JPWO2017090439A1 - Resin sheet for connecting circuit members - Google Patents

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和寛 土谷
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Abstract

相対向する電極間に介在され、相対向する電極を電気的に接続するために用いられる回路部材接続用樹脂シートであって、樹脂シートを構成する材料は、硬化前における90℃での溶融粘度が1.0×10〜5.0×10Pa・sであり、硬化物の0〜130℃における平均線膨張係数が45ppm以下であることを特徴とする回路部材接続用樹脂シート。かかる回路部材接続用樹脂シートによれば、回路部材同士を接続したときに、接続部での接続抵抗が変化し難く、高い信頼性を有するものとなる。A resin sheet for connecting a circuit member, which is interposed between electrodes facing each other and used to electrically connect the electrodes facing each other. The material constituting the resin sheet is a melt viscosity at 90 ° C. before curing. Is 1.0 * 10 < 0 > -5.0 * 10 < 5 > Pa * s, The average linear expansion coefficient in 0-130 degreeC of hardened | cured material is 45 ppm or less, The resin sheet for circuit member connection characterized by the above-mentioned. According to such a resin sheet for connecting a circuit member, when the circuit members are connected to each other, the connection resistance at the connection portion hardly changes and has high reliability.

Description

本発明は、樹脂シートに関するものであり、例えば、いわゆるフリップチップ実装方式により半導体チップと基板とを接着するために使用される回路部材接続用樹脂シートに関するものである。   The present invention relates to a resin sheet, for example, a circuit sheet connecting resin sheet used for bonding a semiconductor chip and a substrate by a so-called flip chip mounting method.

近年、半導体集積回路(IC)の高集積化、半導体装置(ICパッケージ)の小型化等の観点から、フリップチップ実装方式が採用されつつある。このフリップチップ実装方式は、ワイヤレスボンディング方式の一種であり、半導体チップ表面の電極上に半田等からなるバンプを形成し、その半導体チップを表裏逆にしてプリント基板、セラミック基板等の基板の上に載置して、バンプと基板の電極との位置合わせを行った後、バンプを加熱溶融させて半導体チップの電極と基板の電極とを接合するものである。   In recent years, a flip chip mounting method has been adopted from the viewpoint of high integration of a semiconductor integrated circuit (IC) and miniaturization of a semiconductor device (IC package). This flip chip mounting method is a kind of wireless bonding method, in which bumps made of solder or the like are formed on electrodes on the surface of a semiconductor chip, and the semiconductor chip is turned upside down on a substrate such as a printed circuit board or a ceramic substrate. After placing and aligning the bump and the electrode of the substrate, the bump is heated and melted to join the electrode of the semiconductor chip and the electrode of the substrate.

このようなフリップチップ実装方式による半導体装置においては、電気的な接続信頼性および機械的な接続強度を確保するために、一般的に、半導体チップと基板との間にアンダーフィル材と呼ばれる樹脂を介在させている。アンダーフィル材の使用方法としては、半導体チップと基板とを半田接合した後、両者の間隙に液状樹脂組成物からなるアンダーフィル材を注入し、これを硬化させる方法が知られている。   In such a flip chip mounting type semiconductor device, in order to ensure electrical connection reliability and mechanical connection strength, a resin called an underfill material is generally used between the semiconductor chip and the substrate. Intervene. As a method for using the underfill material, there is known a method in which after a semiconductor chip and a substrate are soldered together, an underfill material made of a liquid resin composition is injected into a gap between the two and cured.

しかし、近年、半導体集積回路の高集積化に伴う多電極化、電極の狭ピッチ化、および半導体装置の薄型化に伴い、上記バンプ相互の間隔は極めて狭く、また半導体チップと基板との距離は極めて小さくなってきている。そのため、アンダーフィル材として液状樹脂組成物を用いた上記方法では、アンダーフィル材を半導体チップと基板との間隙に完全に充填することが困難になるという問題がある。かかる問題に対し、NCF(Non-Conductive Film)と呼ばれる接着フィルムを用い、半導体チップと基板とを接着させる方法が提案されている(例えば、特許文献1参照)。   However, in recent years, with the increase in the number of electrodes due to the high integration of semiconductor integrated circuits, the pitch of electrodes and the thinning of semiconductor devices, the distance between the bumps is extremely narrow, and the distance between the semiconductor chip and the substrate is It is getting very small. Therefore, the above method using a liquid resin composition as the underfill material has a problem that it is difficult to completely fill the gap between the semiconductor chip and the substrate with the underfill material. In order to solve this problem, a method of bonding a semiconductor chip and a substrate using an adhesive film called NCF (Non-Conductive Film) has been proposed (for example, see Patent Document 1).

ところで、このようなアンダーフィル材は、温度サイクル試験下においても半導体チップと基板との接続抵抗が変化しないといった高い信頼性が要求される。この点に関し、アンダーフィル材として、無機質充填材を含有し、硬化後の110〜130℃での平均熱膨張係数が200ppm以下である接着剤が提案されている(特許文献2参照)。   By the way, such an underfill material is required to have high reliability such that the connection resistance between the semiconductor chip and the substrate does not change even under a temperature cycle test. In this regard, an adhesive that contains an inorganic filler as an underfill material and has an average coefficient of thermal expansion at 110 to 130 ° C. after curing of 200 ppm or less has been proposed (see Patent Document 2).

特開2009−277818号公報JP 2009-277818 A 特開平10−287848号公報Japanese Patent Laid-Open No. 10-287848

しかし、特許文献2の接着剤では、線膨張係数が依然として大きく、温度サイクル試験において良好な結果が確保できないといった問題があった。   However, the adhesive of Patent Document 2 has a problem that the coefficient of linear expansion is still large, and good results cannot be secured in the temperature cycle test.

本発明は、このような実状に鑑みてなされたものであり、接続部での接続抵抗が変化し難く、高い信頼性を有する回路部材接続用樹脂シートを提供することを目的とする。   The present invention has been made in view of such a situation, and an object of the present invention is to provide a resin sheet for connecting a circuit member that has a high reliability, in which the connection resistance at the connection portion hardly changes.

上記目的を達成するために、第一に本発明は、相対向する電極間に介在され、前記相対向する電極を電気的に接続するために用いられる回路部材接続用樹脂シートであって、前記樹脂シートを構成する材料は、硬化前における90℃での溶融粘度が1.0×10〜5.0×10Pa・sであり、硬化物の0〜130℃における平均線膨張係数が45ppm以下であることを特徴とする回路部材接続用樹脂シートを提供する(発明1)。In order to achieve the above object, first, the present invention is a resin sheet for connecting a circuit member, which is interposed between electrodes facing each other and used to electrically connect the electrodes facing each other, The material constituting the resin sheet has a melt viscosity of 1.0 × 10 0 to 5.0 × 10 5 Pa · s at 90 ° C. before curing, and the average linear expansion coefficient of the cured product at 0 to 130 ° C. Provided is a resin sheet for connecting circuit members, which is 45 ppm or less (Invention 1).

上記発明(発明1)に係る回路部材接続用樹脂シートは、硬化前における90℃での溶融粘度が上記範囲にあるため、樹脂シートを電極間に介在させたときに、チップや基板等の回路部材の表面の凹凸に良好に追従する。また、硬化物の平均線膨張係数が45ppm以下であるため、被着体(回路部材)との線膨張係数の差が小さくなり、樹脂シートと被着体との間で発生し得る応力を低減することができる。そのため、上記発明(発明1)に係る回路部材接続用樹脂シートは、回路部材同士の接続信頼性を高いものとすることができる。   The resin sheet for connecting circuit members according to the above invention (Invention 1) has a melt viscosity at 90 ° C. before curing in the above range. Therefore, when the resin sheet is interposed between the electrodes, a circuit such as a chip or a substrate is used. It follows the unevenness of the surface of the member well. Moreover, since the average linear expansion coefficient of the cured product is 45 ppm or less, the difference in linear expansion coefficient from the adherend (circuit member) is reduced, and the stress that can be generated between the resin sheet and the adherend is reduced. can do. Therefore, the resin sheet for connecting circuit members according to the above invention (Invention 1) can have high connection reliability between the circuit members.

上記発明(発明1)において、前記樹脂シートを構成する材料は、ポリビニルアセタール樹脂、およびポリエステル樹脂からなる群より選択される1種以上の熱可塑性成分を含有することが好ましい(発明2)。   In the said invention (invention 1), it is preferable that the material which comprises the said resin sheet contains 1 or more types of thermoplastic components selected from the group which consists of a polyvinyl acetal resin and a polyester resin (invention 2).

上記発明(発明2)において、前記樹脂シートを構成する材料は、前記熱可塑性成分として、さらにフェノキシ樹脂を含有することが好ましい(発明3)。   In the said invention (invention 2), it is preferable that the material which comprises the said resin sheet contains a phenoxy resin further as the said thermoplastic component (invention 3).

上記発明(発明1〜3)において、前記樹脂シートを構成する材料は、無機フィラーを含有することが好ましい(発明4)。   In the said invention (invention 1-3), it is preferable that the material which comprises the said resin sheet contains an inorganic filler (invention 4).

上記発明(発明4)において、前記無機フィラーはシリカフィラーであることが好ましく(発明5)、前記無機フィラーの平均粒径は10〜200nmであることが好ましい(発明6)。   In the said invention (invention 4), it is preferable that the said inorganic filler is a silica filler (invention 5), and it is preferable that the average particle diameter of the said inorganic filler is 10-200 nm (invention 6).

上記発明(発明4〜6)において、前記樹脂シートを構成する材料は、前記無機フィラーを35〜64質量%含有することが好ましい(発明7)。   In the said invention (invention 4-6), it is preferable that the material which comprises the said resin sheet contains 35-64 mass% of said inorganic fillers (invention 7).

上記発明(発明1〜7)において、前記樹脂シートを構成する材料は、フラックス機能を有する成分を含有することが好ましい(発明8)。   In the said invention (invention 1-7), it is preferable that the material which comprises the said resin sheet contains the component which has a flux function (invention 8).

上記発明(発明8)においては、前記フラックス機能を有する成分として、カルボキシル基を有する成分を含有することが好ましく(発明9)、当該カルボキシル基を有する成分が2−メチルグルタル酸であることが好ましい(発明10)。   In the said invention (invention 8), it is preferable to contain the component which has a carboxyl group as a component which has the said flux function (invention 9), and it is preferable that the component which has the said carboxyl group is 2-methylglutaric acid. (Invention 10).

本発明の回路部材接続用樹脂シートは、回路部材同士を接続したときに、接続部での接続抵抗が変化し難く、高い信頼性を有するものとなる。   When the circuit members are connected to each other, the circuit member connecting resin sheet of the present invention has a high reliability because the connection resistance at the connecting portion hardly changes.

以下、本発明の実施形態について説明する。
本実施形態に係る回路部材接続用樹脂シートは、相対向する電極間に介在され、相対向する電極を電気的に接続するために用いられるものである。回路部材としては、回路に電極が形成された部材であれば特に限定されないが、例えば、半導体チップ、半導体ウエハのほか、リードフレーム、セラミック回路基板、ガラス回路基板などの無機回路基板、有機リジッド回路基板、フレキシブル回路基板などの有機回路基板、を挙げることができる。
Hereinafter, embodiments of the present invention will be described.
The resin sheet for connecting circuit members according to the present embodiment is interposed between electrodes facing each other, and is used to electrically connect the electrodes facing each other. The circuit member is not particularly limited as long as it is a member in which an electrode is formed on a circuit. For example, in addition to a semiconductor chip and a semiconductor wafer, an inorganic circuit substrate such as a lead frame, a ceramic circuit substrate, and a glass circuit substrate, an organic rigid circuit Examples thereof include organic circuit boards such as substrates and flexible circuit boards.

1.物性
(1)溶融粘度
本実施形態において、樹脂シートを構成する材料は、硬化前における90℃での溶融粘度(以下、「90℃溶融粘度」ということがある。)が、上限値として5.0×10Pa・s以下であり、好ましくは1.0×10Pa・s以下であり、特に好ましくは5.0×10Pa・s以下である。90℃溶融粘度が上記上限値以下であると、回路部材接続用樹脂シートを電極間に介在させたときに、チップや基板等の回路部材の表面の凹凸に良好に追従し、回路部材と樹脂シートからなる層との界面にボイドが発生するのを防止することができる。また、90℃溶融粘度は、下限値として1.0×10Pa・s以上であり、好ましくは1.0×10Pa・s以上であり、特に好ましくは1.0×10Pa・s以上である。90℃溶融粘度が上記下限値以上であると、上記樹脂シートを構成する材料がフローし過ぎることがなく、樹脂シート貼付時や回路接続時において装置の汚染を防止することができる。
そのため、本実施形態に係る回路部材接続用樹脂シートは、構成する材料の90℃溶融粘度が上記範囲にあることで、高い信頼性を有するものとなる。
1. Physical Properties (1) Melt Viscosity In this embodiment, the material constituting the resin sheet has a melt viscosity at 90 ° C. before curing (hereinafter sometimes referred to as “90 ° C. melt viscosity”) as an upper limit value of 5. It is 0 × 10 5 Pa · s or less, preferably 1.0 × 10 5 Pa · s or less, and particularly preferably 5.0 × 10 4 Pa · s or less. When the 90 ° C. melt viscosity is less than or equal to the above upper limit, when the circuit member connecting resin sheet is interposed between the electrodes, the circuit member and the resin are satisfactorily followed by unevenness on the surface of the circuit member such as a chip or a substrate. It is possible to prevent generation of voids at the interface with the layer made of the sheet. The 90 ° C. melt viscosity is 1.0 × 10 0 Pa · s or more as a lower limit, preferably 1.0 × 10 1 Pa · s or more, and particularly preferably 1.0 × 10 2 Pa · s. s or more. When the 90 ° C. melt viscosity is equal to or higher than the lower limit, the material constituting the resin sheet does not flow excessively, and contamination of the apparatus can be prevented when the resin sheet is stuck or when a circuit is connected.
Therefore, the resin sheet for connecting circuit members according to the present embodiment has high reliability when the 90 ° C. melt viscosity of the constituent material is in the above range.

ここで、樹脂シートを構成する材料の90℃溶融粘度は、フローテスターを用いて測定した値であり、試験方法の詳細は後述する実施例にて示すとおりである。   Here, the 90 degreeC melt viscosity of the material which comprises a resin sheet is the value measured using the flow tester, and the detail of a test method is as showing in the Example mentioned later.

(2)平均線膨張係数
本実施形態において、樹脂シートを構成する材料は、硬化物の0〜130℃における平均線膨張係数(以下、単に「平均線膨張係数」ということがある。)が、上限値として45ppm以下であり、好ましくは35ppm以下であり、特に好ましくは25ppm以下である。平均線膨張係数が上記上限値以下であると、硬化物からなる樹脂シートと被着体(回路部材)との線膨張係数の差が小さくなり、かかる差に基づき樹脂シートと被着体との間で発生し得る応力を低減することができる。これにより、本実施形態に係る回路部材接続用樹脂シートは、回路部材同士の接続信頼性を高いものとすることができ、特に実施例で示す温度サイクル試験において高い接続信頼性を示すものとなる。
(2) Average linear expansion coefficient In the present embodiment, the material constituting the resin sheet has an average linear expansion coefficient of the cured product at 0 to 130 ° C. (hereinafter sometimes simply referred to as “average linear expansion coefficient”). The upper limit is 45 ppm or less, preferably 35 ppm or less, and particularly preferably 25 ppm or less. If the average linear expansion coefficient is not more than the above upper limit, the difference in linear expansion coefficient between the cured resin sheet and the adherend (circuit member) becomes small, and based on the difference between the resin sheet and the adherend. It is possible to reduce the stress that can be generated between the two. Thereby, the resin sheet for circuit member connection which concerns on this embodiment can make the connection reliability of circuit members high, and shows high connection reliability especially in the temperature cycle test shown in an Example. .

一方、平均線膨張係数の下限値は特に制限されないが、フィルム形成性の観点から、5ppm以上であることが好ましく、10ppm以上であることがより好ましい。   On the other hand, the lower limit of the average linear expansion coefficient is not particularly limited, but is preferably 5 ppm or more and more preferably 10 ppm or more from the viewpoint of film formability.

ここで、樹脂シートを構成する材料の平均線膨張係数は、熱機械分析装置を用いて測定した値であり、試験方法の詳細は後述する実施例にて示すとおりである。   Here, the average linear expansion coefficient of the material constituting the resin sheet is a value measured using a thermomechanical analyzer, and the details of the test method are as shown in Examples described later.

(3)ガラス転移温度
本実施形態において、樹脂シートを構成する材料は、硬化物のガラス転移温度(Tg)が、下限値として150℃以上であることが好ましく、200℃以上であることがさらに好ましく、240℃以上であることが特に好ましい。硬化物のガラス転移温度が上記下限値以上であると、温度サイクル試験時に硬化物が変形せず、応力が発生しづらくなるため、好ましい。一方、硬化物のガラス転移温度の上限値は特に制限されないが、硬化物の脆化を抑制する観点から、350℃以下であることが好ましく、300℃以下であることがより好ましい。
ここで、樹脂シートを構成する材料の硬化物のガラス転移温度は、動的粘弾性測定機器(ティー・エイ・インスツルメント社製,DMA Q800)を用い、周波数11Hz、振幅10μm、昇温速度3℃/分で、0℃から300℃まで昇温させて引張モードによる粘弾性を測定したときの、tanδ(損失弾性率/貯蔵弾性率)の最大点の温度である。
(3) Glass transition temperature In this embodiment, it is preferable that the material which comprises a resin sheet has the glass transition temperature (Tg) of hardened | cured material as 150 degreeC or more as a lower limit, and it is 200 degrees C or more further. The temperature is preferably 240 ° C. or higher. It is preferable for the glass transition temperature of the cured product to be equal to or higher than the above lower limit value because the cured product is not deformed during the temperature cycle test and stress is hardly generated. On the other hand, the upper limit value of the glass transition temperature of the cured product is not particularly limited, but is preferably 350 ° C. or less and more preferably 300 ° C. or less from the viewpoint of suppressing embrittlement of the cured product.
Here, the glass transition temperature of the cured material of the material constituting the resin sheet was measured using a dynamic viscoelasticity measuring instrument (manufactured by TA Instruments, DMA Q800), with a frequency of 11 Hz, an amplitude of 10 μm, and a rate of temperature increase. This is the temperature at the maximum point of tan δ (loss elastic modulus / storage elastic modulus) when the viscoelasticity in the tensile mode is measured by raising the temperature from 0 ° C. to 300 ° C. at 3 ° C./min.

2.材料
本実施形態に係る回路部材接続用樹脂シートは、前述した90℃溶融粘度および平均線膨張係数を満たし、好ましくは、さらに前述したガラス転移温度を満たす材料によって構成される。
2. Material The resin sheet for connecting circuit members according to the present embodiment satisfies the above-described 90 ° C. melt viscosity and average linear expansion coefficient, and is preferably made of a material that satisfies the above-described glass transition temperature.

(1)熱可塑性成分
上記樹脂シートを構成する材料は、熱可塑性成分を含有することが好ましい。熱可塑性成分を含有することで、当該材料の90℃溶融粘度と、平均線膨張係数とが、前述した数値範囲を満たしやすくなる。
(1) Thermoplastic component It is preferable that the material which comprises the said resin sheet contains a thermoplastic component. By containing a thermoplastic component, the 90 ° C. melt viscosity and the average linear expansion coefficient of the material can easily satisfy the numerical range described above.

熱可塑性成分としては、例えば、(メタ)アクリル系樹脂、フェノキシ樹脂、ポリエステル樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリイミド樹脂、ポリアミドイミド樹脂、シロキサン変性ポリイミド樹脂、ポリブタジエン樹脂、ポリプロピレン樹脂、スチレン−ブタジエン−スチレン共重合体、スチレン−エチレン−ブチレン−スチレン共重合体、ポリアセタール樹脂、ポリビニルブチラール樹脂をはじめとするポリビニルアセタール樹脂、ブチルゴム、クロロプレンゴム、ポリアミド樹脂、アクリロニトリル−ブタジエン共重合体、アクリロニトリル−ブタジエン−アクリル酸共重合体、アクリロニトリル−ブタジエン−スチレン共重合体、ポリ酢酸ビニル、ナイロン等が挙げられ、1種を単独でまたは2種以上を組み合わせて用いることができる。   Examples of the thermoplastic component include (meth) acrylic resin, phenoxy resin, polyester resin, polyurethane resin, polyimide resin, polyamideimide resin, siloxane-modified polyimide resin, polybutadiene resin, polypropylene resin, and styrene-butadiene-styrene copolymer. Styrene-ethylene-butylene-styrene copolymer, polyacetal resin, polyvinyl acetal resin including polyvinyl butyral resin, butyl rubber, chloroprene rubber, polyamide resin, acrylonitrile-butadiene copolymer, acrylonitrile-butadiene-acrylic acid copolymer , Acrylonitrile-butadiene-styrene copolymer, polyvinyl acetate, nylon and the like, and one kind can be used alone, or two or more kinds can be used in combination.

なお、本明細書における「(メタ)アクリル酸」は、アクリル酸およびメタクリル酸の両方を意味する。「(メタ)アクリル系樹脂」等の他の類似用語についても同様である。   In addition, “(meth) acrylic acid” in the present specification means both acrylic acid and methacrylic acid. The same applies to other similar terms such as “(meth) acrylic resin”.

前述した熱可塑性成分の中でも、ポリビニルアセタール樹脂、およびポリエステル樹脂からなる群より選択される1種以上を用いることが好ましい。上記樹脂シートを構成する材料は、これらの熱可塑性成分を含有することで、90℃溶融粘度および平均線膨張係数が、ともに低い値となり、その結果これらの値を前述した数値範囲内とすることが容易になる。   Among the thermoplastic components described above, it is preferable to use one or more selected from the group consisting of polyvinyl acetal resins and polyester resins. The material constituting the resin sheet contains these thermoplastic components, so that both the 90 ° C. melt viscosity and the average linear expansion coefficient are both low, and as a result, these values are within the numerical range described above. Becomes easier.

ここで、ポリビニルアセタール樹脂は、ポリ酢酸ビニルを鹸化することにより得られるポリビニルアルコールを、アルデヒドによりアセタール化して得られるものである。アセタール化に用いられるアルデヒドとしては、n−ブチルアルデヒド、n−ヘキシルアルデヒド、n−バレルアルデヒド等が挙げられる。ポリビニルアセタール樹脂としては、n−ブチルアルデヒドを用いてアセタール化したポリビニルブチラール樹脂を用いることも好ましい。   Here, the polyvinyl acetal resin is obtained by acetalizing polyvinyl alcohol obtained by saponifying polyvinyl acetate with aldehyde. Examples of the aldehyde used for acetalization include n-butyraldehyde, n-hexylaldehyde, n-valeraldehyde and the like. As the polyvinyl acetal resin, it is also preferable to use a polyvinyl butyral resin acetalized with n-butyraldehyde.

ポリエステル樹脂としては、例えば、ポリエチレンテレフタレート樹脂、ポリブチレンテレフタレート樹脂、ポリエチレンオキザレート樹脂等のジカルボン酸成分およびジオール成分を重縮合して得られるポリエステル樹脂;これらにポリイソシアネート化合物を反応させて得るウレタン変性ポリエステル樹脂等の変性ポリエステル樹脂;アクリル樹脂および/またはビニル樹脂をグラフト化したポリエステル樹脂などが挙げられ、1種を単独でまたは2種以上を組み合わせて用いることができる。   Examples of polyester resins include polyester resins obtained by polycondensation of dicarboxylic acid components and diol components such as polyethylene terephthalate resin, polybutylene terephthalate resin, and polyethylene oxalate resin; urethane obtained by reacting these with a polyisocyanate compound. Modified polyester resins such as modified polyester resins; polyester resins grafted with acrylic resins and / or vinyl resins, and the like can be used, and one kind can be used alone or two or more kinds can be used in combination.

また、上記樹脂シートを構成する材料は、熱可塑性成分としてポリビニルアセタール樹脂、またはポリエステル樹脂を含有する場合、さらにフェノキシ樹脂を含有することが特に好ましい。フェノキシ樹脂をさらに含有する場合、上記樹脂シートを構成する材料は、90℃溶融粘度および平均線膨張係数が前述した数値範囲をさらに満たしやすくなる。   Moreover, when the material which comprises the said resin sheet contains a polyvinyl acetal resin or a polyester resin as a thermoplastic component, it is especially preferable to contain a phenoxy resin further. In the case of further containing a phenoxy resin, the material constituting the resin sheet is more likely to satisfy the numerical range described above in terms of 90 ° C. melt viscosity and average linear expansion coefficient.

フェノキシ樹脂としては、特に限定されないが、例えば、ビスフェノールAタイプ、ビスフェノールFタイプ、ビフェノールタイプ、ビフェニルタイプ等が例示される。   Although it does not specifically limit as a phenoxy resin, For example, a bisphenol A type, a bisphenol F type, a biphenol type, a biphenyl type etc. are illustrated.

上記熱可塑性成分は、軟化点の下限値が50℃以上であることが好ましく、100℃以上であることがさらに好ましく、120℃以上であることが特に好ましい。また、上記熱可塑性成分は、軟化点の上限値が200℃以下であることが好ましく、180℃以下であることがさらに好ましく、150℃以下であることが特に好ましい。軟化点が上記下限値以上である熱可塑性成分を含有させることにより、上記樹脂シートを構成する材料の平均線膨張係数を低減させることができ、前述した数値範囲を満たしやすくなる。また、軟化点が上記上限値以下であると、シートの脆化を抑制することができる。なお、軟化点は、ASTM D1525に基づいて測定した値とする。   The thermoplastic component preferably has a lower limit of the softening point of 50 ° C. or higher, more preferably 100 ° C. or higher, and particularly preferably 120 ° C. or higher. Moreover, the upper limit value of the softening point of the thermoplastic component is preferably 200 ° C. or less, more preferably 180 ° C. or less, and particularly preferably 150 ° C. or less. By including a thermoplastic component having a softening point equal to or higher than the lower limit, the average linear expansion coefficient of the material constituting the resin sheet can be reduced, and the above-described numerical range is easily satisfied. Moreover, the embrittlement of a sheet | seat can be suppressed as a softening point is below the said upper limit. The softening point is a value measured based on ASTM D1525.

上記熱可塑性成分は、ガラス転移温度の下限値が50℃以上であることが好ましく、60℃以上であることがさらに好ましく、80℃以上であることが特に好ましい。また、上記熱可塑性成分は、ガラス転移温度の上限値が250℃以下であることが好ましく、200℃以下であることがさらに好ましく、180℃以下であることが特に好ましい。ガラス転移温度が上記下限値以上である熱可塑性成分を含有させることにより、上記樹脂シートを構成する材料の平均線膨張係数を低減させることができ、前述した数値範囲を満たしやすくなる。また、ガラス転移温度が上記上限値以下であると、他の材料との相溶性に優れたものとなる。なお、熱可塑性成分のガラス転移温度は、示差走査熱量分析計を用いて測定した値であり、具体的な測定方法は、後述する実施例にて示す。   The thermoplastic component preferably has a glass transition temperature lower limit value of 50 ° C. or higher, more preferably 60 ° C. or higher, and particularly preferably 80 ° C. or higher. The upper limit of the glass transition temperature of the thermoplastic component is preferably 250 ° C. or lower, more preferably 200 ° C. or lower, and particularly preferably 180 ° C. or lower. By including a thermoplastic component having a glass transition temperature of the lower limit value or more, the average linear expansion coefficient of the material constituting the resin sheet can be reduced, and the above-described numerical range is easily satisfied. Moreover, it becomes what was excellent in compatibility with another material as a glass transition temperature is below the said upper limit. In addition, the glass transition temperature of a thermoplastic component is the value measured using the differential scanning calorimeter, and a specific measuring method is shown in the Example mentioned later.

上記熱可塑性成分は、重量平均分子量が1万以上であることが好ましく、3万以上であることがさらに好ましく、5万以上であることが特に好ましい。また、上限値が100万以下であることが好ましく、70万以下であることがさらに好ましく、50万以下であることが特に好ましい。重量平均分子量が上記下限値以上であると、フィルム形成性を維持しつつ、溶融粘度も低下させることが可能なため、好ましい。また、重量平均分子量が上記上限値以下であると、熱硬化性分等の低分子量成分との相溶性が向上するため、好ましい。なお、本明細書における重量平均分子量は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー(GPC)法により測定した標準ポリスチレン換算の値である。   The thermoplastic component preferably has a weight average molecular weight of 10,000 or more, more preferably 30,000 or more, and particularly preferably 50,000 or more. Further, the upper limit is preferably 1,000,000 or less, more preferably 700,000 or less, and particularly preferably 500,000 or less. It is preferable for the weight average molecular weight to be not less than the above lower limit value, since the film viscosity can be maintained and the melt viscosity can be lowered. Moreover, since a compatibility with low molecular weight components, such as a thermosetting component, improves that a weight average molecular weight is below the said upper limit, it is preferable. In addition, the weight average molecular weight in this specification is the value of standard polystyrene conversion measured by the gel permeation chromatography (GPC) method.

上記樹脂シートを構成する材料における上記熱可塑性成分の含有量は、下限値が3質量%以上であることが好ましく、5質量%以上であることがさらに好ましく、7質量%以上であることが特に好ましい。また、上記熱可塑性成分の含有量は、上限値が95質量%以下であることが好ましく、90質量%以下であることがさらに好ましく、80質量%以下であることが特に好ましい。上記熱可塑性成分の含有量が、上記下限値以上であると、樹脂シートを構成する材料の90℃溶融粘度をさらに低い値とすることができ、前述した数値範囲を満たしやすくなる。一方、上記熱可塑性成分の含有量が上記上限値以下であると、樹脂シートを構成する材料の平均線膨張係数をさらに低減することができ、前述した数値範囲を満たしやすくなる。   The lower limit of the content of the thermoplastic component in the material constituting the resin sheet is preferably 3% by mass or more, more preferably 5% by mass or more, and particularly preferably 7% by mass or more. preferable. The upper limit of the thermoplastic component content is preferably 95% by mass or less, more preferably 90% by mass or less, and particularly preferably 80% by mass or less. When the content of the thermoplastic component is equal to or more than the lower limit value, the 90 ° C. melt viscosity of the material constituting the resin sheet can be further lowered, and the above-described numerical range is easily satisfied. On the other hand, when the content of the thermoplastic component is not more than the upper limit value, the average linear expansion coefficient of the material constituting the resin sheet can be further reduced, and the above-described numerical range is easily satisfied.

(2)無機フィラー
上記樹脂シートを構成する材料は、無機フィラーを含有することが好ましい。樹脂シートを構成する材料は、無機フィラーを含有することで、平均線膨張係数が低い値となるため、本実施形態に係る回路部材接続用樹脂シートを用いたときに、回路部材同士の接続信頼性を高いものとすることができる。
(2) Inorganic filler It is preferable that the material which comprises the said resin sheet contains an inorganic filler. Since the material constituting the resin sheet contains an inorganic filler, the average linear expansion coefficient becomes a low value. Therefore, when the resin sheet for connecting circuit members according to this embodiment is used, the connection reliability between the circuit members is The property can be made high.

本実施形態において使用し得る無機フィラーは、特に限定されないが、シリカ、アルミナ、ガラス、酸化チタン、マイカ等を例示することができ、これらは1種を単独でまたは2種以上を組み合わせて用いることができる。これらの中でもシリカフィラーが好ましい。シリカフィラーの形状としては、球状が好ましい。   Although the inorganic filler which can be used in this embodiment is not specifically limited, A silica, an alumina, glass, a titanium oxide, mica etc. can be illustrated, These are used individually by 1 type or in combination of 2 or more types. Can do. Among these, silica filler is preferable. The shape of the silica filler is preferably spherical.

上記無機フィラーの平均粒径は、下限値が10nm以上であることが好ましく、20nm以上であることがさらに好ましく、30nm以上であることが特に好ましい。また、上記無機フィラーの平均粒径は、上限値が200nm以下であることが好ましく、150nm以下であることがさらに好ましく、100nm以下であることが特に好ましい。無機フィラーの平均粒径が上記下限値以上であると、シートの透明性と低い溶融粘度とを両立することができる。また、無機フィラーの平均粒径が上記上限値以下であると、上記樹脂シートを構成する材料における90℃溶融粘度を低い値に維持することができる。   The lower limit of the average particle diameter of the inorganic filler is preferably 10 nm or more, more preferably 20 nm or more, and particularly preferably 30 nm or more. The average particle size of the inorganic filler is preferably 200 nm or less, more preferably 150 nm or less, and particularly preferably 100 nm or less. When the average particle size of the inorganic filler is not less than the above lower limit, both the transparency of the sheet and the low melt viscosity can be achieved. Moreover, 90 degreeC melt viscosity in the material which comprises the said resin sheet can be maintained to a low value as the average particle diameter of an inorganic filler is below the said upper limit.

また、樹脂シートを構成する材料における無機フィラーの含有量は、下限値が35質量%以上であることが好ましく、40質量%以上であることがさらに好ましく、50質量%以上であることが特に好ましい。また、上記無機フィラーの含有量は、上限値が64質量%以下であることが好ましく、60質量%以下であることがさらに好ましく、56質量%以下であることが特に好ましい。樹脂シートを構成する材料において、無機フィラーの含有量が上記下限値以上であると、当該材料の平均線膨張係数をより低減することができ、前述した数値範囲を満たしやすくなる。一方、無機フィラーの含有量が上記上限値以下であると、当該材料の90℃溶融粘度を低い値に維持することができ、前述した数値範囲を満たしやすくなる。   The lower limit of the content of the inorganic filler in the material constituting the resin sheet is preferably 35% by mass or more, more preferably 40% by mass or more, and particularly preferably 50% by mass or more. . The upper limit of the content of the inorganic filler is preferably 64% by mass or less, more preferably 60% by mass or less, and particularly preferably 56% by mass or less. In the material which comprises a resin sheet, the average linear expansion coefficient of the said material can be reduced more as content of an inorganic filler is more than the said lower limit, and it will become easy to satisfy | fill the numerical range mentioned above. On the other hand, when the content of the inorganic filler is not more than the above upper limit value, the 90 ° C. melt viscosity of the material can be maintained at a low value, and the above-described numerical range is easily satisfied.

(3)フラックス機能を有する成分
本実施形態において、回路部材の電極が半田で接合される場合、本実施形態の回路部材接続用樹脂シートを構成する材料は、フラックス機能を有する成分(以下「フラックス成分」ということがある。)を含有することが好ましい。フラックス成分は、電極表面に形成された金属酸化膜を除去する作用を有するものであり、半田による電極間の電気的接続をより確実なものとし、半田接合部における接続信頼性を高めることができる。
(3) Component having a flux function In the present embodiment, when the electrodes of the circuit member are joined by solder, the material constituting the resin sheet for connecting a circuit member of the present embodiment is a component having a flux function (hereinafter referred to as “flux”). It is preferable to contain a "component". The flux component has an action of removing the metal oxide film formed on the electrode surface, makes the electrical connection between the electrodes by solder more reliable, and can improve the connection reliability at the solder joint. .

フラックス成分としては、特に限定されないが、フェノール性水酸基および/またはカルボキシル基を有する成分であることが好ましく、カルボキシル基を有する成分であることが特に好ましい。カルボキシル基を有する成分は、フラックス機能を有するとともに、後述するエポキシ樹脂を熱硬化性成分として用いた場合に硬化剤としての作用をも有する。そのため、カルボキシル基を有する成分は、半田接合が完了した後は硬化剤として反応し消費されるため、過剰のフラックス成分に起因した不具合を抑制することができる。   Although it does not specifically limit as a flux component, It is preferable that it is a component which has a phenolic hydroxyl group and / or a carboxyl group, and it is especially preferable that it is a component which has a carboxyl group. The component having a carboxyl group has a flux function and also has a function as a curing agent when an epoxy resin described later is used as a thermosetting component. For this reason, the component having a carboxyl group reacts and is consumed as a curing agent after the solder bonding is completed, so that it is possible to suppress problems caused by excessive flux components.

具体的なフラックス成分としては、例えば、グルタル酸、2−メチルグルタル酸、オルトアニス酸、ジフェノール酸、アジピン酸、アセチルサリチル酸、安息香酸、ベンジル酸、アゼライン酸、ベンジル安息香酸、マロン酸、2,2−ビス(ヒドロキシメチル)プロピオン酸、サリチル酸、o−メトキシ安息香酸、m−ヒドロキシ安息香酸、コハク酸、2,6−ジメトキシメチルパラクレゾール、安息香酸ヒドラジド、カルボヒドラジド、マロン酸ジヒドラジド、コハク酸ジヒドラジド、グルタル酸ジヒドラジド、サリチル酸ヒドラジド、イミノジ酢酸ジヒドラジド、イタコン酸ジヒドラジド、クエン酸トリヒドラジド、チオカルボヒドラジド、ベンゾフェノンヒドラゾン、4,4’−オキシビスベンゼンスルホニルヒドラジド、アジピン酸ジヒドラジド、ロジン誘導体などが挙げられ、これらは1種を単独でまたは2種以上を組み合わせて用いることができる。
ロジン誘導体としてはガムロジン、トールロジン、ウッドロジン、重合ロジン、水素添加ロジン、ホルミル化ロジン、ロジンエステル、ロジン変性マレイン酸樹脂、ロジン変性フェノール樹脂、ロジン変性アルキド樹脂、などが挙げられる。
Specific flux components include, for example, glutaric acid, 2-methylglutaric acid, orthoanisic acid, diphenolic acid, adipic acid, acetylsalicylic acid, benzoic acid, benzylic acid, azelaic acid, benzylbenzoic acid, malonic acid, 2, 2-bis (hydroxymethyl) propionic acid, salicylic acid, o-methoxybenzoic acid, m-hydroxybenzoic acid, succinic acid, 2,6-dimethoxymethylparacresol, benzoic hydrazide, carbohydrazide, malonic dihydrazide, succinic dihydrazide Glutaric acid dihydrazide, salicylic acid hydrazide, iminodiacetic acid dihydrazide, itaconic acid dihydrazide, citric acid trihydrazide, thiocarbohydrazide, benzophenone hydrazone, 4,4′-oxybisbenzenesulfonylhydrazide, adipic acid dihydride A hydrazide, a rosin derivative, etc. are mentioned, These can be used individually by 1 type or in combination of 2 or more types.
Examples of rosin derivatives include gum rosin, tall rosin, wood rosin, polymerized rosin, hydrogenated rosin, formylated rosin, rosin ester, rosin modified maleic resin, rosin modified phenolic resin, rosin modified alkyd resin, and the like.

これらの中でも、2−メチルグルタル酸やロジン誘導体が特に好ましい。2−メチルグルタル酸は、回路部材接続用樹脂シートを構成する材料において、分子量が比較的小さいながらも分子内にカルボキシル基を2つ有するため、少量の添加であってもフラックス機能に優れ、本実施形態では特に好適に用いることができる。ロジン誘導体は軟化点が高く、低線膨張係数化を維持しつつ、フラックス性を付与することが出来るため、本実施形態では特に好適に用いることができる。   Among these, 2-methylglutaric acid and rosin derivatives are particularly preferable. 2-Methylglutaric acid is a material constituting the resin sheet for connecting circuit members, and has two carboxyl groups in the molecule although the molecular weight is relatively small. In the embodiment, it can be particularly preferably used. Since the rosin derivative has a high softening point and can impart a flux property while maintaining a low linear expansion coefficient, it can be used particularly suitably in this embodiment.

本実施形態において、樹脂シートを構成する材料におけるフラックス成分の含有量は、下限値が1質量%以上であることが好ましく、3質量%以上であることがさらに好ましく、5質量%以上であることが特に好ましい。また、上記フラックス成分の含有量は、上限値が20質量%以下であることが好ましく、15質量%以下であることがさらに好ましく、10質量%以下であることが特に好ましい。樹脂シートを構成する材料において、フラックス成分の含有量が上記下限値以上であると、半田による電極間の電気的接続をより確実なものとし、半田接合部における接続信頼性をさらに高めることができる。一方、フラックス成分の含有量が上記上限値以下であると、過剰のフラックス成分に起因するイオンマイグレーション等の不具合を防止することができる。   In the present embodiment, the lower limit of the content of the flux component in the material constituting the resin sheet is preferably 1% by mass or more, more preferably 3% by mass or more, and 5% by mass or more. Is particularly preferred. The upper limit of the content of the flux component is preferably 20% by mass or less, more preferably 15% by mass or less, and particularly preferably 10% by mass or less. In the material constituting the resin sheet, when the content of the flux component is equal to or higher than the lower limit, the electrical connection between the electrodes by solder can be made more reliable, and the connection reliability at the solder joint can be further improved. . On the other hand, when the content of the flux component is not more than the above upper limit value, it is possible to prevent problems such as ion migration due to an excessive flux component.

(4)熱硬化性成分
本実施形態の回路部材接続用樹脂シートを構成する材料は、熱硬化性成分を含有することが好ましい。
熱硬化性成分としては、半導体チップ等の回路部材の接続用に通常用いられる接着剤成分であれば特に限定されない。具体的には、エポキシ樹脂、フェノール樹脂、メラミン樹脂、尿素樹脂、ポリエステル樹脂、ウレタン樹脂、アクリル樹脂、ポリイミド樹脂、ベンゾオキサジン樹脂などが挙げられ、これらは1種を単独でまたは2種以上を組み合わせて用いることができる。これらの中でも、接着性等の観点から、エポキシ樹脂およびフェノール樹脂が好ましく、エポキシ樹脂が特に好ましい。
(4) Thermosetting component It is preferable that the material which comprises the resin sheet for circuit member connection of this embodiment contains a thermosetting component.
The thermosetting component is not particularly limited as long as it is an adhesive component usually used for connecting circuit members such as semiconductor chips. Specific examples include epoxy resins, phenol resins, melamine resins, urea resins, polyester resins, urethane resins, acrylic resins, polyimide resins, benzoxazine resins, and the like. These may be used alone or in combination of two or more. Can be used. Among these, from the viewpoint of adhesiveness and the like, an epoxy resin and a phenol resin are preferable, and an epoxy resin is particularly preferable.

エポキシ樹脂は、加熱を受けると三次元網状化し、強固な硬化物を形成する性質を有する。このようなエポキシ樹脂としては、従来より公知の種々のエポキシ樹脂が用いられるが、具体的には、ビスフェノールA、ビスフェノールF、レゾルシノール、フェニルノボラック、クレゾールノボラック等のフェノール類のグリシジルエーテル;ブタンジオール、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール等のアルコール類のグリシジルエーテル;フタル酸、イソフタル酸、テトラヒドロフタル酸等のカルボン酸のグリシジルエーテル;アニリンイソシアヌレート等の窒素原子に結合した活性水素をグリシジル基で置換したグリシジル型もしくはアルキルグリシジル型のエポキシ樹脂;ビニルシクロヘキサンジエポキシド、3,4−エポキシシクロヘキシルメチル−3,4−ジシクロヘキサンカルボキシレート、2−(3,4−エポキシ)シクロヘキシル−5,5−スピロ(3,4−エポキシ)シクロヘキサン−m−ジオキサン等のように、分子内の炭素−炭素二重結合を例えば酸化することによりエポキシが導入された、いわゆる脂環型エポキシドを挙げることができる。その他、ビフェニル骨格、ジシクロヘキサジエン骨格、ナフタレン骨格等を有するエポキシ樹脂を用いることもできる。これらエポキシ樹脂は、1種を単独で、または2種以上を組み合わせて用いることができる。   Epoxy resins have the property of forming a three-dimensional network upon heating and forming a hardened product. As such an epoxy resin, various conventionally known epoxy resins are used. Specifically, glycidyl ethers of phenols such as bisphenol A, bisphenol F, resorcinol, phenyl novolac, cresol novolac; butanediol, Glycidyl ether of alcohols such as polyethylene glycol and polypropylene glycol; Glycidyl ether of carboxylic acid such as phthalic acid, isophthalic acid and tetrahydrophthalic acid; Glycidyl type in which active hydrogen bonded to nitrogen atom such as aniline isocyanurate is substituted with glycidyl group Or an alkyl glycidyl type epoxy resin; vinylcyclohexane diepoxide, 3,4-epoxycyclohexylmethyl-3,4-dicyclohexanecarboxylate, 2- (3,4- So-called alicyclic in which epoxy is introduced by, for example, oxidizing a carbon-carbon double bond in the molecule, such as (poxy) cyclohexyl-5,5-spiro (3,4-epoxy) cyclohexane-m-dioxane. Mention may be made of type epoxides. In addition, an epoxy resin having a biphenyl skeleton, a dicyclohexadiene skeleton, a naphthalene skeleton, or the like can also be used. These epoxy resins can be used alone or in combination of two or more.

本実施形態において、樹脂シートを構成する材料における上記熱硬化性成分の含有量は、下限値が5質量%以上であることが好ましく、10質量%以上であることがさらに好ましい。また、上記熱硬化性成分の含有量は、上限値が75質量%以下であることが好ましく、60質量%以下であることがさらに好ましく、55質量%以下であることが特に好ましい。上記熱硬化性成分の含有量が、上記範囲であることで、回路部材同士の接続強度を十分に確保することができるともに、樹脂シートを構成する材料における90℃溶融粘度および平均線膨張係数を前述した数値範囲に調整しやすくなる。   In this embodiment, the lower limit of the content of the thermosetting component in the material constituting the resin sheet is preferably 5% by mass or more, and more preferably 10% by mass or more. The upper limit of the content of the thermosetting component is preferably 75% by mass or less, more preferably 60% by mass or less, and particularly preferably 55% by mass or less. When the content of the thermosetting component is within the above range, the connection strength between the circuit members can be sufficiently ensured, and the 90 ° C. melt viscosity and the average linear expansion coefficient in the material constituting the resin sheet can be obtained. It becomes easy to adjust to the numerical range mentioned above.

(5)硬化剤・硬化触媒
本実施形態の回路部材接続用樹脂シートを構成する材料が前述した熱硬化性成分を含有する場合、当該材料はさらに硬化剤および硬化触媒を含有することが好ましい。
(5) Curing Agent / Curing Catalyst When the material constituting the resin sheet for connecting circuit members of this embodiment contains the thermosetting component described above, the material preferably further contains a curing agent and a curing catalyst.

硬化剤としては、特に限定されないが、フェノール類、アミン類、チオール類等が挙げられ、前述した熱硬化成分の種類に応じて適宜選択することができる。例えば、硬化性成分としてエポキシ樹脂を使用する場合には、エポキシ樹脂との反応性等の観点から、フェノール類が好ましい。   Although it does not specifically limit as a hardening | curing agent, Phenols, amines, thiols, etc. are mentioned, According to the kind of thermosetting component mentioned above, it can select suitably. For example, when an epoxy resin is used as the curable component, phenols are preferable from the viewpoint of reactivity with the epoxy resin.

フェノール類としては、例えば、ビスフェノールA、テトラメチルビスフェノールA、ジアリルビスフェノールA、ビフェノール、ビスフェノールF、ジアリルビスフェノールF、トリフェニルメタン型フェノール、テトラキスフェノール、ノボラック型フェノール、クレゾールノボラック樹脂等が挙げられ、これらは1種を単独でまたは2種以上を組み合わせて用いることができる。   Examples of phenols include bisphenol A, tetramethyl bisphenol A, diallyl bisphenol A, biphenol, bisphenol F, diallyl bisphenol F, triphenylmethane type phenol, tetrakisphenol, novolac type phenol, cresol novolac resin, and the like. Can be used singly or in combination of two or more.

また、硬化触媒としては、特に限定されないが、イミダゾール系、リン系、アミン系等が挙げられ、前述した熱硬化成分等の種類に応じて適宜選択することができる。例えば、硬化性成分としてエポキシ樹脂を使用する場合には、エポキシ樹脂との反応性等の観点から、イミダゾール系硬化触媒が好ましい。   In addition, the curing catalyst is not particularly limited, and examples thereof include imidazole-based, phosphorus-based, and amine-based, and can be appropriately selected according to the type of the thermosetting component described above. For example, when an epoxy resin is used as the curable component, an imidazole-based curing catalyst is preferable from the viewpoint of reactivity with the epoxy resin.

本実施形態において、樹脂シートを構成する材料における硬化触媒の含有量は、下限値が0.1質量%以上であることが好ましく、0.2質量%以上であることがさらに好ましく、0.4質量%以上であることが特に好ましい。また、上記硬化触媒の含有量は、上限値が10質量%以下であることが好ましく、5質量%以下であることがさらに好ましく、3質量%以下であることが特に好ましい。樹脂シートを構成する材料において、硬化触媒の含有量が上記下限値以上であると、熱硬化性成分を十分に硬化させることができる。一方、硬化触媒の含有量が上記上限値以下であると、樹脂シートの保存安定性が良好となる。   In the present embodiment, the lower limit of the content of the curing catalyst in the material constituting the resin sheet is preferably 0.1% by mass or more, more preferably 0.2% by mass or more, and 0.4 It is particularly preferable that the content is at least mass%. The upper limit of the content of the curing catalyst is preferably 10% by mass or less, more preferably 5% by mass or less, and particularly preferably 3% by mass or less. In the material which comprises a resin sheet, a thermosetting component can fully be hardened as content of a curing catalyst is more than the said lower limit. On the other hand, when the content of the curing catalyst is not more than the above upper limit value, the storage stability of the resin sheet becomes good.

(6)その他の成分
本実施形態に係る回路部材接続用樹脂シートは、当該樹脂シートを構成する材料として、さらに、可塑剤、安定剤、粘着付与材、着色剤、カップリング剤、帯電防止剤、酸化防止剤、導電性粒子等を含有してもよい。
(6) Other components The resin sheet for connecting circuit members according to the present embodiment further includes a plasticizer, a stabilizer, a tackifier, a colorant, a coupling agent, and an antistatic agent as a material constituting the resin sheet. Further, it may contain an antioxidant, conductive particles and the like.

例えば、上記樹脂シートを構成する材料が導電性粒子等を含有することで、回路部材接続用樹脂シートに異方導電性が付与されると、半田接合を補完する態様にて、または半田接合とは異なる態様にて、回路部材同士を電気的に接合することができる。   For example, when the material constituting the resin sheet contains conductive particles and the like, and anisotropic conductivity is imparted to the resin sheet for connecting circuit members, in an aspect that complements solder bonding, or with solder bonding The circuit members can be electrically joined in different manners.

3.その他の構成
本実施形態に係る回路部材接続用樹脂シートは、さらに剥離シートが積層されていてもよい。また、本実施形態に係る回路部材接続用樹脂シートにダイシングシートをさらに積層したダイシングシート一体型シート(ダイシング・ダイボンディングシート)としてもよく、バックグラインドシートをさらに積層したバックグラインドシート一体型接着シートとしてもよい。
3. Other Configurations The resin sheet for connecting circuit members according to the present embodiment may be further laminated with a release sheet. Also, a dicing sheet integrated sheet (dicing / die bonding sheet) obtained by further laminating a dicing sheet on the circuit member connecting resin sheet according to the present embodiment, or a back grind sheet integrated adhesive sheet obtained by further laminating a back grind sheet. It is good.

本実施形態に係る回路部材接続用樹脂シートにおいて剥離シートがさらに積層されている場合、剥離シートの構成は任意であり、例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステルフィルム、ポリプロピレン、ポリエチレン等のポリオレフィンフィルムなどのプラスチックフィルムが挙げられる。これらの剥離面(樹脂シートと接する面)には、剥離処理が施されていることが好ましい。剥離処理に使用される剥離剤としては、例えば、シリコーン系、フッ素系、長鎖アルキル系等の剥離剤が挙げられる。   When the release sheet is further laminated in the resin sheet for circuit member connection according to the present embodiment, the configuration of the release sheet is arbitrary, for example, a polyester film such as polyethylene terephthalate, polybutylene terephthalate, polyethylene naphthalate, polypropylene, Examples thereof include a plastic film such as a polyolefin film such as polyethylene. It is preferable that a peeling treatment is performed on these peeling surfaces (surfaces in contact with the resin sheet). Examples of the release agent used for the release treatment include silicone-based, fluorine-based, and long-chain alkyl-based release agents.

回路部材接続用樹脂シートの両面に剥離シートを積層する場合、一方の剥離シートを剥離力の大きい重剥離型剥離シートとし、他方の剥離シートを剥離力の小さい軽剥離型剥離シートとすることが好ましい。   When laminating release sheets on both sides of the resin sheet for connecting circuit members, one release sheet may be a heavy release release sheet having a high release force, and the other release sheet may be a light release release sheet having a low release force. preferable.

剥離シートの厚さについては特に制限はないが、通常20〜250μm程度である。   Although there is no restriction | limiting in particular about the thickness of a peeling sheet, Usually, it is about 20-250 micrometers.

ダイシングシートとしては、一般的に用いられるものであれば特に制限されないが、例えば、基材の片面に粘着剤層が積層されたシートを例示することができる。   Although it will not restrict | limit especially if it is generally used as a dicing sheet, For example, the sheet | seat with which the adhesive layer was laminated | stacked on the single side | surface of a base material can be illustrated.

ダイシングシートの基材の構成材料としては特に限定されないが、例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリブテン、ポリブタジエン、ポリメチルペンテン、ポリ塩化ビニル、塩化ビニル共重合体、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリウレタン、エチレン酢酸ビニル共重合体、アイオノマー、エチレン・(メタ)アクリル酸共重合体、エチレン・(メタ)アクリル酸エステル共重合体、ポリスチレン、ビニルポリイソプレン、ポリカーボネート、ポリオレフィン等が挙げられ、これらのうちの1種または2種以上の混合物を用いることができる。   The material constituting the substrate of the dicing sheet is not particularly limited. For example, polyethylene, polypropylene, polybutene, polybutadiene, polymethylpentene, polyvinyl chloride, vinyl chloride copolymer, polyethylene terephthalate, polybutylene terephthalate, polyurethane, ethylene acetate Vinyl copolymers, ionomers, ethylene / (meth) acrylic acid copolymers, ethylene / (meth) acrylic acid ester copolymers, polystyrene, vinyl polyisoprene, polycarbonate, polyolefins, etc., one of these Alternatively, a mixture of two or more kinds can be used.

また、ダイシングシートの粘着剤層の構成材料としては特に限定されないが、例えば、アクリル系粘着剤、ゴム系粘着剤等を含む樹脂組成物で構成されているものを用いることができる。アクリル系粘着剤としては、例えば(メタ)アクリル酸およびそれらのエステルで構成される樹脂、(メタ)アクリル酸およびそれらのエステルと、それらと共重合可能な不飽和単量体(例えば酢酸ビニル、スチレン、アクリロニトリル等)との共重合体等が用いられる。また、これらの共重合体を2種類以上混合してもよい。   Moreover, it does not specifically limit as a constituent material of the adhesive layer of a dicing sheet, For example, what is comprised with the resin composition containing an acrylic adhesive, a rubber adhesive, etc. can be used. Examples of the acrylic pressure-sensitive adhesive include resins composed of (meth) acrylic acid and esters thereof, (meth) acrylic acid and esters thereof, and unsaturated monomers copolymerizable therewith (for example, vinyl acetate, Copolymers with styrene, acrylonitrile, etc.) are used. Two or more kinds of these copolymers may be mixed.

かかるダイシングシートと本実施形態の回路部材接続用樹脂シートとを用いてダイシングシート一体型接着シートとする場合、回路部材接続用樹脂シートは、上記ダイシングシートにおける粘着剤層側の面に積層される。ここで、粘着剤層と、回路部材接続用樹脂シートからなる層とは、後述するダイシング工程の後に剥離されるものである。そのため、上記粘着剤層は、エネルギー線照射や加熱などにより粘着力が低下するものであることが好ましい。   When the dicing sheet and the resin sheet for connecting a circuit member of the present embodiment are used as the dicing sheet integrated adhesive sheet, the circuit member connecting resin sheet is laminated on the surface of the dicing sheet on the pressure-sensitive adhesive layer side. . Here, an adhesive layer and the layer which consists of a resin sheet for circuit member connection are peeled after the dicing process mentioned later. Therefore, the pressure-sensitive adhesive layer preferably has a pressure-sensitive adhesive force that is lowered by energy ray irradiation, heating, or the like.

バックグラインドシートとしては、一般的に用いられるものであれば特に制限されないが、例えば、基材の片面に粘着剤層が積層されたシートを例示することができる。   Although it will not restrict | limit especially if it is generally used as a back grind sheet, For example, the sheet | seat with which the adhesive layer was laminated | stacked on the single side | surface of a base material can be illustrated.

バックグラインドシートの基材の構成材料は特に限定されないが、例えば、ポリエチレンテレフタレート(PET)、ポリエチレン(PE)、ポリプロピレン(PP)、エチレン・酢酸ビニル共重合体(EVA)等の樹脂からなるものが挙げられる。   Although the constituent material of the base material of the back grind sheet is not particularly limited, for example, a material made of a resin such as polyethylene terephthalate (PET), polyethylene (PE), polypropylene (PP), ethylene / vinyl acetate copolymer (EVA), etc. Can be mentioned.

また、バックグラインドシートの粘着剤層の構成材料としては特に限定されないが、例えば、アクリル系粘着剤、ゴム系粘着剤等を含む樹脂組成物で構成されているものを用いることができる。アクリル系粘着剤としては、例えば(メタ)アクリル酸およびそれらのエステルで構成される樹脂、(メタ)アクリル酸およびそれらのエステルと、それらと共重合可能な不飽和単量体(例えば酢酸ビニル、スチレン、アクリロニトリル等)との共重合体等が用いられる。また、これらの共重合体を2種類以上混合してもよい。   Further, the constituent material of the pressure-sensitive adhesive layer of the back grind sheet is not particularly limited, but for example, a material composed of a resin composition containing an acrylic pressure-sensitive adhesive, a rubber-based pressure-sensitive adhesive, or the like can be used. Examples of the acrylic pressure-sensitive adhesive include resins composed of (meth) acrylic acid and esters thereof, (meth) acrylic acid and esters thereof, and unsaturated monomers copolymerizable therewith (for example, vinyl acetate, Copolymers with styrene, acrylonitrile, etc.) are used. Two or more kinds of these copolymers may be mixed.

かかるバックグラインドシートと本実施形態の回路部材接続用樹脂シートとを用いてバックグラインドシート一体型接着シートとする場合、回路部材接続用樹脂シートは、上記バックグラインドシートにおける粘着剤層側の面に積層される。ここで、粘着剤層と、回路部材接続用樹脂シートからなる層とは、裏面研削工程の後に剥離されるものである。そのため、上記粘着剤層は、エネルギー線照射や加熱などにより粘着力が低下するものであることが好ましい。   When the back grind sheet and the resin sheet for connecting circuit members of the present embodiment are used as the back grind sheet integrated adhesive sheet, the circuit member connecting resin sheet is placed on the surface of the back grind sheet on the pressure-sensitive adhesive layer side. Laminated. Here, an adhesive layer and the layer which consists of a resin sheet for circuit member connection are peeled after a back surface grinding process. Therefore, the pressure-sensitive adhesive layer preferably has a pressure-sensitive adhesive force that is lowered by energy ray irradiation, heating, or the like.

4.回路部材接続用樹脂シートの製造方法
本実施形態に係る回路部材接続用樹脂シートは、従来の回路部材接続用樹脂シートと同様に製造することができる。例えば、回路部材接続用樹脂シートと剥離シートとの積層体を製造する場合、回路部材接続用樹脂シートを構成する材料、および所望によりさらに溶媒または分散媒を含有する塗工液を調製し、剥離シートの一の面上に、ダイコーター、カーテンコーター、スプレーコーター、スリットコーター、ナイフコーター等によりその塗工液を塗布して塗膜を形成し、当該塗膜を乾燥させることにより、剥離シートとの積層体の一部として樹脂シートを形成することができる。塗工液は、塗布を行うことが可能であればその性状は特に限定されず、樹脂シートを形成するための成分を溶質として含有する場合もあれば、分散質として含有する場合もある。この積層体における剥離シートは工程材料として剥離してもよいし、半導体ウエハやセラミックグリーンシート積層体等の被着体に貼付するまでの間、樹脂シートを保護していてもよい。
4). Manufacturing method of resin sheet for circuit member connection The resin sheet for circuit member connection which concerns on this embodiment can be manufactured similarly to the conventional resin sheet for circuit member connection. For example, when producing a laminate of a resin sheet for connecting a circuit member and a release sheet, a coating liquid containing a material constituting the resin sheet for connecting a circuit member and, if desired, further containing a solvent or a dispersion medium is prepared and peeled off. On one surface of the sheet, a coating film is formed by applying the coating liquid with a die coater, curtain coater, spray coater, slit coater, knife coater, etc. A resin sheet can be formed as a part of the laminate. The properties of the coating liquid are not particularly limited as long as it can be applied. The coating liquid may contain a component for forming a resin sheet as a solute or a dispersoid. The release sheet in the laminate may be peeled off as a process material, or the resin sheet may be protected until being attached to an adherend such as a semiconductor wafer or a ceramic green sheet laminate.

また、回路部材接続用樹脂シートの両面に2層の剥離シートがそれぞれ積層された積層体の製造方法としては、前述の剥離シートの剥離面上に塗工液を塗布して塗膜を形成し、これを乾燥させて樹脂シートと剥離シートとからなる積層体を形成し、この積層体の樹脂シートにおける剥離シート側の面と反対側の面を他の剥離シートの剥離面に貼付して、剥離シート/樹脂シート/剥離シートからなる積層体を得ることができる。この積層体における剥離シートは工程材料として剥離してもよいし、半導体ウエハや基板等の被着体に貼付するまでの間、樹脂シートを保護していてもよい。   In addition, as a method for producing a laminate in which two release sheets are laminated on both sides of a resin sheet for connecting circuit members, a coating liquid is formed on the release surface of the aforementioned release sheet by forming a coating film. Then, it is dried to form a laminate composed of a resin sheet and a release sheet, and the surface opposite to the release sheet side of the resin sheet of this laminate is applied to the release surface of another release sheet, A laminate comprising a release sheet / resin sheet / release sheet can be obtained. The release sheet in the laminate may be peeled off as a process material, or the resin sheet may be protected until being attached to an adherend such as a semiconductor wafer or a substrate.

また、ダイシングシート一体型接着シート(ダイシング・ダイボンディングシート)やバックグラインドシート一体型接着シートを製造する場合は、前述した回路部材接続用樹脂シートと剥離シートとの積層体を形成し、かかる積層体における樹脂シート側の面を、ダイシングシートやバックグラインドシートにおける粘着剤層側の面に貼付することで、ダイシングシート一体型接着シートやバックグラインドシート一体型接着シートを得ることができる。   When manufacturing a dicing sheet integrated adhesive sheet (dicing / die bonding sheet) or a back grind sheet integrated adhesive sheet, a laminate of the above-described circuit member connecting resin sheet and release sheet is formed, and the lamination is performed. By attaching the surface of the body on the resin sheet side to the surface of the dicing sheet or back grind sheet on the pressure-sensitive adhesive layer side, a dicing sheet integrated adhesive sheet or a back grind sheet integrated adhesive sheet can be obtained.

5.回路部材接続用樹脂シートの使用方法
次に、本実施形態に係る回路部材接続用樹脂シートの使用方法について、フリップチップ実装に用いる場合を例にとって説明する。
5. Next, a method for using the resin sheet for connecting a circuit member according to the present embodiment will be described with reference to a case where it is used for flip chip mounting.

まず、回路および半田バンプが形成された半導体ウエハの回路面に、本実施形態に係る回路部材接続用樹脂シートを貼付する。具体的には、回路部材接続用樹脂シートと剥離シートとの積層体を用意し、かかる積層体における回路部材接続用樹脂シート側の面を、半導体ウエハの回路面に貼付し、剥離シートを剥離する方法が挙げられる。これにより、半導体ウエハの回路面は回路部材接続用樹脂シートにより保護された状態となる。ここで、本実施形態に係る回路部材接続用樹脂シートは、これを構成する材料の硬化前における90℃溶融粘度が1.0×10〜5.0×10Pa・sであるため、回路面の凹凸に良好に追従し、樹脂シートからなる層と回路面との界面におけるボイドの発生を抑制することができる。なお、この状態で、半導体ウエハの裏面研削やその他の裏面加工を行ってもよい。First, the circuit member connecting resin sheet according to the present embodiment is attached to the circuit surface of the semiconductor wafer on which the circuit and the solder bumps are formed. Specifically, a laminate of a resin sheet for connecting a circuit member and a release sheet is prepared, and the surface of the laminate on the side of the resin sheet for connecting a circuit member is attached to the circuit surface of the semiconductor wafer, and the release sheet is peeled off. The method of doing is mentioned. Thereby, the circuit surface of a semiconductor wafer will be in the state protected by the resin sheet for circuit member connection. Here, since the resin sheet for connecting a circuit member according to the present embodiment has a 90 ° C. melt viscosity of 1.0 × 10 0 to 5.0 × 10 5 Pa · s before curing of the material constituting the circuit sheet, It is possible to satisfactorily follow the unevenness of the circuit surface and suppress the generation of voids at the interface between the resin sheet layer and the circuit surface. In this state, semiconductor wafer back surface grinding or other back surface processing may be performed.

次に、半導体ウエハを個別のチップに切断する(ダイシング工程)。ウエハの切断方法は特に限定されず、従来公知の種々のダイシング方法により行われる。例えば、半導体ウエハの裏面側(回路部材接続用樹脂シートが貼付された面とは反対側の面側)に、通常のダイシングシートを貼付し、かかるダイシングシートを介してリングフレームに固定して、ダイシングブレードを用いて半導体ウエハを切断する方法が挙げられる。また、レーザーダイシング等の他のダイシング方法を採用してもよい。かかるダイシング工程により、回路部材接続用樹脂シートからなる層が半導体チップの回路面に固着された状態で、個片化された半導体チップが得られる。   Next, the semiconductor wafer is cut into individual chips (dicing process). The method for cutting the wafer is not particularly limited, and it is performed by various conventionally known dicing methods. For example, a normal dicing sheet is affixed to the back side of the semiconductor wafer (the side opposite to the side where the circuit sheet connecting resin sheet is affixed), and is fixed to the ring frame via the dicing sheet. There is a method of cutting a semiconductor wafer using a dicing blade. Also, other dicing methods such as laser dicing may be employed. By such a dicing process, an individual semiconductor chip can be obtained in a state where the layer made of the resin sheet for connecting circuit members is fixed to the circuit surface of the semiconductor chip.

ダイシング工程の後、ピックアップを行い、個片化された半導体チップを回収する。必要に応じ、ダイシングシートをエキスパンドすることにより、半導体チップ同士の間隔を拡げてからピックアップを行ってもよい。   After the dicing process, pick-up is performed to collect the separated semiconductor chips. If necessary, the dicing sheet may be expanded to increase the interval between the semiconductor chips and then pick up.

続いて、回収された半導体チップを、回路基板上に載置する。半導体チップは、フリップチップボンダーを用い、半導体チップ側の電極と回路基板上の電極とが対向するように位置合わせされ、回路基板上に載置される。   Subsequently, the collected semiconductor chip is placed on a circuit board. The semiconductor chip is placed on the circuit board by using a flip chip bonder so that the electrodes on the semiconductor chip side and the electrodes on the circuit board face each other.

さらに、フリップチップボンダーを用い、半導体チップと回路基板とを加熱・加圧した後、冷却する。これにより、半導体チップと回路基板とが、回路部材接続用樹脂シートの硬化物を介して接着され、半導体チップの電極とチップ搭載部の電極とが、半導体チップに形成された半田バンプを介し、電気的に接合される。半田接合の条件は、使用する金属組成物にもよるが、例えばSn−Agの場合、200〜300℃で1〜30秒間加熱することが好ましい。   Further, using a flip chip bonder, the semiconductor chip and the circuit board are heated and pressurized, and then cooled. Thereby, the semiconductor chip and the circuit board are bonded via the cured product of the resin sheet for connecting the circuit member, and the electrode of the semiconductor chip and the electrode of the chip mounting portion are connected via the solder bump formed on the semiconductor chip, Electrically joined. Although the conditions for solder bonding depend on the metal composition used, for example, in the case of Sn-Ag, it is preferable to heat at 200 to 300 ° C. for 1 to 30 seconds.

半田接合が行われたら、半導体チップと回路基板との間に介在する、回路部材接続用樹脂シートからなる層を硬化させる。硬化条件は、例えば、100〜200℃で1〜120分間加熱することにより行うことができる。また、かかる硬化工程は、加圧条件化で行ってもよい。   When soldering is performed, the layer made of the resin sheet for connecting circuit members, which is interposed between the semiconductor chip and the circuit board, is cured. Curing conditions can be performed, for example, by heating at 100 to 200 ° C. for 1 to 120 minutes. Moreover, you may perform this hardening process by pressurization conditions.

このようにして、半導体チップと回路基板とが回路部材接続用樹脂シートの硬化物で接着された積層体を得ることができる。かかる積層体においては、回路部材接続用樹脂シートを構成する材料の90℃溶融粘度が1.0×10〜5.0×10Pa・sであり、平均線膨張係数が45ppm以下であるため、ボイドの発生が防止され、かつ、半導体チップや回路基板と回路部材接続用樹脂シートの硬化物との間の応力発生が抑制される。そのため、例えば温度サイクル試験等の長期信頼性試験に付した後であっても、接続部での接続抵抗が変化し難く、高い信頼性を有するものとなる。In this way, it is possible to obtain a laminate in which the semiconductor chip and the circuit board are bonded with the cured product of the resin sheet for connecting circuit members. In such a laminate, the material constituting the resin sheet for connecting circuit members has a 90 ° C. melt viscosity of 1.0 × 10 0 to 5.0 × 10 5 Pa · s and an average linear expansion coefficient of 45 ppm or less. Therefore, generation of voids is prevented, and generation of stress between the semiconductor chip or the circuit board and the cured product of the resin sheet for connecting circuit members is suppressed. Therefore, for example, even after being subjected to a long-term reliability test such as a temperature cycle test, the connection resistance at the connection portion hardly changes and has high reliability.

以上説明した実施形態は、本発明の理解を容易にするために記載されたものであって、本発明を限定するために記載されたものではない。したがって、上記実施形態に開示された各要素は、本発明の技術的範囲に属する全ての設計変更や均等物をも含む趣旨である。   The embodiment described above is described for facilitating understanding of the present invention, and is not described for limiting the present invention. Therefore, each element disclosed in the above embodiment is intended to include all design changes and equivalents belonging to the technical scope of the present invention.

例えば、上記の実施形態においては、回路部材接続用樹脂シートの使用方法として、半導体チップと回路基板との接続を例として説明したが、本実施形態の回路部材接続用樹脂シートにより接続される回路部材はこの組み合わせに限定されない。例えば、半導体チップと半導体チップとの組み合わせ、半導体ウエハと半導体ウエハとの組み合わせ、半導体チップと半導体ウエハとの組み合わせ、半導体チップとフレキシブル回路基板との組み合わせ等を挙げることができる。   For example, in the above embodiment, the circuit member connecting resin sheet has been described as an example of the connection between the semiconductor chip and the circuit board, but the circuit connected by the circuit member connecting resin sheet of the present embodiment. The member is not limited to this combination. For example, a combination of a semiconductor chip and a semiconductor chip, a combination of a semiconductor wafer and a semiconductor wafer, a combination of a semiconductor chip and a semiconductor wafer, a combination of a semiconductor chip and a flexible circuit board, and the like can be given.

以下、実施例および試験例等を示すことにより本発明をさらに詳細に説明するが、本発明は下記の試験例等に何ら限定されるものではない。   Hereinafter, the present invention will be described in more detail by showing examples and test examples, but the present invention is not limited to the following test examples.

〔実施例1〜5,比較例1〕
表1に示す構成成分を含有する組成物を、メチルエチルケトンにて固形分濃度が40質量%となるように希釈し、シリコーン処理された剥離フィルム(リンテック社製,SP−PET381031)上に塗布し、得られた塗膜をオーブンにて100℃で1分間乾燥し、厚さ45μmの塗膜を形成し、剥離フィルム上に形成されたフィルム状樹脂組成物を得た。その後、フィルム状樹脂組成物をポリオレフィン基材上に転写することで、回路部材接続用樹脂シートを得た。
[Examples 1-5, Comparative Example 1]
The composition containing the components shown in Table 1 was diluted with methyl ethyl ketone so that the solid content concentration was 40% by mass, and applied on a silicone-treated release film (SP-PET 381031 manufactured by Lintec Corporation). The obtained coating film was dried in an oven at 100 ° C. for 1 minute to form a coating film having a thickness of 45 μm, and a film-like resin composition formed on the release film was obtained. Then, the resin sheet for circuit member connection was obtained by transcribe | transferring a film-form resin composition on a polyolefin base material.

ここで、表1に示す構成成分の詳細は以下の通りである。
熱可塑性成分
・ポリビニルアセタール樹脂,ガラス転移温度:86℃,重量平均分子量:13万
・ポリビニルブチラール樹脂,ガラス転移温度:71℃,重量平均分子量:11万
・ポリエステル樹脂,ガラス転移温度:83℃,重量平均分子量:4万
・ビスフェノールA(BisA)型フェノキシ樹脂,ガラス転移温度:84℃,重量平均分子量:6万
・アクリル酸エステル,ガラス転移温度:−28℃,重量平均分子量:80万
熱硬化性成分
・ビスフェノールA(BisA)型エポキシ樹脂,エポキシ当量:180−190g/eq
無機フィラー
・シリカフィラー,平均粒径:100nm
Here, the detail of the component shown in Table 1 is as follows.
Thermoplastic component , polyvinyl acetal resin, glass transition temperature: 86 ° C., weight average molecular weight: 130,000, polyvinyl butyral resin, glass transition temperature: 71 ° C., weight average molecular weight: 110,000 polyester resin, glass transition temperature: 83 ° C. Weight average molecular weight: 40,000 · Bisphenol A (BisA) type phenoxy resin, glass transition temperature: 84 ° C, weight average molecular weight: 60,000 · acrylic ester, glass transition temperature: -28 ° C, weight average molecular weight: 800,000
Thermosetting component / bisphenol A (BisA) type epoxy resin, epoxy equivalent: 180-190 g / eq
Inorganic filler / silica filler, average particle size: 100 nm

ここで、上記熱可塑性成分のガラス転移温度(Tg)は、パーキンエルマー社製DSC(PYRIS Diamond DSC)を用い、昇降温速度10℃/分で−70℃から150℃の温度プロファイルでの測定を実施し、変曲点を確認しガラス転移温度を求めたものである。また、上記構成成分の重量平均分子量(Mw)は、ゲル浸透クロマトグラフ装置(東ソー社製,製品名「HLC−8020」)を用い、下記条件にて測定(GPC測定)した標準ポリスチレン換算の重量平均分子量である。   Here, the glass transition temperature (Tg) of the thermoplastic component is measured with a temperature profile of −70 ° C. to 150 ° C. at a heating / cooling rate of 10 ° C./min using DSC (PYRIS Diamond DSC) manufactured by PerkinElmer. In practice, the inflection point was confirmed and the glass transition temperature was determined. Moreover, the weight average molecular weight (Mw) of the said structural component was the weight of standard polystyrene conversion measured on the following conditions (GPC measurement) using the gel permeation chromatograph apparatus (the Tosoh company make, product name "HLC-8020"). Average molecular weight.

<GPC測定条件>
・カラム :「TSK guard column HXL−L」、「TSK gel G2500HXL」、「TSK gel G2000HXL」、「TSK gel G1000HXL」(いずれも東ソー社製)を順次連結したもの
・カラム温度:40℃
・展開溶媒 :テトラヒドロフラン
・流速 :1.0mL/min
・検出器 :示差屈折計
・標準試料 :ポリスチレン
<GPC measurement conditions>
-Column: "TSK guard column HXL-L", "TSK gel G2500HXL", "TSK gel G2000HXL", "TSK gel G1000HXL" (both manufactured by Tosoh Corporation)-Column temperature: 40 ° C
・ Developing solvent: Tetrahydrofuran ・ Flow rate: 1.0 mL / min
・ Detector: Differential refractometer ・ Standard sample: Polystyrene

〔試験例1〕90℃溶融粘度の測定
実施例および比較例で作成した回路部材接続用樹脂シートを積層することにより、厚さ15mmの測定用サンプルを作製した。得られた測定用サンプルについて、フローテスター(島津製作所社製,CFT−100D)を用い、荷重50kgf、温度範囲50〜120℃、昇温速度10℃/minの条件で溶融粘度を測定した。90℃における溶融粘度の値を表1に示す。
[Test Example 1] Measurement of 90 ° C. melt viscosity A sample for measurement having a thickness of 15 mm was prepared by laminating the resin sheets for connecting circuit members prepared in Examples and Comparative Examples. About the obtained sample for a measurement, melt viscosity was measured on the conditions of load 50kgf, temperature range 50-120 degreeC, and temperature increase rate 10 degree-C / min using the flow tester (Shimadzu Corporation make, CFT-100D). Table 1 shows the values of melt viscosity at 90 ° C.

〔試験例2〕平均線膨張係数の測定
実施例および比較例で作成した回路部材接続用樹脂シートを、15×4.5mmに切断し、測定用サンプルとした。得られたサンプルを160℃で1時間処理することにより硬化させた。得られた硬化物について、熱機械分析装置(ブルカー・エイエックス社製,TMA4030SA)を用い、荷重2g、温度範囲0〜300℃、昇温速度5℃/minの条件にて線膨張係数を測定した。得られた結果より、0〜130℃での平均線膨張係数を算出した。結果を表1に示す。
[Test Example 2] Measurement of average linear expansion coefficient The resin sheet for connecting circuit members prepared in Examples and Comparative Examples was cut into 15 x 4.5 mm to obtain measurement samples. The obtained sample was cured by treating at 160 ° C. for 1 hour. About the obtained hardened | cured material, a linear expansion coefficient was measured on the conditions of load 2g, temperature range 0-300 degreeC, and temperature increase rate 5 degree-C / min using a thermomechanical analyzer (the Bruker Ax company make, TMA4030SA). did. From the obtained results, the average linear expansion coefficient at 0 to 130 ° C. was calculated. The results are shown in Table 1.

〔試験例3〕温度サイクル試験
実施例および比較例で作成した回路部材接続用樹脂シートを、ダイシング済み100μmチップ(ウォルツ社製TEGウエハ:CC80-0101JY Model I)にラミネートし、樹脂シート付きTEGチップを得た。得られた樹脂シート付きTEGチップを、FCボンダー(東レエンジニアリング社製,FC3000W)を用いて基板にフリップチップボンディングし、半導体装置を製造した。得られた半導体装置を、−55℃10分および125℃10分を1サイクルとする環境下に1000サイクル付し、試験後の半導体装置について、半導体チップと回路基板の接続抵抗値をデジタルマルチメーターで測定し、以下の評価基準に従って接続信頼性を評価した。結果を表1に示す。
○:接続抵抗値の変化率が20%以下
×:接続抵抗値の変化率が20%超
[Test Example 3] Temperature cycle test The circuit member connecting resin sheet prepared in the examples and comparative examples was laminated on a diced 100 μm chip (TEG wafer manufactured by Waltz: CC80-0101JY Model I), and a TEG chip with a resin sheet Got. The obtained TEG chip with a resin sheet was flip-chip bonded to a substrate using an FC bonder (manufactured by Toray Engineering Co., Ltd., FC3000W) to manufacture a semiconductor device. The obtained semiconductor device is subjected to 1000 cycles in an environment where −55 ° C. for 10 minutes and 125 ° C. for 10 minutes is one cycle, and the connection resistance value between the semiconductor chip and the circuit board for the tested semiconductor device is a digital multimeter. The connection reliability was evaluated according to the following evaluation criteria. The results are shown in Table 1.
○: Change rate of connection resistance value is 20% or less ×: Change rate of connection resistance value exceeds 20%

Figure 2017090439
Figure 2017090439

表1から分かるように、実施例で得られた回路部材接続用樹脂シートは、温度サイクル試験の結果が良好であり、高い接続信頼性を有するものであった。   As can be seen from Table 1, the circuit member connecting resin sheets obtained in the examples had good results of the temperature cycle test and had high connection reliability.

本発明に係る回路部材接続用樹脂シートは、回路部材同士を接続したときに高い接続信頼性を有するため、種々の回路部材を接合するのに好適に利用することができる。   Since the circuit member connecting resin sheet according to the present invention has high connection reliability when the circuit members are connected to each other, the resin sheet can be suitably used for joining various circuit members.

Claims (10)

相対向する電極間に介在され、前記相対向する電極を電気的に接続するために用いられる回路部材接続用樹脂シートであって、
前記樹脂シートを構成する材料は、硬化前における90℃での溶融粘度が1.0×10〜5.0×10Pa・sであり、硬化物の0〜130℃における平均線膨張係数が45ppm以下である
ことを特徴とする回路部材接続用樹脂シート。
A resin sheet for connecting a circuit member, which is interposed between electrodes facing each other and used to electrically connect the electrodes facing each other,
The material constituting the resin sheet has a melt viscosity of 1.0 × 10 0 to 5.0 × 10 5 Pa · s at 90 ° C. before curing, and an average linear expansion coefficient of the cured product at 0 to 130 ° C. Is a resin sheet for connecting circuit members, characterized by being 45 ppm or less.
前記樹脂シートを構成する材料は、ポリビニルアセタール樹脂、およびポリエステル樹脂からなる群より選択される1種以上の熱可塑性成分を含有することを特徴とする請求項1に記載の回路部材接続用樹脂シート。   2. The resin sheet for connecting a circuit member according to claim 1, wherein the material constituting the resin sheet contains one or more thermoplastic components selected from the group consisting of a polyvinyl acetal resin and a polyester resin. . 前記樹脂シートを構成する材料は、前記熱可塑性成分として、さらにフェノキシ樹脂を含有することを特徴とする請求項2に記載の回路部材接続用樹脂シート。   3. The resin sheet for connecting circuit members according to claim 2, wherein the material constituting the resin sheet further contains a phenoxy resin as the thermoplastic component. 前記樹脂シートを構成する材料は、無機フィラーを含有することを特徴とする請求項1〜3のいずれか一項に記載の回路部材接続用樹脂シート。   The material which comprises the said resin sheet contains an inorganic filler, The resin sheet for a circuit member connection as described in any one of Claims 1-3 characterized by the above-mentioned. 前記無機フィラーはシリカフィラーであることを特徴とする請求項4に記載の回路部材接続用樹脂シート。   The resin sheet for connecting circuit members according to claim 4, wherein the inorganic filler is a silica filler. 前記無機フィラーの平均粒径は10〜200nmであることを特徴とする請求項4または5に記載の回路部材接続用樹脂シート。   The resin sheet for connecting circuit members according to claim 4 or 5, wherein the inorganic filler has an average particle size of 10 to 200 nm. 前記樹脂シートを構成する材料は、前記無機フィラーを35〜64質量%含有することを特徴とする請求項4〜6のいずれか一項に記載の回路部材接続用樹脂シート。   The material which comprises the said resin sheet contains 35-64 mass% of said inorganic fillers, The resin sheet for a circuit member connection as described in any one of Claims 4-6 characterized by the above-mentioned. 前記樹脂シートを構成する材料は、フラックス機能を有する成分を含有することを特徴とする請求項1〜7のいずれか一項に記載の回路部材接続用樹脂シート。   The material which comprises the said resin sheet contains the component which has a flux function, The resin sheet for a circuit member connection as described in any one of Claims 1-7 characterized by the above-mentioned. 前記フラックス機能を有する成分として、カルボキシル基を有する成分を含有することを特徴とする請求項8に記載の回路部材接続用樹脂シート。   The resin sheet for connecting circuit members according to claim 8, comprising a component having a carboxyl group as the component having the flux function. 前記カルボキシル基を有する成分が2−メチルグルタル酸であることを特徴とする請求項9に記載の回路部材接続用樹脂シート。   The resin sheet for connecting circuit members according to claim 9, wherein the component having a carboxyl group is 2-methylglutaric acid.
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