JP5341688B2 - Liquid discharge head and manufacturing method thereof - Google Patents

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Description

本発明は、液体を吐出して被記録媒体に記録を行う液体吐出ヘッド、及びその製造方法に関する。   The present invention relates to a liquid discharge head that discharges liquid to perform recording on a recording medium, and a manufacturing method thereof.

液体吐出ヘッド用基板(以下、ヘッド用基板とも称する)を支持基板と接合することで設けられた液体吐出ヘッド(以下、ヘッドとも称する)は、液体吐出装置に搭載され、液体吐出ヘッドの吐出口からインク等の液体を吐出することで被記録媒体に記録動作を行う。   A liquid discharge head (hereinafter also referred to as a head) provided by bonding a liquid discharge head substrate (hereinafter also referred to as a head substrate) to a support substrate is mounted on a liquid discharge device, and the discharge port of the liquid discharge head A recording operation is performed on the recording medium by discharging a liquid such as ink from the recording medium.

このようなヘッド用基板と支持基板との電気的な接続を行うために、シリコン基板の表面から裏面に貫通する貫通電極を設ける構成が、特許文献1に開示されている。特許文献1に開示されるヘッドを図1に示す。貫通電極を有する記録素子基板H1100と、保持基板H1200とが、電気接続部として用いられるエレキバンプH1105を介して電気的に接続することで実装されている。   In order to make such electrical connection between the head substrate and the support substrate, Patent Document 1 discloses a configuration in which a through electrode penetrating from the front surface to the back surface of the silicon substrate is provided. The head disclosed in Patent Document 1 is shown in FIG. The recording element substrate H1100 having a through electrode and the holding substrate H1200 are mounted by being electrically connected via an electric bump H1105 used as an electrical connection portion.

特開2007−326240号公報JP 2007-326240 A

ヘッド用基板は、半導体製造技術を用いてシリコン基板などに複数のヘッド用基板を同時に形成し、切り分けることで設けられる。そのため個々のヘッド用基板のサイズが大きくなると、一枚のシリコン基板から形成できるヘッド用基板の数が減少し、製造コストが増すことになるため、ヘッド用基板の面積を縮小することが求められている。また、液体吐出ヘッドを搭載する液体吐出装置の小型化を達成する観点からも、ヘッド用基板の小型化が求められている。   The head substrate is provided by simultaneously forming and cutting a plurality of head substrates on a silicon substrate or the like using a semiconductor manufacturing technique. For this reason, as the size of each head substrate increases, the number of head substrates that can be formed from a single silicon substrate decreases, resulting in increased manufacturing costs. Therefore, it is required to reduce the area of the head substrate. ing. Also, from the viewpoint of achieving a reduction in the size of a liquid discharge apparatus that mounts a liquid discharge head, there is a demand for downsizing the head substrate.

しかし特許文献1のヘッドの構成では、インクの染み込みを防止するためインク供給口と、エレキバンプH1105との間に一定の距離をとり、エレキバンプH1105の周囲に、インクを遮断する封止剤H1317を設けている。この距離を短くすると、インクが染み込んでエレキバンプH1105が腐食する可能性があるため、距離を短くすることでヘッド基板の面積を縮小することは困難であった。   However, in the configuration of the head of Patent Document 1, a certain distance is provided between the ink supply port and the electric bump H1105 in order to prevent ink penetration, and the sealant H1317 that blocks the ink around the electric bump H1105. Is provided. If this distance is shortened, ink may permeate and the electric bumps H1105 may corrode. Therefore, it is difficult to reduce the area of the head substrate by shortening the distance.

そこで本発明は、液体吐出ヘッド用基板を用いた液体吐出ヘッドにおいて、電気接続部へのインクの染み込み防止と、ヘッド用基板の面積の縮小と、の両立を達成することができる液体吐出ヘッドを提供することを目的としている。   Accordingly, the present invention provides a liquid ejection head that can achieve both the prevention of ink soaking into the electrical connection portion and the reduction of the area of the head substrate in a liquid ejection head using the liquid ejection head substrate. It is intended to provide.

本発明の液体吐出ヘッドは、液体を吐出するために用いられるエネルギーを発生する素子が複数設けられた第一の面と、凹部が設けられた、前記第一の面の反対の面である第二の面と、前記第一の面と前記第二の面との間を貫通した液体の供給口と、を有する基板と、複数の前記素子と電気的に接続され、前記基板の前記第一の面と前記凹部の内側との間を貫通して設けられた複数の電極と、前記複数の電極に共通に電気的に接続され、前記内側に設けられた導電層と、を有する液体吐出ヘッド用基板と、前記液体吐出ヘッド用基板を前記第二の面の側から支持し、前記凹部の内側に設けられた凸部と、該凸部に設けられ前記導電層と電気的に接続された接続部材と、前記供給口と連通し、前記供給口に液体を供給するための開口と、が設けられた支持基板と、を有し、前記凹部の内側から前記第二の面までの前記液体吐出ヘッド用基板と前記支持基板との間に、前記導電層と前記接続部材とを被覆する樹脂からなる部材が設けられていることを特徴とする。   The liquid discharge head according to the present invention includes a first surface provided with a plurality of elements that generate energy used for discharging liquid, and a surface opposite to the first surface provided with a recess. A substrate having a second surface, a liquid supply port penetrating between the first surface and the second surface, and a plurality of the elements electrically connected to the first surface of the substrate. A liquid discharge head having a plurality of electrodes penetrating between the surface of the recess and the inside of the recess, and a conductive layer electrically connected in common to the plurality of electrodes and provided on the inside A substrate for supporting the liquid discharge head and the substrate for the liquid discharge head from the second surface side, and a convex portion provided on the inside of the concave portion, and provided on the convex portion and electrically connected to the conductive layer A connecting member, and an opening that communicates with the supply port and supplies liquid to the supply port. A support substrate, and a resin covering the conductive layer and the connection member between the support substrate and the liquid discharge head substrate from the inside of the recess to the second surface. The member which becomes is characterized by the above-mentioned.

ヘッド用基板に凹部と支持基板に凸部とを設け、凸部に接続部材を設けて電気的接続を行い、凹部と凸部の隙間を封止することで、ヘッド基板を縮小しても接続部材と供給口との距離を、接続部へのインクの染み込みを防止できる距離とすることができる。   Even if the head substrate is reduced, the head substrate is provided with a concave portion and the support substrate is provided with a convex portion, and a connection member is provided on the convex portion for electrical connection, and the gap between the concave portion and the convex portion is sealed. The distance between the member and the supply port can be a distance that can prevent the ink from penetrating into the connection portion.

これにより、接続部材へのインクの染み込みを防止と、液体吐出ヘッド用基板の縮小との両立を達成できる液体吐出ヘッドを提供することができる。   As a result, it is possible to provide a liquid ejection head that can achieve both the prevention of ink soaking into the connection member and the reduction of the liquid ejection head substrate.

従来のヘッドの断面模式図である。It is a cross-sectional schematic diagram of a conventional head. 本発明を用いるヘッドの斜視図である。It is a perspective view of a head using the present invention. 本発明の一例のヘッド用基板の上面図である。It is a top view of the substrate for heads of an example of the present invention. 本発明の一例のヘッド用基板の断面図である。It is sectional drawing of the board | substrate for heads of an example of this invention. 本発明の一例のヘッド用基板の断面図である。It is sectional drawing of the board | substrate for heads of an example of this invention. 実施例1に示すヘッド用基板の製造方法を示す断面図である。6 is a cross-sectional view showing a method for manufacturing the head substrate shown in Example 1. FIG. 実施例1に示す支持基板の製造方法を示す断面図である。FIG. 6 is a cross-sectional view showing a method for manufacturing the support substrate shown in Example 1. 実施例1に示すヘッドの製造方法を示す断面図である。6 is a cross-sectional view illustrating a method for manufacturing the head shown in Embodiment 1. FIG. 実施例2に示す支持基板の製造方法を示す断面図である。6 is a cross-sectional view illustrating a method for manufacturing a support substrate shown in Example 2. FIG.

以下、本発明の実施の形態を図面に基づいて説明する。   Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings.

図2は本発明を用いる、液体記録装置に搭載可能な液体吐出ヘッド40(以下、ヘッドとも称する)の上面図である。液体吐出ヘッド用基板41(以下、ヘッド用基板とも称する)は、支持基板に設けられた端子と接続するフレキシブルフィルム配線基板43により、液体記録装置と接続するコンタクトパッド44に導通している。また、ヘッド用基板41は、支持基板に接合されることでヘッド40に支持されされている。ここでヘッド40は、インクタンクと一体化したヘッドの一例を示しているが、インクタンクと分離した分離型とすることも出来る。   FIG. 2 is a top view of a liquid discharge head 40 (hereinafter also referred to as a head) that can be mounted on a liquid recording apparatus using the present invention. A liquid discharge head substrate 41 (hereinafter also referred to as a head substrate) is electrically connected to a contact pad 44 connected to a liquid recording apparatus by a flexible film wiring substrate 43 connected to a terminal provided on the support substrate. The head substrate 41 is supported by the head 40 by being bonded to the support substrate. Here, the head 40 is an example of a head integrated with an ink tank, but may be a separate type separated from the ink tank.

図3(a)は、1種類のインクを供給するために用いられる複数のインクの供給口10が配列している供給口列を3列有し、3種類のインク(例えばイエロー、マゼンダ、シアン)を使用するヘッドに用いることができるヘッド用基板41を示している。図3(b)は、1種類のインクを供給する複数のインクの供給口10からなる供給口列を1列有し、1種類のインクを用いるヘッド用基板41を示している。   FIG. 3A shows three supply port rows in which a plurality of ink supply ports 10 used for supplying one type of ink are arranged, and three types of ink (for example, yellow, magenta, cyan). 1 shows a head substrate 41 that can be used for a head that uses). FIG. 3B shows a head substrate 41 that has one supply port array composed of a plurality of ink supply ports 10 that supply one type of ink and uses one type of ink.

ヘッド用基板41には、インクを吐出するためのエネルギーを発生させる素子として用いられる発熱素子1と、発熱素子1に電力を供給する個別電力配線36と、複数の発熱素子1に共通に電力を供給する導電層として用いられる電力配線13と、が設けられている。複数の発熱素子1が配列して構成される素子列は、供給口列の両側に、供給口列に沿って設けられている。さらにヘッド用基板41には、発熱素子1を選択する信号を出力するスイッチング素子として用いられる駆動回路11が設けられている。駆動回路11は、素子列に沿って、供給口列とは反対の側に設けられている。   In the head substrate 41, the heating element 1 used as an element that generates energy for ejecting ink, the individual power wiring 36 that supplies power to the heating element 1, and the power common to the plurality of heating elements 1 are provided. Power wiring 13 used as a conductive layer to be supplied is provided. An element array configured by arranging a plurality of heating elements 1 is provided on both sides of the supply port array along the supply port array. Further, the head substrate 41 is provided with a drive circuit 11 used as a switching element that outputs a signal for selecting the heating element 1. The drive circuit 11 is provided on the side opposite to the supply port array along the element array.

図4(a)は図3(a)のA−A’方向の断面模式図の一例であり、供給口列が複数設けられ、隣接する供給口列の間の領域に、複数の発熱素子1と接続する2本の電力配線13を設けた構成を示している。図4(b)は、1つの供給口列を有するヘッドの図3(a)のC−C’方向の断面模式図の一例を示している。   FIG. 4A is an example of a schematic cross-sectional view in the AA ′ direction of FIG. 3A, in which a plurality of supply port arrays are provided, and a plurality of heating elements 1 are provided in a region between adjacent supply port arrays. The structure which provided the two electric power wiring 13 connected to is shown. FIG. 4B shows an example of a schematic cross-sectional view in the C-C ′ direction of FIG. 3A of the head having one supply port array.

ヘッド用基板41に設けられているインクを発熱素子1に供給する複数の供給口10からなる供給口列は、発熱素子1が設けられた基板の第一の面と反対の面である第二の面に設けられた供給口列の第二の凹部8とインク貫通孔9で構成されている。支持基板の開口30から供給口10を通って供給されるインクは、発熱素子1で発生するエネルギーによって、吐出口4から吐出されることで、被記録媒体への記録動作が行われる。吐出口4と吐出口を連通する流路とは、樹脂からなる流路形成部材3で形成されている。発熱素子1の上部には、インクから保護するために保護層12が設けられており、保護層12の上側に流路形成部材3が設けられている。   A supply port array composed of a plurality of supply ports 10 for supplying ink to the heating element 1 provided on the head substrate 41 is a surface opposite to the first surface of the substrate on which the heating element 1 is provided. The second concave portion 8 and the ink through hole 9 of the supply port array provided on the surface of The ink supplied from the opening 30 of the support substrate through the supply port 10 is ejected from the ejection port 4 by the energy generated in the heating element 1, thereby performing a recording operation on the recording medium. The discharge port 4 and the flow path communicating with the discharge port are formed by a flow path forming member 3 made of resin. A protective layer 12 is provided on the top of the heating element 1 to protect it from ink, and a flow path forming member 3 is provided above the protective layer 12.

発熱素子1と接続し、発熱素子1に電流を供給する個別電力配線36は、貫通電極5を介して基板2の第二の面に設けられた第一の凹部7の内側において、共通のGNDH配線やVH配線に用いられる電力配線13と接続している。電力配線13は、素子列に沿って設けられており、1つの電力配線13は、GNDH配線とVH配線のどちらか1方のみと接続されている。GNDH配線とVH配線との両方を第一の凹部7の内側に設ける場合は、2つの電力配線13を設ける必要がある。   The individual power wiring 36 that is connected to the heating element 1 and supplies current to the heating element 1 has a common GNDH inside the first recess 7 provided on the second surface of the substrate 2 through the through electrode 5. It is connected to the power wiring 13 used for wiring and VH wiring. The power wiring 13 is provided along the element row, and one power wiring 13 is connected to only one of the GNDH wiring and the VH wiring. When providing both the GNDH wiring and the VH wiring inside the first recess 7, it is necessary to provide two power wirings 13.

第一の凹部7の内側には、基板の面に垂直な方向に関して基板の厚さが、第二の面と第一の面との厚さより薄くなるような第三の面が設けられている。電力配線13は、接続部材として用いられるバンプ6を介して支持基板20の実装面21より膜厚が厚い凸部22に設けられ、端子として用いられる電気接続端子14と電気的に接続している。さらにバンプ6と電気接続端子14と電力配線13が設けられた第一の凹部7と凸部22との間は、樹脂などからなる部材を封止部材24として用いてバンプ6と電気接続端子14と電力配線13を被覆するように封止されている。   A third surface is provided inside the first recess 7 so that the thickness of the substrate is thinner than the thickness of the second surface and the first surface in the direction perpendicular to the surface of the substrate. . The power wiring 13 is provided on the convex portion 22 having a thickness larger than the mounting surface 21 of the support substrate 20 via the bumps 6 used as connection members, and is electrically connected to the electrical connection terminals 14 used as terminals. . Further, between the first concave portion 7 and the convex portion 22 provided with the bump 6, the electrical connection terminal 14, and the power wiring 13, a member made of resin or the like is used as the sealing member 24 and the bump 6 and the electrical connection terminal 14. And are sealed so as to cover the power wiring 13.

図5は、ヘッドの図3のB−B’方向の断面模式図の一例である。素子列の方向に沿って、複数の発熱素子1其々に設けられた個別電力配線36と接続する複数の貫通電極5が設けられている。複数の貫通電極5は、基板2の凹部7の内側で電力配線13と接続されている。   FIG. 5 is an example of a schematic cross-sectional view of the head in the B-B ′ direction of FIG. 3. A plurality of through-electrodes 5 connected to the individual power wirings 36 provided for each of the plurality of heating elements 1 are provided along the direction of the element rows. The plurality of through electrodes 5 are connected to the power wiring 13 inside the recess 7 of the substrate 2.

図5(a)では、バンプ6が電力配線13と電気接続端子14の全面に設けられている構成を示しているが、電気的接続が可能であれば図5(b)に示すような2つのバンプ6のみを設けることもできる。このように基板の凹部と、支持基板20の凸部で電気的接続を行い、バンプの周囲をアミン硬化型エポキシ樹脂組成物などからなる樹脂からなる部材を封止部材24として用いて被覆して封止を行っている。封止部材24としては1種類の封止材料のみならず複数の材料を用いて封止しても良い。また、封止材料として接着材料を用いることもできる。   FIG. 5A shows a configuration in which the bump 6 is provided on the entire surface of the power wiring 13 and the electrical connection terminal 14. However, if electrical connection is possible, 2 as shown in FIG. Only one bump 6 can be provided. In this way, the concave portion of the substrate and the convex portion of the support substrate 20 are electrically connected, and the periphery of the bump is covered with a member made of a resin made of an amine curable epoxy resin composition or the like as the sealing member 24. Sealing is performed. The sealing member 24 may be sealed using a plurality of materials as well as one kind of sealing material. An adhesive material can also be used as the sealing material.

以上のように、基板の凹部と支持基板20の凸部とで電気的接続を行い、凹部と凸部の隙間を封止することで、ヘッド基板をさらに縮小してもバンプ6と供給口10との距離を、バンプへのインクの染み込みを防止できるの距離とすることができる。   As described above, the recesses of the substrate and the convex portions of the support substrate 20 are electrically connected, and the gaps between the concave portions and the convex portions are sealed. The distance can be a distance that can prevent the ink from penetrating into the bump.

(実施例1)
次に、製造方法を示しながら、本発明の一例について具体的に説明する。本実施例においては、隣接する第一の供給口列と第二の供給口列が設けられている構成を説明する。第一の供給口列と第二の供給口列との間の領域には、第一の供給口列に沿って設けられ、第一の供給口列に対応する第一の素子列と、第二の供給口列に沿って設けられ、第二の供給口に対応する第二の素子列が設けられている。
Example 1
Next, an example of the present invention will be specifically described with reference to a manufacturing method. In the present embodiment, a configuration in which a first supply port row and a second supply port row adjacent to each other are provided will be described. A region between the first supply port row and the second supply port row is provided along the first supply port row, and the first element row corresponding to the first supply port row, A second element row corresponding to the second supply port is provided along the second supply port row.

図6は、図4(a)の断面模式図に係るヘッド用基板41の製造方法である。図7は、本実施例のヘッドの支持基板20の製造方法を示している。図8は、ヘッド用基板41と支持基板20とを実装する製造方法を示している。   FIG. 6 shows a manufacturing method of the head substrate 41 according to the schematic cross-sectional view of FIG. FIG. 7 shows a method for manufacturing the head support substrate 20 of this embodiment. FIG. 8 shows a manufacturing method for mounting the head substrate 41 and the support substrate 20.

厚さ625nmのシリコンを主成分とする基板2(第一の基板)に、エネルギー発生する素子として用いられる発熱素子1と駆動回路11を第一の面に形成した(図6(a))。さらに、発熱素子1と駆動回路11の、基板の面に垂直な方向に関して上側に保護層12を設けた。次に流路形成部材3となるカチオン重合型エポキシ樹脂等を基板2にスピンコート法等を用いて塗布し、フォトリソグラフィ法を用いて露光・現像を行うにより吐出口4を形成した(図6(b))。   A heating element 1 and a driving circuit 11 used as an element for generating energy were formed on a first surface of a substrate 2 (first substrate) containing silicon having a thickness of 625 nm as a main component (FIG. 6A). Further, a protective layer 12 is provided on the upper side of the heating element 1 and the drive circuit 11 in the direction perpendicular to the surface of the substrate. Next, a cationic polymerization type epoxy resin or the like used as the flow path forming member 3 is applied to the substrate 2 by using a spin coat method or the like, and an ejection port 4 is formed by performing exposure and development using a photolithography method (FIG. 6). (B)).

フォトリソグラフィ法を用いて基板2の発熱素子1が設けられた面とは反対側の第二の面に第一の凹部7と第二の凹部8に位置する領域を開口したレジストなどからなるマスクを設けた。さらにこの基板2の一部をテトラメチルアンモニウムヒドロキシド(以下TMAHと示す)をエッチャントとして用いて結晶異方性エッチングを行い、基板2を深さ425μmの第三の面が露出させた。これにより、第一の凹部7と第二の凹部8を設けた。エッチャントとしては、TMAHのほかにKOH、NaOH等の強アルカリ溶液を用いることも出来る。TMAH等の強アルカリのエッチャントに対するシリコンの結晶方位〈111〉面のエッチングレートは、シリコンの結晶方位〈100〉と比較すると著しく遅いことが知られている。そのため第二の面をシリコンの結晶方位〈100〉面とすると、第一の凹部7と第二の凹部8の側面は、〈111〉面となるようにエッチングされ、第二の面に対して約54.7度の角度の傾斜を設けることができる。これにより第一の凹部7と第二の凹部とは、第二の面と連続し、第二の面から第三の面の位置まで設けられた、第一の斜面が設けられた。   A mask made of a resist or the like in which a region located in the first recess 7 and the second recess 8 is opened on the second surface opposite to the surface on which the heating element 1 of the substrate 2 is provided by using a photolithography method. Was provided. Further, a part of the substrate 2 was subjected to crystal anisotropic etching using tetramethylammonium hydroxide (hereinafter referred to as TMAH) as an etchant to expose the third surface having a depth of 425 μm. Thereby, the 1st recessed part 7 and the 2nd recessed part 8 were provided. As the etchant, a strong alkaline solution such as KOH or NaOH can be used in addition to TMAH. It is known that the etching rate of the silicon crystal orientation <111> plane with respect to a strong alkali etchant such as TMAH is significantly slower than the silicon crystal orientation <100>. Therefore, when the second surface is a silicon crystal orientation <100> plane, the side surfaces of the first recess 7 and the second recess 8 are etched so as to be the <111> plane. An inclination of about 54.7 degrees can be provided. Thereby, the 1st recessed part 7 and the 2nd recessed part continued from the 2nd surface, and the 1st slope provided from the 2nd surface to the position of the 3rd surface was provided.

電力配線13を設ける第一の凹部7の基板2の開口幅は1000μmと成るように設け、供給口10の第二の凹部8の基板2の開口幅は800μmと成るように設けた。その後、レジストのマスクを剥離液などを用いて剥離し、図6(c)の基板2を設けた。   The opening width of the substrate 2 in the first recess 7 provided with the power wiring 13 is set to 1000 μm, and the opening width of the substrate 2 in the second recess 8 of the supply port 10 is set to 800 μm. Thereafter, the resist mask was stripped using a stripping solution or the like to provide the substrate 2 in FIG.

次に、貫通電極5を設ける貫通孔を形成するためのマスクをフォトレジスト法等を用いて形成し、基板2をBoschプロセスなどのドライエッチング等を用いて第一の凹部7からシリコン基板のエッチングを行い貫通電極5を設けるための貫通孔を設けた。その後、レジストのマスクを剥離液などを用いて剥離した。   Next, a mask for forming a through hole in which the through electrode 5 is to be formed is formed by using a photoresist method or the like, and the substrate 2 is etched from the first recess 7 by dry etching or the like such as a Bosch process. A through hole for providing the through electrode 5 was provided. Thereafter, the resist mask was stripped using a stripping solution or the like.

次に、貫通電極5と基板2との絶縁性を確保するための絶縁層(不図示)を、酸化シリコンや窒化シリコンや、パリレン等の樹脂をCVD法で全面に成膜した。その後フォトリソグラフィ技術を用いて、貫通孔の設けられた領域以外の領域を開口させ、RIE等の手法により不要な個所の絶縁層を除去した。さらに貫通孔に金属膜を蒸着法により成膜を行い、フォトリソグラフィ技術等を用いてパターニングを行うことにより、個別電力配線36と電気接続が可能な貫通電極5を形成した。貫通電極5は、十分に低抵抗とするために金属膜を蒸着した後に、電解めっき法により電極内部を導電性材料で充填した。これにより、膜厚を厚く設けることが出来、金属膜蒸着のみによる成膜よりも低抵抗の貫通電極5を設ける事が出来た(図6(d))。   Next, an insulating layer (not shown) for ensuring the insulation between the through electrode 5 and the substrate 2 was formed on the entire surface by a CVD method using a resin such as silicon oxide, silicon nitride, or parylene. Thereafter, a region other than the region provided with the through holes was opened by using a photolithography technique, and unnecessary insulating layers were removed by a technique such as RIE. Furthermore, a metal film was formed in the through hole by a vapor deposition method, and patterning was performed using a photolithography technique or the like, thereby forming the through electrode 5 that can be electrically connected to the individual power wiring 36. The through electrode 5 was filled with a conductive material by electrolytic plating after depositing a metal film in order to obtain a sufficiently low resistance. Thereby, it was possible to provide a thick film, and it was possible to provide the through electrode 5 having a lower resistance than the film formation by metal film deposition alone (FIG. 6D).

次に第一の凹部7と第二の凹部8を設けた基板2の面に、拡散防止層(不図示)として高融点金属材料であるチタンタングステンを成膜した。続いて配線層として優れているめっき用導体層(不図示)を真空成膜等により全面成膜を行った。なお、拡散防止層とめっき用導体金層の密着性を向上するために、拡散防止膜の酸化膜除去してから、めっき用導体金属を成膜することが望ましい。   Next, titanium tungsten, which is a refractory metal material, was formed as a diffusion prevention layer (not shown) on the surface of the substrate 2 provided with the first recess 7 and the second recess 8. Subsequently, a plating conductor layer (not shown) excellent as a wiring layer was formed on the entire surface by vacuum film formation or the like. In order to improve the adhesion between the diffusion prevention layer and the plating conductor gold layer, it is desirable to form the plating conductor metal after removing the oxide film from the diffusion prevention film.

さらにめっき用導体の金層の表面に、フォトレジストをスピンコート法、スリットコート法、或いはスプレー塗布法などの方法を用いて全面に塗布した。このとき、所望とする配線の厚さよりも厚くなるようにフォトレジストを塗布した。さらに、配線を形成する部位のめっき用導体の金層を露出するようにフォトレジストを除去するために、フォトリソグラフィ法にてレジスト露光・現像を行い、めっき用の型材となるマスクを形成した。   Further, a photoresist was applied to the entire surface of the gold layer of the plating conductor by a method such as spin coating, slit coating, or spray coating. At this time, a photoresist was applied so as to be thicker than a desired wiring thickness. Furthermore, in order to remove the photoresist so as to expose the gold layer of the plating conductor in the part where the wiring is to be formed, resist exposure and development were performed by a photolithography method to form a mask serving as a mold material for plating.

このマスクを用いて電解めっき法により亜硫酸金塩の電解浴中で、めっき用導体である金に所定の電流を流し、複数の貫通電極5と接続する電力配線13を形成した。その後、レジストのマスクを剥離液などを用いて剥離し、図6(e)のヘッド基板を設けた。   Using this mask, a predetermined current was passed through gold as a plating conductor in an electrolytic bath of gold sulfite by electrolytic plating to form power wirings 13 connected to the plurality of through electrodes 5. Thereafter, the resist mask was stripped using a stripping solution or the like to provide the head substrate of FIG.

その後、Boschプロセスなどのドライエッチング等を用いてシリコン基板2を200μmエッチングし、インク貫通孔9を設け、インク貫通孔9と第二の凹部8からなる供給口10を設けた(図6(f))。   Thereafter, the silicon substrate 2 is etched by 200 μm using dry etching such as Bosch process, the ink through hole 9 is provided, and the supply port 10 including the ink through hole 9 and the second recess 8 is provided (FIG. 6F). )).

本実施例においてはインク貫通孔9と貫通電極5の貫通孔とは別工程で形成を行ったが、同時に形成することも可能である。その際、導電膜となる金属膜を蒸着法によりインク貫通孔9にも成膜し、パターニングを行うことにより、貫通孔にのみ電気接点可能なように形成する。   In the present embodiment, the ink through hole 9 and the through hole of the through electrode 5 are formed in separate steps, but can be formed simultaneously. At that time, a metal film to be a conductive film is also formed on the ink through hole 9 by vapor deposition, and is patterned so as to allow electrical contact only to the through hole.

以上のような工程で複数の基板2一括で形成し、ダイシングソーなどにより切断することで、複数のヘッド用基板を設けた。   A plurality of substrates for heads were provided by forming a plurality of substrates 2 at the same time by the above process and cutting them with a dicing saw or the like.

次にヘッドの支持基板の製造方法を説明する。第一の凹部の深さより薄いシリコンを主成分とする基板(第三の基板)に開口幅約900μmとなるようにレジストマスクを設けた。さらに第一の基板と同様にTMAH等の強アルカリをエッチャントとして用い、凸部用部材となる部分以外の部分を結晶異方性エッチングで除去した。このとき用いる第三の基板の面も、シリコンの結晶方位〈100〉面とすることにより基板の面に対して第一の斜面と同じ約54.7度の傾斜角を有する第二の斜面をもつ凸部用部材を設けることができる。   Next, a method for manufacturing the head support substrate will be described. A resist mask was provided on the substrate (third substrate) whose main component is silicon thinner than the depth of the first recess so as to have an opening width of about 900 μm. Further, similarly to the first substrate, a strong alkali such as TMAH was used as an etchant, and portions other than the portion serving as the convex member were removed by crystal anisotropic etching. The surface of the third substrate used at this time is also the second inclined surface having the same inclination angle of about 54.7 degrees as the first inclined surface with respect to the surface of the substrate by making the crystal orientation <100> plane of silicon. A convex member can be provided.

さらに、インクを供給する開口30を有するアルミナなどからなる基板(第二の基板)の実装面21に、凸部用部材を接着させることで図6(b)に示す凸部22を有する支持基板20を設けた。さらにこの支持基板20の凸部22に電気接続端子14と金などの導電材料からなるバンプ6を設けた。   Further, a support substrate having a convex portion 22 shown in FIG. 6B by bonding a convex portion member to a mounting surface 21 of a substrate (second substrate) made of alumina or the like having an opening 30 for supplying ink. 20 was provided. Furthermore, the bumps 6 made of a conductive material such as gold are provided on the convex portions 22 of the support substrate 20.

次に、図6(f)に示すヘッド用基板41の第一の斜面を有する第一の凹部と、図7(b)に示す支持基板20の第二の斜面を有する凸部22を図8に示すように嵌合した。さらに支持基板20の開口30と、ヘッド用基板41の供給口10とが、一致するように設けた。これによりヘッド用基板41の電力配線13と、支持基板20のバンプ6を電気的に接続させることができ、支持基板20の開口30からヘッド用基板41の供給口にインクを供給することができた。   Next, the first concave portion having the first slope of the head substrate 41 shown in FIG. 6F and the convex portion 22 having the second slope of the support substrate 20 shown in FIG. As shown in FIG. Further, the opening 30 of the support substrate 20 and the supply port 10 of the head substrate 41 are provided so as to coincide with each other. Thereby, the power wiring 13 of the head substrate 41 and the bump 6 of the support substrate 20 can be electrically connected, and ink can be supplied from the opening 30 of the support substrate 20 to the supply port of the head substrate 41. It was.

その後、バンプ6と電気接続端子14と電力配線13が設けられた第一の凹部7と凸部22との間隙に、アミン硬化型エポキシ樹脂組成物からなる樹脂からなる部材の封止部材24を充填し、被覆することで図4(a)に示すように封止した。   Thereafter, a sealing member 24 made of a resin made of an amine curable epoxy resin composition is provided in the gap between the first concave portion 7 and the convex portion 22 provided with the bump 6, the electrical connection terminal 14, and the power wiring 13. Filled and covered to seal as shown in FIG.

以上のように、ヘッド用基板41に第一の凹部7、支持基板20に凸部22を設けてその部分で電気的接続を行い、さらに第一の凹部と凸部との傾斜面を封止部材24で封止した。これによりヘッド基板をさらに縮小してもバンプ6と供給口10との距離を、バンプ6へのインクの染み込みを防止できる距離とすることができた。   As described above, the first concave portion 7 is provided in the head substrate 41 and the convex portion 22 is provided in the support substrate 20, and electrical connection is performed at the portion, and the inclined surface between the first concave portion and the convex portion is sealed Sealed with member 24. Thereby, even if the head substrate is further reduced, the distance between the bump 6 and the supply port 10 can be set to a distance that can prevent the ink from penetrating into the bump 6.

第一の凹部7の第一の斜面とほぼ平行な凸部22の第二の斜面との間を樹脂などからなる封止部材24で封止することにより、確実に被覆させて封止を行うことができ、インクによる腐食をより効果的に防止することができた。これにより、ヘッド基板をさらに縮小しても、バンプ6と電力配線13へのインクの染み込みを防止できる液体吐出ヘッドを提供することが出来た。   The space between the first inclined surface of the first recess 7 and the second inclined surface of the convex portion 22 which is substantially parallel is sealed with a sealing member 24 made of resin or the like, thereby reliably covering and sealing. And corrosion due to ink could be more effectively prevented. As a result, even if the head substrate is further reduced, it is possible to provide a liquid ejection head that can prevent ink from penetrating into the bumps 6 and the power wirings 13.

(実施例2)
本実施例においては、実施例1とは別の支持基板20の製造方法を示す。ヘッド用基板に関しては実施例1の製造方法を用いて設けた。
(Example 2)
In the present embodiment, a method for manufacturing the support substrate 20 different from that in the first embodiment will be described. The head substrate was provided using the manufacturing method of Example 1.

支持基板20は、耐熱性・耐薬品性に優れるポリサルホン樹脂を用いて、素子列と直交する方向の幅を900μmとし、高さ425μmの凸部22と、インクを供給するための開口30とを有するように射出成型を行った(図9(a))。なお、耐熱性・耐薬品性を有する射出成型が可能な樹脂であれば同様に支持基板20として用いることができ、例えばポリエーテルサルホン樹脂、ポリヘニレンエーテル樹脂、ポリフェニレンオキサイド樹脂、ポリプロピレン樹脂等も用いることができる。   The support substrate 20 is made of polysulfone resin having excellent heat resistance and chemical resistance, and has a width of 900 μm in the direction perpendicular to the element array, a height of 425 μm, and an opening 30 for supplying ink. Injection molding was performed so as to have (FIG. 9A). In addition, any resin that can be injection-molded having heat resistance and chemical resistance can be used as the support substrate 20 in the same manner. For example, polyether sulfone resin, polyphenylene ether resin, polyphenylene oxide resin, polypropylene resin, etc. Can also be used.

このとき、凸部22は、ヘッド用基板の第一の凹部7と同じ傾斜角である第二の斜面を有するように設けた。   At this time, the convex portion 22 was provided so as to have a second inclined surface having the same inclination angle as the first concave portion 7 of the head substrate.

次に、支持基板20の凸部22に金などの導電材料からなるバンプ6と、電気接続端子14とを形成した(図9(b))。   Next, bumps 6 made of a conductive material such as gold and electrical connection terminals 14 were formed on the protrusions 22 of the support substrate 20 (FIG. 9B).

このように形成した図6(f)に示すヘッド用基板41と、図9(b)に示す支持基板20を図7に示すように結合させることで、電気的な接続を行った。なお支持基板20の開口30と、ヘッド用基板41の供給口10とは、一致させるように接着させた。これにより、支持基板20からヘッド用基板41にインクを供給することができた。   The head substrate 41 shown in FIG. 6 (f) and the support substrate 20 shown in FIG. 9 (b) were combined as shown in FIG. 7 to make electrical connection. The opening 30 of the support substrate 20 and the supply port 10 of the head substrate 41 were bonded so as to coincide with each other. As a result, the ink could be supplied from the support substrate 20 to the head substrate 41.

その後、さらにバンプ6と電気接続端子14と電力配線13が設けられた第一の凹部7と凸部22との約50μmの間隙に、アミン硬化型エポキシ樹脂組成物からなる封止部材24を充填することで図4(a)に示すように封止した。   Thereafter, a sealing member 24 made of an amine curable epoxy resin composition is filled in a gap of about 50 μm between the first concave portion 7 and the convex portion 22 provided with the bump 6, the electrical connection terminal 14, and the power wiring 13. As a result, sealing was performed as shown in FIG.

以上のように、ヘッド用基板41に第一の凹部7、支持基板20に凸部22を設けてその部分で電気的接続を行い、さらに第一の凹部と凸部との傾斜面を封止部材24で封止した。これによりヘッド基板をさらに縮小してもバンプ6と供給口10との距離を、バンプ6へのインクの染み込みを防止できる距離とすることができた。   As described above, the first concave portion 7 is provided in the head substrate 41 and the convex portion 22 is provided in the support substrate 20, and electrical connection is performed at the portion, and the inclined surface between the first concave portion and the convex portion is sealed. Sealed with member 24. Thereby, even if the head substrate is further reduced, the distance between the bump 6 and the supply port 10 can be set to a distance that can prevent the ink from penetrating into the bump 6.

さらに、支持基板20を第一の凹部に対応するように、樹脂部材で射出成型することにより第一の斜面とほぼ同じ傾斜角度の傾斜面を有すると支持基板20を設けた。このように、第一の凹部7の第一の斜面と、ほぼ平行な凸部22の第二の斜面と、の間を樹脂などからなる封止部材24で封止することで、より確実にバンプ6と電力配線13を被覆して封止することができる。これにより、ヘッド基板をさらに縮小してもインクの染み込みを防止できる液体吐出ヘッドを提供することが出来た。   Further, the support substrate 20 is provided so as to have an inclined surface having substantially the same inclination angle as the first inclined surface by injection molding with a resin member so as to correspond to the first recess. As described above, the gap between the first inclined surface of the first recess 7 and the second inclined surface of the substantially parallel convex portion 22 is sealed with the sealing member 24 made of resin or the like, thereby ensuring more certainty. The bump 6 and the power wiring 13 can be covered and sealed. As a result, it was possible to provide a liquid discharge head capable of preventing ink penetration even when the head substrate is further reduced.

また、本実施例に示すような射出成型技術を用いることにより、実施例1に示すような凸部のエッチング工程やアルミナ基板を接着させる工程を削減することができ、製造コストの削減を行うこともできた。   Further, by using the injection molding technique as shown in the present embodiment, it is possible to reduce the convex etching process and the alumina substrate bonding process as shown in the first embodiment, thereby reducing the manufacturing cost. I was able to.

1 素子
2 基板
5 電極
7 凹部
10 供給口
13 電力配線
14 端子
20 支持基板
22 凸部
24 封止部材
40 液体吐出ヘッド
41 液体吐出ヘッド用基板
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Element 2 Board | substrate 5 Electrode 7 Concave part 10 Supply port 13 Power wiring 14 Terminal 20 Supporting substrate 22 Convex part 24 Sealing member 40 Liquid discharge head 41 Liquid discharge head substrate

Claims (8)

液体を吐出するために用いられるエネルギーを発生する素子が複数設けられた第一の面と、凹部が設けられた、前記第一の面の反対の面である第二の面と、前記第一の面と前記第二の面との間を貫通した液体の供給口と、を有する基板と、複数の前記素子と電気的に接続され、前記基板の前記第一の面と前記凹部の内側との間を貫通して設けられた複数の電極と、前記複数の電極に共通に電気的に接続され、前記内側に設けられた導電層と、を有する液体吐出ヘッド用基板と、
前記液体吐出ヘッド用基板を前記第二の面の側から支持し、前記凹部の内側に設けられた凸部と、該凸部に設けられ前記導電層と電気的に接続された接続部材と、前記供給口と連通し、前記供給口に液体を供給するための開口と、が設けられた支持基板と、
を有し、
前記凹部の内側から前記第二の面までの前記液体吐出ヘッド用基板と前記支持基板との間に、前記導電層と前記接続部材とを被覆する樹脂からなる部材が設けられていることを特徴とする液体吐出ヘッド。
A first surface provided with a plurality of elements for generating energy used for discharging liquid, a second surface opposite to the first surface, provided with a recess, and the first surface A substrate having a liquid supply port penetrating between the first surface and the second surface; and electrically connected to the plurality of elements; and the first surface of the substrate and the inside of the recess A liquid discharge head substrate having a plurality of electrodes penetrating between and a conductive layer commonly connected to the plurality of electrodes and provided on the inside;
Supporting the liquid discharge head substrate from the second surface side, a convex portion provided inside the concave portion, and a connecting member provided on the convex portion and electrically connected to the conductive layer; A support substrate in communication with the supply port, and an opening for supplying a liquid to the supply port;
Have
A member made of a resin that covers the conductive layer and the connection member is provided between the liquid discharge head substrate and the support substrate from the inside of the recess to the second surface. Liquid discharge head.
前記供給口は複数設けられており、前記複数の供給口が配列されることで、前記基板に供給口列が設けられていることを特徴とする請求項1に記載の液体吐出ヘッド。   2. The liquid discharge head according to claim 1, wherein a plurality of the supply ports are provided, and the plurality of supply ports are arranged so that a supply port array is provided on the substrate. 複数の前記素子が配列されることで構成される素子列が前記供給口列を挟むように、前記第一の面の前記供給口の両側に設けられていることを特徴とする請求項2に記載の液体吐出ヘッド。   3. The element row configured by arranging a plurality of the elements is provided on both sides of the supply port of the first surface so as to sandwich the supply port row. The liquid discharge head described. 前記凹部は、前記第二の面と連続し、前記第二の面から前記第一の面と前記第二の面との間の位置まで設けられた第一の斜面を有し、
前記凸部は、前記第一の斜面とほぼ平行な第二の斜面を有し、
前記第一の斜面と前記第二の斜面との間に、前記樹脂からなる部材が設けられていることを特徴とする請求項1乃至請求項3のいずれか1項に記載の液体吐出ヘッド。
The recess has a first slope that is continuous with the second surface and is provided from the second surface to a position between the first surface and the second surface;
The convex portion has a second slope substantially parallel to the first slope,
4. The liquid ejection head according to claim 1, wherein a member made of the resin is provided between the first inclined surface and the second inclined surface. 5.
液体を吐出するために用いられるエネルギーを発生する素子が複数設けられた第一の面と、凹部が設けられた、前記第一の面の反対の面である第二の面と、前記第一の面と前記第二の面との間を貫通した液体の供給口と、を備える第一の基板と、複数の前記素子と電気的に接続され、前記基板の前記第一の面と前記凹部の内側との間を貫通して設けられた複数の電極と、前記複数の電極に共通に電気的に接続され、前記内側に設けられた導電層と、を備えた液体吐出ヘッド用基板を提供する工程と、
前記導電層と電気的に接続できる接続部材が設けられた凸部と、前記供給口に液体を供給するための開口と、を有する支持基板を、前記凸部が前記液体吐出ヘッド用基板の前記内側の位置となり、前記開口と前記供給口とが連通するように、前記支持基板を提供する工程と、
前記導電層と前記接続部材とを電気的に接続させる工程と、
前記凹部の内側から前記第二の面までの前記液体吐出ヘッド用基板と前記支持基板との間に、前記導電層と前記接続部材とを被覆するように、樹脂からなる部材を設ける工程と、
を有することを特徴とする液体吐出ヘッドの製造方法。
A first surface provided with a plurality of elements for generating energy used for discharging liquid, a second surface opposite to the first surface, provided with a recess, and the first surface And a liquid supply port penetrating between the second surface and the second surface; and a plurality of the elements electrically connected to the first surface of the substrate and the recess A liquid discharge head substrate comprising: a plurality of electrodes penetrating between the plurality of electrodes; and a conductive layer electrically connected in common to the plurality of electrodes and provided on the inside. And a process of
A support substrate having a convex portion provided with a connecting member that can be electrically connected to the conductive layer, and an opening for supplying a liquid to the supply port; and the convex portion is the liquid ejection head substrate. Providing the support substrate so that the opening and the supply port communicate with each other at an inner position;
Electrically connecting the conductive layer and the connecting member;
Providing a member made of resin so as to cover the conductive layer and the connection member between the liquid discharge head substrate and the support substrate from the inside of the recess to the second surface;
A method of manufacturing a liquid discharge head, comprising:
前記支持基板を提供する工程は、
前記開口を有する第二の基板を提供する工程と、
前記凸部を形成するための凸部用部材と前記第二の基板とを接着する工程と、
前記凸部に前記接続部材を設ける工程と、
を有することを特徴とする請求項5に記載の液体吐出ヘッドの製造方法。
Providing the support substrate comprises:
Providing a second substrate having the opening;
Adhering the convex part member for forming the convex part and the second substrate;
Providing the connection member on the convex portion;
The method of manufacturing a liquid discharge head according to claim 5, wherein:
前記第一の基板は、シリコンにより形成され、前記凹部は、前記第一の基板の一部を結晶異方性エッチングによって除去することによって得られ、前記凸部用部材は、シリコンの第三の基板を結晶異方性エッチングして前記凸部用部材となる部分以外の部分を除去することによって得られることを特徴とする請求項6に記載の液体吐出ヘッドの製造方法。   The first substrate is formed of silicon, the recess is obtained by removing a part of the first substrate by crystal anisotropic etching, and the convex member is a third of silicon. The method of manufacturing a liquid discharge head according to claim 6, wherein the substrate is obtained by performing anisotropic etching on the substrate to remove a portion other than the portion serving as the convex member. 前記支持基板を提供する工程は、
前記開口と前記凸部とを有する樹脂からなる部材を射出成型により形成する工程と、
前記凸部に前記接続部材を設ける工程と、
を含むことを特徴とする請求項5に記載の液体吐出ヘッドの製造方法。
Providing the support substrate comprises:
Forming a member made of a resin having the opening and the convex portion by injection molding;
Providing the connection member on the convex portion;
The method of manufacturing a liquid discharge head according to claim 5, comprising:
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