JPWO2014185369A1 - Ink jet head and method of manufacturing ink jet head - Google Patents
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Abstract
インクジェットヘッドの歩留まりをより向上させる。インクジェットヘッド1は、下方にインクが吐出されるノズルNと、ノズルNから吐出されるインクが収容される圧力室21と、圧力室21の上面に当接するよう設けられて圧力室21内のインクに対してノズルNからインクを吐出するための圧力を加えるアクチュエーター60と、を有するヘッド基板Bと、圧力室21に供給されるインクを供給する供給部とヘッド基板Bとの間に設けられて供給部から圧力室21に連通する導通路51が形成された配線基板50と、配線基板50に形成されたバンプ91を有し、配線基板50の配線52とアクチュエーター60とを電気的に接続する接続部90と、を備える。The yield of the ink jet head is further improved. The ink-jet head 1 is provided so as to abut on the nozzle N from which ink is ejected downward, the pressure chamber 21 in which ink ejected from the nozzle N is stored, and the upper surface of the pressure chamber 21, and the ink in the pressure chamber 21. An actuator 60 that applies pressure to eject ink from the nozzles N, and a head substrate B provided between the head substrate B and a supply unit that supplies ink supplied to the pressure chamber 21. The wiring board 50 having a conduction path 51 communicating with the pressure chamber 21 from the supply unit and the bump 91 formed on the wiring board 50 are provided, and the wiring 52 of the wiring board 50 and the actuator 60 are electrically connected. A connection unit 90.
Description
本発明は、インクジェットヘッド及びインクジェットヘッドの製造方法に関する。 The present invention relates to an inkjet head and a method for manufacturing the inkjet head.
インクジェットヘッドは、インクを吐出する複数のノズル、各ノズルからのインクの吐出に係る圧力を加えるための複数の圧力室、各圧力室にインクを供給するための流路等を備える。インクジェットヘッドが備えるこれらの構成を、インクの吐出方向(例えば、上下方向)に直交する平面(例えば、水平面)に沿って配置すると、ノズルどうしの間隔が大きくなってしまい、吐出されるインクの密度を上げることができなくなる。そこで、各ノズルの上方に圧力室を設けると共に、各圧力室にインクを供給する共通流路を圧力室のさらに上方に積層することで高密度化を図ったインクジェットヘッドが知られている(例えば、特許文献1)。かかるインクジェットヘッドでは、圧力室の壁面に外側から当接したアクチュエーターが動作することで圧力室内に圧力を加えてノズルからインクを吐出させる。 The inkjet head includes a plurality of nozzles that eject ink, a plurality of pressure chambers for applying pressure related to the ejection of ink from each nozzle, a flow path for supplying ink to each pressure chamber, and the like. If these configurations of the inkjet head are arranged along a plane (for example, a horizontal plane) orthogonal to the ink ejection direction (for example, the vertical direction), the interval between the nozzles becomes large, and the density of the ejected ink Cannot be raised. Therefore, an ink jet head is known in which a pressure chamber is provided above each nozzle and a high density is achieved by stacking a common flow path for supplying ink to each pressure chamber further above the pressure chamber (for example, Patent Document 1). In such an ink jet head, an actuator that is in contact with the wall surface of the pressure chamber from the outside operates to apply pressure to the pressure chamber and eject ink from the nozzles.
インクジェットヘッドのアクチュエーターに電気信号を伝達する配線基板は、アクチュエーターと別個に設けられることから、インクジェットヘッドの組み立て時に配線基板とアクチュエーターとを接続する必要がある。ここで、インクジェットヘッドは、上記のように、ノズル、圧力室、共通流路が積層されていることから、配線基板は、圧力室と共通流路との間でアクチュエーターと接続される。 Since the wiring board that transmits an electrical signal to the actuator of the inkjet head is provided separately from the actuator, it is necessary to connect the wiring board and the actuator when the inkjet head is assembled. Here, as described above, since the nozzle, the pressure chamber, and the common channel are stacked in the ink jet head, the wiring board is connected to the actuator between the pressure chamber and the common channel.
図9は、従来のインクジェットヘッドのノズル付近の構成を示す断面図である。
図9に示すように、圧力室201の上面に設けられた振動板202の外側から当接するアクチュエーター203と、アクチュエーター203の上方に配設された配線基板204の配線204aとは、アクチュエーター203の電極203a上に形成されたバンプ205と、配線基板204側に形成されたはんだ206を介して電気的に接続されている。FIG. 9 is a cross-sectional view showing a configuration in the vicinity of a nozzle of a conventional inkjet head.
As shown in FIG. 9, the
しかしながら、バンプ205の形成時の熱や振動により、アクチュエーター203が破損してしまうことがあった。このため、アクチュエーター203の破損によるインクジェットヘッドの歩留まりの低下が避けられなかった。
However, the
本発明は、歩留まりがより向上したインクジェットヘッド及びインクジェットヘッドの製造方法を提供することを目的とする。 An object of the present invention is to provide an ink jet head and a method for manufacturing the ink jet head with improved yield.
請求項1に記載の発明によるインクジェットヘッドは、所定の方向にインクが吐出されるノズルと、前記インクが収容される圧力室と、前記圧力室の前記所定の方向の反対側の一面に当接するよう設けられたアクチュエーターと、を有するヘッド基板と、前記ヘッド基板と前記圧力室に供給されるインクの供給部との間に設けられて前記供給部から前記圧力室に連通するインクの導通路が形成された配線基板と、前記配線基板に形成されたバンプを有し、前記配線基板の配線と前記アクチュエーターとを電気的に接続する接続部と、を備えることを特徴とする。 An ink jet head according to a first aspect of the invention is in contact with a nozzle that ejects ink in a predetermined direction, a pressure chamber in which the ink is stored, and one surface of the pressure chamber opposite to the predetermined direction. An ink conduction path that is provided between the head substrate and the ink supply unit that is supplied to the pressure chamber and communicates from the supply unit to the pressure chamber. A wiring board formed and a bump having a bump formed on the wiring board, and a connection portion for electrically connecting the wiring of the wiring board and the actuator.
請求項2に記載の発明は、請求項1に記載のインクジェットヘッドであって、前記接続部は、バンプに塗布された導電性材料を介して前記配線基板と前記アクチュエーターとを電気的に接続することを特徴とする。 A second aspect of the present invention is the ink jet head according to the first aspect, wherein the connection portion electrically connects the wiring substrate and the actuator via a conductive material applied to a bump. It is characterized by that.
請求項3に記載の発明は、請求項2に記載のインクジェットヘッドであって、前記導電性材料は、導電性を有する接着剤又ははんだのいずれかであることを特徴とする。 A third aspect of the present invention is the ink jet head according to the second aspect, wherein the conductive material is one of a conductive adhesive or solder.
請求項4に記載の発明は、請求項1から3のいずれか一項に記載のインクジェットヘッドであって、前記ヘッド基板は、前記圧力室が形成された圧力室基板を有し、前記インクジェットヘッドは、前記圧力室の前記一面を構成するとともに前記アクチュエーターと当接する振動板と前記配線基板との間に位置するように前記振動板の前記所定の方向側に積層されたスペーサー基板をさらに備え、前記圧力室基板、前記振動板、前記スペーサー基板及び前記配線基板は、各々の熱膨張係数の差が所定値以下であることを特徴とする。 A fourth aspect of the present invention is the ink jet head according to any one of the first to third aspects, wherein the head substrate includes a pressure chamber substrate on which the pressure chamber is formed, and the ink jet head Is further provided with a spacer substrate stacked on the predetermined direction side of the vibration plate so as to be positioned between the vibration substrate that constitutes the one surface of the pressure chamber and is in contact with the actuator, and the wiring substrate, The pressure chamber substrate, the diaphragm, the spacer substrate, and the wiring substrate each have a difference in thermal expansion coefficient that is a predetermined value or less.
請求項5に記載の発明は、請求項4に記載のインクジェットヘッドであって、前記圧力室基板、前記振動板、前記配線基板及び前記スペーサー基板は、熱伝導率が10[W・m−1・K−1]以上の材料からなることを特徴とする。The invention according to claim 5 is the ink jet head according to claim 4, wherein the pressure chamber substrate, the vibration plate, the wiring substrate, and the spacer substrate have a thermal conductivity of 10 [W · m −1. -It consists of material more than K <-1 >], It is characterized by the above-mentioned.
請求項6に記載の発明は、請求項4又は5に記載のインクジェットヘッドであって、前記圧力室基板、前記振動板、前記配線基板の材料は、シリコンであり、前記スペーサー基板の材料は、42アロイであることを特徴とする。 The invention according to claim 6 is the ink jet head according to claim 4 or 5, wherein the material of the pressure chamber substrate, the diaphragm, and the wiring substrate is silicon, and the material of the spacer substrate is It is 42 alloys.
請求項7に記載の発明は、請求項4から6のいずれか一項に記載のインクジェットヘッドであって、前記スペーサー基板の厚みが50[μm]以上200[μm]以下であることを特徴とする。 The invention according to claim 7 is the ink-jet head according to any one of claims 4 to 6, wherein the spacer substrate has a thickness of 50 [μm] or more and 200 [μm] or less. To do.
請求項8に記載の発明は、請求項4から7のいずれか一項に記載のインクジェットヘッドであって、前記スペーサー基板には、前記圧力室に連通するインクの導通路が設けられ、少なくとも当該インクの導通路に表面処理が施されていることを特徴とする。 The invention according to claim 8 is the ink jet head according to any one of claims 4 to 7, wherein the spacer substrate is provided with an ink conduction path communicating with the pressure chamber, The ink conduction path is surface-treated.
請求項9に記載の発明は、請求項4から8のいずれか一項に記載のインクジェットヘッドであって、前記ヘッド基板は、前記ノズルが形成されたノズル基板をさらに有し、前記ノズル基板の材料は、シリコンであることを特徴とする。 The invention according to claim 9 is the ink jet head according to any one of claims 4 to 8, wherein the head substrate further includes a nozzle substrate on which the nozzle is formed, The material is characterized by being silicon.
請求項10に記載の発明は、請求項9に記載のインクジェットヘッドであって、前記ノズルは、前記ノズル基板に対するドライエッチングにより形成されることを特徴とする。 A tenth aspect of the present invention is the ink jet head according to the ninth aspect, wherein the nozzle is formed by dry etching with respect to the nozzle substrate.
請求項11に記載の発明によるインクジェットヘッドの製造方法は、請求項1から10のいずれか一項に記載のインクジェットヘッドの製造方法であって、前記配線基板に設けられた配線に前記バンプを形成する工程と、前記バンプを介して前記配線と前記アクチュエーターとを電気的に接続する工程と、を有することを特徴とする。 An ink jet head manufacturing method according to an eleventh aspect of the present invention is the ink jet head manufacturing method according to any one of the first to tenth aspects, wherein the bumps are formed on the wiring provided on the wiring substrate. And a step of electrically connecting the wiring and the actuator via the bump.
本発明によれば、インクジェットヘッドの歩留まりをより向上させることができる。 According to the present invention, the yield of the inkjet head can be further improved.
以下に、本発明の実施形態について図面を用いて説明する。ただし、以下に述べる実施形態には、本発明を実施するために技術的に好ましい種々の限定が付されているが、発明の範囲を以下の実施形態及び図示例に限定するものではない。 Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings. However, although various technically preferable limitations for implementing the present invention are given to the embodiments described below, the scope of the invention is not limited to the following embodiments and illustrated examples.
図1は、本発明に係るインクジェットヘッド1の斜視図である。
図1に示すように、インクジェットヘッド1は、平面に沿って設けられた複数のノズルNを備える。
以下、複数のノズルNが設けられた平面をX−Y平面とし、当該平面に沿う方向であって、互いに直交する方向をそれぞれX方向、Y方向とする。また、X−Y平面に直交する方向をZ方向とする。FIG. 1 is a perspective view of an inkjet head 1 according to the present invention.
As shown in FIG. 1, the inkjet head 1 includes a plurality of nozzles N provided along a plane.
Hereinafter, a plane provided with a plurality of nozzles N is defined as an XY plane, and directions along the plane and orthogonal to each other are defined as an X direction and a Y direction, respectively. A direction orthogonal to the XY plane is taken as a Z direction.
図2は、X−Y平面における複数のノズルNの配置例を示す図である。
図2に示すように、インクジェットヘッド1には、例えば、Y方向に沿って設けられた複数のノズルNによるノズル列が、X方向に複数列設けられている。
なお、図2では、多数存するノズルNのうち、最左に存するノズル列のノズルNについて符号を付し、他のノズルNの符号を省略している。FIG. 2 is a diagram illustrating an arrangement example of the plurality of nozzles N in the XY plane.
As shown in FIG. 2, the inkjet head 1 is provided with, for example, a plurality of nozzle rows in the X direction by a plurality of nozzles N provided along the Y direction.
In FIG. 2, among the many nozzles N, the nozzles in the leftmost nozzle row are denoted by reference numerals, and the other nozzles N are omitted.
図3は、インクジェットヘッド1の断面図である。なお、図3では、便宜上、複数のノズルNのうち、四つのノズルNについて図示している。
図3に示すように、複数のノズルNは、ノズル基板10に形成されている。
また、ノズル基板10のうち、複数のノズルNからインクが吐出される方向の反対側には、Z方向に沿って、複数の基板等が積層されている。具体的には、例えば、ノズル基板10に近い側から、圧力室基板20、振動板30、スペーサー基板40、配線基板50が積層されている。
以下、便宜上、ノズル基板10、圧力室基板20、振動板30、スペーサー基板40及び配線基板50が積層された複数の基板からなる構造体を積層体Aと記載する。また、Z方向に沿う方向のうち、ノズル基板10を基準として、インクが吐出される所定の方向を下方と記載し、その反対方向を上方と記載する。FIG. 3 is a cross-sectional view of the inkjet head 1. In FIG. 3, for convenience, four nozzles N among the plurality of nozzles N are illustrated.
As shown in FIG. 3, the plurality of nozzles N are formed on the
Further, on the opposite side of the
Hereinafter, for convenience, a structure including a plurality of substrates in which the
図4は、図3に示す断面図のうち、一つのノズルNに係る構成の拡大図である。
図3、図4に示すように、圧力室基板20には、ノズルNに連通する圧力室21が形成されている。
また、振動板30は、圧力室21の上方に設けられており、圧力室21の一面(上面)を構成する。即ち、振動板30は、圧力室21に対して、インクが吐出される所定の方向(下方)の反対側(上方)に設けられている。また、振動板30の上面には、アクチュエーター60が設けられている。ここで、アクチュエーター60は、振動板30に当接している。FIG. 4 is an enlarged view of a configuration related to one nozzle N in the cross-sectional view shown in FIG.
As shown in FIGS. 3 and 4, a
The
また、振動板30、スペーサー基板40及び配線基板50には、圧力室21に連通する導通路31、41、51が設けられている。導通路31、41、51により形成されるインクの流路は、圧力室21と、配線基板50の上方に設けられた共通流路70とを接続する。
The
共通流路70は、例えば、配線基板50の上方に立設する筐体80内に設けられて、図示しないインクの供給機構に接続されている。当該インクの供給機構から共通流路70に供給されたインクは、共通流路70、導通路51、41、31を通って圧力室21に供給される。圧力室21に供給されたインクは、アクチュエーター60の動作に応じて振動板30が振動することで圧力室21内のインクに圧力を加えることで、ノズルNから吐出される。
ここで、共通流路70は、圧力室21に供給されるインクの供給部として機能する。圧力室21には、ノズルNから吐出されるインクが収容される。また、アクチュエーター60は、ノズルNからインクを吐出するための圧力を圧力室21に加える。
以下、積層体Aのうち、ノズルNが形成されたノズル基板10、圧力室21が形成されている圧力室基板20と、圧力室21の上面を構成する振動板30及びアクチュエーター60から構成される構造体をヘッド基板Bとする。ここで、配線基板50には、圧力室21に供給されるインクの供給部(共通流路70)とヘッド基板Bとの間に設けられて供給部から圧力室21に連通するインクの導通路(導通路51)が形成されている。The
Here, the
Hereinafter, the laminated body A includes the
アクチュエーター60は、配線基板50に設けられた配線52と電気的に接続されている。
具体的には、アクチュエーター60は、例えば、X−Y平面に沿う上面及び下面を有する方形状の圧電素子である。アクチュエーター60は、その上面に第1電極61が設けられている。また、アクチュエーター60は、その下面に第2電極62が設けられている。The
Specifically, the
第1電極61は、図4に示すように、接続部90を介して、配線基板50の下面側に設けられた配線52と電気的に接続されている。接続部90は、第1電極61と配線52とをZ方向に沿って接続するよう設けられている。
接続部90は、配線基板50に形成されたバンプ91を有する。
具体的には、バンプ91は、例えば、金を材料としたワイヤーボンディングにより形成される。また、バンプ91は、例えば、配線52の下面に形成される。配線52は、例えば、少なくとも下面が平坦な面となるよう設けられた導電性を有する金属(例えば、アルミニウム)製の板により構成されている。
また、バンプ91の下端側には導電性材料92が塗布されている。具体的には、導電性材料92は、例えば、導電性接着材である。導電性接着剤とは、導電性を有する金属粉末(例えば、銀粉等)が混入された接着剤であり、導電性を有する。
このように、接続部90は、配線基板50に形成されたバンプ91とバンプ91に塗布された導電性材料92を介して配線基板50とアクチュエーター60とを電気的に接続する。As shown in FIG. 4, the
The
Specifically, the
A
As described above, the
図5A〜図5Cは、接続部90の形成の工程を示す図である。
まず、図5Aに示すように、配線基板50が単独で用意される。即ち、積層体Aのうち、スペーサー基板40以下の基板は、まだ配線基板50に接合されていない。
次に、金を材料としたワイヤーボンディングにより、図5Bに示すように、バンプ91が形成される。
次に、図示しないアプリケーターを用いた導電性材料92の塗布により、図5Cに示すように、バンプ91の下端側に導電性材料92が塗布される。
なお、図5A〜図5Cは、一つの接続部90の形成に係る記載であるが、実際には、インクジェットヘッド1が有する複数のノズルNの各々に対応する複数の配線52の各々の下面に対して、バンプ91の形成及び導電性材料92の塗布を一括して行うことができる。5A to 5C are diagrams illustrating a process of forming the
First, as shown in FIG. 5A, the
Next, bumps 91 are formed by wire bonding using gold as shown in FIG. 5B.
Next, as shown in FIG. 5C, the
5A to 5C are descriptions relating to the formation of one
配線基板50は、例えば、配線基板50の基部である板状のインターポーザー53と、インターポーザー53の上面、下面をそれぞれ被覆する絶縁層54、55と、絶縁層54、インターポーザー53及び絶縁層55を貫通する貫通孔に設けられた貫通電極56と、絶縁層54の上面に設けられて貫通電極56の上側の端部と電気的に接続された配線57と、配線57の上面及び配線57が設けられていない絶縁層54の上面を被覆する絶縁層58と、絶縁層55の下面に設けられて貫通電極56の下側の端部と電気的に接続された配線52と、配線52のうちバンプ91が形成されない部分の下面及び絶縁層55のうち配線52が設けられていない下面を被覆する絶縁層59と、絶縁層58、絶縁層54、インターポーザー53、絶縁層55及び絶縁層59を貫通する導通路51と、を有する。
配線52は、貫通電極56、配線57を介して、アクチュエーター60への電圧の印加に係る図示しない制御部に接続されている。The
The
また、第2電極62は、振動板30に当接している。振動板30は、導電体であり、第2電極62と制御部とを電気的に接続する電極として機能している。具体的には、第2電極62は、例えば、振動板30及び振動板30に接続された図示しない配線を介して制御部に接続されている。
圧電素子は、第1電極61が、接続部90、配線52、貫通電極56、配線57を介して制御部に接続されるとともに、第2電極62が、振動板30及び図示しない配線を介して制御部に接続されることで、制御部の制御下で、アクチュエーター60として動作する。Further, the
In the piezoelectric element, the
スペーサー基板40は、振動板30と配線基板50との間で、アクチュエーター60及び接続部90のZ方向に沿った幅に対応したスペースを確保する。
具体的には、スペーサー基板40は、振動板30の上面側におけるアクチュエーター60の配設位置に応じた開口部42を有する。開口部42は、スペーサー基板40をZ方向に貫通している。The
Specifically, the
図6A〜図6Cは、振動板30とスペーサー基板40との接合例に係る説明図である。
図6Aに示すように、スペーサー基板40が用意される。また、図6Bに示すように、ヘッド基板Bが用意される。ここで、振動板30の上面には、アクチュエーター60が設けられている。
そして、図6Cに示すように、スペーサー基板40の開口部42の位置にアクチュエーター60が位置するように、スペーサー基板40と振動板30とが接合されて、ヘッド基板Bとスペーサー基板40との接合体が形成される。6A to 6C are explanatory views according to a joining example of the
As shown in FIG. 6A, a
6C, the
その後、図6Cに示すヘッド基板Bとスペーサー基板40との接合体と、図5Aに示す接続部90が形成された配線基板50とが加熱接着されることで、積層体Aが形成されるとともに、接続部90を介してアクチュエーター60と配線基板50の配線52とが電気的に接続される。
ここで、スペーサー基板40の厚みは、 アクチュエーター60及び接続部90のZ方向に沿った幅に対応する。具体的には、スペーサー基板40の厚みは、アクチュエーター60のZ方向の幅と、接続部90のZ方向の幅との和に対応する。より具体的には、スペーサー基板40の厚みは、例えば、50[μm]以上200[μm]以下である。このように、スペーサー基板40をより薄く設けることで、スペーサー基板40の熱膨張の度合いを最低限に抑えることができることから、基板どうしの熱膨張係数の差による基板の反りや基板間の剥離による問題の発生をより確実に防止することができる。After that, the joined body of the head substrate B and the
Here, the thickness of the
また、スペーサー基板40の厚みは、共通流路70と圧力室21との間の導通路41の長さに影響を与える。ここで、導通路41は、より短いほうが、導通路41内を通過するインクに対する流路抵抗を小さくすることができる。よって、アクチュエーター60及び接続部90のZ方向に沿った幅をより小さくすることで、スペーサー基板40の厚みをより薄くすることができることから、インクに対する流路抵抗をより小さくすることができる。
Further, the thickness of the
また、スペーサー基板40には、スペーサー基板40と配線基板50とを接着する接着剤が開口部42側に入り込まないようにするための構造(グルーガード)や、空気を逃がすための構造(エアー逃がし)が設けられている。
具体的には、スペーサー基板40は、例えば、図7A及び図7Bに示すように、Y方向に沿って設けられた開口部42により形成された開口部42の列の両端に、Y方向に沿う直線状のパターン43が形成されている。パターン43が、グルーガード及び空気逃がしとして機能する。
より具体的には、スペーサー基板40には、開口部42を形成するために、両面にフォトリソグラフィが施される。ここで、片方の面(上面)にのみ、パターン43を形成することで、当該面に線状のザグリが形成される。In addition, the
Specifically, for example, as shown in FIGS. 7A and 7B, the
More specifically, the
図7A及び図7Bに示すように、開口部42の列を形成する複数の開口部42のうち、Y方向に沿って隣接する開口部42どうしは連続している。そして、開口部42の列の両端に位置する開口部42から連続するように、パターン43が形成されている。これにより、図6Cに示すヘッド基板Bとスペーサー基板40との接合体と、図5Aに示す接続部90が形成された配線基板50とが加熱接着される際に、加熱されることで体積が増加する開口部42内の空気をパターン43から逃がすことができる。即ち、パターン43は、エアー逃がしとして機能する。また、スペーサー基板40と配線基板50との間を接着するための接着剤は、図7Bに示すスペーサー基板40の上板面の枠部分に当接することになるが、ここで、接着剤に余剰があると、余剰の接着剤は行き場を求めて上板面に沿って移動することとなる。ここで、パターン43が存在するので、余剰の接着剤はパターン43に入り込み、開口部42に進入することがない。即ち、パターン43は、グルーガードとして機能する。
なお、図7では、多数存する開口部42、パターン43及びアクチュエーター60のうち、最左に存する四つについて符号を付し、残りの同一構成の符号を省略している。As shown in FIGS. 7A and 7B, among the plurality of
In FIG. 7, among the many existing
圧力室基板20、振動板30、配線基板50及びスペーサー基板40は、各々の熱膨張係数の差が所定値以下である。ここで、「各々の熱膨張係数の差が所定値以下である」とは、圧力室基板20、振動板30、配線基板50及びスペーサー基板40の各々の熱膨張係数の差が、各々の基板の反りによる問題が発生しない範囲であることをさす。
具体的には、圧力室基板20、振動板30、配線基板50の材料は、シリコン(Si)である。また、スペーサー基板40の材料は、42アロイである。
より具体的には、圧力室基板20及び振動板30は全体がシリコンで形成されている。配線基板50は、インターポーザー53がシリコンで形成されている。インターポーザー53は、配線基板50の構成の大部分を占める構成であることから、インターポーザー53がシリコンで形成されていることで、配線基板50の熱膨張係数を、圧力室基板20や振動板30と略同一とすることができる。
また、スペーサー基板40の材料である42アロイは、重量パーセントでニッケルが42[%]、鉄が57[%]で、残りが微量の添加物質(例えば、銅、マンガン等)からなる合金である。The
Specifically, the material of the
More specifically, the
Further, 42 alloy which is a material of the
ここで、シリコンの熱膨張係数は、2.5×10^−6[1/℃]〜4.0×10^−6[1/℃]である。また、42アロイの熱膨張係数は、4.5×10^−6[1/℃]〜6.0×10^−6[1/℃]である。このように、シリコンの熱膨張係数及び42アロイの熱膨張係数はともに、極めて小さい。また、シリコンの熱膨張係数と42アロイの熱膨張係数の差は、0.5×10^−6[1/℃]〜3.5×10^−6[1/℃]である。言い換えれば、シリコンの熱膨張係数と42アロイの熱膨張係数の差は、3.5×10^−6[1/℃]以下であるので、所定値は、3.5×10^−6[1/℃]である。このように、シリコンの熱膨張係数及び42アロイの熱膨張係数は、略同一である。このため、積層体Aの形成に際して行われる各基板に対する加熱等による温度変化や、インクジェットヘッド1の動作に伴う発熱による温度変化等、各種の要因による温度変化が各基板に生じたとしても、各基板の熱膨張の度合いが極めて小さく、また、略同一となることから、基板どうしの熱膨張係数の差による基板の反りや基板間の剥離による問題の発生を防止することができる。即ち、基板の反りによるノズルNからのインクの吐出角度の変化を防止することができる。また、基板間の剥離部分からインクが漏れ出すこともなくなる。このように、本実施形態のインクジェットヘッド1によれば、インクジェットヘッド1の信頼性をより向上させることができる。 Here, the thermal expansion coefficient of silicon is 2.5 × 10 ^ −6 [1 / ° C.] to 4.0 × 10 ^ −6 [1 / ° C.]. The thermal expansion coefficient of 42 alloy is 4.5 × 10 ^ -6 [1 / ° C.] to 6.0 × 10 ^ -6 [1 / ° C.]. Thus, both the thermal expansion coefficient of silicon and the thermal expansion coefficient of 42 alloy are extremely small. Moreover, the difference between the thermal expansion coefficient of silicon and the thermal expansion coefficient of 42 alloy is 0.5 × 10 ^ −6 [1 / ° C.] to 3.5 × 10 ^ −6 [1 / ° C.]. In other words, the difference between the thermal expansion coefficient of silicon and the thermal expansion coefficient of 42 alloy is 3.5 × 10 ^ −6 [1 / ° C.] or less, so the predetermined value is 3.5 × 10 ^ -6 [ 1 / ° C.]. Thus, the thermal expansion coefficient of silicon and the thermal expansion coefficient of 42 alloy are substantially the same. For this reason, even if a temperature change due to various factors such as a temperature change due to heating or the like performed on each substrate performed in the formation of the laminate A, or a temperature change due to heat generated by the operation of the inkjet head 1 occurs in each substrate, Since the degree of thermal expansion of the substrates is extremely small and substantially the same, it is possible to prevent the occurrence of problems due to the warpage of the substrates due to the difference in the thermal expansion coefficient between the substrates and the separation between the substrates. That is, it is possible to prevent a change in the ink discharge angle from the nozzle N due to the warp of the substrate. Further, ink does not leak from the peeled portion between the substrates. Thus, according to the inkjet head 1 of this embodiment, the reliability of the inkjet head 1 can be improved more.
また、圧力室基板20、振動板30、配線基板50及びスペーサー基板40の各々の材料は、例えば、各々の熱膨張係数の差によって生じうる基板の反りを原因とする基板間の剥離によって、インクジェットヘッド1内の電気的接続(例えば、接続部90等)が切断されてしまうことがない範囲で決定される。
一例として、スペーサー基板40が、本実施形態で想定される最大の厚み(200[μm])を有する場合において、インクジェットヘッド1が常温(例えば、25[℃]前後)から80[℃]となるまで加熱された場合に、基板間の引き剥がしの度合いが0.16[μm]以下であれば問題ない。かかる引き剥がしの度合いを実現するために基板の材料に求められる条件は、熱膨張係数10×10^−6[1/℃]以下であることとなる。
なお、上記は、スペーサー基板40が、本実施形態で想定される最大の厚み(200[μm])を有する場合の例であり、スペーサー基板40がより薄い場合には、当然、スペーサー基板40の熱膨張の度合いが小さくなることから、熱膨張係数の上限はより緩和されることとなる。このように、材料に求められる熱膨張係数は、具体的な構成に応じて適宜変更されうるが、10×10^−6[1/℃]以下であればよいと考えられる。シリコン及び42アロイは、ともに、10×10^−6[1/℃]を下回る熱膨張係数を示す材料である。In addition, each material of the
As an example, when the
The above is an example in the case where the
また、ノズル基板10の材料は、シリコンである。
ノズル基板10がシリコンであることで、ノズル基板10の熱膨張係数が、圧力室基板20、振動板30、配線基板50及びスペーサー基板40の熱膨張係数と略同一となる。よって、ノズル基板10と圧力室基板20との間の引き剥がしによる隙間からのインクの漏れ出しを防止することができる等、ノズル基板10の熱膨張係数と他の基板の熱膨張係数との差により生じうる反りによる問題の発生を防止することができる。The material of the
Since the
また、ノズルNは、例えば、ノズル基板10に対するドライエッチングにより形成される。
ドライエッチングによりノズルNを形成することで、ノズルNが形成される位置や径の精度をより高精度にすることができる。即ち、ノズルNから吐出されるインクの量や吐出位置をより高精度に調整されたものとすることができることから、より高精度なインクの吐出を行うことができるインクジェットヘッド1を提供することができる。The nozzle N is formed by dry etching on the
By forming the nozzle N by dry etching, the accuracy of the position and diameter of the nozzle N can be made higher. That is, since the amount of ink ejected from the nozzle N and the ejection position can be adjusted with higher accuracy, it is possible to provide the inkjet head 1 that can eject ink with higher accuracy. it can.
また、圧力室基板20、振動板30、配線基板50及びスペーサー基板40は、熱伝導率が10[W・m−1・K−1]以上の材料からなる。
具体的には、圧力室基板20、振動板30、配線基板50の材料であるシリコンの熱伝導率は、168[W・m−1・K−1]である。また、スペーサー基板40の材料である42アロイの熱伝導率は、15[W・m−1・K−1]である。
このように、圧力室基板20、振動板30、配線基板50及びスペーサー基板40の材料を、熱伝導率が10[W・m−1・K−1]以上のものとすることで、積層体A内の温度分布、特に、面方向の温度分布において、温度を均一にすることができることから、複数のノズルNの温度が均一となり、各ノズルNの温度条件を略同一にすることができる。また、インクジェットヘッド1の複数のノズルNは、各々のノズルNの射出率の差により各々で生じる熱量が異なるが、積層体Aが熱伝導率が10[W・m−1・K−1]以上の材料からなることから、各ノズル間での熱伝達が良好に行われ、各々のノズルNの射出率に関わらず、複数のノズルNの温度が均一となる。よって、各ノズルNの温度差により生じうるインクの射出特性のバラツキをより小さくすることができることから、より高精度なインクの吐出を行うことができる。The
Specifically, the thermal conductivity of silicon that is a material of the
As described above, the material of the
また、スペーサー基板40には、表面処理が施されている。
具体的には、スペーサー基板40には、表面処理として、例えば、ニッケル(Ni)によるメッキ処理が施されている。表面処理は、スペーサー基板40に導通路41や、開口部42等の形状加工が行われた後に施される。
スペーサー基板40は、表面処理により、防錆性や溶剤に対する耐性を得ることができることから、スペーサー基板40の耐久性をより向上させることができる。特に、スペーサー基板40には導通路41が設けられているので、インクに含まれている溶剤等に対する耐性を確保するため、表面処理は有効に機能する。
なお、表面処理は、ニッケル(Ni)によるメッキ処理に限らず、防錆性や溶剤に対する耐性を得られる表面処理であればよい。表面処理の他の具体例として、例えば、TEOS(Tetraethyl orthosilicate)のような珪酸エチルによる膜や、パリレン(登録商標)等のパラキシリレン系ポリマーによる膜をスペーサー基板40の表面に形成するための処理が挙げられる。当該膜を形成するための具体的な処理として、例えば、スパッタリング等の蒸着処理を用いることができる。表面処理に係るこれらの例示はあくまで一例であり、これに限られるものでない。Further, the
Specifically, the
Since the
The surface treatment is not limited to the plating treatment with nickel (Ni), but may be any surface treatment that can obtain rust prevention and resistance to solvents. As another specific example of the surface treatment, for example, a treatment for forming a film made of ethyl silicate such as TEOS (Tetraethyl orthosilicate) or a film made of a paraxylylene polymer such as Parylene (registered trademark) on the surface of the
以上、本実施形態のインクジェットヘッド1によれば、バンプ91が配線基板50に形成されるので、バンプ91の形成に伴う熱や振動によりアクチュエーター60が破損してしまうことがなくなり、インクジェットヘッド1の製造においてインクジェットヘッド1の歩留まりをより向上させることができる。
As described above, according to the inkjet head 1 of the present embodiment, since the
さらに、本実施形態のように、アクチュエーター60が圧電素子である場合、圧電素子の表面には凹凸があることから、仮に、圧電素子側にバンプ91が形成された場合、バンプ91と第1電極61との密着性に問題が生じる場合があるが、本実施形態のインクジェットヘッド1によれば、下面が平坦な面となるよう設けられた配線52の下面側にバンプ91が形成されるので、バンプ91と配線52との良好な密着性を確保することができる。
Further, when the
また、バンプ91に導電性材料92が塗布されるので、導電性材料92によりバンプ91とアクチュエーター60とを導電性材料92で接続することができることから、バンプ91と導電性材料92によりアクチュエーター60と配線基板50とをより良好に接続することができる。
In addition, since the
また、導電性材料92は、導電性を有する接着剤であるので、バンプ91に対して容易に導電性材料92を塗布することができることに加えて、アクチュエーター60への導電性材料92の接着を容易に行うことができることから、アクチュエーター60と配線基板50との接続を含むインクジェットヘッド1の製造に係る工程をより容易なものとすることができる。
In addition, since the
また、圧力室基板20、振動板30、配線基板50及びスペーサー基板40は、各々の熱膨張係数の差が所定値以下であるので、基板の反りによるノズルNからのインクの吐出角度の変化や、基板間の剥離部分からのインクの漏れ出し等、基板どうしの熱膨張係数の差による基板の反りや基板間の剥離による問題の発生を防止することができる。
Further, since the difference in thermal expansion coefficient between the
また、圧力室基板20、振動板30、配線基板50及びスペーサー基板40が、熱伝導率が10[W・m−1・K−1]以上の材料からなるので、インクジェットヘッド1を構成する各基板の温度分布、特に、面方向の温度分布において、温度を均一にすることができることから、複数のノズルNの温度が均一となり、各ノズルNの温度条件を略同一にすることができる。これによって、各ノズルNの温度差により生じうるインクの射出特性のバラツキをより小さくすることができることから、より高精度なインクの吐出を行うことができる。Further, since the
また、圧力室基板20、振動板30、配線基板50の材料は、シリコンであり、スペーサー基板40の材料は、鉄に42[%]のニッケルが配合された合金であるので、一般的に入手可能な材料により、基板どうしの熱膨張係数の差による基板の反りや基板間の剥離による問題の発生を防止することができるより信頼性の高いインクジェットヘッド1を製造することができる。
Further, since the material of the
また、スペーサー基板40の厚みが50[μm]以上200[μm]以下であるので、スペーサー基板40の薄さにより、スペーサー基板40の熱膨張の度合いを最低限に抑えることができることから、基板どうしの熱膨張係数の差による基板の反りや基板間の剥離による問題の発生をより確実に防止することができる。
In addition, since the thickness of the
さらに、本実施形態のように、スペーサー基板40に導通路41が形成されている場合、スペーサー基板40の薄さにより、導通路41をより短くすることができることから、インクに対する流路抵抗をより小さくすることができる。
Furthermore, when the
また、スペーサー基板40に表面処理が施されているので、防錆性や溶剤に対する耐性を得ることができることから、スペーサー基板40の耐久性をより向上させることができる。
Further, since the surface treatment is applied to the
また、ノズル基板10の材料が、シリコンであるので、ノズル基板10の熱膨張係数と他の基板の熱膨張係数との差により生じうる反りによる問題の発生を防止することができる。
Further, since the material of the
また、ノズルNが、ノズル基板10に対するドライエッチングにより形成されるので、ノズルNが形成される位置や径の精度をより高精度にすることができることから、ノズルNから吐出されるインクの量や吐出位置をより高精度に調整されたものとすることができ、より高精度なインクの吐出を行うことができるインクジェットヘッド1を提供することができる。
Further, since the nozzle N is formed by dry etching with respect to the
なお、本発明の実施の形態は、今回開示された実施の形態はすべての点で例示であって制限的なものではないと考えられるべきである。本発明の範囲は上記した説明ではなくて特許請求の範囲によって示され、特許請求の範囲と均等の意味および範囲内でのすべての変更が含まれることが意図される。 The embodiment of the present invention should be considered that the embodiment disclosed this time is illustrative and not restrictive in all respects. The scope of the present invention is defined by the terms of the claims, rather than the description above, and is intended to include any modifications within the scope and meaning equivalent to the terms of the claims.
例えば、上記の実施形態では、導電性材料92として導電性接着剤が用いられているが、一例であってこれに限られるものでない。
例えば、導電性材料92は、はんだでもよい。具体的には、例えば、図5Bに示すようにバンプ91が形成された配線基板50に対して、スクリーン印刷機でクリームはんだを塗布することで、はんだを導電性材料92として用いることができる。この場合、複数のノズルNに対応する複数のバンプ91に対して導電性材料92の塗布を一括して行うことができる。
また、導電性材料92として、他に、銀が60[%]〜70[%]含まれたペースト等を用いることもできる。For example, in the above embodiment, a conductive adhesive is used as the
For example, the
In addition, as the
また、上記の実施形態では、圧力室基板20、振動板30、スペーサー基板40及び配線基板50の各々の熱膨張係数の差が所定値以下であるという条件を満たす材料として、圧力室基板20、振動板30及び配線基板50にシリコンが用いられ、スペーサー基板40に42アロイが用いられているが、一例であってこれに限られるものでない。即ち、当該記載は、現在及び将来において、圧力室基板20、振動板30、スペーサー基板40及び配線基板50の各々の熱膨張係数の差が所定値以下である他の材料を採用することを何ら妨げるものでない。
In the above embodiment, the
また、上記の実施形態では、スペーサー基板40の全体に表面処理が施されているが、一例であってこれに限られるものでない。最低限、スペーサー基板40に設けられた導通路41に表面処理が施されていれば、インクとの接触に係る防錆性や溶剤に対する耐性を確保することができる。
Further, in the above embodiment, the entire surface of the
また、上記の実施形態における積層体Aの構成はあくまで一例であって、これに限られるものでない。
例えば、図8に示すように、ノズル基板10と圧力室基板20との間に、さらに、別の基板(中間基板100)が設けられていてもよい。中間基板100は、例えば、導通路101をノズル基板10と圧力室基板20との間に設ける目的で設けられる。図8に示すように、中間基板100により導通路101を設けることで、インクが通過する経路の径を絞る形状とする等、ノズルNに至るインクの流路の形状をより容易に任意の形状とすることができることから、インクの吐出に係りインクに加えられる運動エネルギーを調整するためのインクの経路の形状の調整をより容易に行うことができる。
なお、図8に示す例の場合、中間基板100も、他の基板との熱膨張係数の差が所定値以下であることが望ましい。具体的には、中間基板100は、例えば、シリコンを材料とすることで、他の基板との熱膨張係数の差を所定値以下とすることができる。Moreover, the structure of the laminated body A in said embodiment is an example to the last, Comprising: It is not restricted to this.
For example, as illustrated in FIG. 8, another substrate (intermediate substrate 100) may be further provided between the
In the case of the example shown in FIG. 8, it is desirable that the difference in thermal expansion coefficient between the
また、上記の実施形態におけるヘッド基板Bは、ノズル基板10、圧力室基板20、振動板30等の複数の基板が積層された構造体であるが、一例であってこれに限られるものでない。ヘッド基板Bは、所定の方向にインクが吐出されるノズルNと、ノズルNから吐出されるインクが収容される圧力室21と、圧力室21の所定の方向の反対側の面に当接するよう設けられたアクチュエーター60と、を有するものであればよい。
The head substrate B in the above embodiment is a structure in which a plurality of substrates such as the
また、上記の実施形態では、圧力室基板20と振動板30とが個別に設けられて積層されているが、一例であってこれに限られるものでない。例えば、圧力室基板20と振動板30とが一体形成されていてもよい。
In the above embodiment, the
本発明は、インクジェットヘッド及びインクジェットヘッドの製造方法に利用することができる。 The present invention can be used in an inkjet head and a method for manufacturing the inkjet head.
1 インクジェットヘッド
10 ノズル基板
20 圧力室基板
21 圧力室
30 振動板
40 スペーサー基板
41、51 導通路
50 配線基板
52 配線
53 インターポーザー
60 アクチュエーター
70 共通流路
90 接続部
91 バンプ
92 導電性材料
A 積層体
B ヘッド基板
N ノズルDESCRIPTION OF SYMBOLS 1
Claims (11)
前記ヘッド基板と前記圧力室に供給されるインクの供給部との間に設けられて前記供給部から前記圧力室に連通するインクの導通路が形成された配線基板と、
前記配線基板に形成されたバンプを有し、前記配線基板の配線と前記アクチュエーターとを電気的に接続する接続部と、
を備えることを特徴とするインクジェットヘッド。A head substrate having a nozzle that ejects ink in a predetermined direction, a pressure chamber in which the ink is accommodated, and an actuator provided to abut one surface of the pressure chamber opposite to the predetermined direction; ,
A wiring board provided between the head substrate and an ink supply unit supplied to the pressure chamber and having an ink conduction path communicating from the supply unit to the pressure chamber;
A bump having a bump formed on the wiring board, and a connection part for electrically connecting the wiring of the wiring board and the actuator;
An ink jet head comprising:
前記インクジェットヘッドは、
前記圧力室の前記一面を構成するとともに前記アクチュエーターと当接する振動板と前記配線基板との間に位置するように前記振動板の前記所定の方向側に積層されたスペーサー基板をさらに備え、
前記圧力室基板、前記振動板、前記スペーサー基板及び前記配線基板は、各々の熱膨張係数の差が所定値以下であることを特徴とする請求項1から3のいずれか一項に記載のインクジェットヘッド。The head substrate has a pressure chamber substrate in which the pressure chamber is formed,
The inkjet head is
Further comprising a spacer substrate that forms the one surface of the pressure chamber and is laminated on the predetermined direction side of the diaphragm so as to be positioned between the diaphragm that contacts the actuator and the wiring board;
The inkjet according to any one of claims 1 to 3, wherein the pressure chamber substrate, the diaphragm, the spacer substrate, and the wiring substrate each have a difference in thermal expansion coefficient that is a predetermined value or less. head.
前記スペーサー基板の材料は、42アロイであることを特徴とする請求項4又は5に記載のインクジェットヘッド。The material of the pressure chamber substrate, the diaphragm, and the wiring substrate is silicon,
6. The ink jet head according to claim 4, wherein a material of the spacer substrate is 42 alloy.
前記ノズル基板の材料は、シリコンであることを特徴とする請求項4から8のいずれか一項に記載のインクジェットヘッド。The head substrate further includes a nozzle substrate on which the nozzle is formed,
The inkjet head according to claim 4, wherein the nozzle substrate is made of silicon.
前記配線基板に前記バンプを形成する工程と、
前記バンプを介して前記配線基板の配線と前記アクチュエーターとを電気的に接続する工程と、を有することを特徴とするインクジェットヘッドの製造方法。It is a manufacturing method of the ink-jet head according to any one of claims 1 to 10,
Forming the bumps on the wiring board;
And a step of electrically connecting the wiring of the wiring board and the actuator via the bumps.
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WO2014185369A1 (en) | 2014-11-20 |
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