JPWO2014185325A1 - Electrical and electronic component sealing method and sealed body - Google Patents

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Abstract

【課題】難接着材料であるポリエチレンやポリプロピレンなどのオレフィン系樹脂に対して良好な接着性を発現させうる電気電子部品の低圧インサート封止成形方法を提供する。【解決手段】ガラス転移温度が0℃以下で融点が120℃以上240℃以下の結晶性共重合ポリエステルを主成分とする樹脂組成物を用いて、電気電子部品を20MPa以下の圧力及び260℃以下の温度でインサート成形封止する際に、該電気電子部品が大気圧プラズマ処理されている事を特徴とする電気電子部品の封止方法。【選択図】なしAn object of the present invention is to provide a low-pressure insert-sealing method for electrical and electronic parts that can exhibit good adhesion to olefinic resins such as polyethylene and polypropylene, which are difficult-to-adhere materials. A resin composition mainly composed of a crystalline copolyester having a glass transition temperature of 0 ° C. or lower and a melting point of 120 ° C. or higher and 240 ° C. or lower is used. An electrical / electronic component sealing method, wherein the electrical / electronic component is subjected to an atmospheric pressure plasma treatment at the time of insert molding sealing at a temperature of 5 ° C. [Selection figure] None

Description

本発明は電気電子部品などの低圧インサート成形による封止方法及び封止体に関する。   The present invention relates to a sealing method and a sealing body by low-pressure insert molding such as electrical and electronic parts.

ポリプロピレン(PP)やポリエチレン(PE)などのオレフィン系樹脂は低価格で軽く、物理的強度や耐薬品性、耐湿熱性に優れることより、自動車や家電製品をはじめさまざまな分野で幅広く用いられている。特に近年では自動車の燃費向上のために軽量化が強く求められ、金属の代替としてもガラス繊維強化ポリプロピレンなどが幅広く検討されてきている。また、電気電子部品に用いられる電線の被覆材としては従来までは塩化ビニル(塩ビ)が主として使用されてきたが、近年、環境問題の観点や耐熱性などの点より架橋ポリエチレン被覆電線が多く使用されるようになってきた。
しかしながらこれらポリプロピレンや(架橋)ポリエチレンなどのオレフィン系樹脂は極性を有さないために、これらを用いた成形品や電気電子部品、あるいはフィルムなどに対して良好な接着性を有する樹脂がなく、たとえばアルミやステンレスなどの金属や、ポリエチレンテレフタレート(PET)やポリブチレンテレフタレート(PBT)などの樹脂との複合体を形成させるためには穴を開けネジでとめる必要があった。
Olefin-based resins such as polypropylene (PP) and polyethylene (PE) are inexpensive and light, and are widely used in various fields including automobiles and home appliances because of their excellent physical strength, chemical resistance, and heat and heat resistance. . Particularly in recent years, weight reduction has been strongly demanded for improving the fuel efficiency of automobiles, and glass fiber reinforced polypropylene has been widely studied as a substitute for metal. Conventionally, vinyl chloride (vinyl chloride) has been mainly used as a covering material for electric wires used in electric and electronic parts, but in recent years, cross-linked polyethylene-coated electric wires have been widely used from the viewpoint of environmental problems and heat resistance. It has come to be.
However, since these olefin-based resins such as polypropylene and (crosslinked) polyethylene have no polarity, there is no resin having good adhesion to molded articles, electrical and electronic parts, or films using these, for example, In order to form a composite with a metal such as aluminum or stainless steel or a resin such as polyethylene terephthalate (PET) or polybutylene terephthalate (PBT), it was necessary to make a hole and fix it with a screw.

一方、自動車や電化製品などに使用されている電気電子部品は外部からの電力の供給を受けたり電気的信号を外部に送ったりするために外部と電線で接続されているが、電気電子部品本体は外部との電気絶縁性が必要であり、絶縁性樹脂などで封止されている。これまでは封止後の耐久性も加味して、二液硬化型エポキシ樹脂やシリコン樹脂が一般的に使用されてきたが、架橋ポリエチレン被覆電線やポリプロピレン製の筐体などのオレフィン系樹脂に対しては接着力が低く、電線や筐体と封止材の界面から水等が浸入し、絶縁性不良となる場合があり、また、硬化時の収縮応力により電気電子部品を破壊してしまう虞もあった。   On the other hand, electrical and electronic parts used in automobiles and electrical appliances are connected to the outside by electric wires in order to receive external power supply and send electrical signals to the outside. Requires electrical insulation from the outside and is sealed with an insulating resin or the like. In the past, two-component curable epoxy resins and silicone resins have been generally used in consideration of the durability after sealing, but for olefin-based resins such as cross-linked polyethylene-coated electric wires and polypropylene casings, etc. In some cases, the adhesive strength is low, water or the like may enter from the interface between the wire or housing and the sealing material, resulting in poor insulation, and the electrical and electronic components may be destroyed due to shrinkage stress during curing. There was also.

そこで、近年では2液硬化型エポキシ樹脂を代替する封止用樹脂として、ホットメルトタイプのものが提案されている。ホットメルト樹脂は加温溶融するだけで粘度が低下し電気電子部品を容易に封止できることより2液硬化型エポキシ樹脂よりも作業効率が飛躍的に改善されるメリットがあるが、例えば、溶融粘度が低く、種々の素材への高い密着性を発現するポリアミドは低圧射出成形用樹脂材料として優れてはいるが(例えば特許文献1参照)、架橋ポリエチレンに対する接着性がなく、2液硬化型エポキシ同様、電線と封止材の界面から水等が浸入し、絶縁性不良となる場合があるのみならず、基本的に吸湿性が高いために最も重要な特性である電気絶縁性を確保することが難しい場合が多かった。一方、電気絶縁性・耐水性が共に高いポリエステルはこの用途に非常に有用な材料と考えられるが、ホットメルト接着剤用として開発されたポリエステル(例えば特許文献2)はやはり架橋ポリエチレンに対する接着強度が低く、防水性や絶縁性が不良となる場合があるのみならず、一般に溶融粘度が高く、複雑な形状の部品を封止するには数十〜数百MPaもの高圧での射出成形が必要となり、封止対象である電気電子部品を破壊してしまう虞があった。また、電気電子部品のモールディング用に開発されたポリエステル(例えば特許文献3、4)は溶融粘度が低く低圧成形が可能となり電気電子部品を破壊することなく封止することができるが、架橋ポリエチレンやポリプロピレンなどへの接着力は改善されておらず、電線界面からの水の浸入を防ぐ事ができず、本来の目的である電気絶縁性を阻害するという大きな欠点があった。
架橋ポリエチレンやポリプロピレンへの接着性を改良した樹脂組成物として、オレフィン系樹脂を主成分とした低圧成形用樹脂組成物も提案されているが(例えば特許文献5)、樹脂組成物としての伸度が小さく、可撓性に劣るために電線など屈曲性が重要な電気電子部品への応用は難しかった。
Therefore, in recent years, a hot-melt type resin has been proposed as a sealing resin that replaces the two-component curable epoxy resin. Hot melt resin has a merit that the work efficiency is drastically improved compared to two-part curable epoxy resin because the viscosity is lowered by simply heating and melting and electric and electronic parts can be easily sealed. Polyamide that is low and exhibits high adhesion to various materials is excellent as a resin material for low-pressure injection molding (see, for example, Patent Document 1), but has no adhesion to cross-linked polyethylene and is similar to two-part curable epoxy In addition to water intrusion from the interface between the wire and the sealing material, it may not only cause poor insulation, but basically it is highly hygroscopic so that it can ensure the most important characteristic, electrical insulation. It was often difficult. On the other hand, polyesters with high electrical insulation and water resistance are considered to be very useful materials for this application, but polyesters developed for hot melt adhesives (for example, Patent Document 2) still have adhesive strength to crosslinked polyethylene. Not only may the water resistance and insulation properties be poor, but the melt viscosity is generally high, and injection molding at high pressures of several tens to several hundreds of MPa is required to seal parts with complex shapes. There is a risk of destroying the electrical / electronic component to be sealed. Polyesters developed for molding electrical and electronic parts (for example, Patent Documents 3 and 4) have a low melt viscosity and can be molded at low pressure, and can be sealed without destroying electrical and electronic parts. Adhesive strength to polypropylene or the like has not been improved, water cannot be prevented from entering from the interface of the electric wire, and there has been a major drawback in that the electrical insulation that is the original purpose is hindered.
As a resin composition having improved adhesion to crosslinked polyethylene or polypropylene, a low-pressure molding resin composition mainly composed of an olefin resin has been proposed (for example, Patent Document 5), but the elongation as a resin composition is also proposed. Because of its small size and poor flexibility, it has been difficult to apply it to electric and electronic parts such as electric wires in which bendability is important.

以上のように従来の技術では、電気電子部品封止用樹脂として、全ての要求性能を充分満足する素材は提案されていなかった。   As described above, in the prior art, a material that sufficiently satisfies all required performances has not been proposed as a resin for sealing electrical and electronic parts.

特開2001−24550号公報JP 2001-24550 A 特開昭60−18562号公報JP 60-18562 A 特許第3553559号公報Japanese Patent No. 3553559 特開2010−150471号公報JP 2010-150471 A 特開2012−180385号公報JP 2012-180385 A 特許第5077502号公報Japanese Patent No. 5077502 特許第1557180号公報Japanese Patent No. 1557180

本発明の課題は、架橋ポリエチレン被覆電線やポリプロピレンなどのオレフィン系樹脂に対して良好な接着性を有する電気電子部品の低圧インサート成形による封止方法及び封止体を提供することである。   The subject of this invention is providing the sealing method by the low voltage | pressure insert molding of the electrical and electronic component which has favorable adhesiveness with respect to olefin resin, such as a bridge | crosslinking polyethylene covering electric wire and a polypropylene, and a sealing body.

上記目的を達成する為、本発明者等は鋭意検討し、以下の発明を提案するに至った。即ち本発明は、以下に示す樹脂組成物を用い、かつ特定の易接着表面処理を施した電気電子部品の低圧インサート成形による封止方法及び封止体に関する。
(1)ガラス転移温度が0℃以下で融点が120℃以上240℃以下の結晶性共重合ポリエステル(A)を主成分として含有する樹脂組成物を用いて、電気電子部品を20MPa以下の圧力及び260℃以下の温度でインサート封止成形する際に、該電気電子部品が予め易接着表面処理として大気圧プラズマ処理されている事を特徴とする電気電子部品の封止方法。
(2)前記結晶性共重合ポリエステル(A)が、ポリエーテルセグメントを共重合した結晶性共重合ポリエステル(A1)、もしくはポリカーボネートセグメントを共重合した結晶性共重合ポリステル(A2)のいずれか1種以上を含有することを特徴とする(1)記載の電気電子部品の封止方法。
(3)前記結晶性共重合ポリエステル(A1)に共重合されるポリエーテルセグメントが結晶性共重合ポリエステルの50質量%以上である事を特徴とする(2)記載の電気電子部品の封止方法。
(4)前記結晶性共重合ポリエステル(A2)に共重合されるポリカーボネートセグメントが結晶性共重合ポリエステルの50質量%以上である事を特徴とする、(2)記載の電気電子部品の封止方法。
(5)前記樹脂組成物が、前記結晶性共重合ポリエステル(A)の含有量を100質量部としたとき、5〜50質量部が非晶性樹脂(B)であり、5〜50質量部がポリオレフィン(C)である樹脂組成物であることを特徴とする(1)〜(4)のいずれかに記載の電気電子部品の封止方法。
(6)前記非晶性樹脂(B)が、非晶性共重合ポリエステル(B1)、エポキシ樹脂(B2)、フェノール変性アルキルベンゼン樹脂(B3)の少なくともいずれか種以上を含有することを特徴とする、(1)〜(5)のいずれかに記載の電気電子部品の封止方法。
(7)前記樹脂組成物の220℃における溶融粘度が150Pa・s以下であることを特徴とする(1)〜(6)のいずれかに記載の電気電子部品の封止方法。
(8)前記大気圧プラズマ処理が大気圧グロー放電プラズマ処理である事を特徴とする(1)〜(7)のいずれかに記載の電気電子部品の製造方法。
(9)前記大気圧グロー放電プラズマ処理がリモート方式大気圧グロー放電プラズマである事を特徴とする(8)の電気電子部品の封止方法。
(10)前記大気圧プラズマ処理を、酸素濃度が5体積%以下の窒素雰囲気下で行う事を特徴とする(8)、(9)のいずれかに記載の電気電子部品の封止方法。
(11)(1)〜(10)のいずれかに記載の方法で封止された封止体。
In order to achieve the above object, the present inventors have intensively studied and have proposed the following invention. That is, this invention relates to the sealing method by the low voltage | pressure insert molding of the electrical / electronic component which used the resin composition shown below and gave the specific easily bonding surface treatment, and a sealing body.
(1) Using a resin composition containing as a main component a crystalline copolyester (A) having a glass transition temperature of 0 ° C. or lower and a melting point of 120 ° C. or higher and 240 ° C. or lower, An electrical / electronic component sealing method, wherein the electrical / electronic component is preliminarily subjected to an atmospheric pressure plasma treatment as an easy-adhesion surface treatment when insert sealing is performed at a temperature of 260 ° C. or lower.
(2) The crystalline copolyester (A) is any one of a crystalline copolyester (A1) obtained by copolymerizing a polyether segment or a crystalline copolyester (A2) obtained by copolymerizing a polycarbonate segment. The method for sealing electrical and electronic parts according to (1), comprising the above.
(3) The method for sealing an electric / electronic component according to (2), wherein the polyether segment copolymerized with the crystalline copolymerized polyester (A1) is 50% by mass or more of the crystalline copolymerized polyester. .
(4) The method for sealing an electric / electronic component according to (2), wherein the polycarbonate segment copolymerized with the crystalline copolymerized polyester (A2) is 50% by mass or more of the crystalline copolymerized polyester. .
(5) When the content of the crystalline copolymer polyester (A) is 100 parts by mass in the resin composition, 5 to 50 parts by mass is the amorphous resin (B), and 5 to 50 parts by mass. The resin composition according to any one of (1) to (4), wherein the resin composition is a polyolefin (C).
(6) The amorphous resin (B) contains at least one of amorphous copolymer polyester (B1), epoxy resin (B2), and phenol-modified alkylbenzene resin (B3). (1) The sealing method of the electric and electronic component in any one of (5).
(7) The method for sealing an electric / electronic component according to any one of (1) to (6), wherein the resin composition has a melt viscosity at 220 ° C. of 150 Pa · s or less.
(8) The method for manufacturing an electrical / electronic component according to any one of (1) to (7), wherein the atmospheric pressure plasma treatment is an atmospheric pressure glow discharge plasma treatment.
(9) The electrical and electronic component sealing method according to (8), wherein the atmospheric pressure glow discharge plasma treatment is a remote atmospheric pressure glow discharge plasma.
(10) The electrical and electronic component sealing method according to any one of (8) and (9), wherein the atmospheric pressure plasma treatment is performed in a nitrogen atmosphere having an oxygen concentration of 5% by volume or less.
(11) A sealed body sealed by the method according to any one of (1) to (10).

本発明は電気電子部品の封止方法に関し、架橋ポリエチレン被覆電線やポリプロピレン成形体など従来のポリエステル系樹脂やポリアミド系樹脂では良好な接着強度が確保できなかったポリオレフィン系樹脂への良好な接着強度を有することより、良好な封止特性、防水性、電気絶縁性を有する電気電子部品の封止方法及び封止体を提供する。   TECHNICAL FIELD The present invention relates to a method for sealing electrical and electronic parts, and has good adhesive strength to polyolefin resins that cannot be secured with conventional polyester resins and polyamide resins such as cross-linked polyethylene-coated electric wires and polypropylene molded products. Thus, the present invention provides a sealing method and a sealing body for electrical and electronic components having good sealing properties, waterproofness, and electrical insulation.

成形性評価用封止体サンプルの外観および断面構造を示す模式図である。It is a schematic diagram which shows the external appearance and sectional structure of the sealing body sample for moldability evaluation.

通常のインサート成形は、予め金型内にセットした基材に対して、高温、高圧で加熱溶融した樹脂を射出成形する方法である。例えばPBTであれば260℃程度で60MPa程度の圧力をかける必要がある。
ところが、耐熱性や耐圧性に乏しい電気電子部品などを上記方法でインサート成形すると、射出成形の際の高温、高圧樹脂により電気電子部品が破壊されてしまう虞があった。
そのために、一般に電気電子部品のインサート成形は低温、低圧で行う必要があるが、低温、低圧では電気電子部品と封止樹脂との接着性が不十分で目的とする電気絶縁性や防水性が十分に発揮されない場合が多かった。特に(架橋)ポリエチレンやポリプロピレンなどのオレフィン系樹脂に対しては低温、低圧でのインサート成形では基材と封止樹脂の接着性を確保する事は非常に困難であった。
そこで本発明者らが鋭意検討した結果、封止樹脂組成物として本発明の樹脂組成物を選択し、かつ電気電子部品に予め大気圧プラズマ処理を施すことにより、架橋ポリエチレン被覆電線をはじめ、ポリプロプレン樹脂やPETやPBTなどのポリエステル基材、ガラスエポキシ基板(ガラエポ:ガラス繊維製の布(クロス)を重ねたものに、エポキシ樹脂を含浸したもの)、金属等の電気電子部品を構成する様々な材質に対して低温、低圧でのインサート成形でも良好な接着性を与えることができ、高度な防水性を発現させ、かつ環境負荷に耐える密着耐久性を有する封止体を得ることができることを見出した。以下に、発明を実施するための形態の詳細を順次説明していく。
Ordinary insert molding is a method in which a resin that has been heated and melted at a high temperature and high pressure is injection-molded with respect to a base material previously set in a mold. For example, in the case of PBT, it is necessary to apply a pressure of about 60 MPa at about 260 ° C.
However, when electric and electronic parts having poor heat resistance and pressure resistance are insert-molded by the above method, the electric and electronic parts may be destroyed by the high temperature and high-pressure resin during injection molding.
For this reason, it is generally necessary to perform insert molding of electrical and electronic parts at low temperatures and low pressures. However, at low temperatures and low pressures, the adhesion between the electrical and electronic parts and the sealing resin is insufficient, and the desired electrical insulation and waterproofing properties are achieved. In many cases, it was not fully demonstrated. Particularly for (olefinic) olefinic resins such as (crosslinked) polyethylene and polypropylene, it is very difficult to ensure the adhesion between the base material and the sealing resin by insert molding at low temperature and low pressure.
Therefore, as a result of intensive studies by the present inventors, the resin composition of the present invention was selected as the sealing resin composition, and the electrical and electronic parts were preliminarily subjected to atmospheric pressure plasma treatment, so that crosslinked polyethylene-coated electric wires and other polypro Various types of electrical and electronic parts such as plastic resin, polyester base materials such as PET and PBT, glass epoxy substrates (glass epoxy cloth cloth cloth cloth cloth cloth cloth) It is possible to obtain a sealed body that can provide good adhesion even with insert molding at low temperature and low pressure with respect to various materials, exhibit high waterproofness, and have durability to withstand environmental loads. I found it. Below, the detail of the form for inventing is demonstrated one by one.

本発明に用いられる電気電子部品の封止方法は、ガラス転移温度(Tg)が0℃以下で融点が120℃以上240℃以下の結晶性共重合ポリエステル(A)を主成分として含有する樹脂組成物を用い、電気電子部品を20MPa以下の圧力及び260℃以下の温度でインサート封止成形する際に、該電気電子部品が予め大気圧プラズマ処理されている事が必須である。なお、前記主成分として含有するとは、樹脂組成物中の全樹脂成分に対して50質量%以上含有することをさす。
樹脂組成物として、ガラス転移温度が0℃以下の結晶性共重合ポリエステル(A)を主成分として用いる事により、低温での柔軟性を確保できると共に、融点が120℃以上240℃以下の結晶性共重合ポリエステル(A)が主成分である事より、電気電子部品が主として使用される室温付近でTg以上融点以下であることより、封止体としての強度や弾性率、伸度など良好な物理特性が維持され、かつ、融点以上の温度でかつ260℃以下の温度で成形することが可能である。
また、本発明の封止方法ではインサート封止成形される電気電子部品が大気圧プラズマ処理されていることが必須である。電気電子部品が大気圧プラズマ処理されている事により、ポリプロピレンや(架橋)ポリエチレンなどの基材表面の濡れ性が大幅に改善され、電気電子部品と封止樹脂の接着強度が飛躍的に高まり、電気電子部品の電気絶縁性や防水性を確保する事ができる。
The electrical and electronic component sealing method used in the present invention comprises a resin composition comprising a crystalline copolyester (A) having a glass transition temperature (Tg) of 0 ° C. or lower and a melting point of 120 ° C. or higher and 240 ° C. or lower as a main component. When an electrical and electronic part is insert-sealed and molded at a pressure of 20 MPa or less and a temperature of 260 ° C. or less using an object, it is essential that the electrical and electronic part is previously subjected to atmospheric pressure plasma treatment. In addition, containing as said main component means containing 50 mass% or more with respect to all the resin components in a resin composition.
By using a crystalline copolyester (A) having a glass transition temperature of 0 ° C. or less as a main component as a resin composition, flexibility at a low temperature can be secured, and a crystallinity having a melting point of 120 ° C. or higher and 240 ° C. or lower. Since the copolyester (A) is the main component, the electrical and electronic parts are mainly used near room temperature and have a melting point of Tg or more and a melting point or less. The properties can be maintained, and molding can be performed at a temperature higher than the melting point and lower than 260 ° C.
In the sealing method of the present invention, it is essential that the electrical / electronic component to be insert-sealed is subjected to atmospheric pressure plasma treatment. Due to the atmospheric pressure plasma treatment of electrical and electronic parts, the wettability of the substrate surface such as polypropylene and (crosslinked) polyethylene is greatly improved, and the adhesive strength between the electrical and electronic parts and the sealing resin is dramatically increased. It is possible to ensure electrical insulation and waterproofness of electrical and electronic parts.

本発明に用いられる結晶性共重合ポリエステル(A)は、例えば、二塩基酸もしくはその無水物やアルキルエステルなどの酸成分とグリコール成分を脱水縮合もしくは脱アルコール縮合することにより得られる。   The crystalline copolyester (A) used in the present invention can be obtained, for example, by dehydrating or dealcoholizing an acid component such as a dibasic acid or its anhydride or an alkyl ester with a glycol component.

前記二塩基酸化合物としては、テレフタル酸、イソフタル酸、オルソフタル酸、1,2−ナフタレンジカルボン酸、1,6−ナフタレンジカルボン酸等の芳香族二塩基酸、或いはコハク酸、アジピン酸、アゼライン酸、セバシン酸、ドデカン酸、ダイマー酸、水添ダイマー酸、ドデセニル無水琥珀酸、フマル酸、ドデカン二酸、1,2−シクロヘキサンジカルボン酸、1,4−シクロヘキサンジカルボン酸、4−メチル−1,2−シクロヘキサンジカルボン酸、ヘキサヒドロ無水フタル酸、テトラヒドロ無水フタル酸等、マレイン酸、無水マレイン酸、イタコン酸、シトラコン酸等の脂肪族ジカルボン酸や脂環族ジカルボン酸が挙げられる。これらの二塩基酸化合物のうち、テレフタル酸もしくは1,6−ナフタレンジカルボン酸が二塩基酸化合物の全体のうち50モル%以上含まれることが結晶性や耐熱性、耐加水分解性の観点から好ましい。更に60モル%以上含むことがより好ましい。   Examples of the dibasic acid compound include terephthalic acid, isophthalic acid, orthophthalic acid, 1,2-naphthalenedicarboxylic acid, aromatic dibasic acid such as 1,6-naphthalenedicarboxylic acid, succinic acid, adipic acid, azelaic acid, Sebacic acid, dodecanoic acid, dimer acid, hydrogenated dimer acid, dodecenyl succinic anhydride, fumaric acid, dodecanedioic acid, 1,2-cyclohexanedicarboxylic acid, 1,4-cyclohexanedicarboxylic acid, 4-methyl-1,2- Examples thereof include aliphatic dicarboxylic acids such as cyclohexanedicarboxylic acid, hexahydrophthalic anhydride, tetrahydrophthalic anhydride, maleic acid, maleic anhydride, itaconic acid, citraconic acid, and alicyclic dicarboxylic acids. Of these dibasic acid compounds, terephthalic acid or 1,6-naphthalenedicarboxylic acid is preferably contained in an amount of 50 mol% or more of the total dibasic acid compound from the viewpoints of crystallinity, heat resistance, and hydrolysis resistance. . Furthermore, it is more preferable to contain 60 mol% or more.

また、前記グリコール成分としてはエチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、1,2−プロピレングリコール、1,3−プロピレングリコール、1,2−ブチレングリコール、1,3−ブチレングリコール、2,3−ブチレングリコール、1,4−ブチレングリコール、2−メチル−1,3−プロピレングリコール、ネオペンチルグリコール、1,6−ヘキサメチレングリコール、3−メチル−1,5−ペンタンジオール、2,2,4−トリメチル−1,3−ペンタンジオール、2,4−ジエチル−1,5−ペンタンジオール、2−エチル−1,3−ヘキサンジオール、2,2−ジメチル−3−ヒドロキシプロピル−2’,2’−ジメチル−3’−ヒドロキシプロパネート、2−(n−ブチル)−2−エチル−1,3−プロパンジオール、3−エチル−1,5−ペンタンジオール、3−プロピル−1,5−ペンタンジオール、2,2−ジエチル−1,3−プロパンジオール、3−オクチル−1,5−ペンタンジオール等の脂肪族ジオール類や、1,3−ビス(ヒドロキシメチル)シクロヘキサン、1,4−ビス(ヒドロキシメチル)シクロヘキサン、1,4−ビス(ヒドロキシエチル)シクロヘキサン、1,4−ビス(ヒドロキシプロピル)シクロヘキサン、1,4−ビス(ヒドロキシメトキシ)シクロヘキサン、1,4−ビス(ヒドロキシエトキシ)シクロヘキサン、2,2−ビス(4−ヒドロキシメトキシシクロヘキシル)プロパン、2,2−ビス(4−ヒドロキシエトキシシクロヘキシル)プロパン、ビス(4−ヒドロキシシクロヘキシル)メタン、2,2−ビス(4−ヒドロキシシクロヘキシル)プロパン、3(4),8(9)−トリシクロ[5.2.1.02,6]デカンジメタノール等の脂環族グリコール類、或いはビスフェノールAのエチレンオキサイド付加物やプロピレンオキサイド付加物等の芳香族系グリコール類、あるいはポリエチレングリコールやポリプロピレングリコール、ポリトリメチレングリコール、ポリテトラメチレングリコールなどが挙げられる。これらのうち、結晶性を発現させやすいことよりエチレングリコールや1,4−ブチレングリコール、1,6−ヘキサメチレングリコールなどを結晶性共重合ポリエステルの全グリコール成分のうち50モル%以上用いることが好ましい。The glycol component includes ethylene glycol, diethylene glycol, triethylene glycol, 1,2-propylene glycol, 1,3-propylene glycol, 1,2-butylene glycol, 1,3-butylene glycol, 2,3-butylene glycol. 1,4-butylene glycol, 2-methyl-1,3-propylene glycol, neopentyl glycol, 1,6-hexamethylene glycol, 3-methyl-1,5-pentanediol, 2,2,4-trimethyl- 1,3-pentanediol, 2,4-diethyl-1,5-pentanediol, 2-ethyl-1,3-hexanediol, 2,2-dimethyl-3-hydroxypropyl-2 ′, 2′-dimethyl- 3′-hydroxypropanoate, 2- (n-butyl) -2-ethyl-1, -Propanediol, 3-ethyl-1,5-pentanediol, 3-propyl-1,5-pentanediol, 2,2-diethyl-1,3-propanediol, 3-octyl-1,5-pentanediol and the like Aliphatic diols such as 1,3-bis (hydroxymethyl) cyclohexane, 1,4-bis (hydroxymethyl) cyclohexane, 1,4-bis (hydroxyethyl) cyclohexane, 1,4-bis (hydroxypropyl) cyclohexane 1,4-bis (hydroxymethoxy) cyclohexane, 1,4-bis (hydroxyethoxy) cyclohexane, 2,2-bis (4-hydroxymethoxycyclohexyl) propane, 2,2-bis (4-hydroxyethoxycyclohexyl) propane Bis (4-hydroxycyclohexyl) methane 2,2-bis (4-hydroxycyclohexyl) propane, 3 (4), 8 (9) - tricyclo [5.2.1.0 2, 6] alicyclic glycols such as decane dimethanol, or Bisphenol A Aromatic glycols such as ethylene oxide adducts and propylene oxide adducts, polyethylene glycol, polypropylene glycol, polytrimethylene glycol, polytetramethylene glycol and the like. Among these, ethylene glycol, 1,4-butylene glycol, 1,6-hexamethylene glycol and the like are preferably used in an amount of 50 mol% or more of the total glycol component of the crystalline copolymer polyester because it is easy to express crystallinity. .

更に本発明に用いられる結晶性共重合ポリエステル(A)には、前記二塩基酸成分の一部を3官能以上のカルボン酸に置換し、もしくは前記グリコール成分の一部を3官能以上のポリオールに置換し、共重合することもできる。これら3官能以上の化合物としては、トリメリット酸、ピロメリット酸、ベンゾフェノンテトラカルボン酸、ビフェニルテトラカルボン酸、エチレングリコールビス(アンヒドロトリメリテート)、グリセロールトリス(アンヒドロトリメリテート)等の多価カルボン酸等やそれらの無水物、トリメチロールプロパン、ペンタエリスリトール、グリセリン、ポリグリセリンなどの多官能グリコールが挙げられる。3官能以上の化合物の共重合量は結晶性や反応性の観点から全成分中0〜5モル%が望ましい。   Furthermore, in the crystalline copolyester (A) used in the present invention, a part of the dibasic acid component is replaced with a trifunctional or higher carboxylic acid, or a part of the glycol component is replaced with a trifunctional or higher functional polyol. It can be substituted and copolymerized. These tri- or higher functional compounds include trimellitic acid, pyromellitic acid, benzophenone tetracarboxylic acid, biphenyl tetracarboxylic acid, ethylene glycol bis (anhydro trimellitate), glycerol tris (anhydro trimellitate) and many others. And polyfunctional glycols such as trivalent carboxylic acids and their anhydrides, trimethylolpropane, pentaerythritol, glycerin and polyglycerin. The copolymerization amount of the tri- or higher functional compound is preferably 0 to 5 mol% in all components from the viewpoints of crystallinity and reactivity.

更に本発明に用いられる結晶性共重合ポリエステル(A)には、グリコール酸やラクトン類、ラクチド類、(ポリ)カーボネート類の共重合や後付加、あるいは酸無水物の後付加、共重合もできる。   Further, the crystalline copolymerized polyester (A) used in the present invention can be copolymerized or post-added with glycolic acid, lactones, lactides or (poly) carbonates, or can be post-added or copolymerized with acid anhydrides. .

本発明に用いられる結晶性共重合ポリエステル(A)は、ポリエーテルセグメントを共重合した結晶性共重合ポリエステル(A1)もしくはポリカーボネートセグメントを共重合した結晶性共重合ポリステル(A2)のいずれか1種以上を含有するか、もしくは2種の混合物であることが好ましい。 The crystalline copolyester (A) used in the present invention is any one of a crystalline copolyester (A1) obtained by copolymerizing polyether segments or a crystalline copolyester (A2) obtained by copolymerizing polycarbonate segments. It is preferable to contain the above or to be a mixture of two kinds.

結晶性共重合ポリエステル(A1)にエーテル成分が共重合されていることによって、低い溶融粘度や高い柔軟性、高い密着性といった特徴が付与されるとともにガラス転移温度を下げることができる。ガラス転移温度は冷熱サイクル特性に大きく寄与するため、−10℃以下が好ましく、更に好ましくは−20℃以下である。
前記エーテル成分は、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール、ポリトリメチレングリコール、ポリテトラメチレングリコールなどが挙げられるが、柔軟性を高める観点からポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール、ポリトリメチレングリコール、ポリテトラメチレングリコールなどのポリエーテルが好ましい。更には結晶性を高める観点からポリテトラメチレングリコールが望ましい。ポリエーテル成分の共重合比率は結晶性共重合ポリエステル(A1)を100質量%としたとき30質量%以上であることが好ましく、40質量%以上であることがより好ましく、50質量%以上であることが更に好ましく、60質量%以上であることが特に好ましい。また、90質量%以下であることが好ましく、85質量%以下であることがより好ましく、80質量%以下であることが更に好ましい。前記ポリエーテル成分の共重合比率が低すぎると溶融粘度が高くなり、低圧で成形できない、または、結晶化速度が速く、ショートショットが発生する等の問題を生じる傾向にある。また、前記ポリエーテル成分の共重合比率が高すぎると耐熱性が不足する等の問題を生じる傾向にある。一方、前記ポリエーテル成分の数平均分子量は400以上であることが好ましく、800以上であることがより好ましい。数平均分子量が低すぎると柔軟性付与が出来ず、封止後の電子基板への応力負荷が大きくなるとの問題を生じる傾向にある。また前記ポリエーテル成分の数平均分子量は5000以下であることが好ましく、4000以下であることがより好ましい。数平均分子量が高すぎるとその他成分との相溶性が悪く、共重合できないとの問題を生じる傾向にある。
When the ether component is copolymerized with the crystalline copolymerized polyester (A1), characteristics such as low melt viscosity, high flexibility, and high adhesion can be imparted and the glass transition temperature can be lowered. Since the glass transition temperature greatly contributes to the thermal cycle characteristics, it is preferably −10 ° C. or lower, more preferably −20 ° C. or lower.
Examples of the ether component include diethylene glycol, triethylene glycol, polyethylene glycol, polypropylene glycol, polytrimethylene glycol, and polytetramethylene glycol. From the viewpoint of increasing flexibility, polyethylene glycol, polypropylene glycol, polytrimethylene glycol, poly Polyethers such as tetramethylene glycol are preferred. Furthermore, polytetramethylene glycol is desirable from the viewpoint of enhancing crystallinity. The copolymerization ratio of the polyether component is preferably 30% by mass or more, more preferably 40% by mass or more, and more preferably 50% by mass or more when the crystalline copolymer polyester (A1) is 100% by mass. More preferably, it is particularly preferably 60% by mass or more. Moreover, it is preferable that it is 90 mass% or less, it is more preferable that it is 85 mass% or less, and it is still more preferable that it is 80 mass% or less. If the copolymerization ratio of the polyether component is too low, the melt viscosity becomes high and it tends to cause problems such as inability to mold at low pressure, or high crystallization speed and short shot. Moreover, when the copolymerization ratio of the polyether component is too high, problems such as insufficient heat resistance tend to occur. On the other hand, the number average molecular weight of the polyether component is preferably 400 or more, and more preferably 800 or more. If the number average molecular weight is too low, flexibility cannot be imparted, and the stress load on the electronic substrate after sealing tends to increase. Further, the number average molecular weight of the polyether component is preferably 5000 or less, and more preferably 4000 or less. If the number average molecular weight is too high, the compatibility with other components is poor, and there is a tendency to cause a problem that copolymerization is impossible.

一方、結晶性共重合ポリエステル(A2)は脂肪族ポリカーボネート成分が共重合されている事が望ましい。脂肪族ポリカーボネート結合を分子内の有する事により、樹脂の耐熱性を向上させることができ、低溶融粘度や高柔軟性、高密着性といった特徴が発揮され、更にはガラス転移温度を下げることができる。ガラス転移温度は冷熱サイクル特性に大きく寄与するため、好ましくは−10℃以下、より好ましくは−20℃以下である。
脂肪族ポリカーボネートセグメントは、脂肪族ポリカーボネート成分、典型的には脂肪族ポリカーボネートジオールを共重合することにより形成することができる。脂肪族ポリカーボネート成分の共重合量は結晶性共重合ポリエステル全体を100質量%としたとき、40質量%以上であることが好ましく、50質量%以上であることが更に好ましく、60質量%以上であることが特に好ましい。また、90質量%以下であることが好ましく、85質量%以下であることが更に好ましく、80質量%以下であることが特に好ましい。脂肪族ポリカーボネート成分の共重合比率が低すぎると、溶融粘度が高くなり成形に高圧を要するようになったり、結晶化速度が速くショートショットが発生したりしやすい等の問題を生じる傾向にある。また、共重合比率が高すぎると耐熱性が不足する等の問題を生じる傾向にある。脂肪族ポリカーボネートを構成するアルキレン基としては炭素数4〜16の直鎖アルキレン基がより好ましく、より長鎖のアルキレン基のほうが冷熱サイクル負荷耐久性に優れる傾向にある。入手容易性を考慮すると、テトラメチレン基、ペンタメチレン基、ヘキサメチレン基、オクタメチレン基、ノナメチレン基であることが好ましい。また、ポリ(アルキレンカーボネート)を構成するアルキレン基が2種以上の混合物である共重合タイプのポリカーボネートであっても良い。
なお、本発明における結晶性共重合ポリエステルとは、セイコー電子工業株式会社製の示差走査熱量分析計「DSC220型」にて、測定試料5mgをアルミパンに入れ、蓋を押さえて密封し、一度220℃、(融点が210℃以上の場合は融点+20℃)で5分ホールドして試料を完全に溶融させた後、液体窒素で急冷して、その後−150℃から250℃まで20℃/minの昇温速度で測定したときに、融点を示すものを指す。
On the other hand, the crystalline copolyester (A2) is desirably copolymerized with an aliphatic polycarbonate component. By having an aliphatic polycarbonate bond in the molecule, the heat resistance of the resin can be improved, characteristics such as low melt viscosity, high flexibility, and high adhesion can be exhibited, and further the glass transition temperature can be lowered. . Since the glass transition temperature greatly contributes to the thermal cycle characteristics, it is preferably −10 ° C. or lower, more preferably −20 ° C. or lower.
The aliphatic polycarbonate segment can be formed by copolymerizing an aliphatic polycarbonate component, typically an aliphatic polycarbonate diol. The copolymerization amount of the aliphatic polycarbonate component is preferably 40% by mass or more, more preferably 50% by mass or more, and 60% by mass or more, based on 100% by mass of the entire crystalline copolyester. It is particularly preferred. Further, it is preferably 90% by mass or less, more preferably 85% by mass or less, and particularly preferably 80% by mass or less. If the copolymerization ratio of the aliphatic polycarbonate component is too low, there is a tendency that the melt viscosity becomes high and a high pressure is required for molding, and a short shot is likely to occur because of a high crystallization speed. Moreover, when the copolymerization ratio is too high, there is a tendency to cause problems such as insufficient heat resistance. As the alkylene group constituting the aliphatic polycarbonate, a linear alkylene group having 4 to 16 carbon atoms is more preferable, and a longer-chain alkylene group tends to be excellent in durability against cold cycle load. Considering availability, it is preferably a tetramethylene group, a pentamethylene group, a hexamethylene group, an octamethylene group, or a nonamethylene group. Moreover, the copolymer type polycarbonate in which the alkylene group which comprises poly (alkylene carbonate) is 2 or more types of mixtures may be sufficient.
The crystalline copolyester in the present invention is a differential scanning calorimeter “DSC220 type” manufactured by Seiko Denshi Kogyo Co., Ltd., and 5 mg of a measurement sample is put in an aluminum pan and sealed with a lid once. Hold the sample at 5 ° C. for 5 minutes at a melting point of 210 ° C. or higher (melting point + 20 ° C.) and then rapidly cool with liquid nitrogen, then from −150 ° C. to 250 ° C. at 20 ° C./min. When measured at a rate of temperature increase, it indicates a melting point.

本発明の樹脂組成物は、結晶性共重合ポリエステル(A)の含有量を100質量部としたとき、5〜50質量部が非晶性樹脂(B)であり、5〜50質量部がポリオレフィン(C)であることが望ましい。これらの3種類の成分を配合することにより、封止体製造時の結晶化速度や封止樹脂組成物の結晶化度を調整することができることより、結晶化の際の応力集中を緩和させることができ、基材への接着強度を更に高めることができる。   In the resin composition of the present invention, when the content of the crystalline copolymer polyester (A) is 100 parts by mass, 5 to 50 parts by mass is the amorphous resin (B), and 5 to 50 parts by mass is the polyolefin. (C) is desirable. By blending these three types of components, it is possible to adjust the crystallization speed during sealing body manufacture and the crystallinity of the sealing resin composition, thereby reducing stress concentration during crystallization. And the adhesion strength to the substrate can be further increased.

本発明に用いられる樹脂組成物には非晶性樹脂(B)が5〜50質量部含まれる事が望ましい。非晶性樹脂はポリオレフィンを結晶性共重合ポリエステル中に分散させる役目を果たす。非晶性樹脂の配合割合は好ましくは8質量部以上48質量部以下、更に好ましくは10質量部以上45質量部以下である。非晶性樹脂の配合量が少なすぎるとオレフィン系樹脂の分散が不良となり、配合量が多すぎると樹脂組成物として脆くなる場合がある。   The resin composition used in the present invention preferably contains 5 to 50 parts by mass of the amorphous resin (B). The amorphous resin serves to disperse the polyolefin in the crystalline copolyester. The blending ratio of the amorphous resin is preferably 8 parts by mass or more and 48 parts by mass or less, and more preferably 10 parts by mass or more and 45 parts by mass or less. When the blending amount of the amorphous resin is too small, the dispersion of the olefin resin becomes poor, and when the blending amount is too large, the resin composition may become brittle.

非晶性樹脂(B)としては、非晶性共重合ポリエステルやエポキシ樹脂、ポリアミド、オレフィン系樹脂、ポリカーボネート、アクリル樹脂、エチレンビニルアセテート樹脂、フェノール樹脂、キシレン樹脂、フェノール変性アルキルベンゼン樹脂等が挙げられるが、好ましい非晶性樹脂としては、非晶性共重合ポリエステル(B1)やエポキシ樹脂(B2)、フェノール変性アルキルベンゼン樹脂(B3)が挙げられる。   Examples of the amorphous resin (B) include amorphous copolymer polyester, epoxy resin, polyamide, olefin resin, polycarbonate, acrylic resin, ethylene vinyl acetate resin, phenol resin, xylene resin, and phenol-modified alkylbenzene resin. However, preferred amorphous resins include amorphous copolymer polyester (B1), epoxy resin (B2), and phenol-modified alkylbenzene resin (B3).

非晶性共重合ポリエステル(B1)は上記結晶性共重合ポリエステル(A)と同様に二塩基酸もしくはその無水物やアルキルエステルなどの酸成分とグリコール成分を脱水縮合もしくは脱アルコール縮合することにより得られ、原料としても上記結晶性共重合ポリエステルと同じものを使用できるが、結晶性を有さないように例えばネオペンチルグリコールや1,2−プロピレングリコールなどの側鎖を有する原料を多く用いるとか、イソフタル酸やオルソフタル酸のような直線性を崩すような原料を選択する事が必要である。   Amorphous copolymer polyester (B1) is obtained by dehydration condensation or dealcoholization condensation of an acid component such as a dibasic acid or its anhydride or an alkyl ester and a glycol component in the same manner as the crystalline copolymer polyester (A). The same material as the above-mentioned crystalline copolyester can be used as a raw material, but for example, many raw materials having side chains such as neopentyl glycol and 1,2-propylene glycol are used so as not to have crystallinity, It is necessary to select raw materials that break linearity such as isophthalic acid and orthophthalic acid.

エポキシ樹脂(B2)としては、分子中に平均で少なくとも1.1個以上のグリシジル基を有するエポキシ樹脂が好ましい。例えばビスフェノールAジグリシジルエーテル、ビスフェノールSジグリシジルエーテル、ノボラックグリシジルエーテル、ブロム化ビスフェノールAジグリシジルエーテル等のグリシジルエーテルタイプ、ヘキサヒドロフタル酸グリシジルエステル、ダイマー酸グリシジルエステル等のグリシジルエステルタイプ、トリグリシジルイソシアヌレート、グリシジルヒンダントイン、テトラグリシジルジアミノジフェニルメタン、トリグリシジルパラアミノフェノール、トリグリシジルメタアミノフェノール、ジグリシジルアニリン、ジグリシジルトルイジン、テトラグリシジルメタキシレンジアミン、ジグリシジルトリブロムアニリン、テトラグリシジルビスアミノメチルシクロヘキサン等のグリシジルアミン、あるいは3,4−エポキシシクロヘキシルメチルカルボキシレート、エポキシ化ポリブタジエン、エポキシ化大豆油等の脂環族あるいは脂肪族エポキサイドなどが挙げられる。これらのうち、特に、高い密着力を発揮させるためには結晶性共重合ポリエステル樹脂(A)に対して相溶性が良いものが好ましい。エポキシ樹脂(B2)の好ましい数平均分子量は450〜40000である。数平均分子量が450未満では密着剤組成物が極めて軟化し易く、機械的物性が劣ることがあり、40000以上では、ポリエステル樹脂(A)との相溶性が低下し、密着性が損なわれる恐れがある。   The epoxy resin (B2) is preferably an epoxy resin having an average of at least 1.1 glycidyl groups in the molecule. For example, glycidyl ether type such as bisphenol A diglycidyl ether, bisphenol S diglycidyl ether, novolak glycidyl ether, brominated bisphenol A diglycidyl ether, glycidyl ester type such as hexahydrophthalic acid glycidyl ester, dimer acid glycidyl ester, triglycidyl isocyanate Nurate, glycidylhindantoin, tetraglycidyldiaminodiphenylmethane, triglycidylparaaminophenol, triglycidylmetaaminophenol, diglycidylaniline, diglycidyltoluidine, tetraglycidylmetaxylenediamine, diglycidyltribromoaniline, tetraglycidylbisaminomethylcyclohexane, etc. Glycidylamine or 3,4-epoxy B hexyl methyl carboxylate, epoxidized polybutadiene, such as alicyclic or aliphatic epoxides such as epoxidized soybean oil. Among these, those having good compatibility with the crystalline copolyester resin (A) are particularly preferable in order to exhibit high adhesion. The preferred number average molecular weight of the epoxy resin (B2) is 450 to 40,000. If the number average molecular weight is less than 450, the adhesive composition is very soft, and the mechanical properties may be inferior. If it is 40000 or more, the compatibility with the polyester resin (A) is lowered and the adhesion may be impaired. is there.

フェノール変性アルキルベンゼン樹脂(B3)は、アルキルベンゼン樹脂をフェノールおよび/またはアルキルフェノールで変性したものであり、数平均分子量が450〜40,000の範囲にあるものが好ましい。フェノール変性アルキルベンゼン樹脂(B3)は、例えば、キシレン、メシチレン等のアルキルベンゼンとホルムアルデヒド等のアルデヒド類とを酸性触媒の存在下で反応させてアルキルベンゼン樹脂を製造し、これを酸性触媒の存在下でフェノール類およびアルデヒド類と反応させることによって製造することができる。フェノール変性アルキルベンゼン樹脂(B3)は、アルキルフェノール変性キシレン樹脂またはアルキルフェノール変性メシチレン樹脂であることが好ましい。キシレン樹脂とは、キシレン構造がメチレン基やエーテル結合で架橋した基本構造の多量体組成物であり、典型的にはメタキシレンとホルムアルデヒドを硫酸の存在下に加熱することによって得ることができる。メシチレン樹脂とは、メシチレン構造がメチレン基やエーテル結合で架橋した基本構造の多量体組成物であり、典型的にはメシチレンとホルムアルデヒドを硫酸の存在下に加熱することによって得ることができる。キシレン樹脂およびメシチレン樹脂は、アルキルベンゼン樹脂の典型的なものである。また、本発明のフェノール変性キシレン樹脂は水酸基価が100当量/10g以上であることが好ましく、1000当量/10g以上であることがより好ましく、5000当量/10g以上が更に好ましい。また、20000当量/10g以下であることが好ましく、15000当量/10g以下であることがより好ましい。水酸基価が低すぎるとアルミ材に対する密着性が悪くなる傾向があり、水酸基価が高すぎると吸水性が高くなり絶縁性が低下する傾向がある。なお、ここで言う水酸基価とは、JIS K 1557−1:2007A法にて測定されたものである。
これらのうち、特に、高い密着力を発揮させるためには結晶性共重合ポリエステル(A)に対して相溶性が良いものが好ましい。結晶性共重合ポリエステル(A)に対して相溶性が良いフェノール変性アルキルベンゼン樹脂(B3)を得るには、溶融粘度が近く、水酸基を有することが好ましい。
The phenol-modified alkylbenzene resin (B3) is obtained by modifying an alkylbenzene resin with phenol and / or alkylphenol, and preferably has a number average molecular weight in the range of 450 to 40,000. For example, the phenol-modified alkylbenzene resin (B3) is prepared by reacting an alkylbenzene such as xylene or mesitylene with an aldehyde such as formaldehyde in the presence of an acidic catalyst to produce an alkylbenzene resin, which is then phenols in the presence of an acidic catalyst. And can be produced by reacting with aldehydes. The phenol-modified alkylbenzene resin (B3) is preferably an alkylphenol-modified xylene resin or an alkylphenol-modified mesitylene resin. A xylene resin is a multimer composition having a basic structure in which a xylene structure is crosslinked by a methylene group or an ether bond, and can be typically obtained by heating meta-xylene and formaldehyde in the presence of sulfuric acid. The mesitylene resin is a multimer composition having a basic structure in which the mesitylene structure is cross-linked by a methylene group or an ether bond. Typically, the mesitylene resin can be obtained by heating mesitylene and formaldehyde in the presence of sulfuric acid. Xylene resins and mesitylene resins are typical of alkylbenzene resins. The phenol-modified xylene resin of the present invention preferably has a hydroxyl value of 100 equivalents / 10 6 g or more, more preferably 1000 equivalents / 10 6 g or more, and even more preferably 5000 equivalents / 10 6 g or more. . Also, preferably not more than 20000 equivalents / 10 6 g, more preferably 15000 or less equivalent / 10 6 g. If the hydroxyl value is too low, the adhesion to the aluminum material tends to be poor, and if the hydroxyl value is too high, the water absorption tends to increase and the insulating property tends to decrease. In addition, the hydroxyl value mentioned here is measured by JIS K1557-1: 2007A method.
Of these, those having good compatibility with the crystalline copolyester (A) are particularly preferable in order to exhibit high adhesion. In order to obtain a phenol-modified alkylbenzene resin (B3) having good compatibility with the crystalline copolyester (A), it is preferable that the melt viscosity is close and it has a hydroxyl group.

本発明に用いる樹脂組成物には結晶性共重合ポリエステル(A)の含有量を100質量部としたとき、5〜50質量部のポリオレフィン(C)を含むことが望ましい。
ポリオレフィン(C)としては例えば、低密度ポリエチレン、超低密度ポリエチレン、直鎖状低密度ポリエチレン、高密度ポリエチレンやポリプロピレンなどの汎用オレフィンはもちろん、エチレン−プロピレン共重合体、プロピレン−ブテン共重合体、エチレン−プロピレン−ブテン共重合体、ポリシクロオレフィンなどが挙げられる。更には(メタ)アクリル酸エステルや(メタ)アクリル酸などの不飽和酸および不飽和酸のアルキルエステル、酢酸ビニル、エチレン、プロピレンおよびα−オレフィンを共重合したものも使用することができる。
ポリオレフィンとしては、低結晶性のポリオレフィンを用いることが好ましい。低結晶性ポリオレフィンは一般のポリオレフィンよりも密度が低い傾向にあり、密度が0.75g/cm以上0.94g/cm未満であるものが好ましい。このような低結晶性で低密度のポリオレフィンを使用することによって、元来非相溶の結晶性共重合ポリエステルに対して、ポリオレフィンを容易に微分散・混合することができ、一般的な二軸押出機にて、均質な樹脂組成物を得ることができる。また、ポリオレフィンとして低密度で結晶性も低いものを用いることにより、射出成型時に結晶性共重合ポリエステルに生じた残存応力
の経時的な緩和にも適切に作用し、封止樹脂として長期密着耐久性付与や環境負荷による発生応力の軽減といった好ましい特性を発揮する。
The resin composition used in the present invention preferably contains 5 to 50 parts by mass of polyolefin (C) when the content of the crystalline copolyester (A) is 100 parts by mass.
Examples of the polyolefin (C) include low-density polyethylene, ultra-low-density polyethylene, linear low-density polyethylene, general-purpose olefins such as high-density polyethylene and polypropylene, ethylene-propylene copolymer, propylene-butene copolymer, An ethylene-propylene-butene copolymer, a polycycloolefin, etc. are mentioned. Further, unsaturated acids such as (meth) acrylic acid esters and (meth) acrylic acids, alkyl esters of unsaturated acids, vinyl acetate, ethylene, propylene, and α-olefin copolymerized can also be used.
As the polyolefin, it is preferable to use a low crystalline polyolefin. The low crystalline polyolefin tends to have a density lower than that of a general polyolefin, and preferably has a density of 0.75 g / cm 3 or more and less than 0.94 g / cm 3 . By using such a low crystalline and low density polyolefin, the polyolefin can be easily finely dispersed and mixed with the originally incompatible crystalline copolyester. A homogeneous resin composition can be obtained with an extruder. In addition, by using low-density polyolefin with low crystallinity, it also works properly to relieve the residual stress generated in the crystalline copolyester during injection molding over time, and as a sealing resin, it has long-term adhesion durability. It exhibits desirable characteristics such as application and reduction of stress generated by environmental load.

また、ポリオレフィン樹脂(C)にはカルボキシル基、グリシジル基等の極性基を含んでいてもかまわない。   Further, the polyolefin resin (C) may contain polar groups such as a carboxyl group and a glycidyl group.

さらに本発明のポリオレフィン(C)は、JIS K 7210−1999の条件D(試験温度190℃、公称荷重2.16kg)により測定したメルトマスフローレイト(以下MFRと略記することがある)が、5〜100g/10分であることが好ましい。MFRが5未満では溶融粘度が高すぎることで結晶性共重合ポリエステルとの相溶性が低下し、密着性が損なわれるおそれがあり、MFRが100以上では、粘度が低く密着剤組成物として極めて軟化し易く、機械的物性が劣るおそれがある。   Furthermore, the polyolefin (C) of the present invention has a melt mass flow rate (hereinafter sometimes abbreviated as MFR) measured according to JIS K 7210-1999, Condition D (test temperature 190 ° C., nominal load 2.16 kg). It is preferable that it is 100 g / 10min. If the MFR is less than 5, the melt viscosity is too high, the compatibility with the crystalline copolyester may be reduced, and the adhesion may be impaired. If the MFR is 100 or more, the viscosity is low and the adhesive composition is extremely soft. It is easy to do and there exists a possibility that a mechanical physical property may be inferior.

本発明において、ポリオレフィンを封止用樹脂組成物に配合することは、電気電子部品の封止に際し、良好な初期密着性と冷熱サイクル等の環境負荷に対する密着耐久性といった優れた特性を発揮する。ポリオレフィンは樹脂組成物の中で島状態となって存在し、海状態の結晶性共重合ポリエステルが結晶化収縮する際の応力を緩和する役目を担うものと考えられる。本発明におけるポリオレフィン(C)の配合量は、結晶性共重合ポリエステル(A)の含有量を100質量部としたとき、5質量部以上であることが好ましく、10質量部以上であることがより好ましく、15質量部以上であることが更に好ましい。また、50質量部以下であることが好ましく、45重質量部以下であることがより好ましく、40質量部以下であることが更に好ましい。ポリオレフィン(C)の配合比率が低すぎると、結晶性共重合ポリエステルの結晶化やエンタルピー緩和によるひずみエネルギーの緩和が難しいため、密着強度が低下する傾向がある。また、ポリオレフィン(C)の配合比率が高すぎる場合にも逆に密着性や樹脂物性を低下させてしまう傾向があり、また結晶性共重合ポリエステルとポリオレフィンがマクロな相分離を起こして破断伸度が低下し、また平滑な表面を得られないなど成型性に悪影響を及ぼす場合がある。   In the present invention, blending a polyolefin into a sealing resin composition exhibits excellent characteristics such as good initial adhesion and adhesion durability against environmental loads such as a cooling and heating cycle when sealing an electric / electronic component. The polyolefin is present in an island state in the resin composition, and is considered to play a role of relieving stress when the crystalline copolymerized polyester in the sea state undergoes crystallization shrinkage. The blending amount of the polyolefin (C) in the present invention is preferably 5 parts by mass or more and more preferably 10 parts by mass or more when the content of the crystalline copolyester (A) is 100 parts by mass. Preferably, it is 15 parts by mass or more. Moreover, it is preferable that it is 50 mass parts or less, It is more preferable that it is 45 mass parts or less, It is still more preferable that it is 40 mass parts or less. If the blending ratio of the polyolefin (C) is too low, it is difficult to relieve strain energy due to crystallization of the crystalline copolyester or enthalpy relaxation, so that the adhesion strength tends to decrease. Also, when the blending ratio of polyolefin (C) is too high, there is a tendency to deteriorate the adhesion and resin physical properties, and the crystalline copolyester and polyolefin cause macro phase separation and break elongation. In some cases, the moldability is adversely affected and the smoothness of the surface cannot be obtained.

本発明に用いられる樹脂組成物は、220℃での溶融粘度が150Pa・s以下であることが成形性の観点から望ましい。好ましくは130Pa・s以下、より好ましくは120Pa・s以下である。溶融粘度が150Pa・sを超えると電気電子部品にダメージを与えない程度の温度では溶融粘度が高くなりすぎ、良好な成形性を確保するためには成形時に温度や圧力を上げざるを得ず、電気電子部品にダメージを与えてしまう。溶融粘度を150Pa・s以下にするためには組成物として最も大きな体積を占める結晶性共重合ポリエステル(A)の溶融粘度を下げることが重要であり、結晶性共重合ポリエステルの溶融粘度が150Pa・s以下であることが望ましい。   The resin composition used in the present invention preferably has a melt viscosity at 220 ° C. of 150 Pa · s or less from the viewpoint of moldability. The pressure is preferably 130 Pa · s or less, more preferably 120 Pa · s or less. If the melt viscosity exceeds 150 Pa · s, the melt viscosity becomes too high at a temperature that does not damage electrical and electronic parts, and in order to ensure good moldability, the temperature and pressure must be increased during molding, Damage to electrical and electronic parts. In order to reduce the melt viscosity to 150 Pa · s or less, it is important to lower the melt viscosity of the crystalline copolymer polyester (A) occupying the largest volume as the composition, and the melt viscosity of the crystalline copolymer polyester is 150 Pa · s. It is desirable that it is s or less.

また、本発明の樹脂組成物には酸化防止剤を加えることが好ましい。好ましい酸化防止剤としては、ヒンダードフェノール系酸化防止剤、りん系酸化防止剤、硫黄系酸化防止剤、アミン系酸化防止剤等を挙げることができるが、これらの1種または2種以上を併用することができる。特にヒンダードフェノール系酸化防止剤と他の酸化防止剤の併用が有効である。また、熱老化防止剤、銅害防止剤、帯電防止剤、耐光安定剤、紫外線吸収剤などの安定剤を添加することが望ましい。特に燐原子を分子内に含むフェノール系酸化防止剤を用いることが効率的なラジカル捕獲ができる点で望ましい。   Moreover, it is preferable to add antioxidant to the resin composition of this invention. Preferred antioxidants include hindered phenol antioxidants, phosphorus antioxidants, sulfur antioxidants, amine antioxidants, etc., but one or more of these may be used in combination. can do. In particular, the combined use of a hindered phenolic antioxidant and another antioxidant is effective. Further, it is desirable to add a stabilizer such as a heat aging inhibitor, a copper damage inhibitor, an antistatic agent, a light resistance stabilizer, and an ultraviolet absorber. In particular, it is desirable to use a phenolic antioxidant containing a phosphorus atom in the molecule from the viewpoint of efficient radical capture.

ヒンダードフェノール系酸化防止剤や安定剤としては、1,3,5−トリス(3,5−ジ−tert−ブチル−4−ヒドロキシベンジル)イソシアヌレート、1,1,3−トリ(4−ヒドロキシ−2−メチル−5−t−ブチルフェニル)ブタン、1,1−ビス(3−t−ブチル−6−メチル−4−ヒドロキシフェニル)ブタン、3,5−ビス(1,1−ジメチルエチル)−4−ヒドロキシ−ベンゼンプロパノイック酸、ペンタエリスリトールテトラキス[3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート]、3−(1,1−ジメチルエチル)−4−ヒドロキシ−5−メチル−ベンゼンプロパノイック酸、3,9−ビス[1,1−ジメチル−2−[(3−t−ブチル−4−ヒドロキシ−5−メチルフェニル)プロピオニロキシ]エチル]−2,4,8,10−テトラオキサスピロ[5.5]ウンデカン、1,3,5−トリメチル−2,4,6−トリス(3’,5’−ジ−t−ブチル−4’−ヒドロキシベンジル)ベンゼン、チオジエチレンビス[3−(3,5−ジ−tert−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート]、オクタデシル−3−(3,5−ジ−tert−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート、N,N’−ヘキサン−1,6ジイルビス[3−(3,5−ジ−tert−ブチル−4−ヒドロキシフェニルプロピオンアミド)、3,3’,3”,5,5’5”−ヘキサ−tert−ブチル−a,a’,a”−(メシチレン−2,4,6トリイル)トリ−p−クレゾール、ジエチル[[3,5−ビス[1,1−ジメチルエチル]−4−ヒドロキシフェニル]メチル]ホスフェート、4,4’−ブチリデンビス(3−メチル−6−t−ブチルフェノール)、2’3−ビス[[3−[3、5−ジ−ter−ブチル−4−ヒドロキシフェニル]プロピオニル]]プロピオノヒドラジド、3,9−ビス[2−{3−(3−tert−ブチル−4−ヒドロキシ−5−メチルフェニル)プロピオニルオキシ}−1,1−ジメチルエチル]−2,4−8,10−テトラオキサスピロ[5・5]ウンデカンなどが挙げられる。   Examples of hindered phenolic antioxidants and stabilizers include 1,3,5-tris (3,5-di-tert-butyl-4-hydroxybenzyl) isocyanurate, 1,1,3-tri (4-hydroxy). -2-methyl-5-tert-butylphenyl) butane, 1,1-bis (3-tert-butyl-6-methyl-4-hydroxyphenyl) butane, 3,5-bis (1,1-dimethylethyl) -4-hydroxy-benzenepropanoic acid, pentaerythritol tetrakis [3- (3,5-di-t-butyl-4-hydroxyphenyl) propionate], 3- (1,1-dimethylethyl) -4-hydroxy -5-methyl-benzenepropanoic acid, 3,9-bis [1,1-dimethyl-2-[(3-tert-butyl-4-hydroxy-5-methylphenyl) propio Roxy] ethyl] -2,4,8,10-tetraoxaspiro [5.5] undecane, 1,3,5-trimethyl-2,4,6-tris (3 ′, 5′-di-t-butyl -4'-hydroxybenzyl) benzene, thiodiethylenebis [3- (3,5-di-tert-butyl-4-hydroxyphenyl) propionate], octadecyl-3- (3,5-di-tert-butyl-4 -Hydroxyphenyl) propionate, N, N'-hexane-1,6diylbis [3- (3,5-di-tert-butyl-4-hydroxyphenylpropionamide), 3,3 ', 3 ", 5,5 '5 "-hexa-tert-butyl-a, a', a"-(mesitylene-2,4,6triyl) tri-p-cresol, diethyl [[3,5-bis [1,1-dimethylethyl -4-hydroxyphenyl] methyl] phosphate, 4,4'-butylidenebis (3-methyl-6-tert-butylphenol), 2'3-bis [[3- [3,5-di-ter-butyl-4- Hydroxyphenyl] propionyl]] propionohydrazide, 3,9-bis [2- {3- (3-tert-butyl-4-hydroxy-5-methylphenyl) propionyloxy} -1,1-dimethylethyl] -2 , 4-8,10-tetraoxaspiro [5 · 5] undecane and the like.

リン系酸化防止剤や安定剤としては、3,9−ビス(p−ノニルフェノキシ)−2,4,8,10−テトラオキサ−3,9−ジフォスファスピロ[5.5]ウンデカン、3,9−ビス(オクタデシロキシ)−2,4,8,10−テトラオキサ−3,9−ジフォスファスピロ[5.5]ウンデカン、トリ(モノノニルフェニル)フォスファイト、トリフェノキシフォスフィン、イソデシルフォスファイト、イソデシルフェニルフォスファイト、ジフェニル2−エチルヘキシルフォスファイト、ジノニルフェニルビス(ノニルフェニル)エステルフォスフォラス酸、1,1,3−トリス(2−メチル−4−ジトリデシルフォスファイト−5−t−ブチルフェニル)ブタン、トリス(2,4−ジ−tert−ブチルフェニル)フォスファイト、ペンタエリスリトールビス(2,4−ジ−tert−ブチルフェニルフォスファイト)、2,2’−メチレンビス(4,6−ジ−tert−ブチルフェニル)2−エチルヘキシルフォスファイト、ビス(2,6−ジ−tert−ブチル−4−メチルフェニル)ペンタエリスリトール ジフォスファイト、ビス[2,4−ビス[1,1−ジメチルエチル]−6−メチルフェニル]エチルエステル亜燐酸、6−[3−(3−tert−ブチル−4−ヒドロキシ−5−メチル)プロポキシ]−2,4,8,10−テトラ−tert−ブチルジベンズ[d,f][1,3,2]−ジオキサホスフェピン、テトラキス(2,4−ジ−tert−ブチルフェニル)[1,1−ビフェニル]−4,4’−ジイルビスホスフォナイト、ビス(2,4−ジ−tert−ブチルフェニル)ペンタエリスリトールジフォスファイトなどが上げられる。   Examples of phosphorus antioxidants and stabilizers include 3,9-bis (p-nonylphenoxy) -2,4,8,10-tetraoxa-3,9-diphosphaspiro [5.5] undecane, 9-bis (octadecyloxy) -2,4,8,10-tetraoxa-3,9-diphosphaspiro [5.5] undecane, tri (monononylphenyl) phosphite, triphenoxyphosphine, isodecyl Phosphite, isodecylphenyl phosphite, diphenyl 2-ethylhexyl phosphite, dinonylphenylbis (nonylphenyl) ester phosphoric acid, 1,1,3-tris (2-methyl-4-ditridecyl phosphite-5 t-butylphenyl) butane, tris (2,4-di-tert-butylphenyl) phosphite, pen Erythritol bis (2,4-di-tert-butylphenyl phosphite), 2,2′-methylene bis (4,6-di-tert-butylphenyl) 2-ethylhexyl phosphite, bis (2,6-di-tert) -Butyl-4-methylphenyl) pentaerythritol diphosphite, bis [2,4-bis [1,1-dimethylethyl] -6-methylphenyl] ethyl ester phosphorous acid, 6- [3- (3-tert- Butyl-4-hydroxy-5-methyl) propoxy] -2,4,8,10-tetra-tert-butyldibenz [d, f] [1,3,2] -dioxaphosphine, tetrakis (2,4 -Di-tert-butylphenyl) [1,1-biphenyl] -4,4'-diylbisphosphonite, bis (2,4-di-tert- Butylphenyl) pentaerythritol diphosphite, and the like.

硫黄系酸化防止剤や安定剤としては、4,4’−チオビス[2−tert−ブチル−5−メチルフェノール]ビス[3−(ドデシルチオ)プロピオネート]、チオビス[2−(1,1−ジメチルエチル)−5−メチル−4,1−フェニレン]ビス[3−(テトラデシルチオ)−プロピオネート]、ペンタエリスリトールテトラキス(3−n−ドデシルチオプロピオネート)、ビス(トリデシル) チオジプロピオネート、ジドデシル−3,3’−チオジプロピオネート、ジオクタデシル−3,3’ −チオジプロピオネート 、4,6−ビス(オクチルチオメチル)−o−クレゾール、4,4−チオビス(3−メチル−6−tert−ブチルフェノール)などが挙げられる。
アミン系酸化防止剤や安定剤として4,4’−ビス(α,α−ジメチルベンジル)ジフェニルアミンや2’,3−ビス[[3−[3,5−ジ−tert−ブチル−4−ヒドロキシフェニル]プロピオニル]]プロピオノヒドラジド、N,N’−ジ−2ナフチル−p−フェニレンジアミン、N−フェニル−N’−4,4’−チオビス(2−t−ブチル−5−メチルフェノール)、2,2−ビス[3−(ドデシルチオ)プロパノイルオキシメチル]−1,3−プロパンジオールビス[3−(ドデシルチオ)プロピオナート]などが挙げられる。
Examples of sulfur-based antioxidants and stabilizers include 4,4′-thiobis [2-tert-butyl-5-methylphenol] bis [3- (dodecylthio) propionate], thiobis [2- (1,1-dimethylethyl). ) -5-methyl-4,1-phenylene] bis [3- (tetradecylthio) -propionate], pentaerythritol tetrakis (3-n-dodecylthiopropionate), bis (tridecyl) thiodipropionate, didodecyl -3,3'-thiodipropionate, dioctadecyl-3,3'-thiodipropionate, 4,6-bis (octylthiomethyl) -o-cresol, 4,4-thiobis (3-methyl-6) -Tert-butylphenol) and the like.
4,4′-bis (α, α-dimethylbenzyl) diphenylamine and 2 ′, 3-bis [[3- [3,5-di-tert-butyl-4-hydroxyphenyl] as amine antioxidants and stabilizers ] Propionyl]] propionohydrazide, N, N′-di-2naphthyl-p-phenylenediamine, N-phenyl-N′-4,4′-thiobis (2-t-butyl-5-methylphenol), 2 , 2-bis [3- (dodecylthio) propanoyloxymethyl] -1,3-propanediol bis [3- (dodecylthio) propionate] and the like.

酸化防止剤の添加量は樹脂組成物全体に対して0.1重量%以上5重量%以下が好ましい。0.1重量%未満だと熱劣化防止効果に乏しくなることがある。5重量%を超えると、密着性等に悪影響を与える場合がある。   The addition amount of the antioxidant is preferably 0.1% by weight or more and 5% by weight or less based on the entire resin composition. If it is less than 0.1% by weight, the effect of preventing thermal deterioration may be poor. If it exceeds 5% by weight, the adhesion may be adversely affected.

本発明の樹脂組成物には、タルクや雲母等の充填材、カーボンブラック、酸化チタン等の顔料、三酸化アンチモン、臭素化ポリスチレン等の難燃剤、結晶核剤等を配合しても差し支えない。   The resin composition of the present invention may contain a filler such as talc or mica, a pigment such as carbon black or titanium oxide, a flame retardant such as antimony trioxide or brominated polystyrene, or a crystal nucleating agent.

本発明の樹脂組成物にはロジンやテルペンなどのタッキファイヤーを配合することができ、密着性を向上させる場合がある。配合量としては樹脂組成物全体の40重量%未満が望ましい。   A tackifier such as rosin and terpene can be blended in the resin composition of the present invention, which may improve the adhesion. As a compounding quantity, less than 40 weight% of the whole resin composition is desirable.

本発明の封止方法は、例えば金型内に電気電子部品を搭載した基板を配置し、本発明の樹脂組成物の溶融体を金型内に押し出すことで封止体を製造することができる。より具体的には、例えば、スクリュータイプのホットメルト成形加工用アプリケーターを用いた場合は、160〜260℃で樹脂組成物を加熱溶融し、樹脂組成物の溶融体をノズルを通じて金型へ押し出し注入し、その後所定の冷却時間をおいて組成物の溶融体を固化させ、ついで成形物を金型から取り外して電気電子部品封止体を得ることが出来る。   The sealing method of this invention can manufacture a sealing body, for example by arrange | positioning the board | substrate which mounted the electrical and electronic component in a metal mold | die, and extruding the molten body of the resin composition of this invention in a metal mold | die. . More specifically, for example, when a screw type hot melt applicator is used, the resin composition is heated and melted at 160 to 260 ° C., and the molten resin composition is extruded and injected into a mold through a nozzle. Then, after a predetermined cooling time, the melt of the composition is solidified, and then the molded product is removed from the mold to obtain an encapsulated electrical / electronic component.

ホットメルト成形加工用アプリケーター装置としては特に限定されないが、例えばスクリュータイプとしてはNordson社製ST2や株式会社井元製作所製半自動ホットメルト一軸押出成形機 EMC−18F9等が挙げられる。また、一般的に使用されている射出成形機も使用できるが、封止される電気電子部品に損傷を与えないよう、射出圧力を低く抑えるよう注意する必要がある。   Although it does not specifically limit as an applicator apparatus for hot-melt shaping | molding processes, For example, Nordson ST2 and semi-automatic hot-melt uniaxial extrusion molding machine EMC-18F9 by Imoto Seisakusho etc. are mentioned as a screw type. A generally used injection molding machine can also be used, but care must be taken to keep the injection pressure low so as not to damage the electrical and electronic parts to be sealed.

本発明の封止方法では、電気電子部品をインサート成形する際には、樹脂組成物を加熱したスクリューを用いて260℃以下に溶融し、10MPa以下の低圧で成形することが、電子部品にダメージを与えにくい点で望ましい。更に望ましくは240℃以下で5MPa以下で成形することが望ましい。   In the sealing method of the present invention, when an electric / electronic component is insert-molded, the resin composition is melted to 260 ° C. or less using a heated screw, and molded at a low pressure of 10 MPa or less to damage the electronic component. It is desirable in that it is difficult to give. More preferably, it is desirable to mold at 240 ° C. or less and 5 MPa or less.

本発明の封止方法では、電気電子部品をインサート成形する前に予め電気電子部品に大気圧プラズマ処理を施しておく事が必須である。大気圧プラズマ処理を施す事により、基材と樹脂組成物、特にオレフィン系基材と樹脂組成物との接着強度を向上させることができ、防水性や電気絶縁性の信頼性を向上させることができる。   In the sealing method of the present invention, it is essential to subject the electric / electronic component to atmospheric pressure plasma treatment before insert molding the electric / electronic component. By performing atmospheric pressure plasma treatment, the adhesive strength between the base material and the resin composition, particularly the olefin base material and the resin composition, can be improved, and the reliability of waterproofness and electrical insulation can be improved. it can.

大気圧プラズマ処理方法としては、グロー放電プラズマを用いる事もできるし、アーク放電プラズマを用いる事もできるが、電気電子部品へのダメージを考慮するとグロー放電プラズマが好ましい。   As an atmospheric pressure plasma treatment method, glow discharge plasma or arc discharge plasma can be used, but glow discharge plasma is preferable in consideration of damage to electric and electronic parts.

グロー放電プラズマとして、ダイレクト処理(放電空間(電極間)に被処理体を設置し直接プラズマ処理する方法)とリモート処理(放電空間(電極間)から離れた場所に被処理体を設置し、放電空間で発生させた活性種を吹き付ける方法)があるが、電気電子部品へのダメージを考慮するとリモート処理のほうが好ましい。   As glow discharge plasma, direct processing (a method in which the object to be processed is placed directly in the discharge space (between the electrodes) and direct plasma processing) and remote processing (a method in which the object to be processed is placed away from the discharge space (between the electrodes) There is a method of spraying active species generated in space), but remote processing is more preferable in consideration of damage to electric and electronic parts.

大気圧プラズマ処理を行う際の雰囲気として、アルゴンやヘリウムなどの希ガスを用いる事もできるし、窒素もしくは空気中での処理もできるが、ランニングコスト等を考慮すると窒素、もしくは空気中での処理が好ましい。
一方、空気中での処理ではオゾンが発生するために窒素中、もしくは窒素に酸素を5体積%以下添加した雰囲気下での処理が好ましい。
A rare gas such as argon or helium can be used as the atmosphere for the atmospheric pressure plasma treatment, or treatment in nitrogen or air is possible, but in consideration of running costs, treatment in nitrogen or air Is preferred.
On the other hand, in the treatment in air, since ozone is generated, treatment in nitrogen or an atmosphere in which oxygen is added to 5% by volume or less is preferable.

大気圧プラズマ処理条件に関しては、グロー放電プラズマを用いるか、アーク放電プラズマを用いるかにより、また、ダイレクト処理かリモート処理方式かにより最適条件は異なるが、例えば積水化学工業株式会社製リモート処理グロー放電プラズマ照射機(AP−T05−S320型)を用いる場合、印加電圧は200〜250Vが好ましく、220〜240Vがより好ましい。印加電圧が高すぎると電極を破壊する恐れがあり、印加電圧が低すぎると処理効果が低くなる。投入電力は750〜850Wが好ましく、780〜820Wがより好ましい。投入電力が高すぎると電極を破壊する恐れがあり、投入電力が低すぎると処理効果が低くなる。処理距離(ヘッドと基材間の距離)は1〜20mmが好ましく、1〜10mmがより好ましく、1〜6mmが更に好ましい。処理距離が大きすぎると処理効果が低くなる。処理速度は100〜5000mm/分が好ましく、100〜2000mm/分がより好ましく、100〜1000mm/分が更に好ましい。処理速度が速すぎると処理効果が低くなる。一方、処理速度が遅くなると処理をするのに時間がかかりコストアップに繋がる。処理回数は2回以上が好ましいが、処理速度同様処理回数を増やすとコストアップに繋がるため注意が必要である。   Regarding the atmospheric pressure plasma treatment conditions, the optimum conditions differ depending on whether glow discharge plasma or arc discharge plasma is used, and whether direct treatment or remote treatment method is used. For example, remote treatment glow discharge manufactured by Sekisui Chemical Co., Ltd. When a plasma irradiator (AP-T05-S320 type) is used, the applied voltage is preferably 200 to 250V, and more preferably 220 to 240V. If the applied voltage is too high, the electrode may be destroyed, and if the applied voltage is too low, the treatment effect is lowered. The input power is preferably 750 to 850 W, and more preferably 780 to 820 W. If the input power is too high, the electrode may be destroyed, and if the input power is too low, the treatment effect is low. The treatment distance (distance between the head and the substrate) is preferably 1 to 20 mm, more preferably 1 to 10 mm, and even more preferably 1 to 6 mm. If the processing distance is too large, the processing effect is lowered. The processing speed is preferably 100 to 5000 mm / min, more preferably 100 to 2000 mm / min, and still more preferably 100 to 1000 mm / min. If the processing speed is too high, the processing effect is lowered. On the other hand, if the processing speed is slow, it takes time to perform processing, leading to an increase in cost. The number of times of processing is preferably 2 times or more. However, it should be noted that increasing the number of times of processing as well as the processing speed leads to an increase in cost.

<<易接着表面処理方法>> << Easy Adhesive Surface Treatment Method >>

<大気圧プラズマ処理>
・機台:積水化学工業株式会社製常圧プラズマ表面処理装置
AP−T05−S320型(リモートヘッドタイプ)
・印加電圧:240V
・処理速度:1000mm/分
・ギャップ:被処理基材の最高部と電極間=2mm
・処理ガス:窒素ガス 130L/分
<Atmospheric pressure plasma treatment>
-Machine stand: Sekisui Chemical Co., Ltd. atmospheric pressure plasma surface treatment equipment
AP-T05-S320 type (remote head type)
・ Applied voltage: 240V
・ Processing speed: 1000 mm / min ・ Gap: Between the highest part of the substrate to be treated and the electrode = 2 mm
・ Processing gas: Nitrogen gas 130L / min

(1)架橋ポリエチレン被覆電線
住電日立ケーブル(株)製架橋ポリエチレン被覆電線「600V CV」の塩ビ製シースーを剥がし、架橋ポリエチレン被覆部(6.3mmφ)を露出させたものを50mmの長さにカットし処理台の上に静置し、この架橋ポリエチレン被覆電線の表面を大気圧プラズマ処理機を用いて1回表面処理を行った。次に架橋ポリエチレン被覆電線を円周に沿って90°右回転させ同様に表面処理を行った。
更に、90°右回転させ処理を行った後、再度90°右回転させ処理を行った。
これにより、架橋ポリエチレン被覆電線の表面は90°おきに合計4回表面処理を行った事になる。
(2)ポリプロピレン板
市販品のポリプロピレン板(株式会社相互理化学硝子製作所製 厚み:2mm)を20mm×100mmにカットし、処理台の上に静置し、ポリプロピレン板の表面を大気圧プラズマ処理を1回行った。
(3)PBT板
上記(2)のポリプロピレン板の代わりに、ガラス繊維を30質量%含むポリブチレンテレフタレート樹脂(東洋紡株式会社製EMC730)を用いること以外は上記(2)と同様にして表面処理を行った。
(1) Cross-linked polyethylene-coated electric wire The PVC sheath of the cross-linked polyethylene-coated electric wire “600V CV” manufactured by Sumiden Hitachi Cable Co., Ltd. is peeled off to expose the cross-linked polyethylene-coated portion (6.3 mmφ) to a length of 50 mm. It cut and left still on a processing stand, and the surface of this bridge | crosslinking polyethylene covering electric wire was surface-treated once using the atmospheric pressure plasma processing machine. Next, the cross-linked polyethylene-coated electric wire was rotated 90 ° clockwise along the circumference and similarly surface-treated.
Furthermore, after rotating 90 degrees right and performing the process, it rotated 90 degrees right again and processed.
As a result, the surface of the cross-linked polyethylene-coated electric wire was surface-treated four times in total every 90 °.
(2) Polypropylene plate A commercially available polypropylene plate (manufactured by Mutual Riken Glass Co., Ltd., thickness: 2 mm) is cut into 20 mm × 100 mm, and left on a processing table, and the surface of the polypropylene plate is subjected to atmospheric pressure plasma treatment 1 I went twice.
(3) PBT plate In place of the polypropylene plate in (2) above, the surface treatment is performed in the same manner as in (2) above except that polybutylene terephthalate resin (EMC730 manufactured by Toyobo Co., Ltd.) containing 30% by mass of glass fiber is used. went.

<<樹脂、樹脂組成物及び成形体の評価方法>> << Evaluation Method for Resin, Resin Composition and Molded Body >>

<溶融粘度の測定>
株式会社島津製作所製 フローテスタ CFT−500Cを用いて、
試験温度:220℃
予熱時間:180秒
試験加重:10kgf
ダイ穴径:1mm
ダイ長さ:10mm
で樹脂組成物を押し出したときの溶融粘度を測定した。
<Measurement of melt viscosity>
Using a flow tester CFT-500C manufactured by Shimadzu Corporation
Test temperature: 220 ° C
Preheating time: 180 seconds Test weight: 10 kgf
Die hole diameter: 1mm
Die length: 10mm
The melt viscosity when the resin composition was extruded was measured.

<融点、ガラス転移温度の測定>
セイコー電子工業株式会社製の示差走査熱量分析計「DSC220型」にて、測定試料5mgをアルミパンに入れ、蓋を押さえて密封し、一度220℃で5分ホールドして試料を完全に溶融させた後、液体窒素で急冷して、その後−150℃から250℃まで、20℃/minの昇温速度で測定した。得られた曲線の変曲点の温度をガラス転移温度、吸熱ピーク温度を融点とした。
<Measurement of melting point and glass transition temperature>
Using a differential scanning calorimeter “DSC220” manufactured by Seiko Denshi Kogyo Co., Ltd., put 5 mg of a sample into an aluminum pan, seal it with a lid, hold it at 220 ° C. for 5 minutes, and completely melt the sample. Then, it was quenched with liquid nitrogen, and then measured from -150 ° C. to 250 ° C. at a rate of temperature increase of 20 ° C./min. The inflection point temperature of the obtained curve was the glass transition temperature, and the endothermic peak temperature was the melting point.

<成形性評価>
上記方法で大気圧プラズマ処理を施した架橋ポリエチレン被覆電線の一方の端部の架橋ポリエチレン被覆部分に、成形後の直径が10mm、電線と成形樹脂との接触長さが20mm、成形樹脂のみの長さが30mmの円筒状になるように樹脂組成物を成形し、封止体サンプルを得た。封止体サンプルの模式図を図1に示す。上記樹脂組成物の成形は、株式会社井元製作所製半自動ホットメルト一軸押出成形機 EMC−18F9を用い、樹脂組成物中の結晶性共重合ポリエステルの融点+40℃、成形圧力3MPa、保圧3MPa、保圧時間10秒で行った。
評価基準 ○:完全に充填され、ヒケ無し。
△:ショートショット無く充填されるが、ヒケ有り。
×:ショートショット有り。
<Formability evaluation>
The cross-linked polyethylene-coated portion at one end of the cross-linked polyethylene-coated electric wire that has been subjected to atmospheric pressure plasma treatment by the above method has a molded diameter of 10 mm, a contact length between the electric wire and the molded resin of 20 mm, and a length of only the molded resin. The resin composition was molded so as to have a cylindrical shape with a length of 30 mm, and a sealed body sample was obtained. A schematic diagram of a sealed sample is shown in FIG. The resin composition was molded using a semi-automatic hot-melt single-screw extruder EMC-18F9 manufactured by Imoto Seisakusho Co., Ltd., the melting point of the crystalline copolymer polyester in the resin composition + 40 ° C., a molding pressure of 3 MPa, a holding pressure of 3 MPa, and a holding pressure. The pressure time was 10 seconds.
Evaluation criteria ○: Completely filled with no sink marks.
Δ: Filled without short shot, but there is a sink.
X: There is a short shot.

<接着強度評価>
(1)対架橋ポリエチレン被覆電線
上記成形性評価に用いた封止体サンプルのA部とB部(図1参照)を把持し、株式会社島津製作所製引っ張り試験機 オートグラフAG−ISを用いて上下に引っ張ることにより、架橋ポリエチレンと封止樹脂組成物間の接着強度を、23℃、60%Rhの環境下で引っ張り速度50mm/分で測定した。
(2)対ポリプロピレン板
上記大気圧プラズマ処理を施したポリプロピレン板の処理表面上に成形後の樹脂厚みが2mmになるように、株式会社井元製作所製半自動ホットメルト一軸押出成形機 EMC−18F9を用い、樹脂組成物中の結晶性共重合ポリエステルの融点+40℃、成形圧力3MPa、保圧3MPa、保圧時間10秒で成形を行った。得られたサンプルの90°剥離強度を、株式会社島津製作所製引っ張り試験機 オートグラフAG−ISを用いて23℃、60%Rhの環境下で引っ張り速度50mm/分で測定した。
(3)対PBT板
上記(2)のポリプロピレン板の代わりに、ガラス繊維を30質量%含むポリブチレンテレフタレート樹脂(東洋紡株式会社製EMC730)を用いること以外は上記(2)と同様にしてサンプルを作製し、接着強度を測定した。
<Evaluation of adhesive strength>
(1) Pair-crosslinked polyethylene-coated electric wire Gripping A part and B part (see FIG. 1) of the sealed sample used for the above-described moldability evaluation, using Shimadzu Corporation tensile tester Autograph AG-IS By pulling up and down, the adhesive strength between the cross-linked polyethylene and the sealing resin composition was measured at a pulling rate of 50 mm / min in an environment of 23 ° C. and 60% Rh.
(2) Polypropylene plate Using semi-automatic hot melt uniaxial extrusion molding machine EMC-18F9 manufactured by Imoto Seisakusho Co., Ltd. so that the resin thickness after molding on the treated surface of the polypropylene plate subjected to the above atmospheric pressure plasma treatment becomes 2 mm. Molding was performed at a melting point of the crystalline copolymer polyester in the resin composition + 40 ° C., a molding pressure of 3 MPa, a holding pressure of 3 MPa, and a holding time of 10 seconds. The 90 ° peel strength of the obtained sample was measured using a tensile tester Autograph AG-IS manufactured by Shimadzu Corporation under an environment of 23 ° C. and 60% Rh at a pulling rate of 50 mm / min.
(3) Anti-PBT plate A sample was prepared in the same manner as in (2) above, except that a polybutylene terephthalate resin containing 30% by mass of glass fiber (EMC730 manufactured by Toyobo Co., Ltd.) was used instead of the polypropylene plate in (2) above. Prepared and measured the adhesive strength.

<<実施例>>
本発明をさらに詳細に説明するために以下に実施例、比較例を挙げるが、本発明は実施例によってなんら限定されるものではない。
<< Example >>
In order to describe the present invention in more detail, examples and comparative examples are given below, but the present invention is not limited to the examples.

結晶性共重合ポリエステル(a)の製造例
撹拌機、温度計、溜出用冷却器を装備した反応缶内にテレフタル酸166質量部、1,4−ブチレングリコール180質量部、テトラブチルチタネート0.25質量部を加え、170〜220℃で2時間エステル化反応を行った。エステル化反応終了後、数平均分子量1000のポリテトラメチレングリコール「PTMG1000」(三菱化学株式会社製)を300質量部とヒンダードフェノール系酸化防止剤「イルガノックス1330」(BASFジャパン株式会社製)を0.5質量部投入し、245℃まで昇温する一方、系内をゆっくり減圧にしてゆき、60分かけて245℃で665Paとした。そしてさらに133Pa以下で60分間重縮合反応を行い、結晶性共重合ポリエステル(a)を得た。この結晶性共重合ポリエステル(a)の融点は160℃で、220℃での溶融粘度は25Pa・sであった。また、NMRでの分析の結果、ポリエーテルの含有量は61質量%であった。
Production Example of Crystalline Copolyester (a) 166 parts by mass of terephthalic acid, 180 parts by mass of 1,4-butylene glycol, and tetrabutyl titanate in a reaction vessel equipped with a stirrer, a thermometer, and a condenser for distillation. 25 mass parts was added and esterification reaction was performed at 170-220 degreeC for 2 hours. After completion of the esterification reaction, 300 parts by mass of polytetramethylene glycol “PTMG1000” (Mitsubishi Chemical Co., Ltd.) having a number average molecular weight of 1000 and hindered phenol antioxidant “Irganox 1330” (manufactured by BASF Japan Ltd.) While 0.5 part by mass was added and the temperature was raised to 245 ° C., the pressure in the system was slowly reduced to 665 Pa at 245 ° C. over 60 minutes. Further, a polycondensation reaction was performed at 133 Pa or less for 60 minutes to obtain a crystalline copolyester (a). The melting point of this crystalline copolyester (a) was 160 ° C., and the melt viscosity at 220 ° C. was 25 Pa · s. As a result of NMR analysis, the polyether content was 61% by mass.

結晶性共重合ポリエステル(b)の製造例
上記結晶性共重合ポリエステル(a)同様にして、酸成分やグリコール成分を変化させることにより、結晶性共重合ポリエステル樹脂(b)を得た。樹脂の特性を表1に示す。
Production Example of Crystalline Copolyester (b) In the same manner as in the above crystalline copolyester (a), a crystalline copolyester resin (b) was obtained by changing the acid component and the glycol component. The properties of the resin are shown in Table 1.

TPA:テレフタル酸
NDCA:1,6−ナフタレンジカルボン酸
BD:1,4−ブチレングリコール
PTMG1000:ポリテトラメチレングリコール(数平均分子量1000)
PTMG2000:ポリテトラメチレングリコール(数平均分子量2000)
TPA: terephthalic acid NDCA: 1,6-naphthalenedicarboxylic acid BD: 1,4-butylene glycol PTMG1000: polytetramethylene glycol (number average molecular weight 1000)
PTMG2000: polytetramethylene glycol (number average molecular weight 2000)

結晶性共重合ポリエステル(c)の製造例
<PBTの合成例>
撹拌機、温度計、流出用冷却器を装備した反応缶内にテレフタル酸88質量部、1,4−ブチレングリコール70質量部、テトラブチルチタネート0.1質量部加え、170〜220℃で1時間エステル化反応を行った。次いで、反応系を220℃から250℃まで昇温しながら系内をゆっくり減圧してゆき、70分かけて500Paとした。そしてさらに130Pa以下で70分間重縮合反応を行なってPBTを得た。得られたPBTの数平均分子量は20000であった。
<脂肪族ポリカーボネートジオールの合成例>
ポリヘキサメチレンカーボネートジオール(旭化成ケミカルズ株式会社製 デュラノールT6002、分子量2000)100質量部とジフェニルカーボネート9.6質量部とをそれぞれ反応容器に仕込み、温度205℃、130Paで反応させた。2時間後、内容物を冷却し、脂肪族ポリカーボネートジオールを得た。得られたポリカーボネートジオールの数平均分子量は13000であった。
<結晶性共重合ポリエステル(c)の合成例>
上記ポリブチレンテレフタレート(PBT)100質量部と、上記脂肪族ポリカーボネートジオール150質量部とを混合し、230℃〜245℃、130Paで1時間攪拌し、混合物が透明になったことを確認した後、窒素気流下、常圧で10分撹拌してから内容物を取り出し冷却した。得られた樹脂の融点は200℃で、NMR分析の結果ポリカーボネート割合は60質量%であった。
Production Example of Crystalline Copolyester (c) <Synthesis Example of PBT>
In a reaction vessel equipped with a stirrer, a thermometer, and an outflow cooler, 88 parts by mass of terephthalic acid, 70 parts by mass of 1,4-butylene glycol and 0.1 part by mass of tetrabutyl titanate were added, and 170-220 ° C. for 1 hour. An esterification reaction was performed. Subsequently, while the temperature of the reaction system was raised from 220 ° C. to 250 ° C., the pressure inside the system was slowly reduced to 500 Pa over 70 minutes. Further, a polycondensation reaction was performed at 130 Pa or less for 70 minutes to obtain PBT. The number average molecular weight of the obtained PBT was 20000.
<Synthesis example of aliphatic polycarbonate diol>
100 parts by mass of polyhexamethylene carbonate diol (Duranol T6002, manufactured by Asahi Kasei Chemicals Co., Ltd., molecular weight 2000) and 9.6 parts by mass of diphenyl carbonate were respectively charged in a reaction vessel and reacted at a temperature of 205 ° C. and 130 Pa. After 2 hours, the contents were cooled to obtain an aliphatic polycarbonate diol. The number average molecular weight of the obtained polycarbonate diol was 13,000.
<Synthesis Example of Crystalline Copolyester (c)>
After mixing 100 parts by mass of the polybutylene terephthalate (PBT) and 150 parts by mass of the aliphatic polycarbonate diol, stirring at 230 ° C. to 245 ° C. and 130 Pa for 1 hour, and confirming that the mixture became transparent, The contents were taken out and cooled after stirring at normal pressure for 10 minutes under a nitrogen stream. The melting point of the obtained resin was 200 ° C., and as a result of NMR analysis, the polycarbonate ratio was 60% by mass.

非晶性共重合ポリエステル(d)の製造例
撹拌機、温度計、溜出用冷却器を装備した反応缶内にテレフタル酸83質量部、イソフタル酸83質量部、エチレングリコール50質量部、ネオペンチルグリコール83質量部、テトラブチルチタネート0.25質量部を加え、170〜220℃で2時間エステル化反応を行った。エステル化反応終了後、230℃まで昇温する一方、系内をゆっくり減圧にしてゆき、60分かけて230℃で665Paとした。そしてさらに133Pa以下で30分間重縮合反応を行い、非晶性ポリエステル樹脂(D)を得た。この非晶性ポリエステル樹脂(d)のガラス転移点は60℃で、220℃での溶融粘度は2Pa・sであり、融点は観察されなかった。
Production Example of Amorphous Copolyester (d) 83 parts by mass of terephthalic acid, 83 parts by mass of isophthalic acid, 50 parts by mass of ethylene glycol, neopentyl, in a reaction vessel equipped with a stirrer, a thermometer, and a condenser for distillation. 83 parts by mass of glycol and 0.25 parts by mass of tetrabutyl titanate were added, and an esterification reaction was performed at 170 to 220 ° C. for 2 hours. After completion of the esterification reaction, the temperature was raised to 230 ° C., while the pressure in the system was slowly reduced to 665 Pa at 230 ° C. over 60 minutes. Further, a polycondensation reaction was performed at 133 Pa or less for 30 minutes to obtain an amorphous polyester resin (D). The amorphous polyester resin (d) had a glass transition point of 60 ° C., a melt viscosity at 220 ° C. of 2 Pa · s, and no melting point was observed.

樹脂組成物の製造例1
結晶性共重合ポリエステルとして、結晶性共重合ポリエステル(a)100質量部、及び、非晶性樹脂として非晶性共重合ポリエステル(d)を10質量部、ポリオレフィンとしてとして日本ポリプロ株式会社製ポリプロピレン ノバテックPP BC08Fを20質量部、酸化防止剤としてBASFジャパン株式会社製IRGANOX 1010を0.5質量部、住友化学株式会社製Sumilizer GPを0.5質量部、着色剤として大日精化工業株式会社製カーボンブラックマスターバッチ PP−RM MK1510を0.5質量部加え、2軸押出機を用いて195℃で溶融混練りすることにより、樹脂組成物1を得た。
Production Example 1 of Resin Composition
As a crystalline copolymer polyester, 100 parts by mass of a crystalline copolymer polyester (a), 10 parts by mass of an amorphous copolymer polyester (d) as an amorphous resin, and Polypropylene Novatec manufactured by Nippon Polypro Co., Ltd. as a polyolefin 20 parts by mass of PP BC08F, 0.5 parts by mass of IRGANOX 1010 manufactured by BASF Japan KK as an antioxidant, 0.5 parts by mass of Sumilizer GP manufactured by Sumitomo Chemical Co., Ltd., carbon manufactured by Dainichi Seika Kogyo Co., Ltd. Resin composition 1 was obtained by adding 0.5 mass part of black masterbatch PP-RM MK1510 and melt-kneading at 195 degreeC using a twin-screw extruder.

樹脂組成物2〜5の製造例
表2の組み合わせに従い、樹脂組成物1の製造例同様にして樹脂組成物2〜5を得た。尚、溶融混練り温度は使用した結晶性共重合ポリエステルの融点+30℃とした。
Production Examples of Resin Compositions 2 to 5 Resin compositions 2 to 5 were obtained in the same manner as in Production Example of Resin Composition 1 according to the combinations in Table 2. The melt kneading temperature was the melting point of the crystalline copolymer polyester used + 30 ° C.

ポリオレフィン
P1:ノバテックPP BC08F(日本ポリプロ株式会社製ポリプロピレン)
P2:エクセレンVL EUL731(住友化学株式会社製特殊エチレン系エラストマー)
エポキシ樹脂:JER1007(三菱化学株式会社製 ビスフェノール型エポキシ樹脂)
安定剤等
I−1010:IRGANOX 1010(BASFジャパン株式会社製)
S−GP :Sumilizer GP(住友化学株式会社製)
着色剤
MK1510:PP−RM MK1510(大日精化工業株式会社製カーボンブラックマスターバッチ)
Polyolefin P1: Novatec PP BC08F (Nippon Polypro Co., Ltd. polypropylene)
P2: Excellen VL EUL731 (Special ethylene elastomer manufactured by Sumitomo Chemical Co., Ltd.)
Epoxy resin: JER1007 (Bisphenol type epoxy resin manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation)
Stabilizer, etc. I-1010: IRGANOX 1010 (manufactured by BASF Japan Ltd.)
S-GP: Sumilizer GP (manufactured by Sumitomo Chemical Co., Ltd.)
Colorant MK1510: PP-RM MK1510 (carbon black masterbatch manufactured by Dainichi Seika Kogyo Co., Ltd.)

実施例1
封止用樹脂組成物として樹脂組成物1を用い、株式会社井元製作所製半自動ホットメルト一軸押出成形機 EMC−18F9を用い、前述の方法で予め大気圧プラズマ処理を施した架橋ポリエチレン被覆電線への成形性評価を行ったところショート、ひけともなく良好であった。次に成形性評価を行ったサンプルの架橋ポリエチレンと樹脂組成物間の接着強度を測定したところ、150Nであった。また、同様に予め大気圧プラズマ処理を施したポリプロピレン、PBTからなる基材に対する接着強度を測定した結果を表3に示す。
Example 1
Using the resin composition 1 as the resin composition for sealing, using a semi-automatic hot-melt single-screw extruder EMC-18F9 manufactured by Imoto Seisakusho Co., Ltd. When the moldability was evaluated, it was good with no shorts or sink marks. Next, the adhesive strength between the crosslinked polyethylene of the sample subjected to the moldability evaluation and the resin composition was measured and found to be 150N. Similarly, Table 3 shows the results of measuring the adhesion strength to a base material made of polypropylene and PBT that has been previously subjected to atmospheric pressure plasma treatment.

実施例2〜5
封止用樹脂組成物として樹脂組成物2〜5を用い、実施例1と同様にして成形性、接着強度を測定した結果を表3に示す。
Examples 2-5
Table 3 shows the results of measuring moldability and adhesive strength in the same manner as in Example 1 using resin compositions 2 to 5 as the sealing resin composition.

比較例1〜5
何ら表面処理を行っていない(大気圧プラズマ処理を施していない)架橋ポリエチレン被覆電線、ポリプロピレン、PBTに対する成形性、接着強度の測定を実施例と同様に行った結果を表3に示す。
Comparative Examples 1-5
Table 3 shows the results obtained by measuring the formability and adhesive strength of the crosslinked polyethylene-coated electric wire, polypropylene, and PBT that were not subjected to any surface treatment (not subjected to atmospheric pressure plasma treatment) in the same manner as in the Examples.

比較例6〜10
易接着表面処理としてUV照射を施した架橋ポリエチレン被覆電線、ポリプロピレン、PBTに対する成形性、接着強度の測定を実施例と同様に行った。結果を表3に示す。
UV照射条件
機台:株式会社ジーエス・ユアサコーポレーション製
UV SYSTEM KCCT88
処理条件:1000mJ/cm2
Comparative Examples 6-10
The formability and adhesive strength of crosslinked polyethylene-coated electric wires, polypropylene, and PBT subjected to UV irradiation as an easy-adhesion surface treatment were measured in the same manner as in the examples. The results are shown in Table 3.
UV irradiation conditions Machine stand: GS Yuasa Corporation
UV SYSTEM KCCT88
Processing conditions: 1000 mJ / cm 2

実施例1〜5は特許請求の範囲を満たしており、成形性及び架橋ポリエチレンやポリプロピレン、PBTに対する接着強度のいずれも良好である。
尚、樹脂組成物として非晶性樹脂及びポリオレフィンを配合した系(実施例1〜3)はこれらを配合していない系(実施例4、5)と比較して、架橋ポリエチレン及びプロピレンに対する接着強度が高くなっている。
一方、何ら易接着表面処理を施していない比較例1〜5はいずれも、架橋ポリエチレン及びプロピレンに対する接着強度が低くなっている。また、易接着表面処理としてUV照射を施した比較例6〜10も易接着表面処理を施していない比較例1〜5同様、架橋ポリエチレン及びポリプロピレンに対する接着強度が低くなっている。
これらの点より、本発明に用いられる樹脂組成物と大気圧プラズマ処置を組み合わせることにより架橋ポリエチレンやプロピレンなどのオレフィンに対する接着強度が飛躍的に向上することがわかる。
Examples 1 to 5 satisfy the scope of the claims, and are excellent in moldability and adhesive strength to cross-linked polyethylene, polypropylene, and PBT.
In addition, the system (Examples 1-3) which mix | blended the amorphous resin and polyolefin as a resin composition was compared with the system (Examples 4 and 5) which did not mix | blend these, but the adhesive strength with respect to crosslinked polyethylene and propylene Is high.
On the other hand, all of Comparative Examples 1 to 5 which have not been subjected to any easy-adhesion surface treatment have low adhesion strength to crosslinked polyethylene and propylene. Moreover, the adhesive strength with respect to crosslinked polyethylene and a polypropylene is low like Comparative Examples 1-5 which performed UV irradiation as easy-adhesion surface treatment, as well as Comparative Examples 1-5 which did not perform easy-adhesion surface treatment.
From these points, it can be seen that by combining the resin composition used in the present invention and the atmospheric pressure plasma treatment, the adhesive strength to olefins such as crosslinked polyethylene and propylene is drastically improved.

本発明の樹脂組成物樹脂組成物を用いた電気電子部品の封止方法は架橋ポリエチレンやポリプロピレンなどへの接着強度向上に対して極めて効果が高く、複雑な形状を有する電気電子部品の防水、防塵成形材料として有用である。本発明の封止方法、及び封止体は、例えば自動車、通信、コンピュータ、家電用途各種のコネクター、ハーネスやあるいは電子部品、プリント基板を有するスイッチ、センサー等の封止成形用樹脂として有用である。   The method for sealing electrical and electronic parts using the resin composition resin composition of the present invention is extremely effective for improving the adhesive strength to crosslinked polyethylene, polypropylene, etc., and waterproof and dustproof electrical and electronic parts having complicated shapes. It is useful as a molding material. The sealing method and the sealing body of the present invention are useful as sealing molding resins for, for example, various connectors for automobiles, communication, computers, home appliances, harnesses or electronic components, printed circuit boards, sensors, and the like. .

11:導電線
12:架橋ポリエチレン被覆部
13:封止樹脂組成物
11: Conductive wire 12: Cross-linked polyethylene coating 13: Sealing resin composition

Claims (11)

ガラス転移温度が0℃以下で融点が120℃以上240℃以下の結晶性共重合ポリエステル(A)を主成分として含有する樹脂組成物を用いて、電気電子部品を20MPa以下の圧力及び260℃以下の温度でインサート封止成形する際に、該電気電子部品が予め易接着表面処理として大気圧プラズマ処理されている事を特徴とする電気電子部品の封止方法。   Using a resin composition containing, as a main component, a crystalline copolyester (A) having a glass transition temperature of 0 ° C. or lower and a melting point of 120 ° C. or higher and 240 ° C. or lower, a pressure of 20 MPa or lower and 260 ° C. or lower An electrical and electronic component sealing method, wherein the electrical and electronic component is preliminarily subjected to atmospheric pressure plasma treatment as an easy-adhesion surface treatment when insert sealing molding is performed at a temperature of 5 ° C. 前記結晶性共重合ポリエステル(A)が、ポリエーテルセグメントを共重合した結晶性共重合ポリエステル(A1)、もしくはポリカーボネートセグメントを共重合した結晶性共重合ポリステル(A2)のいずれか1種以上を含有することを特徴とする、請求項1記載の電気電子部品の封止方法。   The crystalline copolymer polyester (A) contains at least one of a crystalline copolymer polyester (A1) obtained by copolymerizing a polyether segment or a crystalline copolymer polyester (A2) obtained by copolymerization of a polycarbonate segment. The method for sealing electrical and electronic parts according to claim 1, wherein: 前記結晶性共重合ポリエステル(A1)に共重合されるポリエーテルセグメントが結晶性共重合ポリエステルの50質量%以上である事を特徴とする、請求項2記載の電気電子部品の封止方法。   The method for sealing an electric / electronic component according to claim 2, wherein the polyether segment copolymerized with the crystalline copolymerized polyester (A1) is 50% by mass or more of the crystalline copolymerized polyester. 前記結晶性共重合ポリエステル(A2)に共重合されるポリカーボネートセグメントが結晶性共重合ポリエステルの50質量%以上である事を特徴とする、請求項2記載の電気電子部品の封止方法。 The method for sealing an electrical / electronic component according to claim 2, wherein the polycarbonate segment copolymerized with the crystalline copolymerized polyester (A2) is 50% by mass or more of the crystalline copolymerized polyester. 前記樹脂組成物が、前記結晶性共重合ポリエステル(A)の含有量を100質量部としたとき、5〜50質量部が非晶性樹脂(B)であり、5〜50質量部がポリオレフィン(C)であることを特徴とする、請求項1〜4のいずれかに記載の電気電子部品の封止方法。   When the resin composition has a content of the crystalline copolymer polyester (A) of 100 parts by mass, 5 to 50 parts by mass is the amorphous resin (B), and 5 to 50 parts by mass is polyolefin ( It is C), The sealing method of the electric and electronic components in any one of Claims 1-4 characterized by the above-mentioned. 前記非晶性樹脂(B)が、非晶性共重合ポリエステル(B1)、エポキシ樹脂(B2)、フェノール変性アルキルベンゼン樹脂(B3)の少なくともいずれか1種以上を含有することを特徴とする、請求項1〜5のいずれかに記載の電気電子部品の封止方法。 The amorphous resin (B) contains at least one of amorphous copolymer polyester (B1), epoxy resin (B2), and phenol-modified alkylbenzene resin (B3). Item 6. A method for sealing an electric / electronic component according to any one of Items 1 to 5. 前記樹脂組成物の220℃における溶融粘度が150Pa・s以下であることを特徴とする、請求項1〜6のいずれかに記載の電気電子部品の封止方法。 The method for sealing an electric / electronic component according to claim 1, wherein the resin composition has a melt viscosity at 220 ° C. of 150 Pa · s or less. 前記大気圧プラズマ処理が大気圧グロー放電プラズマ処理である事を特徴とする請求項1〜7のいずれかに記載の電気電子部品の封止方法。   The method for sealing an electric / electronic component according to claim 1, wherein the atmospheric pressure plasma treatment is an atmospheric pressure glow discharge plasma treatment. 前記大気圧グロー放電プラズマ処理がリモート方式大気圧グロー放電プラズマ処理である事を特徴とする請求項8記載の電気電子部品の封止方法。   9. The method for sealing electrical and electronic parts according to claim 8, wherein the atmospheric pressure glow discharge plasma treatment is a remote atmospheric pressure glow discharge plasma treatment. 前記大気圧プラズマ処理を、酸素濃度が5体積%以下の窒素雰囲気下で処理を行う事を特徴とする請求項8、9のいずれかに記載の電気電子部品の封止方法。   10. The method for sealing an electric / electronic component according to claim 8, wherein the atmospheric pressure plasma treatment is performed in a nitrogen atmosphere having an oxygen concentration of 5% by volume or less. 請求項1〜10のいずれかに記載の方法で封止された封止体。   The sealing body sealed by the method in any one of Claims 1-10.
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