JPWO2009131057A1 - Release film - Google Patents
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Abstract
フッ素樹脂フィルムに比べ安価であり、かつ充分な離型性を有する離型フィルムを提供する。式（１）の化合物を含む離型層１４を有する離型フィルム１０。［化１］ただし、ＲはＲｆ−Ｘ−、左右のＲは同一の基、Ｒｆはパーフルオロアルキル基、Ｘは−（ＯＣ３Ｆ６）−、−（ＯＣ２Ｆ４）−および−（ＯＣＦ２）−のうちの１種以上の繰り返しであり、かつ該単位の数の合計が１以上の基、Ｙは有機基、ｎの平均＝２〜１０、Ｚ＝−Ｓｉ（Ｒ１）ｍ（Ｒ２）３−ｍ、Ｒ１は水酸基または加水分解可能な基、Ｒ２は水素原子または炭化水素基、ｍは１〜３。Provided is a release film which is cheaper than a fluororesin film and has sufficient release properties. The release film 10 which has the release layer 14 containing the compound of Formula (1). Wherein R is Rf-X-, right and left R are the same group, Rf is a perfluoroalkyl group, X is-(OC3F6)-,-(OC2F4)-and-(OCF2)- 1 or more types of groups, and the total number of the units is 1 or more, Y is an organic group, average of n = 2 to 10, Z = -Si (R1) m (R2) 3-m, R1 Is a hydroxyl group or a hydrolyzable group, R2 is a hydrogen atom or a hydrocarbon group, m is 1-3.
Description
本発明は、離型フィルムに関する。 The present invention relates to a release film.
離型フィルムとは、該フィルムの上に各種粘着材、塗料等を塗布し、硬化させて形成された塗膜を使用する際に、該塗膜から剥離されるフィルム、または、プリント基板、セラミックス電子部品、熱硬化性樹脂製品、化粧板等を製造する際に、製造工程中で金属板同士または樹脂同士が接着してしまわないように、金属板間または樹脂間に挟み込まれるフィルムのことをいう。 A release film is a film that is peeled off from a coating film, printed circuit board, ceramics, etc., when a coating film formed by applying various adhesives, paints, etc. on the film and curing it is used. When manufacturing electronic parts, thermosetting resin products, decorative plates, etc., a film that is sandwiched between metal plates or between resins so that metal plates or resins do not adhere to each other during the manufacturing process. Say.
たとえば、プリント基板の製造は、通常、エポキシ樹脂をガラス繊維布に含浸したプリプレグを適宜数枚重ね、さらに銅箔等の金属箔を載置し、プレス加工によって一体化する方法で行われる。該プレス加工の際には、プレス加工機のプレス板とプリント基板との間またはプリント基板とプリント基板と間に離型フィルムを介在させて、互いの接着を防止している。 For example, the production of a printed board is usually performed by a method in which several prepregs obtained by impregnating a glass fiber cloth with an epoxy resin are appropriately stacked, and a metal foil such as a copper foil is further placed and integrated by pressing. In the press working, a release film is interposed between the press plate of the press machine and the printed board or between the printed board and the printed board to prevent mutual adhesion.
離型フィルムとしては、下記のものが知られている。
（１）ポリテトラフルオロエチレン等のフッ素樹脂フィルム。
（２）ポリエステルフィルムの表面にシリコーン離型層を設けた離型フィルム（特許文献１参照）。The following are known as release films.
(1) A fluororesin film such as polytetrafluoroethylene.
(2) A release film in which a silicone release layer is provided on the surface of a polyester film (see Patent Document 1).
しかし、（１）のフッ素樹脂フィルムは、高価である。（２）の離型フィルムは、（１）のフッ素樹脂フィルムに比べ安価であるが、（１）のフッ素樹脂フィルムに比べ離型性が劣る。 However, the fluororesin film (1) is expensive. The release film of (2) is less expensive than the fluororesin film of (1), but the release property is inferior to that of the fluororesin film of (1).
本発明は、フッ素樹脂フィルムに比べ安価であり、かつ充分な離型性を有する離型フィルムを提供する。 The present invention provides a release film that is less expensive than a fluororesin film and has sufficient release properties.
本発明の離型フィルムは、フィルム本体と、該フィルム本体の少なくとも片面に設けられた離型層とを有し、該離型層が、下式（１）で表される化合物を含む離型剤からなることを特徴とする。 The release film of the present invention has a film body and a release layer provided on at least one side of the film body, and the release layer contains a compound represented by the following formula (1). It consists of an agent.
ただし、Ｒは、Ｒｆ−Ｘ−であり、かつ左右のＲは同一の基であり、Ｒｆは、炭素数１〜２０のパーフルオロアルキル基であり、Ｘは、下式（ｕ１）〜（ｕ３）で表される繰り返し単位のうちの１種以上の繰り返しであり、かつ該繰り返し単位の数の合計が１以上である基であり、Ｙは、炭素数２以上の有機基であり、ｎの平均は、２〜１０であり、Ｚは、−Ｓｉ（Ｒ１）ｍ（Ｒ２）３−ｍであり、Ｒ１は、水酸基または加水分解可能な基であり、Ｒ２は、水素原子または１価の炭化水素基であり、ｍは、１〜３の整数である。
−（ＯＣ３Ｆ６）− ・・・（ｕ１）、
−（ＯＣ２Ｆ４）− ・・・（ｕ２）、
−（ＯＣＦ２）− ・・・（ｕ３）。
ただし、Ｃ３Ｆ６およびＣ２Ｆ４は、直鎖状であってもよく、分岐状であってもよい。However, R is Rf-X-, and right and left R are the same groups, Rf is a C1-C20 perfluoroalkyl group, X is following formula (u1)-(u3). ) Is a group having one or more types of repeating units represented by formula (1) and having a total number of the repeating units of 1 or more, Y is an organic group having 2 or more carbon atoms, and n The average is 2 to 10, Z is —Si (R 1 ) m (R 2 ) 3-m , R 1 is a hydroxyl group or a hydrolyzable group, and R 2 is a hydrogen atom or It is a monovalent hydrocarbon group, and m is an integer of 1 to 3.
- (OC 3 F 6) - ··· (u1),
- (OC 2 F 4) - ··· (u2),
- (OCF 2) - ··· ( u3).
However, C 3 F 6 and C 2 F 4 may be linear or branched.
本発明の離型フィルムは、フッ素樹脂フィルムに比べ安価であり、かつ充分な離型性を有し、セラミックス電子部品等を製造する際に有用である。 The release film of the present invention is cheaper than a fluororesin film, has sufficient release properties, and is useful when manufacturing ceramic electronic parts and the like.
本明細書においては、式（１）で表される化合物を化合物（１）と記す。他の式で表される化合物も同様に記す。また、式（ｕ１）で表される繰り返し単位を単位（ｕ１）と記す。他の式で表される繰り返し単位も同様に記す。また、式（ｇ１）で表される基を基（ｇ１）と記す。 In the present specification, a compound represented by the formula (1) is referred to as a compound (1). The same applies to compounds represented by other formulas. The repeating unit represented by the formula (u1) is referred to as a unit (u1). Repeating units represented by other formulas are also described in the same manner. A group represented by the formula (g1) is referred to as a group (g1).
＜離型フィルム＞
本発明の離型フィルムは、フィルム本体と、該フィルム本体の少なくとも片面に設けられた特定の離型層とを有し、該離型層が特定の化合物を含む離型剤からなるものである。
図１は、本発明の離型フィルムの一例を示す断面図である。離型フィルム１０は、フィルム本体１２と、フィルム本体１２の片面に設けられた離型層１４とを有する。
図２は、本発明の離型フィルムの他の例を示す断面図である。離型フィルム１０は、フィルム本体１２と、フィルム本体１２の両面に設けられた２つの離型層１４とを有する。<Release film>
The release film of the present invention has a film body and a specific release layer provided on at least one surface of the film body, and the release layer is made of a release agent containing a specific compound. .
FIG. 1 is a cross-sectional view showing an example of a release film of the present invention. The
FIG. 2 is a cross-sectional view showing another example of the release film of the present invention. The
（フィルム本体）
フィルム本体としては、単層の樹脂フィルム、複数の樹脂層からなる樹脂フィルム、紙の両面を樹脂層で被覆したラミネート紙等が挙げられる。(Film body)
Examples of the film body include a single-layer resin film, a resin film composed of a plurality of resin layers, and laminated paper in which both surfaces of paper are covered with a resin layer.
樹脂フィルムおよび樹脂層の材料としては、公知の熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂等が挙げられ、離型フィルムの強度保持性に優れる点から、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリカーボネート、ポリフェニレンスルフィド、ポリメチルメタクリレート、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレン等が好ましく、ポリエチレンテレフタレートがより好ましい。 Examples of the material for the resin film and the resin layer include known thermoplastic resins and thermosetting resins. From the viewpoint of excellent strength retention of the release film, polyethylene terephthalate, polybutylene terephthalate, polycarbonate, polyphenylene sulfide, poly Methyl methacrylate, polyethylene, polypropylene, polystyrene and the like are preferable, and polyethylene terephthalate is more preferable.
フィルム本体の表面は、離型層との接着性を向上させるため、表面処理されていてもよい。表面処理としては、プラズマ処理、コロナ放電処理、ＣＶＤ処理、イオンビーム照射処理、電子線照射処理等が挙げられる。
フィルム本体の厚さは、１０〜１０００μｍが好ましく、１０〜５００μｍがより好ましい。The surface of the film body may be subjected to a surface treatment in order to improve adhesion with the release layer. Examples of the surface treatment include plasma treatment, corona discharge treatment, CVD treatment, ion beam irradiation treatment, and electron beam irradiation treatment.
10-1000 micrometers is preferable and, as for the thickness of a film main body, 10-500 micrometers is more preferable.
（離型層）
離型層は、化合物（１）を含む離型剤を含有する層である。(Release layer)
The release layer is a layer containing a release agent containing the compound (1).
Ｒは、Ｒｆ−Ｘ−である。
Ｒｆは、炭素数１〜２０のパーフルオロアルキル基であり、炭素数１〜１０のパーフルオロアルキル基が好ましい。パーフルオロアルキル基を有することにより、離型性が良好となる。パーフルオロアルキル基の炭素数が２０以下であれば、離型剤の後記する希釈溶媒に対する溶解性が向上するため、フィルム本体へ塗布しやすくなる。パーフルオロアルキル基は、直鎖状であってもよく、分岐状であってもよい。R is Rf-X-.
Rf is a C 1-20 perfluoroalkyl group, preferably a C 1-10 perfluoroalkyl group. By having a perfluoroalkyl group, the releasability is improved. If the carbon number of the perfluoroalkyl group is 20 or less, the solubility in a diluting solvent, which will be described later, is improved, so that the film can be easily applied to the film body. The perfluoroalkyl group may be linear or branched.
Ｒｆとしては、下記の基が好ましい。
ＣＦ３ＣＦ２−、
ＣＦ３（ＣＦ２）２−、
ＣＦ３（ＣＦ２）３−、
ＣＦ３（ＣＦ２）４−、
ＣＦ３（ＣＦ２）５−、
ＣＦ３（ＣＦ２）６−、
ＣＦ３（ＣＦ２）７−、
ＣＦ３（ＣＦ２）８−、
ＣＦ３（ＣＦ２）９−、
ＣＦ３（ＣＦ２）１０−、
ＣＦ３（ＣＦ２）１１−、
ＣＦ３（ＣＦ２）１２−、
ＣＦ３（ＣＦ２）１３−、
ＣＦ３（ＣＦ２）１４−、
ＣＦ３（ＣＦ２）１５−、
ＣＦ３（ＣＦ２）１６−、
ＣＦ３（ＣＦ２）１７−、
ＣＦ３（ＣＦ２）１８−、
ＣＦ３（ＣＦ２）１９−。As Rf, the following groups are preferable.
CF 3 CF 2- ,
CF 3 (CF 2 ) 2 −,
CF 3 (CF 2 ) 3 −,
CF 3 (CF 2 ) 4 −,
CF 3 (CF 2 ) 5- ,
CF 3 (CF 2 ) 6- ,
CF 3 (CF 2) 7 - ,
CF 3 (CF 2) 8 - ,
CF 3 (CF 2 ) 9 −,
CF 3 (CF 2 ) 10 −,
CF 3 (CF 2 ) 11 −,
CF 3 (CF 2 ) 12 −,
CF 3 (CF 2 ) 13- ,
CF 3 (CF 2 ) 14 −,
CF 3 (CF 2 ) 15- ,
CF 3 (CF 2 ) 16- ,
CF 3 (CF 2 ) 17- ,
CF 3 (CF 2 ) 18- ,
CF 3 (CF 2) 19 - .
Ｘは、単位（ｕ１）、（ｕ２）および（ｕ３）からなる群から選ばれる１種以上の繰り返しである。
−（ＯＣ３Ｆ６）− ・・・（ｕ１）、
−（ＯＣ２Ｆ４）− ・・・（ｕ２）、
−（ＯＣＦ２）− ・・・（ｕ３）。
ただし、Ｃ３Ｆ６およびＣ２Ｆ４は、直鎖状であってもよく、分岐状であってもよい。
単位（ｕ１）の数と単位（ｕ２）の数と単位（ｕ３）の数との合計は、１以上であり、２〜２０が好ましい。単位（ｕ１）〜（ｕ３）の合計が１以上であれば、離型性が良好となる。単位（ｕ１）〜（ｕ３）の合計が２０以下であれば、離型剤の後記する希釈溶媒に対する溶解性が向上するため、フィルム本体へ塗布しやすくなる。
Ｘにおける単位（ｕ１）〜（ｕ３）の存在順序は、任意である。X is one or more repetitions selected from the group consisting of units (u1), (u2) and (u3).
- (OC 3 F 6) - ··· (u1),
- (OC 2 F 4) - ··· (u2),
- (OCF 2) - ··· ( u3).
However, C 3 F 6 and C 2 F 4 may be linear or branched.
The sum of the number of units (u1), the number of units (u2), and the number of units (u3) is 1 or more, preferably 2-20. If the sum of the units (u1) to (u3) is 1 or more, the releasability is good. If the sum of the units (u1) to (u3) is 20 or less, the solubility in a diluting solvent to be described later of the release agent is improved, so that it is easy to apply to the film body.
The order of existence of the units (u1) to (u3) in X is arbitrary.
化合物（１）における左右のＲは、好ましくは同一の基である。同一の基とは、Ｒｆが同一であり、かつＸを構成する単位（ｕ１）〜（ｕ３）の種類、数および存在順序が同一であることを意味する。たとえば、左側のＲが、Ｃ３Ｆ７−（ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２）−（ＯＣＦ（ＣＦ３）−の場合、右側のＲは、−（ＣＦ（ＣＦ３）Ｏ）−（ＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３）Ｏ）−Ｃ３Ｆ７となる。The right and left Rs in the compound (1) are preferably the same group. The same group means that Rf is the same, and the types, numbers, and order of units (u1) to (u3) constituting X are the same. For example, when R on the left side is C 3 F 7 — (OCF (CF 3 ) CF 2 ) — (OCF (CF 3 ) —, R on the right side is — (CF (CF 3 ) O) — (CF 2 a CF (CF 3) O) -C 3 F 7.
Ｒとしては、下記の基が好ましい。
Ｃ３Ｆ７ＯＣＦ（ＣＦ３）−
Ｃ３Ｆ７ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２ＯＣＦ（ＣＦ３）−、
Ｃ３Ｆ７｛ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２｝２ＯＣＦ（ＣＦ３）−、
Ｃ３Ｆ７｛ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２｝３ＯＣＦ（ＣＦ３）−、
Ｃ３Ｆ７｛ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２｝４ＯＣＦ（ＣＦ３）−、
Ｃ３Ｆ７｛ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２｝５ＯＣＦ（ＣＦ３）−、As R, the following groups are preferable.
C 3 F 7 OCF (CF 3 ) −
C 3 F 7 OCF (CF 3 ) CF 2 OCF (CF 3) -,
C 3 F 7 {OCF (CF 3) CF 2} 2 OCF (CF 3) -,
C 3 F 7 {OCF (CF 3) CF 2} 3 OCF (CF 3) -,
C 3 F 7 {OCF (CF 3) CF 2} 4 OCF (CF 3) -,
C 3 F 7 {OCF (CF 3) CF 2} 5 OCF (CF 3) -,
Ｃ４Ｆ９ＯＣＦ（ＣＦ３）−
Ｃ４Ｆ９ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２ＯＣＦ（ＣＦ３）−、
Ｃ４Ｆ９｛ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２｝２ＯＣＦ（ＣＦ３）−、
Ｃ４Ｆ９｛ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２｝３ＯＣＦ（ＣＦ３）−、
Ｃ４Ｆ９｛ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２｝４ＯＣＦ（ＣＦ３）−、 C 4 F 9 OCF (CF 3 ) -
C 4 F 9 OCF (CF 3 ) CF 2 OCF (CF 3) -,
C 4 F 9 {OCF (CF 3) CF 2} 2 OCF (CF 3) -,
C 4 F 9 {OCF (CF 3) CF 2} 3 OCF (CF 3) -,
C 4 F 9 {OCF (CF 3) CF 2} 4 OCF (CF 3) -,
Ｃ６Ｆ１３ＯＣＦ（ＣＦ３）−
Ｃ６Ｆ１３ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２ＯＣＦ（ＣＦ３）−、
Ｃ６Ｆ１３｛ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２｝２ＯＣＦ（ＣＦ３）−、
Ｃ６Ｆ１３｛ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２｝３ＯＣＦ（ＣＦ３）−、
Ｃ６Ｆ１３｛ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２｝４ＯＣＦ（ＣＦ３）−、C 6 F 13 OCF (CF 3 ) −
C 6 F 13 OCF (CF 3 ) CF 2 OCF (CF 3) -,
C 6 F 13 {OCF (CF 3) CF 2} 2 OCF (CF 3) -,
C 6 F 13 {OCF (CF 3) CF 2} 3 OCF (CF 3) -,
C 6 F 13 {OCF (CF 3) CF 2} 4 OCF (CF 3) -,
Ｃ３Ｆ７ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２−、
Ｃ３Ｆ７｛ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２｝２−、
Ｃ３Ｆ７｛ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２｝３−、
Ｃ３Ｆ７｛ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２｝４−、
Ｃ３Ｆ７｛ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２｝５−、 C 3 F 7 OCF 2 CF 2 CF 2 -,
C 3 F 7 {OCF 2 CF 2 CF 2} 2 -,
C 3 F 7 {OCF 2 CF 2 CF 2} 3 -,
C 3 F 7 {OCF 2 CF 2 CF 2} 4 -,
C 3 F 7 {OCF 2 CF 2 CF 2} 5 -,
Ｃ２Ｆ５ＯＣＦ２ＣＦ２−、
Ｃ２Ｆ５｛ＯＣＦ２ＣＦ２｝２−、
Ｃ２Ｆ５｛ＯＣＦ２ＣＦ２｝３−、
Ｃ２Ｆ５｛ＯＣＦ２ＣＦ２｝４−、
Ｃ２Ｆ５｛ＯＣＦ２ＣＦ２｝５−、
Ｃ２Ｆ５｛ＯＣＦ２ＣＦ２｝６−、
Ｃ２Ｆ５｛ＯＣＦ２ＣＦ２｝７−、
Ｃ２Ｆ５｛ＯＣＦ２ＣＦ２｝８−、
Ｃ２Ｆ５｛ＯＣＦ２ＣＦ２｝９−、C 2 F 5 OCF 2 CF 2- ,
C 2 F 5 {OCF 2 CF 2 } 2- ,
C 2 F 5 {OCF 2 CF 2} 3 -,
C 2 F 5 {OCF 2 CF 2} 4 -,
C 2 F 5 {OCF 2 CF 2} 5 -,
C 2 F 5 {OCF 2 CF 2 } 6- ,
C 2 F 5 {OCF 2 CF 2} 7 -,
C 2 F 5 {OCF 2 CF 2} 8 -,
C 2 F 5 {OCF 2 CF 2} 9 -,
Ｃ３Ｆ７ＯＣＦ２ＣＦ２−、
Ｃ３Ｆ７｛ＯＣＦ２ＣＦ２｝２−、
Ｃ３Ｆ７｛ＯＣＦ２ＣＦ２｝３−、
Ｃ３Ｆ７｛ＯＣＦ２ＣＦ２｝４−、
Ｃ３Ｆ７｛ＯＣＦ２ＣＦ２｝５−、
Ｃ３Ｆ７｛ＯＣＦ２ＣＦ２｝６−、
Ｃ３Ｆ７｛ＯＣＦ２ＣＦ２｝７−。 C 3 F 7 OCF 2 CF 2 -,
C 3 F 7 {OCF 2 CF 2} 2 -,
C 3 F 7 {OCF 2 CF 2} 3 -,
C 3 F 7 {OCF 2 CF 2} 4 -,
C 3 F 7 {OCF 2 CF 2} 5 -,
C 3 F 7 {OCF 2 CF 2 } 6- ,
C 3 F 7 {OCF 2 CF 2} 7 -.
化合物（１）におけるＹは、炭素数２以上の有機基である。Ｙの炭素数は総計で５０以下が好ましい。総炭素数５０超であると、分子量が大きくなりすぎ、後記する希釈溶媒への溶解性が低下するおそれがあるほか、分子内でのフッ素原子の分子内に占める割合が低下し、離型性が低下するおそれがある。 Y in the compound (1) is an organic group having 2 or more carbon atoms. The total number of carbon atoms in Y is preferably 50 or less. If the total number of carbon atoms exceeds 50, the molecular weight becomes too large and the solubility in a diluting solvent described later may decrease, and the proportion of fluorine atoms in the molecule decreases in the molecule, resulting in releasability. May decrease.
Ｙとしては、基（ｇ１）〜基（ｇ６）が好ましく、化合物（１）の製造が容易な点から、基（ｇ１）がより好ましい。 Y is preferably a group (g1) to a group (g6), and more preferably a group (g1) from the viewpoint of easy production of the compound (1).
ｎの平均は、２〜１０であり、３〜１０が好ましい。
ｎの平均が２以上であれば、フィルム本体と離型層との接着性が良好となる。ｎの平均が１０以下であれば、離型性が良好となる。The average of n is 2 to 10, and 3 to 10 is preferable.
If the average of n is 2 or more, the adhesiveness between the film body and the release layer will be good. If the average of n is 10 or less, the releasability is good.
化合物（１）は、通常、好ましくはｎの数が異なる複数種の化合物（１）の混合物である。よって、化合物（１）が、ｎの数が異なる２種以上の化合物（１）の混合物である場合、ｎは平均として表される。２種以上の化合物（１）の混合物は、ｎの平均が２〜１０となる範囲であり、ｎが１の化合物（１）を含んでいてもよく、ｎが１０を超える化合物（１）を含んでいてもよい。
一方、化合物（１）が、ｎの数が同じ１種の化合物（１）のみからなる場合、該ｎの数がそのままｎの平均となる。The compound (1) is usually a mixture of a plurality of types of compounds (1) preferably having different numbers of n. Therefore, when the compound (1) is a mixture of two or more compounds (1) having different numbers of n, n is represented as an average. The mixture of two or more kinds of compounds (1) is a range in which the average of n is 2 to 10, n may include the compound (1) of 1, and the compound (1) where n is greater than 10. May be included.
On the other hand, when the compound (1) is composed of only one compound (1) having the same number of n, the number of n is an average of n as it is.
ｎの平均は、下記方法にて求める。
（ｉ）ゲル浸透クロマトグラフィー（ＧＰＣ）によって化合物（１）の数平均分子量（ポリスチレン換算）を求める。
（ii）該数平均分子量からＲｆ−Ｘの分子量を減じ、（Ｙ−Ｚ）ｎの分子量を求める。
（iii）（Ｙ−Ｚ）ｎの分子量をＹ−Ｚの分子量で除し、ｎの平均を算出する。The average of n is obtained by the following method.
(I) The number average molecular weight (polystyrene conversion) of the compound (1) is determined by gel permeation chromatography (GPC).
(Ii) The molecular weight of Rf-X is subtracted from the number average molecular weight to determine the molecular weight of (YZ) n .
(Iii) the molecular weight of (Y-Z) n is divided by the molecular weight of Y-Z, and calculates the average of n.
Ｚは、−Ｓｉ（Ｒ１）ｍ（Ｒ２）３−ｍである。
Ｒ１は、水酸基または加水分解可能な基である。水酸基または加水分解可能な基は、フィルム本体の材料と反応するため、離型層に含まれる化合物（１）は、フィルム本体の表面に化学的に結合している。
加水分解可能な基としては、アルコキシ基、エステル基、アセトキシ基、オキシム基、エノキシ基、アミノ基、アミノキシ基、アミド基、ハロゲン原子等が挙げられ、入手の容易さや離型剤溶液の調製のしやすさの点から、メトキシ基またはエトキシ基が好ましい。
Ｒ２は、水素原子または１価の炭化水素基である。１価の炭化水素基としては、炭素数１〜３のアルキル基が挙げられる。
ｍは、１〜３の整数であり、フィルム本体への接着性の点から、３が好ましい。Z is —Si (R 1 ) m (R 2 ) 3-m .
R 1 is a hydroxyl group or a hydrolyzable group. Since the hydroxyl group or hydrolyzable group reacts with the material of the film body, the compound (1) contained in the release layer is chemically bonded to the surface of the film body.
Examples of hydrolyzable groups include alkoxy groups, ester groups, acetoxy groups, oxime groups, enoxy groups, amino groups, aminoxy groups, amide groups, halogen atoms and the like. From the viewpoint of easiness, a methoxy group or an ethoxy group is preferable.
R 2 is a hydrogen atom or a monovalent hydrocarbon group. Examples of the monovalent hydrocarbon group include an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms.
m is an integer of 1 to 3, and 3 is preferable from the viewpoint of adhesiveness to the film body.
化合物（１）としては、化合物（１１）が好ましい。 As the compound (1), the compound (11) is preferable.
化合物（１１）は、たとえば、窒素雰囲気下、溶媒中にて化合物（３）と化合物（４）とを反応させることにより製造できる。 Compound (11) can be produced, for example, by reacting compound (3) with compound (4) in a solvent under a nitrogen atmosphere.
上記製造に使用される溶媒としては、ハロゲン化脂肪族炭化水素溶媒、ハロゲン化芳香族炭化水素溶媒が好ましい。
ハロゲン化脂肪族炭化水素溶媒としては、塩化メチレン、クロロホルム、２−クロロ−１，２−ジブロモ−１，１，２−トリフルオロエタン、１，２−ジブロモヘキサフルオロプロパン、１，２−ジブロモテトラフルオロエタン、１，１−ジフルオロテトラクロロエタン、１，２−ジフルオロテトラクロロエタン、フルオロトリクロロメタン、ヘプタフルオロ−２，３，３−トリクロロブタン、１，１，１，３−テトラクロロテトラフルオロプロパン、１，１，１−トリクロロペンタフルオロプロパン、１，１，２−トリクロロトリフルオロエタン、１，１，１，２，２−ペンタフルオロ−３，３−ジクロロプロパン、１，１，２，２，３−ペンタフルオロ−１，３−ジクロロプロパン、トリデカフルオロヘキサン、１，１，１，２，２，３，４，５，５，５−デカフルオロペンタン、ノナフルオロブチルメチルエーテル、ノナフルオロブチルエチルエーテル、ヘプタフルオロシクロペンタン、１，１，２，２−テトラフルオロエチル−２，２，２−トリフルオロエチルエーテル、パーフルオロトリブチルアミン、（１−トリフルオロメチル）パーフルオロデカリン等が挙げられる。As the solvent used in the production, a halogenated aliphatic hydrocarbon solvent and a halogenated aromatic hydrocarbon solvent are preferable.
Halogenated aliphatic hydrocarbon solvents include methylene chloride, chloroform, 2-chloro-1,2-dibromo-1,1,2-trifluoroethane, 1,2-dibromohexafluoropropane, 1,2-dibromotetra Fluoroethane, 1,1-difluorotetrachloroethane, 1,2-difluorotetrachloroethane, fluorotrichloromethane, heptafluoro-2,3,3-trichlorobutane, 1,1,1,3-tetrachlorotetrafluoropropane, 1 , 1,1-trichloropentafluoropropane, 1,1,2-trichlorotrifluoroethane, 1,1,1,2,2-pentafluoro-3,3-dichloropropane, 1,1,2,2,3 -Pentafluoro-1,3-dichloropropane, tridecafluorohexane, 1,1,1,2,2,3 4,5,5,5-decafluoropentane, nonafluorobutyl methyl ether, nonafluorobutyl ethyl ether, heptafluorocyclopentane, 1,1,2,2-tetrafluoroethyl-2,2,2-trifluoroethyl Examples include ether, perfluorotributylamine, (1-trifluoromethyl) perfluorodecalin, and the like.
ハロゲン化芳香族炭化水素溶媒としては、ベンゾトリフルオリド、ヘキサフルオロキシレン、ペンタフルオロベンゼン等が挙げられる。
上記溶媒は、１種を単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。Examples of the halogenated aromatic hydrocarbon solvent include benzotrifluoride, hexafluoroxylene, pentafluorobenzene and the like.
The said solvent may be used individually by 1 type, and may use 2 or more types together.
上記溶媒としては、化合物（３）および化合物（４）の溶解性が高い点、入手が容易である点、および得られる化合物（１１）との反応性が低い点から、化合物（５−１）〜（５−６）が好ましい。
１，１，２，２，３−ペンタフルオロ−１，３−ジクロロプロパン ・・・（５−１）、
１，１，２−トリクロロトリフルオロエタン ・・・（５−２）、
１，１，１，２，２，３，３，４，４，５，５，６，６−トリデカフルオロヘキサン ・・・（５−３）、
１，１，２，２−テトラフルオロエチル−２，２，２−トリフルオロエチルエーテル ・・・（５−４）、
パーフルオロトリブチルアミン ・・・（５−５）、
（１−トリフルオロメチル）パーフルオロデカリン ・・・（５−６）。As the above-mentioned solvent, compound (5-1) from the viewpoint of high solubility of compound (3) and compound (4), easy availability, and low reactivity with compound (11) to be obtained. To (5-6) are preferred.
1,1,2,2,3-pentafluoro-1,3-dichloropropane (5-1),
1,1,2-trichlorotrifluoroethane (5-2),
1,1,1,2,2,3,3,4,4,5,5,6,6-tridecafluorohexane (5-3),
1,1,2,2-tetrafluoroethyl-2,2,2-trifluoroethyl ether (5-4),
Perfluorotributylamine (5-5),
(1-Trifluoromethyl) perfluorodecalin (5-6).
反応温度は、５〜８０℃が好ましく、１０〜６０℃がより好ましい。
反応時間は、０．１〜１０時間が好ましく、０．５〜５時間がより好ましい。
ｎの平均を調整するためには、化合物（３）と化合物（４）とのモル比を調整すればよい。The reaction temperature is preferably 5 to 80 ° C, more preferably 10 to 60 ° C.
The reaction time is preferably 0.1 to 10 hours, more preferably 0.5 to 5 hours.
In order to adjust the average of n, the molar ratio between the compound (3) and the compound (4) may be adjusted.
離型剤は、必要に応じて、化合物（１）以外に公知の添加剤を含んでいてもよい。該添加剤としては、レベリング剤、粘度調整剤、光安定剤、顔料、染料、帯電防止剤等が挙げられる。 The mold release agent may contain a known additive in addition to the compound (1) as necessary. Examples of the additive include a leveling agent, a viscosity modifier, a light stabilizer, a pigment, a dye, and an antistatic agent.
離型層の水に対する接触角は、７５度以上が好ましく、９０〜１３０度がより好ましい。離型層の水に対する接触角が７５度以上であれば、樹脂材料からの離型性が良好となる。接触角は、ＪＩＳ Ｒ３２５７にしたがって測定する。 The contact angle of the release layer with respect to water is preferably 75 degrees or more, and more preferably 90 to 130 degrees. If the contact angle with respect to the water of a mold release layer is 75 degree | times or more, the mold release property from a resin material will become favorable. The contact angle is measured according to JIS R3257.
離型層の厚さは、２ｎｍ〜１０μｍが好ましく、５ｎｍ〜１μｍがより好ましい。離型層の厚さが２ｎｍ以上であれば、離型性が良好となる。離型層の厚さが１０μｍ以下であれば、離型フィルムのコストを抑えることができる。 The thickness of the release layer is preferably 2 nm to 10 μm, and more preferably 5 nm to 1 μm. When the thickness of the release layer is 2 nm or more, the release property is good. If the thickness of the release layer is 10 μm or less, the cost of the release film can be suppressed.
（離型フィルムの製造方法）
本発明の離型フィルムは、たとえば、下記の工程（ａ）〜（ｃ）を経て製造される。
（ａ）必要に応じて、フィルム本体を洗浄する工程。
（ｂ）フィルム本体の表面に離型剤の膜を形成する工程。
（ｃ）離型剤の膜を乾燥して離型層とし、本発明の離型フィルムを得る工程。(Manufacturing method of release film)
The release film of the present invention is produced, for example, through the following steps (a) to (c).
(A) The process which wash | cleans a film main body as needed.
(B) A step of forming a release agent film on the surface of the film body.
(C) A step of drying the release agent film to form a release layer to obtain the release film of the present invention.
工程（ａ）：
フィルム本体を洗浄する方法としては、下記の方法が挙げられる。
（ａ−１）有機溶媒中にてフィルム本体を超音波洗浄する方法。
（ａ−２）酸または過酸化物の溶液中にてフィルム本体を煮沸洗浄する方法。Step (a):
Examples of the method for cleaning the film main body include the following methods.
(A-1) A method of ultrasonically cleaning the film body in an organic solvent.
(A-2) A method in which the film body is boiled and washed in an acid or peroxide solution.
上記有機溶媒としては、アセトン、エタノール、化合物（５−１）等が挙げられる。
上記酸としては、硫酸、塩酸、スルファミン酸、ギ酸、クエン酸、グリコール酸等が挙げられる。
上記過酸化物の溶液としては、過酸化水素、過酸化ナトリウム、過酸化カリウム、過酸化バリウム、過炭酸ナトリウム、過炭酸カリウム、過炭酸バリウム等の水溶液が挙げられる。
上記煮沸洗浄の後、精製水でさらに洗浄し、乾燥した後、オゾン照射を行い、フィルム本体の表面を清浄化してもよい。As said organic solvent, acetone, ethanol, a compound (5-1), etc. are mentioned.
Examples of the acid include sulfuric acid, hydrochloric acid, sulfamic acid, formic acid, citric acid, and glycolic acid.
Examples of the peroxide solution include aqueous solutions of hydrogen peroxide, sodium peroxide, potassium peroxide, barium peroxide, sodium percarbonate, potassium percarbonate, barium percarbonate, and the like.
After the boiling cleaning, the surface of the film body may be cleaned by further washing with purified water and drying, followed by ozone irradiation.
工程（ｂ）：
フィルム本体の表面に離型剤の膜を形成する方法としては、下記の方法が挙げられる。
（ｂ−１）離型剤溶液をフィルム本体の表面に塗布する方法。
（ｂ−２）離型剤溶液にフィルム本体を浸漬する方法。Step (b):
Examples of the method for forming a release agent film on the surface of the film body include the following methods.
(B-1) A method of applying a release agent solution to the surface of the film body.
(B-2) A method of immersing the film body in a release agent solution.
離型剤溶液は、たとえば、化合物（１）および溶媒を含む溶液を、必要に応じて希釈溶媒で希釈し、必要に応じて酸を添加することによって調製できる。離型剤溶液は、適宜必要に応じて、化合物（１）の濃度を調節して使用することが好ましい。
離型剤溶液中の化合物（１）の濃度は、０．００１〜１０質量％が好ましく、０．０１〜５質量％がより好ましい。化合物（１）の濃度が０．００１質量％以上であれば、離型層が充分な離型性を発揮できる。化合物（１）の濃度が１０質量％以下であれば、離型剤溶液の安定性がよくなる。The mold release agent solution can be prepared, for example, by diluting a solution containing the compound (1) and a solvent with a diluting solvent as necessary and adding an acid as necessary. The release agent solution is preferably used after adjusting the concentration of the compound (1) as necessary.
0.001-10 mass% is preferable and, as for the density | concentration of the compound (1) in a mold release agent solution, 0.01-5 mass% is more preferable. When the concentration of the compound (1) is 0.001% by mass or more, the release layer can exhibit sufficient release properties. When the concentration of the compound (1) is 10% by mass or less, the stability of the release agent solution is improved.
希釈溶媒としては、１−ブタノール、イソプロパノール、エタノール、１−プロパノール、ｔ−ブタノール等が挙げられる。
酸としては、塩酸、硫酸、硝酸等が挙げられる。
離型剤の膜を形成する方法としては、スピンコート法、キャスト法、スプレーコート法、ディップコート法等が挙げられ、ディップコート法が好ましい。Examples of the dilution solvent include 1-butanol, isopropanol, ethanol, 1-propanol, t-butanol and the like.
Examples of the acid include hydrochloric acid, sulfuric acid, nitric acid and the like.
Examples of the method for forming the release agent film include spin coating, casting, spray coating, dip coating, and the like, and dip coating is preferred.
工程（ｃ）：
乾燥温度は、室温〜２００℃が好ましく、４０〜１５０℃がより好ましい。乾燥温度が室温以上であれば、フィルム本体と離型層との接着性が良好となる。乾燥温度が２００℃以下であれば、フィルム本体の形状を保持できる。
乾燥時間は、０．１〜２４時間が好ましく、０．５〜１２時間がより好ましい。
乾燥の際の雰囲気としては、大気下が好ましい。
以上説明した本発明の離型フィルムにあっては、フィルム本体の少なくとも片面に離型層を設けているため、安価なフィルム本体を用いることにより、フッ素樹脂フィルムに比べ安価となる。また、離型層が、化合物（１）を含む離型剤からなるため、充分な離型性を有する。Step (c):
The drying temperature is preferably room temperature to 200 ° C, more preferably 40 to 150 ° C. If the drying temperature is room temperature or higher, the adhesion between the film body and the release layer will be good. If a drying temperature is 200 degrees C or less, the shape of a film main body can be hold | maintained.
The drying time is preferably 0.1 to 24 hours, more preferably 0.5 to 12 hours.
The atmosphere during drying is preferably in the air.
In the release film of the present invention described above, since the release layer is provided on at least one surface of the film main body, using an inexpensive film main body makes it cheaper than a fluororesin film. Moreover, since the release layer is made of a release agent containing the compound (1), it has sufficient release properties.
以下、実施例により本発明をさらに詳しく説明するが、本発明はこれらの実施例にのみに限定されるものではない。
例１〜３は、実施例であり、例４、５は、比較例である。EXAMPLES Hereinafter, although an Example demonstrates this invention further in detail, this invention is not limited only to these Examples.
Examples 1 to 3 are examples, and examples 4 and 5 are comparative examples.
（厚さ）
離型層の厚さは、Ｘ線回折装置（リガク社製、ＡＴＸ−Ｇ）を用い、Ｘ線回折法で測定した。(thickness)
The thickness of the release layer was measured by an X-ray diffraction method using an X-ray diffractometer (manufactured by Rigaku Corporation, ATX-G).
（接触角）
離型層の水に対する接触角は、ＪＩＳ Ｒ３２５７にしたがい、接触角計（協和界面科学社製、ＣＡ−Ｘ１５０型）を用い、４μＬの水を離型層の表面に着滴させて測定した。水に対する接触角は、離型層の離型性の目安となる。(Contact angle)
The contact angle of the release layer with respect to water was measured in accordance with JIS R3257 by using a contact angle meter (CA-X150 type, manufactured by Kyowa Interface Science Co., Ltd.) so that 4 μL of water was deposited on the surface of the release layer. The contact angle with water is a measure of the releasability of the release layer.
（耐久性）
セロハンテープ（ニチバン社製、セロテープ（登録商標））の、離型層の表面への貼付および該表面からの剥離を繰り返す試験を行った。該試験後の離型層の水に対する接触角を測定し、該試験前後の接触角の変化から離型を繰り返した際の離型層の耐久性を評価した。(durability)
A test was conducted in which cellophane tape (manufactured by Nichiban Co., Ltd., Cellotape (registered trademark)) was repeatedly applied to the surface of the release layer and peeled off from the surface. The contact angle of the release layer after the test with respect to water was measured, and the durability of the release layer when the release was repeated was evaluated from the change in the contact angle before and after the test.
（耐擦傷性）
０．５ｋｇの荷重をかけながら、ＪＫワイパー（クレシア社製、１５０−Ｓ）を離型層の表面にて１００往復させる拭き取り試験を行った。該試験後の、離型層の水に対する接触角を測定し、該試験前後の接触角の変化から離型層の耐久性を評価した。(Abrasion resistance)
While applying a load of 0.5 kg, a wiping test was performed in which a JK wiper (manufactured by Crecia, 150-S) was reciprocated 100 times on the surface of the release layer. The contact angle of the release layer to water after the test was measured, and the durability of the release layer was evaluated from the change in the contact angle before and after the test.
〔例１〕
冷却管を備えた１００ｍＬ丸底フラスコに、化合物（４−１）の０．３７ｇ（２．５ｍｍｏｌ）を入れ、さらに該フラスコに、化合物（５−１）中に化合物（３−１）の２．４８ｇ（２．５ｍｍｏｌ）を含む溶液の６７．０７ｇを入れ、窒素雰囲気下、３０℃にて３時間反応を行った。[Example 1]
Into a 100 mL round bottom flask equipped with a condenser tube, 0.37 g (2.5 mmol) of the compound (4-1) was added, and further added to the compound (5-1) 2 of the compound (3-1). 67.07 g of a solution containing .48 g (2.5 mmol) was added, and the reaction was performed at 30 ° C. for 3 hours under a nitrogen atmosphere.
反応終了後、反応粗液をフィルターでろ過し、化合物（５−１）中に化合物（１１−１）を含む溶液の６５．８７ｇを得た。 After completion of the reaction, the reaction crude liquid was filtered with a filter to obtain 65.87 g of a solution containing the compound (11-1) in the compound (5-1).
該溶液中の化合物（１１−１）の濃度は、２．３４質量％であった。ＧＰＣにより化合物（１１−１）の数平均分子量（ポリスチレン換算）を測定し、ｎの平均を算出したところ、ｎの平均は７．８であった。
該溶液の１ｇを、化合物（５−１）の１．３４ｇに加え、離型剤溶液を調製した。該離型剤溶液中の化合物（１１−１）の濃度は、１質量％であった。The concentration of the compound (11-1) in the solution was 2.34% by mass. When the number average molecular weight (polystyrene conversion) of the compound (11-1) was measured by GPC and the average of n was calculated, the average of n was 7.8.
1 g of this solution was added to 1.34 g of compound (5-1) to prepare a release agent solution. The concentration of the compound (11-1) in the release agent solution was 1% by mass.
フィルム本体としてポリカーボネートフィルム（出光興産社製、タフロン、２ｃｍ×２ｃｍ×厚さ５０μｍ）を用意した。該フィルムを、プラズマ表面処理装置（キーエンス社製、ＳＴ−７０１０）を用いて、１０秒間エアープラズマ処理することで表面を親水化した。
該フィルムを離型剤溶液中に１分間浸漬した後、引き上げ、離型剤の膜を形成した。
離型剤の膜を、フィルムごと５０℃９０％ＲＨで２時間加熱し、フィルムの表面に厚さ１０ｎｍの離型層を形成し、離型フィルムを得た。A polycarbonate film (made by Idemitsu Kosan Co., Ltd., Toughlon, 2 cm × 2 cm × thickness 50 μm) was prepared as the film body. The surface of the film was hydrophilized by air plasma treatment for 10 seconds using a plasma surface treatment apparatus (manufactured by Keyence Corporation, ST-7010).
The film was immersed in a release agent solution for 1 minute and then pulled up to form a release agent film.
The release agent film was heated with the film at 50 ° C. and 90% RH for 2 hours to form a release layer having a thickness of 10 nm on the surface of the film to obtain a release film.
離型フィルムを化合物（５−１）中にて超音波洗浄した後、離型層の水に対する接触角を測定した。また、セロハンテープ繰り返し試験後の、離型層の水の接触角を測定した。
結果を表１に示す。離型層の剥離は見られなかった。また、セロハンテープ繰り返し試験における離型性の低下は観察されなかった。耐擦傷性評価試験後の、離型層の水の接触角を測定した。結果を表２に示す。離型層の剥離はほとんど見られなかった。The release film was ultrasonically washed in the compound (5-1), and then the contact angle of the release layer with respect to water was measured. Moreover, the water contact angle of the release layer after the cellophane tape repetition test was measured.
The results are shown in Table 1. The release layer was not peeled off. Moreover, the fall of the mold release property in the cellophane tape repetition test was not observed. The water contact angle of the release layer after the scratch resistance evaluation test was measured. The results are shown in Table 2. Peeling of the release layer was hardly observed.
〔例２〕
フィルム本体としてポリカーボネートフィルムの代わりにポリエチレンテレフタレートフィルム（東洋紡社製、コスモシャイン（登録商標）、２ｃｍ×２ｃｍ×厚さ５０μｍ）を用いた以外は、例１と同様にして厚さ１０ｎｍの離型層を有する離型フィルムを得た。
該離型フィルムを化合物（５−１）中にて超音波洗浄した後、例１と同様にして評価を行った。結果を表１に示す。離型層の剥離は見られなかった。また、セロハンテープ繰り返し試験における離型性の低下は観察されなかった。耐擦傷性評価試験後の、離型層の水の接触角を測定した。結果を表２に示す。離型層の剥離はほとんど見られなかった。[Example 2]
A 10 nm thick release layer in the same manner as in Example 1 except that a polyethylene terephthalate film (Toyobo Co., Ltd., Cosmo Shine (registered trademark), 2 cm × 2 cm × thickness 50 μm) was used instead of the polycarbonate film as the film body. A release film having
The release film was ultrasonically washed in the compound (5-1), and then evaluated in the same manner as in Example 1. The results are shown in Table 1. The release layer was not peeled off. Moreover, the fall of the mold release property in the cellophane tape repetition test was not observed. The water contact angle of the release layer after the scratch resistance evaluation test was measured. The results are shown in Table 2. Peeling of the release layer was hardly observed.
〔例３〕
フィルム本体としてポリカーボネートフィルムの代わりにポリメチルメタクリレートフィルム（クラレ社製、コモグラス(登録商標)、２ｃｍ×２ｃｍ×厚さ１０００μｍ）を用いた以外は、例１と同様にして厚さ１０ｎｍの離型層を有する離型フィルムを得た。該離型フィルムを化合物（５−１）中にて超音波洗浄した後、例１と同様にして評価を行った。結果を表１に示す。離型層の剥離は見られなかった。また、セロハンテープ繰り返し試験における離型性の低下は観察されなかった。耐擦傷性評価試験後の、離型層の水の接触角を測定した。結果を表２に示す。離型層の剥離はほとんど見られなかった。[Example 3]
A release layer having a thickness of 10 nm was used in the same manner as in Example 1 except that a polymethyl methacrylate film (Kuraray, Comoglass (registered trademark), 2 cm × 2 cm × thickness 1000 μm) was used instead of the polycarbonate film as the film body. A release film having The release film was ultrasonically washed in the compound (5-1), and then evaluated in the same manner as in Example 1. The results are shown in Table 1. The release layer was not peeled off. Moreover, the fall of the mold release property in the cellophane tape repetition test was not observed. The water contact angle of the release layer after the scratch resistance evaluation test was measured. The results are shown in Table 2. Peeling of the release layer was hardly observed.
〔例４〕
離型フィルムとして、ポリテトラフルオロエチレンフィルム（日東電工社製、ニトフロン（登録商標）、２ｃｍ×２ｃｍ×厚さ５０μｍ）を用意した。化合物（５−１）中にて超音波洗浄した後、離型層の水に対する接触角を測定した。また、セロハンテープ繰り返し試験後の、離型層の水の接触角を測定した。結果を表１に示す。フィルムの損傷は見られなかった。また、セロハンテープ繰り返し試験における離型性の低下は観察されなかった。耐擦傷性評価試験後の、離型層の水の接触角を測定した。結果を表２に示す。フィルムの損傷は見られず、離型性の低下は見られなかった。[Example 4]
As a release film, a polytetrafluoroethylene film (manufactured by Nitto Denko Corporation, Nitoflon (registered trademark), 2 cm × 2 cm × thickness 50 μm) was prepared. After ultrasonic cleaning in the compound (5-1), the contact angle of the release layer with respect to water was measured. Moreover, the water contact angle of the release layer after the cellophane tape repetition test was measured. The results are shown in Table 1. No film damage was seen. Moreover, the fall of the mold release property in the cellophane tape repetition test was not observed. The water contact angle of the release layer after the scratch resistance evaluation test was measured. The results are shown in Table 2. The film was not damaged, and the release property was not deteriorated.
〔例５〕
離型フィルムとして、シリコーン樹脂をコートしたフィルム（パナック社製、パナピール（登録商標）、２ｃｍ×２ｃｍ×厚さ７５μｍ）を用意した。化合物（５−１）中にて超音波洗浄した後、離型層の水に対する接触角を測定した。また、セロハンテープ繰り返し試験後の、離型層の水の接触角を測定した。結果を表１に示す。フィルム表面からセロハンテープ側に離型剤の移行が確認された。また、セロハンテープ繰り返し試験における離型性の低下が観察された。耐擦傷性評価試験後の、離型層の水の接触角を測定した。結果を表２に示す。離型層の剥離が見られ接触角が９０度以下まで低下した。[Example 5]
As a release film, a film coated with a silicone resin (manufactured by Panac, Panapeel (registered trademark), 2 cm × 2 cm × 75 μm thick) was prepared. After ultrasonic cleaning in the compound (5-1), the contact angle of the release layer with respect to water was measured. Moreover, the water contact angle of the release layer after the cellophane tape repetition test was measured. The results are shown in Table 1. The transfer of the release agent was confirmed from the film surface to the cellophane tape side. Moreover, the fall of the mold release property in the cellophane tape repetition test was observed. The water contact angle of the release layer after the scratch resistance evaluation test was measured. The results are shown in Table 2. The release layer was peeled off, and the contact angle decreased to 90 degrees or less.
本発明の離型フィルムは、各種粘着材、塗料等からなる塗膜を形成する際、または、プリント基板、セラミックス電子部品、熱硬化性樹脂製品、化粧板等を製造する際に用いられる離型フィルムとして有用である。
なお、２００８年４月２１日に出願された日本特許出願２００８―１１０２６２号の明細書、特許請求の範囲、図面及び要約書の全内容をここに引用し、本発明の明細書の開示として、取り入れるものである。The mold release film of the present invention is a mold release used when forming a coating film made of various adhesive materials, paints, etc., or when manufacturing printed circuit boards, ceramic electronic parts, thermosetting resin products, decorative boards, etc. Useful as a film.
The entire contents of the specification, claims, drawings and abstract of Japanese Patent Application No. 2008-110262 filed on Apr. 21, 2008 are cited here as disclosure of the specification of the present invention. Incorporated.
１０ 離型フィルム
１２ フィルム本体
１４ 離型層10
Claims (8)
該離型層が、下式（１）で表される化合物を含む離型剤を含有することを特徴とする離型フィルム。
−（ＯＣ３Ｆ６）− ・・・（ｕ１）、
−（ＯＣ２Ｆ４）− ・・・（ｕ２）、
−（ＯＣＦ２）− ・・・（ｕ３）。
ただし、Ｃ３Ｆ６およびＣ２Ｆ４は、直鎖状であってもよく、分岐状であってもよい。A film body, and a release layer provided on at least one side of the film body,
The release film contains a release agent containing a compound represented by the following formula (1).
- (OC 3 F 6) - ··· (u1),
- (OC 2 F 4) - ··· (u2),
- (OCF 2) - ··· ( u3).
However, C 3 F 6 and C 2 F 4 may be linear or branched.
（ａ）必要に応じて、フィルム本体を洗浄する工程
（ｂ）フィルム本体の表面に離型剤の膜を形成する工程
（ｃ）離型剤の膜を乾燥して離型層とし、本発明の離型フィルムを得る工程。The manufacturing method of the release film in any one of Claims 1-5 through following process (a)-(c).
(A) A step of washing the film body as required (b) A step of forming a release agent film on the surface of the film body (c) A release agent film is dried to form a release layer, and the present invention To obtain a release film.
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