JPWO2016171101A1 - Polyimide, curable resin composition, cured product - Google Patents

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Abstract

本発明は、テトラカルボン酸成分と、下記式(1)のジアミン化合物を含むジアミン成分とを反応させて得られるポリイミドであって、活性水素を有する反応基、および不飽和二重結合を有する反応基から選ばれる反応性基を分子中に少なくとも1個有するポリイミドに関するものである。式(1)中、Aは4価の飽和炭化水素残基を表し、直鎖構造であっても環構造であってもよい。R1およびR2はそれぞれ独立に、炭素数1〜20のアルキレン基を表し、R3およびR4はそれぞれ独立に、炭素数1〜20の直鎖状アルキル基を表す。The present invention relates to a polyimide obtained by reacting a tetracarboxylic acid component with a diamine component containing a diamine compound of the following formula (1), a reactive group having active hydrogen, and a reaction having an unsaturated double bond The present invention relates to a polyimide having at least one reactive group selected from a group in the molecule. In formula (1), A represents a tetravalent saturated hydrocarbon residue, and may be a linear structure or a ring structure. R1 and R2 each independently represent an alkylene group having 1 to 20 carbon atoms, and R3 and R4 each independently represent a linear alkyl group having 1 to 20 carbon atoms.

Description

本発明は、テトラカルボン酸成分と、下記一般式(1)で表されるジアミン化合物を含むジアミン成分とを反応させて得られるポリイミドであって、活性水素を有する反応基、および不飽和二重結合を有する反応基から選ばれる反応性基を分子中に少なくとも1個有することを特徴とするポリイミドに関する。 The present invention is a polyimide obtained by reacting a tetracarboxylic acid component with a diamine component containing a diamine compound represented by the following general formula (1), which has a reactive group having active hydrogen, and an unsaturated double bond. The present invention relates to a polyimide having at least one reactive group selected from reactive groups having a bond in a molecule.

近年、電子機器の小型化に伴い、電子部品の高密度化が進んでいる。プリント配線板に使用される材料には、信頼性確保のために半導体チップとの熱線膨張係数のマッチングが要求され、樹脂材料を高架橋密度化することにより対応が図られている。その結果、得られたプリント配線板は靭性に劣るものとなるという欠点が指摘されており、低線膨張係数を実現しつつ脆性を補完するための可とう性付与剤が求められている。 In recent years, with the miniaturization of electronic devices, the density of electronic components has been increasing. A material used for a printed wiring board is required to have a matching coefficient of thermal linear expansion with a semiconductor chip in order to ensure reliability, and measures are taken by increasing the resin material to a high crosslinking density. As a result, it has been pointed out that the obtained printed wiring board is inferior in toughness, and there is a demand for a flexibility imparting agent for complementing brittleness while realizing a low linear expansion coefficient.

特許文献1,2,3には、テトラカルボン酸成分と、ジアミノポリシロキサンを含むジアミン成分から得られるポリイミドシロキサン溶液組成物が記載されている。このポリイミドシロキサン溶液組成物は柔軟性および空気中での熱分解性に優れた硬化物を与えるため、可とう性付与剤として好適に用いられるが、アウトガスの観点から更なる改良を求められることがある。 Patent Documents 1, 2, and 3 describe polyimide siloxane solution compositions obtained from a tetracarboxylic acid component and a diamine component containing diaminopolysiloxane. Since this polyimidesiloxane solution composition gives a cured product excellent in flexibility and thermal decomposability in the air, it is preferably used as a flexibility imparting agent, but further improvement may be required from the viewpoint of outgassing. is there.

また、特許文献4には、特定のアルキレンジアミン及び/又はポリオキシアルキレンジアミンを含むジアミン成分を用いたポリイミド溶液組成物が、特許文献5にはウレタン結合を有するポリイミドを用いた熱硬化性樹脂組成物が記載されている。これらのポリイミド溶液組成物は、シロキサン系材料を用いず柔軟性に優れた硬化物を与えるが、熱分解温度が低く耐熱性に劣るという問題があった。 Patent Document 4 discloses a polyimide solution composition using a diamine component containing a specific alkylene diamine and / or polyoxyalkylene diamine, and Patent Document 5 discloses a thermosetting resin composition using a polyimide having a urethane bond. Things are listed. These polyimide solution compositions give a cured product excellent in flexibility without using a siloxane-based material, but have a problem that the thermal decomposition temperature is low and the heat resistance is poor.

特開平8−253677号公報Japanese Patent Laid-Open No. 8-253676 特開2006−156949号公報JP 2006-156949 A 特開2012−255107号公報JP 2012-255107 A 特開2008−231420号公報JP 2008-231420 A 特開2012−162736号公報JP 2012-162736 A

本発明は、シロキサン系材料を使用せずに、シロキサン系材料と同等の柔軟性や耐熱性を有するポリイミド、およびそのポリイミドと硬化性樹脂を含有する硬化性樹脂組成物ならびにその硬化物を提供することを目的とする。 The present invention provides a polyimide having flexibility and heat resistance equivalent to that of a siloxane-based material without using a siloxane-based material, a curable resin composition containing the polyimide and a curable resin, and a cured product thereof. For the purpose.

すなわち本発明は、以下の事項に関する。 That is, the present invention relates to the following matters.

1. テトラカルボン酸成分と、下記一般式(1)で表されるジアミン化合物を含むジアミン成分とを反応させて得られるポリイミドで、活性水素を有する反応基、および不飽和二重結合を有する反応基から選ばれる反応性基を分子中に少なくとも1個有することを特徴とするポリイミド。 1. A polyimide obtained by reacting a tetracarboxylic acid component with a diamine component containing a diamine compound represented by the following general formula (1), from a reactive group having active hydrogen and a reactive group having an unsaturated double bond A polyimide having at least one reactive group selected in a molecule.

Figure 2016171101
式(1)中、Aは4価の飽和炭化水素残基を表し、直鎖構造であっても環構造であってもよい。RおよびRはそれぞれ炭素数1〜20のアルキレン基を表し、RおよびRはそれぞれ炭素数1〜20の直鎖状アルキル基を表す。
Figure 2016171101
In formula (1), A represents a tetravalent saturated hydrocarbon residue, and may be a linear structure or a ring structure. R 1 and R 2 each represent an alkylene group having 1 to 20 carbon atoms, and R 3 and R 4 each represent a linear alkyl group having 1 to 20 carbon atoms.

2. 前記式(1)で表されるジアミン化合物の炭素数が20〜48である、上記1に記載のポリイミド。 2. 2. The polyimide according to 1 above, wherein the diamine compound represented by the formula (1) has 20 to 48 carbon atoms.

3. 活性水素を有する反応基が水酸基、カルボキシル基、アルデヒド基、アミノ基、イミノ基及びチオール基から選ばれる少なくとも一種である、1または2に記載のポリイミド。 3. The polyimide according to 1 or 2, wherein the reactive group having active hydrogen is at least one selected from a hydroxyl group, a carboxyl group, an aldehyde group, an amino group, an imino group, and a thiol group.

4. 前記ジアミン成分が、式(1)で表されるジアミン化合物以外のほかのジアミンであり且つ上記1に記載の反応性基を有するジアミンを含む、上記1〜3のいずれかに記載のポリイミド。 4). 4. The polyimide according to any one of 1 to 3, wherein the diamine component is a diamine other than the diamine compound represented by the formula (1) and includes the diamine having the reactive group described in 1 above.

5. 上記1に記載の反応性基が、カルボキシル基もしくは水酸基である、上記1から4のいずれかに記載のポリイミド。 5. 5. The polyimide according to any one of 1 to 4 above, wherein the reactive group described in 1 is a carboxyl group or a hydroxyl group.

6. 上記4に記載のほかのジアミンが、下記一般式(2)で表される芳香族ジアミンであることを特徴とする、上記4に記載のポリイミド。 6). 5. The polyimide according to 4 above, wherein the other diamine according to 4 is an aromatic diamine represented by the following general formula (2).

Figure 2016171101
式(2)中、XおよびYはそれぞれ独立に直接結合、または下記一般式(3)を示し、rはカルボキシル基または水酸基を示し、n1は0以上である。
Figure 2016171101
In formula (2), X and Y each independently represent a direct bond or the following general formula (3), r 1 represents a carboxyl group or a hydroxyl group, and n 1 is 0 or more.

Figure 2016171101
式中、R、Rは水素、メチル基、又はハロゲン化メチル基である。
Figure 2016171101
In the formula, R 5 and R 6 are hydrogen, a methyl group, or a halogenated methyl group.

7. 前記式(2)で示されるほかのジアミンにおいて、n1が0〜2の数である、上記6に記載のポリイミド。 7). The other diamine shown by said Formula (2) WHEREIN: The polyimide of said 6 whose n1 is the number of 0-2.

8. 上記4に記載のほかのジアミンが4,4’−ジアミノ−3,3’−ジカルボキシジフェニルメタン、4,4’−ジアミノ−3,3’−ジヒドロキシビフェニル、4,4−ジアミノ−2,2’−ジカルボキシジフェニルエーテル、2,2−ビス(3−アミノ−4−ヒドロキシフェニル)ヘキサフルオロプロパン及び、2,2’−ビス(3−アミノ−4−ヒドロキシフェニル)プロパンよりなる群から選ばれる1種または2種以上である、上記4又は6に記載のポリイミド。 8). Other diamines described in 4 above are 4,4′-diamino-3,3′-dicarboxydiphenylmethane, 4,4′-diamino-3,3′-dihydroxybiphenyl, 4,4-diamino-2,2 ′. One selected from the group consisting of -dicarboxydiphenyl ether, 2,2-bis (3-amino-4-hydroxyphenyl) hexafluoropropane, and 2,2'-bis (3-amino-4-hydroxyphenyl) propane Or the polyimide of said 4 or 6 which is 2 or more types.

9. 前記ジアミン成分がシロキサン成分を非含有である、1から8のいずれか1項に記載のポリイミド。 9. The polyimide according to any one of 1 to 8, wherein the diamine component does not contain a siloxane component.

10. 上記1から9のいずれかに記載のポリイミドの製造法。 10. 10. The method for producing a polyimide according to any one of 1 to 9 above.

11. 上記1から9のいずれかに記載のポリイミドを含むポリイミド樹脂組成物。 11. The polyimide resin composition containing the polyimide in any one of said 1-9.

12. 上記1から9のいずれかに記載のポリイミドと硬化性樹脂を含む硬化性樹脂組成物。 12 10. A curable resin composition comprising the polyimide according to any one of 1 to 9 and a curable resin.

13. 上記12に記載の硬化性樹脂組成物がエポキシ樹脂を含むことを特徴とする硬化性樹脂組成物。 13. 13. The curable resin composition as described in 12 above, comprising an epoxy resin.

14. 上記13に記載のエポキシ樹脂が、2個以上のグリシジル基を有することを特徴とする硬化性樹脂組成物。 14 14. The curable resin composition, wherein the epoxy resin according to 13 has two or more glycidyl groups.

15. 上記12に記載の硬化性樹脂組成物がイソシアネート樹脂を含むことを特徴とする硬化性樹脂組成物。 15. 13. The curable resin composition according to 12, wherein the curable resin composition contains an isocyanate resin.

16. 上記15に記載のイソシアネート樹脂が、2個以上のイソシアネート基を有することを特徴とする硬化性樹脂組成物。 16. 16. The curable resin composition, wherein the isocyanate resin according to 15 has two or more isocyanate groups.

17. 上記12に記載の硬化性樹脂組成物が不飽和二重結合を有する樹脂を含む組成物であることを特徴とする硬化性樹脂組成物。 17. 13. The curable resin composition according to the above 12, wherein the curable resin composition is a composition containing a resin having an unsaturated double bond.

18. 上記17に記載の硬化性樹脂組成物が、2個以上の不飽和二重結合を有する樹脂を含むことを特徴とする硬化性樹脂組成物。 18. 18. The curable resin composition according to the above 17, wherein the curable resin composition contains a resin having two or more unsaturated double bonds.

19. 上記12から18のいずれかに記載の硬化性樹脂組成物を用いた硬化物。 19. Hardened | cured material using the curable resin composition in any one of said 12-18.

本発明のポリイミドを含んだ硬化性樹脂組成物を用いると、可とう性に富み、かつ従来品と同等以上の高い耐熱性を有する硬化物が得られる。そのため、本発明のポリイミドから製造される硬化物は、プリント配線基板、オーバーコート材、電子部品や半導体パッケージ向け封止剤としての応用が期待される。 When the curable resin composition containing the polyimide of the present invention is used, a cured product having high flexibility and high heat resistance equal to or higher than that of a conventional product can be obtained. Therefore, the cured product produced from the polyimide of the present invention is expected to be used as a sealing agent for printed wiring boards, overcoat materials, electronic components and semiconductor packages.

本発明のポリイミドは、テトラカルボン酸成分と、下記一般式(1)で表されるジアミン化合物を含むジアミン成分とを反応させて得られるポリイミドであって、活性水素を有する反応基、および不飽和二重結合を有する反応基から選ばれる反応性基を分子中に少なくとも1個有することを特徴とするポリイミドである。以下、詳細に説明する。 The polyimide of the present invention is a polyimide obtained by reacting a tetracarboxylic acid component with a diamine component containing a diamine compound represented by the following general formula (1), a reactive group having active hydrogen, and an unsaturated group. It is a polyimide characterized by having at least one reactive group selected from reactive groups having a double bond in the molecule. Details will be described below.

本発明において、ジアミン成分としては、下記式(1)で表されるジアミン化合物{以下、ジアミン化合物(1)と記載することもある}を含む。 In the present invention, the diamine component includes a diamine compound represented by the following formula (1) {hereinafter sometimes referred to as a diamine compound (1)}.

Figure 2016171101
式(1)中、Aは4価の飽和炭化水素残基を表し、直鎖構造であっても環構造であってもよい。RおよびRはアルキレン基を表し、RおよびRは直鎖状アルキル基を表す。
Figure 2016171101
In formula (1), A represents a tetravalent saturated hydrocarbon residue, and may be a linear structure or a ring structure. R 1 and R 2 represent an alkylene group, and R 3 and R 4 represent a linear alkyl group.

ジアミン化合物(1)の炭素数の合計は、20〜48であることが好ましく、24〜46であることがより好ましく、30〜40であることがさらに好ましく、36であることが特に好ましい。 The total number of carbon atoms of the diamine compound (1) is preferably 20 to 48, more preferably 24 to 46, still more preferably 30 to 40, and particularly preferably 36.

およびRはアルキレン基であり、それぞれ炭素数が好ましくは1〜20、より好ましくは4〜15であり、例えば、メチレン基、エチレン基、プロピレン基、ブチレン基、ペンチレン基、ヘキシレン基、ヘプチレン基、オクチレン基、ノニレン基、デシレン基、ウンデシレン基、ドデシレン基、トリデシレン基、テトラデシレン基、ペンタデシレン基、ヘキサデシレン基、ヘプタデシレン基、オクタデシレン基、ノナデシレン基、およびエイコシレン基を挙げることができる。RおよびRは、互いに同一であっても異なっていてもよい。R 1 and R 2 are alkylene groups, each having preferably 1 to 20 carbon atoms, more preferably 4 to 15 carbon atoms, such as methylene group, ethylene group, propylene group, butylene group, pentylene group, hexylene group, Examples include a heptylene group, an octylene group, a nonylene group, a decylene group, an undecylene group, a dodecylene group, a tridecylene group, a tetradecylene group, a pentadecylene group, a hexadecylene group, a heptadecylene group, an octadecylene group, a nonadecylene group, and an eicosylene group. R 1 and R 2 may be the same or different from each other.

およびRは直鎖状アルキル基であり、それぞれ炭素数が好ましくは1〜20、より好ましくは4〜15であり、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ウンデシル基、ドデシル基、トリデシル基、テトラデシル基、ペンタデシル基、ヘキサデシル基、ヘプタデシル基、オクタデシル基、ノナデシル基、エイコシル基を挙げることができる。RおよびRは互いに同一であっても異なっていてもよい。R 3 and R 4 are linear alkyl groups, each preferably having 1 to 20 carbon atoms, more preferably 4 to 15 carbon atoms, such as methyl, ethyl, propyl, butyl, pentyl, Examples include hexyl group, heptyl group, octyl group, nonyl group, decyl group, undecyl group, dodecyl group, tridecyl group, tetradecyl group, pentadecyl group, hexadecyl group, heptadecyl group, octadecyl group, nonadecyl group, and eicosyl group. R 3 and R 4 may be the same or different from each other.

Aが直鎖構造の場合、特に限定はされないが、Aは炭素数1〜4の残基であることが好ましく、 When A has a linear structure, although not particularly limited, A is preferably a residue having 1 to 4 carbon atoms,

Figure 2016171101
または
Figure 2016171101
Or

Figure 2016171101
であることが、より好ましい。Aが環構造の場合、特に限定はされないが、Aは炭素数5〜7のシクロアルカンから4つの水素を除いた4個の残基であることが好ましく、
Figure 2016171101
It is more preferable that When A is a ring structure, although not particularly limited, A is preferably four residues obtained by removing four hydrogens from a cycloalkane having 5 to 7 carbon atoms,

Figure 2016171101
で表される4価の6員環であることがより好ましい。環構造であるAへの基R〜Rの結合位置は任意である。
Figure 2016171101
The tetravalent 6-membered ring represented by The bonding position of the groups R 1 to R 4 to A which is a ring structure is arbitrary.

本発明に用いるジアミン化合物(1)は、脂肪族不飽和カルボン酸を二量化して得られるダイマー酸から製造できる。本発明においては、例えば、炭素数18で、1以上の二重結合を有する脂肪酸から得られる炭素数36のダイマージアミンを用いることができる。市販品としては、例えば、PRIAMINE 1074(クローダジャパン株式会社製)が挙げられる。 The diamine compound (1) used in the present invention can be produced from a dimer acid obtained by dimerizing an aliphatic unsaturated carboxylic acid. In the present invention, for example, dimer diamine having 36 carbon atoms obtained from a fatty acid having 18 carbon atoms and having one or more double bonds can be used. As a commercial item, PRIAMINE 1074 (made by Croda Japan Co., Ltd.) is mentioned, for example.

式(1)で表されるジアミン化合物としては、例えば、下記式(1−1)〜(1−3)のいずれかで表される化合物が挙げられる。 As a diamine compound represented by Formula (1), the compound represented by either of following formula (1-1)-(1-3) is mentioned, for example.

Figure 2016171101
Figure 2016171101

本発明のポリイミドは、活性水素を有する反応基、および不飽和二重結合を有する反応基から選ばれる反応性基を分子中に少なくとも1個有する。活性水素とは、有機化合物中において、電気陰性度の大きなO、N、Sに結合する水素や、電子吸引性の大きなCOR、CN、COR等の基が2つ以上結合した炭素に結合する水素のほか、アルデヒド基における水素などが挙げられる。通常、活性水素は、エポキシ樹脂におけるグリシジル基や、イソチオシアネート樹脂におけるイソシアネート基、不飽和二重結合を有する樹脂の不飽和二重結合等と反応性を有する。活性水素を有する反応基としては、水酸基、カルボキシル基、アルデヒド基、アミノ基、イミノ基、チオール基が挙げられる。不飽和二重結合を有する反応基としては、ビニル基、アリル基、アクリロイル基が挙げられる。また、不飽和二重結合の代わりに、置換あるいは無置換のエチニル基のような三重結合を用いても良い。活性水素を有する反応基及び不飽和二重結合を有する反応基から選ばれる反応性基は、ジアミン成分に由来してもよく、テトラカルボン酸成分に由来してもよい。またジアミン成分に由来する場合、上記ジアミン化合物(1)が反応性基を有してもいてもよく、有していなくてもよい。特に、ジアミン成分が、上記ジアミン化合物(1)のほか、活性水素を有する反応基、および不飽和二重結合を有する反応基から選ばれる反応性基を分子中に少なくとも1個有するジアミン(以下、「反応性基含有ジアミン」ともいう)を含むことが好ましい。The polyimide of the present invention has at least one reactive group selected from a reactive group having active hydrogen and a reactive group having an unsaturated double bond in the molecule. Active hydrogen is bonded to hydrogen bonded to O, N, and S having a large electronegativity, or to carbon having two or more groups such as CO 2 R, CN, and COR having a large electron-withdrawing property in an organic compound. In addition to hydrogen, hydrogen in an aldehyde group is exemplified. Usually, active hydrogen has reactivity with a glycidyl group in an epoxy resin, an isocyanate group in an isothiocyanate resin, an unsaturated double bond of a resin having an unsaturated double bond, and the like. Examples of the reactive group having active hydrogen include a hydroxyl group, a carboxyl group, an aldehyde group, an amino group, an imino group, and a thiol group. Examples of the reactive group having an unsaturated double bond include a vinyl group, an allyl group, and an acryloyl group. Further, a triple bond such as a substituted or unsubstituted ethynyl group may be used in place of the unsaturated double bond. The reactive group selected from the reactive group having active hydrogen and the reactive group having an unsaturated double bond may be derived from a diamine component or a tetracarboxylic acid component. Moreover, when originating in a diamine component, the diamine compound (1) may or may not have a reactive group. In particular, the diamine component has, in addition to the diamine compound (1), a diamine having at least one reactive group in the molecule selected from a reactive group having active hydrogen and a reactive group having an unsaturated double bond (hereinafter, It is also preferable to include a “reactive group-containing diamine”.

上記反応性基含有ジアミンの反応性基としては、特に限定はされないが、基板材料や封止材料を構成する硬化性樹脂として使用されるエポキシ樹脂、イソシアネート樹脂との優れた反応性を示すカルボキシル基、水酸基であることが好ましい。反応性基含有ジアミンにおける反応性基の数は1以上であることが好ましい。 The reactive group-containing diamine reactive group is not particularly limited, but is a carboxyl group that exhibits excellent reactivity with an epoxy resin or an isocyanate resin used as a curable resin constituting a substrate material or a sealing material. A hydroxyl group is preferred. The number of reactive groups in the reactive group-containing diamine is preferably 1 or more.

反応性基含有ジアミンとしては、前記反応性基を有してあれば芳香族ジアミン、脂肪族ジアミンのいずれかに限定されるものではないが、下記化学式(2)で示される芳香族ジアミンが好適である。 The reactive group-containing diamine is not limited to either an aromatic diamine or an aliphatic diamine as long as it has the reactive group, but an aromatic diamine represented by the following chemical formula (2) is preferable. It is.

Figure 2016171101
化学式(2)中、XおよびYはそれぞれ独立に直接結合、または下記式(3)における式(3−1)〜(3−8)から選ばれる基を示し、rは反応性基を示し、n1は0以上である。化学式(2)中のフェニレン環は、ハロゲン、アルキル基(好ましくは炭素数1〜約4)等で置換されていてもよい。
Figure 2016171101
In chemical formula (2), X and Y each independently represent a direct bond or a group selected from formulas (3-1) to (3-8) in the following formula (3), and r 1 represents a reactive group. , N1 is 0 or more. The phenylene ring in the chemical formula (2) may be substituted with a halogen, an alkyl group (preferably having 1 to about 4 carbon atoms), or the like.

Figure 2016171101
式中、R、Rは水素、メチル基、又はハロゲン化メチル基である。
Figure 2016171101
In the formula, R 5 and R 6 are hydrogen, a methyl group, or a halogenated methyl group.

化学式(2)においてn1は0〜3の数であることが好ましく、0〜2の数であることがより好ましく、0〜1の数であることがさらに好ましい。 In chemical formula (2), n1 is preferably a number from 0 to 3, more preferably a number from 0 to 2, and even more preferably a number from 0 to 1.

化学式(2)で示される反応性基含有ジアミンのうち、反応性基としてカルボキシル基を有するジアミンの例としては、3,5−ジアミノ安息香酸、2,4−ジアミノ安息香酸などのベンゼンカルボン酸類、3,3’−ジアミノ−4,4’−ジカルボキシビフェニル、4,4’−ジアミノ−3,3’−ジカルボキシビフェニル、4,4’−ジアミノ−2,2’−ジカルボキシビフェニル、4,4’−ジアミノ−2,2’,5,5’−テトラカルボキシビフェニルなどのカルボキシビフェニル化合物類、3,3’−ジアミノ−4,4’−ジカルボキシジフェニルメタン、4,4’−ジアミノ−3,3’−ジカルボキシジフェニルメタン、4,4’−ジアミノ−2,2’−ジカルボキシジフェニルメタン、2,2−ビス(3−アミノ−4−カルボキシフェニル)プロパン、2,2−ビス(4−アミノ−3−カルボキシフェニル)プロパン、2,2−ビス(3−アミノ−4−カルボキシフェニル)ヘキサフルオロプロパン、4,4’−ジアミノ−2,2’,5,5’−テトラカルボキシビフェニルなどのカルボキシジフェニルアルカン化合物類、3,3’−ジアミノ−4,4’−ジカルボキシジフェニルエーテル、4,4’−ジアミノ−3,3’−ジカルボキシジフェニルエーテル、4,4’−ジアミノ−2,2’−ジカルボキシジフェニルエーテル、4,4’−ジアミノ−2,2’5,5’−テトラカルボキシジフェニルエーテルなどのカルボキシジフェニルエーテル化合物類、3,3’−ジアミノ−4,4’−ジカルボキシジフェニルスルホン、4,4’−ジアミノ−3,3’−ジカルボキシジフェニルスルホン、4,4’−ジアミノ−2,2’,5,5’−テトラカルボキシジフェニルスルホンなどのカルボキシジフェニルスルホン化合物類、2,2−ビス[4−(4−アミノ−3−カルボキシフェノキシ)フェニル]プロパンなどのビス(カルボキシフェノキシフェニル)アルカン化合物類、4,4’−ビス(4−アミノ−3−カルボキシフェノキシ)ビフェニルなどのビス(カルボキシフェノキシ)ビフェニル化合物類、2,2−ビス[4−(4−アミノ−3−カルボキシフェノキシ)フェニル]スルホンなどのビス(カルボキシフェノキシフェニル)スルホン化合物などを挙げることができる。これらは1種又は2種以上を組み合わせて用いることができる。 Among the reactive group-containing diamines represented by the chemical formula (2), examples of diamines having a carboxyl group as a reactive group include benzenecarboxylic acids such as 3,5-diaminobenzoic acid and 2,4-diaminobenzoic acid, 3,3′-diamino-4,4′-dicarboxybiphenyl, 4,4′-diamino-3,3′-dicarboxybiphenyl, 4,4′-diamino-2,2′-dicarboxybiphenyl, 4, Carboxyphenyl compounds such as 4′-diamino-2,2 ′, 5,5′-tetracarboxybiphenyl, 3,3′-diamino-4,4′-dicarboxydiphenylmethane, 4,4′-diamino-3, 3'-dicarboxydiphenylmethane, 4,4'-diamino-2,2'-dicarboxydiphenylmethane, 2,2-bis (3-amino-4-carbo Cyphenyl) propane, 2,2-bis (4-amino-3-carboxyphenyl) propane, 2,2-bis (3-amino-4-carboxyphenyl) hexafluoropropane, 4,4′-diamino-2,2 Carboxydiphenylalkane compounds such as', 5,5'-tetracarboxybiphenyl, 3,3'-diamino-4,4'-dicarboxydiphenyl ether, 4,4'-diamino-3,3'-dicarboxydiphenyl ether, Carboxydiphenyl ether compounds such as 4,4′-diamino-2,2′-dicarboxydiphenyl ether, 4,4′-diamino-2,2′5,5′-tetracarboxydiphenyl ether, 3,3′-diamino-4 , 4′-dicarboxydiphenylsulfone, 4,4′-diamino-3,3′-dica Carboxydiphenylsulfone compounds such as boxydiphenylsulfone, 4,4′-diamino-2,2 ′, 5,5′-tetracarboxydiphenylsulfone, 2,2-bis [4- (4-amino-3-carboxy) Bis (carboxyphenoxyphenyl) alkane compounds such as phenoxy) phenyl] propane, bis (carboxyphenoxy) biphenyl compounds such as 4,4′-bis (4-amino-3-carboxyphenoxy) biphenyl, 2,2-bis And bis (carboxyphenoxyphenyl) sulfone compounds such as [4- (4-amino-3-carboxyphenoxy) phenyl] sulfone. These can be used alone or in combination of two or more.

また、化学式(2)で示される反応性基含有ジアミンのうち、反応性基として水酸基を有するジアミンの例としては、3,5−ジアミノフェノール、2,4−ジアミノフェノールなどのフェノール類、3,3’−ジアミノ−4,4’−ジヒドロキシビフェニル、4,4’−ジアミノ−3,3’−ジヒドロキシビフェニル、4,4’−ジアミノ−2,2’−ジヒドロキシビフェニル、4,4’−ジアミノ−2,2’,5,5’−テトラヒドロキシビフェニルなどのヒドロキシビフェニル化合物類、3,3’−ジアミノ−4,4’−ジヒドロキシジフェニルメタン、4,4’−ジアミノ−3,3’−ジヒドロキシジフェニルメタン、4,4’−ジアミノ−2,2’−ジヒドロキシジフェニルメタン、2,2−ビス(3−アミノ−4−ヒドロキシフェニル)プロパン、2,2−ビス(4−アミノ−3−ヒドロキシフェニル)プロパン、2,2−ビス(3−アミノ−4−ヒドロキシフェニル)ヘキサフルオロプロパン、4,4’−ジアミノ−2,2’,5,5’−テトラヒドロキシビフェニルなどのヒドロキシジフェニルアルカン化合物類、3,3’−ジアミノ−4,4’−ジヒドロキシジフェニルエーテル、4,4’−ジアミノ−3,3’−ジヒドロキシジフェニルエーテル、4,4’−ジアミノ−2,2’−ジヒドロキシジフェニルエーテル、4,4’−ジアミノ−2,2’5,5’−テトラヒドロキシジフェニルエーテルなどのヒドロキシジフェニルエーテル化合物類、3,3’−ジアミノ−4,4’−ジヒドロキシジフェニルスルホン、4,4’−ジアミノ−3,3’−ジヒドロキシジフェニルスルホン、4,4’−ジアミノ−2,2’,5,5’−テトラヒドロキシジフェニルスルホンなどのヒドロキシジフェニルスルホン化合物類、2,2−ビス[4−(4−アミノ−3−ヒドロキシフェノキシ)フェニル]プロパンなどのビス(ヒドロキシフェノキシフェニル)アルカン化合物類、4,4’−ビス(4−アミノ−3−ヒドロキシフェノキシ)ビフェニルなどのビス(ヒドロキシフェノキシ)ビフェニル化合物類、2,2−ビス[4−(4−アミノ−3−ヒドロキシフェノキシ)フェニル]スルホンなどのビス(ヒドロキシフェノキシフェニル)スルホン化合物、ビス(2−ヒドロキシ−3−アミノ−5−メチルフェニル)メタン、2,6−ジ{(2−ヒドロキシ−3−アミノ−5−メチルフェニル)メチル}−4−メチルフェノール、ビス{2−ヒドロキシ−3−(2’−ヒドロキシ−3’−アミノ−5’メチル)ベンジル−5−メチル}メタンなどを挙げることができる。これらは1種又は2種以上を組み合わせて用いることができる。 Examples of the diamine having a hydroxyl group as a reactive group among the reactive group-containing diamine represented by the chemical formula (2) include phenols such as 3,5-diaminophenol and 2,4-diaminophenol, 3, 3'-diamino-4,4'-dihydroxybiphenyl, 4,4'-diamino-3,3'-dihydroxybiphenyl, 4,4'-diamino-2,2'-dihydroxybiphenyl, 4,4'-diamino- Hydroxybiphenyl compounds such as 2,2 ′, 5,5′-tetrahydroxybiphenyl, 3,3′-diamino-4,4′-dihydroxydiphenylmethane, 4,4′-diamino-3,3′-dihydroxydiphenylmethane, 4,4′-diamino-2,2′-dihydroxydiphenylmethane, 2,2-bis (3-amino-4-hydroxyphenyl) Nyl) propane, 2,2-bis (4-amino-3-hydroxyphenyl) propane, 2,2-bis (3-amino-4-hydroxyphenyl) hexafluoropropane, 4,4′-diamino-2,2 Hydroxydiphenylalkane compounds such as', 5,5'-tetrahydroxybiphenyl, 3,3'-diamino-4,4'-dihydroxydiphenyl ether, 4,4'-diamino-3,3'-dihydroxydiphenyl ether, 4, Hydroxydiphenyl ether compounds such as 4′-diamino-2,2′-dihydroxydiphenyl ether, 4,4′-diamino-2,2′5,5′-tetrahydroxydiphenyl ether, 3,3′-diamino-4,4 ′ -Dihydroxydiphenylsulfone, 4,4'-diamino-3,3'-dihydroxy Hydroxydiphenylsulfone compounds such as diphenylsulfone, 4,4′-diamino-2,2 ′, 5,5′-tetrahydroxydiphenylsulfone, 2,2-bis [4- (4-amino-3-hydroxyphenoxy) Bis (hydroxyphenoxyphenyl) alkane compounds such as phenyl] propane, bis (hydroxyphenoxy) biphenyl compounds such as 4,4′-bis (4-amino-3-hydroxyphenoxy) biphenyl, 2,2-bis [4 Bis (hydroxyphenoxyphenyl) sulfone compounds such as-(4-amino-3-hydroxyphenoxy) phenyl] sulfone, bis (2-hydroxy-3-amino-5-methylphenyl) methane, 2,6-di {(2 -Hydroxy-3-amino-5-methylphenyl) methyl} -4-me Examples include tilphenol and bis {2-hydroxy-3- (2'-hydroxy-3'-amino-5'methyl) benzyl-5-methyl} methane. These can be used alone or in combination of two or more.

化学式(2)で示される反応性基含有ジアミンは一核または二核体のものが好ましく、具体的には3,5−ジアミノ安息香酸、4,4’−ジアミノ−3,3’−ジカルボキシジフェニルメタン、4,4’−ジアミノ−3,3’−ジヒドロキシビフェニル、4,4−ジアミノ−2,2’−ジカルボキシジフェニルエーテル、2,2−ビス(3−アミノ−4−ヒドロキシフェニル)ヘキサフルオロプロパン及び、2,2’−ビス(3−アミノ−4−ヒドロキシフェニル)プロパンなどを挙げることができる。本発明では特に3,5−ジアミノ安息香酸、4,4’−ジアミノ−3,3’−ジカルボキシジフェニルメタン、4,4‘−ジアミノ−3,3’−ジヒドロキシビフェニルを用いることが好ましい。 The reactive group-containing diamine represented by the chemical formula (2) is preferably mononuclear or binuclear, specifically 3,5-diaminobenzoic acid, 4,4′-diamino-3,3′-dicarboxyl. Diphenylmethane, 4,4′-diamino-3,3′-dihydroxybiphenyl, 4,4-diamino-2,2′-dicarboxydiphenyl ether, 2,2-bis (3-amino-4-hydroxyphenyl) hexafluoropropane And 2,2′-bis (3-amino-4-hydroxyphenyl) propane. In the present invention, 3,5-diaminobenzoic acid, 4,4'-diamino-3,3'-dicarboxydiphenylmethane, and 4,4'-diamino-3,3'-dihydroxybiphenyl are particularly preferably used.

ジアミン成分は、上記ジアミン化合物(1)、(2)のほか、さらに他のジアミンを含んでいてもよい。 In addition to the diamine compounds (1) and (2), the diamine component may further contain other diamines.

他のジアミンとしては、前記式(1)、(2)で表されるジアミン以外のジアミンであれば特に限定されるものではないが、下記化学式(4)で示される複数のベンゼン環からなる芳香族ジアミンが好適である。 The other diamine is not particularly limited as long as it is a diamine other than the diamines represented by the above formulas (1) and (2), but is an aroma composed of a plurality of benzene rings represented by the following chemical formula (4). Group diamines are preferred.

Figure 2016171101
化学式(4)において、XおよびYはそれぞれ独立に直接結合、または前記式(3)を示し、n2は1又は2である。化学式(4)中のフェニレン環は、ハロゲン、アルキル基(好ましくは炭素数1〜約4)等で置換されていてもよい。またジアミン成分が、他のジアミンとして、式(4)で表されるジアミンと式(2)で表されるジアミンを両方含有する場合、これらジアミンにおけるX及びYは同一であってもよく、異なっていてもよい。
Figure 2016171101
In the chemical formula (4), X and Y each independently represent a direct bond or the formula (3), and n2 is 1 or 2. The phenylene ring in the chemical formula (4) may be substituted with a halogen, an alkyl group (preferably having 1 to about 4 carbon atoms) or the like. When the diamine component contains both the diamine represented by formula (4) and the diamine represented by formula (2) as other diamines, X and Y in these diamines may be the same or different. It may be.

化学式(4)で示される芳香族ジアミンの例としては、1,4−ジアミノベンゼン、1,3−ジアミノベンゼン、2,4−ジアミノトルエン、1,4−ジアミノ−2,5−ジハロゲノベンゼンなどのベンゼン環を1個を含むジアミン類、ビス(4−アミノフェニル)エーテル、ビス(3−アミノフェニル)エーテル、ビス(4−アミノフェニル)スルホン、ビス(3−アミノフェニル)スルホン、ビス(4−アミノフェニル)メタン、ビス(3−アミノフェニル)メタン、ビス(4−アミノフェニル)スルフィド、ビス(3−アミノフェニル)スルフィド、2,2−ビス(4−アミノフェニル)プロパン、2,2−ビス(3−アミノフェニル)プロパン、2,2−ビス(4−アミノフェニル)ヘキサフルオロプロパン、o−ジアニシジン、o−トリジン、トリジンスルホン酸類などのベンゼン環を2個を含むジアミン類、1,4−ビス(4−アミノフェノキシ)ベンゼン、1,4−ビス(3−アミノフェノキシ)ベンゼン、1,4−ビス(4−アミノフェニル)ベンゼン、1,4−ビス(3−アミノフェニル)ベンゼン、α,α’−ビス(4−アミノフェニル)−1,4−ジイソプロピルベンゼン、α,α’−ビス(4−アミノフェニル)−1,3−ジイソプロピルベンゼンなどのベンゼン環を3個を含むジアミン類、2,2−ビス[4−(4−アミノフェノキシ)フェニル]プロパン、2,2−ビス[4−(4−アミノフェノキシ)フェニル]ヘキサフルオロプロパン、2,2−ビス[4−(4−アミノフェノキシ)フェニル]スルホン、4,4’−(4−アミノフェノキシ)ビフェニル、9,9−ビス(4−アミノフェニル)フルオレン、5,10−ビス(4−アミノフェニル)アントラセンなどのベンゼン環を4個以上を含むジアミン類などのジアミン化合物が挙げられる。これらは1種又は2種以上を組み合わせて用いることができる。 Examples of the aromatic diamine represented by the chemical formula (4) include 1,4-diaminobenzene, 1,3-diaminobenzene, 2,4-diaminotoluene, 1,4-diamino-2,5-dihalogenobenzene and the like. Diamines containing one benzene ring, bis (4-aminophenyl) ether, bis (3-aminophenyl) ether, bis (4-aminophenyl) sulfone, bis (3-aminophenyl) sulfone, bis (4 -Aminophenyl) methane, bis (3-aminophenyl) methane, bis (4-aminophenyl) sulfide, bis (3-aminophenyl) sulfide, 2,2-bis (4-aminophenyl) propane, 2,2- Bis (3-aminophenyl) propane, 2,2-bis (4-aminophenyl) hexafluoropropane, o-dianisidine, o Diamines containing two benzene rings such as tolidine and tolidinesulfonic acids, 1,4-bis (4-aminophenoxy) benzene, 1,4-bis (3-aminophenoxy) benzene, 1,4-bis (4 -Aminophenyl) benzene, 1,4-bis (3-aminophenyl) benzene, α, α'-bis (4-aminophenyl) -1,4-diisopropylbenzene, α, α'-bis (4-aminophenyl) ) Diamines containing three benzene rings such as 1,3-diisopropylbenzene, 2,2-bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl] propane, 2,2-bis [4- (4-amino) Phenoxy) phenyl] hexafluoropropane, 2,2-bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl] sulfone, 4,4 ′-(4-aminophenoxy) biphe Examples thereof include diamine compounds such as diamines containing four or more benzene rings such as nyl, 9,9-bis (4-aminophenyl) fluorene, and 5,10-bis (4-aminophenyl) anthracene. These can be used alone or in combination of two or more.

なお、1,4−ジアミノブタン、1,5−ジアミノペンタン、1,6−ジアミノヘキサン、2−メチル−1,5−ジアミノペンタン、1,7−ジアミノヘプタン、1,8−ジアミノオクタン、1,3−ビス(アミノメチル)シクロヘキサン、1,4−ビス(アミノメチル)シクロヘキサン、1,9−ジアミノノナン、1,10−ジアミノデカン、1,11−ジアミノウンデカン、1,12−ジアミノドデカン、1,2−シクロヘキサンジアミン、1,3−シクロヘキサンジアミン、1,4−シクロヘキサンジアミン4,4’−メチレンビスシクロヘキシルアミン、N,N’−ビス(2−アミノエチル)−1,3−プロパンジアミン、ビス(3−アミノプロピル)エチレンジアミン、1,4−ビス(3−アミノプロピル)ピペラジン、N−メチル−2,2’−ジアミノジエチルアミン、3,3’−ジアミノジプロピルアミン、N,N−ビス(3−アミノプロピル)メチルアミン、ビス(3−アミノプロピル)エーテル、1,2−ビス(2−アミノエトキシ)エタン、3,9−ビス(3−アミノプロピル)−2,4,8,10−テトラオキサスピロ[5.5]−ウンデカン、2,2’−チオビス(エチルアミン)など脂肪族ジアミン化合物を上記芳香族ジアミンと共に使用することができる。 1,4-diaminobutane, 1,5-diaminopentane, 1,6-diaminohexane, 2-methyl-1,5-diaminopentane, 1,7-diaminoheptane, 1,8-diaminooctane, 1, 3-bis (aminomethyl) cyclohexane, 1,4-bis (aminomethyl) cyclohexane, 1,9-diaminononane, 1,10-diaminodecane, 1,11-diaminoundecane, 1,12-diaminododecane, 1,2 -Cyclohexanediamine, 1,3-cyclohexanediamine, 1,4-cyclohexanediamine 4,4'-methylenebiscyclohexylamine, N, N'-bis (2-aminoethyl) -1,3-propanediamine, bis (3 -Aminopropyl) ethylenediamine, 1,4-bis (3-aminopropyl) piperazine, N-methyl -2,2'-diaminodiethylamine, 3,3'-diaminodipropylamine, N, N-bis (3-aminopropyl) methylamine, bis (3-aminopropyl) ether, 1,2-bis (2- Aminoethoxy) ethane, aliphatic diamine compounds such as 3,9-bis (3-aminopropyl) -2,4,8,10-tetraoxaspiro [5.5] -undecane, 2,2′-thiobis (ethylamine) Can be used with the above aromatic diamine.

ジアミン成分のうち、ジアミン化合物(1)は、好ましくは40〜99モル%、より好ましくは50〜95モル%、さらに好ましくは60〜95モル%含まれることが好ましく、特に65〜95モル%含まれることが好ましい。ジアミン化合物(1)の含有量が40モル%未満の場合には、得られる硬化物が可とう性に劣り、99モル%を超える場合には硬化物とした際に硬化不良が発生する恐れがある。 Among the diamine components, the diamine compound (1) is preferably contained in an amount of 40 to 99 mol%, more preferably 50 to 95 mol%, still more preferably 60 to 95 mol%, particularly 65 to 95 mol%. It is preferable that When the content of the diamine compound (1) is less than 40 mol%, the obtained cured product is inferior in flexibility, and when it exceeds 99 mol%, there is a risk that poor curing occurs when the cured product is used. is there.

ジアミン成分のうち、反応性基含有ジアミンは、好ましくは1〜60モル%、より好ましくは5〜50モル%、さらに好ましくは5〜40モル%、特に5〜35モル%含まれることが好ましい。反応性基含有ジアミンの含有量が60モル%を超える場合には、得られる硬化物が可とう性に劣り、1モル%未満の場合には硬化物とした際に硬化不良が発生する恐れがある。ジアミン成分がジアミン化合物(2)を含有する場合、ジアミン成分における、ジアミン化合物(2)の割合も、好ましくは1〜60モル%、より好ましくは5〜50モル%、さらに好ましくは5〜40モル%、特に好ましくは5〜35モル%含まれることが好ましい。 Among the diamine components, the reactive group-containing diamine is preferably contained in an amount of 1 to 60 mol%, more preferably 5 to 50 mol%, still more preferably 5 to 40 mol%, and particularly preferably 5 to 35 mol%. When the content of the reactive group-containing diamine exceeds 60 mol%, the resulting cured product is inferior in flexibility, and when it is less than 1 mol%, there is a risk that poor curing will occur when a cured product is obtained. is there. When the diamine component contains the diamine compound (2), the proportion of the diamine compound (2) in the diamine component is also preferably 1 to 60 mol%, more preferably 5 to 50 mol%, still more preferably 5 to 40 mol. %, Particularly preferably 5 to 35 mol%.

ジアミン成分のうち、ジアミン化合物(1)及び反応性基含有ジアミン以外のジアミンは、得られる硬化膜の物性を大きく損なわせない範囲で加えても良い。   Among the diamine components, diamines other than the diamine compound (1) and the reactive group-containing diamine may be added as long as the physical properties of the resulting cured film are not significantly impaired.

テトラカルボン酸成分としては、芳香族テトラカルボン酸又は、それらの酸二無水物や低級アルコ−ルのエステル化物、脂環族系テトラカルボン酸又は、それらの酸二無水物や低級アルコ−ルのエステル化物を好適に挙げることができる。
芳香族テトラカルボン酸としては、ビフェニルテトラカルボン酸、ナフタレンテトラカルボン酸、ピロメリット酸、及び、2つのo−ベンゼンジカルボン酸基のベンゼン環同士が連結基で結合された構造を有するテトラカルボン酸を挙げることができる。この連結基としては、−O−、−CO−、−SO−、アルキレン基(好ましくは炭素数1〜3等)、ハロゲン化アルキレン基(好ましくは炭素数1〜3等)、フェニレン基又はこれらを酸素原子同士が連続しない条件で組み合せてなる基が挙げられる。
前記のビフェニルテトラカルボン酸としては2,3,3’,4’−ビフェニルテトラカルボン酸、3,3’,4,4’−ビフェニルテトラカルボン酸、2,2’,3,3’−ビフェニルテトラカルボン酸が挙げられる。
前記のナフタレンテトラカルボン酸としては、2,3,6,7−ナフタレンテトラカルボン酸、1,2,5,6−ナフタレンテトラカルボン酸、1,2,4,5−ナフタレンテトラカルボン酸、1,4,5,8−ナフタレンテトラカルボン酸が挙げられる。
前記の2つのo-ベンゼンジカルボン酸基のベンゼン環同士が連結基で結合された構造を有するテトラカルボン酸としては、3,3’,4,4’−ジフェニルエ−テルテトラカルボン酸、3,3’,4,4’−ジフェニルスルホンテトラカルボン酸、3,3’,4,4’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸、2,2−ビス(3,4−ベンゼンジカルボン酸)ヘキサフルオロプロパン、1,4−ビス(3,4−ベンゼンジカルボン酸)ベンゼン、2,2−ビス[4−(3,4−フェノキシジカルボン酸)フェニル]プロパン、1,1−ビス(2,3−ジカルボキシフェニル)エタン、4,4’−(4,4’−イソプロピリデンビスフェノキシ)ジフタル酸などの芳香族テトラカルボン酸が挙げられる。
脂環族系テトラカルボン酸としては、置換あるいは無置換のシクロアルキル基(好ましくは炭素数4〜7)、複数の脂環が二つ以上の共通の炭素原子によって構成された多脂環型(好ましくは炭素数10〜15)、及び環を形成する炭素原子同士が化学結合によって更に環を形成した架橋環型(好ましくは炭素数7〜12)における4つの水素原子がカルボン酸基に置換されたテトラカルボン酸が挙げられ、具体的には、1,2,3,4−シクロブタンテトラカルボン酸、1,2,3,4−シクロペンタンテトラカルボン酸、1,2,4,5−シクロヘキサンテトラカルボン酸、3−メチル−4−シクロヘキセン−1,2,4,5−テトラカルボン酸、5−(1,2−ジカルボキシエチル)−3−メチル−3−シクロヘキセン−1,2−ジカルボン酸、[1,1’−ビ(シクロヘキサン)]−3,3’,4,4’−テトラカルボン酸、[1,1’−ビ(シクロヘキサン)]−2,3,3’,4’−テトラカルボン酸、[1,1’−ビ(シクロヘキサン)]−2,2’,3,3’−テトラカルボン酸、4,4’−メチレンビス(シクロヘキサン−1,2−ジカルボン酸)、4,4’−(プロパン−2,2−ジイル)ビス(シクロヘキサン−1,2−ジカルボン酸)、4,4’−オキシビス(シクロヘキサン−1,2−ジカルボン酸)、4,4’−チオビス(シクロヘキサン−1,2−ジカルボン酸)、4,4’−スルホニルビス(シクロヘキサン−1,2−ジカルボン酸)、4,4’−(ジメチルシランジイル)ビス(シクロヘキサン−1,2−ジカルボン酸)、4,4’−(テトラフルオロプロパン−2,2−ジイル)ビス(シクロヘキサン−1,2−ジカルボン酸)、オクタヒドロペンタレン−1,3,4,6−テトラカルボン酸、ビシクロ[2.2.1]ヘプタン−2,3,5,6−テトラカルボン酸、6−(カルボキシメチル)ビシクロ[2.2.1]ヘプタン−2,3,5−トリカルボン酸、ビシクロ[2.2.2]オクタン−2,3,5,6−テトラカルボン酸、ビシクロ[2.2.2]オクタ−5−エン−2,3,7,8−テトラカルボン酸、トリシクロ[4.2.2.02,5]デカン−3,4,7,8−テトラカルボン酸、トリシクロ[4.2.2.02,5]デカ−7−エン−3,4,9,10−テトラカルボン酸、9−オキサトリシクロ[4.2.1.02,5]ノナン−3,4,7,8−テトラカルボン酸、デカヒドロ−1,4:5,8−ジメタノナフタレン−2,3,6,7−テトラカルボン酸などを好適に挙げることができる。これらは1種又は2種以上を組み合わせて用いることができる。
Examples of the tetracarboxylic acid component include aromatic tetracarboxylic acids or their acid dianhydrides and esterified products of lower alcohols, alicyclic tetracarboxylic acids or their acid dianhydrides and lower alcohols. Preferable examples are esterified products.
Aromatic tetracarboxylic acids include biphenyltetracarboxylic acid, naphthalenetetracarboxylic acid, pyromellitic acid, and tetracarboxylic acid having a structure in which the benzene rings of two o-benzenedicarboxylic acid groups are bonded together by a linking group. Can be mentioned. As this linking group, —O—, —CO—, —SO 2 —, an alkylene group (preferably having 1 to 3 carbon atoms, etc.), a halogenated alkylene group (preferably having 1 to 3 carbon atoms, etc.), a phenylene group or A group formed by combining these under conditions where oxygen atoms do not continue to each other is mentioned.
Examples of the biphenyltetracarboxylic acid include 2,3,3 ′, 4′-biphenyltetracarboxylic acid, 3,3 ′, 4,4′-biphenyltetracarboxylic acid, and 2,2 ′, 3,3′-biphenyltetracarboxylic acid. Carboxylic acid is mentioned.
Examples of the naphthalenetetracarboxylic acid include 2,3,6,7-naphthalenetetracarboxylic acid, 1,2,5,6-naphthalenetetracarboxylic acid, 1,2,4,5-naphthalenetetracarboxylic acid, 4,5,8-naphthalenetetracarboxylic acid.
Examples of the tetracarboxylic acid having a structure in which the benzene rings of the two o-benzenedicarboxylic acid groups are bonded with a linking group include 3,3 ′, 4,4′-diphenylethertetracarboxylic acid, 3, 3 ′, 4,4′-diphenylsulfonetetracarboxylic acid, 3,3 ′, 4,4′-benzophenonetetracarboxylic acid, 2,2-bis (3,4-benzenedicarboxylic acid) hexafluoropropane, 1,4 -Bis (3,4-benzenedicarboxylic acid) benzene, 2,2-bis [4- (3,4-phenoxydicarboxylic acid) phenyl] propane, 1,1-bis (2,3-dicarboxyphenyl) ethane, Aromatic tetracarboxylic acids such as 4,4 ′-(4,4′-isopropylidenebisphenoxy) diphthalic acid may be mentioned.
As the alicyclic tetracarboxylic acid, a substituted or unsubstituted cycloalkyl group (preferably having 4 to 7 carbon atoms), a polyalicyclic type in which a plurality of alicyclic rings are composed of two or more common carbon atoms ( Preferably, 4 hydrogen atoms in a bridged ring type (preferably having 7 to 12 carbon atoms) in which the ring-forming carbon atoms further form a ring by a chemical bond are substituted with carboxylic acid groups. Specifically, 1,2,3,4-cyclobutanetetracarboxylic acid, 1,2,3,4-cyclopentanetetracarboxylic acid, 1,2,4,5-cyclohexanetetra Carboxylic acid, 3-methyl-4-cyclohexene-1,2,4,5-tetracarboxylic acid, 5- (1,2-dicarboxyethyl) -3-methyl-3-cyclohexene-1,2-dica Boronic acid, [1,1′-bi (cyclohexane)]-3,3 ′, 4,4′-tetracarboxylic acid, [1,1′-bi (cyclohexane)]-2,3,3 ′, 4 ′ Tetracarboxylic acid, [1,1′-bi (cyclohexane)]-2,2 ′, 3,3′-tetracarboxylic acid, 4,4′-methylenebis (cyclohexane-1,2-dicarboxylic acid), 4, 4 ′-(propane-2,2-diyl) bis (cyclohexane-1,2-dicarboxylic acid), 4,4′-oxybis (cyclohexane-1,2-dicarboxylic acid), 4,4′-thiobis (cyclohexane-) 1,2-dicarboxylic acid), 4,4′-sulfonylbis (cyclohexane-1,2-dicarboxylic acid), 4,4 ′-(dimethylsilanediyl) bis (cyclohexane-1,2-dicarboxylic acid), 4, 4 '-(tetrafluoropropane-2,2-dii ) Bis (cyclohexane-1,2-dicarboxylic acid), octahydropentalene-1,3,4,6-tetracarboxylic acid, bicyclo [2.2.1] heptane-2,3,5,6-tetracarboxylic acid Acid, 6- (carboxymethyl) bicyclo [2.2.1] heptane-2,3,5-tricarboxylic acid, bicyclo [2.2.2] octane-2,3,5,6-tetracarboxylic acid, bicyclo [2.2.2] oct-5-ene-2,3,7,8-tetracarboxylic acid, tricyclo [4.2.2.02,5] decane-3,4,7,8-tetracarboxylic acid , Tricyclo [4.2.2.02,5] dec-7-ene-3,4,9,10-tetracarboxylic acid, 9-oxatricyclo [4.2.1.02,5] nonane-3 , 4,7,8-tetracarboxylic acid, decahydro-1,4: 5,8-dimethanonaphth Talen-2,3,6,7-tetracarboxylic acid and the like can be preferably mentioned. These can be used alone or in combination of two or more.

テトラカルボン酸成分としては特に限定されるものではないが、ビフェニルテトラカルボン酸、2つのo−ベンゼンジカルボン酸基のベンゼン環同士が連結基で結合された構造を有するテトラカルボン酸、及び、アルキルシクロアルキル基のテトラカルボン酸(特にアルキルシクロアルキル基におけるシクロアルキル基とアルキル基とにそれぞれ2つずつカルボン酸基を有するもの)が好ましく挙げられ、とりわけ、2,3,3’,4’−ビフェニルテトラカルボン酸、3,3’,4,4’‐ベンゾフェノンテトラカルボン酸、4,4’−(4,4’−イソプロピリデンジフェノキシ)ジフタル酸、5−(1,2−ジカルボキシエチル)−3−メチル−3−シクロヘキセン−1,2−ジカルボン酸などの非結晶性のテトラカルボン酸成分を用いることが好ましい。本発明では耐熱性に優れるため、特に2,3,3’,4’−ビフェニルテトラカルボン酸を用いることが好ましい。 The tetracarboxylic acid component is not particularly limited, but biphenyltetracarboxylic acid, tetracarboxylic acid having a structure in which benzene rings of two o-benzenedicarboxylic acid groups are bonded to each other by a linking group, and alkylcyclohexane Preferred examples include alkyl tetracarboxylic acids (especially those having two carboxylic acid groups in each of the cycloalkyl group and the alkyl group in the alkylcycloalkyl group), especially 2,3,3 ′, 4′-biphenyl. Tetracarboxylic acid, 3,3 ′, 4,4′-benzophenonetetracarboxylic acid, 4,4 ′-(4,4′-isopropylidenediphenoxy) diphthalic acid, 5- (1,2-dicarboxyethyl)- Uses amorphous tetracarboxylic acid components such as 3-methyl-3-cyclohexene-1,2-dicarboxylic acid Rukoto is preferable. In the present invention, 2,3,3 ', 4'-biphenyltetracarboxylic acid is particularly preferably used because of excellent heat resistance.

また、本発明のポリイミド中に、水酸基、カルボキシル基、アルデヒド基、アミノ基、イミノ基、チオール基等の活性水素を有する反応基、および不飽和二重結合を有する反応基から選ばれる反応性基を分子中に少なくとも1個有させるために反応性基含有テトラカルボン酸成分を含んでもよい。 In addition, in the polyimide of the present invention, a reactive group selected from a reactive group having an active hydrogen such as a hydroxyl group, a carboxyl group, an aldehyde group, an amino group, an imino group, and a thiol group, and a reactive group having an unsaturated double bond In order to have at least one in the molecule, a reactive group-containing tetracarboxylic acid component may be included.

本発明において使用するテトラカルボン酸成分とジアミン成分との割合は、略等モル、好ましくはジアミン成分1モルに対してテトラカルボン酸成分が0.8〜1.2、より好ましくは0.9〜1.1モル程度の割合である。 The ratio of the tetracarboxylic acid component and the diamine component used in the present invention is approximately equimolar, preferably 0.8 to 1.2, more preferably 0.9 to tetracarboxylic acid component per 1 mol of diamine component. The ratio is about 1.1 mol.

本発明において使用するジアミン成分は、シロキサン成分を非含有であることが好ましい。シロキサン成分とは、下記一般式(5)で表される構造を有し、繰り返し単位数n3が2以上である成分(化合物)である。シロキサン成分を非含有とは、好ましくはジアミン成分におけるシロキサン成分を有する化合物のモル数が0モル%であることを指す。なお、通常、テトラカルボン酸成分はシロキサン成分を非含有である。

Figure 2016171101

式中R、Rは直鎖状アルキル基であり、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基等を挙げることができる。RおよびRは互いに同一であっても異なっていてもよい。R,R10は非反応性のものとしては水素、メチル基やエチル基等の直鎖状アルキル基およびそのハロゲン化物、フェニル基、アラルキル基などが挙げられ、反応性のものとしては水酸基、カルボキシル基、アミノ基、エポキシ基、チオール基などが挙げられる。RおよびR10は互いに同一であっても異なっていてもよい。The diamine component used in the present invention preferably contains no siloxane component. The siloxane component is a component (compound) having a structure represented by the following general formula (5) and having a repeating unit number n3 of 2 or more. “Non-containing siloxane component” preferably means that the number of moles of the compound having a siloxane component in the diamine component is 0 mol%. Normally, the tetracarboxylic acid component does not contain a siloxane component.
Figure 2016171101

In the formula, R 7 and R 8 are linear alkyl groups, and examples thereof include a methyl group, an ethyl group, a propyl group, and a butyl group. R 7 and R 8 may be the same or different from each other. R 9 and R 10 are non-reactive such as hydrogen, linear alkyl groups such as methyl and ethyl groups, and their halides, phenyl groups, aralkyl groups, etc., and reactive groups are hydroxyl groups, Examples thereof include a carboxyl group, an amino group, an epoxy group, and a thiol group. R 9 and R 10 may be the same as or different from each other.

また、本発明において使用するジアミン成分は、脂肪族エーテル成分を非含有であることが好ましい。脂肪族エーテル成分とは、R−O−R結合(Rは炭素数2以上のアルキル基)を有する成分(化合物)である。脂肪族エーテル成分を非含有とは、好ましくはジアミン成分における、R−O−R結合を有する化合物のモル数が0モル%であることを指す。 Moreover, it is preferable that the diamine component used in this invention does not contain an aliphatic ether component. The aliphatic ether component is a component (compound) having an R—O—R bond (R is an alkyl group having 2 or more carbon atoms). The phrase “not containing an aliphatic ether component” preferably means that the number of moles of the compound having an R—O—R bond in the diamine component is 0 mol%.

本発明のポリイミドは下記のポリイミドとしても表すことができる。
下記一般式(1’)で表される構造単位を有しており、活性水素を有する反応基、および不飽和二重結合を有する反応基から選ばれる反応性基を分子中に少なくとも1個有するポリイミド。
The polyimide of the present invention can also be expressed as the following polyimide.
It has a structural unit represented by the following general formula (1 ′), and has at least one reactive group selected from a reactive group having active hydrogen and a reactive group having an unsaturated double bond in the molecule. Polyimide.

Figure 2016171101
(式中、Bは4価のテトラカルボン酸残基であり、A、R、R、RおよびRは一般式(1)と同じである。)
Figure 2016171101
(In the formula, B 1 is a tetravalent tetracarboxylic acid residue, and A, R 1 , R 2 , R 3 and R 4 are the same as those in the general formula (1).)

ここで式(1’)中、−N−R−A(−R)(−R)−R―N−で表される基は、上記一般式(1)で表されるジアミン化合物の残基であり、上記一般式(1)の説明は全てこの基に当てはまる。またBで表されるテトラカルボン酸残基としては、上記テトラカルボン酸成分の残基が挙げられ、上記テトラカルボン酸成分の説明は全て、該テトラカルボン酸残基をもたらすテトラカルボン酸に当てはまる。また活性水素を有する反応基、不飽和二重結合を有する反応基及びこれらから選ばれる反応性基の説明は上述した通りである。また、本発明のポリイミドの全構造単位中、式(1’)で表される構造単位の好ましいモル数の割合は、上述したジアミン成分中の上記式(1)で表されるジアミン化合物の好ましいモル数の割合と同様である。
上記反応性基は一般式(1’)で表されるB、R、R、RおよびRのいずれに結合していてもよいし、或いは、本発明のポリイミド中の一般式(1’)以外の構造単位、例えば以下の式(6)におけるB又はDに結合していてもよい。
Here, in the formula (1 ′), a group represented by —N—R 1 —A (—R 3 ) (— R 4 ) —R 2 —N— is a diamine represented by the above general formula (1). It is a residue of the compound, and all the explanations of the general formula (1) apply to this group. Examples of the tetracarboxylic acid residue represented by B 1 include the residues of the tetracarboxylic acid component, and all the descriptions of the tetracarboxylic acid component apply to the tetracarboxylic acid that gives the tetracarboxylic acid residue. . The explanation of the reactive group having active hydrogen, the reactive group having an unsaturated double bond, and the reactive group selected from these is as described above. Moreover, the ratio of the preferable mole number of the structural unit represented by Formula (1 ') in all the structural units of the polyimide of this invention is preferable of the diamine compound represented by the said Formula (1) in the diamine component mentioned above. This is the same as the mole ratio.
The reactive group may be bonded to any of B 1 , R 1 , R 2 , R 3 and R 4 represented by the general formula (1 ′), or the general formula in the polyimide of the present invention. It may be bonded to a structural unit other than (1 ′), for example, B 2 or D in the following formula (6).

Figure 2016171101

(式中、Bはテトラカルボン酸残基であり、Bと同一であっても異なっていてもよい。Dは、上記−R−A(−R)(−R)−R−以外の構造を有するジアミン残基である。)
Figure 2016171101

(In the formula, B 2 is a tetracarboxylic acid residue and may be the same as or different from B 1. D is the above-mentioned —R 1 —A (—R 3 ) (— R 4 ) —R. It is a diamine residue having a structure other than 2- .

上記式(6)における−D−が反応性基を有する場合、−D−の構造の例としては、下記一般式(2’)で表される構造が好ましく挙げられる。   When -D- in the above formula (6) has a reactive group, a preferred example of the structure of -D- is a structure represented by the following general formula (2 ').

Figure 2016171101
(X、Y、r、n1は、上記一般式(2)と同じである)
Figure 2016171101
(X, Y, r 1 and n1 are the same as those in the general formula (2)).

で表されるテトラカルボン酸残基の例としては、上記テトラカルボン酸成分の残基が挙げられ、上記テトラカルボン酸成分の説明は全て、該テトラカルボン酸残基をもたらすテトラカルボン酸に当てはまる。また上記式(6)におけるDが反応性基を有する場合、本発明のポリイミドの全構造単位中、該反応性基を有する式(6)の構造単位の好ましいモル数の割合は、上述したジアミン成分中における反応性基含有ジアミンの好ましい割合と同様である。本発明のポリイミドが、式(1’)で表される構造単位と式(6)で表される構造単位とを有する場合、両構造単位は、ブロック状に結合していてもよく、ランダム状に結合していてもよい。Examples of tetracarboxylic acid residues represented by B 2 include residues of the tetracarboxylic acid component, and all the descriptions of the tetracarboxylic acid component are all described in terms of the tetracarboxylic acid resulting in the tetracarboxylic acid residue. apply. Moreover, when D in the said Formula (6) has a reactive group, the ratio of the preferable mole number of the structural unit of the formula (6) which has this reactive group in all the structural units of the polyimide of this invention is the diamine mentioned above. It is the same as the preferable ratio of the reactive group containing diamine in a component. When the polyimide of the present invention has a structural unit represented by the formula (1 ′) and a structural unit represented by the formula (6), both the structural units may be bonded in a block shape, or randomly. May be bonded to.

本発明のポリイミド及び該ポリイミドを含有するポリイミド樹脂組成物は、溶媒中、テトラカルボン酸成分とジアミン化合物(1)とを反応させて製造することができる。ここで、「反応させる」とは、テトラカルボン酸成分とジアミン成分とが反応してイミド環を形成しながらポリイミド骨格を形成すること、すなわち重合・イミド化することを意味している。したがって、従来知られている重合およびイミド化する方法を好適に用いることができる。例えば、溶媒中でテトラカルボン酸成分とジアミン成分とを100〜250℃程度の温度で加熱して一段で重合・イミド化することもできる。また、溶媒中でテトラカルボン酸成分とジアミン成分とを100℃未満程度の温度で反応させてポリイミド前駆体(ポリアミック酸)とし、次いで100〜250℃程度に加熱してイミド化させるか、または脱水環化試薬である無水酢酸/ピリジン系やジシクロヘキシルカルボジイミド等の化学イミド化剤によってイミド化させることもできる。イミド化反応では、トルエンやキシレン等の共沸剤を添加して反応し生成水を系外に除いても構わない。 The polyimide of the present invention and the polyimide resin composition containing the polyimide can be produced by reacting a tetracarboxylic acid component and the diamine compound (1) in a solvent. Here, “reacting” means that a tetracarboxylic acid component and a diamine component react to form an imide ring while forming a polyimide skeleton, that is, polymerization / imidization. Therefore, conventionally known polymerization and imidization methods can be suitably used. For example, the tetracarboxylic acid component and the diamine component can be heated at a temperature of about 100 to 250 ° C. in a solvent to be polymerized and imidized in one step. In addition, a tetracarboxylic acid component and a diamine component are reacted in a solvent at a temperature of less than about 100 ° C. to obtain a polyimide precursor (polyamic acid), and then heated to about 100 to 250 ° C. for imidization or dehydration. It can also be imidized by a chemical imidizing agent such as acetic anhydride / pyridine system or dicyclohexylcarbodiimide which is a cyclizing reagent. In the imidization reaction, an azeotropic agent such as toluene or xylene may be added and reacted to remove the generated water from the system.

反応に用いる溶媒は、テトラカルボン酸成分とジアミン成分とを好適に反応(重合・イミド化)してポリイミドを得るための溶媒環境を与える物であれば特に限定されず、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド、N,N−ジエチルアセトアミド、N−メチル−2−ピロリドン、N−エチル−2−ピロリドン等のアミド系溶媒、γ−ブチルラクトン、γ−バレロラクトン、δ−バレロラクトン、γ−カプロラクトン、ε−カプロラクトン、α−メチル−γ−ブチルラクトン等の環状エステル系溶媒、エチレンカーボネート、プロピレンカーボネート等のカーボネート系溶媒、ジエチレングリコールジメチルエーテル(ジグライム)、トリエチレングリコールジメチルエーテル(トリグライム)、テトラグライム等のグリコール系溶媒、m−クレゾール、p−クレゾール、3−クロロフェノール、4−クロロフェノール等のフェノール系溶媒、1,3−ジメチル−2−イミダゾリジノン、スルホラン、ジメチルスルホキシド等が採用される。さらに、その他の一般的な有機溶剤、即ちフェノール、o−クレゾール、酢酸ブチル、酢酸エチル、酢酸イソブチル、プロピレングリコールメチルアセテート、エチルセロソルブ、ブチルセロソルブ、2−メチルセロソルブアセテート、エチルセロソルブアセテート、ブチルセロソルブアセテート、テトラヒドロフラン、ジメトキシエタン、ジエトキシエタン、ジブチルエーテル、エタノール、メタノールなども使用できる。これらはポリイミドを得るための溶媒環境を与える物であれば混合して使用しても構わない。また必要に応じてベンゼン、トルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素系溶媒などを併用してもよい。 The solvent used in the reaction is not particularly limited as long as it provides a solvent environment for obtaining a polyimide by suitably reacting (polymerizing / imidizing) a tetracarboxylic acid component and a diamine component. N, N-dimethylformamide Amide solvents such as N, N-dimethylacetamide, N, N-diethylacetamide, N-methyl-2-pyrrolidone, N-ethyl-2-pyrrolidone, γ-butyllactone, γ-valerolactone, δ-valerolactone , Γ-caprolactone, ε-caprolactone, cyclic ester solvents such as α-methyl-γ-butyllactone, carbonate solvents such as ethylene carbonate and propylene carbonate, diethylene glycol dimethyl ether (diglyme), triethylene glycol dimethyl ether (triglyme), tetra Glyco and other glyco Le solvents, m- cresol, p- cresol, 3-chlorophenol, phenol solvents such as 4-chlorophenol, 1,3-dimethyl-2-imidazolidinone, sulfolane, dimethyl sulfoxide or the like is employed. Furthermore, other common organic solvents such as phenol, o-cresol, butyl acetate, ethyl acetate, isobutyl acetate, propylene glycol methyl acetate, ethyl cellosolve, butyl cellosolve, 2-methyl cellosolve acetate, ethyl cellosolve acetate, butyl cellosolve acetate, tetrahydrofuran Dimethoxyethane, diethoxyethane, dibutyl ether, ethanol, methanol and the like can also be used. These may be mixed and used as long as they provide a solvent environment for obtaining polyimide. If necessary, an aromatic hydrocarbon solvent such as benzene, toluene or xylene may be used in combination.

本発明においては、非プロトン性であり、沸点が150〜220℃であるN,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド、N,N−ジエチルアセトアミド、N−メチル−2−ピロリドン、N−エチル−2−ピロリドン、ジエチレングリコールジメチルエーテル、トリエチレングリコールジメチルエーテル、γ−ブチルラクトンなどを好適に使用することができる。特に、ジエチレングリコールジメチルエーテル、トリエチレングリコールジメチルエーテルは吸湿性が低く、乾燥特性に優れるので好適である。 In the present invention, N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide, N, N-diethylacetamide, N-methyl-2-pyrrolidone, N-, which is aprotic and has a boiling point of 150 to 220 ° C. Ethyl-2-pyrrolidone, diethylene glycol dimethyl ether, triethylene glycol dimethyl ether, γ-butyl lactone and the like can be preferably used. In particular, diethylene glycol dimethyl ether and triethylene glycol dimethyl ether are preferable because of their low hygroscopicity and excellent drying characteristics.

本発明において、ポリイミド樹脂組成物は、固形分濃度として溶媒中に少なくとも3重量%、好ましくは5〜60重量%、より好ましくは20〜50重量%溶解されていることが好適である。ポリイミド樹脂組成物の粘度は、25℃における溶液粘度(E型回転粘度)が、好ましくは0.1〜1000Pa・s、より好ましくは0.1〜300Pa・sである。粘度が該範囲内であると、取り扱いやすく作業性に優れる。また、ポリイミドの分子量の目安である対数粘度(測定濃度:0.5g/100ミリリットル、溶媒:トリグライムもしくはN−メチル−2−ピロリドン、測定温度:30℃)は、好ましくは0.15以上、より好ましくは0.16〜2である。 In the present invention, it is preferable that the polyimide resin composition is dissolved in a solvent at least 3 wt%, preferably 5 to 60 wt%, more preferably 20 to 50 wt% as a solid content concentration. As for the viscosity of the polyimide resin composition, the solution viscosity at 25 ° C. (E-type rotational viscosity) is preferably 0.1 to 1000 Pa · s, more preferably 0.1 to 300 Pa · s. When the viscosity is within this range, it is easy to handle and excellent in workability. The logarithmic viscosity (measurement concentration: 0.5 g / 100 ml, solvent: triglyme or N-methyl-2-pyrrolidone, measurement temperature: 30 ° C.), which is a measure of the molecular weight of polyimide, is preferably 0.15 or more. Preferably it is 0.16-2.

本発明において、ポリイミド樹脂組成物の濃度または粘度に言及するとき、フィラーおよびその他の添加物を含まないものを意味する。 In this invention, when mentioning the density | concentration or viscosity of a polyimide resin composition, the thing which does not contain a filler and another additive is meant.

本発明のポリイミド樹脂組成物は、前記のようにして得られたポリイミドと溶媒とを必須成分とするものであるが、用途に応じて種々の成分を好適に加えることができる。従って、ポリイミド樹脂組成物の濃度または粘度の定義に関わらず、ポリイミド樹脂組成物にフィラー、その他の添加物を含むものも本発明の範囲内である。 The polyimide resin composition of the present invention comprises the polyimide obtained as described above and a solvent as essential components, and various components can be suitably added depending on the application. Therefore, regardless of the definition of the concentration or viscosity of the polyimide resin composition, it is also within the scope of the present invention that the polyimide resin composition contains a filler and other additives.

硬化性の樹脂組成物とするためには、エポキシ樹脂、シアネート樹脂、イソシアネート樹脂、フェノール樹脂、グアナミン樹脂、ベンゾオキサジン樹脂、不飽和二重結合を有する樹脂、などの通常の硬化性樹脂組成物に採用される従来公知の硬化性樹脂を好適に用いることができる。エポキシ樹脂としては、2個以上のグリシジル基を有するものが挙げられる。また、シアネート樹脂としては、2個以上のシアネート基を有するものが挙げられる。イソシアネート樹脂としては、2個以上のイソシアネート基を有するものが挙げられる。ベンゾオキサジン樹脂としては、ベンゾオキサジン環を2個以上有するものが挙げられる。不飽和二重結合を有する樹脂としては、炭素―炭素不飽和二重結合を2個以上有するものが挙げられる。 In order to obtain a curable resin composition, an ordinary curable resin composition such as an epoxy resin, a cyanate resin, an isocyanate resin, a phenol resin, a guanamine resin, a benzoxazine resin, or a resin having an unsaturated double bond is used. A conventionally known curable resin to be employed can be suitably used. Examples of the epoxy resin include those having two or more glycidyl groups. Examples of the cyanate resin include those having two or more cyanate groups. Examples of the isocyanate resin include those having two or more isocyanate groups. Examples of the benzoxazine resin include those having two or more benzoxazine rings. Examples of the resin having an unsaturated double bond include those having two or more carbon-carbon unsaturated double bonds.

また、上記硬化性樹脂組成物に通常の硬化性樹脂組成物に採用される酸無水物、アミン、チオール等の従来公知の硬化剤を併用してもよい。 Moreover, you may use together conventionally well-known hardening | curing agents, such as an acid anhydride employ | adopted for a normal curable resin composition, an amine, and a thiol, with the said curable resin composition.

上記硬化性樹脂組成物の反応を促進するための触媒として、通常の硬化性樹脂組成物に採用される従来公知の硬化促進剤を好適に用いることができる。 As a catalyst for accelerating the reaction of the curable resin composition, a conventionally known curing accelerator employed in a normal curable resin composition can be suitably used.

また、本発明の硬化性樹脂組成物に光重合開始剤を加え、光硬化性樹脂組成物として使用することもできる。光重合開始剤としては、通常の光硬化性樹脂組成物に採用される従来公知の光重合開始剤を好適に使用することができる。 Moreover, a photoinitiator can be added to the curable resin composition of this invention, and it can also be used as a photocurable resin composition. As a photoinitiator, the conventionally well-known photoinitiator employ | adopted as a normal photocurable resin composition can be used conveniently.

本発明の硬化性樹脂組成物は本発明のポリイミドを好ましくは30重量%以上、より好ましくは35重量%以上、特に好ましくは40重量%以上含有することが、柔軟性及び耐熱性の両立した硬化物を得られるという効果をより一層高いものとできるため好ましい。本発明の硬化性樹脂組成物は熱硬化、光硬化(紫外線等の照射による硬化)放射線硬化、電子線硬化のいずれの方法により硬化させてもよい。   The curable resin composition of the present invention preferably contains 30% by weight or more of the polyimide of the present invention, more preferably 35% by weight or more, and particularly preferably 40% by weight or more. This is preferable because the effect of obtaining a product can be further enhanced. The curable resin composition of the present invention may be cured by any method of thermal curing, photocuring (curing by irradiation with ultraviolet rays or the like), radiation curing, or electron beam curing.

さらに、有機または無機フィラー、顔料、消泡剤などを好適に用いることができる。 Furthermore, organic or inorganic fillers, pigments, antifoaming agents and the like can be suitably used.

すなわち、本発明のポリイミド樹脂組成物においては、用途に応じて例えば特許文献1や特許文献2で説明されているような従来公知の硬化成分やフィラーや添加剤などを好適に用いることができる。 That is, in the polyimide resin composition of the present invention, conventionally known curing components, fillers, additives and the like as described in Patent Document 1 and Patent Document 2, for example, can be suitably used depending on the application.

また、本発明のポリイミド樹脂組成物は用途に応じて、ガラス、カーボンあるいは有機繊維からなる織布、不織布へ含浸させて使用することもできる。 In addition, the polyimide resin composition of the present invention can be used by impregnating a woven fabric or a non-woven fabric made of glass, carbon, or organic fiber depending on the application.

本発明のポリイミド樹脂組成物を用いて製造されたポリイミドフィルムは、引張弾性率、破断強度、破断伸び率等の機械物性、耐熱性に優れ、プリント配線基板、オーバーコート材、電子部品や半導体パッケージ向け封止剤に用いるのに好適である。すなわち、従来のポリイミドシロキサン溶液組成物を用いた場合と同様、機械物性、耐熱性の点において問題はない。実際、本発明のポリイミドを含んだ硬化性樹脂組成物を用いると、引張試験における弾性率が特に1.5GPa以下かつ破断伸度が15%以上、および空気中での5%重量減少温度が330℃以上という、可とう性に富み、かつ従来品と同等以上の高い耐熱性を有する硬化物が得られる。そして、本発明のポリイミドにはシロキサン化合物が含まれないため、プリント配線基板、オーバーコート材、電子部品や半導体パッケージ向け封止剤に用いても、アウトガスによる接点不良を引き起こす心配がない。 The polyimide film produced using the polyimide resin composition of the present invention is excellent in mechanical properties such as tensile elastic modulus, breaking strength, breaking elongation, and heat resistance, printed wiring board, overcoat material, electronic component and semiconductor package. It is suitable for being used as a sealant for facing. That is, there is no problem in mechanical properties and heat resistance as in the case of using a conventional polyimide siloxane solution composition. In fact, when the curable resin composition containing the polyimide of the present invention is used, the elastic modulus in the tensile test is 1.5 GPa or less, the elongation at break is 15% or more, and the 5% weight loss temperature in air is 330. A cured product having a high heat resistance equal to or higher than that of a conventional product and having high heat resistance equal to or higher than that of a conventional product can be obtained. And since the siloxane compound is not contained in the polyimide of this invention, even if it uses for a printed wiring board, an overcoat material, an electronic component, and the sealing agent for semiconductor packages, there is no fear of causing the contact failure by outgas.

以下、本発明を実施例により具体的に説明する。なお、本発明はこれらの実施例によって限定される物ではない。 Hereinafter, the present invention will be specifically described by way of examples. The present invention is not limited to these examples.

[固形分濃度の測定方法]
試料のポリイミド樹脂組成物を200℃で加熱処理し、30分ごとに重量を記録した。前後30分の重量減少量が、加熱処理前の試料重量の0.5重量%を下回った時点で測定を終え、加熱処理前の試料重量(w1)と加熱処理後の試料重量(w2)から、次式により固形分濃度を算出した。
[Measurement method of solid content]
The sample polyimide resin composition was heat-treated at 200 ° C., and the weight was recorded every 30 minutes. When the amount of weight loss before and after 30 minutes is less than 0.5% by weight of the sample weight before the heat treatment, the measurement is finished. From the sample weight before the heat treatment (w1) and the sample weight after the heat treatment (w2) The solid content concentration was calculated by the following formula.

固形分濃度(%)=[w2/w1]×100 Solid content concentration (%) = [w2 / w1] × 100

[溶液粘度の測定方法]
25mLのメスフラスコを用いて、およそ0.5g/dLとなるようにポリイミド樹脂組成物を希釈し、100番のキャノンフェンスケ粘度計を用いて対数粘度(ηinh)を測定した。測定には10mLの試料を用いた。
[Measurement method of solution viscosity]
Using a 25 mL volumetric flask, the polyimide resin composition was diluted to approximately 0.5 g / dL, and the logarithmic viscosity (η inh ) was measured using a No. 100 Canon Fenceke viscometer. A 10 mL sample was used for the measurement.

[ポリイミドの機械物性]
[機械物性]
調製したポリイミド樹脂組成物をガラス基板上に塗工し、60℃〜100℃のホットプレート上で加熱後、熱風オーブン中、120℃で30分加熱し、続いて最終処理として200℃で60分加熱して、厚さがおよそ25μm〜40μmのポリイミドフィルムを作製した。得られたポリイミドフィルムを幅4mm、標点距離20mmに切り出して試験片とした。この試験片について、引張試験機(島津製作所製;Ez−test)を使用して、温度25℃、湿度50%RH、クロスヘッド速度5mm/分、チャック間距離50mmの条件で、引張弾性率、破断強度、及び破断伸び率をASTM D638に準拠して測定した。
[Mechanical properties of polyimide]
[Mechanical properties]
The prepared polyimide resin composition is coated on a glass substrate, heated on a hot plate at 60 ° C. to 100 ° C., then heated in a hot air oven at 120 ° C. for 30 minutes, and subsequently at 200 ° C. for 60 minutes as a final treatment. It heated and produced the polyimide film whose thickness is about 25 micrometers-40 micrometers. The obtained polyimide film was cut into a width of 4 mm and a gauge distance of 20 mm to obtain a test piece. About this test piece, using a tensile tester (manufactured by Shimadzu Corp .; Ez-test), under conditions of a temperature of 25 ° C., a humidity of 50% RH, a crosshead speed of 5 mm / min, and a distance between chucks of 50 mm, The breaking strength and elongation at break were measured according to ASTM D638.

[熱分解温度]
調製したポリイミド樹脂組成物をガラス基板上に塗工し、60℃〜100℃のホットプレート上で加熱後、熱風オーブン中、120℃で30分加熱し、続いて最終処理として200℃で60分加熱して、厚さがおよそ25μm〜40μmのポリイミドフィルムを作製した。得られたポリイミドフィルムについて、TG−DTAを用いて5%重量減少温度(BRUKERaxs製;TG−DTA2000SA)を測定した。測定は、窒素雰囲気下、昇温速度5℃/分で行った。
[Pyrolysis temperature]
The prepared polyimide resin composition is coated on a glass substrate, heated on a hot plate at 60 ° C. to 100 ° C., then heated in a hot air oven at 120 ° C. for 30 minutes, and subsequently at 200 ° C. for 60 minutes as a final treatment. It heated and produced the polyimide film whose thickness is about 25 micrometers-40 micrometers. About the obtained polyimide film, 5% weight reduction | decrease temperature (the product made from BRUKERaxs; TG-DTA2000SA) was measured using TG-DTA. The measurement was performed at a temperature rising rate of 5 ° C./min in a nitrogen atmosphere.

[硬化物フィルムの作製方法]
硬化性樹脂組成物1.5〜1.6gをテフロン(登録商標)シート貼り付けガラス基板上に乗せ、100〜120℃のホットプレート上で20〜30分加熱し、溶媒の大半を揮発させた。その後、50μm厚のポリイミドフィルムをスペーサーとして用い、前記ガラス基板と別のガラス基板との間に樹脂組成物を挟み込み、150℃のオーブンで2時間加熱した。更に一方のガラス基板を外して再度150℃のオーブンで2時間加熱することで硬化物フィルムを作成した。
[Method for producing cured film]
The curable resin composition 1.5 to 1.6 g was placed on a Teflon (registered trademark) sheet-attached glass substrate and heated on a hot plate at 100 to 120 ° C. for 20 to 30 minutes to volatilize most of the solvent. . Thereafter, using a polyimide film having a thickness of 50 μm as a spacer, the resin composition was sandwiched between the glass substrate and another glass substrate, and heated in an oven at 150 ° C. for 2 hours. Furthermore, one glass substrate was removed and the cured | curing material film was created by heating again in 150 degreeC oven for 2 hours.

[硬化性樹脂組成物の機械物性]
上記で得られた硬化物フィルムを、標点距離20mm、幅4mmのダンベル状に切り出して試験片とした。この試験片について、引張試験機(島津製作所製;Ez−test)を使用して、温度25℃、湿度50%RH、クロスヘッド速度5mm/分、チャック間距離30mmの条件で、ASTM D638に準拠して引張弾性率、破断強度、及び破断伸び率を測定した。
[Mechanical properties of curable resin composition]
The cured product film obtained above was cut into a dumbbell shape having a gauge distance of 20 mm and a width of 4 mm to obtain a test piece. This test piece is compliant with ASTM D638 using a tensile tester (manufactured by Shimadzu Corporation; Ez-test) under the conditions of a temperature of 25 ° C., a humidity of 50% RH, a crosshead speed of 5 mm / min, and a distance between chucks of 30 mm. Then, the tensile elastic modulus, breaking strength, and breaking elongation were measured.

[硬化性樹脂組成物の熱分解温度]
上記で得られた硬化物フィルムについて、TG−DTA(BRUKERaxs製;TG−DTA2000SA)を用いて5%重量減少温度を測定した。測定は、空気雰囲気下、昇温速度5℃/分で行った。
[Thermal decomposition temperature of curable resin composition]
About the hardened | cured material film obtained above, 5% weight reduction | decrease temperature was measured using TG-DTA (The product made from BRUKERaxs; TG-DTA2000SA). The measurement was performed in an air atmosphere at a heating rate of 5 ° C./min.

使用した原材料は以下のとおりである。
<酸無水物>
a−BPDA:2,3,3’,4’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物(分子量294.22、宇部興産株式会社製)
ODPA:3,3’,4,4’−ジフェニルエ−テルテトラカルボン酸二無水物(分子量310.21、試薬)
BPADA:4,4’−(4,4’−イソプロピリデンジフェノキシ)ジフタル酸無水物(分子量520.49、試薬)
B−4400:5−(2,5−ジオキソテトラヒドロフリル)−3−メチル−3−シクロヘキセン−1,2−ジカルボン酸無水物(分子量264.23、DIC株式会社製)
<ジアミン>
PRIAMINE1074:脂肪族ジアミン(アミン当量273.7、クローダジャパン株式会社製)
D400:ジェファーミンD400(分子量444.4、三井化学ファイン株式会社製)
<反応性基含有ジアミン>
MBAA:4,4’−ジアミノ−3,3’−ジカルボキシジフェニルメタン(分子量286.3、和歌山精化工業株式会社製)
MCDPE:4,4’−ジアミノ−2,2’−ジカルボキシジフェニルエーテル(分子量288.3、和歌山精化工業株式会社製)
BAPDA:2,2’−ビス(3−アミノ−4−ヒドロキシフェニル)プロパン(分子量258.3、和歌山精化工業株式会社製)
HFHIP:2,2−ビス(3−アミノ−4−ヒドロキシフェニル)ヘキサフルオロプロパン(分子量366.3、和歌山精化工業株式会社製)
DABA:3,5−ジアミノ安息香酸(分子量152.15、日本純良薬品株式会社製)
HAB:4,4’−ジアミノ−3,3’−ジヒドロキシビフェニル(分子量216.24、和歌山精化工業株式会社製)
<溶媒>
TG:トリグライム
NMP:N−メチル−2−ピロリドン
シクロヘキサノン
<硬化性樹脂>
828EL:液状ビスフェノールA型エポキシ樹脂jER828EL(エポキシ当量185、ジャパンエポキシレジン株式会社製)
<硬化剤>
THPA:テトラヒドロ無水フタル酸(分子量152.2、新日本理化株式会社製)
<硬化促進剤>
DBU:1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]ウンデセン−7(分子量152、サンアプロ株式会社製)
The raw materials used are as follows.
<Acid anhydride>
a-BPDA: 2,3,3 ′, 4′-biphenyltetracarboxylic dianhydride (molecular weight 294.22, manufactured by Ube Industries, Ltd.)
ODPA: 3,3 ′, 4,4′-diphenyl ether tetracarboxylic dianhydride (molecular weight 310.21, reagent)
BPADA: 4,4 ′-(4,4′-isopropylidenediphenoxy) diphthalic anhydride (molecular weight 520.49, reagent)
B-4400: 5- (2,5-dioxotetrahydrofuryl) -3-methyl-3-cyclohexene-1,2-dicarboxylic acid anhydride (molecular weight 264.23, manufactured by DIC Corporation)
<Diamine>
PRIAMINE 1074: Aliphatic diamine (amine equivalent 273.7, manufactured by CRODA JAPAN CO., LTD.)
D400: Jeffamine D400 (molecular weight 444.4, manufactured by Mitsui Chemicals Fine Co., Ltd.)
<Reactive group-containing diamine>
MBAA: 4,4′-diamino-3,3′-dicarboxydiphenylmethane (molecular weight 286.3, manufactured by Wakayama Seika Kogyo Co., Ltd.)
MCDPE: 4,4′-diamino-2,2′-dicarboxydiphenyl ether (molecular weight 288.3, manufactured by Wakayama Seika Kogyo Co., Ltd.)
BAPDA: 2,2′-bis (3-amino-4-hydroxyphenyl) propane (molecular weight 258.3, manufactured by Wakayama Seika Kogyo Co., Ltd.)
HFHIP: 2,2-bis (3-amino-4-hydroxyphenyl) hexafluoropropane (molecular weight 366.3, manufactured by Wakayama Seika Kogyo Co., Ltd.)
DABA: 3,5-diaminobenzoic acid (molecular weight 152.15, manufactured by Nippon Pure Chemicals Co., Ltd.)
HAB: 4,4′-diamino-3,3′-dihydroxybiphenyl (molecular weight 216.24, manufactured by Wakayama Seika Kogyo Co., Ltd.)
<Solvent>
TG: Triglyme NMP: N-methyl-2-pyrrolidone cyclohexanone <curable resin>
828EL: Liquid bisphenol A type epoxy resin jER828EL (epoxy equivalent 185, manufactured by Japan Epoxy Resin Co., Ltd.)
<Curing agent>
THPA: Tetrahydrophthalic anhydride (molecular weight 152.2, manufactured by Shin Nippon Chemical Co., Ltd.)
<Curing accelerator>
DBU: 1,8-diazabicyclo [5.4.0] undecene-7 (molecular weight 152, manufactured by San Apro Co., Ltd.)

[ポリイミドの合成]
<実施例1>
容量300mlのガラス製セパラブルフラスコに、ジアミンとしてPRIAMINE1074 35.4g(0.067mol)と、酸無水物としてa−BPDA 21.9g(0.074mol)と、溶媒としてTGの一部(TGの合計は60.0g)とを仕込み、100℃で塩が完全に溶解するまで撹拌した。その後、180℃に昇温し、1時間撹拌して加熱重合を行った。続いて、溶液を100℃まで冷却し、反応性基含有ジアミンのMBAA 2.76g(0.010mol)と、残りの溶媒のTGとを加え、完全に溶解するまで撹拌後、180℃に昇温し、6時間撹拌して加熱重合を行った。この反応は全て窒素雰囲気下で行った。得られたポリイミド樹脂組成物は、ポリマー固形分濃度61.1重量%、ηinh 0.22の溶液であった。得られたポリイミドについて、機械物性、及び、熱分解温度を測定した。結果を表1に示す。なお表1におけるジアミン化合物(1)の含有量(mol%)及び反応性基含有ジアミン含有量(mol%)は、ジアミン成分中の割合を示す。
[Synthesis of polyimide]
<Example 1>
In a glass separable flask with a capacity of 300 ml, 35.4 g (0.067 mol) of PRIAMINE 1074 as a diamine, 21.9 g (0.074 mol) of a-BPDA as an acid anhydride, and a part of TG (total of TG) as a solvent 60.0 g) and stirred at 100 ° C. until the salt was completely dissolved. Then, it heated up to 180 degreeC and stirred for 1 hour and heat-polymerized. Subsequently, the solution was cooled to 100 ° C., 2.76 g (0.010 mol) of reactive group-containing diamine MBAA and the remaining solvent TG were added, stirred until completely dissolved, and then heated to 180 ° C. The mixture was stirred for 6 hours and subjected to heat polymerization. All of this reaction was performed under a nitrogen atmosphere. The resulting polyimide resin composition was a solution having a polymer solid content concentration of 61.1% by weight and η inh 0.22. The obtained polyimide was measured for mechanical properties and thermal decomposition temperature. The results are shown in Table 1. In Table 1, the content (mol%) of the diamine compound (1) and the content (mol%) of the reactive group-containing diamine indicate the ratio in the diamine component.

<実施例2〜11、比較例1>
実施例2〜11および比較例1においては、実施例1に従い、表1に示す組成で各ポリイミド樹脂組成物を合成した。実施例2〜11で得られたポリイミドについて、機械物性、及び、熱分解温度を測定した。結果を表1に示す。
<Examples 2 to 11 and Comparative Example 1>
In Examples 2 to 11 and Comparative Example 1, each polyimide resin composition was synthesized according to Example 1 with the composition shown in Table 1. For the polyimides obtained in Examples 2 to 11, mechanical properties and thermal decomposition temperature were measured. The results are shown in Table 1.

Figure 2016171101
Figure 2016171101

[硬化性樹脂組成物の作成]
<実施例12>
硬化剤として実施例1で合成したポリイミド溶液 15.2gと、硬化性樹脂として828EL 0.621gと、硬化促進剤としてDBU 0.0052gと、溶媒としてTG 8.97gを容量30mLのサンプル管に入れ、完全に均一になるまで混合し、エポキシ樹脂組成物を得た。得られたエポキシ樹脂組成物を用いて、硬化物フィルムを作成し、機械物性、および熱分解温度について測定した。結果を表2に示す。なお、表2中の対組成物重量比は得られた硬化物フィルムの重量に対する硬化剤の重量比を示す。
[Creation of curable resin composition]
<Example 12>
15.2 g of the polyimide solution synthesized in Example 1 as a curing agent, 0.621 g of 828EL as a curable resin, 0.0052 g of DBU as a curing accelerator, and 8.97 g of TG as a solvent are placed in a 30 mL capacity sample tube. The mixture was mixed until completely uniform to obtain an epoxy resin composition. Using the obtained epoxy resin composition, a cured product film was prepared and measured for mechanical properties and thermal decomposition temperature. The results are shown in Table 2. In Table 2, the weight ratio of the composition to the composition represents the weight ratio of the curing agent to the weight of the obtained cured film.

[硬化物フィルムの作製方法]
硬化性樹脂組成物1.5〜1.6gをテフロン(登録商標)シート貼り付けガラス基板上に乗せ、100〜120℃のホットプレート上で20〜30分加熱し、溶媒の大半を揮発させた。その後、50μm厚のポリイミドフィルムをスペーサーとして用い、前記ガラス基板と別のガラス基板との間に樹脂組成物を挟み込み、150℃のオーブンで2時間加熱した。更に一方のガラス基板を外して再度150℃のオーブンで2時間加熱することで硬化物フィルムを作成した。
[Method for producing cured film]
The curable resin composition 1.5 to 1.6 g was placed on a Teflon (registered trademark) sheet-attached glass substrate and heated on a hot plate at 100 to 120 ° C. for 20 to 30 minutes to volatilize most of the solvent. . Thereafter, using a polyimide film having a thickness of 50 μm as a spacer, the resin composition was sandwiched between the glass substrate and another glass substrate, and heated in an oven at 150 ° C. for 2 hours. Furthermore, one glass substrate was removed and the cured | curing material film was created by heating again in 150 degreeC oven for 2 hours.

[機械物性]
上記で得られた硬化物フィルムを、標点距離20mm、幅4mmのダンベル状に切り出して試験片とした。この試験片について、引張試験機(島津製作所製;Ez−test)を使用して、温度25℃、湿度50%RH、クロスヘッド速度5mm/分、チャック間距離30mmの条件で、ASTM D638に準拠して引張弾性率、破断強度、及び破断伸び率を測定した。
[Mechanical properties]
The cured product film obtained above was cut into a dumbbell shape having a gauge distance of 20 mm and a width of 4 mm to obtain a test piece. This test piece is compliant with ASTM D638 using a tensile tester (manufactured by Shimadzu Corporation; Ez-test) under the conditions of a temperature of 25 ° C., a humidity of 50% RH, a crosshead speed of 5 mm / min, and a distance between chucks of 30 mm. Then, the tensile elastic modulus, breaking strength, and breaking elongation were measured.

<実施例13〜25、比較例2〜3>
実施例13〜25および比較例2〜3においては、実施例12に従い、表2に示す組成で各エポキシ樹脂組成物を得た。得られたエポキシ樹脂組成物を用いて、硬化物フィルムを作成し、機械物性、および熱分解温度について測定した。結果を表2に示す。
<Examples 13-25, Comparative Examples 2-3>
In Examples 13 to 25 and Comparative Examples 2 to 3, according to Example 12, each epoxy resin composition was obtained with the composition shown in Table 2. Using the obtained epoxy resin composition, a cured product film was prepared and measured for mechanical properties and thermal decomposition temperature. The results are shown in Table 2.

Figure 2016171101
Figure 2016171101

本発明のポリイミドを硬化剤として用いた硬化性樹脂組成物から得られる硬化物は、柔軟性および耐熱性の向上が認められた。また、シロキサン系材料を用いていないため、アウトガスによる接点不良などを引き起こすこともない。よって、本発明のポリイミドは、電機・電子分野で用いられる熱硬化性樹脂組成物の可とう性や耐熱性などの特性を有効に改善する効果を奏する。


The cured product obtained from the curable resin composition using the polyimide of the present invention as a curing agent was confirmed to have improved flexibility and heat resistance. In addition, since no siloxane-based material is used, contact failure due to outgassing is not caused. Therefore, the polyimide of the present invention has an effect of effectively improving characteristics such as flexibility and heat resistance of a thermosetting resin composition used in the electric and electronic fields.


Claims (19)

テトラカルボン酸成分と、下記一般式(1)で表されるジアミン化合物を含むジアミン成分とを反応させて得られるポリイミドであって、
活性水素を有する反応基、および不飽和二重結合を有する反応基から選ばれる反応性基を分子中に少なくとも1個有するポリイミド。
Figure 2016171101
式(1)中、Aは4価の飽和炭化水素残基を表し、直鎖構造であっても環構造であってもよい。RおよびRはそれぞれ独立に、炭素数1〜20のアルキレン基を表し、RおよびRはそれぞれ独立に、炭素数1〜20の直鎖状アルキル基を表す。
A polyimide obtained by reacting a tetracarboxylic acid component with a diamine component containing a diamine compound represented by the following general formula (1),
A polyimide having in the molecule at least one reactive group selected from a reactive group having active hydrogen and a reactive group having an unsaturated double bond.
Figure 2016171101
In formula (1), A represents a tetravalent saturated hydrocarbon residue, and may be a linear structure or a ring structure. R 1 and R 2 each independently represent an alkylene group having 1 to 20 carbon atoms, and R 3 and R 4 each independently represent a linear alkyl group having 1 to 20 carbon atoms.
前記式(1)で表されるジアミン化合物の炭素数が20〜48である、請求項1に記載のポリイミド。 The polyimide of Claim 1 whose carbon number of the diamine compound represented by the said Formula (1) is 20-48. 活性水素を有する反応基が水酸基、カルボキシル基、アルデヒド基、アミノ基、イミノ基及びチオール基から選ばれる少なくとも一種である、請求項1または2に記載のポリイミド。 The polyimide according to claim 1 or 2, wherein the reactive group having active hydrogen is at least one selected from a hydroxyl group, a carboxyl group, an aldehyde group, an amino group, an imino group, and a thiol group. 前記ジアミン成分が、式(1)で表されるジアミン化合物以外のほかのジアミンであって前記反応性基を有するジアミンを含む、請求項1から3のいずれか1項に記載のポリイミド。 The polyimide according to any one of claims 1 to 3, wherein the diamine component includes a diamine other than the diamine compound represented by the formula (1) and having the reactive group. 前記反応性基が、カルボキシル基もしくは水酸基である、請求項1から4のいずれか1項に記載のポリイミド。 The polyimide according to any one of claims 1 to 4, wherein the reactive group is a carboxyl group or a hydroxyl group. 前記ほかのジアミンが、下記一般式(2)で表される芳香族ジアミンである、請求項4に記載のポリイミド。
Figure 2016171101
式中、XおよびYはそれぞれ独立に直接結合、または下記一般式(3)における式(3−1)〜(3−8)のいずれかで表される基を示し、rはカルボキシル基または水酸基を示し、n1は0以上の数である。
Figure 2016171101
式中、R、Rは水素、メチル基、又はハロゲン化メチル基である。
The polyimide according to claim 4, wherein the other diamine is an aromatic diamine represented by the following general formula (2).
Figure 2016171101
In the formula, X and Y each independently represent a direct bond or a group represented by any one of formulas (3-1) to (3-8) in the following general formula (3), and r 1 represents a carboxyl group or Represents a hydroxyl group, and n1 is a number of 0 or more.
Figure 2016171101
In the formula, R 5 and R 6 are hydrogen, a methyl group, or a halogenated methyl group.
前記式(2)で示されるほかのジアミンにおいて、n1が0〜2の数である、請求項6に記載のポリイミド。 The other diamine shown by said Formula (2) WHEREIN: The polyimide of Claim 6 whose n1 is the number of 0-2. 前記ほかのジアミンが4,4’−ジアミノ−3,3’−ジカルボキシジフェニルメタン、4,4’−ジアミノ−3,3’−ジヒドロキシビフェニル、4,4−ジアミノ−2,2’−ジカルボキシジフェニルエーテル、2,2−ビス(3−アミノ−4−ヒドロキシフェニル)ヘキサフルオロプロパン及び、2,2’−ビス(3−アミノ−4−ヒドロキシフェニル)プロパンよりなる群から選ばれる1種または2種以上である、請求項4又は6に記載のポリイミド。 The other diamine is 4,4′-diamino-3,3′-dicarboxydiphenylmethane, 4,4′-diamino-3,3′-dihydroxybiphenyl, 4,4-diamino-2,2′-dicarboxydiphenyl ether , 2,2-bis (3-amino-4-hydroxyphenyl) hexafluoropropane and one or more selected from the group consisting of 2,2′-bis (3-amino-4-hydroxyphenyl) propane The polyimide according to claim 4 or 6, wherein 前記ジアミン成分がシロキサン成分を非含有である、請求項1から8のいずれか1項に記載のポリイミド。 The polyimide according to any one of claims 1 to 8, wherein the diamine component does not contain a siloxane component. 請求項1から9のいずれか1項に記載のポリイミドの製造法。 The manufacturing method of the polyimide of any one of Claim 1 to 9. 請求項1から9のいずれか1項に記載のポリイミドを含むポリイミド樹脂組成物。 The polyimide resin composition containing the polyimide of any one of Claim 1 to 9. 請求項1から9のいずれか1項に記載のポリイミドと硬化性樹脂を含む硬化性樹脂組成物。 A curable resin composition comprising the polyimide according to any one of claims 1 to 9 and a curable resin. 硬化性樹脂としてエポキシ樹脂を含む請求項12に記載の硬化性樹脂組成物。 The curable resin composition of Claim 12 containing an epoxy resin as curable resin. 前記エポキシ樹脂が、2個以上のグリシジル基を有する、請求項13に記載の硬化性樹脂組成物。 The curable resin composition according to claim 13, wherein the epoxy resin has two or more glycidyl groups. 硬化性樹脂としてイソシアネート樹脂を含む請求項12に記載の硬化性樹脂組成物。 The curable resin composition of Claim 12 containing isocyanate resin as curable resin. 前記イソシアネート樹脂が、2個以上のイソシアネート基を有する、請求項15に記載の硬化性樹脂組成物。 The curable resin composition according to claim 15, wherein the isocyanate resin has two or more isocyanate groups. 硬化性樹脂として不飽和二重結合を有する樹脂を含有する請求項12に記載の硬化性樹脂組成物。 The curable resin composition of Claim 12 containing resin which has an unsaturated double bond as curable resin. 前記不飽和二重結合を有する樹脂が、2個以上の不飽和二重結合を有する、請求項17に記載の硬化性樹脂組成物。 The curable resin composition according to claim 17, wherein the resin having an unsaturated double bond has two or more unsaturated double bonds. 請求項12から18のいずれか1項に記載の硬化性樹脂組成物を用いた硬化物。


Hardened | cured material using the curable resin composition of any one of Claims 12-18.


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