JPWO2010035708A1 - Metal film forming method and conductive particles - Google Patents

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Abstract

金属皮膜形成方法は、非導電性粒子の表面に、金属皮膜を無電解めっきにより形成する方法である。無電解めっきは、非導電性粒子に金属核を付着させる前処理の後に実施されるとともに、ピロリドン基を有する親水性高分子の存在下において銀からなる金属皮膜を形成する。導電性粒子には、非導電性粒子の表面全体に形成された金属皮膜により導電性が付与されている。金属皮膜は、銀の皮膜のみからなる。The metal film forming method is a method of forming a metal film on the surface of non-conductive particles by electroless plating. The electroless plating is performed after a pretreatment for attaching metal nuclei to non-conductive particles and forms a metal film made of silver in the presence of a hydrophilic polymer having a pyrrolidone group. Conductivity is imparted to the conductive particles by a metal film formed on the entire surface of the non-conductive particles. The metal film consists only of a silver film.

Description

本発明は、例えば、導電材、電磁波シールド材等に利用可能な導電性粒子、及び非導電性粒子に金属皮膜を形成するための金属皮膜形成方法に関する。   The present invention relates to a conductive film that can be used for, for example, a conductive material, an electromagnetic shielding material, and the like, and a metal film forming method for forming a metal film on non-conductive particles.

非導電性粒子に金属皮膜を形成する技術として無電解めっきが知られている。無電解めっきの反応を促進するため、無電解めっきを開始する触媒を付着させるための前処理が、非導電性粒子の表面に施される。前処理では、例えば、非導電性粒子を、塩化第一スズの水溶液に接触させた後、塩化パラジウムの水溶液に接触させる。すると、非導電性粒子の表面に吸着したスズイオンの還元作用により、非導電性粒子の表面にパラジウムコロイドが吸着される。パラジウムコロイドは、無電解めっきを開始する触媒として作用する。無電解めっき浴には、金属塩、金属錯化剤、pH調整剤、還元剤等が含有されている。   Electroless plating is known as a technique for forming a metal film on non-conductive particles. In order to accelerate the electroless plating reaction, a pretreatment for depositing a catalyst for starting the electroless plating is performed on the surface of the non-conductive particles. In the pretreatment, for example, non-conductive particles are brought into contact with an aqueous solution of stannous chloride and then brought into contact with an aqueous solution of palladium chloride. Then, the palladium colloid is adsorbed on the surface of the nonconductive particles by the reducing action of the tin ions adsorbed on the surface of the nonconductive particles. The palladium colloid acts as a catalyst that initiates electroless plating. The electroless plating bath contains a metal salt, a metal complexing agent, a pH adjusting agent, a reducing agent and the like.

ところで、上述した前処理を伴う無電解めっきでは、極めて不均一な金属皮膜しか得られず、連続皮膜が形成され難いという問題があった。そこで、特許文献1では、均質で、かつ強固な被覆力を有する金属めっき粉末の使用が提案されている。この金属めっき粉末は、貴金属イオンを芯材の表面に担持する触媒化工程と、その後、芯材に無電解めっきを行う無電解めっき処理とにより得られる。触媒化工程では、有機質又は無機質の芯材に貴金属イオンを捕捉させた後に、その貴金属イオンを還元して芯材の表面に貴金属を担持させる。無電解めっき処理では、無電解めっき構成液を、成分の異なる少なくとも2つの液に分けてから、それらを別々に、かつ同時に添加する。   By the way, in the electroless plating accompanied by the pretreatment described above, there is a problem that only a very non-uniform metal film can be obtained and it is difficult to form a continuous film. Therefore, Patent Document 1 proposes the use of a metal plating powder having a uniform and strong covering power. This metal plating powder is obtained by a catalytic step for supporting noble metal ions on the surface of the core material, and then an electroless plating treatment for electroless plating on the core material. In the catalyzing step, after the noble metal ions are captured by the organic or inorganic core material, the noble metal ions are reduced and supported on the surface of the core material. In the electroless plating treatment, the electroless plating constituent liquid is divided into at least two liquids having different components, and then they are added separately and simultaneously.

一方、非導電性粒子に貴金属皮膜を形成する技術として、置換めっきが知られている(特許文献2及び3参照)。一般的な置換めっきとして、無電解ニッケルめっきを下地層として形成し、その下地層を貴金属に置換する方法がある。無電解ニッケルめっきでは、めっき液のpHを適正に調整するため、通常、次亜リン酸ナトリウム1水和物、クエン酸等がめっき液に添加される。置換めっきでは、貴金属皮膜の結晶構造を制御するためにコバルトが数百ppmの濃度となるようにめっき液に加えられる。置換めっきで作製した金属皮膜には、銀及び金よりも電気抵抗値の高いニッケルや、不純物であるリン、コバルト等が含まれる。   On the other hand, displacement plating is known as a technique for forming a noble metal film on non-conductive particles (see Patent Documents 2 and 3). As a general replacement plating, there is a method in which electroless nickel plating is formed as a base layer, and the base layer is replaced with a noble metal. In electroless nickel plating, sodium hypophosphite monohydrate, citric acid and the like are usually added to the plating solution in order to properly adjust the pH of the plating solution. In displacement plating, cobalt is added to the plating solution to a concentration of several hundred ppm in order to control the crystal structure of the noble metal film. The metal film produced by displacement plating includes nickel having a higher electrical resistance value than silver and gold, phosphorus, cobalt, and the like as impurities.

導電率の高い貴金属としては、金及び銀が挙げられる。銀は、金よりも更に導電率が高く、より安価である。このため、非導電性粒子の表面に銀からなる金属皮膜を形成した導電性粒子の利用価値は高い。ところが、銀の皮膜を置換めっきにより形成する場合、下地層としてニッケルめっきを形成する必要がある。このため、金属皮膜は、ニッケル層及び銀層の少なくとも二層から形成される。このように複数の層からなる金属皮膜は、金属の使用量が増えたり、廃液の処理が必要になるため、コスト的に不利である。   Examples of the noble metal having high conductivity include gold and silver. Silver has a higher conductivity and is cheaper than gold. For this reason, the utility value of the electroconductive particle which formed the metal membrane | film | coat which consists of silver on the surface of a nonelectroconductive particle is high. However, when a silver film is formed by displacement plating, it is necessary to form nickel plating as an underlayer. For this reason, the metal film is formed of at least two layers of a nickel layer and a silver layer. As described above, the metal film composed of a plurality of layers is disadvantageous in terms of cost because the amount of metal used increases or the treatment of waste liquid is required.

そこで、非導電性粒子に、例えば、カップリング剤を用いた前処理を施してから無電解めっきを行うことで、銀の皮膜を形成することが考えられる。ところが、非導電性粒子に上記の前処理を施したとしても、ミクロンサイズの非導電性粒子では、銀の皮膜を形成できないか、又は不連続な皮膜しか形成できなかった。このようにミクロンサイズの非導電性粒子に対して、下地めっき無しで銀の皮膜を形成する技術は、未だ、実用的ではない。しかも、非導電性粒子の粒径が小さくなるほど、金属皮膜の形成段階又は形成後に、粒子の凝集が発生し易くなるという問題があった。   Therefore, it is conceivable to form a silver film by performing electroless plating on the non-conductive particles after, for example, pretreatment using a coupling agent. However, even if the non-conductive particles are subjected to the above-described pretreatment, the non-conductive particles of micron size cannot form a silver film or only a discontinuous film. Thus, a technique for forming a silver film on a micron-sized non-conductive particle without a base plating is not yet practical. Moreover, there is a problem that the smaller the particle size of the non-conductive particles, the more easily the particles are aggregated during or after the formation of the metal film.

特公平6−96771号公報Japanese Patent Publication No. 6-96771 特開2007−242307号公報JP 2007-242307 A 特開2004−14409号公報JP 2004-14409 A

本発明者は、ミクロンサイズの非導電性粒子に対して、下地めっきを施さずに銀の皮膜を形成することのできる技術を見出した。本発明の目的は、非導電性粒子の粒径が極めて小さくても、銀の皮膜を形成することのできる金属皮膜形成方法を提供することにある。また、本発明の目的は、非導電性粒子の粒径が極めて小さくても、導電性に優れ、低コストである導電性粒子を提供することにある。   The present inventor has found a technique capable of forming a silver film on a micron-sized non-conductive particle without applying a base plating. An object of the present invention is to provide a metal film forming method capable of forming a silver film even when the particle size of non-conductive particles is extremely small. Another object of the present invention is to provide conductive particles having excellent conductivity and low cost even if the particle size of the non-conductive particles is extremely small.

上記の課題を解決するため、本発明の第一の態様によれば、非導電性粒子の表面に、金属皮膜を無電解めっきにより形成する金属皮膜形成方法が提供される。無電解めっきは、非導電性粒子の表面に金属核を付着させる前処理の後に実施されるとともに、ピロリドン基を有する親水性高分子の存在下において銀からなる金属皮膜を形成する。   In order to solve the above problems, according to a first aspect of the present invention, there is provided a metal film forming method for forming a metal film on the surface of non-conductive particles by electroless plating. The electroless plating is performed after a pretreatment for attaching metal nuclei to the surface of non-conductive particles, and forms a metal film made of silver in the presence of a hydrophilic polymer having a pyrrolidone group.

上記の金属皮膜形成方法において、ピロリドン基を有する親水性高分子の水溶液に非導電性粒子を分散させた分散液を調製した後、その分散液中で無電解めっきを開始することが好ましい。   In the above metal film forming method, it is preferable to prepare a dispersion in which non-conductive particles are dispersed in an aqueous solution of a hydrophilic polymer having a pyrrolidone group, and then start electroless plating in the dispersion.

上記の金属皮膜形成方法において、ピロリドン基を有する親水性高分子が、少なくともポリビニルピロリドンを含むことが好ましい。
上記の金属皮膜形成方法において、無電解めっきが、銀鏡反応により実施されることが好ましい。
In the above metal film forming method, the hydrophilic polymer having a pyrrolidone group preferably contains at least polyvinylpyrrolidone.
In the metal film forming method, the electroless plating is preferably performed by a silver mirror reaction.

上記の金属皮膜形成方法において、前処理は、シランカップリング剤、加水分解触媒及び金属塩を含む処理液を、非導電性粒子に接触させた後に、還元剤により金属塩の金属を析出させることにより、非導電性粒子の表面に金属核を付着させる処理であり、シランカップリング剤は、金属塩の金属に対してキレートを形成する官能基を有することが好ましい。   In the above metal film forming method, the pretreatment is such that the treatment liquid containing the silane coupling agent, the hydrolysis catalyst and the metal salt is brought into contact with the non-conductive particles, and then the metal of the metal salt is precipitated by the reducing agent. Therefore, it is preferable that the silane coupling agent has a functional group that forms a chelate with respect to the metal of the metal salt.

上記の金属皮膜形成方法において、金属核の金属は金又は銀であることが好ましい。
上記の課題を解決するため、本発明の第二の態様によれば、非導電性粒子の表面全体に形成された金属皮膜により導電性が付与された導電性粒子が提供される。金属皮膜は銀の皮膜のみからなる。
In the above metal film forming method, the metal of the metal core is preferably gold or silver.
In order to solve the above problems, according to the second aspect of the present invention, there are provided conductive particles imparted with conductivity by a metal film formed on the entire surface of the non-conductive particles. The metal film consists only of a silver film.

上記の導電性微粒子において、導電性粒子の蛍光X線分析において、非導電性粒子に含まれる元素以外の元素として金及び銀の元素のみが検出されることが好ましい。
上記の導電性微粒子において、温度60℃、湿度90%RHの環境下で240時間経過後の電気抵抗値が10Ω以下である粒子の個数率は、80%以上であることが好ましい。
In the conductive fine particles, it is preferable that only gold and silver elements are detected as elements other than the elements contained in the nonconductive particles in the fluorescent X-ray analysis of the conductive particles.
In the above conductive fine particles, the number ratio of particles having an electrical resistance value of 10Ω or less after 240 hours in an environment of a temperature of 60 ° C. and a humidity of 90% RH is preferably 80% or more.

上記の導電性微粒子において、銀の皮膜の非被覆部分を有する粒子の個数率は、10%以下であることが好ましい。
上記の導電性微粒子において、液晶表示素子のシール剤として用いられることが好ましい。
In the conductive fine particles described above, the number ratio of particles having an uncoated portion of a silver film is preferably 10% or less.
The conductive fine particles are preferably used as a sealing agent for liquid crystal display elements.

上記の導電性微粒子において、異方導電性材料として用いられることが好ましい。
上記の課題を解決するため、本発明の第三の態様によれば、非導電性粒子の表面に、金属皮膜を無電解めっきにより形成してなる導電性粒子を製造する方法が提供される。無電解めっきは、非導電性粒子の表面に金属核を付着させる前処理の後に実施されるとともに、ピロリドン基を有する親水性高分子の存在下において銀からなる金属皮膜を形成する。
The conductive fine particles are preferably used as an anisotropic conductive material.
In order to solve the above problems, according to a third aspect of the present invention, there is provided a method for producing conductive particles formed by forming a metal film on the surface of nonconductive particles by electroless plating. The electroless plating is performed after a pretreatment for attaching metal nuclei to the surface of non-conductive particles, and forms a metal film made of silver in the presence of a hydrophilic polymer having a pyrrolidone group.

上記の課題を解決するため、本発明の第四の態様によれば、非導電性粒子の表面に金属皮膜を形成して得られる導電性粒子が提供される。金属皮膜は、非導電性粒子の表面に金属核を付着させる前処理の後に実施されるとともに、ピロリドン基を有する親水性高分子の存在下において銀からなる金属皮膜を形成する無電解めっきにより形成される。また、金属皮膜は、銀の皮膜のみからなる。   In order to solve the above problems, according to a fourth aspect of the present invention, there are provided conductive particles obtained by forming a metal film on the surface of non-conductive particles. The metal film is formed by electroless plating that is performed after pretreatment to attach metal nuclei to the surface of non-conductive particles and forms a metal film made of silver in the presence of a hydrophilic polymer having a pyrrolidone group. Is done. The metal film consists only of a silver film.

本発明によれば、非導電性粒子の粒径が極めて小さい場合であっても、銀の皮膜を形成することの容易な金属皮膜形成方法が提供される。また、本発明によれば、非導電性粒子の粒径が極めて小さい場合であっても、優れた導電性が発揮され易く、低コストである導電性粒子が提供される。   ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, even if it is a case where the particle size of a nonelectroconductive particle is very small, the metal film formation method which is easy to form a silver film is provided. In addition, according to the present invention, even when the particle size of the non-conductive particles is extremely small, it is possible to provide conductive particles that easily exhibit excellent conductivity and are low in cost.

実施例1で用いたシリカ粒子を示す走査型電子顕微鏡写真。2 is a scanning electron micrograph showing silica particles used in Example 1. FIG. 実施例1において前処理を施した非導電性粒子を示す走査型電子顕微鏡写真。The scanning electron micrograph which shows the nonelectroconductive particle which performed the pre-processing in Example 1. FIG. 実施例1の導電性粒子を示す走査型電子顕微鏡写真。2 is a scanning electron micrograph showing conductive particles of Example 1. FIG. 実施例1の導電性粒子について銀の検出を示す蛍光X線分析のチャート。2 is a chart of fluorescent X-ray analysis showing detection of silver for the conductive particles of Example 1. FIG. 実施例1の導電性粒子について金の検出を示す蛍光X線分析のチャート。The chart of the fluorescent X ray analysis which shows the detection of gold | metal | money about the electroconductive particle of Example 1. FIG. 湿熱試験後の実施例1の導電性粒子を示す走査型電子顕微鏡写真。The scanning electron micrograph which shows the electroconductive particle of Example 1 after a wet heat test. 実施例1の導電性粒子について樹脂中における分散状態を示す光学顕微鏡写真。The optical microscope photograph which shows the dispersion state in resin about the electroconductive particle of Example 1. FIG. 比較例1の導電性粒子を示す走査型電子顕微鏡写真。4 is a scanning electron micrograph showing conductive particles of Comparative Example 1. 比較例2の導電性粒子を示す走査型電子顕微鏡写真。6 is a scanning electron micrograph showing conductive particles of Comparative Example 2. 比較例2の導電性粒子について樹脂中における分散状態を示す光学顕微鏡写真。The optical micrograph which shows the dispersion state in resin about the electroconductive particle of the comparative example 2. FIG. 比較例3の導電性粒子を示す走査型電子顕微鏡写真。6 is a scanning electron micrograph showing conductive particles of Comparative Example 3. 湿熱試験後の比較例3の導電性粒子を示す走査型電子顕微鏡写真。The scanning electron micrograph which shows the electroconductive particle of the comparative example 3 after a wet heat test.

以下、本発明を具体化した実施形態について詳細に説明する。
本実施形態の金属皮膜形成方法は、非導電性粒子に金属皮膜を無電解めっきにより形成する方法である。無電解めっきは、非導電性粒子に金属核を付着させる前処理の後に実施されるとともに、ピロリドン基を有する親水性高分子の存在下で銀からなる金属皮膜を形成する。まず、非導電性粒子について説明する。
DESCRIPTION OF EMBODIMENTS Hereinafter, embodiments embodying the present invention will be described in detail.
The metal film forming method of this embodiment is a method of forming a metal film on non-conductive particles by electroless plating. The electroless plating is performed after a pretreatment for attaching metal nuclei to non-conductive particles, and forms a metal film made of silver in the presence of a hydrophilic polymer having a pyrrolidone group. First, the nonconductive particles will be described.

<非導電性粒子>
非導電性粒子は、金属皮膜を形成する基材として構成される。非導電性粒子の材質としては、例えば、シリカ、セラミックス、ガラス、樹脂類から選ばれる少なくとも一種が挙げられる。シリカとしては、例えば、完全結晶化した乾式シリカ(クリストバライト)、水分散型シリカ(コロイダルシリカ)等が挙げられる。セラミックスとしては、例えば、アルミナ、サファイア、ムライト、チタニア、炭化ケイ素、窒化ケイ素、窒化アルミニウム、ジルコニア等が挙げられる。ガラスとしては、例えば、BK7、SF11、LaSFN9等の各種ショットガラス、光学クラウンガラス、ソーダガラス、低膨張ボロシリケートガラス等が挙げられる。樹脂類としては、例えば、シリコーン樹脂、フェノール樹脂、天然変性フェノール樹脂、エポキシ樹脂、ポリビニルアルコール系樹脂、セルロース系樹脂等や、ポリオレフィン系樹脂、スチレン系樹脂、アクリル系樹脂等の変性物又はコロナ放電等による表面処理物が挙げられる。非導電性粒子としては、例えば、粒径のばらつきが小さいという観点から、好ましくは、シリカ、セラミックス、及びガラスから選ばれる少なくとも一種、より好ましくはシリカである。非導電性粒子の形状は、例えば、球状、棒状、板状、針状、中空状等が挙げられる。非導電性粒子の形状は、非導電性粒子の分散性又は得られる導電性粒子の分散性等を考慮すると、球状であることが好ましい。
<Non-conductive particles>
The non-conductive particles are configured as a base material that forms a metal film. Examples of the material of the nonconductive particles include at least one selected from silica, ceramics, glass, and resins. Examples of silica include completely crystallized dry silica (cristobalite) and water-dispersed silica (colloidal silica). Examples of ceramics include alumina, sapphire, mullite, titania, silicon carbide, silicon nitride, aluminum nitride, zirconia, and the like. Examples of the glass include various shot glasses such as BK7, SF11, and LaSFN9, optical crown glass, soda glass, low expansion borosilicate glass, and the like. Examples of the resins include silicone resins, phenol resins, naturally-modified phenol resins, epoxy resins, polyvinyl alcohol resins, cellulose resins, polyolefin resins, styrene resins, acrylic resins, and other modified products or corona discharge. And the like. The non-conductive particles are preferably at least one selected from silica, ceramics, and glass, more preferably silica, from the viewpoint of small variation in particle size. Examples of the shape of the non-conductive particles include a spherical shape, a rod shape, a plate shape, a needle shape, and a hollow shape. The shape of the non-conductive particles is preferably spherical considering the dispersibility of the non-conductive particles or the dispersibility of the obtained conductive particles.

非導電性粒子の粒径は、特に限定されないが、好ましくは、0.5〜100μm、より好ましくは、0.5〜10μm、さらに好ましくは、1〜5μmである。非導電性粒子の粒径は、走査型電子顕微鏡の写真から測定される。   The particle size of the non-conductive particles is not particularly limited, but is preferably 0.5 to 100 μm, more preferably 0.5 to 10 μm, and still more preferably 1 to 5 μm. The particle size of the non-conductive particles is measured from a photograph of a scanning electron microscope.

特に、導電性粒子を液晶表示素子用部材に用いる場合は、導電性粒子の粒径を揃える必要がある。具体的には、非導電性粒子の粒径分布は、以下に示す式で求められるCV値が10%以下であることが好ましく、5%以下であることがより好ましい。   In particular, when using conductive particles for a liquid crystal display element member, it is necessary to make the particle diameters of the conductive particles uniform. Specifically, in the particle size distribution of the non-conductive particles, the CV value obtained by the following formula is preferably 10% or less, and more preferably 5% or less.

CV値(%)={[粒子径の標準偏差(μm)]/[平均粒径(μm)]}×100
金属皮膜形成方法では、非導電性粒子に金属核を付着させる前処理が実施される。次に、この前処理について説明する。
CV value (%) = {[standard deviation of particle diameter (μm)] / [average particle diameter (μm)]} × 100
In the metal film forming method, pretreatment for attaching metal nuclei to non-conductive particles is performed. Next, this preprocessing will be described.

<前処理>
前処理においては、非導電性粒子に金属核を付着させる。金属核は、銀からなる金属皮膜を非導電性粒子に密着させるように作用する。金属核は、金又は銀からなることが好ましい。金又は銀からなる金属核は、金属皮膜となる銀の導電性に悪影響を与え難く、金属皮膜を安定的に形成することができる。
<Pretreatment>
In the pretreatment, metal nuclei are attached to the non-conductive particles. The metal nucleus acts so that the metal film made of silver adheres to the non-conductive particles. The metal core is preferably made of gold or silver. A metal nucleus made of gold or silver hardly forms an adverse effect on the conductivity of silver that becomes a metal film, and can form a metal film stably.

前処理としては、例えば、シランカップリング剤、加水分解触媒及び金塩を含む処理液を、非導電性粒子に接触させた後に、還元剤により金属イオンを析出させることにより金属核を付着させることが好ましい。これにより、無電解めっきによる金属皮膜の形成は、均一に進行する。   As the pretreatment, for example, after a treatment liquid containing a silane coupling agent, a hydrolysis catalyst, and a gold salt is brought into contact with non-conductive particles, a metal nucleus is deposited by depositing metal ions with a reducing agent. Is preferred. Thereby, formation of the metal film by electroless plating proceeds uniformly.

シランカップリング剤は、加水分解によりシラノール基を生成する加水分解性官能基を有している。加水分解性官能基としては、Si原子に直接結合したアルコキシ(−OR)基等が挙げられる。アルコキシ基を構成するRとしては、直鎖状、分岐状又は環状のいずれかのアルキル基であって炭素数が1〜6であるものが好ましく、具体的には、メチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、イソブチル基、sec−ブチル基、tert−ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基等を挙げることができる。   The silane coupling agent has a hydrolyzable functional group that generates a silanol group by hydrolysis. Examples of the hydrolyzable functional group include an alkoxy (—OR) group directly bonded to a Si atom. R constituting the alkoxy group is preferably a linear, branched or cyclic alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, specifically, methyl group, ethyl group, n -Propyl group, isopropyl group, n-butyl group, isobutyl group, sec-butyl group, tert-butyl group, pentyl group, hexyl group, cyclopentyl group, cyclohexyl group and the like can be mentioned.

本実施形態の金属皮膜形成方法で用いられるシランカップリング剤は、金属塩の金属に対してキレートを形成する官能基を有する。金属塩の金属に対してキレートを形成する官能基としては、極性基又は親水性基が挙げられる。具体的には、窒素原子、硫黄原子及び酸素原子の原子から選ばれる少なくとも1種以上の原子を有する官能基であることが好ましい。その官能基としては、−SH、−CN、−NH、−SOOH、−SOOH、−OPO(OH)、及び−COOHからなる群から選ばれる少なくとも1種以上の官能基が挙げられる。官能基は、塩を形成したものであってもよい。官能基が−OH、−SH、−SOOH、−SOOH、−OPO(OH)、−COOH等の酸性基である場合、その塩としては、ナトリウム、カリウム、リチウム等のアルカリ金属塩、又はアンモニウム塩等が挙げられる。一方、−NH等の塩基性基である場合、その塩としては、塩酸、硫酸、硝酸等の無機酸塩、ギ酸、酢酸、プロピオン酸、トリフルオロ酢酸等の有機酸塩が挙げられる。The silane coupling agent used in the metal film forming method of the present embodiment has a functional group that forms a chelate with respect to the metal of the metal salt. Examples of the functional group that forms a chelate with respect to the metal of the metal salt include a polar group and a hydrophilic group. Specifically, a functional group having at least one atom selected from nitrogen atom, sulfur atom and oxygen atom is preferable. Examples of the functional group include at least one functional group selected from the group consisting of —SH, —CN, —NH 2 , —SO 2 OH, —SOOH, —OPO (OH) 2 , and —COOH. . The functional group may form a salt. When the functional group is an acidic group such as —OH, —SH, —SO 2 OH, —SOOH, —OPO (OH) 2 , —COOH, the salt includes alkali metal salts such as sodium, potassium, and lithium, Or ammonium salt etc. are mentioned. On the other hand, when it is a basic group such as —NH 2 , examples of the salt include inorganic acid salts such as hydrochloric acid, sulfuric acid and nitric acid, and organic acid salts such as formic acid, acetic acid, propionic acid and trifluoroacetic acid.

シランカップリング剤の具体例としては、3−アミノプロピルトリメトキシシラン、3−アミノプロピルトリエトキシシラン、N−2−(アミノエチル)−3−アミノプロピルトリメトキシシラン、N−2−(アミノエチル)−3−アミノプロピルトリエトキシシラン等が挙げられる。シランカップリング剤のコスト、及び取り扱い易さ等の観点から、3−アミノプロピルトリメトキシシランが特に好ましい。   Specific examples of the silane coupling agent include 3-aminopropyltrimethoxysilane, 3-aminopropyltriethoxysilane, N-2- (aminoethyl) -3-aminopropyltrimethoxysilane, and N-2- (aminoethyl). ) -3-aminopropyltriethoxysilane and the like. From the viewpoint of the cost of the silane coupling agent and ease of handling, 3-aminopropyltrimethoxysilane is particularly preferable.

加水分解触媒は、シランカップリング剤の加水分解性官能基の加水分解を促進する。加水分解触媒としては、例えば、無水酢酸、氷酢酸、プロピオン酸、クエン酸、ギ酸、シュウ酸等の有機酸、アルミニウムアルキルアセテート等のアルミニウムキレート化合物、アンモニア水等の無機アルカリ性化合物等を挙げることができる。これらの加水分解性触媒の中でも、シランカップリング剤として好ましい3−アミノプロピルトリメトキシシランに対する反応性、及びコストを考慮すると、アンモニア水が好ましい。   The hydrolysis catalyst promotes hydrolysis of the hydrolyzable functional group of the silane coupling agent. Examples of the hydrolysis catalyst include organic acids such as acetic anhydride, glacial acetic acid, propionic acid, citric acid, formic acid and oxalic acid, aluminum chelate compounds such as aluminum alkyl acetate, and inorganic alkaline compounds such as aqueous ammonia. it can. Among these hydrolyzable catalysts, ammonia water is preferable in consideration of reactivity with 3-aminopropyltrimethoxysilane which is preferable as a silane coupling agent and cost.

シランカップリング剤1モルに対する加水分解触媒の使用量は、0.5〜5.0モルであることが好ましく、1.5〜2.5モルであることがより好ましい。また、シランカップリング剤1モルに対する金属塩の使用量は、0.005〜0.05モルであることが好ましく、0.015〜0.025モルであることがより好ましい。さらに、金属塩1モルに対する還元剤の使用量は、0.025〜0.25モルであることが好ましく、0.075〜0.125モルであることがより好ましい。   The amount of the hydrolysis catalyst used relative to 1 mol of the silane coupling agent is preferably 0.5 to 5.0 mol, and more preferably 1.5 to 2.5 mol. Moreover, it is preferable that it is 0.005-0.05 mol, and, as for the usage-amount of the metal salt with respect to 1 mol of silane coupling agents, it is more preferable that it is 0.015-0.025 mol. Furthermore, it is preferable that it is 0.025-0.25 mol, and, as for the usage-amount of the reducing agent with respect to 1 mol of metal salts, it is more preferable that it is 0.075-0.125 mol.

前処理のための処理液を構成する溶媒又は分散媒としては、水又は水性溶媒が挙げられる。水性溶媒は、水と有機溶媒との混合溶媒である。有機溶媒としては、例えば、メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノールなどの低級アルコール類、アセトンなどのケトン類等が挙げられる。これらの有機溶媒は、単独で用いてもよいし、複数種を組み合わせて用いてもよい。次に、無電解めっきについて説明する。   Examples of the solvent or dispersion medium constituting the treatment liquid for pretreatment include water and an aqueous solvent. The aqueous solvent is a mixed solvent of water and an organic solvent. Examples of the organic solvent include lower alcohols such as methanol, ethanol, propanol and butanol, and ketones such as acetone. These organic solvents may be used alone or in combination of two or more. Next, electroless plating will be described.

<無電解めっき>
無電解めっきとしては、金属塩、還元剤等を用いる周知の無電解めっき法を適用することができる。還元剤としては、例えば、テトラヒドロホウ酸ナトリウム等の水素化ホウ素酸塩(水素化ホウ素ナトリウム等のアルカリ金属水素化ホウ酸塩類、アンモニウム水素化ホウ酸塩類等)、ヒドラジン系化合物類、次亜塩素酸塩などの無機系還元剤、ホルムアルデヒド、アセトアルデヒド、クエン酸、クエン酸ナトリウムなどの有機系還元剤を用いることができる。これらの還元剤は、単独で用いてもよいし、二種以上を組み合わせて用いてもよい。無電解めっきの温度条件、反応時間は、無電解めっきの常法に応じて設定される。金属塩1モルに対する還元剤の使用量は、0.025〜0.25モルであることが好ましく、0.075〜0.125モルであることがより好ましい。
<Electroless plating>
As the electroless plating, a known electroless plating method using a metal salt, a reducing agent, or the like can be applied. Examples of the reducing agent include borohydrides such as sodium tetrahydroborate (alkali metal borohydrides such as sodium borohydride, ammonium borohydrides), hydrazine compounds, hypochlorite, and the like. An inorganic reducing agent such as an acid salt or an organic reducing agent such as formaldehyde, acetaldehyde, citric acid, or sodium citrate can be used. These reducing agents may be used alone or in combination of two or more. The temperature conditions and reaction time of electroless plating are set according to the conventional method of electroless plating. The amount of the reducing agent used relative to 1 mol of the metal salt is preferably 0.025 to 0.25 mol, and more preferably 0.075 to 0.125 mol.

無電解めっきとしては、反応の安定性に優れるとともに、不純物を可能な限り低減できるという観点から、銀鏡反応を用いるのが好ましい。すなわち、銀鏡反応に関与する物質は、金属皮膜から洗浄により容易に除去される。このため、極めて純度の高い金属皮膜を形成することができる。銀鏡反応は、銀のアンミン錯体を還元剤で還元することで、銀を析出させる。具体的には、硝酸銀のアンモニア水溶液中にホルマリン等の還元剤を添加する。これにより、非導電性粒子の表面上には、金属核を基にして銀が析出される。   As the electroless plating, it is preferable to use a silver mirror reaction from the viewpoint of excellent reaction stability and reducing impurities as much as possible. That is, the substance involved in the silver mirror reaction is easily removed from the metal film by washing. For this reason, an extremely high-purity metal film can be formed. In the silver mirror reaction, silver is precipitated by reducing a silver ammine complex with a reducing agent. Specifically, a reducing agent such as formalin is added to an aqueous ammonia solution of silver nitrate. Thereby, silver is deposited on the surface of the non-conductive particles based on the metal nucleus.

無電解めっきは、ピロリドン基を有する親水性高分子の存在下において銀からなる金属皮膜を形成する。この皮膜形成によれば、上記前処理を行った非導電性粒子に、銀の皮膜を連続的に形成することができる。ピロリドン基を有する親水性高分子としては、例えば、ポリビニルピロリドン(PVP)、ポリ(N‐ビニル−2‐ピロリドン‐g‐クエン酸)、ポリ(N‐ビニル‐2‐ピロリドン‐co‐イタコン酸)、ポリ(N‐ビニル‐2‐ピロリドン‐co‐スチレン)等が挙げられる。これらの親水性高分子は、単独で用いてもよいし、複数種を組み合わせて用いてもよい。   Electroless plating forms a metal film made of silver in the presence of a hydrophilic polymer having a pyrrolidone group. According to this film formation, a silver film can be continuously formed on the nonconductive particles subjected to the pretreatment. Examples of hydrophilic polymers having a pyrrolidone group include polyvinylpyrrolidone (PVP), poly (N-vinyl-2-pyrrolidone-g-citric acid), and poly (N-vinyl-2-pyrrolidone-co-itaconic acid). And poly (N-vinyl-2-pyrrolidone-co-styrene). These hydrophilic polymers may be used alone or in combination of two or more.

ピロリドン基を有する親水性高分子は、その側鎖に窒素原子及び酸素原子を有している。このため、ピロリドン基を有する親水性高分子は、非導電性粒子に付着している金属核、又は、無電解めっきで析出する銀に対して配位する。このように配位した親水性高分子は、金属核の周囲に銀が析出して金属皮膜が形成される際に、皮膜の形成を均一に進行させるとともに、非導電性粒子に対する金属皮膜の密着性を高めるものと推測される。その結果、非導電性粒子との密着性が高く、かつ均一な金属皮膜が形成される。   The hydrophilic polymer having a pyrrolidone group has a nitrogen atom and an oxygen atom in its side chain. For this reason, the hydrophilic polymer having a pyrrolidone group is coordinated to a metal nucleus adhering to the non-conductive particles or silver deposited by electroless plating. The hydrophilic polymer coordinated in this way allows the formation of a metal film uniformly when silver deposits around the metal core to form a film, and the adhesion of the metal film to non-conductive particles. It is presumed to increase the nature. As a result, a highly uniform and uniform metal film is formed with non-conductive particles.

ピロリドン基を有する親水性高分子に対して、親水性高分子の一種であるポリビニルアルコール(PVA)は、側鎖に酸素原子を有している。しかしながら、ポリビニルアルコールの存在下で無電解めっきを行ったとしても、非導電性粒子の表面には、連続した金属皮膜が形成されない。このことから、少なくとも窒素原子が、連続した金属皮膜の形成に作用していると推測される。さらに、酸素原子及び窒素原子がピロリドン骨格として存在することで、非導電性粒子に吸着した金属核を基とした銀の成長、及び連続した皮膜の形成において、有利に作用すると推測される。   In contrast to a hydrophilic polymer having a pyrrolidone group, polyvinyl alcohol (PVA), which is a kind of hydrophilic polymer, has an oxygen atom in the side chain. However, even if electroless plating is performed in the presence of polyvinyl alcohol, a continuous metal film is not formed on the surface of the nonconductive particles. From this, it is presumed that at least nitrogen atoms act on the formation of a continuous metal film. Further, it is presumed that the presence of oxygen atoms and nitrogen atoms as a pyrrolidone skeleton has an advantageous effect in the growth of silver based on metal nuclei adsorbed on non-conductive particles and the formation of a continuous film.

ピロリドン基を有する親水性高分子は、少なくともポリビニルピロリドンを含むことが好ましい。特に、単独重合体であるポリビニルピロリドンは、ピロリドン基を側鎖に有する共重合体よりも、析出した銀に対して配位し易いと推測される。これにより、銀の皮膜がより安定的に形成される。特に、金属核として金又は銀を付着した非導電性粒子において、その金属核に対してポリビニルピロリドンは配位し易くなると推測される。したがって、銀の皮膜は、さらに安定的に形成される。   The hydrophilic polymer having a pyrrolidone group preferably contains at least polyvinylpyrrolidone. In particular, it is presumed that polyvinylpyrrolidone, which is a homopolymer, is more easily coordinated with precipitated silver than a copolymer having a pyrrolidone group in the side chain. Thereby, the silver film is more stably formed. In particular, it is presumed that polyvinylpyrrolidone is easily coordinated to the metal nucleus in the non-conductive particles having gold or silver attached as the metal nucleus. Therefore, the silver film is more stably formed.

本実施形態の無電解めっきは、ピロリドン基を有する親水性高分子の水溶液に非導電性粒子を分散させた分散液を調製した後、その分散液中で開始される。このように非導電性粒子を分散させることで、非導電性粒子に吸着した金属核に対して、ピロリドン基を有する親水性高分子が均一かつ十分に配位されると推測される。すなわち、上記分散液中で無電解めっきが開始されると、ピロリドン基を有する親水性高分子が十分に作用するため、銀の皮膜がより安定的に形成される。非導電性粒子を分散する分散媒は、水性分散媒である。水性分散媒は、水、又は、水と有機溶剤との混合液であり、ピロリドン基を有する親水性高分子の溶媒を兼ねる。有機溶剤は、水との相溶性を有している。有機溶剤としては、例えば、メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノールなどの低級アルコール類、アセトンなどのケトン類等が挙げられる。これらの有機溶媒は、単独で用いてもよいし、複数種を組み合わせて用いてもよい。   The electroless plating of this embodiment is started in a dispersion after preparing a dispersion in which non-conductive particles are dispersed in an aqueous solution of a hydrophilic polymer having a pyrrolidone group. By dispersing the non-conductive particles in this way, it is presumed that the hydrophilic polymer having a pyrrolidone group is uniformly and sufficiently coordinated with the metal nucleus adsorbed on the non-conductive particles. That is, when electroless plating is started in the dispersion, a hydrophilic polymer having a pyrrolidone group acts sufficiently, so that a silver film is more stably formed. The dispersion medium for dispersing the non-conductive particles is an aqueous dispersion medium. The aqueous dispersion medium is water or a mixed liquid of water and an organic solvent, and also serves as a solvent for a hydrophilic polymer having a pyrrolidone group. The organic solvent has compatibility with water. Examples of the organic solvent include lower alcohols such as methanol, ethanol, propanol and butanol, and ketones such as acetone. These organic solvents may be used alone or in combination of two or more.

無電解めっきの開始後、非導電性粒子同士の接触及び分散が繰り返されると、非導電性粒子に均一な金属皮膜が形成され難くなるものと推測される。すなわち、非導電性粒子同士の接触は、金属皮膜の均一な成長を妨げたり、成長段階の金属皮膜を損傷させたりするおそれがあり、ひいては、非導電性粒子同士の凝集を招くおそれもある。この点、上記分散液の粘度は、ピロリドン基を有する親水性高分子により増大させられている。このため、非導電性微粒子の流動は抑制される。これにより、非導電性微粒子同士の衝突頻度が低減される。そのため、分散液中における金属皮膜の均一な成長が妨げられ難くなると推測される。その結果、金属皮膜が均一に形成される。また、非導電性微粒子同士が接近した場合にも、ピロリドン基を有する親水性高分子の分子鎖が立体障害になると推測される。これにより、非導電性微粒子同士の凝集は抑制される。   If contact and dispersion of nonconductive particles are repeated after the start of electroless plating, it is presumed that a uniform metal film is hardly formed on the nonconductive particles. That is, the contact between the nonconductive particles may hinder the uniform growth of the metal film or damage the metal film at the growth stage, and may also cause the nonconductive particles to aggregate. In this respect, the viscosity of the dispersion is increased by a hydrophilic polymer having a pyrrolidone group. For this reason, the flow of non-conductive fine particles is suppressed. Thereby, the collision frequency of nonelectroconductive fine particles is reduced. Therefore, it is presumed that uniform growth of the metal film in the dispersion is less likely to be hindered. As a result, a metal film is uniformly formed. Further, even when non-conductive fine particles approach each other, it is presumed that the molecular chain of the hydrophilic polymer having a pyrrolidone group becomes a steric hindrance. Thereby, aggregation of nonelectroconductive fine particles is suppressed.

ピロリドン基を有する親水性高分子は、フィケンチャー法で求められるK値により分類される。例えば、K値の異なる複数種ポリビニルピロリドンが市販されている。K値は、ピロリドン基を有する親水性高分子の分子量の基準となる値である。K値が低いほど、親水性高分子の分子量が小さいことを意味する。すなわち、K値が高いほど、分散液の増粘効果が高まることを意味する。また、増粘効果は、分散媒中における親水性高分子の濃度にも依存する。すなわち、分散媒中における親水性高分子の濃度が高いほど、分散液の増粘効果が高められる。本実施形態において、ピロリドン基を有する親水性高分子のK値及び濃度は、好ましくは、K値が30〜120、且つ濃度が0.5〜10%であり、より好ましくは、K値が90〜120、且つ濃度が2.0〜5.0%である。親水性高分子のK値が30未満、且つ濃度が0.5%未満である場合、非導電性微粒子の流動を効果的に抑制できないおそれがある。一方、親水性高分子のK値が120を超え、且つ濃度が10%超える場合、分散液の粘性が過剰に高まることで、析出した銀が非導電性粒子と接触し難くなるおそれがある。その結果、金属皮膜の形成が遅れたり、分散液中で銀粒子が凝集したりするおそれがある。   Hydrophilic polymers having a pyrrolidone group are classified according to the K value determined by the Fikencher method. For example, multiple types of polyvinylpyrrolidone having different K values are commercially available. The K value is a value serving as a reference for the molecular weight of a hydrophilic polymer having a pyrrolidone group. A lower K value means a smaller molecular weight of the hydrophilic polymer. That is, it means that the higher the K value, the higher the thickening effect of the dispersion. Further, the thickening effect also depends on the concentration of the hydrophilic polymer in the dispersion medium. That is, the higher the concentration of the hydrophilic polymer in the dispersion medium, the higher the thickening effect of the dispersion. In the present embodiment, the K value and the concentration of the hydrophilic polymer having a pyrrolidone group are preferably 30 to 120 and a concentration of 0.5 to 10%, more preferably 90 to 90%. -120, and the concentration is 2.0-5.0%. When the K value of the hydrophilic polymer is less than 30 and the concentration is less than 0.5%, the flow of the nonconductive fine particles may not be effectively suppressed. On the other hand, when the K value of the hydrophilic polymer exceeds 120 and the concentration exceeds 10%, the viscosity of the dispersion is excessively increased, so that the precipitated silver may not easily come into contact with the non-conductive particles. As a result, the formation of the metal film may be delayed or the silver particles may aggregate in the dispersion.

分散液中でのピロリドン基を有する親水性高分子の濃度(C)は、上記水性分散媒に対する濃度として、以下の式で示される。
濃度(C)[%]={[親水性高分子(g)]/[水性分散媒(ml)]}×100
こうした無電解めっきにより、非導電性粒子の表面全体に金属皮膜を有する導電性粒子が形成される。このとき、ピロリドン基を有する親水性高分子は、銀の皮膜に配位することで導電性粒子の表面を保護する。つまり、ピロリドン基を有する親水性高分子は、金属皮膜を構成する銀の凝集力を緩和する。これにより、分散液中で形成された導電性粒子は互いに凝集し難くなる。
The concentration (C) of the hydrophilic polymer having a pyrrolidone group in the dispersion is represented by the following formula as the concentration with respect to the aqueous dispersion medium.
Concentration (C) [%] = {[Hydrophilic polymer (g)] / [Aqueous dispersion medium (ml)]} × 100
By such electroless plating, conductive particles having a metal film on the entire surface of the nonconductive particles are formed. At this time, the hydrophilic polymer having a pyrrolidone group protects the surface of the conductive particles by coordinating with the silver film. That is, the hydrophilic polymer having a pyrrolidone group relaxes the cohesive force of silver constituting the metal film. Thereby, the electroconductive particle formed in the dispersion liquid becomes difficult to aggregate each other.

次に、得られた導電性粒子を分散液から分離及び洗浄した後、乾燥することで、導電性粒子の粉体(導電性粉体)が得られる。導電性粉体の凝集が抑制されているため、導電性粉体の粒径分布は狭くなっている。導電性粉体におけるCV値は、10%以下であることが好ましく、5%以下であることがより好ましい。また、無電解めっきの際の攪拌方法としては、特に限定されないが、例えば、攪拌羽根、マグネチックスターラー等の一般的な攪拌装置による攪拌や、分散手段のほか、前記攪拌装置による攪拌と同時、もしくは単独で超音波照射による攪拌や、分散手段を用いた方法等が挙げられる。   Next, the obtained conductive particles are separated from the dispersion, washed, and then dried to obtain conductive particle powder (conductive powder). Since the aggregation of the conductive powder is suppressed, the particle size distribution of the conductive powder is narrow. The CV value in the conductive powder is preferably 10% or less, and more preferably 5% or less. Further, the stirring method in the electroless plating is not particularly limited, for example, stirring by a general stirring device such as a stirring blade, a magnetic stirrer, etc., in addition to the dispersing means, simultaneously with stirring by the stirring device, Alternatively, stirring by ultrasonic irradiation alone, a method using a dispersing means, and the like can be mentioned.

<導電性粒子>
次に、上記金属皮膜形成方法により形成された金属皮膜を有する導電性粒子について詳細に説明する。
<Conductive particles>
Next, the conductive particles having a metal film formed by the above metal film forming method will be described in detail.

導電性粒子は、非導電性粒子の表面全体に形成された金属皮膜により導電性が付与されている。金属皮膜は、銀の皮膜のみからなる。すなわち、導電性粒子は、銀の皮膜の下地層となるめっき層を有していない。   The conductive particles are given conductivity by a metal film formed on the entire surface of the non-conductive particles. The metal film consists only of a silver film. That is, the conductive particles do not have a plating layer that serves as an underlayer for the silver film.

金属皮膜は、連続した銀微粒子の集合体からなる。金属皮膜は、銀微粒子を緻密に配列し、かつ連続した皮膜からなる。連続した銀微粒子の集合体とは、走査型顕微鏡により金属皮膜を5000倍〜10000倍の倍率で観察したとき、不連続となる金属皮膜を確認できないレベルにまで緻密に配列された銀微粒子の集合体のことをいう。金属皮膜の厚さは、安定した導電性を発揮させるという観点から、50nm以上であることが好ましい。   The metal film is composed of an aggregate of continuous silver fine particles. The metal film is composed of a continuous film in which silver fine particles are densely arranged. An aggregate of continuous silver fine particles refers to an aggregate of silver fine particles that are densely arranged to such a level that a discontinuous metal film cannot be confirmed when the metal film is observed at a magnification of 5000 to 10,000 times with a scanning microscope. It means the body. The thickness of the metal film is preferably 50 nm or more from the viewpoint of exhibiting stable conductivity.

上記金属皮膜を有する導電性粒子では、不純物を極めて少なくすることができる。この点、導電性粒子の純度は、蛍光X線分析により確認することができる。導電性粒子の蛍光X線分析においては、非導電性粒子に含まれる元素以外の元素として、金及び銀のみが検出されることが好ましい。   In the conductive particles having the metal film, impurities can be extremely reduced. In this regard, the purity of the conductive particles can be confirmed by fluorescent X-ray analysis. In the fluorescent X-ray analysis of the conductive particles, it is preferable that only gold and silver are detected as elements other than the elements contained in the nonconductive particles.

図3は、導電性粉体の一例を示す電子顕微鏡写真である。図3から、連続した銀の皮膜が、花弁状をなしていることが確認される。これに対して、ピロリドン基を有する親水性高分子を用いずに、銀の皮膜を形成した従来の導電性粒子では、その皮膜の非被覆部分がクレーター状をなしている。本実施形態の導電性粒子は、例えば、導電性粉体、導電性粒子分散液等のように導電性粒子群である場合、銀皮膜の非被覆部分を有する導電性粒子が存在しないか、又は存在したとしても極めて少ないことを特徴としている。導電性粒子群の場合、銀皮膜の非被覆部分を有する粒子の個数率を10%以下に抑えることができる。   FIG. 3 is an electron micrograph showing an example of the conductive powder. From FIG. 3, it is confirmed that the continuous silver film has a petal shape. On the other hand, in conventional conductive particles in which a silver film is formed without using a hydrophilic polymer having a pyrrolidone group, the uncoated portion of the film forms a crater shape. When the conductive particles of the present embodiment are a conductive particle group such as a conductive powder, a conductive particle dispersion, or the like, there are no conductive particles having an uncoated portion of the silver film, or It is characterized by very little, if any. In the case of the conductive particle group, the number ratio of particles having an uncoated portion of the silver film can be suppressed to 10% or less.

さらに、上記導電性粒子では、全有機炭素分析において、非導電性粒子に含まれる元素以外の元素として炭素が検出される。また、上記金属皮膜を有する導電性粒子では、ケルダール法において、非導電性粒子に含まれる元素以外の元素として窒素が検出される。導電性粒子において検出される炭素及び窒素は、ピロリドン基を有する親水性高分子に由来する。   Furthermore, in the conductive particles, carbon is detected as an element other than the elements contained in the nonconductive particles in the total organic carbon analysis. In the conductive particles having the metal film, nitrogen is detected as an element other than the elements contained in the nonconductive particles in the Kjeldahl method. Carbon and nitrogen detected in the conductive particles are derived from a hydrophilic polymer having a pyrrolidone group.

導電性粒子は、例えば、液晶表示素子のシール剤の他に、各種異方導電性材料として、好適に用いることができる。
ところで、近年、液晶表示パネルには、小型化、高速応答化などが求められている。よって、液晶表示パネルのシール部が配置される額縁領域の幅を狭くすることや、アクティブマトリクス基板及び対向基板間のギャップを狭くすることなどが望まれている。そのため、特に、液晶表示パネルのシール部に用いられる導電性粒子の小粒径化が要求されている。この点、本実施形態の導電性粒子は、例えば、5μm以下の粒子として、特に、液晶表示パネルのシール部に適用されることで、上記の要望に応えることができる。
The conductive particles can be suitably used, for example, as various anisotropic conductive materials in addition to a sealing agent for liquid crystal display elements.
Incidentally, in recent years, liquid crystal display panels have been required to be small in size and fast in response. Therefore, it is desired to reduce the width of the frame region where the seal portion of the liquid crystal display panel is arranged, and to narrow the gap between the active matrix substrate and the counter substrate. Therefore, in particular, it is required to reduce the particle size of the conductive particles used for the seal portion of the liquid crystal display panel. In this regard, the conductive particles of the present embodiment can meet the above-described demands by being applied to, for example, a seal portion of a liquid crystal display panel as particles of 5 μm or less, for example.

また、液晶表示素子のシール剤、異方導電性材料等への用途に際し、本実施形態の導電性粒子は、高温高湿度環境下にも安定的な電気的特性を発揮することができる。この点、本実施形態の導電性粒子では、導電性粉体、導電性粒子分散液等のような導電性粒子群である場合、温度60℃、湿度90%RHの環境下で240時間経過した後の電気抵抗値が10Ω以下である粒子の個数率を、80%以上にすることができる。   In addition, the conductive particles of this embodiment can exhibit stable electrical characteristics even in a high-temperature and high-humidity environment when used as a sealing agent for liquid crystal display elements, anisotropic conductive materials, and the like. In this regard, in the conductive particles of the present embodiment, 240 hours have passed in an environment of a temperature of 60 ° C. and a humidity of 90% RH when the conductive particles are a conductive powder, a conductive particle dispersion, or the like. The number ratio of particles having a subsequent electrical resistance value of 10Ω or less can be 80% or more.

以上、詳述した本実施形態によれば、次のような効果が発揮される。
(1)金属皮膜形成方法における無電解めっきは、非導電性粒子に金属核を付着させる前処理の後に実施されるとともに、ピロリドン基を有する親水性高分子の存在下にて銀からなる金属皮膜を形成する。この方法によれば、例えば、粒径が5μm以下の非導電性粒子であっても、下地層としてめっき層を設けずに銀の皮膜を形成することができる。
As mentioned above, according to this embodiment explained in full detail, the following effects are exhibited.
(1) The electroless plating in the metal film forming method is performed after a pretreatment for attaching metal nuclei to non-conductive particles, and a metal film made of silver in the presence of a hydrophilic polymer having a pyrrolidone group. Form. According to this method, for example, a silver film can be formed without providing a plating layer as an underlayer even for non-conductive particles having a particle size of 5 μm or less.

ここで、非導電性粒子の粒径が小さくなるほど、金属皮膜の形成段階又は金属皮膜の形成後に、非導電性粒子が凝集し易くなる。非導電性粒子の粒径が、例えば、5μm以下の場合、凝集の傾向が顕著となり、3μm以下の場合、凝集の傾向がさらに顕著になる。金属皮膜の形成後に、分級によって、凝集した粒子を取り除くことはできるが、生産性の低下を招く虞がある。この点、本実施形態の金属皮膜形成方法では、ピロリドン基を有する親水性高分子の存在下で銀からなる金属皮膜を形成するため、非導電性微粒子同士の凝集は抑制される。その結果、分散性に優れる導電性粒子の粉体を得ることができる。   Here, the smaller the particle size of the non-conductive particles, the more easily the non-conductive particles are aggregated after the metal film is formed or after the metal film is formed. For example, when the particle size of the non-conductive particles is 5 μm or less, the tendency of aggregation is remarkable, and when the particle size is 3 μm or less, the tendency of aggregation is further remarkable. Although the aggregated particles can be removed by classification after the formation of the metal film, there is a possibility that productivity may be reduced. In this respect, in the metal film forming method of the present embodiment, since a metal film made of silver is formed in the presence of a hydrophilic polymer having a pyrrolidone group, aggregation of non-conductive fine particles is suppressed. As a result, a powder of conductive particles having excellent dispersibility can be obtained.

以上のように、非導電性粒子の粒径が極めて小さい場合であっても、銀の皮膜を形成することの容易な金属皮膜形成方法が提供される。
(2)本実施形態では、ピロリドン基を有する親水性高分子の水溶液に非導電性粒子を分散させた分散液を調製した後、その分散液中で無電解めっきを開始する。これにより、銀からなる金属皮膜をより安定的に形成することができる。
As described above, a method for forming a metal film that can easily form a silver film even when the particle size of the non-conductive particles is extremely small is provided.
(2) In this embodiment, after preparing a dispersion in which non-conductive particles are dispersed in an aqueous solution of a hydrophilic polymer having a pyrrolidone group, electroless plating is started in the dispersion. Thereby, the metal film which consists of silver can be formed more stably.

(3)ピロリドン基を有する親水性高分子が、少なくともポリビニルピロリドンを含む。これにより、銀からなる金属皮膜をさらに安定的に形成することができる。
(4)無電解めっきが、銀鏡反応により実施される。これにより、導電性粒子に含まれる不純物を極力低減することができる。
(3) The hydrophilic polymer having a pyrrolidone group contains at least polyvinylpyrrolidone. Thereby, the metal film which consists of silver can be formed more stably.
(4) Electroless plating is performed by a silver mirror reaction. Thereby, impurities contained in the conductive particles can be reduced as much as possible.

(5)無電解めっきの前処理では、シランカップリング剤、加水分解触媒及び金属塩を含む処理液を、非導電性粒子に接触させた後に、還元剤により金属塩の金属を析出させることにより金属核を付着させることが好ましい。これにより、金属核がより均一に付着されるため、金属皮膜の均一性を更に高めることができる。   (5) In the pretreatment of electroless plating, after the treatment liquid containing the silane coupling agent, the hydrolysis catalyst and the metal salt is brought into contact with the non-conductive particles, the metal of the metal salt is precipitated by the reducing agent. It is preferable to attach metal nuclei. Thereby, since a metal nucleus adheres more uniformly, the uniformity of a metal membrane | film | coat can further be improved.

(6)金属核の金属が金又は銀である。これにより、金属皮膜となる銀の導電性に悪影響を及ぼさない。また、金属皮膜を安定的に形成することもできる。
(7)導電性粒子の金属皮膜は、銀の皮膜のみからなる。このため、導電性に優れた導電性粒子を提供できる。また、金の皮膜のみからなる金属皮膜よりも、低コストである。
(6) The metal of the metal core is gold or silver. Thereby, it does not have a bad influence on the electroconductivity of silver used as a metal film. Moreover, a metal film can also be formed stably.
(7) The metal film of the conductive particles consists only of a silver film. For this reason, the electroconductive particle excellent in electroconductivity can be provided. Further, the cost is lower than that of a metal film made only of a gold film.

(8)導電性粒子の蛍光X線分析において、非導電性粒子に含まれる元素以外の元素として金及び銀の元素のみが検出される。この場合、純度の高い金属皮膜を有する導電性粒子を提供できる。このため、導電性粒子の電気的特性に関する信頼性を高めることができる。   (8) In the fluorescent X-ray analysis of the conductive particles, only gold and silver elements are detected as elements other than the elements contained in the nonconductive particles. In this case, conductive particles having a highly pure metal film can be provided. For this reason, the reliability regarding the electrical property of electroconductive particle can be improved.

(9)導電性粒子について、温度60℃、湿度90%RHの環境下で240時間経過後の電気抵抗値が10Ω以下である粒子の個数率は、80%以上である。これにより、電気的特性の信頼性を高めることができる。   (9) For conductive particles, the number ratio of particles having an electrical resistance value of 10Ω or less after the elapse of 240 hours in an environment of temperature 60 ° C. and humidity 90% RH is 80% or more. Thereby, the reliability of electrical characteristics can be improved.

(10)銀の皮膜の非被覆部分を有する粒子の個数率は10%以下である。これにより、電気的特性の信頼性を高めることができる。
(11)導電性粒子は、その安定した導電性及び優れた電気的特性により、例えば、液晶表示素子のシール剤又は異方導電性材料として好適に使用される。
(10) The number ratio of the particles having an uncoated portion of the silver film is 10% or less. Thereby, the reliability of electrical characteristics can be improved.
(11) The conductive particles are preferably used as, for example, a sealing agent or an anisotropic conductive material for a liquid crystal display element due to its stable conductivity and excellent electrical characteristics.

(12)非導電性粒子に金属皮膜を形成する方法として、従来では、無電解ニッケルめっきを下地層として形成し、その下地めっき層を金属に置換する置換めっきが一般的に行われてきた。しかしながら、ニッケルは、高温、高湿下の条件での耐腐食性が不十分である。本実施形態の導電性粒子は、ニッケルめっきを下地層として用いずに構成されている。このため、高温、高湿下の条件での耐腐食性に優れている。この点、非導電性粒子をシリカ、セラミックス、及びガラスから選ばれる少なくとも一種から構成することで、例えば、樹脂から非導電性粒子を構成した場合よりも、熱又は湿気に対する非導電性粒子の化学的安定性を高めることができる。従って、導電性粒子の実用性を高めることができる。   (12) As a method of forming a metal film on non-conductive particles, conventionally, substitution plating in which electroless nickel plating is formed as a base layer and the base plating layer is replaced with metal has been generally performed. However, nickel has insufficient corrosion resistance under high temperature and high humidity conditions. The conductive particles of the present embodiment are configured without using nickel plating as an underlayer. For this reason, it is excellent in corrosion resistance under high temperature and high humidity conditions. In this regard, the non-conductive particles are composed of at least one selected from silica, ceramics, and glass, so that, for example, the non-conductive particles chemistry with respect to heat or moisture is more than when non-conductive particles are formed from a resin. Stability can be improved. Therefore, the practicality of the conductive particles can be improved.

なお、前記実施形態を次のように変更して構成してもよい。
・前記実施形態では、ピロリドン基を有する親水性高分子の水溶液に非導電性粒子を分散させた分散液を調製した後、その分散液中で無電解めっきを開始していた。これに代えて、無電解めっきを開始した後、無電解めっきの溶液中に、例えば、親水性高分子水溶液を徐々に添加して、金属皮膜を形成してもよい。
The embodiment may be modified as follows.
In the embodiment, after preparing a dispersion in which non-conductive particles are dispersed in an aqueous solution of a hydrophilic polymer having a pyrrolidone group, electroless plating is started in the dispersion. Instead of this, after starting electroless plating, for example, a hydrophilic polymer aqueous solution may be gradually added to the electroless plating solution to form a metal film.

・前処理で付着させる金属核は、金又は銀以外の金属から形成してもよい。金又は銀以外の金属としては、白金(Pt)、パラジウム(Pd)、ルテニウム(Ru)、ロジウム(Rh)、イリジウム(Ir)等の貴金属が好ましい。   -You may form the metal nucleus attached by pre-processing from metals other than gold | metal | money or silver. As the metal other than gold or silver, noble metals such as platinum (Pt), palladium (Pd), ruthenium (Ru), rhodium (Rh), iridium (Ir) are preferable.

・金属皮膜は、無電解めっきを多段階で行うことにより形成してもよい。すなわち、金属皮膜は、銀からなる複層の膜から構成されていてもよい。
・導電性粒子の粒径は、特に限定されないが、好ましくは、0.5〜5μmの範囲である。
-The metal film may be formed by performing electroless plating in multiple stages. That is, the metal film may be composed of a multilayer film made of silver.
-Although the particle size of electroconductive particle is not specifically limited, Preferably, it is the range of 0.5-5 micrometers.

次に、実施例及び比較例を挙げて前記実施形態をさらに具体的に説明する。
(実施例1)
(A)前処理
500mLの三角フラスコにシリカ粒子(平均粒径:2.4μm、CV値:1.36%、走査型電子顕微鏡写真より粒子70個の粒径を測定)10gを入れ、イソプロピルアルコール(IPA)65mlを加え、10分間超音波処理した。次に、メタノール65mlを加えてマグネチックスターラーで10分間攪拌し、25%アンモニア水溶液37mlを加え、30℃のオイルバス中で60分間攪拌した(この溶液をA液とする)。
Next, the embodiment will be described more specifically with reference to examples and comparative examples.
Example 1
(A) Pretreatment In a 500 mL Erlenmeyer flask, 10 g of silica particles (average particle size: 2.4 μm, CV value: 1.36%, particle size of 70 particles measured from scanning electron micrograph) was added, and isopropyl alcohol was added. (IPA) 65 ml was added and sonicated for 10 minutes. Next, 65 ml of methanol was added and stirred with a magnetic stirrer for 10 minutes, 37 ml of 25% aqueous ammonia solution was added, and the mixture was stirred for 60 minutes in an oil bath at 30 ° C. (this solution is referred to as solution A).

塩化金酸(HAuCl・4HO)0.20gにメタノール16mLを加えてマグネチックスターラーで10分間攪拌後、3−アミノプロピルトリメトキシシラン2.6mLを加えて更に10分間攪拌した(この溶液をB液とする)。To 0.20 g of chloroauric acid (HAuCl 4 .4H 2 O), 16 mL of methanol was added and stirred with a magnetic stirrer for 10 minutes, and then 2.6 mL of 3-aminopropyltrimethoxysilane was added and further stirred for 10 minutes (this solution) Is B liquid).

テトラヒドロホウ酸ナトリウム(NaBH)0.084gにメタノール50mLを加えてマグネチックスターラーで10分間攪拌した(この溶液をC液とする)。
A液にB液を加えて30℃で5分間攪拌した後、C液をゆっくり滴下したところ、反応系は赤色へと変化した。C液滴下後、オイルバスを65℃に加熱して3時間攪拌した。攪拌を止め、メタノール分級を3回行った後、吸引ろ過して金属核が形成されたシリカ粒子を採取し、オーブンで80℃、24時間乾燥させた。得られた粒子の粉体は赤色を呈していた。
50 mL of methanol was added to 0.084 g of sodium tetrahydroborate (NaBH 4 ), and the mixture was stirred for 10 minutes with a magnetic stirrer (this solution is referred to as solution C).
After adding B liquid to A liquid and stirring at 30 degreeC for 5 minute (s), when C liquid was dripped slowly, the reaction system changed to red. After dropping C droplets, the oil bath was heated to 65 ° C. and stirred for 3 hours. Stirring was stopped and methanol classification was performed three times, and then suction filtration was performed to collect silica particles on which metal nuclei were formed, followed by drying in an oven at 80 ° C. for 24 hours. The obtained powder of particles was red.

図1は、シリカ粒子の走査型電子顕微鏡写真を示す。図2は、金属核が形成されたシリカ粒子の走査型電子顕微鏡写真を示す。図2から、シリカ粒子の全表面に金超微粒子が均一に付着していることがわかる。走査型電子顕微鏡写真より粒子70個の平均粒径を測定し、粒径の分布の広がりの程度を示すCV値を求めた。その結果を表1に示す。   FIG. 1 shows a scanning electron micrograph of silica particles. FIG. 2 shows a scanning electron micrograph of silica particles in which metal nuclei are formed. FIG. 2 shows that the ultrafine gold particles are uniformly attached to the entire surface of the silica particles. The average particle diameter of 70 particles was measured from a scanning electron micrograph, and the CV value indicating the extent of the particle size distribution was determined. The results are shown in Table 1.

(B)金属皮膜の形成(ポリビニルピロリドン濃度(ポリビニルピロリドン重量/水重量):2.9重量%)
上記「(A)前処理」で得られた粒子の粉体10gに水475mLを加えて10分間超音波処理した後、硝酸銀28.65gを加えてマグネチックスターラーで10分間攪拌した。次に、ポリビニルピロリドン(K−90)28gを加えて更に60分間攪拌した後、超音波を15分間照射した。その後、25%アンモニア水溶液375mLを加えた後、3.57mol/Lホルマリン水溶液を250mL添加して10分間攪拌した。遠心分離器で導電性粒子を回収し、蒸留水で洗った後、オーブン80℃で24時間乾燥した。
(B) Formation of metal film (polyvinylpyrrolidone concentration (polyvinylpyrrolidone weight / water weight): 2.9% by weight)
475 mL of water was added to 10 g of the particle powder obtained in the above “(A) pretreatment” and subjected to ultrasonic treatment for 10 minutes. Then, 28.65 g of silver nitrate was added and stirred for 10 minutes with a magnetic stirrer. Next, after adding 28 g of polyvinylpyrrolidone (K-90) and stirring for another 60 minutes, ultrasonic waves were irradiated for 15 minutes. Then, after adding 375 mL of 25% ammonia aqueous solution, 250 mL of 3.57 mol / L formalin aqueous solution was added and stirred for 10 minutes. The conductive particles were collected with a centrifuge, washed with distilled water, and then dried in an oven at 80 ° C. for 24 hours.

導電性粒子の走査型電子顕微鏡写真を図3に示す。図3を参照すると、粒子の全面に金属皮膜が形成されていることがわかる。
走査型電子顕微鏡写真より粒子70個の平均粒径を測定し、CV値を求めた。その結果を表2に示す。
A scanning electron micrograph of the conductive particles is shown in FIG. Referring to FIG. 3, it can be seen that a metal film is formed on the entire surface of the particles.
The average particle diameter of 70 particles was measured from a scanning electron micrograph and the CV value was determined. The results are shown in Table 2.

金属皮膜の厚みは0.14μmであった。
図3に示す顕微鏡写真により、クレーター状の非被覆部分を有する粒子の個数を観察した結果、0/100個であり、その粒子の個数率は0%であった。
The thickness of the metal film was 0.14 μm.
As a result of observing the number of particles having a crater-like uncoated portion with the micrograph shown in FIG. 3, it was 0/100, and the number ratio of the particles was 0%.

<蛍光X線分析>
実施例1で得られた導電性粒子を全自動蛍光X線分析装置(スペクトリス社製、PW2400型、管球:Rh、測定元素:Na〜U、照射面積:25mmφ)を使用して、定性分析を行った。まず、導電性粒子を約2g採取し、ポリプロピレン製6μmフィルム上へ均一にマウントした。次に、そのフィルムを全自動蛍光X線分析装置にセットして、測定部をヘリウムで置換した。Na〜Uの元素の蛍光X線を検出できる波長範囲を走査することにより、元素を特定した。その結果、検出された元素は銀及び金の二種であった。銀及び金以外の元素は検出されなかった。蛍光X線分析のチャートを図4及び図5に示す。
<Fluorescence X-ray analysis>
Qualitative analysis of the conductive particles obtained in Example 1 using a fully automatic X-ray fluorescence analyzer (Spectris PW2400, tube: Rh, measurement element: Na to U, irradiation area: 25 mmφ) Went. First, about 2 g of conductive particles were collected and mounted uniformly on a 6 μm film made of polypropylene. Next, the film was set in a fully automatic fluorescent X-ray analyzer, and the measurement part was replaced with helium. Elements were identified by scanning a wavelength range in which fluorescent X-rays of Na to U elements could be detected. As a result, the detected elements were two kinds of silver and gold. Elements other than silver and gold were not detected. The chart of fluorescent X-ray analysis is shown in FIGS.

<電気抵抗値の測定>
微小圧縮試験機(島津製作所製)を用いて、実施例1の導電性粒子20個の電気抵抗値を測定して、平均値を求めた。得られた結果を標準偏差とともに表3に示す。
<Measurement of electrical resistance value>
Using a micro compression tester (manufactured by Shimadzu Corporation), the electrical resistance value of 20 conductive particles of Example 1 was measured, and the average value was obtained. The results obtained are shown in Table 3 together with the standard deviation.

<耐湿熱性の評価>
実施例1で得られた導電性粒子を恒温恒湿器(エスペック株式会社製)を用いて60℃、90%RH、240hの条件で湿熱試験を行った。湿熱試験後における導電性粒子の走査型電子顕微鏡写真を図6に示す。図3及び図6から明らかなように、湿熱試験前後で金属皮膜の状態に変化は観察されなかった。
<Evaluation of heat and humidity resistance>
The electroconductive particles obtained in Example 1 were subjected to a wet heat test under the conditions of 60 ° C., 90% RH, and 240 h using a thermo-hygrostat (manufactured by Espec Corp.). A scanning electron micrograph of the conductive particles after the wet heat test is shown in FIG. As is clear from FIGS. 3 and 6, no change was observed in the state of the metal film before and after the wet heat test.

湿熱試験前後における導電性粒子50個の電気抵抗値を測定し、その電気抵抗値が計測可能であった個数と、それら抵抗値の平均値を求めた。得られた結果を表4に示す。   The electrical resistance value of 50 conductive particles before and after the wet heat test was measured, and the number of electrical resistance values that could be measured and the average value of the resistance values were obtained. Table 4 shows the obtained results.

湿熱試験前後における導電性粒子において、電気抵抗値が計測可能な個数の差は、1個であった。また、電気抵抗値が10Ω以下である粒子の個数率は、86%であった。この結果から、実施例1で得られた導電性粒子は、耐湿熱性を十分に有していることがわかる。   In the conductive particles before and after the wet heat test, the difference in the number of measurable electric resistance values was one. The number ratio of particles having an electric resistance value of 10Ω or less was 86%. This result shows that the electroconductive particle obtained in Example 1 has sufficient heat-and-moisture resistance.

<樹脂中での分散性評価>
樹脂(商品名:STRUCT BOND)10gを混練機で1分間攪拌した。この樹脂に実施例1の導電性粒子0.2gを加え、1分間攪拌した。導電性粒子が配合された樹脂を、スライドガラスに押し付け、カバーガラスを被せて光学顕微鏡で観察した。光学顕微鏡写真を図7に示す。
<Dispersibility evaluation in resin>
10 g of resin (trade name: STRUCT BOND) was stirred with a kneader for 1 minute. To this resin, 0.2 g of the conductive particles of Example 1 was added and stirred for 1 minute. The resin containing the conductive particles was pressed against a slide glass, covered with a cover glass, and observed with an optical microscope. An optical micrograph is shown in FIG.

光学顕微鏡観察の結果、粒子317個中、2個以上の合着粒子数は3個(0.94%)であり、樹脂中での分散性が非常に良好であった。
(比較例1)
比較例1においては、ポリビニルピロリドンを配合せずに金属皮膜を形成した。比較例1では、まず、実施例1の「(A)前処理」と同様にして得られた粒子10gに水475mLを加えて10分間超音波処理した後、硝酸銀28.65gを加えてマグネチックスターラーで10分間攪拌した。次に、25%アンモニア水溶液375mLを加えた後、3.57mol/Lホルマリン水溶液を250mL添加して10分間攪拌した。沈殿した銀層被覆シリカ粒子を吸引ろ過で採取し、メタノールで洗った後、オーブン80℃で24時間乾燥した。
As a result of observation with an optical microscope, the number of coalesced particles of 2 or more out of 317 particles was 3 (0.94%), and the dispersibility in the resin was very good.
(Comparative Example 1)
In Comparative Example 1, a metal film was formed without blending polyvinyl pyrrolidone. In Comparative Example 1, first, 475 mL of water was added to 10 g of the particles obtained in the same manner as “(A) pretreatment” in Example 1 and subjected to ultrasonic treatment for 10 minutes, and then 28.65 g of silver nitrate was added to magnetically. Stir with a stirrer for 10 minutes. Next, after adding 375 mL of 25% ammonia aqueous solution, 250 mL of 3.57 mol / L formalin aqueous solution was added and stirred for 10 minutes. The precipitated silver layer-coated silica particles were collected by suction filtration, washed with methanol, and then dried in an oven at 80 ° C. for 24 hours.

金属皮膜が形成された導電性粒子の走査型電子顕微鏡写真を図8に示す。図8から明らかなように、比較例1の導電性粒子では、その表面の一部に金属皮膜が形成されていなかった。図8に示す顕微鏡写真により、クレーター状の非被覆部分を有する粒子の個数を計測した結果、53/100個であり、その粒子の個数率は53%であった。   A scanning electron micrograph of the conductive particles on which the metal film is formed is shown in FIG. As is clear from FIG. 8, in the conductive particles of Comparative Example 1, no metal film was formed on a part of the surface. As a result of measuring the number of particles having a crater-like uncoated portion with the micrograph shown in FIG. 8, it was 53/100, and the number ratio of the particles was 53%.

(比較例2)
比較例2においては、ポリビニルピロリドンをポリビニルアルコールに変更した。比較例2では、まず、実施例1の「(A)前処理」と同様にして得られた粒子10gに水475mLを加えて10分間超音波処理した後、硝酸銀28.65gを加えてマグネチックスターラーで10分間攪拌した。次に、ポリビニルアルコール(重合度400〜600)28gを加えて更に60分間攪拌した後、超音波を15分間照射した。その後、25%アンモニア水溶液375mLを加えた後、3.57mol/Lホルマリン水溶液を250mL添加して10分間攪拌した。沈殿した銀層被覆シリカ粒子を回収し、蒸留水で洗った後、オーブン80℃で24時間乾燥した。
(Comparative Example 2)
In Comparative Example 2, polyvinyl pyrrolidone was changed to polyvinyl alcohol. In Comparative Example 2, first, 475 mL of water was added to 10 g of the particles obtained in the same manner as in “(A) pretreatment” of Example 1, and ultrasonic treatment was performed for 10 minutes, and then 28.65 g of silver nitrate was added to magnetically. Stir with a stirrer for 10 minutes. Next, after adding 28 g of polyvinyl alcohol (degree of polymerization 400-600) and stirring for 60 minutes, ultrasonic waves were applied for 15 minutes. Then, after adding 375 mL of 25% ammonia aqueous solution, 250 mL of 3.57 mol / L formalin aqueous solution was added and stirred for 10 minutes. The precipitated silver layer-coated silica particles were collected, washed with distilled water, and then dried in an oven at 80 ° C. for 24 hours.

金属皮膜が形成された導電性粒子の走査型電子顕微鏡写真を図9に示す。図9から明らかなように、比較例2の導電性粒子では、その表面の一部に金属皮膜が形成されていなかった。図9に示す顕微鏡写真により、クレーター状の非被覆部分を有する粒子の個数を計測した結果、33/100個であり、その粒子の個数率は33%であった。   A scanning electron micrograph of the conductive particles on which the metal film is formed is shown in FIG. As is clear from FIG. 9, in the conductive particles of Comparative Example 2, no metal film was formed on a part of the surface. As a result of measuring the number of particles having a crater-like uncoated portion with the micrograph shown in FIG. 9, it was 33/100, and the number ratio of the particles was 33%.

<樹脂中での分散性評価>
比較例2で得られた導電性粒子の樹脂中での分散性評価を、実施例1の導電性粒子と同様に行った。比較例2の光学顕微鏡写真を図10に示す。図10に示す光学顕微鏡観察の結果、8個以上の合着粒子が観察され、実施例1で得られた導電性粒子よりも樹脂中での分散性に劣ることが確認された。
<Dispersibility evaluation in resin>
Evaluation of dispersibility of the conductive particles obtained in Comparative Example 2 in the resin was performed in the same manner as the conductive particles of Example 1. An optical micrograph of Comparative Example 2 is shown in FIG. As a result of the optical microscope observation shown in FIG. 10, 8 or more coalesced particles were observed, and it was confirmed that the dispersibility in the resin was inferior to that of the conductive particles obtained in Example 1.

(比較例3)
比較例3においては、樹脂粒子に無電解ニッケルめっきを下地層として形成する置換金めっきが施された導電性粒子の粉体を調製した。金属皮膜が形成された導電性粒子の走査型電子顕微鏡写真を図11に示す。図11から明らかなように、比較例3の導電性粒子では、その表面の一部に金属皮膜が形成されていなかった。図11に示す顕微鏡写真により、クレーター状の非被覆部分を有する粒子の個数を計測した結果、57/100個であり、その粒子の個数率は57%であった。
(Comparative Example 3)
In Comparative Example 3, a conductive particle powder was prepared in which substitution gold plating for forming electroless nickel plating as an underlayer on resin particles was performed. A scanning electron micrograph of the conductive particles on which the metal film is formed is shown in FIG. As is clear from FIG. 11, in the conductive particles of Comparative Example 3, no metal film was formed on a part of the surface. As a result of measuring the number of particles having a crater-like uncoated portion with the micrograph shown in FIG. 11, it was 57/100, and the number ratio of the particles was 57%.

<耐湿熱性の評価>
比較例3で得られた導電性粒子について、実施例1と同様の耐湿熱性評価を行った。湿熱試験後の走査型電子顕微鏡写真を図12に示す。図11及び図12から明らかなように、湿熱試験後の金属皮膜に変化が認められる。この結果から、比較例3の導電性粒子では、ニッケルの酸化により腐食が生じることで、金からなる金属皮膜が粒子の表面から剥離したと考えられる。
<Evaluation of heat and humidity resistance>
The conductive particles obtained in Comparative Example 3 were subjected to the same wet heat resistance evaluation as in Example 1. A scanning electron micrograph after the wet heat test is shown in FIG. As is apparent from FIGS. 11 and 12, a change is observed in the metal film after the wet heat test. From this result, it is considered that in the conductive particles of Comparative Example 3, the metal film made of gold was peeled off from the surface of the particles due to corrosion caused by oxidation of nickel.

湿熱試験前後における導電性粒子50個の電気抵抗値を測定し、その電気抵抗値が計測可能であった個数と、それら抵抗値の平均値を求めた。得られた結果を表5に示す。   The electrical resistance value of 50 conductive particles before and after the wet heat test was measured, and the number of electrical resistance values that could be measured and the average value of the resistance values were obtained. The results obtained are shown in Table 5.

湿熱試験前後における導電性粒子において、電気抵抗値が計測可能な個数の差は、39個であり、湿熱試験後の発現率は僅か10%(5/50個)であり、また、電気抵抗値が10Ω以下である粒子の個数率は6%であった。この結果から、比較例3で得られた導電性粒子は、耐湿熱性に劣ることが確認された。   In the conductive particles before and after the wet heat test, the difference in the number of measurable electric resistance values is 39, the expression rate after the wet heat test is only 10% (5/50 particles), and the electric resistance value The number ratio of particles having a particle size of 10Ω or less was 6%. From this result, it was confirmed that the electroconductive particle obtained in the comparative example 3 was inferior in heat-and-moisture resistance.

(比較例4)
比較例1におけるポリビニルピロリドンをポリエチレングリコール(分子量 約20,000)に変更した。比較例4では、まず、実施例1の「(A)前処理」と同様にして得られた粒子10gに水475mLを加えて10分間超音波処理した後、硝酸銀28.65gを加えてマグネチックスターラーで10分間攪拌した。次に、ポリエチレングリコール28gを加えて更に60分間攪拌した後、超音波を15分間照射した。その後、25%アンモニア水溶液375mLを加えた後、3.57mol/Lホルマリン水溶液を250mL添加して10分間攪拌した。沈殿した銀層被覆シリカ粒子を回収し、蒸留水で洗った後、オーブン80℃で24時間乾燥した。
(Comparative Example 4)
The polyvinyl pyrrolidone in Comparative Example 1 was changed to polyethylene glycol (molecular weight about 20,000). In Comparative Example 4, first, 475 mL of water was added to 10 g of the particles obtained in the same manner as in “(A) pretreatment” in Example 1, and ultrasonic treatment was performed for 10 minutes, and then 28.65 g of silver nitrate was added to magnetically. Stir with a stirrer for 10 minutes. Next, 28 g of polyethylene glycol was added and the mixture was further stirred for 60 minutes, and then irradiated with ultrasonic waves for 15 minutes. Then, after adding 375 mL of 25% ammonia aqueous solution, 250 mL of 3.57 mol / L formalin aqueous solution was added and stirred for 10 minutes. The precipitated silver layer-coated silica particles were collected, washed with distilled water, and then dried in an oven at 80 ° C. for 24 hours.

金属皮膜が形成された導電性粒子を、走査型電子顕微鏡写真で観察した結果、その表面の一部に金属皮膜が形成されていなかった。顕微鏡写真により、クレーター状の非被覆部分を有する粒子の個数を計測した結果、36/100個であり、その粒子の個数率は36%であった。
<樹脂中での分散性評価>
比較例4で得られた導電性粒子の樹脂中での分散性評価を、実施例1の導電性粒子と同様に行った。光学顕微鏡観察の結果、8個以上の合着粒子が観察され、実施例1で得られた導電性粒子よりも樹脂中での分散性に劣ることが確認された。
As a result of observing the conductive particles on which the metal film was formed with a scanning electron micrograph, the metal film was not formed on a part of the surface. As a result of measuring the number of particles having a crater-like uncoated portion by a micrograph, it was 36/100, and the number ratio of the particles was 36%.
<Dispersibility evaluation in resin>
Dispersibility evaluation of the conductive particles obtained in Comparative Example 4 in the resin was performed in the same manner as the conductive particles of Example 1. As a result of observation with an optical microscope, 8 or more coalesced particles were observed, and it was confirmed that the dispersibility in the resin was inferior to that of the conductive particles obtained in Example 1.

Claims (14)

非導電性粒子の表面に、金属皮膜を無電解めっきにより形成する金属皮膜形成方法であって、
前記無電解めっきは、
前記非導電性粒子の表面に金属核を付着させる前処理の後に実施されるとともに、
ピロリドン基を有する親水性高分子の存在下において銀からなる前記金属皮膜を形成することを特徴とする金属皮膜形成方法。
A metal film forming method for forming a metal film on the surface of non-conductive particles by electroless plating,
The electroless plating is
Carried out after pretreatment to attach metal nuclei to the surface of the non-conductive particles,
A method for forming a metal film, comprising forming the metal film made of silver in the presence of a hydrophilic polymer having a pyrrolidone group.
前記ピロリドン基を有する親水性高分子の水溶液に前記非導電性粒子を分散させた分散液を調製した後、その分散液中で前記無電解めっきを開始することを特徴とする請求項1に記載の金属皮膜形成方法。 The electroless plating is started in the dispersion after preparing a dispersion in which the non-conductive particles are dispersed in an aqueous solution of the hydrophilic polymer having the pyrrolidone group. Metal film forming method. 前記ピロリドン基を有する親水性高分子が、少なくともポリビニルピロリドンを含むことを特徴とする請求項1又は請求項2に記載の金属皮膜形成方法。 The method for forming a metal film according to claim 1 or 2, wherein the hydrophilic polymer having a pyrrolidone group contains at least polyvinylpyrrolidone. 前記無電解めっきが、銀鏡反応により実施されることを特徴とする請求項1から請求項3のいずれか一項に記載の金属皮膜形成方法。 The metal film forming method according to any one of claims 1 to 3, wherein the electroless plating is performed by a silver mirror reaction. 前記前処理は、シランカップリング剤、加水分解触媒及び金属塩を含む処理液を、前記非導電性粒子に接触させた後に、還元剤により前記金属塩の金属を析出させることにより、前記非導電性粒子の表面に金属核を付着させる処理であり、
前記シランカップリング剤は、前記金属塩の金属に対してキレートを形成する官能基を有することを特徴とする請求項1から請求項4のいずれか一項に記載の金属皮膜形成方法。
In the pretreatment, after the treatment liquid containing a silane coupling agent, a hydrolysis catalyst, and a metal salt is brought into contact with the nonconductive particles, the metal of the metal salt is precipitated by a reducing agent, whereby the nonconductive. Treatment to attach metal nuclei to the surface of the conductive particles
The said silane coupling agent has a functional group which forms a chelate with respect to the metal of the said metal salt, The metal film formation method as described in any one of Claims 1-4 characterized by the above-mentioned.
前記金属核の金属は金又は銀であることを特徴とする請求項1から請求項5のいずれか一項に記載の金属皮膜形成方法。 The metal film forming method according to any one of claims 1 to 5, wherein the metal of the metal core is gold or silver. 非導電性粒子の表面全体に形成された金属皮膜により導電性が付与された導電性粒子であって、
前記金属皮膜は銀の皮膜のみからなることを特徴とする導電性粒子。
Conductive particles provided with conductivity by a metal film formed on the entire surface of the non-conductive particles,
The electroconductive particle, wherein the metal film is composed only of a silver film.
前記導電性粒子の蛍光X線分析において、前記非導電性粒子に含まれる元素以外の元素として金及び銀の元素のみが検出されることを特徴とする請求項7に記載の導電性粒子。 8. The conductive particle according to claim 7, wherein in the fluorescent X-ray analysis of the conductive particle, only an element of gold and silver is detected as an element other than an element contained in the non-conductive particle. 温度60℃、湿度90%RHの環境下で240時間経過後の電気抵抗値が10Ω以下である粒子の個数率は、80%以上であることを特徴とする請求項7又は請求項8に記載の導電性粒子。 9. The number ratio of particles having an electric resistance value of 10Ω or less after 240 hours in an environment of a temperature of 60 ° C. and a humidity of 90% RH is 80% or more. Conductive particles. 前記銀の皮膜の非被覆部分を有する粒子の個数率は、10%以下であることを特徴とする請求項7から請求項9のいずれか一項に記載の導電性粒子。 The conductive particles according to any one of claims 7 to 9, wherein the number ratio of the particles having an uncoated portion of the silver film is 10% or less. 液晶表示素子のシール剤として用いられることを特徴とする請求項7から請求項10のいずれか一項に記載の導電性粒子。 The conductive particles according to any one of claims 7 to 10, wherein the conductive particles are used as a sealant for a liquid crystal display element. 異方導電性材料として用いられることを特徴とする請求項7から請求項11のいずれか一項に記載の導電性粒子。 The conductive particle according to claim 7, wherein the conductive particle is used as an anisotropic conductive material. 非導電性粒子の表面に、金属皮膜を無電解めっきにより形成してなる導電性粒子を製造する方法において、
前記無電解めっきは、
前記非導電性粒子の表面に金属核を付着させる前処理の後に実施されるとともに、
ピロリドン基を有する親水性高分子の存在下において銀からなる前記金属皮膜を形成することを特徴とする導電性粒子の製造方法。
In the method for producing conductive particles formed by forming a metal film on the surface of the non-conductive particles by electroless plating,
The electroless plating is
Carried out after pretreatment to attach metal nuclei to the surface of the non-conductive particles,
A method for producing conductive particles, comprising forming the metal film made of silver in the presence of a hydrophilic polymer having a pyrrolidone group.
非導電性粒子の表面に金属皮膜を形成して得られる導電性粒子であって、
前記金属皮膜は、前記非導電性粒子の表面に金属核を付着させる前処理の後に実施されるとともに、ピロリドン基を有する親水性高分子の存在下において銀からなる前記金属皮膜を形成する無電解めっきにより形成され、
前記金属皮膜は、銀の皮膜のみからなることを特徴とする導電性粒子。
Conductive particles obtained by forming a metal film on the surface of non-conductive particles,
The metal coating is carried out after a pretreatment for attaching a metal nucleus to the surface of the non-conductive particles, and forms an electroless film made of silver in the presence of a hydrophilic polymer having a pyrrolidone group. Formed by plating,
The electroconductive particle, wherein the metal film is composed only of a silver film.
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