JPWO2007040112A1 - 電子透かし埋め込み装置及び電子透かし検出装置 - Google Patents
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Abstract
Description
図1は、この発明の実施の形態1に係る電子透かし埋め込み装置の構成を示すブロック図である。
図1に示される実施の形態1に係る電子透かし埋め込み装置100は、入力される埋め込み情報102を"0"と"1"からなるビット列に変換し、変換したビット列を電子透かしパターン104として出力する埋め込み情報変換部103と、要素−1,+1の組み合わせで構成され、互いに直交するパターン(直交パターン)の1つを出力する直交パターン発生部105と、直交パターン発生部105からの直交パターンを埋め込み情報変換部103からの電子透かしパターン104の各要素と積算して埋め込みパターン106を生成する積算部109と、入力画像101に対し、積算部109からの埋め込みパターン106を埋め込み、情報埋め込み後画像108を出力する電子透かし埋め込み部107とを備えている。
図2に示される実施の形態1に係る電子透かし検出装置200は、電子透かし情報の検出対象である、情報埋め込み後の入力画像201から電子透かしとして埋め込まれているパターンを抽出し、抽出パターン208を出力する電子透かし抽出部207と、埋め込み時と同じ長さを持つ直交パターンを複数生成する直交拡散パターン発生部202と、直交拡散パターン発生部202により生成した複数の直交パターンそれぞれと電子透かし抽出部207からの抽出パターン208とを積算する積算部209と、積算部209の積算結果からビットごとに繰り返し埋め込まれている値の平均値を計算することにより検出値を算出し、検出値について、ビットごとに絶対値が最大の値をとる検出値を抽出し、電子透かしパターン204を生成する電子透かし検出部203と、電子透かし検出部203からの電子透かしパターン204をビット情報に変換しそのビット列をあらかじめ定めた規則に従って検出情報206に変換して出力する検出情報変換部205とを備えている。
まず、電子透かし情報の埋め込み対象である入力画像101と、電子透かしとして埋め込む埋め込み情報102とを電子透かし埋め込み装置100に入力する。埋め込み情報変換部103では、埋め込み情報102を"0"と"1"からなるビット列に変換し、変換したビット列を電子透かしパターン104として出力する。
まず、電子透かし情報の検出対象である、情報埋め込み後の入力画像201を電子透かし検出装置200に入力する。電子透かし抽出部207では、情報埋め込み後の入力画像201から電子透かしとして埋め込まれているパターンを抽出し、抽出パターン208を出力する。
上記実施の形態1では、埋め込むべき電子透かしパターンに直交パターンを積算して埋め込むようにしたものであるが、次に、直交パターンを直接埋め込む実施の形態を説明する。
図3に示される実施の形態2に係る電子透かし埋め込み装置300は、あらかじめ定めたパターン長を持つ直交パターンを発生する直交パターン発生部304と、前記直交パターン発生部304からの直交パターンを登録し、登録された直交パターンと特定のビット表現との対応付けを実施すると共に、入力される埋め込み情報302を"0"と"1"からなるビット列に変換し、ビット表現と直交パターンとの対応付けに従い、ビット列の特定ビット表現ごとに直交パターンに変換し、各直交パターンをあらかじめ定められた回数繰り返し並べて埋め込みパターン305を生成して出力する埋め込み情報変換部303と、入力画像301に対して、電子透かしとして埋め込み情報変換部303からの埋め込みパターン305を埋め込み、情報埋め込み後画像307を生成して出力する電子透かし埋め込み部306とを備えている。
図4に示される実施の形態2に係る電子透かし検出装置400は、電子透かし情報の検出対象である、情報埋め込み後の入力画像401から電子透かしとして埋め込まれているパターンを抽出し、抽出パターン408を出力する電子透かし抽出部407と、埋め込み時と同じ長さを持つ直交パターンを複数生成する直交拡散パターン発生部402と、直交拡散パターン発生部402により生成した複数の直交パターンそれぞれと電子透かし抽出部407からの抽出パターン408とを積算する積算部409と、積算部409の積算結果のうち、最大値を持つ直交パターンを見つけ出し、その直交パターンと対応付けられているビット列を選択することによって電子透かしパターン404を生成する電子透かし検出部403と、電子透かし検出部403からの電子透かしパターン404をビット情報に変換しそのビット列をあらかじめ定めた規則に従って検出情報406に変換して出力する検出情報変換部405とを備えている。
まず、直交パターン発生部304では、あらかじめ定めたパターン長を持つ直交パターンを発生し、埋め込み情報変換部303に登録する。情報変換部303では、登録された直交パターンと特定のビット表現との対応付けを実施する。パターン長が4の時の例を図5に示す。
上記の準備のあと、電子透かし情報の埋め込み対象である入力画像と、電子透かしとして埋め込む埋め込み情報とを電子透かし埋め込み装置300に入力する。
上記のように生成された埋め込みパターン305は、電子透かし埋め込み部306に渡される。電子透かし埋め込み部306では、入力画像301に対して、電子透かしとして埋め込みパターン305を埋め込み、情報埋め込み後画像307を生成して出力する。
上述した実施の形態1および2は、埋め込まれている情報を精度よく検出可能にするためのものであった。また、従来技術より少ない画素を使って安定した電子透かし検出を実現可能にするためのものであった。さらに、従来技術で電子透かし埋め込みに用いる同一の画素数で、より多くの電子透かし情報量を埋め込み・検出可能にするためのものであった。
ここでは、4種類のビット数、すなわち、8ビット、16ビット、32ビット、64ビットのいずれかのビット数で情報が埋め込まれるものとして説明する。
図11は、電子透かしの検出時に埋め込まれている電子透かしのビット数を判断可能とするための電子透かしパターンである。
図12に示される実施の形態3に係る電子透かし埋め込み装置1200は、要素−1,+1の組み合わせで構成され、互いに直交する直交パターンを発生する直交パターン発生部1204と、入力される埋め込み情報1202を"0"と"1"からなるビット列に変換し、ビット列を直交パターン発生部1204からの直交パターンを利用して置き換え、埋め込みパターン1205を生成する埋め込み情報変換部1203と、入力画像1201に対し、埋め込みパターン発生部1204からの埋め込みパターン1205を埋め込み、情報埋め込み後画像1207を出力する電子透かし埋め込み部1206とを備えている。
図13に示される実施の形態3に係る電子透かし検出装置1300は、電子透かし情報の検出対象である、情報埋め込み後の入力画像1301から電子透かしとして埋め込まれているパターンを抽出し、抽出パターン1308を出力する電子透かし抽出部1307と、埋め込み時と同じ長さを持つ直交パターンを複数生成する直交拡散パターン発生部1302と、直交拡散パターン発生部1302により生成した複数の直交パターンそれぞれと電子透かし抽出部1307からの抽出パターン1308とを積算する積算部1309と、積算部1309の積算結果のうち、最大値を持つ直交パターンを見つけ出し、その直交パターンと対応付けられているビット列を選択することによって電子透かしパターン1304を生成する電子透かし検出部1303と、電子透かし検出部1303からの電子透かしパターン1304をビット情報に変換しそのビット列をあらかじめ定めた規則に従って検出情報1306に変換して出力する検出情報変換部1305とを備えている。
電子透かし情報の埋め込み対象である入力画像1201と、電子透かしとして埋め込む埋め込み情報1202とを電子透かし埋め込み装置1200に入力する。
ビット長が8ビットであることから、情報変換部1203は、ビット情報"1"を埋め込むための直交パターンとして直交パターン1101、すなわち"+1,+1,+1,+1"を選択し、ビット情報"0"を埋め込むための直交パターンとして直交パターン1121、すなわち"−1,−1,−1,−1"を選択する。
Claims (8)
- 入力される埋め込み情報を"0"と"1"からなるビット列に変換し、変換したビット列の各ビットを複数回埋め込むようにして、要素としてN個の−1あるいはN個の+1を持つ電子透かしパターンを出力する埋め込み情報変換部と、
要素−1,+1の組み合わせで構成され、互いに直交する直交パターンを生成する直交パターン発生部と、
前記直交パターン発生部からの直交パターンを前記埋め込み情報変換部からの電子透かしパターンの各要素と積算して埋め込みパターンを生成する積算部と、
入力画像に対し、前記積算部からの埋め込みパターンを埋め込み、情報埋め込み後画像を出力する電子透かし埋め込み部と
を備えた電子透かし埋め込み装置。 - 請求項1に記載の電子透かし埋め込み装置において、
前記電子透かしパターンの要素として、N個の−艟あるいはN個の+艟(艟は正整数)を持つ
ことを特徴とする電子透かし埋め込み装置。 - 請求項1に記載の電子透かし埋め込み装置において、
前記電子透かしパターンの要素が任意のN個の負符号値あるいはN個の正符号値からなる
ことを特徴とする電子透かし埋め込み装置。 - 電子透かし情報の検出対象である、情報埋め込み後の入力画像から電子透かしとして埋め込まれているパターンを抽出する電子透かし抽出部と、
埋め込み時と同じ長さを持つ直交パターンを複数生成する直交拡散パターン発生部と、
前記直交拡散パターン発生部により生成した複数の直交パターンそれぞれと前記電子透かし抽出部からの抽出パターンとを積算する積算部と、
前記積算部の積算結果からビットごとに繰り返し埋め込まれている値の平均値を計算することにより検出値を算出し、算出された検出値についてビットごとに絶対値が最大の値をとる検出値を抽出して電子透かしパターンを生成する電子透かし検出部と、
前記電子透かし検出部からの電子透かしパターンをビット情報に変換しそのビット列をあらかじめ定めた規則に従って検出情報に変換する検出情報変換部と
を備えた電子透かし検出装置。 - あらかじめ定めたパターン長を持つ直交パターンを発生する直交パターン発生部と、
前記直交パターン発生部からの直交パターンを登録し、登録された直交パターンと特定のビット表現との対応付けを実施すると共に、入力される埋め込み情報を"0"と"1"からなるビット列に変換し、ビット表現と直交パターンとの対応付けに従い、ビット列の特定ビット表現ごとに直交パターンに変換し、各直交パターンをあらかじめ定められた回数繰り返し並べて埋め込みパターンを生成して出力する埋め込み情報変換部と、
入力画像に対して前記埋め込み情報変換部からの埋め込みパターンを埋め込み、情報埋め込み後画像を生成して出力する電子透かし埋め込み部と
を備えた電子透かし埋め込み装置。 - 電子透かし情報の検出対象である、情報埋め込み後の入力画像から電子透かしとして埋め込まれているパターンを抽出する電子透かし抽出部と、
埋め込み時と同じ長さを持つ直交パターンを複数生成する直交拡散パターン発生部と、
前記直交拡散パターン発生部により生成した複数の直交パターンそれぞれと前記電子透かし抽出部からの抽出パターンとを積算する積算部と、
前記積算部の積算結果のうち、最大値を持つ直交パターンを見つけ出し、その直交パターンと対応付けられているビット列を選択することによって電子透かしパターンを生成する電子透かし検出部と、
前記電子透かし検出部からの電子透かしパターンをビット情報に変換しそのビット列をあらかじめ定めた規則に従って検出情報に変換して出力する検出情報変換部と
を備えた電子透かし検出装置。 - 要素−1,+1の組み合わせで構成され、互いに直交する直交パターンを発生する直交パターン発生部と、
入力される埋め込み情報を"0"と"1"からなるビット列に変換し、ビット列を前記直交パターン発生部からの直交パターンを利用して置き換え、埋め込みパターンを生成する埋め込み情報変換部と、
入力画像に対し、前記埋め込みパターン発生部からの埋め込みパターンを埋め込み、情報埋め込み後画像を出力する電子透かし埋め込み部と
を備えた電子透かし埋め込み装置。 - 電子透かし情報の検出対象である、情報埋め込み後の入力画像から電子透かしとして埋め込まれているパターンを抽出する電子透かし抽出部と、
埋め込み時と同じ長さを持つ直交パターンを複数生成する直交拡散パターン発生部と、
前記直交拡散パターン発生部により生成した複数の直交パターンそれぞれと前記電子透かし抽出部からの抽出パターンとを積算する積算部と、
前記積算部の積算結果のうち、最大値を持つ直交パターンを見つけ出し、その直交パターンと対応付けられているビット列を選択することによって電子透かしパターンを生成する電子透かし検出部と、
前記電子透かし検出部からの電子透かしパターンをビット情報に変換しそのビット列をあらかじめ定めた規則に従って検出情報に変換して出力する検出情報変換部と
を備えた電子透かし検出装置。
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