JPWO2013065777A1 - ガスミスト圧浴システム - Google Patents
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Abstract
Description
図1は、本発明の第1の実施形態に係るガスミスト圧浴システムの全体概略図である。図1に示すように、本実施形態のガスミスト圧浴システムは、酸素、炭酸ガス、又は酸素と炭酸ガスの混合ガス(以下、単にガスという)を供給するガス供給手段10と、ガスミスト生成手段としてのガスミスト生成器30と、供給されたガスミスト及びガスを内部に封入する生体カバー部材としての生体圧浴カバー50と、から構成される。さらに、制御手段としての制御装置60を備えるのが好ましい。
図17は、本発明の第2の実施形態に係るガスミスト圧浴システムの全体概略図である。本実施形態では、生体圧浴カバー内の加圧を容易にする加圧手段をさらに備えたガスミスト圧浴システムについて説明する。なお、図1に示す第1の実施形態と同一の部分については、同一の符号を付して詳細な説明は省略する。
図20は、本発明の第3の実施形態に係るガスミスト圧浴システムの全体概略図である。本実施形態では、発生させたミストを帯電させるための電荷付与手段をさらに備えたガスミスト圧浴システムについて説明する。なお、図1に示す第1の実施形態と同一の部分については、同一の符号を付して詳細な説明は省略する。
20 ケース
21、22 スタンド
23 フック
30 ガスミスト生成器
31 接続部
32 分岐部
33 液体貯留部
34 ノズル
34A ノズル先端開口
35 吸液管形成部材
35A 吸液管
35B 吸液管先端部
36 バッフル
36A バッフル支持部
37 合流部
38 ガス導入部
39 ガスミスト排出部
39A ガスミスト排出口
41 ガスミスト供給管
41A ジャバラ状の管
42 溝
50、50A、50B、50C、50D、50E、50F、50G、80、80A、80B、80C、80D 生体圧浴カバー
51、51A、51B、51C、51D、51E、51F、51G、81、81A、81B、81C、81D 供給口
52、52A、53A、52B、52C、52D、52E、52F、52G、82、82A、82B、82C、82D 止着部
53G、83D 固定部
54G、84D カバー部
60 制御装置
71 圧力計
72 温度計
90、90A、90B、90C、90D 加圧手段
91、91A、91B、91C、91D ガス溜部
92、92A、92B、92C、92D 供給口
101 電源装置
102 電極
Claims (20)
- 所定値以上の濃度の炭酸ガス、又は酸素、又は炭酸ガスと酸素の混合ガス(以下、「ガス」という)と液体を粉砕溶解させたミスト(以下、「ガスミスト」という)を生体の皮膚又は粘膜に接触させるためのシステムであって、
前記ガスを供給するガス供給手段と、
該ガス供給手段から供給されたガスと、内部に貯留された液体とから、前記ガスミストを生成し、前記ガスと混合した状態で供給するガスミスト生成手段と、
前記生体の皮膚及び粘膜を覆い、前記ガスミスト生成手段から供給されるガスミスト及びガスを内部に封入する空間を形成する生体カバー部材と、
を備え、
前記ガスミスト生成手段が、
前記ガス供給手段との接続部と、
該接続部からのガス流を分岐させる分岐部と、
前記液体を貯留する液体貯留部と、
前記分岐部で分岐された一方のガス流を吐出するノズルと、該ノズル先端に前記液体を送る吸液管と、
前記ノズルが吐出するガス流によって吹き上げられた液体を衝突させてガスミストを生成する衝突部材と、
生成された前記ガスミストに上方からガスを合流させる合流部と、
前記分岐部で分岐された他方のガス流を前記合流部まで導くガス導入部と、
生成された前記ガスミスト及びガスを収集し排出するガスミスト排出部と、
を一体的に形成して備えることを特徴とするガスミスト圧浴システム。 - 前記ガスミスト生成手段において、少なくとも前記液体貯留部を取り外し可能にして、他の液体貯留部と取替え可能に構成することを特徴とする請求項1に記載のガスミスト圧浴システム。
- 前記生体カバー部材内の気圧、温度、酸素濃度、炭酸ガス濃度及び湿度等の測定値を検知するセンサ類と、
該センサ類の測定値に基づき前記生体カバー部材内を予め設定された設定値の範囲内に制御する制御手段と、
をさらに備えることを特徴とする請求項1又は2に記載のガスミスト圧浴システム。 - 前記生体カバー部材内を加圧する加圧手段をさらに備えることを特徴とする請求項1乃至3の何れか一項に記載のガスミスト圧浴システム。
- 前記加圧手段が、前記生体カバー部材と連設され、該生体カバー部材内にガスミストを排出可能な中空のガス溜からなることを特徴とする請求項4に記載のガスミスト圧浴システム。
- 前記制御手段により、前記ガスミストを間歇的に前記生体カバー部材内に供給することによって、該生体カバー部材をインターバル加圧することを特徴とする請求項3に記載のガスミスト圧浴システム。
- 前記加圧手段が、前記生体カバー部材内に間歇的にガスミストを排出することによって、該生体カバー部材をインターバル加圧することを特徴とする請求項5に記載のガスミスト圧浴システム。
- 前記液体は、水、イオン水、オゾン水、生理食塩水、精製水、又は滅菌精製水の何れか一つ又は複数の組み合わせであることを特徴とする請求項1乃至7の何れか一項に記載のガスミスト圧浴システム。
- 前記液体は、メンソール、ビタミンE、ビタミンC誘導体、レチノール、麻酔薬、シクロデキストリン、光触媒、光触媒とアパタイトの複合体、ヒアルロン酸、コエンザイムQ10、シードオイル、プロポリス、クエン酸、エタノール、グルコン酸クロルヘキシジン、両性界面活性剤、塩化ベンザルコニウム、酢酸アルキルジアミノエテルグリシン、次亜塩素酸ナトリウム、過酢酸、セスキ炭酸ナトリウム、シリカ、ポピドンヨード、炭酸水素ナトリウム、高濃度炭酸泉剤、抗アレルギー剤、抗炎症剤、解熱鎮痛剤、抗真菌剤、抗インフルエンザウィルス剤、インフルエンザワクチン、ステロイド剤、抗ガン剤、血圧降下剤、化粧剤、増毛剤、発毛剤、又は育毛剤のうち、何れか一つ又は複数をさらに含有することを特徴とする請求項8に記載のガスミスト圧浴システム。
- 前記ガスミスト生成手段から前記生体カバー部材内に供給される前記ミストの粒径が、10μm以下であることを特徴とする請求項1乃至9の何れか一項に記載のガスミスト圧浴システム。
- 前記制御手段は、ガスミスト圧浴時における前記生体カバー部材内の圧力を1.01乃至1.4気圧に保持することを特徴とする請求項3に記載のガスミスト圧浴システム。
- 前記ガスミスト生成手段が供給するミストに電荷を付与する電荷付与手段をさらに備えることを特徴とする請求項1乃至11の何れか一項に記載のガスミスト圧浴システム。
- 前記電荷が、マイナス電荷であることを特徴とする請求項12に記載のガスミスト圧浴システム。
- 前記ガスミスト生成手段が、前記生体圧浴カバーへガスミスト及びガスを供給するためのガスミスト供給管を有し、
該ガスミスト供給管が、管内に付着する液滴を除去するためのフィルターを備えることを特徴とする請求項1乃至13の何れか一項に記載のガスミスト圧浴システム。 - 前記ガスミスト生成手段が、前記生体圧浴カバーへガスミスト及びガスを供給するためのガスミスト供給管を有し、
該ガスミスト供給管の全部又は一部がジャバラ状の管から構成されることを特徴とする請求項1乃至14の何れか一項に記載のガスミスト圧浴システム。 - 前記ジャバラ状の管の内側に、管の軸方向に溝が形成されていることを特徴とする請求項15に記載のガスミスト圧浴システム。
- 前記ガスミスト生成手段が、前記生体圧浴カバーへガスミスト及びガスを供給するためのガスミスト供給管を有し、
該ガスミスト供給管に、逆止弁を設けることを特徴とする請求項1乃至16の何れか一項に記載のガスミスト圧浴システム。 - 前記生体カバー部材のガスミスト供給口に、逆止弁を設けることを特徴とする請求項1乃至17の何れか一項に記載のガスミスト圧浴システム。
- 前記制御手段は、前記生体カバー部材内の圧力値が所定値以上になった際は前記ガス供給手段からのガスの供給を停止することを特徴とする請求項1乃至18の何れか一項に記載のガスミスト圧浴システム。
- 前記ガスミスト生成手段が、予め滅菌処理されていることを特徴とする請求項1乃至19の何れか一項に記載のガスミスト圧浴システム。
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