nitride, and nitride Ceramics such as boron and silicon carbide; Minerals such as mica and montmorillonite; Metal hydroxides such as aluminum hydroxide and magnesium hydroxide or those modified by organic modification treatment; calcium carbonate, calcium silicate, magnesium carbonate , Metal carbonates such as barium carbonate or the like modified by organic modification treatment; pigments such as metal borate and carbon black; carbon fiber, graphite, whisker, kaolin, talc, glass fiber, glass beads, glass Microsphere, silica glass, layered clay ore , Clay, silicon carbide, quartz, aluminum, zinc, and the like. As the filler (D), organic fillers such as acrylic beads, polymer fine particles, transparent resin beads, wood powder, pulp, and cotton chips can also be used.
Although the average particle diameter and shape of these inorganic fillers and organic fillers are not particularly limited, the average particle diameter is usually 0.1 to 80 μm. The average particle size can be determined as a mass average value D 50 in the particle size distribution measurement by laser diffraction method (or median diameter).

上記無機充填剤としては、樹脂の成形性及び強度の点から、シリカ類、金属酸化物、改質されている場合もある金属炭酸塩、顔料が好ましく、特に、溶融シリカ、溶融球状シリカ、結晶性シリカ、シリコーンビーズ、コロイダルシリカ、酸化アルミニウム、酸化チタン、炭酸カルシウム、炭酸マグネシウム、カーボンブラック、カオリン、ガラス繊維が好ましい。
上記無機充填剤としては、とりわけ、溶融シリカ、溶融球状シリカ、酸化チタンと炭酸カルシウムの複合体が、樹脂の成形性の点から好適に用いられる。またその粒径は、特に限定されるものではないが、成形性、流動性の点から、4〜40μm、特に7〜35μmが好ましい。また、高流動性を得るためには、3μm以下の微細領域、4〜8μmの中粒径領域、10〜40μmの粗領域のものを組み合わせて使用することが望ましい。
As the inorganic filler, from the viewpoint of resin moldability and strength, silicas, metal oxides, metal carbonates that may be modified, and pigments are preferable, and in particular, fused silica, fused spherical silica, crystals Silica, silicone beads, colloidal silica, aluminum oxide, titanium oxide, calcium carbonate, magnesium carbonate, carbon black, kaolin and glass fiber are preferred.
As the inorganic filler, in particular, fused silica, fused spherical silica, a composite of titanium oxide and calcium carbonate is preferably used from the viewpoint of moldability of the resin. The particle size is not particularly limited, but is preferably 4 to 40 μm, particularly preferably 7 to 35 μm from the viewpoint of moldability and fluidity. Further, in order to obtain high fluidity, it is desirable to use a combination of a fine region of 3 μm or less, a medium particle size region of 4 to 8 μm, and a coarse region of 10 to 40 μm.

また、本発明のケイ素含有硬化性組成物には、本発明の目的とする性能を損なわない範囲で、有機過酸化物、金属触媒、接着助剤、フリーラジカルスカベンジャー、公知の各種樹脂、離型剤、添加剤等の任意成分も配合することができる。各々の任意成分の使用量は、特に限定されるものではないが、本発明の効果を損なわないようにするためには、本発明のケイ素含有硬化性組成物中10質量%以下の範囲とすることが好ましく、5質量%以下であることがより好ましい。   Further, the silicon-containing curable composition of the present invention includes an organic peroxide, a metal catalyst, an adhesion aid, a free radical scavenger, various known resins, and a mold release as long as the target performance of the present invention is not impaired. Optional components such as agents and additives can also be blended. The amount of each optional component used is not particularly limited, but is 10% by mass or less in the silicon-containing curable composition of the present invention so as not to impair the effects of the present invention. It is preferably 5% by mass or less.

上記有機過酸化物としては、例えば、シリコーンゴム組成物を硬化する際に一般的に使用されるものを用いることができるが、例えば、ベンゾイルパーオキサイド、o−メチルベンゾイルパーオキサイド、p−メチルベンゾイルパーオキサイド、o−モノクロロベンゾイルパーオキサイド、p−モノクロロベンゾイルパーオキサイド、ビス−2,4−ジクロロベンゾイルパーオキサイド、2,4−ジクミルベンゾイルパーオキサイド、ジ−t−ブチルベンゾイルパーオキサイド、t−ブチルベンゾエート、t−ブチルクミルベンゾイルパーオキサイド、1,1−ビス(t−ブチルパーオキシ)−3,3,5−トリメチルシクロヘキサン、2,5−ジメチル−2,5−ジ(t−ブチルパーオキシ)へキサン、1,6−ビス(t−ブチルパーオキシカルボキシ)へキサン、ジクロミルパーオキサイド、ジミリスチルパーオキシカーボネート、t−ブチルパーオキシ2−エチルヘキシルカーボネート、ジシクロドデシルパーオキシジカーボネート、下記一般式(5)又は(5’)で表される化合物等が挙げられる。これらの中でも、反応性及び作業性の点から、ベンゾイル系パーオキサイド化合物が好ましく、特に、ベンゾイルパーオキサイド、2,4−ジクミルベンゾイルパーオキサイドが好ましい。   As said organic peroxide, what is generally used when hardening a silicone rubber composition can be used, for example, For example, benzoyl peroxide, o-methylbenzoyl peroxide, p-methylbenzoyl Peroxide, o-monochlorobenzoyl peroxide, p-monochlorobenzoyl peroxide, bis-2,4-dichlorobenzoyl peroxide, 2,4-dicumylbenzoyl peroxide, di-t-butylbenzoyl peroxide, t-butyl Benzoate, t-butylcumylbenzoyl peroxide, 1,1-bis (t-butylperoxy) -3,3,5-trimethylcyclohexane, 2,5-dimethyl-2,5-di (t-butylperoxy) ) Hexane, 1,6-bis (t-butylperoxy) Carboxy) hexane, dichromyl peroxide, dimyristyl peroxycarbonate, t-butylperoxy 2-ethylhexyl carbonate, dicyclododecyl peroxydicarbonate, compounds represented by the following general formula (5) or (5 ′) Etc. Among these, benzoyl peroxide compounds are preferable from the viewpoint of reactivity and workability, and benzoyl peroxide and 2,4-dicumylbenzoyl peroxide are particularly preferable.

(式中、R及びR’は、それぞれ独立に、炭素原子数3〜10の炭化水素基である。) (In the formula, R and R ′ are each independently a hydrocarbon group having 3 to 10 carbon atoms.)

上記一般式(5)及び(5’)中のR並びに上記一般式(5’)中のR’で表される炭素原子数3〜10の炭化水素基としては、プロピル、イソプロピル、ブチル、第二ブチル、第三ブチル、イソブチル、アミル、イソアミル、第三アミル、ヘキシル、シクロヘキシル、シクロヘキシルメチル、2−シクロヘキシルエチル、ヘプチル、イソヘプチル、第三ヘプチル、n−オクチル、イソオクチル、第三オクチル、2−エチルヘキシル、ノニル、イソノニル、デシル等のアルキル基、ビニル、1−メチルエテニル、2−メチルエテニル、プロペニル、ブテニル、イソブテニル、ペンテニル、ヘキセニル、ヘプテニル、オクテニル、デセニル、1−フェニルプロペン−3−イル等のアルケニル基、フェニル、2−メチルフェニル、3−メチルフェニル、4−メチルフェニル、4−ビニルフェニル、3−イソプロピルフェニル、4−イソプロピルフェニル、4−ブチルフェニル、4−イソブチルフェニル、4−第三ブチルフェニル、2,3−ジメチルフェニル、2,4−ジメチルフェニル、2,5−ジメチルフェニル、2,6−ジメチルフェニル、3,4−ジメチルフェニル、3,5−ジメチルフェニル、2,4−ジ第三ブチルフェニル等のアルキルアリール基、ベンジル、2−フェニルプロパン−2−イル、スチリル、シンナミル等のアリールアルキル基等、これらがエーテル結合、チオエーテル結合で中断されたもの、例えば、2−メトキシエチル、3−メトキシプロピル、4−メトキシブチル、2−ブトキシエチル、メトキシエトキシエチル、メトキシエトキシエトキシエチル、3−メトキシブチル、2−フェノキシエチル、3−フェノキシプロピル、2−メチルチオエチル、2−フェニルチオエチルが挙げられ、更にこれらの基は、アルコキシ基、アルケニル基、ニトロ基、シアノ基、ハロゲン原子等で置換されている場合もある。   Examples of the hydrocarbon group having 3 to 10 carbon atoms represented by R in the general formulas (5) and (5 ′) and R ′ in the general formula (5 ′) include propyl, isopropyl, butyl, Dibutyl, tert-butyl, isobutyl, amyl, isoamyl, tert-amyl, hexyl, cyclohexyl, cyclohexylmethyl, 2-cyclohexylethyl, heptyl, isoheptyl, tert-heptyl, n-octyl, isooctyl, tert-octyl, 2-ethylhexyl Alkyl groups such as nonyl, isononyl, decyl, vinyl, 1-methylethenyl, 2-methylethenyl, propenyl, butenyl, isobutenyl, pentenyl, hexenyl, heptenyl, octenyl, decenyl, alkenyl groups such as 1-phenylpropen-3-yl, Phenyl, 2-methylphenyl, 3-methylphenol 4-methylphenyl, 4-vinylphenyl, 3-isopropylphenyl, 4-isopropylphenyl, 4-butylphenyl, 4-isobutylphenyl, 4-tert-butylphenyl, 2,3-dimethylphenyl, 2,4- Alkylaryl groups such as dimethylphenyl, 2,5-dimethylphenyl, 2,6-dimethylphenyl, 3,4-dimethylphenyl, 3,5-dimethylphenyl, 2,4-ditertiarybutylphenyl, benzyl, 2- Arylalkyl groups such as phenylpropan-2-yl, styryl, cinnamyl, etc., which are interrupted by an ether bond or a thioether bond, such as 2-methoxyethyl, 3-methoxypropyl, 4-methoxybutyl, 2-butoxy Ethyl, methoxyethoxyethyl, methoxyethoxyethoxyethyl, 3 Examples include methoxybutyl, 2-phenoxyethyl, 3-phenoxypropyl, 2-methylthioethyl, 2-phenylthioethyl, and these groups are substituted with alkoxy groups, alkenyl groups, nitro groups, cyano groups, halogen atoms, and the like. Sometimes it is.

上記有機過酸化物を使用する場合の含有量は、上記(A)成分100質量部に対し、0.0001〜10質量部が好ましく、0.01〜5質量部がより好ましい。   0.0001-10 mass parts is preferable with respect to 100 mass parts of said (A) component, and, when using the said organic peroxide, 0.01-5 mass parts is more preferable.

上記金属触媒としては、白金系触媒、トリス(2,4−ペンタンジオナト)アルミニウム、トリイソプロポキシドアルミニウム、Al(ClO、テトライソプロポキシドチタニウム、テトライソブトキシドチタニウム、ジブチルビス(2,4−ペンタンジオナト)スズ、BuSn(C15COO)のようなAl系、Ti系、Sn系等の金属触媒を挙げることができる。
これらの中でも、反応性及び着色性の点から、白金系触媒、Al系触媒が好ましく、特に、白金−カルボニルビニルメチル錯体(Ossko触媒)、白金−ジビニルテトラメチルジシロキサン錯体(Karstedt錯体)、トリス(2,4−ペンタンジオナト)アルミニウムが好ましい。
Examples of the metal catalyst include platinum-based catalysts, tris (2,4-pentanedionato) aluminum, triisopropoxide aluminum, Al (ClO 4 ) 3 , tetraisopropoxide titanium, tetraisobutoxide titanium, dibutyl bis (2, Examples thereof include Al-based, Ti-based and Sn-based metal catalysts such as 4-pentanedionate) tin and Bu 2 Sn (C 7 H 15 COO) 2 .
Of these, platinum-based catalysts and Al-based catalysts are preferable from the viewpoint of reactivity and colorability, and in particular, platinum-carbonylvinylmethyl complexes (Ossko catalysts), platinum-divinyltetramethyldisiloxane complexes (Karstedt complexes), tris. (2,4-Pentandionato) aluminum is preferred.

上記金属触媒を使用する場合の含有量は、上記(A)成分100質量部に対し、1×10-4〜0.5質量部含有することが好ましく、1×10−3〜0.2質量部含有することが更に好ましい。When using the metal catalyst, the content is preferably 1 × 10 −4 to 0.5 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the component (A), and preferably 1 × 10 −3 to 0.2 parts by mass. More preferably, it is contained.

上記接着助剤としては、例えばシアヌル酸構造を有する化合物を用いることができる。該シアヌル酸構造を有する化合物としては、例えば、イソシアヌル酸、トリアリルシアヌル酸、1,3,5−トリグリシジルイソシアヌル酸、トリス(2−ヒドロキシエチル)イソシアヌル酸、トリス(2,3−ジヒドロキシプロピル)イソシアヌル酸、トリス(2,3−エポキシプロピル)イソシアヌル酸、特許第2768426号、特開平3−261769号、特開平4−139211号、特開平4−139174号、特開平10−333330号の各公報に記載されているもの等を用いることができる。また、これらの化合物は、シリコーン変性、エチレンオキシド変性、プロピレンオキシド変性等の各種変性処理が常法によりなされている場合もある。シアヌル酸構造を有する化合物を使用する場合、本発明のケイ素含有硬化性組成物中の該化合物の含有量は、0.0001〜10質量%が好ましく、0.01〜1.0質量%が更に好ましい。   As the adhesion assistant, for example, a compound having a cyanuric acid structure can be used. Examples of the compound having a cyanuric acid structure include isocyanuric acid, triallyl cyanuric acid, 1,3,5-triglycidyl isocyanuric acid, tris (2-hydroxyethyl) isocyanuric acid, and tris (2,3-dihydroxypropyl). Isocyanuric acid, tris (2,3-epoxypropyl) isocyanuric acid, Japanese Patent No. 2768426, Japanese Patent Laid-Open No. 3-261769, Japanese Patent Laid-Open No. 4-139911, Japanese Patent Laid-Open No. 4-139174, and Japanese Patent Laid-Open No. 10-333330 Can be used. In addition, these compounds may be subjected to various modification treatments such as silicone modification, ethylene oxide modification, propylene oxide modification and the like by ordinary methods. When using the compound which has a cyanuric acid structure, 0.0001-10 mass% is preferable, and, as for content of this compound in the silicon-containing curable composition of this invention, 0.01-1.0 mass% is further. preferable.

上記フリーラジカルスカベンジャーとしては、例えば、酸化防止剤、安定剤等の抗酸化性物質を挙げることができる。例えば、トリエチレングリコール−ビス[3−(3−t−ブチル−5−メチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート]、ジブチルヒドロキシトルエン(BHT)、2,6−ジ−t−ブチル−パラクレゾール(DBPC)等が挙げられる。フリーラジカルスカベンジャーを使用する場合、耐熱性、電気特性、硬化性、力学特性、保存安定性及びハンドリングの点から、本発明のケイ素含有硬化性組成物中で0.1〜10質量%が好ましく、1〜5質量%がより好ましい。   As said free radical scavenger, antioxidant substances, such as antioxidant and a stabilizer, can be mentioned, for example. For example, triethylene glycol-bis [3- (3-t-butyl-5-methyl-4-hydroxyphenyl) propionate], dibutylhydroxytoluene (BHT), 2,6-di-t-butyl-paracresol (DBPC). ) And the like. When using a free radical scavenger, 0.1 to 10% by mass is preferable in the silicon-containing curable composition of the present invention in terms of heat resistance, electrical properties, curability, mechanical properties, storage stability and handling, 1-5 mass% is more preferable.

上記各種樹脂としては、例えば、ポリブタジエン樹脂及びその変性物、アクリロニトリル共重合体の変性物、ポリスチレン樹脂、ポリエチレン樹脂、フッ素樹脂、ポリイミド樹脂、ポリエチレングリコール、ポリフェニレンエーテル、ポリプロピレングリコール等のポリエーテル樹脂、ポリウレタン樹脂、エポキシ樹脂、フェノール樹脂、ポリエステル樹脂、メラミン樹脂、ポリアミド樹脂、ポリフェニレンスルフィド樹脂等が挙げられる。   Examples of the various resins include polybutadiene resins and modified products thereof, modified products of acrylonitrile copolymers, polystyrene resins, polyethylene resins, fluororesins, polyimide resins, polyethylene glycol, polyphenylene ether, polypropylene glycol and other polyether resins, polyurethane Resins, epoxy resins, phenol resins, polyester resins, melamine resins, polyamide resins, polyphenylene sulfide resins and the like can be mentioned.

上記離型剤としては、例えば、カルナバワックス、脂肪酸エステル、グリセリン酸エステル、ステアリン酸、モンタン酸、ベヘニン酸及びその金属塩、アルカリ金属化合物、有機チタン、有機ジルコニア、有機錫化合物、イミダゾール化合物、カルボキシル基含有ポリオレフィン、ポリエチレン−ポリオキシエチレン系樹脂、カルナバ等を用いることができる。   Examples of the mold release agent include carnauba wax, fatty acid ester, glyceric acid ester, stearic acid, montanic acid, behenic acid and its metal salt, alkali metal compound, organic titanium, organic zirconia, organic tin compound, imidazole compound, carboxyl Group-containing polyolefins, polyethylene-polyoxyethylene resins, carnauba and the like can be used.

任意に配合できる上記添加剤の例としては、光沢剤、ワックス、紫外線吸収剤、帯電防止剤、酸化防止剤、劣化防止剤、変性剤、シランカップリング剤、脱泡剤、染料、マレイミド系化合物、シアネートエステル系化合物、シリコーンゲル、シリコーンオイル等が挙げられる。   Examples of the additive that can be optionally blended include brighteners, waxes, ultraviolet absorbers, antistatic agents, antioxidants, deterioration inhibitors, modifiers, silane coupling agents, defoaming agents, dyes, maleimide compounds , Cyanate ester compounds, silicone gels, silicone oils and the like.

本発明のケイ素含有硬化性組成物は、室温(25℃)で固体であるためハンドリング性に優れる。本発明のケイ素含有硬化性組成物は、粉末、顆粒、タブレット状等の形状とすることができ、溶媒に溶解させて用いることもできる。本発明のケイ素含有硬化性組成物は、融点が50℃以上150℃以下であることが好ましく、50℃以上120℃以下であることが更に好ましい。本発明のケイ素含有硬化性組成物は、好ましくは50℃〜150℃で溶融し、その後、熱により硬化する。また、本発明のケイ素含有硬化性組成物からなる硬化物は、銀基体及び銅基体への密着性に優れ、更に耐熱性、密着性にも優れている。耐熱性については、詳しくは、硬化物の5質量%の重量減少を来たす温度が400℃以上、より好ましくは500℃以上の硬化物が好適に得られる。また、本発明のケイ素含有硬化性組成物からは、クラック発生の少ない硬化物が好適に得られる。   Since the silicon-containing curable composition of the present invention is solid at room temperature (25 ° C.), it has excellent handling properties. The silicon-containing curable composition of the present invention can be in the form of powder, granules, tablets, etc., and can also be used by dissolving in a solvent. The silicon-containing curable composition of the present invention preferably has a melting point of 50 ° C. or higher and 150 ° C. or lower, and more preferably 50 ° C. or higher and 120 ° C. or lower. The silicon-containing curable composition of the present invention is preferably melted at 50 ° C. to 150 ° C. and then cured by heat. Moreover, the hardened | cured material which consists of a silicon-containing curable composition of this invention is excellent in the adhesiveness to a silver base | substrate and a copper base | substrate, and also excellent in heat resistance and adhesiveness. As for the heat resistance, specifically, a cured product having a temperature causing a weight loss of 5% by mass of the cured product is preferably 400 ° C. or higher, more preferably 500 ° C. or higher. Moreover, the hardened | cured material with few crack generation is suitably obtained from the silicon-containing curable composition of this invention.

本発明のケイ素含有硬化性組成物は、均一で透明なものとすることができ、その場合には紫外線等の光の透過性もよく、光反応性の触媒を添加することで、光硬化も可能である。もちろん光反応性のモノマーや樹脂を更に配合することもでき、ケイ素含有硬化性組成物中の各成分の何れか1種以上が光反応性基を有することもできる。更にまた、本発明のケイ素含有硬化性組成物からは、耐候性、硬度、耐汚染性、難燃性、耐湿性、ガスバリヤ性、可撓性、伸びや強度、電気絶縁性、低誘電率性等の力学特性、光学特性、電気特性等に優れた材料を得ることができる。   The silicon-containing curable composition of the present invention can be made uniform and transparent, and in that case, the light-transmitting light such as ultraviolet rays is good, and by adding a photoreactive catalyst, photocuring can be achieved. Is possible. Of course, a photoreactive monomer or resin can be further blended, and any one or more of each component in the silicon-containing curable composition can have a photoreactive group. Furthermore, from the silicon-containing curable composition of the present invention, weather resistance, hardness, stain resistance, flame resistance, moisture resistance, gas barrier properties, flexibility, elongation and strength, electrical insulation, low dielectric constant properties A material having excellent mechanical properties such as mechanical properties, optical properties, electrical properties, and the like can be obtained.

次に本発明の硬化物について述べる。
本発明のケイ素含有硬化性組成物は、加熱することにより硬化させて硬化物とすることができる。この硬化反応は、本発明のケイ素含有硬化性組成物の配合成分を使用直前に混合し加熱する方法で行うことができ、予め配合成分を全て混合しておき硬化反応を行うときに加熱する方法で行うこともできる。
硬化させる際の加熱温度は、樹脂が溶融する温度以上、例えば35〜350℃が好ましく、50〜250℃がより好ましい。硬化時間は2〜60分が好ましく、2〜10分がより好ましい。更に硬化後に、アニールしたり成形したりすることもできる。アニールは温度により時間が異なるが、150℃であれば5〜60分程度処理することが好ましい。これらの硬化反応条件下に硬化反応を行うことにより、本発明のケイ素含有硬化性組成物から、耐熱性、耐久性、密着性等に優れた性能を有する硬化物を得ることができる。成形方法としては、トランスファー成形、圧縮成形、注型成形等の公知の方法を用いることができ、作業性及び寸法安定性の点から、トランスファー成形が好ましい。
Next, the cured product of the present invention will be described.
The silicon-containing curable composition of the present invention can be cured by heating to obtain a cured product. This curing reaction can be performed by a method of mixing and heating the compounding components of the silicon-containing curable composition of the present invention immediately before use, and a method of heating when performing the curing reaction by mixing all the compounding components in advance. Can also be done.
The heating temperature for curing is preferably equal to or higher than the temperature at which the resin melts, for example, 35 to 350 ° C, and more preferably 50 to 250 ° C. The curing time is preferably 2 to 60 minutes, more preferably 2 to 10 minutes. Further, after curing, it can be annealed or molded. The annealing time varies depending on the temperature, but it is preferably about 5 to 60 minutes at 150 ° C. By performing a curing reaction under these curing reaction conditions, a cured product having performances excellent in heat resistance, durability, adhesion, and the like can be obtained from the silicon-containing curable composition of the present invention. As the molding method, known methods such as transfer molding, compression molding, and cast molding can be used, and transfer molding is preferable from the viewpoint of workability and dimensional stability.

トランスファー成形は、トランスファー成形機を用い、成形圧力5〜20N/mm2、成形温度120〜190℃にて30〜500秒、特に150〜185℃にて30〜180秒で行うことが好ましい。圧縮成形法は、コンプレッション成形機を用い、成形温度120〜190℃にて30〜600秒、特に130〜160℃にて120〜300秒で行うことが好ましい。何れの成形法においても、150〜185℃にて2〜20時間の条件で硬化させることができる。
また、本発明のケイ素含有硬化性組成物を硬化させる際には、スピンキャスト、ポッティング、ディッピング等の成膜方法を適宜適用することができる。
The transfer molding is preferably performed using a transfer molding machine at a molding pressure of 5 to 20 N / mm 2 and a molding temperature of 120 to 190 ° C. for 30 to 500 seconds, particularly 150 to 185 ° C. for 30 to 180 seconds. The compression molding method is preferably performed using a compression molding machine at a molding temperature of 120 to 190 ° C. for 30 to 600 seconds, particularly at 130 to 160 ° C. for 120 to 300 seconds. In any molding method, it can be cured at 150 to 185 ° C. for 2 to 20 hours.
Moreover, when hardening the silicon-containing curable composition of this invention, film-forming methods, such as spin casting, potting, and dipping, can be applied suitably.

本発明のケイ素含有硬化性組成物は、その硬化物が、銀基体及び銅基体への優れた密着性を有する他に、耐熱性、耐光性、耐クラック性、着色性等の諸物性にも優れた硬化性組成物として利用することができる。本発明のケイ素含有硬化性組成物及び硬化物は、電気・電子材料分野における表示材料・光材料・記録材料・プリント基板・半導体・太陽電池等の封止材料;高電圧絶縁材料、絶縁・防振・防水・防湿を目的とした各種材料として用いることができる。また、用途としては、プラスチック部品の試作母型、コーティング材料、層間絶縁膜、プリプレグ、絶縁用パッキング、熱収縮ゴムチューブ、O−リング、表示デバイス用シール剤・保護材、光導波路、光ファイバー保護材、光学レンズ、光学機器用接着剤、高耐熱性接着剤、弾性接着剤、粘着剤、ダイボンディング剤、高放熱性材料、高耐熱シール材、太陽電池・燃料電池用部材、電池用固体電解質、絶縁被覆材、複写機用感光ドラム、ガス分離膜にも応用できる。また、土木・建材分野におけるコンクリート保護材、ライニング、土壌注入剤、シーリング剤、蓄冷熱材、ガラスコーティング、発泡体、塗料等へも応用でき、更には、医療用材料分野においても、チューブ、シール材、コーティング材料、プリント基板用途、滅菌処理装置用シール材、コンタクトレンズ、酸素富化膜等に応用できる。その他フィルム、ガスケット、注型材料、各種成形材料、網入りガラスの防錆・防水用封止剤、自動車部品、各種機械部品等に応用することが可能である。   The silicon-containing curable composition of the present invention has excellent physical properties such as heat resistance, light resistance, crack resistance, and colorability in addition to the excellent adhesion of the cured product to the silver base and the copper base. It can be used as an excellent curable composition. The silicon-containing curable composition and cured product of the present invention are used for sealing materials such as display materials, optical materials, recording materials, printed circuit boards, semiconductors, and solar cells in the field of electric and electronic materials; high-voltage insulating materials, insulating and preventing materials It can be used as various materials for the purpose of vibration, waterproofing and moisture prevention. Applications include prototype molds for plastic parts, coating materials, interlayer insulation films, prepregs, insulating packings, heat-shrinkable rubber tubes, O-rings, sealants and protective materials for display devices, optical waveguides, optical fiber protective materials , Optical lenses, adhesives for optical equipment, high heat resistant adhesives, elastic adhesives, adhesives, die bonding agents, high heat dissipation materials, high heat resistant sealing materials, solar cell / fuel cell members, solid electrolytes for batteries, It can also be applied to insulation coating materials, photosensitive drums for copying machines, and gas separation membranes. It can also be applied to concrete protection materials, linings, soil injecting agents, sealing agents, cold storage materials, glass coatings, foams, paints, etc. in the civil engineering / building materials field, and also in the medical materials field, tubes and seals. It can be applied to materials, coating materials, printed circuit board applications, sealing materials for sterilization equipment, contact lenses, oxygen-enriched films, etc. In addition, it can be applied to films, gaskets, casting materials, various molding materials, sealants for rust prevention and waterproofing of netted glass, automobile parts, various machine parts, and the like.

以下、実施例等により本発明を更に説明するが、本発明はこれらの実施例等によって限定されるものではない。尚、実施例中の「部」や「%」は質量基準によるものである。   EXAMPLES Hereinafter, although an Example etc. demonstrate this invention further, this invention is not limited by these Examples. In the examples, “parts” and “%” are based on mass.

[製造例1]A−1の合成
冷却管及び撹拌装置を付けた2000ml四つ口フラスコに、(a)成分としてビニルトリメトキシシラン0.5mol、(b)成分としてメチルトリメトキシシラン0.5mol、(c)成分としてジメチルジメトキシシラン0.25mol、(d)成分としてフェニルトリメトキシシラン1.0mol、及びトルエン650gを入れ、撹拌しながら、0.5%水酸化ナトリウム水溶液31.4gを30分かけて滴下し、60〜65℃で3時間脱水重合反応した。室温に冷却し、トルエン600g及びイオン交換水1500gを添加して油層を抽出し、中性になるまで水洗した後、溶媒を除去して、(A)成分であるケイ素含有重合体A−1を232.6g得た(白色粉末)。ケイ素含有重合体A−1の重量平均分子量(Mw)を、下記条件によりGPCで分析したところ、Mw=15000(ポリスチレン換算)であった。
(GPCの測定条件)
カラム:SuperMultiporeHZ−M
展開溶媒:テトラヒドロフラン
[Production Example 1] Synthesis of A-1 In a 2000 ml four-necked flask equipped with a cooling tube and a stirrer, 0.5 mol of vinyltrimethoxysilane as component (a) and 0.5 mol of methyltrimethoxysilane as component (b) , Dimethyldimethoxysilane 0.25 mol as component (c), 1.0 mol phenyltrimethoxysilane as component (d), and 650 g of toluene were added, and 31.4 g of 0.5% aqueous sodium hydroxide solution was added for 30 minutes with stirring. The solution was added dropwise and subjected to a dehydration polymerization reaction at 60 to 65 ° C. for 3 hours. After cooling to room temperature, 600 g of toluene and 1500 g of ion-exchanged water are added, the oil layer is extracted, washed with water until neutrality, the solvent is removed, and the silicon-containing polymer A-1 as component (A) is obtained. 232.6 g was obtained (white powder). When the weight average molecular weight (Mw) of the silicon-containing polymer A-1 was analyzed by GPC under the following conditions, it was Mw = 15000 (polystyrene conversion).
(GPC measurement conditions)
Column: SuperMultiporeHZ-M
Developing solvent: Tetrahydrofuran

[製造例2]B−1の合成
1,3,5,7−テトラメチルシクロテトラシロキサン100部、ジビニルベンゼン100部、トルエン60部及び白金−カルボニルビニルメチル錯体(Ossko触媒)0.0005部を加えて撹拌しながら、5時間還流した。反応液から70℃で溶媒を減圧留去し、(B)成分であるプレポリマーB−1を得た。
上記条件によりGPCで分析したところ、プレポリマーB−1の重量平均分子量は、Mw=140,000(ポリスチレン換算)であり、ヒドロシリル基(Si−H基)の含有量は、1H−NMRから5.3mmol/gであった。
[Production Example 2] Synthesis of B-1 100 parts of 1,3,5,7-tetramethylcyclotetrasiloxane, 100 parts of divinylbenzene, 60 parts of toluene and 0.0005 part of platinum-carbonylvinylmethyl complex (Ossko catalyst) In addition, the mixture was refluxed for 5 hours with stirring. The solvent was distilled off from the reaction solution under reduced pressure at 70 ° C. to obtain a prepolymer B-1 as component (B).
When analyzed by GPC under the above conditions, the weight average molecular weight of the prepolymer B-1 is Mw = 140,000 (polystyrene conversion), and the content of hydrosilyl group (Si—H group) is from 1 H-NMR. It was 5.3 mmol / g.

[実施例1]ケイ素含有硬化性組成物の製造
表1に示した化合物を用いて、表2の配合で実施例組成物No.1〜28を製造した。
[Example 1] Production of silicon-containing curable composition Using the compounds shown in Table 1, Example Composition No. 1-28 were produced.

[比較例1]比較用ケイ素含有硬化性組成物の製造
表1に示した化合物及び下記比較化合物1〜3を用いて、表3の配合で比較例組成物1〜30を製造した。
[Comparative Example 1] Production of Comparative Silicon-containing Curable Composition Comparative Examples Compositions 1 to 30 were produced with the compositions shown in Table 3 using the compounds shown in Table 1 and the following Comparative Compounds 1 to 3.

[実施例2]硬化物の製造1
実施例組成物No.1〜No.28をそれぞれ、銀基体(縦50mm×横55mm×厚み0.25mm)上に設置した金型に流し込み、170℃にて180秒(成形工程)、次いで150℃にて2時間(アフターベイク工程)の条件で加熱することで、直径3.5mm×高さ4mmのプリンカップ状の実施例硬化物No.1〜28を成形した。
[Example 2] Production 1 of cured product
Example Composition No. 1-No. 28 was poured into a mold placed on a silver substrate (length 50 mm × width 55 mm × thickness 0.25 mm), 170 ° C. for 180 seconds (molding step), and then 150 ° C. for 2 hours (after-baking step) By heating under the conditions, the pudding cup-shaped example cured product No. 3.5 mm in diameter x 4 mm in height was used. 1-28 were molded.

[比較例2]比較用硬化物の製造1
比較例組成物No.1〜No.30をそれぞれ、銀基体(縦50mm×横55mm×厚み0.25mm)上に設置した金型に流し込み、170℃にて180秒(成形工程)、次いで150℃にて2時間(アフターベイク工程)の条件で加熱することで、直径3.5mm×高さ4mmのプリンカップ状の比較例硬化物1〜30を成形した。
[Comparative Example 2] Production of comparative cured product 1
Comparative Example Composition No. 1-No. 30 was poured into a mold placed on a silver substrate (length 50 mm × width 55 mm × thickness 0.25 mm), 170 ° C. for 180 seconds (molding step), and then 150 ° C. for 2 hours (after-baking step) By heating under these conditions, pudding cup-shaped comparative cured products 1 to 30 having a diameter of 3.5 mm and a height of 4 mm were formed.

[評価例1]プリンカップ試験1(銀基体)
実施例硬化物No.1〜28及び比較例硬化物1〜30について、以下のようにしてプリンカップ試験を行った。即ち、ボンドテスターを用いて銀基体と成形樹脂との密着力を測定し、密着力が20kg/cmより高い場合を++とし、5〜20kg/cmの範囲である場合を+とし、5kg/cm未満である場合を−として密着性を評価した。評価結果が+である場合は優れた密着性を示したことを意味し、++である場合は特に優れた密着性を示したことを意味する。結果を表3−1〜3−4に示す。
[Evaluation Example 1] Pudding cup test 1 (silver substrate)
Example cured product No. About 1-28 and comparative example hardened | cured material 1-30, the pudding cup test was done as follows. That is, the adhesion force between the silver substrate and the molding resin is measured using a bond tester, and the case where the adhesion force is higher than 20 kg / cm 2 is defined as ++, the case where the adhesion force is in the range of 5-20 kg / cm 2 is defined as +, and 5 kg. / cm 2 less than a is a case - to evaluate the adhesion as. When the evaluation result is +, it means that excellent adhesion is shown, and when it is ++, it means that particularly excellent adhesion is shown. The results are shown in Tables 3-1 to 3-4.

表3−1〜3−4から明らかな通り、比較例硬化物1〜30は密着性が悪かった。一方、本発明のケイ素含有硬化性組成物を用いた実施例硬化物No.1〜28は、何れも銀基体に対する密着性が良好であった。なかでも、実施例硬化物No.1〜18は非常に高い密着性を有していた。   As is clear from Tables 3-1 to 3-4, the cured products of Comparative Examples 1 to 30 had poor adhesion. On the other hand, Example cured product No. using the silicon-containing curable composition of the present invention. Nos. 1 to 28 all had good adhesion to the silver substrate. Among these, the cured product No. of Example. 1-18 had very high adhesiveness.

[実施例3]硬化物の製造2
実施例組成物No.1〜No.28をそれぞれ、銅基体(縦50mm×横55mm×厚み0.25mm)上に設置した金型に流し込み、170℃にて180秒(成形工程)、次いで150℃にて2時間(アフターベイク工程)の条件で加熱することで、直径3.5mm×高さ4mmのプリンカップ状の実施例硬化物No.29〜56を成形した。
[Example 3] Production 2 of cured product
Example Composition No. 1-No. 28 was poured into a mold placed on a copper substrate (length 50 mm × width 55 mm × thickness 0.25 mm), 170 ° C. for 180 seconds (molding step), and then 150 ° C. for 2 hours (after-baking step) By heating under the conditions, the pudding cup-shaped example cured product No. 3.5 mm in diameter x 4 mm in height was used. 29-56 were molded.

[比較例3]比較用硬化物の製造2
比較例組成物No.1〜No.30をそれぞれ、銅基体(縦50mm×横55mm×厚み0.25mm)上に設置した金型に流し込み、170℃にて180秒(成形工程)、次いで150℃にて2時間(アフターベイク工程)の条件で加熱することで、直径3.5mm×高さ4mmのプリンカップ状の比較例硬化物31〜60を成形した。
[Comparative Example 3] Production of comparative cured product 2
Comparative Example Composition No. 1-No. 30 was poured into a mold placed on a copper substrate (length 50 mm × width 55 mm × thickness 0.25 mm), 170 ° C. for 180 seconds (molding step), and then 150 ° C. for 2 hours (after-baking step) By heating under these conditions, pudding cup-shaped comparative example cured products 31 to 60 having a diameter of 3.5 mm and a height of 4 mm were formed.

[評価例2]プリンカップ試験2(銅基体)
実施例硬化物No.29〜56及び比較例硬化物31〜60について、以下のようにしてプリンカップ試験を行った。即ち、ボンドテスターを用いて銅基体と成形樹脂との密着力を測定し、密着力が20kg/cmより高い場合を++とし、5〜20kg/cmの範囲である場合を+とし、5kg/cm未満である場合を−として密着性を評価した。評価結果が+である場合は優れた密着性を示したことを意味し、++である場合は特に優れた密着性を示したことを意味する。結果を表4−1〜4−4に示す。
[Evaluation Example 2] Pudding cup test 2 (copper substrate)
Example cured product No. About the 29-56 and comparative example hardened | cured material 31-60, the pudding cup test was done as follows. That is, the adhesion strength between the copper substrate and the molding resin is measured using a bond tester, and the case where the adhesion strength is higher than 20 kg / cm 2 is defined as ++, the case where it is in the range of 5-20 kg / cm 2 is defined as +, and 5 kg. / cm 2 less than a is a case - to evaluate the adhesion as. When the evaluation result is +, it means that excellent adhesion is shown, and when it is ++, it means that particularly excellent adhesion is shown. The results are shown in Tables 4-1 to 4-4.

表4−1〜4−4から明らかな通り、比較例硬化物31〜60は密着性が悪かった。一方、本発明のケイ素含有硬化性組成物を用いた実施例硬化物No.29〜56は、何れも銅基体に対する密着性が良好であった。   As is clear from Tables 4-1 to 4-4, the comparative cured products 31 to 60 had poor adhesion. On the other hand, Example cured product No. using the silicon-containing curable composition of the present invention. All of Nos. 29 to 56 had good adhesion to a copper substrate.

本発明によれば、銀基体や銅基体への密着性に優れ電気・電子材料等に有用な硬化物を製造することができるケイ素含有硬化性組成物を提供することができる。該ケイ素含有硬化性組成物は良好な硬化性を有し、トランスファーモールド成形や射出成形等の金型成形が可能であり、その硬化物は、耐熱性、耐クラック性及び機械的強度に優れることから、半導体用封止材、LED用封止材、白色LED用パッケージのモールド材料等に好適に使用することができる。

ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, the silicon containing curable composition which can manufacture the hardened | cured material which is excellent in the adhesiveness to a silver base | substrate and a copper base | substrate, and is useful for an electrical / electronic material etc. can be provided. The silicon-containing curable composition has a good curability and can be molded by a mold such as transfer molding and injection molding, and the cured product has excellent heat resistance, crack resistance and mechanical strength. Therefore, it can be suitably used as a semiconductor sealing material, an LED sealing material, a molding material for a white LED package, and the like.

Claims (3)

(A)成分として、SiH基との反応性を有する炭素−炭素二重結合を有する化合物、
(B)成分として、SiH基を有するシロキサン化合物、
(C)成分として、下記一般式(1)で表されるシラン化合物、
(D)成分として、フィラー
を含有することを特徴とするケイ素含有硬化性組成物。
(式中、Rは水素原子又は炭素原子数1〜4のアルキル基を表し、Aは炭素原子数1〜10のアルカンジイル基を表し、kは2又は3の数を表す。)
As the component (A), a compound having a carbon-carbon double bond having reactivity with the SiH group,
(B) As a component, a siloxane compound having a SiH group,
As the component (C), a silane compound represented by the following general formula (1),
(D) The silicon-containing curable composition characterized by containing a filler as a component.
(In the formula, R 1 represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, A represents an alkanediyl group having 1 to 10 carbon atoms, and k represents a number of 2 or 3).
請求項1に記載のケイ素含有硬化性組成物を加熱することを含む、該ケイ素含有硬化性組成物を硬化させる方法。   A method of curing the silicon-containing curable composition comprising heating the silicon-containing curable composition according to claim 1. 請求項1に記載のケイ素含有硬化性組成物を硬化させてなる硬化物。
A cured product obtained by curing the silicon-containing curable composition according to claim 1.
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