JPWO2015177893A1 - Cleaning method for cleaning object and cleaning device for cleaning object - Google Patents

Cleaning method for cleaning object and cleaning device for cleaning object Download PDF

Info

Publication number
JPWO2015177893A1
JPWO2015177893A1 JP2016520867A JP2016520867A JPWO2015177893A1 JP WO2015177893 A1 JPWO2015177893 A1 JP WO2015177893A1 JP 2016520867 A JP2016520867 A JP 2016520867A JP 2016520867 A JP2016520867 A JP 2016520867A JP WO2015177893 A1 JPWO2015177893 A1 JP WO2015177893A1
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
cleaning
cleaned
liquid
rinsing
tank
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2016520867A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP6288255B2 (en
Inventor
淳一 濱崎
淳一 濱崎
太 小島
太 小島
山本 啓介
啓介 山本
超 唐
超 唐
直哉 吉田
直哉 吉田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Nissan Motor Co Ltd
Original Assignee
Nissan Motor Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Nissan Motor Co Ltd filed Critical Nissan Motor Co Ltd
Publication of JPWO2015177893A1 publication Critical patent/JPWO2015177893A1/en
Application granted granted Critical
Publication of JP6288255B2 publication Critical patent/JP6288255B2/en
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Classifications

    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B08CLEANING
    • B08BCLEANING IN GENERAL; PREVENTION OF FOULING IN GENERAL
    • B08B3/00Cleaning by methods involving the use or presence of liquid or steam
    • B08B3/04Cleaning involving contact with liquid

Landscapes

  • Cleaning By Liquid Or Steam (AREA)

Abstract

【課題】薄板状の被洗浄物が備える隙間部内に残留した洗浄液やすすぎ液といった洗浄媒体を隙間部内から排出することを可能にし、各工程で洗浄媒体が持ち出されることにより生じるランニングコストの増加や水シミの発生、さらに洗浄媒体の除去に伴って発生し得る被洗浄物の変形といった問題の発生を未然に防止し得る被洗浄物の洗浄方法、および被洗浄物の洗浄装置を提供する。【解決手段】被洗浄物の洗浄方法は、洗浄液により被洗浄物を洗浄する工程(S11)と、すすぎ液により被洗浄物をすすぎ洗浄する工程(S15、S18)と、被洗浄物を置換液により洗浄する工程(S21)と、洗浄液により被洗浄物を洗浄する工程の後であって、かつ、置換液により被洗浄物を洗浄する工程の前に、被洗浄物を洗浄媒体から取り出した状態で被洗浄物の各隙間部に連通する周辺雰囲気を減圧することにより各隙間部内に残留した洗浄媒体を排出させる工程(S12、S14、S16、S17、S19、S20、S22)と、を有している。【選択図】図4An object of the present invention is to enable a cleaning medium such as a cleaning liquid or a rinsing liquid remaining in a gap provided in a thin plate-like object to be discharged from the gap, and to increase running costs caused by taking out the cleaning medium in each process. Provided are a method for cleaning an object to be cleaned and a cleaning apparatus for the object to be cleaned, which can prevent the occurrence of problems such as the generation of water spots and the deformation of the object to be cleaned that can be caused by the removal of the cleaning medium. A method for cleaning an object to be cleaned includes a step of cleaning the object to be cleaned with a cleaning liquid (S11), a step of rinsing the object to be cleaned with a rinsing liquid (S15, S18), and a replacement liquid for the object to be cleaned. After the step (S21) of cleaning by the cleaning step and the step of cleaning the target object by the cleaning liquid and before the step of cleaning the target object by the replacement liquid, the target object is taken out from the cleaning medium And step (S12, S14, S16, S17, S19, S20, S22) of discharging the cleaning medium remaining in each gap by reducing the ambient atmosphere communicating with each gap of the object to be cleaned. ing. [Selection] Figure 4

Description

本発明は、隙間部を備える薄板状の被洗浄物の洗浄に用いられる洗浄方法および洗浄装置に関する。   The present invention relates to a cleaning method and a cleaning apparatus used for cleaning a thin plate-like object having a gap.

従来から複雑な形状を備える電子回路基板や薄板状に加工された金属製のワーク等の洗浄方法として様々な方法が検討されてきた。例えば、下記特許文献1には、洗浄液による洗浄工程、洗浄液を被洗浄物からすすぎ落とすためのすすぎ洗浄(リンス洗浄)工程、すすぎ洗浄後に被洗浄物を乾燥させる乾燥工程を含む洗浄方法が提案されている。   Conventionally, various methods have been studied as a method for cleaning an electronic circuit board having a complicated shape or a metal workpiece processed into a thin plate shape. For example, the following Patent Document 1 proposes a cleaning method including a cleaning process using a cleaning liquid, a rinsing cleaning (rinsing cleaning) process for rinsing the cleaning liquid from an object to be cleaned, and a drying process for drying the object to be cleaned after rinsing cleaning. ing.

上記の洗浄方法においては、洗浄効率を向上させるために、被洗浄物を洗浄する際および被洗浄物をすすぎ洗浄する際に、洗浄液中およびすすぎ液中に被洗浄物を浸漬させた状態で槽内を減圧させている。このように減圧下での洗浄を実施することにより、被洗浄物の各部位へ洗浄液やすすぎ液等の洗浄媒体を行き渡らせることを可能にし、さらに被洗浄物中に含まれる空気を膨張させて被洗浄物の微小な隙間等に入り込んだ汚れを洗浄媒体中へ押し出すことを可能にしている。ただし、特許文献1に記載の洗浄方法では各工程間における洗浄媒体の持ち込みについては何ら考慮されていないため、次のような点が問題となる。   In the above cleaning method, in order to improve the cleaning efficiency, when cleaning the object to be cleaned and rinsing the object to be cleaned, the tank is immersed in the cleaning liquid and the rinsing liquid. The inside is depressurized. By carrying out the cleaning under reduced pressure in this way, it becomes possible to spread the cleaning medium such as the cleaning liquid and the rinsing liquid to each part of the object to be cleaned, and further expand the air contained in the object to be cleaned. It is possible to push out dirt that has entered a minute gap or the like of an object to be cleaned into a cleaning medium. However, in the cleaning method described in Patent Document 1, no consideration is given to bringing a cleaning medium between the steps, and the following points are problematic.

例えば、袋状の微小な隙間を備える被洗浄物を洗浄対象として適用する場合、洗浄工程後に被洗浄物の隙間内に洗浄液が残留することがある。この状態で被洗浄物を、すすぎ洗浄が行われるすすぎ洗浄槽へ搬送すると、すすぎ洗浄槽内に貯留したすすぎ液に洗浄液が混入してしまい、すすぎ液が汚染されて、洗浄効率が低下してしまう虞がある。また、産業分野においては、被洗浄物の仕上げ洗浄方法として、揮発性を備える置換液を使用して洗浄液やすすぎ液を蒸発洗浄させる方法が一般的に行われている。例えば、このような仕上げ洗浄を実施する際に、洗浄液やすすぎ液が被洗浄物の隙間内に比較的多量に残留した状態にあると、被洗浄物と置換液との接触面積が小さくなる上に、仕上げ洗浄に使用する置換液を隙間内に浸入させることが困難になる。これにより、洗浄液やすすぎ液がそのまま被洗浄物に残留して、乾燥後に製品表面に水シミを発生させる原因となってしまう。これらのような問題点に加えて、洗浄の都度、洗浄媒体を次工程に持ち込んでしまうため、槽内に保持した洗浄媒体が減少して、洗浄に要するランニングコストの増加を招いてしまうという問題もある。   For example, when an object to be cleaned having a bag-like minute gap is applied as an object to be cleaned, the cleaning liquid may remain in the gap of the object to be cleaned after the cleaning process. In this state, if the object to be cleaned is transported to a rinsing tank where rinsing is performed, the rinsing liquid stored in the rinsing tank is mixed with the rinsing liquid, which contaminates the rinsing liquid and reduces the cleaning efficiency. There is a risk of it. Further, in the industrial field, as a method for final cleaning of an object to be cleaned, a method of evaporating and cleaning a cleaning liquid and a rinsing liquid using a volatile substitution liquid is generally performed. For example, when performing such final cleaning, if a relatively large amount of cleaning liquid or rinsing liquid remains in the gap between the objects to be cleaned, the contact area between the object to be cleaned and the replacement liquid is reduced. Furthermore, it becomes difficult to allow the replacement liquid used for the finish cleaning to enter the gap. As a result, the cleaning liquid or the rinsing liquid remains on the object to be cleaned as it is, causing water spots on the product surface after drying. In addition to these problems, the cleaning medium is brought into the next process each time cleaning is performed, so that the cleaning medium held in the tank is reduced and the running cost required for cleaning is increased. There is also.

一方で、下記特許文献2には、すすぎ洗浄工程の後に、被洗浄物に対してエアーブローを実施し、被洗浄物に付着した洗浄媒体の液切りおよび蒸発による除去を実施している。例えば、洗浄工程やすすぎ洗浄工程の後に、このようなエアーブローを実施することで、上述した各問題は解決し得るとも考えられる。   On the other hand, in Patent Document 2 below, after the rinsing cleaning process, air blow is performed on the object to be cleaned, and the cleaning medium attached to the object to be cleaned is drained and removed by evaporation. For example, it is considered that each of the above-described problems can be solved by performing such an air blow after the cleaning process or the rinsing process.

特開平6−101080号公報Japanese Patent Laid-Open No. 6-101080 特開平7−124529号公報JP 7-124529 A

しかしながら、被洗浄物に対してエアーを吹き付けるだけでは隙間内にエアーを十分に行き届かせることが難しい上に、仮に洗浄媒体を蒸発させることができたとしても、隙間内に蒸気が滞留してしまうため、液切りが十分に行われないという問題が発生する。さらに、被洗浄物によっては、エアーブローを実施した際にブロー圧によって被洗浄物の形状が変形してしまう可能性もあり、製品形状を損なってしまう虞もある。   However, it is difficult to achieve sufficient air distribution within the gap simply by blowing air against the object to be cleaned, and even if the cleaning medium can be evaporated, vapor remains in the gap. Therefore, there arises a problem that liquid draining is not sufficiently performed. Further, depending on the object to be cleaned, the shape of the object to be cleaned may be deformed by the blow pressure when air blowing is performed, and the product shape may be damaged.

そこで本発明は、薄板状の被洗浄物が備える隙間部内に残留した洗浄液やすすぎ液といった洗浄媒体を隙間部内から排出することを可能にし、各工程で洗浄媒体が持ち出されることにより生じるランニングコストの増加や水シミの発生、さらに洗浄媒体の除去に伴って発生し得る被洗浄物の変形といった問題の発生を未然に防止し得る被洗浄物の洗浄方法、および被洗浄物の洗浄装置を提供することを目的とする。   Therefore, the present invention makes it possible to discharge the cleaning medium such as the cleaning liquid and the rinsing liquid remaining in the gap provided in the thin plate-like object to be washed from the gap, and the running cost caused by taking out the cleaning medium in each step. Provided are a method for cleaning an object to be cleaned, and a cleaning apparatus for the object to be cleaned, which can prevent the occurrence of problems such as an increase in the amount of water stains and the deformation of the object to be cleaned that may occur when the cleaning medium is removed. For the purpose.

上記目的を達成するための本発明の被洗浄物の洗浄方法は、隙間部を備える薄板状の被洗浄物を洗浄する洗浄方法であって、被洗浄物を洗浄媒体としての洗浄液に浸漬させて、洗浄液により洗浄する工程と、被洗浄物を洗浄媒体としてのすすぎ液に浸漬させて、すすぎ液によりすすぎ洗浄する工程と、被洗浄物を、揮発性を備える置換液に浸漬させて、置換液により洗浄する工程と、を有する。さらに、洗浄液により被洗浄物を洗浄する工程の後であって、かつ、置換液により被洗浄物を洗浄する工程の前に、被洗浄物を洗浄媒体から取り出した状態で被洗浄物の隙間部に連通する周辺雰囲気を減圧することにより隙間部内に残留した洗浄媒体を排出させる工程を有する。   A method for cleaning an object to be cleaned of the present invention to achieve the above object is a cleaning method for cleaning a thin plate-like object to be cleaned having a gap, and the object to be cleaned is immersed in a cleaning liquid as a cleaning medium. The step of cleaning with a cleaning liquid, the step of immersing the object to be cleaned in a rinsing liquid as a cleaning medium and rinsing with the rinsing liquid, and the object of cleaning to be immersed in a volatile replacement liquid And washing with. Further, after the step of cleaning the object to be cleaned with the cleaning liquid and before the step of cleaning the object to be cleaned with the replacement liquid, the gap between the objects to be cleaned is removed from the cleaning medium. A step of discharging the cleaning medium remaining in the gap by reducing the pressure of the ambient atmosphere communicating with

また、上記目的を達成するための本発明の被洗浄物の洗浄装置は、隙間部を備える薄板状の被洗浄物を洗浄する洗浄装置であって、洗浄媒体としての洗浄液を貯留する第1の貯留部、および洗浄液から被洗浄物を離隔して保持する第1の保持空間を備える洗浄槽と、洗浄媒体としてのすすぎ液を貯留する第2の貯留部、およびすすぎ液から被洗浄物を離隔して保持する第2の保持空間を備えるすすぎ洗浄槽と、被洗浄物を洗浄するための揮発性を備える置換液を貯留する第3の貯留部、および置換液から被洗浄物を離隔して保持する第3の保持空間を備える仕上げ洗浄槽と、を有する。さらに、被洗浄物が、第1の保持空間、第2の保持空間、および第3の保持空間のいずれかの保持空間において保持された状態で、被洗浄物の隙間部に連通する周辺雰囲気を減圧することにより隙間部内に残留した洗浄媒体を排出させる圧力調整部を有する。   In addition, a cleaning apparatus for an object to be cleaned according to the present invention for achieving the above object is a cleaning apparatus for cleaning a thin plate-shaped object to be cleaned having a gap, and stores a cleaning liquid as a cleaning medium. A storage tank, a cleaning tank including a first holding space for separating and holding an object to be cleaned from the cleaning liquid, a second storage part for storing a rinsing liquid as a cleaning medium, and an object to be cleaned from the rinsing liquid. Rinse and wash tank provided with a second holding space to hold, a third storage section for storing a volatile replacement liquid for cleaning the object to be cleaned, and the object to be cleaned away from the replacement liquid And a finishing cleaning tank having a third holding space for holding. Furthermore, in the state where the object to be cleaned is held in any one of the first holding space, the second holding space, and the third holding space, an ambient atmosphere communicating with the gap portion of the object to be cleaned is created. A pressure adjusting unit is provided for discharging the cleaning medium remaining in the gap by reducing the pressure.

本発明によれば、置換液による洗浄工程の実施に先立って、洗浄液やすすぎ液などの洗浄媒体から被洗浄物を取り出した状態で被洗浄物の周辺雰囲気を減圧することにより、被洗浄物の隙間部内に残留した洗浄媒体を隙間部から押し出して排出することを可能にする。このため、洗浄媒体が持ち出されることによるランニングコストの増加や水シミの発生、洗浄媒体の除去に伴って発生し得る被洗浄物の変形といった問題の発生を未然に防止することが可能となる。   According to the present invention, prior to performing the cleaning process with the replacement liquid, the ambient atmosphere of the object to be cleaned is reduced in pressure while the object to be cleaned is taken out from the cleaning medium such as the cleaning liquid and the rinse liquid. The cleaning medium remaining in the gap can be pushed out from the gap and discharged. For this reason, it is possible to prevent the occurrence of problems such as an increase in running cost due to taking out the cleaning medium, generation of water spots, and deformation of an object to be cleaned that can be accompanied by removal of the cleaning medium.

本発明の実施形態に係る被洗浄物の洗浄装置を示す概略図である。It is the schematic which shows the washing | cleaning apparatus of the to-be-cleaned object which concerns on embodiment of this invention. 実施形態に係る被洗浄物を示す斜視図である。It is a perspective view which shows the to-be-cleaned object which concerns on embodiment. 実施形態に係る被洗浄物を適用した燃料電池セルを示す断面図である。It is sectional drawing which shows the fuel battery cell to which the to-be-cleaned object which concerns on embodiment is applied. 実施形態に係る被洗浄物の洗浄方法の各工程を示すフローチャートである。It is a flowchart which shows each process of the washing | cleaning method of the to-be-cleaned object which concerns on embodiment. 実施形態に係る被洗浄物の洗浄方法を説明するための図であって、被洗浄物を洗浄液に浸漬させる前の様子を示す断面図である。It is a figure for demonstrating the washing | cleaning method of the to-be-cleaned object which concerns on embodiment, Comprising: It is sectional drawing which shows a mode before immersing a to-be-cleaned object in a washing | cleaning liquid. 実施形態に係る被洗浄物の洗浄方法を説明するための図であって、被洗浄物を洗浄液に浸漬させた後の様子を示す断面図である。It is a figure for demonstrating the washing | cleaning method of the to-be-cleaned object which concerns on embodiment, Comprising: It is sectional drawing which shows a mode after immersing a to-be-cleaned object in the washing | cleaning liquid. 実施形態に係る被洗浄物の洗浄方法を説明するための図であって、被洗浄物の隙間部から洗浄液を排出させている際の様子を示す断面図である。It is a figure for demonstrating the washing | cleaning method of the to-be-cleaned object which concerns on embodiment, Comprising: It is sectional drawing which shows a mode at the time of discharging the cleaning liquid from the clearance gap part of to-be-cleaned object. 実施形態に係る被洗浄物の洗浄方法を説明するための図であって、被洗浄物をすすぎ液に浸漬させた後の様子を示す断面図である。It is a figure for demonstrating the washing | cleaning method of the to-be-cleaned object which concerns on embodiment, Comprising: It is sectional drawing which shows a mode after immersing a to-be-cleaned object in a rinse liquid. 実施形態に係る被洗浄物の洗浄方法を説明するための図であって、被洗浄物の隙間部内にすすぎ液が浸入した後の様子を示す断面図である。It is a figure for demonstrating the washing | cleaning method of the to-be-cleaned object which concerns on embodiment, Comprising: It is sectional drawing which shows a mode after the rinsing liquid permeates into the clearance gap part of to-be-cleaned object. 実施形態に係る被洗浄物の洗浄方法を説明するための図であって、被洗浄物の隙間部からすすぎ液を排出させている際の様子を示す断面図である。It is a figure for demonstrating the washing | cleaning method of the to-be-cleaned object which concerns on embodiment, Comprising: It is sectional drawing which shows a mode at the time of discharging the rinse liquid from the clearance gap part of to-be-cleaned object. 実施形態に係る被洗浄物の洗浄方法を説明するための図であって、被洗浄物を置換液に浸漬させた後の様子を示す断面図である。It is a figure for demonstrating the washing | cleaning method of the to-be-cleaned object which concerns on embodiment, Comprising: It is sectional drawing which shows a mode after immersing a to-be-cleaned object in substitution liquid. 実施形態に係る被洗浄物の洗浄方法を説明するための図であって、被洗浄物を乾燥させた後の様子を示す断面図である。It is a figure for demonstrating the washing | cleaning method of the to-be-cleaned object which concerns on embodiment, Comprising: It is sectional drawing which shows a mode after drying a to-be-cleaned object. 対比例に係る被洗浄物の洗浄装置を示す概略図である。It is the schematic which shows the washing | cleaning apparatus of the to-be-cleaned object which concerns on contrast. 対比例に係る被洗浄物の洗浄方法を説明するための図であって、被洗浄物を洗浄液に浸漬させた後の様子を示す断面図である。It is a figure for demonstrating the washing | cleaning method of the to-be-cleaned object which concerns on comparison, Comprising: It is sectional drawing which shows a mode after immersing a to-be-cleaned object in a washing | cleaning liquid. 対比例に係る被洗浄物の洗浄方法を説明するための図であって、被洗浄物をすすぎ液に浸漬させた後の様子を示す断面図である。It is a figure for demonstrating the washing | cleaning method of the to-be-cleaned object which concerns on comparison, Comprising: It is sectional drawing which shows a mode after immersing a to-be-cleaned object in the rinse liquid. 対比例に係る被洗浄物の洗浄方法を説明するための図であって、被洗浄物を置換液に浸漬させた後の様子を示す断面図である。It is a figure for demonstrating the washing | cleaning method of the to-be-cleaned object which concerns on comparison, Comprising: It is sectional drawing which shows a mode after immersing a to-be-cleaned object in a substitution liquid. 対比例に係る被洗浄物の洗浄方法を説明するための図であって、被洗浄物を置換液によって洗浄した後の様子を示す断面図である。It is a figure for demonstrating the washing | cleaning method of the to-be-cleaned object which concerns on comparison, Comprising: It is sectional drawing which shows a mode after wash | cleaning to-be-washed object with a substitution liquid. 変形例に係る被洗浄物の洗浄装置を示す概略図である。It is the schematic which shows the washing | cleaning apparatus of the to-be-cleaned object which concerns on a modification.

以下、添付した図面を参照しながら、本発明の実施形態を説明する。なお、図面の説明において同一の要素には同一の符号を付し、重複する説明を省略する。また、図面の寸法比率は、説明の都合上誇張されており、実際の比率とは異なる場合がある。   Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the accompanying drawings. In the description of the drawings, the same elements are denoted by the same reference numerals, and redundant description is omitted. In addition, the dimensional ratios in the drawings are exaggerated for convenience of explanation, and may be different from the actual ratios.

図1は、実施形態に係る被洗浄物の洗浄装置の全体構成を示す概略図、図2、図3は、実施形態に係る被洗浄物を説明するための図、図4は、実施形態に係る被洗浄物の洗浄方法の各工程を示すフローチャート、図5A〜図6Dは、実施形態に係る被洗浄物の洗浄方法の各工程を説明するための図、図7は、対比例に係る被洗浄物の洗浄装置の全体構成を示す概略図、図8A〜図8Dは、対比例に係る被洗浄物の洗浄方法の各工程を説明するための図である。   FIG. 1 is a schematic diagram illustrating an overall configuration of a cleaning apparatus for an object to be cleaned according to the embodiment, FIGS. 2 and 3 are diagrams for explaining the object to be cleaned according to the embodiment, and FIG. FIG. 5A to FIG. 6D are diagrams for explaining the respective steps of the cleaning method for an object to be cleaned according to the embodiment, and FIG. FIG. 8A to FIG. 8D are diagrams for explaining the respective steps of the cleaning method for the object to be cleaned according to the comparative example.

本実施形態に係る被洗浄物の洗浄装置(以下、洗浄装置とする)100は、所定の被洗浄物10を洗浄して、被洗浄物10に付着した各種の汚れ等を除去するために使用される装置である。図1に示すように、洗浄装置100は、概説すると、被洗浄物100に対して洗浄液111による洗浄を実施する洗浄槽110と、洗浄槽110において洗浄された後の被洗浄物10の温度を調整する温度調整槽120と、被洗浄物10をすすぎ液131によりすすぎ洗浄するすすぎ洗浄槽130a、130bと、被洗浄物10を揮発性を備える置換液141により洗浄する仕上げ洗浄槽140と、各槽110、130a、130b、140内の圧力を可変自在に調整する圧力調整部(符号Pで示す)とを有している。   A cleaning apparatus (hereinafter referred to as a cleaning apparatus) 100 for an object to be cleaned according to the present embodiment is used to clean a predetermined object to be cleaned 10 and remove various kinds of dirt attached to the object to be cleaned 10. It is a device. As shown in FIG. 1, the cleaning apparatus 100 generally includes a cleaning tank 110 that performs cleaning with the cleaning liquid 111 on the object to be cleaned 100, and the temperature of the object to be cleaned 10 after being cleaned in the cleaning tank 110. A temperature adjustment tank 120 to be adjusted, rinse washing tanks 130a and 130b for rinsing and washing the article 10 to be washed with a rinsing liquid 131, a finish washing tank 140 for washing the article 10 to be washed with a volatile replacement liquid 141, and A pressure adjusting unit (indicated by reference symbol P) for variably adjusting the pressure in the tanks 110, 130a, 130b, and 140;

図1を参照して、洗浄装置100の各部について説明する。   With reference to FIG. 1, each part of the washing | cleaning apparatus 100 is demonstrated.

洗浄装置100が備える洗浄槽110は、洗浄媒体としての洗浄液111を貯留する第1の貯留部114と、洗浄液111から被洗浄物10を離隔して保持する第1の保持空間115と、洗浄液111に浸漬させた被洗浄物10に対して超音波を作用させることにより被洗浄物10に付着した汚れ等を除去する超音波洗浄機113と、圧力調整部Pとを有している。   The cleaning tank 110 provided in the cleaning apparatus 100 includes a first storage unit 114 that stores a cleaning liquid 111 as a cleaning medium, a first holding space 115 that holds the object to be cleaned 10 away from the cleaning liquid 111, and the cleaning liquid 111. An ultrasonic cleaner 113 that removes dirt and the like attached to the object 10 to be cleaned by applying an ultrasonic wave to the object 10 to be cleaned, and a pressure adjusting unit P are provided.

洗浄槽110は、その上部側に被洗浄物10を槽内に投入するための投入口を有しており、底部側において所定量の洗浄液111を保持する槽構造に構成している。投入口には、開閉自在なシャッター(図示省略)を設けている。シャッターを閉じることにより、洗浄槽100内の第1の保持空間115を密閉して気密に保持することが可能となっている。また、第1の洗浄槽110には、第1の洗浄槽110内外への被洗浄物10の搬送や第1の洗浄槽110内における被洗浄物10の移動を行う搬送手段(図示省略)が備えられている。   The cleaning tank 110 has an input port for supplying the object to be cleaned 10 into the tank on the upper side, and has a tank structure that holds a predetermined amount of the cleaning liquid 111 on the bottom side. An opening / closing shutter (not shown) is provided at the insertion port. By closing the shutter, the first holding space 115 in the cleaning tank 100 can be sealed and kept airtight. Further, the first cleaning tank 110 has a transport means (not shown) for transporting the object to be cleaned 10 in and out of the first cleaning tank 110 and moving the object to be cleaned 10 in the first cleaning tank 110. Is provided.

超音波洗浄機113は、金属等のワークを洗浄するための湿式洗浄に用いられる公知の超音波洗浄機により構成している。圧力調整部Pは、第1の保持空間115内の圧力を増減可能な公知のポンプにより構成している。圧力調整部Pは、各槽に個別に備えさせずに、一つのものを各槽で共用するように構成してもよい。   The ultrasonic cleaner 113 is configured by a known ultrasonic cleaner used for wet cleaning for cleaning a workpiece such as metal. The pressure adjustment unit P is configured by a known pump that can increase or decrease the pressure in the first holding space 115. You may comprise the pressure adjustment part P so that one thing may be shared by each tank, without providing each tank separately.

洗浄に使用する洗浄液111の種類は、特に限定されないが、本実施形態においては湿式洗浄に用いられる公知の無機系アルカリ性洗浄剤を使用している。その他の洗浄液として、例えば、公知の中性洗浄剤を使用することも可能である。   The type of cleaning liquid 111 used for cleaning is not particularly limited, but in the present embodiment, a known inorganic alkaline cleaning agent used for wet cleaning is used. As another cleaning liquid, for example, a known neutral cleaning agent can be used.

洗浄装置100が備える温度調整槽120は、洗浄槽110により洗浄された被洗浄物10を冷却するための冷却水121を保持している。冷却水121には、純水を冷却したものを使用している。温度調整槽120は、例えば、冷却水121に代えて冷却されたガスにより被洗浄物10を冷却するように構成することも可能である。   The temperature adjustment tank 120 provided in the cleaning apparatus 100 holds cooling water 121 for cooling the article 10 to be cleaned that has been cleaned by the cleaning tank 110. As the cooling water 121, pure water cooled is used. For example, the temperature adjustment tank 120 can be configured to cool the object to be cleaned 10 with a cooled gas instead of the cooling water 121.

温度調整槽120は、図示省略する搬送手段と、温度調整槽120内へ被洗浄物10を投入する際に開閉される図示省略するシャッターとを備えている。   The temperature adjustment tank 120 includes a conveyance unit (not shown) and a shutter (not shown) that is opened and closed when the object to be cleaned 10 is put into the temperature adjustment tank 120.

洗浄装置100は、第1のすすぎ洗浄槽130aと第2のすすぎ洗浄槽130bの二つの洗浄槽を備えている。各すすぎ洗浄槽130a、130bは、洗浄媒体としてのすすぎ液131を貯留する第2の貯留部134と、すすぎ液131から被洗浄物10を離隔して保持する第2の保持空間135と、すすぎ液131に浸漬させた被洗浄物10に対して超音波を作用させることにより被洗浄物10に付着した洗浄液111などを除去する超音波洗浄機133と、圧力調整部Pとを有している。   The cleaning apparatus 100 includes two cleaning tanks, a first rinse cleaning tank 130a and a second rinse cleaning tank 130b. Each of the rinsing cleaning tanks 130a and 130b includes a second storage part 134 that stores a rinsing liquid 131 as a cleaning medium, a second holding space 135 that holds the object 10 to be cleaned separately from the rinsing liquid 131, and a rinsing. An ultrasonic cleaning machine 133 that removes the cleaning liquid 111 and the like attached to the object to be cleaned 10 by applying an ultrasonic wave to the object to be cleaned 10 immersed in the liquid 131, and a pressure adjustment unit P are provided. .

すすぎ洗浄に使用するすすぎ液131の種類は、特に限定されないが、本実施形態においては純水を使用している。   The type of the rinsing liquid 131 used for the rinsing cleaning is not particularly limited, but pure water is used in this embodiment.

各すすぎ洗浄槽130a、130bは、洗浄槽110と略同一に構成しているため、各部の構成の説明は省略する。   Since each rinse washing tank 130a, 130b is comprised substantially the same as the washing tank 110, description of the structure of each part is abbreviate | omitted.

洗浄装置100が備える仕上げ洗浄槽140は、仕上げ洗浄に使用する置換液141を貯留する第3の貯留部144と、置換液141から被洗浄物10を離隔して保持する第3の保持空間145と、置換液141に浸漬させた被洗浄物10に対して超音波を作用させることにより被洗浄部物10に付着した洗浄液111やすすぎ液131を除去する超音波洗浄機143と、圧力調整部Pとを有している。   The finishing cleaning tank 140 provided in the cleaning apparatus 100 includes a third storage unit 144 that stores the replacement liquid 141 used for the finishing cleaning, and a third holding space 145 that holds the object to be cleaned 10 away from the replacement liquid 141. An ultrasonic cleaner 143 that removes the cleaning liquid 111 and the rinsing liquid 131 adhering to the object to be cleaned 10 by applying an ultrasonic wave to the object 10 to be cleaned immersed in the replacement liquid 141, and a pressure adjusting unit. P.

仕上げ洗浄に使用する置換液141の種類は、特に限定されないが、本実施形態においてはイソプロピルアルコール(IPA)を使用している。   The type of the replacement liquid 141 used for the finish cleaning is not particularly limited, but isopropyl alcohol (IPA) is used in the present embodiment.

仕上げ洗浄槽140は、洗浄槽110と略同一に構成しているため、各部の構成の説明は省略する。   Since the finishing cleaning tank 140 is configured substantially the same as the cleaning tank 110, description of the configuration of each part is omitted.

洗浄装置100には、各部の動作を自動化するための制御部を備えさせてもよい。制御部は、例えば、CPU等を備える公知のPC(パーソナルコンピュータ)により構成することが可能である。   The cleaning apparatus 100 may include a control unit for automating the operation of each unit. The control unit can be configured by, for example, a known PC (personal computer) including a CPU and the like.

次に、図2、図3を参照して、被洗浄物10について説明する。図2は、被洗浄物10を示す概観斜視図であり、図3は、被洗浄物10を適用した燃料電池セル100を例示する部分断面図である。図3は、図2に示す矢印4−4に沿う断面に対応した断面を示している。   Next, the cleaning object 10 will be described with reference to FIGS. 2 and 3. FIG. 2 is a schematic perspective view showing the article 10 to be cleaned, and FIG. 3 is a partial cross-sectional view illustrating a fuel cell 100 to which the article 10 is applied. FIG. 3 shows a cross section corresponding to the cross section along the arrow 4-4 shown in FIG.

図2、図3に示すように、被洗浄物10は、燃料電池の構成部材として使用されるセパレータ積層体によって構成している。セパレータ積層体をなす被洗浄物10は、アノード側セパレータ11と、カソード側セパレータ12の一対のセパレータを相互に接合して形成している。各セパレータ11、12は、導電性を有する薄板状の金属によって構成しているが、材質は特に限定されず、公知の材料を適宜使用することができる。   As shown in FIGS. 2 and 3, the object to be cleaned 10 is constituted by a separator laminate used as a constituent member of a fuel cell. An object to be cleaned 10 constituting a separator laminate is formed by joining an anode side separator 11 and a pair of separators of a cathode side separator 12 to each other. Although each separator 11 and 12 is comprised with the thin metal plate which has electroconductivity, a material is not specifically limited, A well-known material can be used suitably.

燃料電池セル100は、複数積層された状態において、供給された燃料ガス(水素)と酸化剤ガス(酸素を含有した空気または純酸素)から電力を生成する。被洗浄物10は、燃料電池セル100が備える膜電極接合体30を隣接する他の膜電極接合体30から隔離しつつ、膜電極接合体30で発生した電力を通電させる機能を備えている。被洗浄物10が備えるアノード側セパレータ11は、膜電極接合体30のアノード32に当接させて配置し、被洗浄物10が備えるカソード側セパレータ12は、膜電極接合体30のカソード32に当接させて配置している。   The fuel cell 100 generates electric power from the supplied fuel gas (hydrogen) and oxidant gas (air containing oxygen or pure oxygen) in a stacked state. The object to be cleaned 10 has a function of energizing power generated in the membrane electrode assembly 30 while isolating the membrane electrode assembly 30 included in the fuel cell 100 from other adjacent membrane electrode assemblies 30. The anode-side separator 11 included in the object to be cleaned 10 is disposed in contact with the anode 32 of the membrane electrode assembly 30, and the cathode-side separator 12 included in the object to be cleaned 10 contacts the cathode 32 of the membrane electrode assembly 30. They are placed in contact.

膜電極接合体30は、供給された酸素と水素を化学反応させて電力を生成する。膜電極接合体30は、電解質膜31を介して対向するようにアノード32とカソード33とを接合して形成している。膜電極接合体30は、一般的にMEA(membrane electrode assembly)と称している。電解質膜31は、固体の高分子材料により構成することができる。アノード32は、電極触媒層、撥水層、およびガス拡散層を積層して構成している。カソード33は、電極触媒層、撥水層、およびガス拡散層を積層して構成している。アノード32およびカソード33の電極触媒層は、導電性の担体に触媒成分が担持された電極触媒と高分子電解質を含んでいる。アノード32およびカソード33のガス拡散層は、炭素繊維からなる糸で織成したカーボンクロス、カーボンペーパ、またはカーボンフェルトから形成している。   The membrane electrode assembly 30 generates electric power by chemically reacting the supplied oxygen and hydrogen. The membrane electrode assembly 30 is formed by joining an anode 32 and a cathode 33 so as to face each other with an electrolyte membrane 31 therebetween. The membrane electrode assembly 30 is generally referred to as MEA (membrane electrode assembly). The electrolyte membrane 31 can be made of a solid polymer material. The anode 32 is formed by laminating an electrode catalyst layer, a water repellent layer, and a gas diffusion layer. The cathode 33 is formed by laminating an electrode catalyst layer, a water repellent layer, and a gas diffusion layer. The electrode catalyst layers of the anode 32 and the cathode 33 include an electrode catalyst in which a catalyst component is supported on a conductive carrier and a polymer electrolyte. The gas diffusion layers of the anode 32 and the cathode 33 are made of carbon cloth, carbon paper, or carbon felt woven with carbon fiber yarns.

アノード側セパレータ11の中央には、凹凸形状の流路形成部11gを形成している。図3に示すように、アノード側セパレータ11の流路形成部11gとアノード32との間に区画される閉空間は、アノード32に対して水素を供給するアノードガス流路13を構成する。   In the center of the anode-side separator 11, an uneven channel forming portion 11 g is formed. As shown in FIG. 3, the closed space defined between the flow path forming portion 11 g of the anode separator 11 and the anode 32 constitutes an anode gas flow path 13 that supplies hydrogen to the anode 32.

アノード側セパレータ11は、長手方向の一端に、カソードガス供給口11a、冷却流体供給口11b、およびアノードガス供給口11cに相当する貫通孔を有している。また、アノード側セパレータ11は、その長手方向の他端に、アノードガス排出口11d、冷却流体排出口11e、およびカソードガス排出口11fに相当する貫通孔を有している。   The anode-side separator 11 has a through hole corresponding to the cathode gas supply port 11a, the cooling fluid supply port 11b, and the anode gas supply port 11c at one end in the longitudinal direction. The anode-side separator 11 has a through hole corresponding to the anode gas discharge port 11d, the cooling fluid discharge port 11e, and the cathode gas discharge port 11f at the other end in the longitudinal direction.

カソード側セパレータ12の中央には、凹凸形状の流路形成部12gを形成している。図3に示すように、カソード側セパレータ12の流路形成部12gとカソード33との間に区画される閉空間は、カソード33に対して酸化剤ガスを供給するカソードガス流路15を構成する。   In the center of the cathode separator 12, an uneven channel forming part 12 g is formed. As shown in FIG. 3, the closed space defined between the flow path forming portion 12 g of the cathode separator 12 and the cathode 33 constitutes a cathode gas flow path 15 that supplies an oxidant gas to the cathode 33. .

図3に示すように、各セパレータ11、12は、それぞれの流路形成部11g、12g同士が互いに向かい合うように突き合わせて配置している。アノード側セパレ―タ11の流路形成部11gとカソード側セパレ―タ12の流路形成部12gとの間に形成した閉空間は、冷却水が流通可能な冷却水流路(流路部に相当する)15を構成する。各セパレータ11、12は、冷却水流路15を形成した状態で相互に接合している。接合箇所18は、例えば、冷却水流路15を形成する流路形成部11g、12gに隣り合う各流路形成部に設けることができる。接合方法としては溶接を採用しているが、接合方法は各セパレータ11、12の材質等に応じて適宜選択することができ、特に限定されない。   As shown in FIG. 3, the separators 11 and 12 are arranged to face each other such that the flow path forming portions 11 g and 12 g face each other. The closed space formed between the flow path forming portion 11g of the anode side separator 11 and the flow path forming portion 12g of the cathode side separator 12 is a cooling water flow path (corresponding to the flow path portion) through which cooling water can flow. 15) is configured. The separators 11 and 12 are joined to each other in a state in which the cooling water channel 15 is formed. The joining location 18 can be provided in each flow path formation part adjacent to the flow path formation parts 11g and 12g which form the cooling water flow path 15, for example. Although welding is adopted as the joining method, the joining method can be appropriately selected according to the material of the separators 11 and 12 and is not particularly limited.

ここで、図5Aに示すように、アノード側セパレータ11とカソード側セパレータ12とからなる被洗浄物10には、複数の隙間部g1、g2が形成されている。なお、図5Aは、説明を簡略化するために、図2に示す破線部5で囲んだ部分に相当する各セパレータ11、12の端部の構成を示している。   Here, as shown in FIG. 5A, a plurality of gaps g <b> 1 and g <b> 2 are formed in the object to be cleaned 10 including the anode side separator 11 and the cathode side separator 12. 5A shows the configuration of the end portions of the separators 11 and 12 corresponding to the portion surrounded by the broken line portion 5 shown in FIG. 2 for the sake of simplicity.

隙間部g1は、各セパレータ11、12の間に形成した冷却水流路15である。隙間部g2は、冷却水流路15と溶接部18との間に連通する微小な間隙である。隙間部g2は、各セパレータ11、12同士を突き合わせて配置した際に、各セパレータ11、12の僅かな製品形状の相違や接合時に各セパレータ11、12を位置決めして把持等する際に加わる把持力の相違により生じ得る微小なものである。被洗浄物10においては、隙間部g1から見て、溶接部18が形成された位置と反対側に位置する突き合わせ部19にも微小な隙間が形成されている。図示するように、各セパレータ11、12を接合して構成した被洗浄物10は、突き合わせ部19を介して各隙間部g1、g2が外部と連通した袋構造を有している。   The gap portion g1 is a cooling water flow path 15 formed between the separators 11 and 12. The gap part g <b> 2 is a minute gap that communicates between the coolant channel 15 and the welded part 18. The gap portion g2 is gripped when the separators 11 and 12 are arranged to face each other, when the separators 11 and 12 are slightly different in product shape or when the separators 11 and 12 are positioned and gripped at the time of joining. It is a minute thing that can be caused by a difference in force. In the object 10 to be cleaned, a minute gap is also formed in the butting portion 19 located on the opposite side of the position where the welded portion 18 is formed as viewed from the gap portion g1. As shown in the figure, the article to be cleaned 10 formed by joining the separators 11 and 12 has a bag structure in which the gaps g1 and g2 communicate with the outside through a butting portion 19.

被洗浄物10の洗浄に際して、洗浄液111やすすぎ液131等の液状の洗浄媒体を各隙間部g1、g2内に浸入させることにより、各隙間部g1、g2内に滞留したり、各隙間部g1、g2に面したセパレータ11、12の各部に付着したりする汚れを洗浄することが可能になる。ただし、各隙間部g1、g2は、突き合わせ部19により袋状に構成されているため、各隙間部g1、g2内へ洗浄媒体を一旦浸入させると、表面張力などの影響により、洗浄媒体の排出を容易に行うことができない。各隙間部g1、g2内から洗浄媒体が排出されず、各工程間で洗浄媒体が持ち出され、また持ち込まれると、洗浄性の低下やランニングコストの増加といった問題が発生する。本実施形態に係る洗浄方法においては、各隙間部g1、g2内から洗浄媒体を好適に排出することを可能にして、各隙間部g1、g2内に洗浄媒体の残留が発生するのを防止している。   When cleaning the article 10 to be cleaned, liquid cleaning media such as the cleaning liquid 111 and the rinsing liquid 131 are allowed to enter the gaps g1 and g2, thereby staying in the gaps g1 and g2, or the gaps g1. , Dirt attached to each part of the separators 11 and 12 facing g2 can be cleaned. However, since the gaps g1 and g2 are formed in a bag shape by the abutting part 19, once the cleaning medium enters the gaps g1 and g2, the cleaning medium is discharged due to the influence of surface tension and the like. Cannot be done easily. If the cleaning medium is not discharged from the gaps g1 and g2, and the cleaning medium is taken out between the processes, and brought in, problems such as a decrease in cleaning performance and an increase in running cost occur. In the cleaning method according to the present embodiment, it is possible to suitably discharge the cleaning medium from the gaps g1 and g2, thereby preventing the cleaning medium from remaining in the gaps g1 and g2. ing.

図1、図4を参照して、本実施形態に係る洗浄方法を説明する。なお、図1中に示すS11〜S22の各符号は、図4に示す各ステップに対応しており、洗浄装置100において各ステップが実施される場所を示している。   The cleaning method according to the present embodiment will be described with reference to FIGS. 1 and 4. In addition, each code | symbol of S11-S22 shown in FIG. 1 respond | corresponds to each step shown in FIG. 4, and has shown the place where each step is implemented in the washing | cleaning apparatus 100. FIG.

図4に示すように、本実施形態に係る洗浄方法は、被洗浄物10を洗浄液111に浸漬させて、洗浄液111により洗浄する工程(S11)と、被洗浄物10をすすぎ液131に浸漬させて、すすぎ液131によりすすぎ洗浄する工程(S15、S18)と、被洗浄物10を、揮発性を備える置換液141に浸漬させて、置換液141により洗浄する工程(S21)とを有している。そして、洗浄液111により被洗浄物10を洗浄する工程(S11)の後であって、かつ、置換液141により洗浄する工程(S21)の前に、被洗浄物10を洗浄媒体から取り出した状態で被洗浄物10の各隙間部g1、g2に連通する周辺雰囲気を減圧することにより各隙間部g1、g2内に残留した洗浄媒体を排出させる工程(S12、S14、S16、S17、S19、S20、S22)を行っている。なお、以下の説明では、洗浄媒体を排出させる各工程(S12、S14、S16、S17、S19、S20、S22)を、便宜的に、減圧による液切り工程と記載する。   As shown in FIG. 4, in the cleaning method according to the present embodiment, the object to be cleaned 10 is immersed in the cleaning liquid 111 and the cleaning liquid 111 is cleaned (S 11), and the object 10 to be cleaned is immersed in the rinsing liquid 131. And rinsing and washing with the rinsing liquid 131 (S15, S18), and immersing the article to be cleaned 10 in the volatile substitution liquid 141 and washing with the substitution liquid 141 (S21). Yes. Then, after the step (S11) of cleaning the object 10 with the cleaning liquid 111 and before the step (S21) of cleaning with the replacement liquid 141, the object 10 to be cleaned is taken out from the cleaning medium. A step (S12, S14, S16, S17, S19, S20, and a step of discharging the cleaning medium remaining in the gaps g1 and g2 by reducing the ambient atmosphere communicating with the gaps g1 and g2 of the article 10 to be cleaned. S22) is performed. In the following description, each step (S12, S14, S16, S17, S19, S20, S22) for discharging the cleaning medium is referred to as a liquid draining step by decompression for convenience.

図1、図4、図5A〜図6Dを参照して、洗浄方法の各工程を説明する。図5A〜図6Dは、洗浄方法を説明するための概念図であり、各工程における被洗浄物10の状態(汚れの付着状況や洗浄媒体の付着状況)が図示した状態のみに限定されることはない。   Each step of the cleaning method will be described with reference to FIGS. 1, 4, and 5 </ b> A to 6 </ b> D. FIG. 5A to FIG. 6D are conceptual diagrams for explaining the cleaning method, and the state of the object to be cleaned 10 in each process (the state of contamination and the state of attachment of the cleaning medium) is limited to the illustrated state. There is no.

まず、洗浄液111による洗浄を実施する(S11)。   First, cleaning with the cleaning liquid 111 is performed (S11).

洗浄に際して、洗浄槽110の第1の貯留部114に貯留した洗浄液111中に被洗浄物10を浸漬させる。洗浄液111へ被洗浄物10を浸漬させる際は、洗浄槽110の内部を大気圧(約100kPa程度)にする。浸漬は、図示省略する洗浄籠に複数個の被洗浄物10をセットして行う。洗浄籠を使用することで複数個の被洗浄物10に対して同時に洗浄を実施する。   At the time of cleaning, the article to be cleaned 10 is immersed in the cleaning liquid 111 stored in the first storage unit 114 of the cleaning tank 110. When the object 10 to be cleaned is immersed in the cleaning liquid 111, the inside of the cleaning tank 110 is set to atmospheric pressure (about 100 kPa). Immersion is performed by setting a plurality of objects to be cleaned 10 on a cleaning rod (not shown). By using the cleaning basket, a plurality of objects to be cleaned 10 are simultaneously cleaned.

図5Aに示すように、被洗浄物10を洗浄液111に浸漬させる前は、被洗浄物10の各隙間部g1、g2内には空気等の気体が充満した状態となっている。図5Bに示すように、被洗浄物10を洗浄液111に浸漬させると、各隙間部g1、g2内に洗浄液111が浸入する。各隙間部g1、g2内に浸入した洗浄液111には、各隙間部g1、g2内に充填されていた空気aが所定量だけ溶解する。   As shown in FIG. 5A, before the object to be cleaned 10 is immersed in the cleaning liquid 111, the gaps g1 and g2 of the object to be cleaned 10 are filled with a gas such as air. As shown in FIG. 5B, when the article to be cleaned 10 is immersed in the cleaning liquid 111, the cleaning liquid 111 enters the gaps g1 and g2. A predetermined amount of air a filled in the gaps g1 and g2 is dissolved in the cleaning liquid 111 that has entered the gaps g1 and g2.

被洗浄物10を洗浄液111に浸漬させた状態で超音波洗浄機113を動作させて被洗浄物10を洗浄する。洗浄時は、洗浄槽110の内部を大気圧に維持する。   In a state where the object to be cleaned 10 is immersed in the cleaning liquid 111, the ultrasonic cleaner 113 is operated to clean the object 10 to be cleaned. During cleaning, the inside of the cleaning tank 110 is maintained at atmospheric pressure.

被洗浄物10は、洗浄した後、第1の保持空間115に引き上げる。被洗浄物110は、第1の保持空間115内に滞留する気体(例えば、空気)中に晒した状態とする。洗浄後の被洗浄物10の各隙間部g1、g2には、洗浄時に浸入した洗浄液111が残留した状態となる。   The object to be cleaned 10 is lifted to the first holding space 115 after being cleaned. The object 110 to be cleaned is exposed to a gas (for example, air) staying in the first holding space 115. The cleaning liquid 111 that has entered during cleaning is left in the gaps g1 and g2 of the object 10 after cleaning.

次に、洗浄槽110において減圧による液切りを実施する(S12)。   Next, liquid draining by depressurization is performed in the cleaning tank 110 (S12).

第1の保持空間115内に被洗浄物110を配置した状態で圧力調整部Pを動作させる。圧力調整部Pを動作させて、洗浄槽110の内部の圧力を下げることにより、被洗浄物10の周辺雰囲気を減圧する。被洗浄物10の周辺雰囲気を減圧すると、周辺雰囲気に連通する各隙間部g1、g2の内部が減圧される。そして、図5Cに示すように、各隙間g1、g2内に残留した洗浄液111中に溶解した空気が膨張し、残留した洗浄液111を各隙間部g1、g2の内部から物理的に押し出して排出する。この際、空気は、膨張された勢いで減圧された周辺雰囲気(気体中)に噴出されるため、実際に空気が膨張した体積分以上の洗浄液111を被洗浄物10の外部へ排出させる。例えば、洗浄液111に浸漬させた状態で減圧を実施すると、周辺雰囲気中で減圧を実施する場合に比べて膨張した空気による洗浄液111の押し出し量が低減する。周辺雰囲気中で減圧を実施することによって、より多量の洗浄液111を各隙間部g1、g2から排出させることが可能になる。気体の膨張作用を利用して液切りを行うことにより、各隙間部g1、g2内に残留した洗浄液111を効率よく排出することができる。   The pressure adjusting unit P is operated in a state where the object to be cleaned 110 is disposed in the first holding space 115. By operating the pressure adjusting unit P and reducing the pressure inside the cleaning tank 110, the atmosphere around the object to be cleaned 10 is reduced in pressure. When the surrounding atmosphere of the article to be cleaned 10 is depressurized, the insides of the gaps g1 and g2 communicating with the surrounding atmosphere are depressurized. Then, as shown in FIG. 5C, the air dissolved in the cleaning liquid 111 remaining in the gaps g1 and g2 expands, and the remaining cleaning liquid 111 is physically pushed out from the gaps g1 and g2 and discharged. . At this time, since the air is ejected to the surrounding atmosphere (in the gas) decompressed with the expanded force, the cleaning liquid 111 having a volume larger than the actual volume of the air is discharged to the outside of the object to be cleaned 10. For example, when the pressure is reduced while being immersed in the cleaning liquid 111, the amount of the cleaning liquid 111 pushed out by the expanded air is reduced as compared with the case where the pressure is reduced in the surrounding atmosphere. By reducing the pressure in the ambient atmosphere, a larger amount of the cleaning liquid 111 can be discharged from the gaps g1 and g2. By performing liquid drainage utilizing the expansion action of gas, the cleaning liquid 111 remaining in the gaps g1 and g2 can be efficiently discharged.

減圧下における洗浄槽110内の圧力(周辺雰囲気の圧力)は、上記のような気体の膨張による洗浄液111の押し出しが可能となる範囲において特に限定されないが、例えば、10〜40kPa程度に設定することができる。   The pressure in the cleaning tank 110 under reduced pressure (pressure in the surrounding atmosphere) is not particularly limited as long as the cleaning liquid 111 can be pushed out by gas expansion as described above, but is set to about 10 to 40 kPa, for example. Can do.

洗浄槽110内を減圧すると、被洗浄物10に付着した洗浄液111の揮発点が低下するため、被洗浄物10自身が備える熱量によって所定量の洗浄液111を蒸発させことができる。したがって、蒸発させることにより、一部の洗浄液111を被洗浄物10から除去することが可能となる。ただし、洗浄液111として無機系洗浄液を使用している場合に、被洗浄物10に付着した洗浄液111を完全に乾燥させてしまうと、洗浄液111の成分が被洗浄物10の表面に残り、製品品質を低下させる虞がある。このため、洗浄液111の成分残りによる品質の低下が懸念されるような場合には、洗浄液111を排出させる工程(S12)を実施せずに、次工程に進むことも可能である。   When the inside of the cleaning tank 110 is depressurized, the volatilization point of the cleaning liquid 111 attached to the object to be cleaned 10 is lowered, so that a predetermined amount of the cleaning liquid 111 can be evaporated by the heat amount of the object to be cleaned 10 itself. Therefore, a part of the cleaning liquid 111 can be removed from the object to be cleaned 10 by evaporation. However, when an inorganic cleaning liquid is used as the cleaning liquid 111, if the cleaning liquid 111 attached to the object to be cleaned 10 is completely dried, the components of the cleaning liquid 111 remain on the surface of the object to be cleaned 10, and the product quality May be reduced. For this reason, when there is a concern about deterioration in quality due to remaining components of the cleaning liquid 111, it is possible to proceed to the next process without performing the process (S12) of discharging the cleaning liquid 111.

洗浄液111の排出を実施した後、第1の洗浄槽110内の圧力を大気圧に戻す。   After discharging the cleaning liquid 111, the pressure in the first cleaning tank 110 is returned to atmospheric pressure.

次に、被洗浄物10の温度調整を実施する(S13)。   Next, the temperature of the article 10 to be cleaned is adjusted (S13).

洗浄液111により洗浄した後の被洗浄物10は洗浄槽110から取り出して、温度調整槽120に貯留した冷却水121中に浸漬させる。   The object 10 to be cleaned after being cleaned with the cleaning liquid 111 is taken out from the cleaning tank 110 and immersed in the cooling water 121 stored in the temperature adjustment tank 120.

温度調整槽120を使用して被洗浄物10の温度を下げると、被洗浄物10とともに被洗浄物10に付着および残留した洗浄液111の温度が低下する。洗浄液111の温度が比較的高い温度にあると、洗浄液111中に溶解した空気等の気体の溶存量が減少する。このような状態で、すすぎ洗浄工程(S15)前に減圧による液切り工程(S14)を実施すると、気体の膨張による洗浄液111の排出性が低下してしまう。また、前述したように、減圧による液切り工程(S14)を実施している最中に被洗浄物10に残留した洗浄液111が揮発して完全に乾燥されてしまうことにより、洗浄液111の成分残りによる品質の低下を招く虞がある。このため、減圧による液切り工程(S14)を実施するのに先立って、被洗浄物10を冷却する工程を実施している。なお、冷却後の被洗浄物10の温度は、完全な乾燥を防止できる温度や気体の溶存量の増加を図り得る限りにおいて特に限定されない。例えば、被洗浄物10が過度に冷却された状態にある場合は、後述する乾燥工程において好適に乾燥することが可能となるように、被洗浄物10を所定の温度の範囲で温めてもよい。このような場合、温度調整槽120を加温可能な構成に適宜変更することが可能である。   When the temperature of the article to be cleaned 10 is lowered using the temperature adjustment tank 120, the temperature of the cleaning liquid 111 attached and remaining on the article to be cleaned 10 together with the object to be cleaned 10 is decreased. When the temperature of the cleaning liquid 111 is relatively high, the dissolved amount of gas such as air dissolved in the cleaning liquid 111 decreases. In such a state, if the liquid draining step (S14) by depressurization is performed before the rinsing cleaning step (S15), the dischargeability of the cleaning liquid 111 due to gas expansion will be reduced. In addition, as described above, the cleaning liquid 111 remaining on the object to be cleaned 10 is volatilized and completely dried during the liquid draining step (S14) by decompression, so that the remaining component of the cleaning liquid 111 remains. There is a risk of quality degradation due to. For this reason, the process of cooling the to-be-cleaned object 10 is implemented prior to implementing the liquid removal process (S14) by pressure reduction. In addition, the temperature of the to-be-cleaned object 10 after cooling is not specifically limited as long as the temperature which can prevent complete drying and the increase of the dissolved amount of gas can be aimed at. For example, when the object to be cleaned 10 is in an excessively cooled state, the object to be cleaned 10 may be warmed within a predetermined temperature range so that it can be suitably dried in a drying process described later. . In such a case, the temperature adjustment tank 120 can be appropriately changed to a configuration capable of heating.

次に、第1のすすぎ洗浄槽130aにおいて減圧による液切りを実施する(S14)。   Next, liquid drainage by depressurization is performed in the first rinse cleaning tank 130a (S14).

温度調整槽120により温調された被洗浄物10を、第1のすすぎ洗浄槽130aの第2の保持空間135に配置する。そして、被洗浄物10の周辺雰囲気を圧力調整部Pにより減圧して、各隙間部g1、g2から洗浄液111を排出させる。   The object 10 to be cleaned whose temperature is adjusted by the temperature adjustment tank 120 is arranged in the second holding space 135 of the first rinse cleaning tank 130a. The atmosphere around the object to be cleaned 10 is depressurized by the pressure adjusting unit P, and the cleaning liquid 111 is discharged from the gaps g1 and g2.

減圧による液切り工程(S14)の後、第1のすすぎ洗浄槽130a内を減圧した状態に維持して、被洗浄物10をすすぎ液131中に浸漬させる。ここで、減圧による液切りを実施することにより洗浄液111を各隙間部g1、g2から押し出すと、図5Dに示すように押し出した体積分の空間sが各隙間部g1、g2内に発生する。また、この空間sは、液切りを実施したことによって減圧した状態となっている。したがって被洗浄物10をすすぎ液131に浸漬させると、各隙間部g1、g2内の空間sへ向けてすすぎ液131が勢いよく浸入する。その結果、図6Aに示すように、各隙間部g1、g2内にすすぎ液131を容易に充満させることが可能になる。   After the liquid draining step by depressurization (S14), the object to be cleaned 10 is immersed in the rinsing liquid 131 while the inside of the first rinsing bath 130a is maintained in a depressurized state. Here, when the cleaning liquid 111 is pushed out from the gaps g1 and g2 by performing liquid drainage by decompression, as shown in FIG. 5D, spaces s corresponding to the pushed-out volume are generated in the gaps g1 and g2. In addition, the space s is in a state of being depressurized by performing liquid draining. Therefore, when the article to be cleaned 10 is immersed in the rinsing liquid 131, the rinsing liquid 131 invades vigorously toward the spaces s in the gaps g1 and g2. As a result, as shown in FIG. 6A, the rinsing liquid 131 can be easily filled in the gaps g1 and g2.

次に、第1のすすぎ洗浄槽130aに貯留したすすぎ液131によるすすぎ洗浄を実施する(S15)。   Next, rinsing with the rinsing liquid 131 stored in the first rinsing tank 130a is performed (S15).

第1のすすぎ洗浄槽130a内の圧力は、すすぎ液131に被洗浄物10を浸漬させた後に大気圧に戻す。そして、すすぎ液131中に被洗浄物10を浸漬させた状態で、超音波洗浄機133を動作させて被洗浄物10をすすぎ洗浄する。   The pressure in the first rinse tank 130 a is returned to atmospheric pressure after the article to be cleaned 10 is immersed in the rinse liquid 131. Then, with the article to be cleaned 10 immersed in the rinsing liquid 131, the ultrasonic cleaning machine 133 is operated to rinse and wash the article to be cleaned 10.

次に、第1のすすぎ洗浄槽130aにおいて減圧による液切りを実施する(S16)。   Next, liquid drainage by depressurization is performed in the first rinse tank 130a (S16).

被洗浄物10は、すすぎ洗浄した後、第2の保持空間135に引き上げる。そして、被洗浄物10の周辺雰囲気を圧力調整部Pにより減圧して、図6Bに示すように、各隙間部g1、g2から洗浄液111やすすぎ液131を排出させる。周辺雰囲気を減圧して、すすぎ液131に溶解した空気等の気体を膨張させることにより、洗浄液111およびすすぎ液131を効率よく排出させることができる。   The object to be cleaned 10 is rinsed and then pulled up to the second holding space 135. Then, the atmosphere around the object to be cleaned 10 is depressurized by the pressure adjusting unit P, and the cleaning liquid 111 and the rinsing liquid 131 are discharged from the gaps g1 and g2, as shown in FIG. 6B. By depressurizing the surrounding atmosphere and expanding a gas such as air dissolved in the rinsing liquid 131, the cleaning liquid 111 and the rinsing liquid 131 can be efficiently discharged.

第1のすすぎ洗浄槽130aにおいて、減圧による液切り、減圧下におけるすすぎ液131への被洗浄物10の浸漬、および大気圧下におけるすすぎ洗浄は、複数回繰り返して実施することが可能である。これらの各工程を繰り返し実施することにより、被洗浄物10の各隙間g1、g2内に残留した洗浄液111の大半を排出させることが可能になるため、すすぎ液131による洗浄効果をより一層高めることができる。   In the first rinsing cleaning tank 130a, draining by reduced pressure, immersing the article to be cleaned 10 in the rinsing liquid 131 under reduced pressure, and rinsing cleaning under atmospheric pressure can be repeated a plurality of times. By repeating these steps, it is possible to discharge most of the cleaning liquid 111 remaining in the gaps g1 and g2 of the article 10 to be cleaned, thereby further enhancing the cleaning effect of the rinsing liquid 131. Can do.

次に、第2のすすぎ洗浄槽130bにおいて減圧による液切りを実施する(S17)。なお、第2のすすぎ洗浄槽130bにおいて実施される各工程(S17〜S19)は、第1のすすぎ洗浄槽130aにおいて実施される各工程(S14〜S16)と略同一であるため、説明を一部省略する。   Next, liquid drainage by depressurization is performed in the second rinse cleaning tank 130b (S17). In addition, since each process (S17-S19) implemented in the 2nd rinse washing tank 130b is substantially the same as each process (S14-S16) implemented in the 1st rinse washing tank 130a, description is one. Omitted.

第1のすすぎ洗浄槽130aによりすすぎ洗浄した後の被洗浄物10を、第2のすすぎ洗浄槽130bの第2の保持空間135に配置する。そして、被洗浄物10の周辺雰囲気を圧力調整部Pにより減圧して、各隙間部g1、g2から洗浄液111を排出させる。減圧による液切り工程(S17)の後、第2のすすぎ洗浄槽130b内を減圧した状態に維持して、液質が管理されたすすぎ液131中に被洗浄物10を浸漬させる。   The object 10 to be cleaned after being rinsed and washed by the first rinse tank 130a is arranged in the second holding space 135 of the second rinse tank 130b. The atmosphere around the object to be cleaned 10 is depressurized by the pressure adjusting unit P, and the cleaning liquid 111 is discharged from the gaps g1 and g2. After the liquid draining step by depressurization (S17), the object to be cleaned 10 is immersed in the rinsing liquid 131 whose liquid quality is controlled while maintaining the pressure in the second rinsing tank 130b.

次に、第2のすすぎ洗浄槽130bに貯留したすすぎ液131によるすすぎ洗浄を実施する(S18)。   Next, rinsing with the rinsing liquid 131 stored in the second rinsing bath 130b is performed (S18).

すすぎ液131中に被洗浄物10を浸漬させた後、第2のすすぎ洗浄槽130b内の圧力を大気圧に戻す。そして、超音波洗浄機133を動作させて被洗浄物10をすすぎ洗浄する。   After the object to be cleaned 10 is immersed in the rinsing liquid 131, the pressure in the second rinse cleaning tank 130b is returned to atmospheric pressure. Then, the object to be cleaned 10 is rinsed and cleaned by operating the ultrasonic cleaner 133.

次に、第2のすすぎ洗浄槽130bにおいて減圧による液切りを実施する(S19)。   Next, liquid drainage by depressurization is performed in the second rinse cleaning tank 130b (S19).

被洗浄物10は、すすぎ洗浄した後、第2の保持空間135に引き上げる。そして、被洗浄物10の周辺雰囲気を圧力調整部Pにより減圧して各隙間部g1、g2から洗浄液111やすすぎ液131を排出させる。なお、第2のすすぎ洗浄槽130bにおいて、減圧による液切り、減圧下におけるすすぎ液131への被洗浄物10の浸漬、および大気圧下におけるすすぎ洗浄は、複数回繰り返して実施することが可能である。   The object to be cleaned 10 is rinsed and then pulled up to the second holding space 135. Then, the atmosphere around the object to be cleaned 10 is depressurized by the pressure adjusting unit P, and the cleaning liquid 111 and the rinsing liquid 131 are discharged from the gaps g1 and g2. In the second rinsing bath 130b, draining by depressurization, immersing the article to be cleaned 10 in the rinsing liquid 131 under reduced pressure, and rinsing cleaning under atmospheric pressure can be repeated a plurality of times. is there.

次に、仕上げ洗浄槽140において減圧による液切りを実施する(S20)。   Next, liquid drainage by depressurization is performed in the finish cleaning tank 140 (S20).

第2のすすぎ洗浄槽130によりすすぎ洗浄された被洗浄物10を仕上げ洗浄槽140の第3の保持空間145に配置する。そして、被洗浄物10の周辺雰囲気を圧力調整部Pにより減圧して、各隙間部g1、g2内に残留したすすぎ液131を排出させる。   The article 10 to be cleaned rinsed by the second rinse cleaning tank 130 is disposed in the third holding space 145 of the finish cleaning tank 140. Then, the atmosphere around the object to be cleaned 10 is depressurized by the pressure adjusting unit P, and the rinsing liquid 131 remaining in the gaps g1 and g2 is discharged.

減圧による液切り工程(S20)の後、仕上げ洗浄槽140内を減圧した状態に維持して、被洗浄物10を置換液141中に浸漬させる。   After the liquid draining step by depressurization (S20), the object to be cleaned 10 is immersed in the replacement liquid 141 while maintaining the pressure in the finish cleaning tank 140 reduced.

置換液141に被洗浄物10を浸漬するのに先立って、減圧による液切りを複数回実施しているため、被洗浄物10の各隙間部g1、g2内に残留した洗浄媒体の量が大幅に低減されている。このため、図6Cに示すように、被洗浄物10の各隙間部g1、g2内に十分な量の置換液141を浸入させることができる。また、被洗浄物10の各隙間部g1、g2内を減圧した状態で置換液141に浸漬させているため、各隙間部g1、g2内に置換液141を容易に充満させることができる。   Prior to immersing the object to be cleaned 10 in the replacement liquid 141, the liquid removal by decompression is performed a plurality of times, so that the amount of the cleaning medium remaining in the gaps g1 and g2 of the object to be cleaned 10 is greatly increased. Has been reduced. For this reason, as shown in FIG. 6C, a sufficient amount of the replacement liquid 141 can be infiltrated into the gaps g1 and g2 of the article 10 to be cleaned. Moreover, since each clearance gap part g1, g2 of the to-be-cleaned object 10 is immersed in the substitution liquid 141 in the pressure-reduced state, the substitution liquid 141 can be easily filled in each clearance gap part g1, g2.

次に、仕上げ洗浄槽140に貯留した置換液141により洗浄を実施する(S21)。   Next, cleaning is performed with the replacement liquid 141 stored in the finishing cleaning tank 140 (S21).

仕上げ洗浄槽140内の圧力は、置換液141中に被洗浄物10を浸漬させた後に大気圧に戻す。そして、置換液141中に被洗浄物10を浸漬させた状態で、超音波洗浄機143を動作させて被洗浄物10を洗浄する。   The pressure in the finish cleaning tank 140 is returned to atmospheric pressure after the article to be cleaned 10 is immersed in the replacement liquid 141. Then, the object to be cleaned 10 is cleaned by operating the ultrasonic cleaner 143 while the object to be cleaned 10 is immersed in the replacement liquid 141.

次に、仕上げ洗浄槽140において減圧による液切りを実施する(S22)。   Next, liquid drainage by depressurization is performed in the finish cleaning tank 140 (S22).

被洗浄物10は、置換液141により洗浄した後、第3の保持空間145に引き上げる。そして、被洗浄物10の周辺雰囲気を圧力調整部Pにより減圧して各隙間部g1、g2に僅かに残留したすすぎ液131を排出させる。なお、仕上げ洗浄槽140において、減圧による液切り、減圧下における置換液141への被洗浄物10の浸漬、大気圧下における洗浄を複数回繰り返して実施することが可能である。これらの工程を複数回繰り返して実施することにより、被洗浄物10にすすぎ液131が残留するのをより確実に防止することが可能となる。   The object to be cleaned 10 is washed with the replacement liquid 141 and then pulled up to the third holding space 145. Then, the ambient atmosphere around the object to be cleaned 10 is depressurized by the pressure adjusting unit P, and the rinsing liquid 131 slightly remaining in the gaps g1 and g2 is discharged. In the finish cleaning tank 140, it is possible to repeatedly perform liquid draining by depressurization, immersion of the article to be cleaned 10 in the replacement liquid 141 under reduced pressure, and cleaning under atmospheric pressure a plurality of times. By repeating these steps a plurality of times, it is possible to more reliably prevent the rinsing liquid 131 from remaining on the object 10 to be cleaned.

被洗浄物10からすすぎ液131を除去した後、置換液141から被洗浄物10を引き上げて、第3の保持空間145に配置する。そして、被洗浄物10に付着した置換液141を揮発させて蒸発洗浄を施し、被洗浄物10の表面仕上げを行う。   After removing the rinsing liquid 131 from the object to be cleaned 10, the object to be cleaned 10 is pulled up from the replacement liquid 141 and placed in the third holding space 145. Then, the replacement liquid 141 adhering to the object to be cleaned 10 is volatilized and subjected to evaporative cleaning to finish the surface of the object 10 to be cleaned.

次に、仕上げ洗浄槽140内において被洗浄物10を乾燥させる(S23)。   Next, the article to be cleaned 10 is dried in the finish cleaning tank 140 (S23).

乾燥は、第3の保持空間145に被洗浄物10を配置した状態で、仕上げ洗浄槽140内を減圧して行う。乾燥時の仕上げ洗浄槽140内の圧力は、特に限定されないが、例えば、10kPa程度に設定する。図6Dに示すように、乾燥工程(S23)を実施することにより、被洗浄物10に付着した置換液141が蒸発する。   Drying is performed by depressurizing the interior of the finishing cleaning tank 140 in a state where the object to be cleaned 10 is disposed in the third holding space 145. Although the pressure in the finishing washing tank 140 at the time of drying is not specifically limited, For example, it sets to about 10 kPa. As shown in FIG. 6D, by performing the drying step (S23), the replacement liquid 141 attached to the object to be cleaned 10 evaporates.

例えば、複数の被洗浄物10を洗浄する場合において各被洗浄物10に洗浄媒体が多量に付着した状態で減圧乾燥を実施すると、被洗浄物10自身の熱量のみで洗浄媒体を乾燥させることができないことがある。このような場合、減圧乾燥を実施している最中に、外部の熱源を使用して、被洗浄物10を余分に加熱する必要があるが、加熱を実施すると、製品品質のばらつきなどの問題が生じる虞がある。また、乾燥に要する時間も長くなるため、作業遅延が生じてしまう。これに対して、本実施形態に係る洗浄方法においては、洗浄液111やすすぎ液131といった洗浄媒体を減圧による液切りにより除去して、被洗浄物10の各隙間部g1、g2内に残留する量を大幅に低減することができる。したがって、洗浄媒体の残留による水シミなどの発生を好適に抑制することができる。   For example, in the case where a plurality of objects to be cleaned 10 are cleaned, if the drying under reduced pressure is performed with a large amount of the cleaning medium adhering to each object 10 to be cleaned, the cleaning medium can be dried only by the heat quantity of the object 10 itself. There are things that cannot be done. In such a case, the object to be cleaned 10 needs to be heated excessively using an external heat source during the drying under reduced pressure. However, if heating is performed, problems such as variations in product quality may occur. May occur. In addition, since the time required for drying becomes long, work delay occurs. On the other hand, in the cleaning method according to the present embodiment, the amount of the cleaning medium such as the cleaning liquid 111 and the rinsing liquid 131 is removed by removing the liquid by decompression and remains in the gaps g1 and g2 of the object 10 to be cleaned. Can be greatly reduced. Accordingly, it is possible to suitably suppress the occurrence of water spots due to the remaining cleaning medium.

図7には、対比例に係る洗浄装置400を示し、図8A〜図8Bには、対比例に係る洗浄方法を示す。   FIG. 7 shows a cleaning apparatus 400 according to the proportionality, and FIGS. 8A to 8B show a cleaning method according to the proportionality.

対比例に係る洗浄装置400は、洗浄液111を貯留した洗浄槽410と、すすぎ液131を貯留した複数のすすぎ洗浄槽430a、430b、430cと、エアーブローによる液切りを行う液切り槽440と、置換液141による洗浄を実施する複数の仕上げ洗浄槽450a、450bとを有している。なお、図示省略するが、各槽には、超音波洗浄機が備えられている。   The cleaning apparatus 400 according to the comparative example includes a cleaning tank 410 storing the cleaning liquid 111, a plurality of rinsing cleaning tanks 430a, 430b, and 430c storing the rinsing liquid 131, a liquid draining tank 440 that performs liquid draining by air blow, A plurality of finish cleaning tanks 450a and 450b that perform cleaning with the replacement liquid 141 are provided. In addition, although illustration is abbreviate | omitted, each tank is equipped with the ultrasonic cleaner.

この洗浄装置400は、被洗浄物10に残留した洗浄液110をすすぎ洗浄工程へ持ち込むことが前提となっている。このため、洗浄液110を確実に除去するために、洗浄装置400には3つのすすぎ洗浄槽430a〜430cが備えられている。同様に、被洗浄物10に残留したすすぎ液131を、置換液141による洗浄工程へ持ち込むことが前提となっている。このため、すすぎ液110を確実に除去するために、洗浄装置400には2つの仕上げ洗浄槽450a、450bが備えられている。対比例に係る洗浄装置400においては、すすぎ洗浄槽や仕上げ洗浄槽の増設に伴う設備コストの増加や各洗浄媒体の次工程への持ち込みに伴うランニングコストの増加が問題となる。   The cleaning apparatus 400 is premised on bringing the cleaning liquid 110 remaining on the object to be cleaned 10 into the rinsing process. For this reason, in order to remove the cleaning liquid 110 reliably, the cleaning device 400 is provided with three rinse cleaning tanks 430a to 430c. Similarly, it is assumed that the rinsing liquid 131 remaining on the object to be cleaned 10 is brought into the cleaning process using the replacement liquid 141. Therefore, in order to reliably remove the rinsing liquid 110, the cleaning device 400 is provided with two finish cleaning tanks 450a and 450b. In the cleaning apparatus 400 according to the proportionality, an increase in equipment cost due to the addition of the rinse cleaning tank and the finishing cleaning tank and an increase in running cost due to bringing each cleaning medium into the next process become problems.

また、すすぎ洗浄後には、エアーブローによる液切りを実施しているが、この方法では、被洗浄物10の微小な各隙間部g1、g2内から洗浄媒体を排出させることは難しく、液残りを発生させる虞がある。さらに、ブロー圧により、薄板状の被洗浄物10を変形させてしまうことで製品品質の低下を招いてしまう虞もある。本実施形態に係る洗浄方法では、液切りは、被洗浄物10の各部に局所的に圧力を付与せず、被洗浄物10全体に均一に減圧作用を及ぼして行われるため、エアーブローなどによる液切りを実施することで生じ得る被洗浄物10の変形が発生しない。   Further, after the rinsing cleaning, the liquid is drained by air blow. However, with this method, it is difficult to discharge the cleaning medium from the minute gaps g1 and g2 of the object 10 to be cleaned. There is a risk of generating. Furthermore, there is a possibility that the product quality may be deteriorated by deforming the thin plate-like object 10 to be cleaned by the blow pressure. In the cleaning method according to the present embodiment, the liquid draining is performed by applying a pressure reducing action uniformly to the entire object to be cleaned 10 without locally applying pressure to each part of the object 10 to be cleaned. Deformation of the object to be cleaned 10 that may occur by performing draining does not occur.

また、対比例に係る洗浄方法では、図8Aに示すように各隙間部g1、g2内に洗浄液111が一旦浸入すると、洗浄液111を容易に排出することができないため、各隙間内g1、g2内に洗浄液111が多量に残留することになる。このため、図8Bに示すように、すすぎ洗浄を実施する際に、各隙間部g1、g2内にすすぎ液131を十分に浸入させることができなくなる。そして、図8Cに示すように、置換液141による洗浄を実施する際にも洗浄液111やすすぎ液131が各隙間部g1、g2内に多量に残留することとなる。その結果、図8Dに示すように、置換液141により洗浄液111やすすぎ液131を洗浄することができず、被洗浄物10に水シミを発生させてしまう。   Further, in the comparative cleaning method, as shown in FIG. 8A, once the cleaning liquid 111 enters the gaps g1 and g2, the cleaning liquid 111 cannot be easily discharged. Therefore, a large amount of the cleaning liquid 111 remains. For this reason, as shown in FIG. 8B, when the rinsing cleaning is performed, the rinsing liquid 131 cannot sufficiently enter the gaps g1 and g2. As shown in FIG. 8C, the cleaning liquid 111 and the rinsing liquid 131 remain in the gaps g1 and g2 in a large amount even when the cleaning with the replacement liquid 141 is performed. As a result, as shown in FIG. 8D, the cleaning liquid 111 and the rinsing liquid 131 cannot be cleaned with the replacement liquid 141, and water stains are generated on the object 10 to be cleaned.

以上、本実施形態に係る被洗浄物10の洗浄方法によれば、置換液141による洗浄工程の実施に先立って、洗浄液111やすすぎ液131などの洗浄媒体から被洗浄物10を取り出した状態で被洗浄物10の周辺雰囲気を減圧することにより、被洗浄物10の各隙間部g1、g2内に残留した洗浄媒体を各隙間部g1、g2から押し出して排出することを可能にする。このため、洗浄媒体が持ち出されることによるランニングコストの増加や水シミの発生、洗浄媒体の除去に伴って発生し得る被洗浄物10の変形といった問題の発生を未然に防止することができる。   As described above, according to the method for cleaning the object to be cleaned 10 according to the present embodiment, the object to be cleaned 10 is taken out from the cleaning medium such as the cleaning liquid 111 and the rinsing liquid 131 prior to performing the cleaning process with the replacement liquid 141. By reducing the atmosphere around the object to be cleaned 10, the cleaning medium remaining in the gaps g1 and g2 of the object to be cleaned 10 can be pushed out and discharged from the gaps g1 and g2. For this reason, it is possible to prevent problems such as an increase in running cost, generation of water stains, and deformation of the object to be cleaned 10 that may occur when the cleaning medium is removed due to the cleaning medium being taken out.

また、洗浄液111により洗浄する工程の後であって、かつ、すすぎ液131によりすすぎ洗浄する工程の前に、各隙間部g1、g2内に残留した洗浄液111を排出させる工程を行うことにより、すすぎ洗浄工程への洗浄液111の持ち込みによるランニングコストの増加や、洗浄液111をすすぎ液131に混入させることによるすすぎ液131の汚染、すすぎ液131の汚染に伴う洗浄品質の悪化などの発生を好適に防止することができる。   In addition, after the step of cleaning with the cleaning liquid 111 and before the step of rinsing with the rinsing liquid 131, rinsing is performed by discharging the cleaning liquid 111 remaining in the gaps g1 and g2. It is preferable to prevent an increase in running cost due to bringing the cleaning liquid 111 into the cleaning process, contamination of the rinsing liquid 131 by mixing the cleaning liquid 111 into the rinsing liquid 131, and deterioration in cleaning quality due to contamination of the rinsing liquid 131. can do.

また、洗浄液111により洗浄する工程の後に被洗浄物10の温度を調整する工程と、被洗浄物10の温度を調整する工程の後に各隙間部g1、g2内に残留した洗浄液111を排出させる工程とを行うことにより、減圧による液切り工程を実施している最中に被洗浄物10に残留した洗浄液111が揮発して完全に乾燥されてしまうことを防止することができ、洗浄液111の成分残りによる品質の低下が招かれるのを防止できる。これに加えて、洗浄液111中に溶解した空気等の気体の溶存量を増加させることにより、減圧による液切り工程を実施した際の洗浄媒体の排出効率を高めることができる。   Moreover, the process of adjusting the temperature of the to-be-cleaned object 10 after the process of cleaning with the cleaning liquid 111, and the process of discharging the cleaning liquid 111 remaining in the gaps g1 and g2 after the process of adjusting the temperature of the to-be-cleaned object 10 By performing the above, it is possible to prevent the cleaning liquid 111 remaining on the object to be cleaned 10 from being volatilized and completely dried during the liquid draining process by the reduced pressure, and the components of the cleaning liquid 111 It is possible to prevent deterioration of quality due to the rest. In addition to this, by increasing the dissolved amount of gas such as air dissolved in the cleaning liquid 111, it is possible to increase the discharge efficiency of the cleaning medium when the liquid draining step by decompression is performed.

また、すすぎ液131および置換液141への被洗浄物10の浸漬を、各隙間部g1、g2内を減圧した状態で行うことにより、各隙間部g1、g2内へすすぎ液131や置換液141を勢いよく浸入させることができ、各隙間部g1、g2内にすすぎ液131や置換液141を容易に充満させることができる。   In addition, the object 10 to be cleaned is immersed in the rinsing liquid 131 and the substitution liquid 141 in a state where the gaps g1 and g2 are decompressed, whereby the rinsing liquid 131 and the substitution liquid 141 are introduced into the gaps g1 and g2. The rinsing liquid 131 and the replacement liquid 141 can be easily filled in the gaps g1 and g2.

また、燃料電池に用いられるセパレータ積層体のような微細な隙間部g1、g2を備える被洗浄物10の洗浄を好適に実施することができる。   Moreover, the to-be-washed | cleaned material 10 provided with the fine clearance gaps g1 and g2 like the separator laminated body used for a fuel cell can be implemented suitably.

また、置換液141による洗浄工程の実施に先立って、被洗浄物10の各隙間部g1、g2内に残留した洗浄媒体を各隙間部g1、g2から押し出して排出することを可能にし、洗浄媒体が持ち出されることによるランニングコストの増加や水シミの発生、洗浄媒体の除去に伴って発生し得る被洗浄物10の変形といった問題の発生を未然に防止することが可能な洗浄装置100を提供することができる。   Further, prior to performing the cleaning process with the replacement liquid 141, the cleaning medium remaining in the gaps g1 and g2 of the article to be cleaned 10 can be pushed out and discharged from the gaps g1 and g2. Provided is a cleaning apparatus 100 capable of preventing problems such as an increase in running cost, water stains, and deformation of an object 10 that may occur due to removal of a cleaning medium. be able to.

また、洗浄装置100が、洗浄槽110により洗浄された後の被洗浄物10の温度を調整するための温度調整槽120を有することにより、減圧による液切り工程を実施している最中に被洗浄物10に残留した洗浄液111が揮発して完全に乾燥されてしまうことを防止でき、洗浄液111の成分残りによる品質の低下が招かれるのを防止できる。さらに、洗浄液111中に溶解した空気等の気体の溶存量を増加させることにより、減圧による液切り工程を実施した際の洗浄媒体の排出効率を高めることができる。   In addition, since the cleaning apparatus 100 includes the temperature adjustment tank 120 for adjusting the temperature of the object 10 after being cleaned by the cleaning tank 110, the cleaning apparatus 100 is subjected to the liquid draining process during the decompression process. It is possible to prevent the cleaning liquid 111 remaining on the cleaning object 10 from being volatilized and completely dried, and to prevent the quality from being deteriorated due to the remaining components of the cleaning liquid 111. Furthermore, by increasing the dissolved amount of gas such as air dissolved in the cleaning liquid 111, it is possible to increase the discharge efficiency of the cleaning medium when the liquid draining process by decompression is performed.

<変形例>
次に、上述した実施形態に係る洗浄装置100の変形例を説明する。変形例の説明においては、既に説明した構成と同一の構成については同一の符号を付して説明を省略する。
<Modification>
Next, a modified example of the cleaning apparatus 100 according to the above-described embodiment will be described. In the description of the modification, the same components as those already described are denoted by the same reference numerals and the description thereof is omitted.

図9に示すように、変形例に係る洗浄装置200は、第1のすすぎ洗浄槽130aと第2のすすぎ洗浄槽130bとの間を気密に連通する第1の連通路251と、第2のすすぎ洗浄槽130bと仕上げ洗浄槽140との間を気密に連通する第2の連通路252とを有している点において、前述した洗浄装置100と相違する。   As shown in FIG. 9, the cleaning device 200 according to the modification includes a first communication path 251 that hermetically communicates between the first rinse cleaning tank 130 a and the second rinse cleaning tank 130 b, and the second The cleaning apparatus 100 is different from the above-described cleaning apparatus 100 in that it has a second communication passage 252 that communicates between the rinse cleaning tank 130b and the finish cleaning tank 140 in an airtight manner.

第1のすすぎ洗浄槽130a、第2のすすぎ洗浄槽130b、および仕上げ洗浄槽140は、所定の減圧炉250内に配置している。減圧炉250内に形成した各連通路251、252は、それぞれの保持空間135、145の一部を構成している。各連通路251、252を介してそれぞれの保持空間135、145同士を連通している。なお、各連通路251、252には、それぞれの槽130a、130b、140を気密な状態で隔離する開閉可能なシャッター261、262が備えられている。   The first rinsing bath 130a, the second rinsing bath 130b, and the finish washing bath 140 are arranged in a predetermined vacuum furnace 250. The communication paths 251 and 252 formed in the decompression furnace 250 constitute a part of the holding spaces 135 and 145, respectively. The holding spaces 135 and 145 communicate with each other through the communication paths 251 and 252. Each communication path 251 and 252 is provided with openable and closable shutters 261 and 262 for isolating the tanks 130a, 130b, and 140 in an airtight state.

変形例に係る洗浄装置200を使用した洗浄方法においては、第1のすすぎ洗浄槽130aから第2のすすぎ洗浄槽130bへ被洗浄物10を搬送する間、および、第2のすすぎ洗浄槽130bから仕上げ洗浄槽140へ被洗浄物10を搬送する間に、被洗浄物10の周辺雰囲気を減圧した状態に維持することができる。例えば、第1のすすぎ洗浄槽130aにおいてすすぎ洗浄した後に、減圧による液切りを実施し、シャッター261を開いて、第2のすすぎ洗浄槽130b側へ被洗浄物10を移動させると、第2のすすぎ洗浄槽130b内の圧力を減圧することなく、そのまま減圧による液切りを実施することが可能となる。つまり、被洗浄物10を第2のすすぎ洗浄槽130bへ移動させている最中に液切りを行うことが可能となるため、個別の槽内へ移動させてその都度液切りを実施する場合に比べて、作業性を向上させることができる。第2のすすぎ洗浄槽130bから仕上げ洗浄槽140へ被洗浄物10を搬送する場合にも、同様に液切りを実施することができる。このため、変形例に係る洗浄装置200を使用した洗浄方法では、前述した洗浄装置100による洗浄方法で実施されていた各槽内での液切り工程(S17、S20)の実施を省略することが可能となる。なお、減圧した状態で各槽130a、130b、140間を移動させることができるため、減圧状態で浸漬を行う際に要する手間を省くことも可能となる。   In the cleaning method using the cleaning device 200 according to the modified example, the object 10 to be cleaned is transported from the first rinse cleaning tank 130a to the second rinse cleaning tank 130b, and from the second rinse cleaning tank 130b. While the object to be cleaned 10 is conveyed to the finish cleaning tank 140, the ambient atmosphere of the object to be cleaned 10 can be maintained in a reduced pressure state. For example, after rinsing and washing in the first rinsing tank 130a, draining by decompression is performed, the shutter 261 is opened, and the object to be cleaned 10 is moved to the second rinsing tank 130b side. Without reducing the pressure in the rinsing washing tank 130b, it becomes possible to perform liquid draining by reducing the pressure as it is. In other words, since it is possible to drain the liquid while the article to be cleaned 10 is being moved to the second rinsing tank 130b, the liquid is drained each time it is moved into an individual tank. Compared with this, workability can be improved. In the case where the article to be cleaned 10 is transported from the second rinse cleaning tank 130b to the finishing cleaning tank 140, liquid draining can be similarly performed. For this reason, in the cleaning method using the cleaning device 200 according to the modification, the implementation of the liquid draining step (S17, S20) in each tank, which has been performed by the cleaning method by the cleaning device 100 described above, may be omitted. It becomes possible. In addition, since it can move between each tank 130a, 130b, 140 in the pressure-reduced state, it also becomes possible to save the effort required when performing immersion in a pressure-reduced state.

以上、実施形態を通じて本発明に係る洗浄方法および洗浄装置を説明したが、本発明は各実施形態において説明した構成のみに限定されることはなく、特許請求の範囲の記載に基づいて適宜変更することが可能である。   As mentioned above, although the cleaning method and the cleaning apparatus according to the present invention have been described through the embodiments, the present invention is not limited only to the configuration described in each embodiment, and may be appropriately changed based on the description of the claims. It is possible.

例えば、減圧による液切りを行う工程は、洗浄液による洗浄を実施した後であって、かつ、置換液による洗浄を実施する前であればよく、実施するタイミングや回数は特に限定されず、適宜変更することが可能である。   For example, the step of performing liquid drainage by decompression may be performed after the cleaning with the cleaning liquid and before the cleaning with the replacement liquid, and the timing and number of times to perform are not particularly limited and may be changed as appropriate. Is possible.

また、例えば、すすぎ洗浄を二つのすすぎ洗浄槽を使用して実施する形態を示したが、すすぎ洗浄槽は少なくとも一つの槽を利用して実施されていればよい。すすぎ洗浄槽の個数が限定されないのは、変形例に係る洗浄装置においても同様である。   In addition, for example, although the embodiment in which the rinsing cleaning is performed using two rinsing cleaning tanks has been shown, the rinsing cleaning tank only needs to be performed using at least one tank. The number of rinsing baths is not limited, as is the case with the cleaning device according to the modification.

また、例えば、洗浄対象となる被洗浄物は、各洗浄媒体が浸入し得る隙間を備える薄板状のものであれば特に限定されず、例えば、複雑な形状が付された各種の金属製ワークや回路基板等のようなものであってもよい。   In addition, for example, the object to be cleaned is not particularly limited as long as the object to be cleaned is a thin plate having a gap into which each cleaning medium can enter, for example, various metal workpieces with complicated shapes, It may be a circuit board or the like.

10 被洗浄物(セパレータ積層体)、
11 アノード側セパレータ、
12 カソード側セパレータ、
14 冷却水流路(流路部)、
18 接合部、
19 突き合わせ部、
100 洗浄装置、
110 洗浄槽、
111 洗浄液(洗浄媒体)、
114 第1の貯留部、
115 第1の保持空間、
120 温度調整槽、
121 冷却水、
130a 第1のすすぎ洗浄槽(すすぎ洗浄槽)、
130b 第2のすすぎ洗浄槽(すすぎ洗浄槽)、
131 すすぎ液(洗浄媒体)、
134 第2の貯留部、
135 第2の保持空間、
140 仕上げ洗浄槽、
141 置換液、
144 第3の貯留部、
145 第3の保持空間、
250 減圧炉、
251 第1の連通路、
252 第2の連通路、
a 空気、
s スペース、
g1、g2 隙間、
P 圧力調整部。
10 Object to be cleaned (separator laminate),
11 Anode-side separator,
12 Cathode side separator,
14 Cooling water channel (channel part),
18 joints,
19 Butting part,
100 cleaning equipment,
110 Cleaning tank,
111 cleaning liquid (cleaning medium),
114 first reservoir,
115 first holding space;
120 temperature control tank,
121 cooling water,
130a 1st rinse washing tank (rinse washing tank),
130b 2nd rinse washing tank (rinse washing tank),
131 Rinse solution (cleaning medium),
134 second reservoir,
135 second holding space,
140 finish washing tank,
141 substitution solution,
144 third reservoir,
145 third holding space,
250 vacuum furnace,
251 1st communication path,
252 second communication path,
a air,
s space,
g1, g2 gap,
P Pressure adjustment unit.

Claims (8)

隙間部を備える薄板状の被洗浄物を洗浄する洗浄方法であって、
前記被洗浄物を洗浄媒体としての洗浄液に浸漬させて、前記洗浄液により洗浄する工程と、
前記被洗浄物を洗浄媒体としてのすすぎ液に浸漬させて、前記すすぎ液によりすすぎ洗浄する工程と、
前記被洗浄物を、揮発性を備える置換液に浸漬させて、前記置換液により洗浄する工程と、
前記洗浄液により前記被洗浄物を洗浄する工程の後であって、かつ、前記置換液により前記被洗浄物を洗浄する工程の前に、前記被洗浄物を前記洗浄媒体から取り出した状態で前記被洗浄物の隙間部に連通する周辺雰囲気を減圧することにより前記隙間部内に残留した前記洗浄媒体を排出させる工程と、を有する被洗浄物の洗浄方法。
A cleaning method for cleaning a thin plate-like object having a gap,
Immersing the object to be cleaned in a cleaning liquid as a cleaning medium, and cleaning with the cleaning liquid;
Immersing the article to be cleaned in a rinsing liquid as a cleaning medium, and rinsing with the rinsing liquid;
Immersing the article to be cleaned in a substitution liquid having volatility and washing with the substitution liquid;
After the step of cleaning the object to be cleaned with the cleaning liquid and before the step of cleaning the object to be cleaned with the replacement liquid, the object to be cleaned is taken out from the cleaning medium in a state of being removed from the cleaning medium. And a step of discharging the cleaning medium remaining in the gap portion by depressurizing the ambient atmosphere communicating with the gap portion of the cleaning object.
前記洗浄媒体を排出させる工程は、
前記洗浄液により洗浄する工程の後であって、かつ、前記すすぎ液によりすすぎ洗浄する工程の前に、前記隙間部内に残留した前記洗浄媒体としての前記洗浄液を排出させる工程を有する、請求項1に記載の被洗浄物の洗浄方法。
The step of discharging the cleaning medium includes
The method according to claim 1, further comprising a step of discharging the cleaning liquid as the cleaning medium remaining in the gap after the step of cleaning with the cleaning liquid and before the step of rinsing with the rinse liquid. The washing | cleaning method of the to-be-washed object of description.
前記洗浄液により洗浄する工程の後に前記被洗浄物の温度を調整する工程と、
前記被洗浄物の温度を調整する工程の後に前記隙間部内に残留した前記洗浄液を排出させる工程と、を有する請求項2に記載の被洗浄物の洗浄方法。
Adjusting the temperature of the object to be cleaned after the step of cleaning with the cleaning liquid;
The method for cleaning an object to be cleaned according to claim 2, further comprising a step of discharging the cleaning liquid remaining in the gap after the step of adjusting the temperature of the object to be cleaned.
前記すすぎ液および/または前記置換液への前記被洗浄物の浸漬は、前記隙間部内を減圧した状態で行う、請求項1〜3のいずれか1項に記載の被洗浄物の洗浄方法。   The method for cleaning an object to be cleaned according to any one of claims 1 to 3, wherein the object to be cleaned is immersed in the rinse liquid and / or the replacement liquid in a state where the inside of the gap is decompressed. 前記被洗浄物は、一対の燃料電池用のセパレータを互いに突き合わせて配置し、各セパレータの間に流体が流通可能な流路部を形成した状態で相互に接合して形成したセパレータ積層体である、請求項1〜4のいずれか1項に記載の被洗浄物の洗浄方法。   The object to be cleaned is a separator laminated body in which a pair of fuel cell separators are arranged to face each other and are joined to each other in a state in which a flow path portion through which a fluid can flow is formed between the separators. The washing | cleaning method of the to-be-washed | cleaned object of any one of Claims 1-4. 隙間部を備える薄板状の被洗浄物を洗浄する洗浄装置であって、
洗浄媒体としての洗浄液を貯留する第1の貯留部、および前記洗浄液から前記被洗浄物を離隔して保持する第1の保持空間を備える洗浄槽と、
洗浄媒体としてのすすぎ液を貯留する第2の貯留部、および前記すすぎ液から前記被洗浄物を離隔して保持する第2の保持空間を備えるすすぎ洗浄槽と、
前記被洗浄物を洗浄するための揮発性を備える置換液を貯留する第3の貯留部、および前記置換液から前記被洗浄物を離隔して保持する第3の保持空間を備える仕上げ洗浄槽と、
前記被洗浄物が、前記第1の保持空間、前記第2の保持空間、および前記第3の保持空間のいずれかの保持空間において保持された状態で、前記被洗浄物の隙間部に連通する周辺雰囲気を減圧することにより前記隙間部内に残留した前記洗浄媒体を排出させる圧力調整部と、を有する被洗浄物の洗浄装置。
A cleaning device for cleaning a thin plate-like object having a gap,
A first storage section that stores a cleaning liquid as a cleaning medium, and a cleaning tank that includes a first holding space that holds the object to be cleaned away from the cleaning liquid;
A rinsing tank having a second storage section for storing a rinsing liquid as a cleaning medium, and a second holding space for separating and holding the object to be cleaned from the rinsing liquid;
A third cleaning section for storing a volatile replacement liquid for cleaning the object to be cleaned, and a finish cleaning tank including a third holding space for holding the object to be cleaned away from the replacement liquid; ,
The object to be cleaned communicates with a gap portion of the object to be cleaned in a state where the object to be cleaned is held in any one of the first holding space, the second holding space, and the third holding space. An apparatus for cleaning an object to be cleaned, comprising: a pressure adjusting unit that discharges the cleaning medium remaining in the gap by depressurizing a surrounding atmosphere.
前記洗浄槽により洗浄された後の前記被洗浄物の温度を調整するための温度調整槽をさらに有する請求項6に記載の被洗浄物の洗浄装置。   The apparatus for cleaning an object to be cleaned according to claim 6, further comprising a temperature adjusting tank for adjusting the temperature of the object to be cleaned after being cleaned by the cleaning tank. 前記すすぎ洗浄槽および前記仕上げ洗浄槽の間を気密に連通する連通路をさらに有する、請求項6または請求項7に記載の被洗浄物の洗浄装置。   The apparatus for cleaning an object to be cleaned according to claim 6 or 7, further comprising a communication passage that airtightly communicates between the rinse cleaning tank and the finish cleaning tank.
JP2016520867A 2014-05-21 2014-05-21 Cleaning method for cleaning object and cleaning device for cleaning object Active JP6288255B2 (en)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
PCT/JP2014/063509 WO2015177893A1 (en) 2014-05-21 2014-05-21 Washing method for object to be washed and washing apparatus for object to be washed

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPWO2015177893A1 true JPWO2015177893A1 (en) 2017-04-20
JP6288255B2 JP6288255B2 (en) 2018-03-07

Family

ID=54553589

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2016520867A Active JP6288255B2 (en) 2014-05-21 2014-05-21 Cleaning method for cleaning object and cleaning device for cleaning object

Country Status (2)

Country Link
JP (1) JP6288255B2 (en)
WO (1) WO2015177893A1 (en)

Citations (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH05212360A (en) * 1992-02-03 1993-08-24 Hitachi Plant Eng & Constr Co Ltd Method and apparatus for vacuum washing
JPH0567380U (en) * 1992-02-14 1993-09-07 株式会社北村製作所 Cleaning equipment
JPH06101080A (en) * 1992-09-24 1994-04-12 Seiko Epson Corp Method for cleaning work and device therefor
JPH0810727A (en) * 1994-06-30 1996-01-16 Suzuki Motor Corp Rinsing and drying method and device therefor
JPH08158080A (en) * 1994-11-29 1996-06-18 Dowa Mining Co Ltd Cleaning work of metal or the like and device therefor
JPH10189527A (en) * 1996-12-20 1998-07-21 Fujitsu Ltd Method and apparatus for manufacturing method of semiconductor device
JP2002225041A (en) * 2001-02-07 2002-08-14 Bridgestone Corp Method and apparatus for washing porous mold
JP2006294335A (en) * 2005-04-07 2006-10-26 Honda Motor Co Ltd Fuel cell, manufacturing method of fuel cell, and separator for fuel cell

Patent Citations (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH05212360A (en) * 1992-02-03 1993-08-24 Hitachi Plant Eng & Constr Co Ltd Method and apparatus for vacuum washing
JPH0567380U (en) * 1992-02-14 1993-09-07 株式会社北村製作所 Cleaning equipment
JPH06101080A (en) * 1992-09-24 1994-04-12 Seiko Epson Corp Method for cleaning work and device therefor
JPH0810727A (en) * 1994-06-30 1996-01-16 Suzuki Motor Corp Rinsing and drying method and device therefor
JPH08158080A (en) * 1994-11-29 1996-06-18 Dowa Mining Co Ltd Cleaning work of metal or the like and device therefor
JPH10189527A (en) * 1996-12-20 1998-07-21 Fujitsu Ltd Method and apparatus for manufacturing method of semiconductor device
JP2002225041A (en) * 2001-02-07 2002-08-14 Bridgestone Corp Method and apparatus for washing porous mold
JP2006294335A (en) * 2005-04-07 2006-10-26 Honda Motor Co Ltd Fuel cell, manufacturing method of fuel cell, and separator for fuel cell

Also Published As

Publication number Publication date
WO2015177893A1 (en) 2015-11-26
JP6288255B2 (en) 2018-03-07

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP5293459B2 (en) Substrate processing equipment
JP6216188B2 (en) Substrate drying apparatus and substrate drying method
JP5494146B2 (en) Substrate processing apparatus, substrate processing method, and storage medium
KR102656997B1 (en) Method of removing particles of substrate processing apparatus, and substrate processing apparatus
KR20110117699A (en) Substrate washing method
TWI714876B (en) Substrate processing device, substrate processing method, and control method of substrate processing device
JP2020096058A (en) Substrate processing device and process liquid concentration method
CN108242392B (en) Substrate, processing method, processing device, processing system, control device and manufacturing method of substrate
US11538664B2 (en) Plasma treatment apparatus and method
KR101753166B1 (en) Apparatus and method for drying mask at reduced pressure condition
JP6288255B2 (en) Cleaning method for cleaning object and cleaning device for cleaning object
JP7362300B2 (en) Substrate processing equipment and its control method
JP2008091498A (en) Substrate processor and substrate processing method
JP5095242B2 (en) Plasma processing method
JP2023512730A (en) Electrodes, their uses, batteries, and processes for making electrodes
JP2007258512A (en) Device and method for processing substrate
JP2009010256A (en) Substrate drying device and its method
JP2013198835A (en) Coating device and coating film forming system
JP4286336B2 (en) Cleaning device and cleaning method
JP2020043127A (en) Substrate processing method, substrate processing apparatus, and combined processing apparatus
JP4541422B2 (en) Substrate processing apparatus and substrate processing method
JP2002066475A (en) Substrate washing apparatus
JP6124255B2 (en) Reflow device
JP2013149666A (en) Substrate processing apparatus and substrate processing method
JP7312235B2 (en) Organic film forming apparatus and cleaning method for organic film forming apparatus

Legal Events

Date Code Title Description
A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20170620

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20170720

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20180109

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20180122

R151 Written notification of patent or utility model registration

Ref document number: 6288255

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R151