JPWO2011043103A1 - 液晶パネルおよび液晶表示装置 - Google Patents

Abstract

正面の色味変化が少ない、横電界駆動方式を用いた垂直配向型の液晶パネルおよび液晶表示装置を提供する。液晶パネル（２）は、基板（１０・２０）間に挟持された液晶層（５０）を横電界で駆動することにより表示を行う、横電界駆動方式を用いた垂直配向型の液晶パネルであり、基板（１０）に、赤色、緑色、青色の３つのサブ画素（６Ｒ・６Ｇ・６Ｂ）からなる画素（６）内に比誘電率が異なる少なくとも２つの領域を有する絶縁層（２５）が設けられている。液晶パネル（２）における青色のサブ画素（６Ｂ）における領域の絶縁層（２５）の比誘電率は３であり、緑色のサブ画素（６Ｇ）における領域の絶縁層（２５）の比誘電率は３〜７であり、赤色のサブ画素（６Ｒ）における領域の絶縁層（２５）の比誘電率は４〜７に設定されている。

Description

本発明は、液晶パネルおよび液晶表示装置に関するものであり、より詳しくは、電圧無印加時に液晶分子が基板垂直方向に配向する垂直配向型の液晶セルに横電界を印加して光の透過を制御する液晶パネルおよび液晶表示装置に関するものである。

液晶表示装置は、各種表示装置のなかでも薄型で軽量かつ消費電力が小さいといった利点を有している。このため、近年、ＣＲＴ（陰極線管）に代わって、ＴＶ（テレビション）、モニタ、携帯電話等のモバイル機器等の様々な分野で広く用いられている。

液晶表示装置の表示方式は、液晶セル内で液晶をどのように配列させるかによって決定される。液晶表示装置の表示方式の一つとして、従来、ＭＶＡモードの液晶表示装置が知られている。ＭＶＡモードは、アクティブマトリクス基板の画素電極にスリットを設けるとともに、対向基板の対向電極に液晶分子配向制御用の突起（リブ）を設け、これによって垂直方向の電界を加え、リブやスリットで配向方向を規制しながら液晶分子の配向方向を複数方向に配設させる方式である。

ＭＶＡモードの液晶表示装置は、電界印加時に液晶分子が倒れる方向を複数に分割することによって、広視野角を実現している。また、垂直配向モードであるため、ＩＰＳ（In-Plain Switching）モード等の水平配向モードに比べて高コントラストを得ることができる。しかしながら、製造工程が複雑であるという欠点を有している。

そこで、ＭＶＡモードのプロセス課題を解決すべく、電圧無印加時に液晶分子が基板垂直方向に配向する垂直配向型の液晶セルに櫛歯電極を使用し、基板面に平行な電界（いわゆる横電界）を印加する表示方式が提案されている（例えば、特許文献１参照）。

上記表示方式では、垂直配向による高コントラスト性を保ちながら横電界により駆動させることで液晶分子の配向方位を規定する。上記表示方式は、ＭＶＡのような突起物による配向制御が不要であるため、画素構成が単純であり、優れた視野角特性を有している。

日本国公開特許公報「特開平１０−１８６３５１号公報（公開日：１９９８年７月１４日）」 日本国公開特許公報「特開２００２−２３１７９号公報（公開日：２００２年１月２３日）」 日本国公開特許公報「特開平１０−１３３１９０号公報（公開日：１９９８年５月２２日）」 日本国公開特許公報「特開２０００−１９３９７７号公報（公開日：２０００年７月１４日）」

しかしながら、上記したように横電界駆動方式を用いた従来の垂直配向型の液晶パネルは、該液晶表示素子を正面から見たときに、白の色味が、黄色味掛かって見えるという問題点を有している。

本発明は、上記問題点に鑑みなされたものであり、正面の色味変化が少ない、横電界駆動方式を用いた垂直配向型の液晶パネルおよび液晶表示装置を提供することにある。

本発明にかかる液晶パネルは、上記の課題を解決するために、少なくとも第１および第２の電極が設けられた第１の基板と、上記第１の基板に対向配置された第２の基板と、上記第１の基板と第２の基板との間に挟持された液晶層とを備え、上記液晶層を、上記第１の基板に設けられた電極間に発生する横電界で駆動するとともに、電界無印加時に、上記液晶層における液晶分子が、上記第１および第２の基板に垂直に配向する、横電界駆動方式を用いた垂直配向型の液晶パネルであって、赤色、緑色、青色の３つのサブ画素からなる１つの画素内に、上記横電界を発生させたときに等電位線の形状が異なる少なくとも２つの領域が形成されるように、１つの画素内に比誘電率が異なる少なくとも２つの領域を有する第１の絶縁層が、上記第１および第２の基板のうち少なくとも一方の基板に設けられており、上記青色のサブ画素における領域の第１の絶縁層の比誘電率は３であり、緑色のサブ画素における領域の第１の絶縁層の比誘電率は３〜７であり、赤色のサブ画素における領域の第１の絶縁層の比誘電率は４〜７であることを特徴としている。

また、本発明にかかる液晶パネルは、上記の課題を解決するために、少なくとも第１および第２の電極が設けられた第１の基板と、上記第１の基板に対向配置された第２の基板と、上記第１の基板と第２の基板との間に挟持された液晶層とを備え、上記液晶層を、上記第１の基板に設けられた電極間に発生する横電界で駆動するとともに、電界無印加時に、上記液晶層における液晶分子が、上記第１および第２の基板に垂直に配向する、横電界駆動方式を用いた垂直配向型の液晶パネルであって、上記第１および第２の基板のうち少なくとも一方の基板に絶縁層が設けられており、各画素は、赤色、緑色、青色の３つのサブ画素からなり、青色のサブ画素における領域の上記絶縁層の比誘電率は３であり、緑色のサブ画素における領域の上記絶縁層の比誘電率は３〜７であり、赤色のサブ画素における領域の上記絶縁層の比誘電率は４〜７であることを特徴としている。

上記の各構成によれば、上記したように横電界駆動方式を用いた垂直配向型の液晶パネルにおいて、第１および第２の基板のうち少なくとも一方の基板に絶縁層が設けられており、青色、緑色、赤色色の各サブ画素における領域の上記絶縁層（第１の絶縁層）が、上記比誘電率を有することで、階調反転が生じず、しかも、各サブ画素におけるＶＴ（電圧−透過率）カーブの形状を近似させることができる。このため、上記の各構成によれば、上記液晶パネルにおける正面での色味変化が少ない液晶パネルを提供することができる。

また、上記液晶パネルが、１つの画素内に、絶縁層（第１の絶縁層）の比誘電率が異なる領域を少なくとも２つ備えている場合、１つの画素内に、上記横電界を発生させたときに等電位線の形状が異なる少なくとも２つの領域が形成される。この場合、１つの画素内に、液晶分子の配向方向が異なる少なくとも２つの領域が形成されるので、１つの画素内に、異なるＶＴカーブを有する領域を形成することができる。この結果、上記液晶パネルをマルチＶＴ化することができ、上記液晶パネルの視野角特性を改善することができる。具体的には、例えば、斜め方向から見たときの白浮きを低減することができる。

また、上記の各構成によれば、絶縁層（第１の絶縁層）の比誘電率を部分的に変更するだけで容易にマルチＶＴ化することができる。

したがって、上記したように、上記液晶パネルが、１つの画素内に、絶縁層の比誘電率が異なる領域を少なくとも２つ備えている場合、正面での色味変化が少なく、かつ、視野角特性に優れるとともに、簡素な工程で製造が可能な液晶パネルを提供することができる。

しかも、上記液晶パネルは、横電界駆動方式を用いた垂直配向型の液晶パネルであり、このような液晶パネルにおいては、横電界の印加によりセル内に弓なり状（ベンド状）の液晶配向分布が形成されることから、ベンド配向に基づく高速応答性、自己補償型配列による広視野角、垂直配向に起因する高コントラストを得ることができる。

また、本発明にかかる液晶表示装置は、本発明にかかる上記液晶パネルを備えていることを特徴としている。

上記の構成によれば、上記液晶表示装置が上記液晶パネルを備えていることで、上記液晶表示装置における液晶パネル正面での色味変化が少ない液晶表示装置を提供することができる。

本発明にかかる液晶パネルおよび液晶表示装置は、上記したように横電界駆動方式を用いた垂直配向型の液晶パネルにおいて、第１および第２の基板のうち少なくとも一方の基板に絶縁層が設けられており、青色、緑色、赤色の各サブ画素における領域の上記絶縁層（第１の絶縁層）が、上記比誘電率を有することで、階調反転が生じず、しかも、各サブ画素におけるＶＴ（電圧−透過率）カーブの形状を近似させることができる。このため、本発明によれば、上記液晶パネルにおける正面での色味変化が少ない液晶パネルを提供することができる。

また、上記液晶パネルが、１つの画素内に、絶縁層（第１の絶縁層）の比誘電率が異なる領域を少なくとも２つ備えている場合、１つの画素内に、上記横電界を発生させたときに等電位線の形状が異なる少なくとも２つの領域が形成される。この場合、１つの画素内に、液晶分子の配向方向が異なる少なくとも２つの領域が形成されるので、１つの画素内に、異なるＶＴカーブを有する領域を形成することができる。この結果、上記液晶パネルをマルチＶＴ化することができ、上記液晶パネルの視野角特性を改善することができる。

したがって、上記したように、上記液晶パネルが、１つの画素内に、絶縁層の比誘電率が異なる領域を少なくとも２つ備えている場合、正面での色味変化が少なく、かつ、視野角特性に優れるとともに、簡素な工程で製造が可能な液晶パネルを提供することができる。

本発明の実施の形態１にかかる液晶パネルの要部の概略構成を模式的に示す断面図である。 図１に示す液晶パネルの櫛歯電極と、等電位線の形状が異なる電界領域との関係を示す平面図である。 本発明の実施の形態１にかかる液晶表示装置の概略構成を模式的に示す断面図である。 比較に用いた液晶パネルの要部の概略構成を示す断面図である。 比較に用いた他の液晶パネルの要部の概略構成を模式的に示す断面図である。 本発明の実施の形態１にかかる液晶パネルにおける液晶セル内の電界分布と該液晶セル内の液晶ダイレクタ分布とを示す図である。 図４に示す液晶パネルにおける液晶セル内の電界分布と該液晶セル内の液晶ダイレクタ分布とを示す図である。 （ａ）〜（ｃ）は、それぞれ、異なる電圧が印加された場合の液晶分子のダイレクタの方向と光の進行方向との関係を示す図であり、（ａ）は電圧ＯＦＦ時、（ｂ）は中間電圧ＯＮ時、（ｃ）は通常の電圧ＯＮ時における、液晶分子のダイレクタの方向と光の進行方向との関係を示す図である。 （ａ）〜（ｃ）は、中間電圧が印加された場合の液晶分子のダイレクタの方向と光の進行方向との関係を示す図であり、（ａ）は、本発明の実施の形態１にかかる液晶パネルにおける第１の電界領域、（ｂ）は、本発明の実施の形態１にかかる液晶パネルにおける第２の電界領域、（ｃ）は、比較例１で用いた液晶パネルにおける電界領域における、中間電圧ＯＮ時の液晶分子のダイレクタの方向と光の進行方向との関係を示す図である。 本発明の実施の形態１にかかる液晶パネルにおいて、比誘電率が異なる２種類の絶縁材料を用いたときの、各電界領域における正面方向でのＶＴカーブ並びにこれらＶＴカーブを合成したＶＴカーブを示すグラフである。 本発明の実施の形態１にかかる液晶パネルの正面階調に対する斜め方向の階調を示すグラフである。 図４に示す液晶パネルの正面階調に対する斜め方向の階調を示すグラフである。 本発明の実施の形態１にかかる液晶パネルにおいて絶縁材料の比誘電率を種々変更したときのＶＴカーブを示すグラフである。 本発明の実施の形態１にかかる液晶パネルにおける、正面階調に対する斜め方向の階調輝度比を示すグラフである。 本発明の実施の形態１にかかる液晶パネルの青色のサブ画素における絶縁層の比誘電率を種々変化したときのＶＴカーブを示すグラフである。 本発明の実施の形態１にかかる液晶パネルの緑色のサブ画素における絶縁層の比誘電率を種々変化したときのＶＴカーブを示すグラフである。 本発明の実施の形態１にかかる液晶パネルの赤色のサブ画素における絶縁層の比誘電率を種々変化したときのＶＴカーブを示すグラフである。 正面方向でのＲＧＢの各色のＶＴカーブを合成した白状態のＶＴカーブを示すグラフである。 各色のサブ画素における比誘電率を種々変更したときのＶＴカーブを示すグラフである。 各色のサブ画素における絶縁層の比誘電率を種々変更したときに、比誘電率を３とした青色のサブ画素に対し、規格化透過率によるＶＴカーブが同形状で立ち上がるＶＴカーブを示すグラフである。 本発明の実施の形態２にかかる液晶パネルの要部の概略構成を模式的に示す断面図である。 本発明の実施の形態２にかかる液晶パネルにおける、正面階調に対する斜め方向の階調輝度比を示すグラフである。 本発明の実施の形態３にかかる液晶パネルにおける、正面階調に対する斜め方向の階調輝度比を示すグラフである。 本発明の実施の形態３にかかる液晶パネルにおける、正面階調に対する斜め方向の階調輝度比を示すグラフである。 横電界駆動方式を用いた従来の垂直配向型の液晶パネルの要部の概略構成を示す断面図である。 図２５に示す、横電界駆動方式を用いた従来の垂直配向型の液晶パネルにおける、正面の各サブ画素でのＶＴカーブを示す。 図２５に示す液晶パネルにおける、正面階調に対する斜め方向の階調輝度比を示すグラフである。 特許文献２に記載の液晶表示装置における要部の概略構成を示す平面図である。 特許文献３に記載の液晶表示装置における要部の概略構成を示す断面図である。 （ａ）・（ｂ）は、それぞれ、特許文献４に記載の液晶表示装置における要部の概略構成を示す断面図である。 特許文献４に記載の液晶表示装置における要部の概略構成を示す他の断面図である。

本願発明者らは、横電界駆動方式を用いた垂直配向型の液晶パネルにおける正面の色味変化を抑制すべく、まず、この原因の究明を行った。

そこで、まず、本発明について説明する前に、図２５を参照して、横電界駆動方式を用いた従来の垂直配向型の液晶パネル３００の概略構成について以下に説明する。

〔液晶パネル３００〕
図２５は、横電界駆動方式を用いた従来の垂直配向型の液晶パネル３００の要部の概略構成を示す断面図である。

図２５に示すように、液晶パネル３００は、基板６０（アレイ基板）と、基板７０（対向基板）との間に液晶層５０が挟持された構成を有している。

基板６０は、ガラス基板１１上に、櫛歯電極１４・１５、配向膜１６が、この順に積層された構成を有している。

櫛歯電極１４・１５は、櫛歯の歯にあたる、各櫛歯電極１４・１５の枝電極１４Ａ（１４Ａ１、１４Ａ２、…１４Ａｍ；ｍは１以上の整数）と枝電極１５Ａ（１５Ａ１、１５Ａ２、…１５Ａｎ；ｎは１以上の整数）とが互いに噛み合うように交互に配置されている。

上記櫛歯電極１４・１５のうちの一方の櫛歯電極１４（第１の電極）は共通電極であり、他方の櫛歯電極１５（第２の電極）は画素電極である。

また、配向膜１６は、電界無印加時に液晶層の液晶分子を基板面に垂直に配向させるいわゆる垂直配向膜である。配向膜１６は、ガラス基板１１上に、櫛歯電極１４・１５を覆うように設けられている。

また、基板７０は、ガラス基板２１上に、Ｒ（赤）、Ｇ（緑）、Ｂ（青）の各色のカラーフィルタ２２およびブラックマトリクス２３、配向膜２６が、この順に設けられた構成を有している。

各画素６（つまり、１画素）は、Ｒ、Ｇ、Ｂの３つのサブ画素６Ｒ・６Ｇ・６Ｂ（ドット）で構成されている。各サブ画素６Ｒ・６Ｇ・６Ｂには、図２５に示すように、Ｒ、Ｇ、Ｂのそれぞれの波長の光を透過する、Ｒ、Ｇ、Ｂの各色のカラーフィルタ２２が形成されている。

以下に、検証に用いた液晶パネル３００の製造方法について、具体的に説明する。

まず、図２５に示すように、ガラス基板１１上に、ＩＴＯからなる櫛歯電極１４・１５を、厚み＝１０００Å、電極幅Ｌ＝４μｍ、電極間隔Ｓ＝４μｍにて形成した。

次いで、上記ガラス基板１１上に、上記櫛歯電極１４・１５を覆うように、ＪＳＲ社製の配向膜塗料「ＪＡＬＳ−２０４」（商品名、固形分５ｗｔ．％、γ−ブチロラクトン溶液）を、スピンコート法にて塗布した。その後、２００℃にて２時間焼成することにより、液晶層５０との対向面となる表面に、垂直配向膜である配向膜１６が設けられた基板６０を形成した。

一方、ガラス基板２１上に、常用の方法で、厚み１．２μｍのカラーフィルタ２２およびブラックマトリクス２３を形成した。さらにその上に、配向膜１６と同じ材料、同じプロセスにて、配向膜２６として垂直配向膜を形成した。これにより、ガラス基板２１上に、カラーフィルタ２２およびブラックマトリクス２３、配向膜２６が、この順に設けられた基板７０を形成した。また、このようにして形成した配向膜１６・２６の乾燥膜厚は１０００Å（＝０．１μｍ）であった。

その後、上記基板６０・７０のうち一方の基板上に、スペーサとして、直径３．２５μｍの樹脂ビーズ「ミクロパールＳＰ２０３２５」（商品名、積水化学工業株式会社製）を分散させた。一方、上記基板に対峙する他方の基板上に、シール剤として、シール樹脂「ストラクトボンドＸＮ−２１Ｓ」（商品名、三井東圧化学工業株式会社製）を印刷した。

次に、上記基板６０・７０を貼り合わせ、１３５℃で１時間焼成した。

その後、上記基板６０・７０間に、液晶材料としてメルク株式会社製のポジ型液晶材料（Δε＝２０、Δｎ＝０．１５）を真空注入法にて封入することにより、一対の基板６０・７０間に液晶層５０が挟持された液晶セル３０１を作製した。

続いて、上記液晶セル３０１の表裏面に、偏光板３５・３６を、偏光板３５・３６の透過軸が直交し、かつ櫛歯電極１４・１５における各枝電極１４Ａ・１５Ａの延伸方向と偏光板３５・３６の透過軸とが４５゜の角度をなすように貼合した。これにより、図２５に示す液晶パネル３００を作製した。

図２６に、図２５に示す、横電界駆動方式を用いた従来の垂直配向型の液晶パネル３００における、正面（極角０度）の各サブ画素６Ｒ・６Ｇ・６ＢでのＶＴカーブを示す。なお、図２６中、横軸は印加電圧を示し、縦軸は、透過率を規格化した、規格化透過率（透過率比）を示す。

また、図２６に示す、各サブ画素６Ｒ・６Ｇ・６Ｂにおける印加電圧と規格化透過率との関係を、表１に示す。

図２６に示すように、Ｒ（赤）色のサブ画素６ＲおよびＧ（緑）色のサブ画素６Ｇでは同形状のＶＴカーブが得られるが、Ｂ（青）色のサブ画素６Ｂでは、サブ画素６Ｒ・６Ｇよりも低電圧側でＶＴカーブが最大値を示し、その後、サブ画素６Ｒ・６Ｇよりも低下する。

このため、上記液晶パネル３００では、ＲＧＢの３色の合成である白の色味が、Ｂ成分（青色成分）が少なくなるため、黄色味掛かる。これが、横電界駆動方式を用いた従来の垂直配向型の液晶パネル３００における正面の色味変化の理由である。

したがって、電圧の印加に付随して色味が変化しないようにするためには、各色のサブ画素６Ｒ・６Ｇ・６ＢにおけるＶＴカーブの形状が同形状であることが望ましい。

そこで、本願発明者らは、各色のサブ画素６Ｒ・６Ｇ・６ＢにおけるＶＴカーブの形状を揃えるべく、まず、駆動画素内のＶ−Ｔ特性を部分的に変化させ、異なる２つ以上のＶ−Ｔ特性を持たせる（以下、「マルチＶＴ化」と記す）ことを試みた。

液晶表示装置は、各種表示装置のなかでも薄型で軽量かつ消費電力が小さいといった利点を有する一方、視野角特性が狭いという課題を有している。この要因としては、液晶表示装置は、表示特性が視角により変化することが挙げられる。

液晶表示装置は、液晶層に電界を印加して液晶セル内の液晶分子を動作（回転）させることで液晶セルを透過する光量を制御して表示を行う。ところが、液晶分子は棒状であるため、例えば液晶表示装置における液晶パネルを正面方向から見た場合と斜め方向から見た場合とでは複屈折の状態が異なる。このため、視角によってＶ（電圧）−Ｔ（透過率）特性が変化する。

この結果、例えば斜め方向から見た場合の白浮き現象が生じ、液晶パネルに表示されている内容が斜め方向から見づらくなるという問題が生じる。なお、斜め方向から見た場合の白浮き現象とは、電圧印加時の黒表示における斜め視角方向の透過率が十分に小さくならず、表示が白く浮いた状態になる現象（輝度浮き）を示す。

そこで近年、このような問題点を解決すべく、マルチＶＴ化によって、液晶パネルを正面から見た場合と斜めから見た場合とでのＶ−Ｔのずれを平均化し、視野角特性を改善する技術が幾つか提案されている（例えば、特許文献２〜４参照）。

図２８は、特許文献２に記載の液晶表示装置における要部の概略構成を示す平面図である。

図２８に示すように、特許文献２に記載の液晶表示装置は、ＩＰＳモードのように、電界無印加時に液晶分子４０４が基板面に平行な方向に配向する水平配向型の液晶セルに、一方の基板４０１に設けられた駆動電極４０２・４０３（画素電極および共通電極）間に発生する横電界を印加することで表示を行う水平配向−横電界駆動型の液晶表示装置である。

このような水平配向−横電界駆動型の液晶表示装置において駆動電極４０２・４０３に屈曲部４０２ａ・４０３ａを設け、これら屈曲部４０２ａ・４０３ａを結ぶＡ−Ａ線でこれら駆動電極の形状が線対称となるようにこれら駆動電極を形成してマルチＶＴ化すると、上記Ａ−Ａ線によって分割されるこれら駆動電極間の２つの領域で、電界が各々異なった方向に発生する。

このため、このような水平配向−横電界駆動型の液晶表示装置においてこれら駆動電極に上記したように屈曲部４０２ａ・４０３ａを設けると、白表示状態において斜め方向から見たときに、２つの領域で異なる色の色付きが生じ、それらが互いに補償し合うことで色付きが低減する。

しかしながら、このような液晶表示装置においては、画素領域の開口率を大きく保つように駆動電極４０２・４０３を形成する必要がある。このため、両電極を密集して形成することはできず、印加電圧が小さいと電界が小さくなるため、応答に時間がかかる。

そこで、特許文献２では、図２８に示すように、さらに、駆動電極４０２の屈曲角度と駆動電極４０３の屈曲角度とを互いに異ならせることで、画素内における駆動電極４０２・４０３間の電極間隔を徐々に変化させ、これにより画素内における電極幅と電極間隔との比を徐々に変化させている。

これにより、特許文献２では、斜め方向から見たときの色付きの低減を図る一方、電極間隔が広い部分では、大きい電圧を印加すると電界強度が大きくなるようにし、電極間隔が狭い部分では、小さい電圧で大きな電界が加わるようにして中間調表示の応答の改善を図っている。

しかしながら、特許文献２に記載の方法では、角度差が大きくなりすぎると画素内の駆動電極の占める面積が大きくなり、開口率を低下させる。このため、特許文献２のように駆動電極４０２・４０３に屈曲部４０２ａ・４０３ａを設けてマルチＶＴ化する方法は、何れにしても開口率による規制が大きい。

また、図２９は、特許文献３に記載の液晶表示装置における要部の概略構成を示す断面図である。

特許文献３に記載の液晶表示装置は、図２９に示すように、一対の基板５０１・５１１が、互いに同一方向にラビングされた配向膜５０２・５１２を有する水平配向型の液晶セル５２０を備え、該液晶セル５２０に、一方の基板５０１に設けられた画素電極５０３と共通電極５０４との間に発生する横電界を印加することで表示を行う、水平配向−横電界駆動型の液晶表示装置である。

特許文献３には、図２９に示すように、上記他方の基板５１１に、互いに透過波長が異なる、Ｒ（赤）、Ｇ（緑）、Ｂ（青）の各色の色層５１３〜５１５を設け、各色層５１３〜５１５における透過波長に応じて画素内のセル厚ｄＲ、ｄＧ、ｄＢをそれぞれ異ならせてマルチＶＴ化することで、どの方向からみても全く色つきのない液晶表示装置を得ることができることが開示されている。

しかしながら、特許文献３に記載の技術は、上記したように各色層５１３〜５１５における透過波長に応じて画素内のセル厚ｄＲ、ｄＧ、ｄＢを変化させる必要がある。このため、セル厚の設定に技術的な規制が大きく、しかも製造プロセスが複雑化するという問題点がある。

図３０の（ａ）・（ｂ）および図３１は、それぞれ、特許文献４に記載の液晶表示装置における要部の概略構成を示す断面図である。

特許文献４に記載の液晶表示装置は、図３０の（ａ）・（ｂ）および図３１に示すように、一対の基板（図示せず）にそれぞれ駆動電極６０１・６０２を設け、上記一対の基板間に挟持された液晶層６０３に上記駆動電極６０１・６０２間に発生する縦電界を印加することで表示を行う縦電界駆動型（垂直配向−縦電界駆動型または水平配向−縦電界駆動型）の液晶表示装置である。

図３０の（ａ）に示す例では、一対の基板のうち一方の基板の駆動電極６０１上に絶縁層６０４を設けることでマルチＶＴ化している。また、図３０の（ｂ）に示す例では、両基板に設けられた駆動電極６０１・６０２上に、それぞれ絶縁層６０４を設けることでマルチＶＴ化している。

特許文献４によれば、図３０の（ａ）・（ｂ）および図３１に示すように縦電界駆動方式を用いた液晶表示装置において、少なくとも一方の駆動電極上に、縦電界を印加したときに画素領域での電界の向きを異ならせる絶縁層６０４を設けると、例えば図３０の（ａ）・（ｂ）に破線で示すように、電気力線が、絶縁層６０４によって駆動電極６０１・６０２に垂直な方向に対して傾斜する。

さらに、図３１に示す例では、一方の基板の駆動電極６０１上に絶縁層６０４を一様に形成し、その後、絶縁層６０４の一部に紫外線を照射して、紫外線を照射した領域６０４ａの比誘電率を、紫外線を照射しない領域６０４ｂの比誘電率よりも減少（ε＞３）させることでマルチＶＴ化している。なお、図３１に示す例では、絶縁層６０４並びに他方の駆動電極６０２上には、垂直配向膜６０５・６０６がそれぞれ設けられている。

しかしながら、図３０の（ａ）・（ｂ）に示す技術は、垂直方向に電界駆動するＶＡ方式において効果を発揮するものである。

一方、図３１に記載の技術に関し、本願発明者らが、後述する図２５に示す、垂直配向（ＶＡ）タイプの垂直電界型の液晶パネル２００を用いて、その視野角特性について検証を行った結果、視野角特性を十分に改善することはできなかった。

したがって、従来、様々な表示方式におけるマルチＶＴ化の検討はなされているものの、本発明が目的とする、横電界駆動方式を用いた垂直配向型の液晶パネルおよび液晶表示装置における正面での色味変化の改善は勿論のこと、斜め方向から見たときの白浮き現象が少なく、視野角特性に優れ、かつ、特別なセル厚変更や駆動電極の設計を必要とせず、簡素な工程で製造が可能な液晶パネル並びに液晶表示装置は、未だ知られていない。

そこで、本願発明者らは、正面の色味変化が少ない、横電界駆動方式を用いた垂直配向型の液晶パネルおよび液晶表示装置を提供することを第１の目的とし、さらに、正面での色味変化の低減に加え、斜め方向から見たときの白浮き現象が少なく、視野角特性に優れ、かつ、特別なセル厚変更や駆動電極の設計を必要とせず、簡素な工程で製造が可能な液晶パネル並びに液晶表示装置について、鋭意検討を行った。

すなわち、液晶パネル正面の色調の黄変は、各色のＶＴカーブが異なるためであり、この問題を解決するには、マルチＶＴ化する必要がある。また、斜め方向から見たときの白浮きの改善には、マルチＶＴ化が有効である。

そこで、本願発明者らが鋭意検討した結果、本願発明者らは、横電界駆動方式を用いた垂直配向型の液晶パネルにおいて、１つの画素内に、比誘電率が異なる絶縁層からなる少なくとも２つの領域を設けることで、斜めから見たときの白浮きがなく、高速応答が可能でかつ簡素な工程で製造が可能な液晶パネルを形成することができることを見出した。

前記したように特許文献４には、絶縁層に比誘電率が異なる領域を設けることで、ＶＡタイプの液晶表示装置のマルチＶＴ化が可能となることが開示されている。しかしながら、ＶＡタイプの液晶表示装置では、これによって十分な視野角特性の改善は望めない。

しかしながら、本願発明者らがさらに検討を行った結果、驚くべきことに、横電界駆動方式を用いた垂直配向型の液晶パネルにおいて、少なくとも一方の基板に絶縁層を設けるとともに、該絶縁層の比誘電率を部分的に変更し、１つの画素内に、比誘電率が異なる少なくとも２つの領域を設けると、容易にマルチＶＴ化が可能であるのみならず、斜めから見たときの白浮きを十分に改善することができることが判った。

このように横電界駆動方式を用いた垂直配向型の液晶パネルにおいて、１つの画素内に、比誘電率が異なる絶縁層からなる少なくとも２つの領域を設けると、液晶パネルにおける、各絶縁層に対応した領域に、それぞれ形状の異なる等電位線が形成されることで、画素内の電界条件が部分的に変更され、画素内に、異なる電圧−透過率カーブ（以下、「ＶＴカーブと記す」）を有する少なくとも２つの電界領域が形成される。これにより、簡素な工程で、斜め方向から見たときの白浮きが改善される。

しかも、横電界駆動方式を用いた垂直配向型の液晶パネルは、電界の印加によりセル内に弓なり状（ベンド状）の液晶配向分布が形成されることから、ベンド配向に基づく高速応答性、自己補償型配列による広視野角、垂直配向に起因する高コントラストを得ることができる。

しかしながら、上記したようにマルチＶＴ化しただけでは、色味変化の問題は解決されない。

そこで、本願発明者らは、この液晶パネル正面の色調の黄変を改善すべく、さらに鋭意検討を行った。

この結果、本願発明者らは、各色のサブ画素における絶縁層の比誘電率を、各色のＶＴカーブの形状が近似するように組み合わせることで、液晶パネル正面の色味を調整することができることを見出して本発明を完成させるに至った。

すなわち、本願発明者らは、横電界駆動方式を用いた垂直配向型の液晶パネルにおいて、一対の基板のうち少なくとも一方の基板に絶縁層を設けるとともに、各色のサブ画素における領域の絶縁層の比誘電率を、特定の範囲内に設定することで、階調反転が生じず、しかも、各サブ画素におけるＶＴカーブの形状を近似させることができ、この結果、正面での色味変化が少ない液晶パネルを提供することができることを見出した。

また、本願発明者らは、同時に、色味変化のみを問題とした場合、上記液晶パネルの絶縁層のεが３の場合は、必ずしも各色のサブ画素における絶縁層のεが異なる領域を有している必要はないことを見出した。

すなわち、電圧の印加に付随して色味が変化しないようにするためには、階調反転が生じず、かつ、各色のサブ画素６Ｒ・６Ｇ・６ＢにおけるＶＴカーブの形状ができるだけ近似（望ましくは同形状）していればよいことが判った。

また、本願発明者らは、横電界駆動方式を用いた垂直配向型の液晶パネルにおいて、各色のカラーフィルタ層を有する複数のサブ画素からなる１つの画素内に、比誘電率が異なる絶縁層からなる少なくとも２つの領域を設けることで等電位線の形状が異なる少なくとも２つの電界領域を設けてマルチＶＴ化するとともに、各色のＶＴカーブの形状が近似するように各色のサブ画素における絶縁層の比誘電率を設定することで、正面での色味変化が少なく、かつ、視野角特性に優れるとともに、簡素な工程で製造が可能な液晶パネルを提供することができることを見出した。

以下、本発明の実施の形態について、詳細に説明する。

〔実施の形態１〕
本発明の実施の一形態について図１〜図２０に基づいて説明すれば以下の通りである。

まず、本実施の形態にかかる液晶パネル並びに液晶表示装置の概略構成について以下に説明する。

図３は、本実施の形態にかかる液晶表示装置の概略構成を模式的に示す断面図である。

本実施の形態にかかる液晶表示装置１は、図３に示すように、液晶パネル２（液晶表示パネル、液晶表示素子）、駆動回路３、およびバックライト４（照明装置）を備えている。上記駆動回路３およびバックライト４の構成は従来と同じである。したがって、これらの構成については、その説明を省略する。

図１は、上記液晶パネル２の要部の概略構成を模式的に示す断面図である。また、図２は、上記液晶パネル２の櫛歯電極と、等電位線の形状が異なる電界領域との関係を示す平面図である。

本実施の形態にかかる液晶パネル２は、横電界駆動方式を用いた垂直配向型の液晶パネルである。

図１および図３に示すように、本実施の形態にかかる液晶パネル２は、液晶セル５と、偏光板３５・３６と、必要に応じて位相差板３７・３８とを備えている。

上記液晶セル５は、アレイ基板および対向基板として、互いに対向して配置された一対の基板１０・２０を備え、これら一対の基板１０・２０間に、液晶層５０が挟持された構成を有している。

また、上記一対の基板１０・２０のうち少なくとも一方の基板（つまり、少なくとも観察者側の基板）は、絶縁基板（液晶層保持部材、ベース基板）として、ガラス基板等の透明基板を備えている。以下、本実施の形態では、絶縁基板として、それぞれガラス基板を用いた場合を例に挙げて説明するが、本実施の形態はこれに限定されるものではない。

上記基板１０・２０としては、例えば、ＴＦＴ（薄膜トランジスタ）基板等のアレイ基板や、ＣＦ（カラーフィルタ）基板等を用いることができる。

なお、以下の説明では、表示面側（観察者側）の基板を上側の基板とし、他方の基板を下側の基板として説明するとともに、下側の基板１０としてアレイ基板を使用し、上側の基板２０として対向基板を使用した場合を例に挙げて説明する。しかしながら、本実施の形態はこれに限定されるものではない。

ここで、まず、液晶セル５における各構成について説明する。はじめに、基板１０（第１の基板、アレイ基板）の構成について説明する。

基板１０は上記したようにアレイ基板であり、スイッチング素子として、例えば、図示しないＴＦＴを備えている。

基板１０は、図１に示すように、例えば、ガラス基板１１上に、ベタ電極１２（第３の電極）、絶縁層１３（アレイ側絶縁層）、櫛歯電極１４・１５（第１および第２の電極、図２参照）、配向膜１６が、この順に積層された構成を有している。

上記ベタ電極１２および櫛歯電極１４・１５は、横電界発生用の電極である。

ベタ電極１２は共通電極であり、ガラス基板１１上に、基板１０における表示領域（シール剤で囲まれた領域）を覆うように、ガラス基板１１における基板２０との対向面のほぼ全面に渡ってベタ状に形成されている。

また、絶縁層１３は、ベタ電極１２を覆うように、基板１０における表示領域全体にベタ状に形成されている。

上記絶縁層１３上に形成された櫛歯電極１４・１５は、櫛歯状の電極であり、幹電極（幹ライン）と、幹電極から延びる枝電極１４Ａ・１５Ａ（分岐ライン）とで構成されている。

これら櫛歯電極１４・１５は、図１および図２に示すように、櫛歯の歯にあたる、各櫛歯電極１４・１５の枝電極１４Ａ（１４Ａ１、１４Ａ２、…１４Ａｍ；ｍは１以上の整数）と枝電極１５Ａ（１５Ａ１、１５Ａ２、…１５Ａｎ；ｎは１以上の整数）とが互いに噛み合うように交互に配置されている。

なお、１つの画素内に設けられる櫛歯電極１４・１５の歯（枝電極１４Ａ・１５Ａ）の数（ｍ、ｎ）は特に限定されず、画素ピッチとの関係等において決定される。例えば、上記画素ピッチが１００μｍであり、櫛歯電極１４・１５の電極幅Ｌ（すなわち、電極ラインとなる各枝電極１４Ａ・１５Ａの幅）が４μｍ、櫛歯電極１４・１５間の電極間隔Ｓ（すなわち、スペースとなる各枝電極１４Ａ・１５Ａ間の距離）が４μｍである場合には、１個の画素内に各櫛歯電極１４・１５における枝電極１４Ａ・１５Ａを、それぞれ６本ずつ、計１２本設けることができる。

上記櫛歯電極１４・１５のうちの一方の櫛歯電極１４（第１の電極）は共通電極であり、ベタ電極１２と同電位（主に０Ｖ）となっている。また、他方の櫛歯電極１５（第２の電極）は画素電極であり、図示しないドレイン電極で、信号線およびＴＦＴ等のスイッチング素子に接続されており、映像信号に応じた信号が印加される。

また、配向膜１６は、電界無印加時に液晶層の液晶分子を基板面に垂直に配向させるいわゆる垂直配向膜である。なお、上記「垂直」には、「略垂直」も含まれる。配向膜１６は、ガラス基板１１上に、櫛歯電極１４・１５を覆うように設けられている。

上記したように、基板１０は、共通電極と画素電極とが絶縁層を介して重畳配置される、いわゆるＦＦＳ（Fringe Field Switching）モードの表示方式を用いた液晶パネルにおける電極基板（アレイ基板）の電極構成に類似の構成を有している。したがって、以下、上記構成を有する基板を、「ＦＦＳ構造」の基板と称する。

但し、本実施の形態にかかる液晶パネル２は、単に基板１０の電極構成に上記したＦＦＳ構造を採用しているにすぎず、いわゆるＦＦＳモードの液晶パネルとは異なるものである。

ＦＦＳモードは、電圧無印加時に、一対の基板間に挟まれた液晶分子の長軸方向が基板面に平行なホモジニアス配向している。これに対し、本実施の形態にかかる液晶パネル２は、電圧無印加時に、一対の基板１０・２０間に挟まれた液晶分子５２の長軸方向が基板面に垂直なホメオトロピック配向を示している。このため、本実施の形態にかかる液晶パネル２は、ＦＦＳモードとは、液晶分子５２の挙動が全く異なっている。

また、櫛歯電極の電極幅をＬとし、電極間距離をＳとし、セルギャップ（液晶層の厚み）をＤとすると、ＦＦＳモードでは、電極間隔Ｓを電極幅ＬやセルギャップＤよりも小さくしていわゆるフリンジ電界を生じさせることで表示を行っている。

しかしながら、本実施の形態では、後述する実施例に示すように、電極間隔ＳをセルギャップＤよりも大きく設定している。但し、本発明において、液晶セル５全体の透過率とセルギャップＤとの間に必ずしも相関はない。このため、セルギャップＤは、特に限定されない。

次に、基板２０（第２の基板、ＣＦ基板）の構成について説明する。

基板２０は、ガラス基板２１上に、Ｒ（赤）、Ｇ（緑）、Ｂ（青）の各色のカラーフィルタ２２およびブラックマトリクス２３、ベタ電極２４（第４の電極）、絶縁層２５（ＣＦ側絶縁層）、配向膜２６が、この順に設けられた構成を有している。

各画素６（つまり、１画素）は、Ｒ、Ｇ、Ｂの３つのサブ画素６Ｒ・６Ｇ・６Ｂ（ドット）で構成されている。各サブ画素６Ｒ・６Ｇ・６Ｂには、図１に示すように、Ｒ、Ｇ、Ｂのそれぞれの波長の光を透過する、Ｒ、Ｇ、Ｂの各色のカラーフィルタ２２が形成されている。

なお、図１および図２では、図示並びに説明の便宜上、櫛歯電極１４・１５の隣り合う枝電極１５Ａ・１４Ａ間に対応して各サブ画素６Ｒ・６Ｇ・６Ｂが設けられているものとする。しかしながら、上記したように、枝電極１４Ａ・１５Ａの数（ｍ、ｎ）は、実際には、例えば各櫛歯電極１４・１５の電極幅Ｌおよび電極間隔Ｓと画素ピッチとの関係において決定され、各サブ画素６Ｒ・６Ｇ・６Ｂ内に複数の枝電極１５Ａ・１４Ａが設けられていてもよいことは、説明するまでもない。

また、ベタ電極２４は共通電極であり、カラーフィルタ２２およびブラックマトリクス２３を覆うように、基板２０における表示領域（すなわち、図示しないシール剤で囲まれた領域）全体にベタ状に形成されている。

絶縁層２５は、ベタ電極２４を覆うように、基板２０における表示領域全体にベタ状に形成されている。絶縁層２５は、１つの画素６内に、比誘電率（比誘電率）が異なる絶縁層からなる少なくとも２つの領域を有し、オーバーコート層（平坦化層）として機能する一方、等電位線の形状が異なる少なくとも２つの電界領域を形成するマルチＶＴ層として機能する。

配向膜２６は、配向膜１６同様、いわゆる垂直配向膜である。配向膜２６は、上記絶縁層２５を覆うようにベタ状に設けられている。

次に、上記基板１０・２０における各層の材料並びにその形成方法について説明する。

上記櫛歯電極１４・１５およびベタ電極１２・２４としては、少なくとも観察者側の基板に設けられたベタ状電極が透明な電極材料にて形成されていれば、特に限定されるものではない。これら電極は、例えば、ＩＴＯ（インジウム錫酸化物）、ＩＺＯ（インジウム亜鉛酸化物）等の透明電極材料からなっていてもよく、アルミニウム等の金属からなっていてもよい。また、これら電極は、互いに同じ電極材料にて形成されていてもよく、それぞれ異なる電極材料にて形成されていもよい。

これら電極を形成（積層）する方法は特に限定されるものではなく、スパッタリング法、真空蒸着法、プラズマＣＶＤ法等、従来公知の各種方法を適用することができる。また、これら電極のうち櫛歯電極１４・１５をパターン形成する方法も特に限定されるものではなく、フォトリソグラフィ等の公知のパターニング方法を用いることができる。

これら電極の膜厚は特に限定されるものではないが、好適には、１００Å〜２０００Åの範囲内において設定される。

また、絶縁層１３・２５としては、アクリル系樹脂等の有機絶縁材料、窒化シリコン（ＳｉＮ）等の無機絶縁材料等、各種絶縁材料を用いることができる。

本実施の形態では、絶縁層１３は、１層、すなわち、絶縁層１３の形成領域全体に渡って同じ絶縁材料（１種の絶縁材料）にて形成されている。

一方、絶縁層２５には、１つの画素６内に、比誘電率が異なる絶縁材料からなる少なくとも２つの領域（すなわち、少なくとも２種類の絶縁層）が設けられている。

各サブ画素６Ｒ・６Ｇ・６Ｂには、それぞれ異なる比誘電率を有する絶縁材料からなる絶縁層２５が形成されていてもよく、各画素６を構成するこれら３つのサブ画素６Ｒ・６Ｇ・６Ｂのうち何れか２つのサブ画素における絶縁層２５に対し、比誘電率が同じ絶縁材料（例えば同じ絶縁材料）が共通して用いられていてもよい。したがって、１つの画素６内には、絶縁層２５として、それぞれ比誘電率が異なる絶縁材料からなる３種類の絶縁層が形成されていてもよく、２種類の絶縁層が形成されていてもよい。

図１は、一例として、櫛歯電極１４・１５の各枝電極１５Ａ・１４Ａの中央部を境界とする、枝電極１５Ａ１・１４Ａ１間、枝電極１４Ａ１・１５Ａ２間、枝電極１５Ａ２・１４Ａ２間に対応する、絶縁層２５における各領域を、それぞれ領域２５Ａ・２５Ｂ・２５Ｃとすると、サブ画素６Ｒ・６Ｇに対応する領域２５Ａ・２５Ｂの比誘電率が同じであり、サブ画素６Ｂに対応する領域２５Ｃの比誘電率が他とは異なっている例を示している。

このため、図１および図２に示すように、液晶パネル２における、櫛歯電極１４・１５の各枝電極１５Ａ・１４Ａの中央部を境界とする、枝電極１５Ａ１・１４Ａ１間、枝電極１４Ａ１・１５Ａ２間、枝電極１５Ａ２・１４Ａ２間に対応する電界領域をそれぞれ電界領域３１〜３３とすると、サブ画素６Ｒ・６Ｇに対応する電界領域３１・３２とサブ画素６Ｂに対応する電界領域３３とでは、図１に示すように等電位線の形状が異なっている。

言い換えれば、図１に示す例では、１つの画素６内に、互いに等電位線の形状が異なる、電界領域３１・３２からなる第１の電界領域と、電界領域３３からなる第２の電界領域との２つの電界領域が設けられている。

但し、図１に示す例はあくまでも実施の一形態であり、上記液晶パネル２には、１つの画素６内に、互いに等電位線の形状が異なる３つの電界領域が設けられていてもよい。また、第１の電界領域と第２の電界領域との組み合わせ、つまり、等電位線の形状が同じサブ画素と異なるサブ画素との組み合わせは、特に限定されない。

すなわち、領域２５Ａ〜２５Ｃのうち互いに隣り合う領域（すなわち、互いに隣り合う絶縁層形成領域）には、前記したように、絶縁層２５として、それぞれ異なる比誘電率を有する絶縁材料からなる絶縁層が形成されていてもよく、何れか２つの領域に、他の１つの領域とは異なる比誘電率を有する絶縁材料からなる絶縁層が形成されていてもよい。

また、何れかのサブ画素６Ｒ・６Ｇ・６Ｂ内にも、比誘電率が異なる領域が少なくとも２つ設けられていてもよい。すなわち、上記液晶パネル２において１つの画素６内に形成される電界領域の数は２以上の複数であれば特に限定されるものではなく、画素ピッチや、１つの画素６内に形成される櫛歯電極１４・１５の歯にあたる枝電極１４Ａ・１５Ａの数に応じて、適宜設定が可能である。

なお、上記絶縁層２５の厚さは、電界を効率よく曲げるためには、例えば１μｍ以上、５．０μｍ以下の範囲内であることが好ましく、２．３μｍ以上、５．０μｍ以下の範囲内であることがより好ましい。

また、隣り合う第１の電界領域における絶縁層２５の比誘電率（ε）と第２の電界領域における絶縁層２５の比誘電率（ε）との差は、電界を効率よく曲げる観点からすれば、２〜４．５の範囲内が好ましい。

また、絶縁層１３・２５には、同じ絶縁材料を共通して用いてもよく、互いに異なる絶縁材料を用いてもよい。

これら絶縁層１３・２５を形成（積層）する方法は、特に限定されるものではなく、スパッタリング法、真空蒸着法、プラズマＣＶＤ、塗布等、用いる絶縁材料等に応じて、従来公知の各種方法を適用することができる。

また、絶縁層２５の比誘電率を部分的に変更する方法としては、例えば、絶縁層２５に用いる何れか１種の絶縁材料を、表示領域全体にベタ状に成膜した後、該ベタ状の絶縁層の一部をフォトリソグラフィにより抜き取り、この絶縁層を抜き取った部分に、比誘電率が異なる絶縁材料からなる絶縁層を成膜する方法が挙げられる。なお、この場合、絶縁層を抜き取った部分に後から成膜する絶縁層は、好適には、抜き取った絶縁層と同膜厚となるように成膜される。

また、ベタ状に形成された絶縁層２５に、部分的に紫外線照射等を行うことによっても、絶縁層２５の比誘電率を部分的に変更することが可能である。

このように、上記絶縁層２５の厚さを、比誘電率に拘らず一定とすることで、画素６内で複数のセル厚（液晶層５０の厚さ）を制御する必要がなく、製造が容易になる。

また、液晶分子５２のダイレクタが対称になるような領域を画素６内に設ける場合、画素６内における上記セル厚が均一であると、上記ダイレクタの対称性が崩れ難くなるため、視野角特性をより改善することができる。

また、配向膜１６・２６の材料並びに形成方法も特に限定されるものではない。上記配向膜１６・２６は、例えば、上記櫛歯電極１４・１５あるいはカラーフィルタ２２およびブラックマトリクス２３上に、垂直配向規制力を有する公知の配向膜材料を塗布することで形成することができる。

上記液晶パネル２における液晶セル５は、上記基板１０と基板２０とを、図示しないスペーサを介して図示しないシール剤によって貼り合わせ、両基板１０・２０間の空隙に、液晶材料を含む媒質を封入することにより形成される。

上記液晶材料としては、液晶分子５２の比誘電率異方性Δεが正のｐ（ポジ）型液晶材料、液晶分子５２の比誘電率異方性Δεが負のｎ（ネガ）型液晶材料の何れを用いることもできる。

上記ｐ型液晶材料としては、具体的には、例えば、ネマチック液晶材料が挙げられる。また、上記ｎ型液晶材料としては、例えば、バナナ（BANANA）型の液晶材料が挙げられる。なお、本実施の形態では、上記液晶材料として、ｐ型液晶材料を用いた場合を例に挙げて説明するが、ｐ型液晶材料を用いる場合とｎ型液晶材料を用いる場合との相違点は、ベンド配列（ベンド配向）の向きが異なる点のみであり、本発明は、これによって何ら限定されるものではない。

液晶パネル２は、図１および図３に示すように、上記液晶セル５に、偏光板３５・３６および必要に応じて位相差板３７・３８を貼り合わせることにより形成される。

偏光板３５・３６は、図１および図３に示すように、基板１０・２０における液晶層５０との対向面とは反対側の面にそれぞれ設けられる。また、位相差板３７・３８は、図３に示すように、例えば、基板１０・２０と偏光板３５・３６との間に、必要に応じて設けられる。なお、位相差板３７・３８は、液晶パネル２の一方の面にのみ設けられていてもよい。また、正面透過光のみを利用する表示装置の場合には、位相差板３７・３８は必ずしも必須ではない。

偏光板３５・３６は、例えば、偏光板３５・３６の透過軸が互いに直交し、かつ、枝電極１４Ａ・１５Ｂがそれぞれ延伸される方向と偏光板３５・３６の透過軸とが４５゜の角度をなすように配置される。

次に、上記液晶パネル２の表示方式（垂直配向横電界モード）について、図１を参照して以下に説明する。

上記液晶パネル２は、基板１０・２０の表面に、前記したように、配向膜１６・２６として、垂直配向膜が設けられた構成を有している。このため、上記液晶パネル２において、液晶分子５２は、電界無印加時に、基板面に垂直に配向している。

上記液晶パネル２において、表示は、上記基板１０における画素電極と共通電極との間に電位差が与えられることで行われる。すなわち、上記液晶パネル２の表示は、上記一対の櫛歯電極１４・１５間並びに櫛歯電極１５とベタ電極１２との間に電位差が与えられることで行われる。この電位差により、櫛歯電極１４・１５間並びに櫛歯電極１５とベタ電極１２との間に横電界が発生し、櫛歯電極１４・１５間の電気力線が半円状に湾曲する。液晶分子５２は、液晶セル５内の電界強度分布、および界面からの束縛力に応じて配列する。

これにより、ｐ型液晶材料を用いた場合、液晶分子５２が、図１に示すように、基板厚み方向に弓なりにベンド配列する。なお、ｎ型液晶材料を用いた場合には、液晶分子５２は、基板面内方向に弓なりにベンド配列する。これにより、何れの場合にも、基板面に垂直な方向に進行する光に対して複屈折性を示す。

このように、上記液晶パネル２においては、櫛歯電極１４・１５間に発生する横電界により液晶分子５２を回転させることで、液晶パネル２を透過する光量を制御して表示が行われる。

液晶分子５２は、電圧印加により、ホメオトロピック配向からベンド配列へと連続的に変化する。この結果、通常の駆動においては、液晶層５０は、図１に示すように常にベンド配列を呈し、階調間応答で高速応答が可能となる。

また、本モードでは、このように、垂直配向による高コントラスト性を保ちながら横電界駆動することで液晶分子５２の配向方位を規定している。このため、ＭＶＡモードのような突起物による配向制御が不要であり、単純な画素構成で優れた視野角特性を有している。

また、上記したように垂直配向モードにおいて横電界駆動を行うことで、電界印加によりベンド状（弓なり状）の電界が形成され、隣り合う櫛歯電極１４・１５間に、互いにダイレクタ方位が略１８０度異なる２つのドメインが形成されるとともに、これに伴い、広い視野角特性を得ることができる。

したがって、上記液晶パネル２は、ベンド配向に基づく高速応答性、自己補償型配列による広視野角、垂直配向に起因する高コントラストを得ることができるという利点を有するとともに、構造がシンプルであり、製造が容易で、安価に製造することができるという利点を有している。

しかも、上記液晶パネル２は、上記したようにＦＦＳ構造を有していることで、櫛歯電極１４・１５間のみならず、櫛歯電極１４・１５上の液晶分子５２も駆動される。このため、ベタ電極１２を設けない場合と比較して、開口率を大きくすることができるという利点を有している。

次に、上記液晶パネル２の製造方法について、後述する検証に用いた各サンプル（液晶パネル（１）〜（３））の製造方法を例に挙げて具体的に説明するとともに、上記液晶パネル２の効果について検証した結果について、以下に説明する。

但し、以下の説明における各構成要素の具体的な寸法、材質、製造方法等は、上記したように検証に用いた一条件に過ぎず、以下の説明によって本発明の範囲が限定解釈されるべきではない。また、以下の製造方法について、特に言及しない限りは、各サンプルにおける製造条件は、同一とした。

〔液晶パネル（１）〜（３）〕
まず、図１に示すように、ガラス基板１１上に、スパッタリング法により、ＩＴＯを、厚み１０００Åで全面に成膜した。これにより、ガラス基板１１の表示領域全面を覆うベタ電極１２を形成した。

次に、スパッタリング法により、上記ベタ電極１２全面を覆うように、ε＝３．７のアクリル系の絶縁材料（第１の絶縁材料）を、厚さ１〜３μｍでスピンコート法で塗布・製膜することにより、アレイ側絶縁層として、各サンプルでそれぞれ厚みの異なる絶縁層１３を形成した。

続いて、上記絶縁層１３上に、上層電極として、ＩＴＯからなる櫛歯電極１４・１５を、厚み＝１０００Å、電極幅Ｌ＝４μｍ、電極間隔Ｓ＝４μｍにて形成した。

次いで、上記絶縁層１３上に、上記櫛歯電極１４・１５を覆うように、ＪＳＲ社製の配向膜塗料「ＪＡＬＳ−２０４」（商品名、固形分５ｗｔ．％、γ−ブチロラクトン溶液）を、スピンコート法にて塗布した。その後、２００℃にて２時間焼成することにより、液晶層５０との対向面となる表面に、垂直配向膜である配向膜１６が設けられた基板１０を形成した。

一方、ガラス基板２１上に、常用の方法で、厚み１．２μｍのカラーフィルタ２２およびブラックマトリクス２３を形成した。さらにその上に、スパッタリング法により、ＩＴＯを、厚み１０００Åで全面に成膜した。これにより、ガラス基板２１の表示領域全面を覆うベタ電極２４を形成した。

次に、上記ベタ電極２４上に、部分的に比誘電率が異なる絶縁層２５を形成すべく、まず、ε＝３．７のアクリル系の上記絶縁材料（第１の絶縁材料）を、厚さ１〜３μｍで、上記ベタ電極２４上に、その全面に渡って、スピンコート法で塗布・成膜した。

その後、比誘電率が異なる領域を形成するために、上記第１の絶縁材料からなる絶縁層の一部をフォトリソグラフィにより抜き取り、この絶縁層を抜き取った部分に、ε＝６．９のＳｉＮ（第２の絶縁材料）を、スパッタリング法で、抜き取った絶縁層と同膜厚となるように形成した。これにより、ＣＦ側絶縁層として、前記したように１画素内に比誘電率が異なる２つの領域を有するとともに、各サンプルでそれぞれ厚みの異なる絶縁層２５を形成した。

次に、配向膜１６と同じ材料、同じプロセスにて、上記絶縁層２５上に、配向膜２６として垂直配向膜を形成することで、基板２０を形成した。このようにして形成した配向膜１６・２６の乾燥膜厚は１０００Å（＝０．１μｍ）であった。

その後、上記基板１０・２０のうち一方の基板上に、スペーサとして、直径３．２５μｍの樹脂ビーズ「ミクロパールＳＰ２０３２５」（商品名、積水化学工業株式会社製）を分散させた。一方、上記基板に対峙する他方の基板上に、シール剤として、シール樹脂「ストラクトボンドＸＮ−２１Ｓ」（商品名、三井東圧化学工業株式会社製）を印刷した。

次に、上記基板１０・２０を貼り合わせ、１３５℃で１時間焼成した。

その後、上記基板１０・２０間に、液晶材料としてメルク株式会社製のポジ型液晶材料（Δε＝２０、Δｎ＝０．１５）を真空注入法にて封入することにより、一対の基板１０・２０間に液晶層５０が挟持された液晶セル５を作製した。

続いて、上記液晶セル５の表裏面に、偏光板３５・３６を、偏光板３５・３６の透過軸が直交し、かつ櫛歯電極１４・１５における各枝電極１４Ａ・１５Ａの延伸方向と偏光板３５・３６の透過軸とが４５゜の角度をなすように貼合した。これにより、図１に示す液晶パネル２（液晶表示素子）として、絶縁層１３・２５の厚みがそれぞれ異なる液晶パネル（１）〜（３）を作製した。

次に、上記液晶パネル２の効果を検証すべく、比較に用いた液晶パネルの構造について、その製造方法と併せて以下に説明する。

なお、以下の説明では、主に、上記液晶パネル２との相違点について説明するものとする。また、前記した液晶パネル２・３００における各構成要素と同一の機能を有する構成要素には同一の番号を付し、その説明を省略する。

〔液晶パネル１００〕
図４は、比較に用いた液晶パネル１００の要部の概略構成を示す断面図である。

図４に示す比較用の液晶パネル１００は、基板２０に代えて、ベタ電極２４およびＣＦ側絶縁層である絶縁層２５が設けられていない基板７０を備えている点で、図１に示す液晶パネル２と異なっている。

基板７０は、ベタ電極２４およびＣＦ側絶縁層である絶縁層２５が設けられていない点を除けば、図１に示す基板２０と同じ構成を有している。

以下に、検証に用いた、図４に示す構造を有する液晶パネル１００の各サンプル（液晶パネル（Ａ）〜（Ｃ））の製造方法について具体的に説明する。なお、以下の製造方法においても、特に言及しない限りは、各サンプルにおける製造条件は、同一とした。

〔液晶パネル（Ａ）〜（Ｃ）〕
まず、液晶パネル（１）〜（３）における基板１０の製造方法と同じ材料、同じプロセスにて、液晶パネル（１）〜（３）における基板１０と同じ構造を有する基板１０をそれぞれ形成した。

一方、ベタ電極２４および絶縁層２５を形成しなかったことを除けば、液晶パネル（１）〜（３）における基板２０の製造方法と同じ材料、同じプロセスにて、各液晶パネル（Ａ）〜（Ｃ）に用いる基板７０を形成した。

具体的には、ガラス基板２１上に、液晶パネル（１）〜（３）と同じ材料、同じプロセスで、カラーフィルタ２２およびブラックマトリクス２３を形成した。

次いで、上記カラーフィルタ２２およびブラックマトリクス２３上に、配向膜１６と同じ材料、同じプロセスにて、配向膜２６として垂直配向膜を形成した。これにより、ガラス基板２１上に、カラーフィルタ２２およびブラックマトリクス２３、配向膜２６が、この順に設けられた基板７０を形成した。また、このようにして形成した配向膜１６・２６の乾燥膜厚は１０００Å（＝０．１μｍ）であった。

その後、上記基板１０・７０のうち一方の基板上に、スペーサとして、直径３．２５μｍの樹脂ビーズ「ミクロパールＳＰ２０３２５」を分散させた。一方、上記基板に対峙する他方の基板上に、シール剤として、シール樹脂「ストラクトボンドＸＮ−２１Ｓ」を印刷した。

次に、上記基板１０・７０を貼り合わせ、１３５℃で１時間焼成した。

その後、上記基板１０・７０間に、液晶材料としてメルク株式会社製のポジ型液晶材料（Δε＝２０、Δｎ＝０．１５）を真空注入法にて封入することにより、一対の基板１０・７０間に液晶層５０が挟持された液晶セル１０１を作製した。

続いて、上記液晶セル１０１の表裏面に、液晶パネル（１）〜（３）と同様にして偏光板３５・３６を貼合した。これにより、図４に示す比較用の液晶パネル１００（液晶表示素子）として、絶縁層１３の厚みがそれぞれ異なる液晶パネル（Ａ）〜（Ｃ）を作製した。

次に、比較に用いた他の液晶パネルの構造について、その製造方法と併せて以下に説明する。

なお、以下の説明では、主に、上記液晶パネル２との相違点について説明するものとする。また、前記した液晶パネル２・１００・３００における各構成要素と同一の機能を有する構成要素には同一の番号を付し、その説明を省略する。

〔液晶パネル２００〕
図５は、比較に用いた液晶パネル２００の要部の概略構成を模式的に示す断面図である。

図５に示すように、液晶パネル２００は、垂直配向（ＶＡ）タイプの垂直電界型の液晶パネルであり、液晶パネル２とは表示方式が異なっている。

液晶パネル２００は、図５に示すように、基板２１０（アレイ基板）と、基板２２０（対向基板）との間に液晶層５０が挟持された構成を有している。

基板２１０は、ガラス基板２１１上に、ベタ電極からなるアレイ電極２１２（画素電極）、絶縁層２１３、配向膜２１４がこの順に設けられた構成を有している。

基板２２０は、ガラス基板２２１上に、カラーフィルタ２２２およびブラックマトリクス２２３、ベタ電極からなる対向電極２２４（共通電極）、配向膜２２５がこの順に設けられた構成を有している。

配向膜２１４・２２５は垂直配向膜であり、液晶層５０における液晶分子５２は、電圧無印加時に、各基板２１０・２２０に対して垂直に配向している。

絶縁層２１３には、１つの画素６内に、比誘電率が異なる絶縁材料からなる２つの領域が設けられている。すなわち、上記液晶パネル２００では、部分的に比誘電率が異なる絶縁層２１３が、アレイ基板である基板２１０側のベタ電極であるアレイ電極２１２上に設けられている。

図５は、一例として、絶縁層２１３におけるサブ画素６Ｒ・６Ｇに対応する領域２１３Ａ・２１３Ｂの比誘電率が同じであり、サブ画素６Ｂに対応する領域２１３Ｃの比誘電率が他とは異なっている例を示している。

以下に、検証に用いた、図５に示す構造を有する液晶パネル２００の各サンプル（液晶パネル（Ｄ）〜（Ｅ））の製造方法について具体的に説明する。なお、以下の製造方法においても、特に言及しない限りは、各サンプルにおける製造条件は、同一とした。

〔液晶パネル（Ｄ）〜（Ｅ）〕
まず、図５に示すように、ガラス基板２１１上に、スパッタリング法により、ＩＴＯを、厚み１０００Åで全面に成膜した。これにより、ガラス基板２１１の表示領域全面を覆うベタ状のアレイ電極２１２を形成した。

次に、上記アレイ電極２１２上に、部分的に比誘電率が異なる絶縁層２１３を形成すべく、まず、比誘電率ε＝３．７のアクリル系の絶縁材料（第１の絶縁材料）を、厚さ１〜３μｍで、上記アレイ電極２１２上に、その全面に渡って、スピンコート法で塗布・成膜した。

その後、比誘電率が異なる領域を形成するために、上記第１の絶縁材料からなる絶縁層の一部をフォトリソグラフィにより抜き取り、この絶縁層を抜き取った部分に、比誘電率ε＝６．９のＳｉＮ（第２の絶縁材料）を、スパッタリング法で、抜き取った絶縁層と同膜厚となるように形成した。これにより、アレイ側絶縁層として、各画素６内に比誘電率が異なる２つの領域を有するとともに、各サンプルでそれぞれ厚みの異なる絶縁層２１３を形成した。

次いで、上記絶縁層２１３上に、液晶パネル（１）〜（３）の配向膜１６と同じ材料、同じプロセスにて、配向膜２１４として垂直配向膜を形成した。これにより、ガラス基板２１１上に、アレイ電極２１２、絶縁層２１３、配向膜２１４が、この順に設けられた基板２１０を形成した。

一方、ガラス基板２２１上に、液晶パネル（１）〜（３）と同じ材料、同じプロセスで、カラーフィルタ２２２およびブラックマトリクス２２３を形成した。さらにその上に、スパッタリング法により、ＩＴＯを、厚み１０００Åで全面に成膜した。これにより、ガラス基板２２１の表示領域全面を覆う対向電極２２４を形成した。

次いで、上記対向電極２２４上に、液晶パネル（１）〜（３）の配向膜１６と同じ材料、同じプロセスにて、配向膜５２５として垂直配向膜を形成した。これにより、ガラス基板２２１上に、カラーフィルタ２２２およびブラックマトリクス２２３、対向電極２２４、配向膜２２５が、この順に設けられた基板２２０を形成した。なお、このようにして形成した配向膜２１４・２２５の乾燥膜厚は１０００Å（＝０．１μｍ）であった。

その後、上記基板２１０・２２０のうち一方の基板上に、スペーサとして、直径３．２５μｍの樹脂ビーズ「ミクロパールＳＰ２０３２５」を分散させた。一方、上記基板に対峙する他方の基板上に、シール剤として、シール樹脂「ストラクトボンドＸＮ−２１Ｓ」を印刷した。

次に、上記基板２１０・２２０を貼り合わせ、１３５℃で１時間焼成した。

その後、上記基板２１０・２２０間に、液晶材料としてメルク株式会社製のネガ型液晶材料（Δε＝−３、Δｎ＝０．１）を真空注入法にて封入することにより、一対の基板２１０・２２０間に液晶層５０が挟持された液晶セル２０１を作製した。

続いて、上記液晶セル２０１の表裏面に、液晶パネル（１）〜（３）と同様にして偏光板３５・３６を貼合した。これにより、図５に示す比較用の液晶パネル２００（液晶表示素子）として、絶縁層２１３の厚みがそれぞれ異なる液晶パネル（Ｄ）〜（Ｅ）を作製した。

次に、上記液晶パネル２の効果について、上記比較用の液晶パネル１００・２００・３００を用いて検証した結果について、以下に説明する。

まず、正面の色味変化の改善について説明する前に、マルチＶＴ化による、液晶パネル２の視野角特性の改善効果について説明する。

〔視野角特性〕
まず、本実施の形態にかかる液晶パネル２の視野角特性を、液晶パネル１００との比較により検証した結果について説明する。

なお、以下の説明では、各電界領域におけるＶ−Ｔ特性として、各電界領域における、全体の平均の複屈折に対応するＶ−Ｔ特性（具体的には、白状態におけるＶ−Ｔ特性）について論じるものとし、色別のＶ−Ｔ特性についてはここでは検証しない。色別のＶ−Ｔ特性については、後述する、正面の色味変化に対する考察において検証するものとする。

（等電位線の形状）
本実施の形態にかかる液晶パネル２は、前記したように、１つの画素６内に、等電位線の形状が異なる電界領域を２つ有している。

そこで、まず、上述した各製造方法に記載の材料物性値およびセル構成をもとに作製した液晶パネル２・１００に、それぞれ電圧を印加したときの液晶セル５・１０１内の電界分布と該液晶セル５・１０１内の液晶ダイレクタ分布とをシミュレーションにより計算した結果を、それぞれ図６および図７に示す。

なお、上記シミュレーションには、シンテック社製の「ＬＣＤ−ＭＡＳＴＥＲ」を用いた。また、上記シミュレーションでは、電極幅Ｌ＝４μｍ、電極間隔Ｓ＝６μｍとした。

図６に示す例では、櫛歯電極１４における各枝電極１４Ａを中心として、電界のまとまりが２個形成されている。つまり、液晶セル５には、互いに隣り合う、第１の電界領域と第２の電界領域とにそれぞれ電界のまとまりが形成されている。図６に示すように、第１の電界領域における電界のまとまりと第２の電界領域における電界のまとまりとは、互いに異なっている。これは、各電界領域における電界のまとまりにおける等電位線の形状（曲がり方）が異なっていることを意味する。

図６に示すように、第１および第２の何れの電界領域においても、これら電界領域における各電界のまとまりにおける等電位線は、それぞれの領域内で閉じられた形状を有している。

しかしながら、各電界のまとまりの形状から判るように、第１の電界領域と第２の電界領域とでは、閉じられた等電位線の形状が異なっている。すなわち、図６中、左側の電界領域（第１の電界領域）における等電位線は、図６中、右側の電界領域（第２の電界領域）における等電位線よりも歪んだ形状を有している。

具体的には、第１の電界領域の等電位線は、第２の電界領域の等電位線に比べて、基板１０近傍の間隔が狭くなっており、他方、基板２０近傍では、間隔が広くなっている。

また、上記したように第１の電界領域と第２の電界領域とで等電位線の形状が異なることで、第１の電界領域と第２の電界領域とでは液晶分子５２の配向方向（ダイレクタ）が異なっている。

このように各電界領域で液晶分子５２の配向の方向が異なることで、第１の電界領域と第２の電界領域とではＶＴ特性（ＶＴカーブ）が異なるものとなっている。すなわち、上記液晶パネル２は、いわゆるマルチＶＴ化されている。

一方、比較用の液晶パネル１００を用いた場合にも、図７に示すように、液晶セル１０１内には、櫛歯電極１４における各枝電極１４Ａを中心として、電界のまとまりが２個形成されている。しかしながら、形成される２個の電界のまとまりはほぼ同形状であり、各電界のまとまりにおける等電位線の形状はほぼ同じである。また、各電界のまとまりにおける等電位線の形状は、何れも開いた形状となっている。

図７に示すように、比較用の液晶パネル１００を用いた場合には、各電界のまとまりにおける等電位線の曲がり方が同じである。このことは、比較用の液晶パネル１００では、櫛歯電極１４・１５の各枝電極１４Ａ・１５Ａの中央部を境界とする、各枝電極１４Ａ・１５Ａ間に対応する各電界領域における液晶分子５２の配向方向（ダイレクタ）が同じであることを意味する。言い換えれば、比較用の液晶パネル１００における各電界領域におけるＶＴ特性（ＶＴカーブ）は同じであり、比較用の液晶パネル１００は、第１の電界領域に対して等電位線の形状が異なる第２の電界領域を備えていない。

次に、液晶分子５２のダイレクタの向きと複屈折との関係、液晶パネル２におけるＶＴカーブ、階調輝度比について、順に説明する。

（液晶分子５２のダイレクタの向きと複屈折との関係）
図８の（ａ）、図８の（ｂ）、図８の（ｃ）は、それぞれ、（ａ）電圧ＯＦＦ時、（ｂ）中間電圧ＯＮ時、（ｃ）通常の電圧ＯＮ時の液晶分子５２のダイレクタの方向と光の進行方向との関係を示している。また、各矢印は、光の進行方向、具体的には、それぞれ正面方向の光（正面０度）、極角２０度方向の光（２０度）、極角６０度方向の光（６０度）を示している。

まず、液晶分子５２の傾きと複屈折との関係について説明する。

図８の（ａ）〜（ｃ）に示すように、棒状の液晶分子５２に電界を印加（例えば、ＯＦＦ→中間→ＯＮ）すると、液晶分子５２のダイレクタの向きが変化する。この変化の際、特に液晶分子５２に中間電圧付近の電圧が印加された際、特に斜め方向（極角２０度〜６０度）の光に対して液晶分子５２の長手方向に対する光路が長くなる。

複屈折は、屈折率差Δｎと距離ｄとの積である。したがって、液晶分子５２に中間電圧付近の電圧が印加された際には、液晶分子５２の複屈折が大きくなる。このとき、複屈折は、上記斜め方向に生じるため、液晶パネル２の正面に対しては透過率が上昇する。このため、中間電圧付近では、液晶パネル２の正面と斜め方向との輝度差が大きくなる。

以上のように、液晶分子５２のダイレクタの回転により複屈折が変化し、それにより透過率が変化する。

本実施の形態にかかる液晶パネル２では、上記したように、第１の電界領域と第２の電界領域とで、等電位線の形状が異なるため、第１の電界領域と第２の電界領域とで、液晶分子５２のダイレクタの向きが異なっている。

次に、中間電圧が印加された場合を例に挙げて、液晶分子５２のダイレクタの向きと複屈折との関係について説明する。

（中間電圧）
図９の（ａ）、図９の（ｂ）、図９の（ｃ）は、それぞれ、（ａ）液晶パネル２における第１の電界領域、（ｂ）液晶パネル２における第２の電界領域、（ｃ）液晶パネル１００における電界領域における、電源中間（中間電圧）ＯＮ時の液晶分子５２のダイレクタの方向と光の進行方向との関係を示している。なお、液晶パネル１００では、先に説明した通り、各電界領域における液晶分子のダイレクタは同じである。

複屈折は、光線と、液晶分子５２のダイレクタの短軸とが直交する場合に最小になる。

本実施の形態にかかる液晶パネル２では、図９の（ａ）に示すように、中間電圧印加時に第１の電界領域における液晶分子５２による複屈折が最小になる。

これに対して、第２の電界領域では、図９の（ｂ）に示すように、中間電圧印加時に、第１の電界領域における液晶分子５２による複屈折よりも大きな複屈折が生じる。なお、第２の電界領域における液晶分子５２によって生じる複屈折の大きさは、図９の（ｃ）に示す液晶パネル１００で生じる複屈折の値よりも大きくなる。

しかしながら、上記液晶パネル２では、図９の（ａ）に示す、第１の電界領域で生じる複屈折と、図９の（ｂ）に示す、第２の電界領域で生じる複屈折とを合成した複屈折が全体の複屈折の平均となる。この全体の平均の複屈折は、図９の（ｃ）に示す、液晶パネル１００で生じる複屈折よりも小さくなる。

このため、後述するように、本実施の形態にかかる液晶パネル２では、比較用の液晶パネル１００に比べて、斜め方向に対する透過率の浮きが小さくなる。

具体的には、本実施の形態における、上記全体の平均の複屈折に対応するＶＴカーブは、以下のようになる。

（液晶パネル２におけるＶＴカーブ）
第１の電界領域と第２の電界領域とでは、図９の（ａ）・（ｂ）に示すように、同じ電界が印加された場合、液晶分子５２のダイレクタの向きが異なる。これは、第１の電界領域と第２の電界領域とで絶縁層２５の比誘電率が異なるためである。

第１の電界領域と第２の電界領域とでは、上記したように液晶分子５２のダイレクタの向きが異なるため、ＶＴカーブが異なる。

図１０に、液晶パネル２において、第１絶縁材料および第２絶縁材料として、ε＝３およびε＝７の、比誘電率が異なる２種類の絶縁材料を用いたときの、各電界領域（第１の電界領域、第２の電界領域）における正面方向でのＶＴカーブ並びにこれらＶＴカーブを合成したＶＴカーブ（合成ＶＴ）を示す。

なお、図１０中、細線の実線にて示す曲線が、ε＝３の絶縁層２５が設けられた第１の電界領域におけるＶＴカーブであり、太線の実線にて示す曲線が、ε＝７の絶縁層２５が設けられた第２の電界領域におけるＶＴカーブである。また、図１０中、点線で示す曲線が、これらＶＴカーブを合成して得られたＶＴカーブ（合成ＶＴ）である。

本実施の形態にかかる液晶パネル２では、この合成ＶＴカーブに基づいて各階調電圧が設定される。図１０に示す合成ＶＴカーブに基づけば、例えば中間階調の電圧（中間電圧）は４Ｖとなり、ε＝３の絶縁層２５およびε＝７の絶縁層２５を介して得られる透過率は、それぞれ、基準に対して３５％および６０％になる。

（階調輝度比）
次に、階調輝度比について、図１１および図１２に基づいて以下に説明する。

図１１は、本実施の形態にかかる液晶パネル２の正面階調に対する斜め方向の階調を示すグラフである。また、図１２は、液晶パネル１００の正面階調に対する斜め方向の階調を示すグラフである。

なお、図１１は、本実施の形態にかかる液晶パネル２として、絶縁層１３・２５の厚さが３μｍであり、絶縁層２５に、ε＝３、ε＝７の２種類の絶縁材料を使用し、絶縁層１３にε＝３の絶縁材料を用いた液晶パネルを用いたときの、正面階調に対する斜め方向の階調を示している。また、図１２は、液晶パネル１００として、絶縁層１３の厚さが３μｍであり、絶縁層１３にε＝３の絶縁材料を用いた液晶パネルを用いたときの、正面階調に対する斜め方向の階調を示している。

ここで、「正面階調」とは、液晶パネル２・１００を、その法線方向（方位角０度、極角０度）から見た場合の階調を意味する。また、「斜め方向の階調」とは、偏光板３５・３６の吸収軸から４５度ずれた方位角（方位角４５度）において、液晶パネル２・１００の法線方向に対して傾斜した方向から液晶パネル２・１００を見た場合の階調を意味する。

また、図１１および図１２は、上記法線方向からの傾斜角度である極角を、０度（正面（法線）方向）、２０度、４０度、６０度とした場合の階調を示している。具体的には、図１１および図１２において、実線は極角０度（正面）を示し、点線は極角２０度、一点鎖線は極角４０度、二点差線は極角６０度を示している。

また、図１１および図１２では、階調幅を２５６階調として示している。上記液晶パネル２には、液晶セル５内に異なる２種のＶＴカーブが生じる。このため、図１１は、上記液晶パネル２における、上記した２つの電界領域におけるＶＴカーブを合成した上で、各階調電圧毎に輝度比として、階調を指標として表したものである。

すなわち、図１１に示す液晶パネル２における正面階調に対する斜め方向の階調は、図１０に示す合成ＶＴに基づいて求められている。

一方、図１２に示す、比較用の液晶パネル１００における正面階調に対する斜め方向の階調は、液晶パネル１００で得られるＶＴカーブが１種類であるので、合成ＶＴではなく、図１０に示すε＝３の場合の、１種類のＶＴカーブに基づいて求められている。

図１１および図１２に示すように、液晶パネル２・１００の何れにおいても、極角が大きくなるにつれて、正面に対する輝度比の浮きが大きくなる。

しかしながら、図１１と図１２とを対比すると、液晶パネル２では、液晶パネル１００に比べて、正面に対する輝度比の浮きの程度が、大幅に低減されていることが判る。すなわち、液晶パネル２では、液晶パネル１００よりも、視角依存性が小さい。

これは、液晶パネル２では、前記したようにマルチＶＴ化されているのに対して、液晶パネル１００では、平行電界は発生しているものの、マルチＶＴ化されていないためである。

すなわち、液晶パネル１００では、電界の制御が、櫛歯電極１４・１５が設けられた基板１０（アレイ基板）のみで行われるので、１つの画素６内に、異なるＶＴ特性を有する領域を形成することができない。このため、正面の階調輝度比に対する極角方向の輝度比は浮いた状態となる。

これに対して、液晶パネル２では、１つの画素６内に、比誘電率が異なる絶縁層２５が設けられている領域が少なくとも２つある。このため、１つの画素６内に、異なるＶＴ特性を有する領域が少なくとも２つ形成される。すなわち、マルチＶＴ化されているため、斜め方向に対する輝度比の浮きの程度を低減することができる。

なお、図１０では、上記したように、絶縁層２５に、第１絶縁材料および第２絶縁材料として、ε＝３、ε＝７の２種類の絶縁材料を使用するとともに、絶縁層１３・２５の厚みを３μｍとしたときの視野角特性を示した。しかしながら、本実施の形態は、これに限定されるものではない。

（輝度浮き）
次に、上記斜め方向に対する輝度浮き（輝度比の浮き）の程度を低減するための好ましい絶縁材料の比誘電率差並びに絶縁層厚について、順に説明する。

（比誘電率差）
図１３に、液晶パネル２で絶縁層２５に用いる絶縁材料の比誘電率をシミュレーションにより種々変更したときのＶＴカーブをまとめて示す。なお、上記シミュレーションには、シンテック社製の「ＬＣＤ−ＭＡＳＴＥＲ」を使用した。

上記液晶パネル２をＴＶ（テレビジョン）等に用いるに際し、ＭＰＤ（マルチピクセルドライブ）とする場合、異なるＶＴ領域におけるＶＴ差（ΔＶ）は、０．８Ｖ以上とすることが好ましく、１．０Ｖ以上とすることがより好ましい。

このように、１つの画素６内に、中間調電位が０．８Ｖ以上異なる領域を形成することで、上記各領域間で、視野角特性を改善するために十分な程度、液晶分子５２の配向方向を異ならせることができる。この結果、視野角特性を、より確実に改善することができる。なお、上記中間調とは、全階調範囲の中での中央の階調値を意味する。

なお、ΔＶ＝１．０は、例えば、一方の絶縁材料の比誘電率（比誘電率ε）をε＝３程度とした場合、他方の絶縁材料の比誘電率（比誘電率ε）をε＝７として、Δε＝４とすることで、達成することができる。このためには、例えば、一方の絶縁材料に、ε≒３のアクリル系樹脂等を使用し、他方の絶縁材料に、ε≒７のＳｉＮ等を使用すればよい。

なお、ε＝９の絶縁材料を用いたときのＶＴカーブと、ε＝７の絶縁材料を用いたときのＶＴカーブとには、大きな差異は見られなかった。

また、一方の絶縁材料として、ε＝３未満の絶縁材料を用いた場合、上記したように一方の絶縁材料にε＝３の絶縁材料を用いた場合と比べてΔＶを大きくとることが容易になる。しかしながら、εの値を小さくすると、印加電圧が上昇するため、消費電力が大きくなる。

したがって、マルチＶＴ化するにあたり、隣り合う絶縁層に用いられる絶縁材料の比誘電率差（Δε）は、好ましくは２以上であり、より好ましくは３以上である。

また、一方の絶縁材料として、ε＝３未満の材料を用いた場合、上記のように一方の絶縁材料にε＝３の材料を用いた場合に比べて、ΔＶ（ＶＴ差）を大きくとることが容易になるが、εの値を小さくすると、印加電圧が上昇するため、消費電力が多くなる場合が考えられる。

以上のように、マルチＶＴ化するにあたり、好ましい比誘電率差（隣接して設けられる絶縁層に用いられる比誘電率、Δε）は２以上、より好ましくは３以上であると考えられる。

（絶縁層厚）
次に、液晶パネル２・１００・２００・３００として、液晶パネル（１）〜（３）・（Ａ）〜（Ｆ）・３００を用いて、各液晶パネルの絶縁層厚を種々変更したときの視野角レベルについて検証する。

図１４に、液晶パネル２において絶縁層１３・２５の厚さを２μｍとしたときの、正面（極角０度）と斜め方向（極角１０度、２０度、３０度、４０度、６０度）とにおける階調輝度比を示す。つまり、上記階調輝度比の測定には、液晶パネル２として、液晶パネル（２）を用いた。また、図１４において、方位角は、図１１と同様に、偏光板３５・３６の吸収軸から４５度ずれた方向とした。

また、図２７に、図２５に示す液晶パネル３００における、正面（極角０度）と斜め方向（極角１０度、２０度、３０度、４０度、６０度）とにおける階調輝度比を示す。なお、図２７でも、方位角は、偏光板３５・３６の吸収軸から４５度ずれた方向とした。

また、上記した各液晶パネル（１）〜（３）・（Ａ）〜（Ｆ）・３００をバックライトにのせ、ＥＬＤＩＭ社製の「Ｅｚ−ｃｏｎｔｒａｓｔ」（商品名）で、正面の電圧透過率変化と、偏光軸から斜め４５度ずれた方位の極角方向の電圧透過率変化とを測定し、正面の曲線に対する斜め視角のレベル変化を確認した。

このようにして図１４および図２７に両矢印にて示すように正面階調が１２８のときの正面（極角０度）と極角６０度とにおける階調輝度比の差分（視野角レベル）を、液晶パネル（１）〜（３）・（Ａ）〜（Ｆ）・１００それぞれについて測定した結果を、表２に示す。

なお、液晶パネル（１）〜（３）において、絶縁層２５における、異なる絶縁材料を用いた各領域の厚みは、前記したように何れも同じ厚みとし、このときの絶縁層１３の厚さは、絶縁層２５と同じ厚みに設定した。また、液晶パネル（Ａ）〜（Ｆ）において、絶縁層１３・２１３における、異なる絶縁材料を用いた各領域の厚みも、前記したように何れも同じ厚みとした。なお、液晶層厚は何れも３．４μｍとした。

図１４および表２に示すように、絶縁層１３・２５の厚さを２μｍとした液晶パネル（２）では、上記差分（視野角レベル）は２６％であり、目視で、輝度浮きの少ない良好な視野角特性が得られた。なお輝度浮きは、一般的に、極角が大きくなるにしたがって大きくなる。極角６０度は、本実施の形態において、従来からの輝度浮き改善が多く見られた角度である。正面階調１２８は、正面の輝度が最大輝度の５０％となる階調である。これにより、輝度浮きを、正面の中間階調輝度の浮きで評価した。

また、絶縁層２５の厚さを３μｍとした液晶パネル（３）では、上記差分（視野角レベル）は、表１に示すように２５％であり、目視で、より良好な視野角特性が得られた。

絶縁層２５の厚さを１μｍとした液晶パネル（１）では、上記差分（視野角レベル）は、表１に示すように３０％であり、この場合にも、目視で、良好な視野角特性が得られた。

これに対して、液晶パネル（Ａ）〜（Ｃ）では、表２に示すように、絶縁層２５の厚さに拘らず、上記差分（視野角レベル）は、５１％あるいは５２％あり、何れも、目視で、良好な視野角特性を得ることはできなかった。

また、表２に示すように、液晶パネル（Ｄ）〜（Ｆ）では、上記差分（視野角レベル）が、何れも３８％を超えていた。特に、絶縁層２１３の厚さを３μｍとした液晶パネル（Ｆ）では、上記差分（視野角レベル）は、表２に示すように４８％と、良好な視野角特性を得ることはできなかった。

また、表２に示すように、液晶パネル３００は、上記差分（視野角レベル）が５３％と大きく、目視における視野角レベル（視野角特性）も良くなかった。

以上の検証結果から、本実施の形態にかかる液晶パネル２は、比較用の液晶パネル１００・２００・３００と比べて、視野角特性が改善されていることが判る。なお、上記視野角特性の改善は、液晶セル５内の電界の曲がり方、すなわち等電位線の形状の相違によるものである。

次に、上記液晶パネル２における各サブ画素６Ｒ・６Ｇ・６Ｂの絶縁層２５の比誘電率と正面の色味変化との関係について検証した結果について、以下に説明する。

〔正面の色味変化〕
白色の色味は、各色の合成によって決定される。液晶パネル正面の色調の黄変は、図２６に示したように各色のＶＴカーブが異なるためであり、ＲおよびＧのサブ画素６Ｒ・６ＧにおけるＶＴカーブが互いに類似した形状のＶＴカーブを示すのに対し、Ｂのサブ画素６Ｂでは、低電圧側で透過率が極大値をとり、ＶＴカーブが反転する。このため、合成色が黄色味を帯びる。

このため、電圧の印加に付随して色味が変化しないようにするためには、各色のサブ画素６Ｒ・６Ｇ・６ＢにおけるＶＴカーブの形状ができるだけ近似している（好ましくは同形状である）ことが望ましい。

そこで、まず、各サブ画素６Ｒ・６Ｇ・６Ｂでの正面の色味変化を抑制するため、液晶パネル２の各サブ画素６Ｒ・６Ｇ・６Ｂでの絶縁層２５における比誘電率εの違いによる正面方向でのＶＴカーブの変化を、シミュレーションにより求めた。この結果を、図１５〜１７に示す。

図１５は、液晶パネル２のサブ画素６Ｂにおける絶縁層２５の比誘電率εを種々変化したときのＶＴカーブを示すグラフである。また、図１６および図１７は、それぞれ、液晶パネル２のサブ画素６Ｇ、サブ画素６Ｒにおける絶縁層２５の比誘電率εを種々変化したときのＶＴカーブを示すグラフである。

なお、シミュレーションには、シンテック社製の「ＬＣＤ−ＭＡＳＴＥＲ」を用いた。また、図１５〜１７でも、横軸は印加電圧を示し、縦軸は、規格化透過率（透過率比）を示す。

また、このときの各サブ画素６Ｒ・６Ｇ・６Ｂにおける印加電圧と透過率との関係を、それぞれ表３〜５に示すとともに、各サブ画素６Ｒ・６Ｇ・６Ｂにおける印加電圧と規格化透過率との関係を、表３〜８に示す。

図１５〜１７および表３〜８から判るように、横電界が印加される、櫛歯電極１４・１５における各枝電極１４Ａ・１５Ａ間の何れかの領域に絶縁層２５が設けられている場合、絶縁層２５の比誘電率εの値に応じてＶＴカーブの形状が変化する。

そこで、次に、正面方向でのＲＧＢの各色のＶＴカーブを合成した白状態（白表示時）のＶＴカーブ（合成ＶＴ）を求めた。得られた合成ＶＴを図１８に示す。また、このときの印加電圧と透過率との関係を、表９に示す。

図９に示すように、絶縁層２５を設けない場合、ＶＴカーブの形状は、６Ｖ付近を頂点（最大値）として低下する。これは、青（Ｂ）色のＶＴカーブの形状の影響を受けている。

一方、絶縁層２５を設けた場合には、絶縁層２５を設けない場合に見られる、ＶＴカーブが頂点（最大値）を迎え、その後、低下する現象は見られない。しかしながら、図９から判るように、ε＝１の場合は極端に高電圧化するため、消費電力の観点から使用が難しい。このため、比誘電率εは２以上であることが好ましい。

また、各色のサブ画素６Ｒ・６Ｇ・６ＢにおけるＶＴカーブの形状が近似すればするほど、白の色味のバランスは電圧毎にシフトしないため、正面からの色味変化は少なくなる。

したがって、各色のサブ画素６Ｒ・６Ｇ・６ＢにおけるＶＴカーブの形状が近似するように各色のサブ画素６Ｒ・６Ｇ・６Ｂにおける絶縁層２５の比誘電率の組み合わせを選択することで、正面からの色味変化を最低限にまで抑えることができる。

そこで、次に、比誘電率の最適な組み合わせについて検討した結果について以下に説明する。

図１９は、各色のサブ画素６Ｒ・６Ｇ・６Ｂにおける比誘電率εを種々変更したときのＶＴカーブを示すグラフであり、表６〜８に示す印加電圧と規格化透過率との関係を一部抜粋して、ＶＴカーブとしてまとめて示したものである。なお、図１９において、Ｒ、Ｇ、Ｂの値は、それぞれ、サブ画素６Ｒ・６Ｇ・６Ｂにおける比誘電率εの値を示す。また、表６〜８から判るように、図１９中、記載のない比誘電率εを用いたＶＴカーブは、その前後の比誘電率εを用いた、対応するサブ画素６Ｒ・６Ｇ・６ＢにおけるＶＴカーブ間に位置する。

本願発明者らは、比誘電率の最適な組み合わせを決定するに際し、まず、青色のサブ画素６Ｂに注目した。

各色のサブ画素６Ｒ・６Ｇ・６Ｂのうち、唯一、青色のサブ画素６ＢではＶＴカーブが反転（つまり、最大値を境に透過率が低下）する。ＲＧＢの３色の合成である白の色味の変化は、このＶＴカーブの反転により青色成分が少なくなることに由来する。

表３〜８から判るように、サブ画素６Ｂにおける絶縁層２５の比誘電率εが１〜３の範囲内では、サブ画素６Ｒ・６Ｇと同様に、階調間で反転のないＶＴが得られる。

しかしながら表３〜８および図１５〜１７および図１９から判るように、サブ画素６Ｂにおける絶縁層２５の比誘電率εが２以下の場合は、サブ画素６Ｒ・６ＧでＶＴカーブが同形状の立ち上がりを見せる比誘電率εはない。

具体的には、図１９から判るように、サブ画素６Ｂにおける絶縁層２５の比誘電率εが２の場合は、サブ画素６Ｒ・６Ｇにおける他のＶＴカーブと比較して立ち上がりが急峻であり、サブ画素６Ｒ・６Ｇに、同形状の立ち上がりを見せる比誘電率εはない。

また、図１５〜１７および図１９から判るように、サブ画素６Ｂにおける絶縁層２５の比誘電率εが１の場合は、サブ画素６Ｒ・６ＧでＶＴカーブが同形状の立ち上がりを見せる比誘電率εはなく、また、ε＝１の場合は極端に高電圧化するため、消費電力の観点から使用が難しい。

また、絶縁層１３・２５を有していない、横電界駆動方式を用いた従来の垂直配向型の液晶パネル３００でも、図２６に示すように低階調側（４Ｖ以内）では、青色のサブ画素６Ｂにおいても、サブ画素６Ｒ・６Ｇ同様、階調の反転は見られず、色味変化は少ない。

そこで、この絶縁層１３・２５を有していない液晶パネル３００における、４Ｖでの規格化透過率差の最大値を比較値として設定した。

上記液晶パネル３００における、４Ｖでの規格化透過率差の最大値は、図２６および表１から、８９％（サブ画素６Ｂでの４Ｖ印加時の規格化透過率）−６３％（サブ画素６Ｒでの４Ｖ印加時の規格化透過率）＝２６％となる。

また、各色のサブ画素６Ｒ・６Ｇ・６ＢのＶＴカーブが近似した形状をとる各サブ画素６Ｒ・６Ｇ・６Ｂの合成色は、黒→グレー→白の色味変化がきわめて少ない。

そこで、各色別のＶＴカーブが同形状で立ち上がり、かつ、規格化透過率を用いた各色のＶＴカーブの形状が近似し、そのずれ量が小さくなるように、サブ画素６Ｂにおける絶縁層２５のεを３に固定し、サブ画素６Ｒ・６Ｇにおける絶縁層２５のεを種々変更して、４Ｖ〜６Ｖの各電圧の規格化透過率の平均値が２６％以内になる、サブ画素６Ｒ・６Ｇにおける絶縁層２５のεについて調べた。

各色のサブ画素６Ｒ・６Ｇにおける絶縁層２５のεを種々変更したときに、ε＝３としたサブ画素６Ｂに対し、規格化透過率によるＶＴカーブが同形状で立ち上がるＶＴカーブを図２０に示すとともに、各色のサブ画素６Ｒ・６Ｇ・６Ｂにおける４Ｖ〜６Ｖの各電圧の規格化透過率の平均値とεとの関係を表１０に示す。

なお、表１０および図２０において、Ｒ、Ｇ、Ｂの値は、それぞれ、サブ画素６Ｒ・６Ｇ・６Ｂにおける比誘電率εの値を示す。また、表１０では、小数点以下１桁の値を示しているが、表１０に記載の値は、小数点以下２桁にて計算した値である。

図２０および表１０に示す結果から、サブ画素６Ｂにおける絶縁層２５の比誘電率（ε＝３）を基準とすると、サブ画素６Ｇにおける絶縁層２５の比誘電率は０以上、４以下（つまり、ε＝３〜７）、サブ画素６Ｒにおける絶縁層２５の比誘電率は１以上、４以下（つまり、ε＝４〜７）のときに、４Ｖ〜６Ｖの各電圧の規格化透過率の平均値が２６％以内になる。

したがって、本実施の形態によれば、上記したように、サブ画素６Ｂにおける絶縁層２５のεを３とし、サブ画素６Ｇにおける絶縁層２５のεを３〜７とし、サブ画素６Ｒにおける絶縁層２５のεを４〜７とすることで、階調反転が生じず、しかも、各サブ画素におけるＶＴ（電圧−透過率）カーブの形状を近似させることができる。このため、印加電圧に拘らず、正面での色味変化の少ない液晶パネル２を提供することができる。

このため、色味変化のみを問題とした場合、上記液晶パネル２の絶縁層１３・２５のεが３の場合は、必ずしも絶縁層１３・２５のεが異なる領域を有している必要はない。

しかしながら、上記したように、絶縁層２５が、１つの画素６内に、比誘電率が異なる少なくとも２つの領域を有している場合、１つの画素６内に、横電界を発生させたときに等電位線の形状が異なる少なくとも２つの電界領域が形成される。このため、この場合、前記したように、斜めの白浮きが改善され、視野角特性が向上する。

したがって、絶縁層２５が、１つの画素６内に、比誘電率が異なる少なくとも２つの領域を有し、かつ、上記したように、サブ画素６Ｂにおける絶縁層２５のεを３とし、サブ画素６Ｇにおける絶縁層２５のεを３〜７とし、サブ画素６Ｒにおける絶縁層２５のεを４〜７とすることで、正面での色味変化が少なく、かつ、視野角特性に優れた液晶パネル２を提供することができる。

次に、本発明にかかる液晶パネル２のさらに他の変形例について、検討した結果を以下に示す。

〔実施の形態２〕
本発明の実施の他の形態について、図２１および図２２に基づいて説明すれば、以下の通りである。

なお、以下の説明では、主に、実施の形態１にかかる液晶パネル２との相違点について説明するものとし、前記実施の形態１で説明した各構成要素と同一の機能を有する構成要素には同一の番号を付し、その説明を省略する。

図２１は、本実施の形態にかかる液晶パネル２の要部の概略構成を模式的に示す断面図である。

図２１に示すように、本実施の形態にかかる液晶パネル２は、基板１０に代えて、ベタ電極１２およびアレイ側絶縁層である絶縁層１３が設けられていない基板６０を備えている点で、図１に示す液晶パネル２と相違する。すなわち、本実施の形態の液晶パネル２は、ＦＦＳ構造を有してない。

基板６０は、ベタ電極１２およびアレイ側絶縁層である絶縁層１３が設けられていない点を除けば、図１に示す基板１０と同じ構成を有している。

以下に、図２１に示す構造を有する液晶パネル２の概略構成について、具体的な検証に用いた各サンプル（液晶パネル（４）〜（６））の製造方法を例に挙げて具体的に説明する。なお、以下の製造方法においても、特に言及しない限りは、各サンプルにおける製造条件は、同一とした。

〔液晶パネル（４）〜（６）〕
まず、図２１に示すように、ガラス基板１１上に、ＩＴＯからなる櫛歯電極１４・１５を、厚み＝１０００Å、電極幅Ｌ＝４μｍ、電極間隔Ｓ＝４μｍにて形成した。

次いで、上記ガラス基板１１上に、上記櫛歯電極１４・１５を覆うように、ＪＳＲ社製の配向膜塗料「ＪＡＬＳ−２０４」（商品名、固形分５ｗｔ．％、γ−ブチロラクトン溶液）を、スピンコート法にて塗布した。その後、２００℃にて２時間焼成することにより、液晶層５０との対向面となる表面に、垂直配向膜である配向膜１６が設けられた基板６０を形成した。

一方、液晶パネル（１）〜（３）における基板２０の製造方法と同じ材料、同じプロセスにて、液晶パネル（４）〜（６）における基板２０と同じ構造を有する基板２０をそれぞれ形成した。

なお、本実施の形態においても、このようにして形成した配向膜１６・２６の乾燥膜厚は１０００Å（＝０．１μｍ）であった。

その後、上記基板６０・２０のうち一方の基板上に、スペーサとして、直径３．２５μｍの樹脂ビーズ「ミクロパールＳＰ２０３２５」を分散させた。一方、上記基板に対峙する他方の基板上に、シール剤として、シール樹脂「ストラクトボンドＸＮ−２１Ｓ」を印刷した。

次に、上記基板６０・２０を貼り合わせ、１３５℃で１時間焼成した。

その後、上記基板６０・２０間に、液晶材料としてメルク株式会社製のポジ型液晶材料（Δε＝２０、Δｎ＝０．１５）を真空注入法にて封入することにより、一対の基板６０・２０間に液晶層５０が挟持された液晶セル５を作製した。

続いて、上記液晶セル５の表裏面に、液晶パネル（１）〜（３）と同様にして偏光板３５・３６を貼合した。これにより、図２１に示す液晶パネル２（液晶表示素子）として、絶縁層２５の厚みがそれぞれ異なる液晶パネル（４）〜（６）を作製した。

（輝度浮き）
図２２に、図２１に示す液晶パネル２において絶縁層２５の厚さを１μｍとしたときの、正面（極角０度）と斜め方向（極角１０度、２０度、３０度、４０度、６０度）とにおける階調輝度比を示す。つまり、上記階調輝度比の測定には、液晶パネル（４）を用いた。また、図２２でも、方位角は、偏光板３５・３６の吸収軸から４５度ずれた方向とした。

また、上記した各液晶パネルをバックライトにのせ、ＥＬＤＩＭ社製の「Ｅｚ−ｃｏｎｔｒａｓｔ」（商品名）で、正面の電圧透過率変化と、偏光軸から斜め４５度ずれた方位の極角方向の電圧透過率変化とを測定し、正面の曲線に対する斜め視角のレベル変化を確認した。

このようにして図２２に両矢印にて示す正面階調が１２８のときの正面（極角０度）と極角６０度とにおける階調輝度比の差分（視野角レベル）を液晶パネル（４）〜（６）それぞれについて測定した結果を、前記表２に示す。

表２に示すように、上記液晶パネル（４）〜（６）は、正面階調が１２８のときの正面（極角０度）と極角６０度とにおける階調輝度比の差分（視野角レベル）が、最大でも３４％であり、液晶パネル３００における差分（視野角レベル）よりも小さいことは勿論のこと、ＶＡタイプの液晶パネル２００における差分（視野角レベル）である３８％よりも小さく、視野角特性が大幅に改善されていた。また、目視確認を行った結果、良好な視野角特性が得られた。

〔正面の色味変化〕
また、上記液晶パネル２において、厚みが３μｍの絶縁層２５を使用し、該絶縁層２５のεを種々変化させたときのサブ画素６Ｂにおける印加電圧と透過率との関係を、表１１に示す。すなわち、表１１には、上記液晶パネル２として、液晶パネル（６）を用いたときの印加電圧と透過率との関係を示している。

表１１から判るように、本実施の形態にかかる液晶パネル２においても、ε＝４でサブ画素６ＢにおけるＶＴカーブが反転（つまり、階調反転）するとともに、液晶パネル２と同様の挙動を示すことが判った。

また、液晶パネル（４）・（５）においても、前記実施の形態１にかかる液晶パネル（１）〜（３）および上記液晶パネル（６）と同様の結果が得られた。

したがって、本実施の形態にかかる液晶パネル２もまた、前記実施の形態１にかかる液晶パネル２と同様に、サブ画素６Ｂにおける絶縁層２５のεを３とし、サブ画素６Ｇにおける絶縁層２５のεを３〜７とし、サブ画素６Ｒにおける絶縁層２５のεを４〜７とすることで、正面での色味変化を改善することができる。また、本実施の形態でも、上記液晶パネル２が、１つの画素６内に、比誘電率が異なる少なくとも２つの領域を有し、上記したようにマルチＶＴ化されていることで、正面での色味変化が少なく、かつ、視野角特性に優れた液晶パネル２を提供することができる。

〔実施の形態３〕
本発明の実施のさらに他の形態について、図２３および図２４に基づいて説明すれば、以下の通りである。

なお、以下の説明では、主に、実施の形態１にかかる液晶パネル２との相違点について説明するものとする。また、前記実施の形態１、２で説明した各構成要素と同一の機能を有する構成要素には同一の番号を付し、その説明を省略する。

図２３は、本実施の形態にかかる液晶パネル２の要部の概略構成を模式的に示す断面図である。

図２３に示すように、本実施の形態にかかる液晶パネル２は、基板８０（アレイ基板）と、基板７０（対向基板）との間に液晶層５０が挟持された構成を有している。

基板８０は、図２３に示すように、ガラス基板１１上に、ベタ電極１２（第３の電極）、絶縁層１３（アレイ側絶縁層）、櫛歯電極１４・１５（第１および第２の電極）、配向膜１６が、この順に積層された構成を有している。

基板８０は、絶縁層１３が、１つの画素６内に、比誘電率が異なる絶縁層からなる少なくとも２つの領域を有し、等電位線の形状が異なる少なくとも２つの電界領域を形成するマルチＶＴ層として機能する点で、基板１０と相違している。すなわち、本実施の形態では、部分的に比誘電率が異なる絶縁層１３が、アレイ基板である基板８０側のベタ電極１２上に設けられている。

図２３は、一例として、櫛歯電極１４・１５の各枝電極１５Ａ・１４Ａの中央部を境界とする、枝電極１５Ａ１・１４Ａ１間、枝電極１４Ａ１・１５Ａ２間、枝電極１５Ａ２・１４Ａ２間に対応する、絶縁層１３における各領域を、それぞれ領域１３Ａ・１３Ｂ・１３Ｃとすると、サブ画素６Ｒ・６Ｇに対応する領域１３Ａ・１３Ｂの比誘電率が同じであり、サブ画素６Ｂに対応する領域１３Ｃの比誘電率が他とは異なっている例を示している。

しかしながら、本実施の形態でも、領域１３Ａ〜１３Ｃのうち互いに隣り合う領域（すなわち、互いに隣り合う絶縁層形成領域）に、絶縁層１３として、それぞれ異なる比誘電率を有する絶縁材料からなる絶縁層が形成されていてもよく、何れか２つの領域に、他の１つの領域とは異なる比誘電率を有する絶縁材料からなる絶縁層が形成されていてもよい。

また、基板７０は、ガラス基板２１上に、Ｒ（赤）、Ｇ（緑）、Ｂ（青）の各色のカラーフィルタ２２およびブラックマトリクス２３、配向膜２６が、この順に設けられた構成を有している。

すなわち、基板７０は、前記したように、ベタ電極２４およびＣＦ側絶縁層である絶縁層２５が設けられていない点を除けば、図１に示す液晶パネル２における基板１０と同じ構成を有している。

以下に、図２３に示す構造を有する液晶パネル２の概略構成について、具体的な検証に用いた各サンプル（液晶パネル（７）〜（９））の製造方法を例に挙げて具体的に説明する。なお、以下の製造方法においても、特に言及しない限りは、各サンプルにおける製造条件は、同一とした。

〔液晶パネル（７）〜（９）〕
まず、図２３に示すように、ガラス基板１１上に、ＩＴＯからなる櫛歯電極１４・１５を、厚み＝１０００Å、電極幅Ｌ＝４μｍ、電極間隔Ｓ＝４μｍにて形成した。

次に、部分的に比誘電率が異なる絶縁層１３を形成すべく、まず、上記ガラス基板１１上に、櫛歯電極１４・１５を覆うように、比誘電率ε＝３．７のアクリル系の絶縁材料（第１の絶縁材料）を、厚さ１〜３μｍで、ガラス基板１１の表示領域全面に渡って、スピンコート法で塗布・成膜した。

その後、比誘電率が異なる領域を形成するために、上記第１の絶縁材料からなる絶縁層の一部をフォトリソグラフィにより抜き取り、この絶縁層を抜き取った部分に、比誘電率ε＝６．９のＳｉＮ（第２の絶縁材料）を、スパッタリング法で、抜き取った絶縁層と同膜厚となるように形成した。これにより、アレイ側絶縁層として、各画素６内に比誘電率が異なる２つの領域を有するとともに、各サンプルでそれぞれ厚みの異なる絶縁層１３を形成した。

続いて、上記絶縁層１３上に、上層電極として、ＩＴＯからなる櫛歯電極１４・１５を、厚み＝１０００Å、電極幅Ｌ＝４μｍ、電極間隔Ｓ＝４μｍにて形成した。

次いで、上記絶縁層１３上に、上記櫛歯電極１４・１５を覆うように、ＪＳＲ社製の配向膜塗料「ＪＡＬＳ−２０４」（商品名、固形分５ｗｔ．％、γ−ブチロラクトン溶液）を、スピンコート法にて塗布した。その後、２００℃にて２時間焼成することにより、液晶層５０との対向面となる表面に、垂直配向膜である配向膜１６が設けられた基板８０を形成した。

一方、ガラス基板２１上に、液晶パネル（１）〜（３）と同じ材料、同じプロセスで、カラーフィルタ２２およびブラックマトリクス２３を形成した。さらにその上に、配向膜１６と同じ材料、同じプロセスにて、配向膜２６として垂直配向膜を形成した。これにより、ガラス基板２１上に、カラーフィルタ２２およびブラックマトリクス２３、配向膜２６が、この順に設けられた基板７０を形成した。また、このようにして形成した配向膜１６・２６の乾燥膜厚は１０００Å（＝０．１μｍ）であった。

その後、上記基板８０・７０のうち一方の基板上に、スペーサとして、直径３．２５μｍの樹脂ビーズ「ミクロパールＳＰ２０３２５」を分散させた。一方、上記基板に対峙する他方の基板上に、シール剤として、シール樹脂「ストラクトボンドＸＮ−２１Ｓ」を印刷した。

次に、上記基板８０・７０を貼り合わせ、１３５℃で１時間焼成した。

その後、上記基板８０・７０間に、液晶材料としてメルク株式会社製のポジ型液晶材料（Δε＝２０、Δｎ＝０．１５）を真空注入法にて封入することにより、一対の基板８０・７０間に液晶層５０が挟持された液晶セル５を作製した。

続いて、上記液晶セル５の表裏面に、液晶パネル（１）〜（３）と同様にして偏光板３５・３６を貼合した。これにより、図２３に示す液晶パネル２（液晶表示素子）として、絶縁層１３の厚みがそれぞれ異なる液晶パネル（７）〜（９）を作製した。

（輝度浮き）
図２４に、図２３に示す液晶パネル２において絶縁層２５の厚さを１μｍとしたときの、正面（極角０度）と斜め方向（極角１０度、２０度、３０度、４０度、６０度）とにおける階調輝度比を示す。つまり、上記階調輝度比の測定には、液晶パネル（７）を用いた。また、図２４でも、方位角は、偏光板３５・３６の吸収軸から４５度ずれた方向とした。

また、上記した各液晶パネルをバックライトにのせ、ＥＬＤＩＭ社製の「Ｅｚ−ｃｏｎｔｒａｓｔ」（商品名）で、正面の電圧透過率変化と、偏光軸から斜め４５度ずれた方位の極角方向の電圧透過率変化とを測定し、正面の曲線に対する斜め視角のレベル変化を確認した。

このようにして図２４に両矢印にて示す正面階調が１２８のときの正面（極角０度）と極角６０度とにおける階調輝度比の差分（視野角レベル）を液晶パネル（７）〜（９）それぞれについて測定した結果を、前記表２に示す。

表２に示すように、上記液晶パネル（７）〜（９）は、正面階調が１２８のときの正面（極角０度）と極角６０度とにおける階調輝度比の差分（視野角レベル）は、絶縁層１３の厚さが１μｍの場合には４２％、２μｍの場合は４０％、３μｍの場合は３６％と、実施の形態２・３にかかる液晶パネル２よりは視野角レベルが低いものの、従来の構成に比べれば、視野角レベルが改善されることが判る。

特に、絶縁層１３の厚さが３μｍの場合には、上記差分（視野角レベル）が３６％と、上記したように従来の液晶パネル１００における差分（視野角レベル）よりも小さいことは勿論のこと、比較例２におけるＶＡタイプの液晶パネル３００における差分（視野角レベル）である３８％よりも小さく、視野角特性の改善効果が高く、目視確認においても、良好な視野角特性が得られた。

また、表２に示す結果から、本発明にかかる液晶パネル２によれば、液晶パネル１００・２００・３００とは逆に、絶縁層１３・２５の何れに比誘電率が異なる領域を設けるかに拘らず、絶縁層厚が厚いほど、視野角レベルが向上することが判る。

また、表２に示す結果から、視野角特性の改善の観点からは、ＣＦ側絶縁層である、ベタ電極２４上の絶縁層２５に、比誘電率が異なる領域を設けることがより好ましいことが判る。

〔正面の色味変化〕
また、上記液晶パネル２において、厚みが３μｍの絶縁層２５を使用し、該絶縁層２５のεを種々変化させたときのサブ画素６Ｂにおける印加電圧と透過率との関係を、前記表１１に示す。すなわち、表１１には、上記液晶パネル２として、液晶パネル（９）を用いたときの印加電圧と透過率との関係を示している。

表１１から判るように、本実施の形態にかかる液晶パネル２においても、ε＝４でサブ画素６ＢにおけるＶＴカーブが反転（つまり、階調反転）するとともに、液晶パネル２と同様の挙動を示すことが判った。

また、液晶パネル（７）・（８）においても、前記実施の形態１、２にかかる液晶パネル（１）〜（６）および上記液晶パネル（９）と同様の結果が得られた。

また、液晶パネル１００・２００・３００についても、同様に、絶縁層のεを種々変化させたときのサブ画素６Ｂにおける印加電圧と透過率との関係を調べた。この結果を、表１２に示す。なお、表１２には、上記液晶パネル１００として、液晶パネル（Ｃ）を用いたときの印加電圧と透過率との関係を示している。また、上記液晶パネル２００として、液晶パネル（Ｆ）を用いたときの印加電圧と透過率との関係を示している。

上記測定結果から、本実施の形態にかかる液晶パネル２もまた、前記実施の形態１、２にかかる液晶パネル２と同様に、サブ画素６Ｂにおける絶縁層２５のεを３とし、サブ画素６Ｇにおける絶縁層２５のεを３〜７とし、サブ画素６Ｒにおける絶縁層２５のεを４〜７とすることで、正面での色味変化を改善することができる。また、本実施の形態でも、上記液晶パネル２が、１つの画素６内に、比誘電率が異なる少なくとも２つの領域を有し、上記したようにマルチＶＴ化されていることで、正面での色味変化が少なく、かつ、視野角特性に優れた液晶パネル２を提供することができる。

また、階調反転は、何れの液晶パネルにおいても、ε＝４において生じることが判る。

したがって、液晶パネル正面の色味変化は、上記したように、Ｂ（青）色のカラーフィルタ２２からなるサブ画素６Ｂにおける、絶縁層のεが３のときのＶＴカーブを基準として各色のＶＴカーブの形状が近似するように組み合わせることで改善することができることが判る。

また、上記説明から判るように、上記液晶パネル２は、上記したように、サブ画素６Ｂにおける絶縁層２５のεが３であり、サブ画素６Ｇにおける絶縁層２５のεが３〜７であり、サブ画素６Ｒにおける絶縁層２５のεが４〜７であれば、正面での色味変化を改善することができる。

したがって、上記した各実施の形態では、一対の基板のうち何れか一方の基板に、上記したように部分的に比誘電率が異なる領域を有する絶縁層を設けた場合を例に挙げて説明したが、本発明は、これに限定されるものではない。

すなわち、上記液晶パネル２は、一対の基板のうち少なくとも一方の基板に絶縁膜が設けられているとともに、該絶縁膜のうち少なくとも一方の絶縁膜が、上記したように比誘電率が異なる領域を有していればよい。また、このとき、電極、特にベタ状電極に接して設けられた絶縁膜が上記したように比誘電率が異なる領域を有していることで、正面での色味変化が少なく、かつ、視野角特性に優れた液晶パネルを、確実に提供することができる。

また、上記した各実施の形態では、スペーサとして樹脂ビーズを用いた場合を例に挙げて説明したが、本発明はこれに限定されるものではない。例えば、スペーサとして、上記樹脂ビーズに代えて、あるいは、樹脂ビーズと併せて、櫛歯電極１４・１５に対応する位置に、基板１０・２０間のギャップを制御するための柱状スペーサを設けてもよい。

上記液晶パネル２は、該液晶パネル２を表示部として用いて、液晶ＴＶやモバイル端末等、種々の液晶表示装置に好適に用いることができる。

以上のように、本発明にかかる液晶パネルは、少なくとも第１および第２の電極が設けられた第１の基板と、上記第１の基板に対向配置された第２の基板と、上記第１の基板と第２の基板との間に挟持された液晶層とを備え、上記液晶層を、上記第１の基板に設けられた電極間に発生する横電界で駆動するとともに、電界無印加時に、上記液晶層における液晶分子が、上記第１および第２の基板に垂直に配向する、横電界駆動方式を用いた垂直配向型の液晶パネルであって、赤色、緑色、青色の３つのサブ画素からなる１つの画素内に、上記横電界を発生させたときに等電位線の形状が異なる少なくとも２つの領域が形成されるように、１つの画素内に比誘電率が異なる少なくとも２つの領域を有する第１の絶縁層が、上記第１および第２の基板のうち少なくとも一方の基板に設けられており、上記青色のサブ画素における領域の第１の絶縁層の比誘電率は３であり、緑色のサブ画素における領域の第１の絶縁層の比誘電率は３〜７であり、赤色のサブ画素における領域の第１の絶縁層の比誘電率は４〜７である構成を有している。

また、以上のように、本発明にかかる液晶パネルは、少なくとも第１および第２の電極が設けられた第１の基板と、上記第１の基板に対向配置された第２の基板と、上記第１の基板と第２の基板との間に挟持された液晶層とを備え、上記液晶層を、上記第１の基板に設けられた電極間に発生する横電界で駆動するとともに、電界無印加時に、上記液晶層における液晶分子が、上記第１および第２の基板に垂直に配向する、横電界駆動方式を用いた垂直配向型の液晶パネルであって、上記第１および第２の基板のうち少なくとも一方の基板に絶縁層が設けられており、各画素は、赤色、緑色、青色の３つのサブ画素からなり、青色のサブ画素における領域の上記絶縁層の比誘電率は３であり、緑色のサブ画素における領域の上記絶縁層の比誘電率は３〜７であり、赤色のサブ画素における領域の上記絶縁層の比誘電率は４〜７である構成を有している。

上記の各構成によれば、上記したように横電界駆動方式を用いた垂直配向型の液晶パネルにおいて、第１および第２の基板のうち少なくとも一方の基板に絶縁層が設けられており、青色、緑色、赤色色の各サブ画素における領域の上記絶縁層（第１の絶縁層）が、上記比誘電率を有することで、階調反転が生じず、しかも、各サブ画素におけるＶＴ（電圧−透過率）カーブの形状を近似させることができる。このため、上記の各構成によれば、上記液晶パネルにおける正面での色味変化が少ない液晶パネルを提供することができる。

また、上記の各構成によれば、絶縁層（第１の絶縁層）の比誘電率を部分的に変更するだけで容易にマルチＶＴ化することができる。

したがって、上記したように、上記液晶パネルが、１つの画素内に、絶縁層の比誘電率が異なる領域を少なくとも２つ備えている場合、正面での色味変化が少なく、かつ、視野角特性に優れるとともに、簡素な工程で製造が可能な液晶パネルを提供することができる。しかも、上記液晶パネルは、横電界駆動方式を用いた垂直配向型の液晶パネルであり、このような液晶パネルにおいては、横電界の印加によりセル内に弓なり状（ベンド状）の液晶配向分布が形成されることから、ベンド配向に基づく高速応答性、自己補償型配列による広視野角、垂直配向に起因する高コントラストを得ることができる。

上記液晶パネルにおいて、上記第２の基板には、さらに電極が設けられているとともに、上記第１の絶縁層が、上記第２の基板に設けられた電極上に形成されていることが好ましい。

上記の構成によれば、絶縁層（第１の絶縁層）の比誘電率が異なる領域に形成される等電位線の形状を効率良く異ならせることができ、正面階調が１２８のときの正面（極角０度）と極角６０度とにおける階調輝度比の差分（視野角レベル）を、従来と比較して大幅に小さくすることができる。このため、視野角特性の改善効果が高く、良好な視野角特性を得ることができる。

また、上記第１および第２の電極は櫛歯電極であり、上記第１の基板には、さらに第３の電極が設けられており、上記第１および第２の電極は、比誘電率が３の第２の絶縁層を介して上記第３の電極の上層に設けられていることが好ましい。

また、上記第１および第２の電極は櫛歯電極であり、上記第１の基板には、さらに第３の電極が設けられており、上記第１および第２の電極は、上記第１の絶縁層を介して上記第３の電極の上層に設けられていることが好ましい。

上記の各構成によれば、上記液晶パネルが、第３の電極上に絶縁層（第１または第２の絶縁層）を介して櫛歯電極（第１および第２の電極）が設けられたＦＦＳ（Fringe Field Switching；フリンジフィールドスイッチング）構造を有していることで、開口率を高くすることができる。したがって、透過率を高くすることができる。

また、特に、上記第２の基板に設けられた電極上に、比誘電率が異なる少なくとも２つの領域を有する絶縁層（第１の絶縁層）が設けられているとともに、上記液晶パネルが上記したＦＦＳ構造を有している場合、正面階調が１２８のときの正面（極角０度）と極角６０度とにおける階調輝度比の差分（視野角レベル）を、何れか一方の基板にのみ上記絶縁層（第１の絶縁層）が設けられている場合よりもさらに小さくすることができる。したがって、この場合、開口率を向上させることができるのみならず、極めて良好な視野角特性を得ることができる。

また、上記絶縁層の厚さは、比誘電率に拘らず一定であることが好ましい。

上記の構成によれば、上記絶縁層の厚さは、比誘電率に拘らず一定であることから、画素内で複数のセル厚（液晶層の厚さ）を制御する必要がなく、製造が容易である。

また、液晶分子のダイレクタが対称になるような領域を画素内に設ける場合、画素内における上記セル厚が均一であると、上記ダイレクタの対称性が崩れ難くなるため、視野角特性をより改善することができる。

また、上記比誘電率が異なる絶縁層間の比誘電率は、２以上異なることが好ましい。

上記の構成によれば、比誘電率が異なる各絶縁層に対応した領域に形成される等電位線の形状を、上記各領域における液晶分子の配向方向が十分に相違する程、異ならせることができる。そのため、視野角特性をより確実に改善することができる。

また、上記液晶パネルは、中間調を表示する際に、上記液晶分子に印加される電位が、上記等電位線の形状が異なる領域間で、０．８Ｖ以上異なることが好ましい。

上記の構成によれば、１つの画素内に、中間調電位が０．８Ｖ以上異なる領域が形成される。このため、そのため、上記各領域間で、視野角特性を改善するために十分な程度、液晶分子の配向方向を異ならせることができる。したがって、上記の構成によれば、視野角特性を、より確実に改善することができる。なお、上記中間調とは、全階調範囲の中での中央の階調値を意味する。

本発明にかかる液晶表示装置は、本発明にかかる上記液晶パネルを備えていることで、上記液晶表示装置における液晶パネル正面での色味変化が少ない液晶表示装置を提供することができる。

本発明は上述した各実施形態に限定されるものではなく、請求項に示した範囲で種々の変更が可能であり、異なる実施形態にそれぞれ開示された技術的手段を適宜組み合わせて得られる実施形態についても本発明の技術的範囲に含まれる。

本発明の液晶パネルおよび液晶表示装置は、上記したように横電界駆動方式を用いた垂直配向型の液晶パネルであり、高速応答性、広視野角、高コントラスト特性を有し、しかも、正面での色味変化が少ないことから、アウトドアユースの公共掲示板や、携帯電話、ＰＤＡ等のモバイル機器等の各種用途に好適に用いることができる。

１ 液晶表示装置
２ 液晶パネル
３ 駆動回路
４ バックライト
５ 液晶セル
６ 画素
６Ｂ サブ画素
６Ｇ サブ画素
６Ｒ サブ画素
１０ 基板（第１の基板）
１１ ガラス基板
１２ ベタ電極（第３の電極）
１３ 絶縁層
１３Ａ〜１３Ｃ 領域
１４ 櫛歯電極（第１の電極）
１５ 櫛歯電極（第２の電極）
１４Ａ 枝電極
１５Ａ 枝電極
１６ 配向膜
２０ 基板（第２の基板）
２１ ガラス基板
２２ カラーフィルタ
２３ ブラックマトリクス
２４ ベタ電極（電極）
２５ 絶縁層
２５Ａ〜２５Ｃ 領域
２６ 配向膜
３１〜３３ 電界領域
３５ 偏光板
３６ 偏光板
５０ 液晶層
５２ 液晶分子
６０ 基板（第１の基板）
７０ 基板（第２の基板）
８０ 基板（第１の基板）

上記の各構成によれば、上記したように横電界駆動方式を用いた垂直配向型の液晶パネルにおいて、第１および第２の基板のうち少なくとも一方の基板に絶縁層が設けられており、青色、緑色、赤色の各サブ画素における領域の上記絶縁層（第１の絶縁層）が、上記比誘電率を有することで、階調反転が生じず、しかも、各サブ画素におけるＶＴ（電圧−透過率）カーブの形状を近似させることができる。このため、上記の各構成によれば、上記液晶パネルにおける正面での色味変化が少ない液晶パネルを提供することができる。

本発明の実施の形態１にかかる液晶パネルの要部の概略構成を模式的に示す断面図である。 図１に示す液晶パネルの櫛歯電極と、等電位線の形状が異なる電界領域との関係を示す平面図である。 本発明の実施の形態１にかかる液晶表示装置の概略構成を模式的に示す断面図である。 比較に用いた液晶パネルの要部の概略構成を示す断面図である。 比較に用いた他の液晶パネルの要部の概略構成を模式的に示す断面図である。 本発明の実施の形態１にかかる液晶パネルにおける液晶セル内の電界分布と該液晶セル内の液晶ダイレクタ分布とを示す図である。 図４に示す液晶パネルにおける液晶セル内の電界分布と該液晶セル内の液晶ダイレクタ分布とを示す図である。 （ａ）〜（ｃ）は、それぞれ、異なる電圧が印加された場合の液晶分子のダイレクタの方向と光の進行方向との関係を示す図であり、（ａ）は電圧ＯＦＦ時、（ｂ）は中間電圧ＯＮ時、（ｃ）は通常の電圧ＯＮ時における、液晶分子のダイレクタの方向と光の進行方向との関係を示す図である。 （ａ）〜（ｃ）は、中間電圧が印加された場合の液晶分子のダイレクタの方向と光の進行方向との関係を示す図であり、（ａ）は、本発明の実施の形態１にかかる液晶パネルにおける第１の電界領域、（ｂ）は、本発明の実施の形態１にかかる液晶パネルにおける第２の電界領域、（ｃ）は、比較例１で用いた液晶パネルにおける電界領域における、中間電圧ＯＮ時の液晶分子のダイレクタの方向と光の進行方向との関係を示す図である。 本発明の実施の形態１にかかる液晶パネルにおいて、比誘電率が異なる２種類の絶縁材料を用いたときの、各電界領域における正面方向でのＶＴカーブ並びにこれらＶＴカーブを合成したＶＴカーブを示すグラフである。 本発明の実施の形態１にかかる液晶パネルの正面階調に対する斜め方向の階調を示すグラフである。 図４に示す液晶パネルの正面階調に対する斜め方向の階調を示すグラフである。 本発明の実施の形態１にかかる液晶パネルにおいて絶縁材料の比誘電率を種々変更したときのＶＴカーブを示すグラフである。 本発明の実施の形態１にかかる液晶パネルにおける、正面階調に対する斜め方向の階調輝度比を示すグラフである。 本発明の実施の形態１にかかる液晶パネルの青色のサブ画素における絶縁層の比誘電率を種々変化したときのＶＴカーブを示すグラフである。 本発明の実施の形態１にかかる液晶パネルの緑色のサブ画素における絶縁層の比誘電率を種々変化したときのＶＴカーブを示すグラフである。 本発明の実施の形態１にかかる液晶パネルの赤色のサブ画素における絶縁層の比誘電率を種々変化したときのＶＴカーブを示すグラフである。 正面方向でのＲＧＢの各色のＶＴカーブを合成した白状態のＶＴカーブを示すグラフである。 各色のサブ画素における比誘電率を種々変更したときのＶＴカーブを示すグラフである。 各色のサブ画素における絶縁層の比誘電率を種々変更したときに、比誘電率を３とした青色のサブ画素に対し、規格化透過率によるＶＴカーブが同形状で立ち上がるＶＴカーブを示すグラフである。 本発明の実施の形態２にかかる液晶パネルの要部の概略構成を模式的に示す断面図である。 本発明の実施の形態２にかかる液晶パネルにおける、正面階調に対する斜め方向の階調輝度比を示すグラフである。 本発明の実施の形態３にかかる液晶パネルの要部の概略構成を模式的に示す 断面図である。 本発明の実施の形態３にかかる液晶パネルにおける、正面階調に対する斜め方向の階調輝度比を示すグラフである。 横電界駆動方式を用いた従来の垂直配向型の液晶パネルの要部の概略構成を示す断面図である。 図２５に示す、横電界駆動方式を用いた従来の垂直配向型の液晶パネルにおける、正面の各サブ画素でのＶＴカーブを示す。 図２５に示す液晶パネルにおける、正面階調に対する斜め方向の階調輝度比を示すグラフである。 特許文献２に記載の液晶表示装置における要部の概略構成を示す平面図である。 特許文献３に記載の液晶表示装置における要部の概略構成を示す断面図である。 （ａ）・（ｂ）は、それぞれ、特許文献４に記載の液晶表示装置における要部の概略構成を示す断面図である。 特許文献４に記載の液晶表示装置における要部の概略構成を示す他の断面図である。

一方、図３１に記載の技術に関し、本願発明者らが、後述する図５に示す、垂直配向（ＶＡ）タイプの垂直電界型の液晶パネル２００を用いて、その視野角特性について検証を行った結果、視野角特性を十分に改善することはできなかった。

次いで、上記対向電極２２４上に、液晶パネル（１）〜（３）の配向膜１６と同じ材料、同じプロセスにて、配向膜２２５として垂直配向膜を形成した。これにより、ガラス基板２２１上に、カラーフィルタ２２２およびブラックマトリクス２２３、対向電極２２４、配向膜２２５が、この順に設けられた基板２２０を形成した。なお、このようにして形成した配向膜２１４・２２５の乾燥膜厚は１０００Å（＝０．１μｍ）であった。

また、絶縁層２５の厚さを３μｍとした液晶パネル（３）では、上記差分（視野角レベル）は、表２に示すように２５％であり、目視で、より良好な視野角特性が得られた。

絶縁層２５の厚さを１μｍとした液晶パネル（１）では、上記差分（視野角レベル）は、表２に示すように３０％であり、この場合にも、目視で、良好な視野角特性が得られた。

また、このときの各サブ画素６Ｒ・６Ｇ・６Ｂにおける印加電圧と透過率との関係を、それぞれ表３〜５に示すとともに、各サブ画素６Ｒ・６Ｇ・６Ｂにおける印加電圧と規格化透過率との関係を、表６〜８に示す。

表９に示すように、絶縁層２５を設けない場合、ＶＴカーブの形状は、６Ｖ付近を頂点（最大値）として低下する。これは、青（Ｂ）色のＶＴカーブの形状の影響を受けている。

一方、絶縁層２５を設けた場合には、絶縁層２５を設けない場合に見られる、ＶＴカーブが頂点（最大値）を迎え、その後、低下する現象は見られない。しかしながら、表９から判るように、ε＝１の場合は極端に高電圧化するため、消費電力の観点から使用が難しい。このため、比誘電率εは２以上であることが好ましい。

表１１から判るように、本実施の形態にかかる液晶パネル２においても、ε＝４でサブ画素６ＢにおけるＶＴカーブが反転（つまり、階調反転）するとともに、前記実施の形態にかかる液晶パネル２と同様の挙動を示すことが判った。

図２４に、図２３に示す液晶パネル２において絶縁層１３の厚さを１μｍとしたときの、正面（極角０度）と斜め方向（極角１０度、２０度、３０度、４０度、６０度）とにおける階調輝度比を示す。つまり、上記階調輝度比の測定には、液晶パネル（７）を用いた。また、図２４でも、方位角は、偏光板３５・３６の吸収軸から４５度ずれた方向とした。

表１１から判るように、本実施の形態にかかる液晶パネル２においても、ε＝４でサブ画素６ＢにおけるＶＴカーブが反転（つまり、階調反転）するとともに、前記実施の形態にかかる液晶パネル２と同様の挙動を示すことが判った。

上記の各構成によれば、上記したように横電界駆動方式を用いた垂直配向型の液晶パネルにおいて、第１および第２の基板のうち少なくとも一方の基板に絶縁層が設けられており、青色、緑色、赤色の各サブ画素における領域の上記絶縁層（第１の絶縁層）が、上記比誘電率を有することで、階調反転が生じず、しかも、各サブ画素におけるＶＴ（電圧−透過率）カーブの形状を近似させることができる。このため、上記の各構成によれば、上記液晶パネルにおける正面での色味変化が少ない液晶パネルを提供することができる。

Claims (9)

1. 少なくとも第１および第２の電極が設けられた第１の基板と、上記第１の基板に対向配置された第２の基板と、上記第１の基板と第２の基板との間に挟持された液晶層とを備え、上記液晶層を、上記第１の基板に設けられた電極間に発生する横電界で駆動するとともに、電界無印加時に、上記液晶層における液晶分子が、上記第１および第２の基板に垂直に配向する、横電界駆動方式を用いた垂直配向型の液晶パネルであって、
   赤色、緑色、青色の３つのサブ画素からなる１つの画素内に、上記横電界を発生させたときに等電位線の形状が異なる少なくとも２つの領域が形成されるように、１つの画素内に比誘電率が異なる少なくとも２つの領域を有する第１の絶縁層が、上記第１および第２の基板のうち少なくとも一方の基板に設けられており、
   上記青色のサブ画素における領域の第１の絶縁層の比誘電率は３であり、緑色のサブ画素における領域の第１の絶縁層の比誘電率は３〜７であり、赤色のサブ画素における領域の第１の絶縁層の比誘電率は４〜７であることを特徴とする液晶パネル。
2. 上記第２の基板に、さらに電極が設けられているとともに、上記第１の絶縁層が、上記第２の基板に設けられた電極上に形成されていることを特徴とする請求項１記載の液晶パネル。
3. 上記第１および第２の電極は櫛歯電極であり、上記第１の基板には、さらに第３の電極が設けられており、上記第１および第２の電極は、比誘電率が３の第２の絶縁層を介して上記第３の電極の上層に設けられていることを特徴とする請求項２記載の液晶パネル。
4. 上記第１および第２の電極は櫛歯電極であり、上記第１の基板には、さらに第３の電極が設けられており、上記第１および第２の電極は、上記第１の絶縁層を介して上記第３の電極の上層に設けられていることを特徴とする請求項１または２記載の液晶パネル。
5. 上記絶縁層の厚さは、比誘電率に拘らず一定であることを特徴とする請求項１〜４の何れか１項に記載の液晶パネル。
6. 上記比誘電率が異なる絶縁層間の比誘電率が、２以上異なることを特徴とする請求項１〜５の何れか１項に記載の液晶パネル。
7. 中間調を表示する際に、上記液晶分子に印加される電位が、上記等電位線の形状が異なる領域間で、０．８Ｖ以上異なることを特徴とする請求項１〜６の何れか１項に記載の液晶パネル。
8. 少なくとも第１および第２の電極が設けられた第１の基板と、上記第１の基板に対向配置された第２の基板と、上記第１の基板と第２の基板との間に挟持された液晶層とを備え、上記液晶層を、上記第１の基板に設けられた電極間に発生する横電界で駆動するとともに、電界無印加時に、上記液晶層における液晶分子が、上記第１および第２の基板に垂直に配向する、横電界駆動方式を用いた垂直配向型の液晶パネルであって、
   上記第１および第２の基板のうち少なくとも一方の基板に絶縁層が設けられており、
   各画素は、赤色、緑色、青色の３つのサブ画素からなり、青色のサブ画素における領域の上記絶縁層の比誘電率は３であり、緑色のサブ画素における領域の上記絶縁層の比誘電率は３〜７であり、赤色のサブ画素における領域の上記絶縁層の比誘電率は４〜７であることを特徴とする液晶パネル。
9. 請求項１〜８の何れか１項に記載の液晶パネルを備えていることを特徴とする液晶表示装置。