JPWO2006011202A1 - Semiconductor gas sensor - Google Patents

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Abstract

検知感度や応答性等の性能が改善された半導体ガスセンサを提供する。この半導体ガスセンサは、検知対象のガスに感応して電気抵抗値の変化を生じる感応素子Aとして、金属酸化物半導体を含有するものを備え、感応素子Aの内部には、Pt及びPdのうち少なくとも一方を担持している金属酸化物絶縁体が分散している。これにより、PtやPdによる金属酸化物半導体への悪影響を抑制しつつ、このPtやPdによる触媒作用を感応素子A内部の全体に亘って発揮させることができる。Provided is a semiconductor gas sensor having improved performance such as detection sensitivity and responsiveness. This semiconductor gas sensor is provided with a sensing element A containing a metal oxide semiconductor as a sensing element A that produces a change in electric resistance value in response to a gas to be detected, and at least Pt and Pd are contained inside the sensing element A. The metal oxide insulator supporting one is dispersed. This makes it possible to exert the catalytic action of Pt and Pd throughout the sensitive element A while suppressing the adverse effect of Pt and Pd on the metal oxide semiconductor.

Description

本発明は、検知対象のガスに感応して電気抵抗値の変化を生じる感応素子として、金属酸化物半導体を含有するものを備える半導体ガスセンサに関するものである。   The present invention relates to a semiconductor gas sensor including a sensitive element that includes a metal oxide semiconductor as a sensitive element that changes a resistance value in response to a gas to be detected.

近年、検知対象のガスに感応して電気抵抗値の変化を生じる金属酸化物半導体を利用した半導体ガスセンサは、小型安価なガスセンサとして注目を集めており、家庭用や工業用等の可燃ガスのガス漏れセンサ、口臭センサ、燃料電池制御用等のための水素ガスセンサ、自動車用途等の排気ガスセンサ等として広く利用されるようになっている。   In recent years, semiconductor gas sensors that use metal oxide semiconductors that produce a change in electrical resistance value in response to the gas to be detected have been attracting attention as small and inexpensive gas sensors, and gas of combustible gas for household and industrial use has been attracting attention. It has come to be widely used as a leak sensor, a bad breath sensor, a hydrogen gas sensor for controlling fuel cells, an exhaust gas sensor for automobiles, and the like.

このうち、例えば自動車用途の排気ガスセンサとしては、ディーゼルエンジン等からの排気される窒素酸化物(NOx)等を検知するもの、ガソリンエンジン等から排気されるハイドロカーボン等を検知するもの、これら両方のガスを検知するものなどが提供されており、例えば外気を車内に供給するために用いる制御弁の自動制御用に利用されている。   Of these, for example, as an exhaust gas sensor for automobiles, one that detects nitrogen oxides (NOx) or the like exhausted from a diesel engine, one that detects hydrocarbons exhausted from a gasoline engine, or the like There are provided gas detectors and the like, which are used, for example, for automatic control of a control valve used to supply outside air into the vehicle.

このような半導体ガスセンサには、検知感度や検知時の応答性を向上したり、妨害ガスの影響を排して選択性を向上したりするために、その感応素子にPt、Pd等の触媒を含有させる場合がある。この様なPtやPdは、その触媒作用により、例えば妨害ガスを分解したり、検知対象であるガスを金属酸化物半導体にて検知されやすい物質に変換したりすることで、半導体ガスセンサの性能向上に寄与するものである。   In such a semiconductor gas sensor, a catalyst such as Pt or Pd is added to the sensitive element in order to improve the detection sensitivity or the response at the time of detection, or to eliminate the influence of interfering gas and improve the selectivity. May be included. Such Pt and Pd improve the performance of the semiconductor gas sensor by, for example, decomposing an interfering gas or converting the gas to be detected into a substance that is easily detected by the metal oxide semiconductor due to its catalytic action. Contribute to.

PtやPdを含有させる場合の態様としては、金属酸化物半導体を含む感応素子中にPtやPdを全体的に分散させることも考えられるが、このようにすると感応素子の電気抵抗値の上昇を招きやすいことが経験上知られており、このため期待されるような性能向上を図ることができず、逆に検知感度や応答性の低下、あるいはこれらの性能の経時的な劣化を招いてしまうものであった。   As a mode in which Pt or Pd is contained, it may be considered that Pt or Pd is wholly dispersed in a sensitive element containing a metal oxide semiconductor. However, in this case, the electric resistance value of the sensitive element is increased. It is known from experience that it is easy to invite, so it is not possible to achieve the expected performance improvement, and conversely, the detection sensitivity and responsiveness decrease, or these performances deteriorate over time. It was a thing.

そこで、半導体ガスセンサの感応素子に触媒作用の付与のためにPtやPdを含有させる場合には、従来、例えば特表平9−503587号公報に開示されているように、金属酸化物半導体を含む感応素子の外側に、PtやPdを担持した金属酸化物によるコート層を設けることが行われていた。この特表平9−503587号公報には、排気ガス等に含まれる窒素酸化物を検出するための半導体ガスセンサが記載されているものであり、その感応素子は、SnO2等の金属酸化物半導体を主体として構成された金属酸化物層の外層に、PtやPdを担持させた金属酸化物によりコート層(変換層)を形成することで構成されている。このような構成により、金属酸化物半導体とPtやPdとが接触することを防止して上記弊害が発生しないようにしたものである。Therefore, when Pt or Pd is added to the sensitive element of the semiconductor gas sensor for the purpose of imparting a catalytic action, it contains a metal oxide semiconductor as disclosed in, for example, Japanese Patent Publication No. 9-503587. A coating layer made of a metal oxide carrying Pt or Pd has been provided outside the sensitive element. This Japanese National Publication of International Patent Application No. 9-503587 describes a semiconductor gas sensor for detecting nitrogen oxides contained in exhaust gas and the like, and its sensitive element is a metal oxide semiconductor such as SnO 2. It is configured by forming a coat layer (conversion layer) of a metal oxide supporting Pt or Pd on the outer layer of the metal oxide layer mainly composed of. With such a configuration, the metal oxide semiconductor and Pt or Pd are prevented from coming into contact with each other so that the above-mentioned adverse effect does not occur.

しかし、上記のようなコート層を形成する場合には、PtやPdの触媒作用はガスがコート層を通過する際にのみ働くため、PtやPdの触媒作用を受けずにコート層を通過する成分が多く残存することとなり、このため検知感度や応答性等の性能向上には限界があった。   However, when forming a coat layer as described above, the catalytic action of Pt or Pd works only when the gas passes through the coat layer, and therefore passes through the coat layer without being subjected to the catalytic action of Pt or Pd. A large amount of the component remains, which limits the improvement in performance such as detection sensitivity and responsiveness.

本発明は上記の点に鑑みて為されたものであり、その第一の目的は、検知感度や応答性等の性能向上のために感応素子にPtやPdを含有させた半導体ガスセンサに関し、PtやPdの触媒作用による著しい性能向上を達成し得る半導体ガスセンサを提供することにある。   The present invention has been made in view of the above points, and a first object of the present invention relates to a semiconductor gas sensor in which Pt or Pd is contained in a sensitive element for improving performance such as detection sensitivity and responsiveness. Another object of the present invention is to provide a semiconductor gas sensor that can achieve a significant performance improvement due to the catalytic action of Pd and Pd.

また本発明の第二の目的は、上記のようにPtやPdの触媒作用による著しい性能向上を達成し得る半導体ガスセンサとして、窒素酸化物、ハイドロカーボン或いは一酸化炭素に対する検知感度、応答性等の性能が向上され、特に自動車等の排気ガス検知用途に好適に用いることが可能な半導体ガスセンサを提供することにある。   A second object of the present invention is to detect the sensitivity and responsiveness to nitrogen oxides, hydrocarbons or carbon monoxide as a semiconductor gas sensor capable of achieving a significant performance improvement due to the catalytic action of Pt and Pd as described above. It is an object of the present invention to provide a semiconductor gas sensor which has improved performance and can be suitably used particularly for exhaust gas detection applications such as automobiles.

本発明者らは鋭意研究の結果、感応素子A内にPtやPdを分散して配置することにより感応素子A内部の全体に亘ってPtやPdによる触媒作用を発揮させることを可能とし、且つPtやPdによる金属酸化物半導体への悪影響を排除することが可能な感応素子Aの構成を見出し、本発明の完成に至ったものである。   As a result of earnest studies, the present inventors have made it possible to disperse Pt and Pd in the sensitive element A, thereby making it possible to exert a catalytic action by Pt and Pd throughout the sensitive element A, and The present invention has been completed by finding a structure of the sensitive element A capable of eliminating the adverse effect of Pt and Pd on the metal oxide semiconductor.

すなわち、本発明に係る半導体ガスセンサは、検知対象のガスに感応して電気抵抗値の変化を生じる感応素子Aとして、金属酸化物半導体を含有するものを備える半導体ガスセンサにおいて、前記感応素子Aの内部には、PtとPdのうちの少なくとも一方を担持している金属酸化物絶縁体が分散していることを特徴とするものである。   That is, the semiconductor gas sensor according to the present invention is a semiconductor gas sensor including a metal oxide semiconductor-containing one as a sensitive element A that produces a change in electric resistance value in response to a gas to be detected. In, the metal oxide insulator carrying at least one of Pt and Pd is dispersed.

このような半導体ガスセンサでは、感応素子A中にPt及びPdのうち少なくとも一方が分散して存在することから、感応素子A内部の全体に亘ってPtとPdのうちの少なくとも一方による触媒作用が発揮され、且つ前記PtやPdは金属酸化物絶縁体に担持された状態で存在するためにPtやPdと金属酸化物半導体とが感応素子A中で直接接触することが抑制されて、PtやPdによる金属酸化物半導体への悪影響を抑制してPtやPdの影響による感応素子Aの高抵抗化や感度の低下が生じるのを防ぐことができ、またこのような性能低下が経時的に発生することも防止して経時安定性に優れるものである。このため、PtやPdの触媒作用を利用して感応素子Aの検知感度や応答性等の性能向上を図るにあたって、著しい性能向上を達成することができるものである。   In such a semiconductor gas sensor, at least one of Pt and Pd is dispersedly present in the sensitive element A, so that the catalytic action of at least one of Pt and Pd is exerted over the entire inside of the sensitive element A. Moreover, since the Pt and Pd exist in a state of being supported by the metal oxide insulator, direct contact between Pt and Pd and the metal oxide semiconductor in the sensitive element A is suppressed, and Pt and Pd are suppressed. It is possible to suppress the adverse effect on the metal oxide semiconductor due to the influence of Pt and Pd, and to prevent the resistance of the sensitive element A from being increased and the sensitivity thereof to be lowered, and such performance deterioration occurs over time. It is also excellent in stability over time. Therefore, when the performance of the sensitive element A, such as the detection sensitivity and responsiveness, is improved by utilizing the catalytic action of Pt and Pd, a significant performance improvement can be achieved.

上記のような感応素子A中においては、上記金属酸化物半導体をSnO2、In23、WO3のうちの少なくとも一種とし、上記金属酸化物絶縁体をAl23、SiO2、高温焼成したSnO2のうちの少なくとも一種とすることができる。In the sensitive element A as described above, the metal oxide semiconductor is at least one of SnO 2 , In 2 O 3 , and WO 3 , and the metal oxide insulator is Al 2 O 3 , SiO 2 , and high temperature. It can be at least one of the calcined SnO 2 .

このような組成の感応素子Aにおいて、上記金属酸化物絶縁体がPtを担持するものであると、特に窒素酸化物(NOx)を検知する場合において、感応素子A中でPtはその触媒作用によりNOを酸化してNO2へと変換し、或いは更にN24へと変換して、金属酸化物半導体に吸着された際のこの金属酸化物半導体の電気抵抗値の変動幅が大きい物質へと変化させることができて、窒素酸化物の検知感度を向上することができるものであり、また検知時の応答性も向上することができるものである。In the sensitive element A having such a composition, if the metal oxide insulator carries Pt, Pt is due to its catalytic action in the sensitive element A particularly when detecting nitrogen oxide (NOx). Oxidize NO to convert it to NO 2 or further convert it to N 2 O 4 to a substance having a large fluctuation range of electric resistance value of the metal oxide semiconductor when adsorbed to the metal oxide semiconductor. It is possible to improve the detection sensitivity of nitrogen oxides, and it is also possible to improve the responsiveness at the time of detection.

また、上記感応素子Aにおいて、上記金属酸化物絶縁体がPdを担持するものであると、特にハイドロカーボンや一酸化炭素(CO)等を検知する場合において、ハイドロカーボンや一酸化炭素(CO)等の金属酸化物半導体への吸着性を向上してその検知感度を著しく向上することができるものであり、また検知時の応答性も改善することができるものである。   Further, in the sensitive element A, when the metal oxide insulator carries Pd, the hydrocarbon or carbon monoxide (CO) is detected particularly when detecting hydrocarbon or carbon monoxide (CO). It is possible to improve the adsorptivity of the metal oxide semiconductor to the metal oxide semiconductor to significantly improve the detection sensitivity thereof, and to improve the responsiveness at the time of detection.

また、金属酸化物半導体がSnO2であり、且つ上記金属酸化物絶縁体がPtを担持するものである場合において、感応素子Aにアルカリ土類金属及び希土類元素から選択される一種以上の金属を含有させると、窒素酸化物(NOx)の検知感度を更に向上することができる。When the metal oxide semiconductor is SnO 2 and the metal oxide insulator carries Pt, one or more metals selected from alkaline earth metals and rare earth elements are added to the sensitive element A. When contained, the detection sensitivity of nitrogen oxides (NOx) can be further improved.

また、金属酸化物半導体がSnO2を含む場合において、感応素子Aに硫黄を含有させると、窒素酸化物(NOx)やハイドロカーボン、一酸化炭素(CO)等の検知感度を更に向上することができ、またこのとき特に感応素子A中にアルカリ土類金属及び希土類元素から選択される一種以上の金属を添加していると、これらの金属の作用により向上した窒素酸化物(NOx)の検知感度を、更に向上することができる。Further, in the case where the metal oxide semiconductor contains SnO 2 , if the sensitive element A contains sulfur, the detection sensitivity of nitrogen oxide (NOx), hydrocarbon, carbon monoxide (CO) and the like can be further improved. In particular, if one or more metals selected from alkaline earth metals and rare earth elements are added to the sensitive element A at this time, the sensitivity of detection of nitrogen oxides (NOx) improved by the action of these metals. Can be further improved.

また、上記感応素子Aにおいて、特に上記金属酸化物半導体がIn23を含むものであり、上記金属酸化物絶縁体がAl23、SiO2のうちの少なくとも一種であり、前記金属酸化物半導体と、PtとPdのうちの少なくとも一方を担持させた前記金属酸化物絶縁体とを含む成形体に、アルミナゾル、シリカゾル及びメタタングステン酸アンモニウムから選択される一種以上のものを添加した後に焼成して感応素子Aを得るようにすることも好ましい。この場合、アルミナゾル、シリカゾル又はメタタングステン酸アンモニウムを添加することによって、窒素酸化物(NOx)、ハイドロカーボン等の検知感度を向上することができるものであり、特にアルミナゾル又はシリカゾルを添加した場合には検知時の応答性も向上することができるものである。In the sensitive element A, particularly, the metal oxide semiconductor contains In 2 O 3 , the metal oxide insulator is at least one of Al 2 O 3 and SiO 2 , and the metal oxide is To a molded body containing a semiconductor material and the metal oxide insulator carrying at least one of Pt and Pd, followed by firing after adding at least one selected from alumina sol, silica sol and ammonium metatungstate. It is also preferable to obtain the sensitive element A by doing so. In this case, by adding alumina sol, silica sol or ammonium metatungstate, it is possible to improve the detection sensitivity of nitrogen oxide (NOx), hydrocarbon, etc., especially when alumina sol or silica sol is added. The responsiveness at the time of detection can also be improved.

これらの場合は、半導体ガスセンサの窒素酸化物、ハイドロカーボン或いは一酸化炭素に対する検知感度、応答性等の性能を著しく改善することができ、特に自動車等の排気ガス検知用途に特に適している。   In these cases, the performance of the semiconductor gas sensor such as detection sensitivity and responsiveness to nitrogen oxides, hydrocarbons or carbon monoxide can be remarkably improved, and it is particularly suitable for exhaust gas detection applications such as automobiles.

本発明の実施の形態の一例を示す半導体ガスセンサの要部概略図である。It is a principal part schematic diagram of the semiconductor gas sensor which shows an example of embodiment of this invention. 同上の半導体ガスセンサの一部破断した正面図である。It is a partially broken front view of the above semiconductor gas sensor. 本発明の実施の形態の他例の要部を示し、(a)は一面側から視た斜視図、(b)は他面側から視た斜視図である。The principal part of the other example of embodiment of this invention is shown, (a) is the perspective view seen from one surface side, (b) is the perspective view seen from the other surface side. 同上の一部破断した半導体ガスセンサの斜視図である。It is a perspective view of the semiconductor gas sensor which the above same partially fractured. 実施例1の半導体ガスセンサの検知感度評価(a)及び応答性評価(b)を示すグラフである。3 is a graph showing a detection sensitivity evaluation (a) and a responsiveness evaluation (b) of the semiconductor gas sensor of Example 1. 実施例2の半導体ガスセンサの検知感度評価(a)及び応答性評価(b)を示すグラフである。5 is a graph showing detection sensitivity evaluation (a) and response evaluation (b) of the semiconductor gas sensor of Example 2. 実施例3の半導体ガスセンサの検知感度評価(a)及び応答性評価(b)を示すグラフである。9 is a graph showing detection sensitivity evaluation (a) and response evaluation (b) of the semiconductor gas sensor of Example 3. 実施例4の半導体ガスセンサの検知感度評価(a)及び応答性評価(b)を示すグラフである。9 is a graph showing detection sensitivity evaluation (a) and response evaluation (b) of the semiconductor gas sensor of Example 4. 実施例5の半導体ガスセンサの検知感度評価(a)及び応答性評価(b)を示すグラフである。9 is a graph showing detection sensitivity evaluation (a) and response evaluation (b) of the semiconductor gas sensor of Example 5. 実施例6の半導体ガスセンサの検知感度評価(a)及び応答性評価(b)を示すグラフである。9 is a graph showing detection sensitivity evaluation (a) and response evaluation (b) of the semiconductor gas sensor of Example 6. 実施例7の半導体ガスセンサの検知感度評価(a)及び応答性評価(b)を示すグラフである。9 is a graph showing detection sensitivity evaluation (a) and response evaluation (b) of the semiconductor gas sensor of Example 7. 実施例8の半導体ガスセンサの検知感度評価(a)及び応答性評価(b)を示すグラフである。9 is a graph showing detection sensitivity evaluation (a) and response evaluation (b) of the semiconductor gas sensor of Example 8. 実施例9の半導体ガスセンサの検知感度評価(a)及び応答性評価(b)を示すグラフである。9 is a graph showing detection sensitivity evaluation (a) and response evaluation (b) of the semiconductor gas sensor of Example 9. 実施例10の半導体ガスセンサの検知感度評価(a)及び応答性評価(b)を示すグラフである。13 is a graph showing a detection sensitivity evaluation (a) and a responsiveness evaluation (b) of the semiconductor gas sensor of Example 10. 実施例11の半導体ガスセンサの検知感度評価(a)及び応答性評価(b)を示すグラフである。13 is a graph showing detection sensitivity evaluation (a) and response evaluation (b) of the semiconductor gas sensor of Example 11. 実施例12の半導体ガスセンサの検知感度評価(a)及び応答性評価(b)を示すグラフである。13 is a graph showing a detection sensitivity evaluation (a) and a responsiveness evaluation (b) of the semiconductor gas sensor of Example 12. 実施例13の半導体ガスセンサの検知感度評価(a)及び応答性評価(b)を示すグラフである。16 is a graph showing detection sensitivity evaluation (a) and response evaluation (b) of the semiconductor gas sensor of Example 13. 実施例14の半導体ガスセンサの検知感度評価(a)及び応答性評価(b)を示すグラフである。16 is a graph showing a detection sensitivity evaluation (a) and a responsiveness evaluation (b) of the semiconductor gas sensor of Example 14. 実施例15の半導体ガスセンサの検知感度評価(a)及び応答性評価(b)を示すグラフである。16 is a graph showing detection sensitivity evaluation (a) and response evaluation (b) of the semiconductor gas sensor of Example 15. 実施例16の半導体ガスセンサの検知感度評価(a)及び応答性評価(b)を示すグラフである。16 is a graph showing the detection sensitivity evaluation (a) and the responsiveness evaluation (b) of the semiconductor gas sensor of Example 16. 実施例17の半導体ガスセンサの検知感度評価を示すグラフである。16 is a graph showing the evaluation of detection sensitivity of the semiconductor gas sensor of Example 17. 実施例18の半導体ガスセンサの検知感度評価(a)及び応答性評価(b)を示すグラフである。20 is a graph showing a detection sensitivity evaluation (a) and a responsiveness evaluation (b) of the semiconductor gas sensor of Example 18. 実施例19の半導体ガスセンサの検知感度評価を示すグラフである。20 is a graph showing evaluation of detection sensitivity of the semiconductor gas sensor of Example 19. 実施例20の半導体ガスセンサの検知感度評価を示すグラフである。21 is a graph showing evaluation of detection sensitivity of the semiconductor gas sensor of Example 20. 実施例21の半導体ガスセンサの検知感度評価を示すグラフである。20 is a graph showing the evaluation of detection sensitivity of the semiconductor gas sensor of Example 21. 比較例1の半導体ガスセンサの検知感度評価(a)及び応答性評価(b)を示すグラフである。5 is a graph showing a detection sensitivity evaluation (a) and a responsiveness evaluation (b) of the semiconductor gas sensor of Comparative Example 1. 比較例2の半導体ガスセンサの検知感度評価(a)及び応答性評価(b)を示すグラフである。9 is a graph showing a detection sensitivity evaluation (a) and a responsiveness evaluation (b) of the semiconductor gas sensor of Comparative Example 2. 比較例3の半導体ガスセンサの検知感度評価(a)及び応答性評価(b)を示すグラフである。9 is a graph showing a detection sensitivity evaluation (a) and a responsiveness evaluation (b) of the semiconductor gas sensor of Comparative Example 3. 比較例4の半導体ガスセンサの検知感度評価(a)及び応答性評価(b)を示すグラフである。9 is a graph showing a detection sensitivity evaluation (a) and a responsiveness evaluation (b) of the semiconductor gas sensor of Comparative Example 4. 比較例5の半導体ガスセンサの検知感度評価(a)及び応答性評価(b)を示すグラフである。9 is a graph showing detection sensitivity evaluation (a) and response evaluation (b) of the semiconductor gas sensor of Comparative Example 5. 比較例6の半導体ガスセンサの検知感度評価(a)及び応答性評価(b)を示すグラフである。9 is a graph showing detection sensitivity evaluation (a) and response evaluation (b) of the semiconductor gas sensor of Comparative Example 6.

符号の説明Explanation of symbols

A 感応素子   A sensitive element

以下、本発明をその実施をするための最良の形態に基づいて説明する。   Hereinafter, the present invention will be described based on the best mode for carrying out the invention.

本発明に係る半導体ガスセンサの感応素子Aは、金属酸化物半導体と、PtとPdのうちの少なくとも一方を担持している金属酸化物絶縁体とを含有する。   The sensitive element A of the semiconductor gas sensor according to the present invention contains a metal oxide semiconductor and a metal oxide insulator carrying at least one of Pt and Pd.

上記金属酸化物半導体は、検知対象のガスに感応して電気抵抗値の変化を生じるものであれば良く、検知対象のガスに応じて適宜選択される。   The metal oxide semiconductor may be any one as long as it changes the electric resistance value in response to the gas to be detected and is appropriately selected according to the gas to be detected.

また、上記PtやPdは、その触媒作用によって検知感度の向上や応答性の向上を達成することを目的に含有され、金属酸化物半導体の種類と検知対象のガスとの組み合わせ等に応じて適宜選択される。   Further, the Pt and Pd are contained for the purpose of achieving an improvement in detection sensitivity and an improvement in responsiveness due to the catalytic action thereof, and are appropriately selected depending on the combination of the type of metal oxide semiconductor and the gas to be detected. To be selected.

また、上記金属酸化物絶縁体も、ガス検知時における感応素子Aの電気抵抗値の変化に影響を与えないものが適宜選択される。   Further, as the metal oxide insulator, one that does not affect the change in the electric resistance value of the sensitive element A during gas detection is appropriately selected.

感応素子Aには、上記のような金属酸化物半導体と、PtとPdのうちの少なくとも一方を担持した金属酸化物絶縁体とが混合分散した状態で含有されている。このとき金属酸化物絶縁体は、感応素子A中でPt及びPdのうち少なくとも一方を担持することで、感応素子A中におけるPtやPdと金属酸化物半導体との間の接触を抑制する機能を果たすものであり、また、同時に感応素子Aの電気抵抗値や強度を調整する機能も果たし得る。   The sensitive element A contains the above metal oxide semiconductor and a metal oxide insulator carrying at least one of Pt and Pd in a mixed and dispersed state. At this time, the metal oxide insulator carries at least one of Pt and Pd in the sensitive element A, and thereby has a function of suppressing contact between Pt and Pd in the sensitive element A and the metal oxide semiconductor. It also fulfills the function of adjusting the electric resistance value and strength of the sensitive element A at the same time.

上記のような構成の感応素子Aは、例えばPt及びPdのうち少なくとも一方を担持させた金属酸化物絶縁体の粒子と、金属酸化物半導体の粒子とを含む材料を混合し、得られた混合物を成形・焼成する工程を経て作製することができる。   The sensitive element A having the above-described structure is a mixture obtained by mixing a material containing particles of a metal oxide insulator supporting at least one of Pt and Pd and particles of a metal oxide semiconductor, for example. Can be manufactured through a process of molding and firing.

このような感応素子Aを有する半導体ガスセンサでは、感応素子Aを検知対象のガスに曝露させた際の感応素子Aの電気抵抗値の変化に基づいて検知対象のガスの検知を行う場合、感応素子A中にPtやPdが分散して存在することから、感応素子A内部の全体に亘ってPtやPdによる触媒作用が発揮され、且つ前記PtやPdは金属酸化物絶縁体に担持された状態で存在するためにPtやPdと金属酸化物半導体とが感応素子A中で直接接触することが抑制されて、PtやPdによる金属酸化物半導体への悪影響を抑制することができる。このため、PtやPdの触媒作用を利用して感応素子Aの検知感度や応答性等の性能向上を図るにあたって著しい性能向上を達成すると共に、これらの特性の経時劣化を防止することができる。   In the semiconductor gas sensor having such a sensitive element A, when the sensitive gas is detected based on the change in the electric resistance value of the sensitive element A when the sensitive element A is exposed to the gas to be sensed, the sensitive element Since Pt and Pd are dispersed in A, the catalytic action of Pt and Pd is exerted over the entire inside of the sensitive element A, and the Pt and Pd are supported by the metal oxide insulator. The presence of Pt or Pd is prevented from directly contacting the metal oxide semiconductor in the sensitive element A, and the adverse effect of Pt or Pd on the metal oxide semiconductor can be suppressed. Therefore, it is possible to achieve remarkable performance improvement in improving the detection sensitivity and response of the sensitive element A by utilizing the catalytic action of Pt and Pd, and prevent deterioration of these characteristics with time.

半導体ガスセンサは、上記のような感応素子Aを具備し、この感応素子Aを検知対象のガスに曝露した際の電気抵抗値の変化を検出することができるものであれば、従来公知の適宜の構成を採用することができる。   The semiconductor gas sensor includes the sensitive element A as described above, and any conventionally known appropriate element can be used as long as it can detect a change in electric resistance value when the sensitive element A is exposed to the gas to be detected. A configuration can be adopted.

この半導体ガスセンサでは、白金(Pt)、白金合金(Pt合金)等から形成されるヒータ及び電極をセンサ基体とし、このセンサ基体を覆うように感応素子Aを設けることが好ましい。   In this semiconductor gas sensor, it is preferable that a heater and an electrode made of platinum (Pt), a platinum alloy (Pt alloy) or the like be used as a sensor base, and the sensitive element A be provided so as to cover the sensor base.

上記電極は、感応素子Aの電気抵抗測定用に設けられるものであり、感応素子Aを測定対象のガスを含む雰囲気中に配置した状態でこの電極間の電気抵抗値を測定し、この電気抵抗値に基づいてガス濃度を検出することができる。   The electrodes are provided for measuring the electric resistance of the sensitive element A. The electric resistance value between the electrodes is measured in a state where the sensitive element A is placed in an atmosphere containing a gas to be measured, and the electric resistance is measured. The gas concentration can be detected based on the value.

また、上記ヒータは、感応素子Aを一定の温度に保つために設けられる。すなわち、感応素子Aは組成に応じてガスを検知するための好適な温度(素子温度)があり、また素子温度が変動するとガス感度が変動して正確な濃度を検知することが困難になるため、ガス濃度の検出を行うにあたり、ヒータにて素子温度を好適温度に保つことで、ガス濃度の正確な検知が可能となる。   The heater is provided to keep the sensitive element A at a constant temperature. That is, the sensitive element A has a suitable temperature (element temperature) for detecting a gas depending on the composition, and when the element temperature changes, the gas sensitivity changes and it becomes difficult to detect an accurate concentration. In detecting the gas concentration, the element temperature is kept at a suitable temperature by the heater, so that the gas concentration can be accurately detected.

以下、半導体ガスセンサの具体的構造を例示する。   Hereinafter, a specific structure of the semiconductor gas sensor will be illustrated.

図1,2に示す半導体ガスセンサでは、コイル状のヒータ兼用電極25及び芯線状の電極20をセンサ基体として、このヒータ兼用電極25及び電極20を覆うように略球状(球体状、楕円球体状等)に感応素子Aが形成されている。図示の例ではヒータ兼用電極25は、そのコイル部分が感応素子A中に埋設されるように形成されると共に、電極20はヒータ兼用電極25のコイル部分の中心を貫通するように感応素子A中に埋設されており、これにより感応素子Aを小型化している。前記ヒータ兼用電極25は白金(Pt)、白金合金(Pt合金)等から形成され、且つ白金(Pt)、白金合金(Pt合金)等からなるリード線201,203間に設けられて、ヒータ兼用電極25、リード線201,203が一体に形成されている。また電極20は白金(Pt)、白金合金(Pt合金)等からなるリード線202により形成されている。In the semiconductor gas sensor shown in FIGS. 1 and 2, a coil-shaped heater/electrode 25 and a core wire-shaped electrode 20 are used as a sensor base, and a substantially spherical shape (spherical shape, ellipsoidal shape, etc.) is provided so as to cover the heater/electrode 25 and the electrode 20. ), the sensitive element A is formed. In the illustrated example, the heater/electrode 25 is formed so that its coil portion is embedded in the sensitive element A, and the electrode 20 is formed in the sensitive element A so as to penetrate the center of the coil portion of the heater/electrode 25. Embedded therein, the sensitive element A is miniaturized. The heater/electrode 25 is made of platinum (Pt), a platinum alloy (Pt alloy) or the like, and is provided between the lead wires 20 1 and 20 3 made of platinum (Pt), a platinum alloy (Pt alloy) or the like. The heater/electrode 25 and the lead wires 20 1 and 20 3 are integrally formed. The electrode 20 is formed by a lead wire 20 2 made of platinum (Pt), platinum alloy (Pt alloy), or the like.

そして、樹脂等から形成されるベース30に3本の端子101,102,103を貫通させて設け、この各端子101,102,103にリード線201,202,203を接続することにより感応素子Aが固定して支持される。このベース30の感応素子Aを支持固定した側に有底筒状のセンサ筐体40を被嵌して、半導体ガスセンサが構成されている。センサ筐体40の天上面にはガス導入用の開口41が設けられると共にこの開口41には必要に
応じてガス導入用のステンレス製等の金網41が張設される。
Then, three terminals 10 1 , 10 2 , 10 3 are provided so as to penetrate a base 30 formed of resin or the like, and lead wires 20 1 , 20 2 , 20 are connected to the terminals 10 1 , 10 2 , 10 3. By connecting 3 the sensitive element A is fixed and supported. A semiconductor gas sensor is constructed by fitting a bottomed cylindrical sensor housing 40 on the side of the base 30 on which the sensitive element A is supported and fixed. An opening 41 for introducing gas is provided on the top surface of the sensor housing 40, and a metal net 41 made of stainless steel or the like for introducing gas is stretched over the opening 41 as needed.

図3,4に示す半導体ガスセンサでは、アルミナ基板等の絶縁体基板1をセンサ基体(平板型基体)として用い、この絶縁体基板1の一面に膜状に感応素子Aを形成して、センシング部Bが構成されている。ここで絶縁体基板1の一面にはスルーホールにより他面の金等からなる電極4A′,4B′と接続された金等からなる電極4A、4Bを図3(a)に示すように設け、電極4A、4B間に亘るように感応素子Aが形成されている。またこの絶縁体基板1の他面側の各電極2A,2B,4A′,4B′にはリードワイヤ5を夫々接続してある。センシング部Aは、厚さ0.3mmで一辺の長さが2mmの正方形の絶縁体基板1の他面に図3(b)に示すように電極4A′,4B′及びヒータ用の電極2A,2Bを設け、電極2A,2B間には白金印刷膜等からなるヒータ25′を形成している。   In the semiconductor gas sensor shown in FIGS. 3 and 4, an insulating substrate 1 such as an alumina substrate is used as a sensor base (flat type base), and a sensitive element A is formed in a film shape on one surface of the insulating substrate 1 to form a sensing unit. B is configured. Here, electrodes 4A and 4B made of gold or the like connected to electrodes 4A' and 4B' made of gold or the like on the other surface by through holes are provided on one surface of the insulating substrate 1 as shown in FIG. A sensitive element A is formed so as to extend between the electrodes 4A and 4B. A lead wire 5 is connected to each of the electrodes 2A, 2B, 4A' and 4B' on the other side of the insulator substrate 1. The sensing part A has electrodes 4A', 4B' and a heater electrode 2A, on the other surface of the square insulator substrate 1 having a thickness of 0.3 mm and a side length of 2 mm, as shown in FIG. 3(b). 2B is provided, and a heater 25' made of a platinum printed film or the like is formed between the electrodes 2A and 2B.

そして、このセンシング部Bを、そのリードワイヤ5をベース30に貫通した端子10に接続して前記ベース30に搭載し、このベース30のセンシング部Bを搭載した側に有底筒状のセンサ筐体40を被嵌して、半導体ガスセンサが構成されている。センサ筐体40の天上面にはガス導入用の開口41が設けられると共にこの開口41には必要に応じてガス導入用のステンレス製等の金網41が張設される。   Then, the sensing part B is connected to the terminal 10 having the lead wire 5 penetrating the base 30 and mounted on the base 30, and the side of the base 30 on which the sensing part B is mounted has a cylindrical sensor housing with a bottom. A semiconductor gas sensor is formed by fitting the body 40. An opening 41 for introducing gas is provided on the top surface of the sensor housing 40, and a metal net 41 made of stainless steel or the like for introducing gas is stretched over the opening 41 as needed.

これらの半導体ガスセンサの構成は例示であり、その他適宜の構造の半導体ガスセンサを形成することができる。   The configurations of these semiconductor gas sensors are examples, and semiconductor gas sensors having other appropriate structures can be formed.

次に、感応素子Aの具体的な組成の例を説明する。以下に説明する感応素子Aの具体例は、特に自動車等からの排気ガス検知用途に好適なものであるが、他の用途に用いる場合には、必要に応じて適宜組成を変更することで、所望の検知対象のガスを検知するために好適な半導体ガスセンサを得ることができる。   Next, an example of a specific composition of the sensitive element A will be described. The specific example of the sensitive element A described below is particularly suitable for use in exhaust gas detection from automobiles and the like, but when used in other applications, by appropriately changing the composition as necessary, A semiconductor gas sensor suitable for detecting a desired gas to be detected can be obtained.

金属酸化物半導体としては、例えばSnO2、In23、WO3を用いることができ、これらは一種のみを用いるほか、二種以上を併用することもできる。As the metal oxide semiconductor, for example, SnO 2 , In 2 O 3 , and WO 3 can be used, and these can be used alone or in combination of two or more.

金属酸化物半導体としてSnO2を用いる場合は、このSnO2は、例えば、SnCl4の水溶液をNH4で加水分解してスズ酸ゾルを得て、これを乾燥した後に空気中で例えば550〜700℃で0.5〜3時間焼成することで調製することができる。また、金属酸化物半導体としてSnO2は他の手法で調製することもできるが、その場合、SnO2の結晶子サイズを20〜30nmの範囲とすることが好ましい。When SnO 2 is used as the metal oxide semiconductor, the SnO 2 is obtained by, for example, hydrolyzing an aqueous solution of SnCl 4 with NH 4 to obtain a stannic acid sol, which is dried, for example, in air to, for example, 550 to 700. It can be prepared by firing at 0.5° C. for 0.5 to 3 hours. In addition, SnO 2 as the metal oxide semiconductor can be prepared by another method, but in that case, it is preferable that the crystallite size of SnO 2 is in the range of 20 to 30 nm.

これらの金属酸化物半導体は、排気ガス検知用以外の用途にも適用することが可能であるが、窒素酸化物、ハイドロカーボン、一酸化炭素等を吸着した場合の電気抵抗値の変化が大きいため、排気ガス検知用途に使用した場合に高い検知感度を有する半導体ガスセンサを得ることができる。   These metal oxide semiconductors can be applied to applications other than exhaust gas detection, but the change in electric resistance is large when nitrogen oxides, hydrocarbons, carbon monoxide, etc. are adsorbed. A semiconductor gas sensor having high detection sensitivity when used for exhaust gas detection applications can be obtained.

また、金属酸化物絶縁体としては、例えばAl23、SiO2等を用いることができ、これらは一種のみを用いるほか、二種以上を併用することもできる。As the metal oxide insulator, for example, Al 2 O 3 , SiO 2 or the like can be used, and these can be used alone or in combination of two or more.

また、金属酸化物半導体として上記のようなSnO2を用いる場合に、金属酸化物絶縁体として高温焼成したSnO2を用いることもできる。ここで高温焼成したSnO2は、上記のような金属酸化物半導体として用いられるSnO2を800℃以上の高温、好ましくは900〜1100℃の範囲で0.5〜3時間焼成することで得ることができ、これは金属酸化物半導体であるSnO2よりも電気絶縁性が高くなっている。また、金属酸化物絶縁体としてのSnO2は他の手法で調製することもできるが、その場合、SnO2の結晶子サイズを50〜130nmの範囲とすることが好ましい。Further, when the metal oxide semiconductor using SnO 2 as described above, can also be used SnO 2 was fired at a high temperature as the metal oxide insulator. Here SnO 2 was fired at a high temperature, the metal oxide SnO 2 of 800 ° C. or more high temperature which is used as a semiconductor as described above, it preferably obtained by firing 0.5-3 hours in the range of 900 to 1100 ° C. Which has higher electrical insulation than SnO 2 which is a metal oxide semiconductor. Further, SnO 2 as the metal oxide insulator can be prepared by other methods, but in that case, it is preferable that the crystallite size of SnO 2 is in the range of 50 to 130 nm.

このような金属酸化物絶縁体の感応素子A中における含有量は適宜調整されるが、感応素子A中に充分な量のPtやPdを含有させるためには、感応素子A中における金属酸化物半導体の含有量(質量)を1とした場合に、金属酸化物絶縁体の含有量(質量)を0.2〜1.5の範囲とすることが好ましい。   The content of such a metal oxide insulator in the sensitive element A is appropriately adjusted, but in order to make the sensitive element A contain a sufficient amount of Pt or Pd, the metal oxide in the sensitive element A should be contained. When the content (mass) of the semiconductor is 1, it is preferable that the content (mass) of the metal oxide insulator is in the range of 0.2 to 1.5.

上記金属酸化物絶縁体にPtやPdを担持させる場合には、Pt、Pdのうち一種のみを担持させるほか、PtとPdとを共に担持させることができる。   When Pt or Pd is loaded on the metal oxide insulator, only one of Pt and Pd may be loaded, or Pt and Pd may be loaded together.

Ptを金属酸化物絶縁体に担持させる場合は、特に窒素酸化物(NOx)を検知する場合において、感応素子A中でPtはその触媒作用によりNOを酸化してNO2へと変換し、或いは更にN24へと変換し、このように変換されるごとに、金属酸化物半導体に吸着された際のこの金属酸化物半導体の電気抵抗値の変動幅が大きい物質へと変化して、検知感度が向上するものであり、また同時に窒素酸化物の検知時の応答性も向上する。このような検知性能の向上は、特に窒素酸化物の濃度が1ppm程度或いはそれ以下の低濃度領域において著しく発揮される。また、酸化性のガスである窒素酸化物のみを検出したい場合には、還元性のガスであるハイドロカーボンや一酸化炭素(CO)等は妨害ガスとして働くが、これらのガスはPtの触媒作用により分解・燃焼することで検知感度が低下し、これにより窒素酸化物が選択的に検知されることとなる。このため、Ptを金属酸化物絶縁体に担持させることにより検知感度と応答性に優れた窒素酸化物(NOx)検出用の半導体ガスセンサを得ることができる。このような半導体ガスセンサは、例えばディーゼルエンジン用の排気ガスセンサとして好適に用いられる。When Pt is supported on a metal oxide insulator, Pt in the sensing element A oxidizes NO by its catalytic action and converts it into NO 2 when detecting nitrogen oxides (NOx), or Further, it is converted into N 2 O 4 , and each time it is converted into N 2 O 4 , it changes into a substance having a large fluctuation range of the electric resistance value of the metal oxide semiconductor when adsorbed to the metal oxide semiconductor, The detection sensitivity is improved, and at the same time, the responsiveness when detecting nitrogen oxides is also improved. Such an improvement in the detection performance is remarkably exhibited especially in the low concentration region where the concentration of nitrogen oxide is about 1 ppm or less. Further, when it is desired to detect only nitrogen oxide which is an oxidizing gas, hydrocarbons such as reducing gas and carbon monoxide (CO) work as interfering gases, but these gases act as a catalytic action of Pt. As a result, the detection sensitivity decreases due to decomposition and combustion, and as a result, nitrogen oxides are selectively detected. Therefore, by supporting Pt on the metal oxide insulator, it is possible to obtain a semiconductor gas sensor for nitrogen oxide (NOx) detection which is excellent in detection sensitivity and responsiveness. Such a semiconductor gas sensor is preferably used as an exhaust gas sensor for a diesel engine, for example.

このようにしてPtを金属酸化物絶縁体に担持させるにあたり、その含有量が過少であると窒素酸化物の検知性能を充分に向上することができず、またこの含有量が過大であると、還元性のガスであるハイドロカーボンや一酸化炭素(CO)等の検知感度を更に抑制することができて窒素酸化物の選択検知性能は高まるが、窒素酸化物の検知感度も低下する傾向が生じる。このため、検知感度の向上と選択権知性とのバランスを考慮して、感応素子Aに所望の特性を付与できるように適宜金属酸化物絶縁体に担持させるPtの量を調整することが好ましい。好ましくは、金属酸化物絶縁体に担持されるPtの感応素子A中での含有量が、金属酸化物絶縁体の全量に対して0.05〜5質量%、更に好ましくは0.2〜1.5質量%の範囲とする。この範囲において半導体ガスセンサの著しい性能の向上が認められる。   In supporting Pt on the metal oxide insulator in this manner, if the content thereof is too small, the nitrogen oxide detection performance cannot be sufficiently improved, and if this content is too large, Although the detection sensitivity of reducing gases such as hydrocarbon and carbon monoxide (CO) can be further suppressed to improve the selective detection performance of nitrogen oxides, the detection sensitivity of nitrogen oxides tends to decrease. .. Therefore, it is preferable to appropriately adjust the amount of Pt supported on the metal oxide insulator so that the sensitive element A can be provided with desired characteristics in consideration of the balance between the improvement in detection sensitivity and the selectivity intelligence. The content of Pt supported on the metal oxide insulator in the sensitive element A is preferably 0.05 to 5 mass% with respect to the total amount of the metal oxide insulator, and more preferably 0.2 to 1%. The range is 0.5% by mass. In this range, a remarkable improvement in the performance of the semiconductor gas sensor is recognized.

また、Pdを金属酸化物絶縁体に担持させる場合には、Ptの場合と同様の機構による窒素酸化物検知性能の向上の作用も為し得るが、特にハイドロカーボンや一酸化炭素(CO)等を検知する場合において、詳しい機構は明らかではないが、ハイドロカーボンや一酸化炭素(CO)等の金属酸化物半導体への吸着性を向上してその検知感度を著しく向上することができるものであり、また同時にハイドロカーボンや一酸化炭素(CO)等の検知時の応答性も向上することができる。このため、Pdを金属酸化物絶縁体に担持させることにより検知感度と応答性に優れたハイドロカーボンや一酸化炭素(CO)等の検出用の半導体ガスセンサを得ることができる。このような半導体ガスセンサは、例えばガソリンエンジン用の排気ガスセンサとして好適に用いられる。   In addition, when Pd is supported on a metal oxide insulator, it can also serve to improve the nitrogen oxide detection performance by a mechanism similar to that of Pt, but in particular hydrocarbon, carbon monoxide (CO), etc. In the case of detecting, the detailed mechanism is not clear, but it is possible to improve the adsorptivity to hydrocarbons, carbon monoxide (CO), and other metal oxide semiconductors and significantly improve the detection sensitivity. At the same time, the responsiveness when detecting hydrocarbons, carbon monoxide (CO), etc. can be improved. Therefore, by supporting Pd on the metal oxide insulator, it is possible to obtain a semiconductor gas sensor for detecting hydrocarbons, carbon monoxide (CO), etc., which has excellent detection sensitivity and responsiveness. Such a semiconductor gas sensor is suitably used as an exhaust gas sensor for a gasoline engine, for example.

このようにしてPdを金属酸化物絶縁体に担持させるにあたり、その量は半導体ガスセンサに所望の性能を付与できるように適宜調整されるものであるが、好ましくは、金属酸化物絶縁体に担持されるPdの量を、金属酸化物絶縁体の全量に対して0.05〜5質量%、更に好ましくは0.2〜1.5質量%とする。この範囲において半導体ガスセンサの著しい性能の向上が認められる。   In supporting Pd on the metal oxide insulator in this manner, the amount of Pd is appropriately adjusted so as to impart desired performance to the semiconductor gas sensor, but preferably it is supported on the metal oxide insulator. The amount of Pd is 0.05 to 5% by mass, more preferably 0.2 to 1.5% by mass, based on the total amount of the metal oxide insulator. In this range, a remarkable improvement in the performance of the semiconductor gas sensor is recognized.

また、PtとPdとを併用してこられを共に金属酸化物絶縁体に担持させると場合には、Ptによる窒素酸化物(NOx)の検知感度の向上の作用と、Pdによるハイドロカーボンや一酸化炭素(CO)等の検知感度の向上の作用とが同時に発揮させることにより、窒素酸化物と、ハイドロカーボンや一酸化炭素(CO)等との、両方の検知が可能な半導体ガスセンサを得ることができる。   Further, when both Pt and Pd are used together and supported on a metal oxide insulator, the action of Pt for improving the detection sensitivity of nitrogen oxides (NOx) and the action of Pd for hydrocarbons and monoxides are achieved. A semiconductor gas sensor capable of detecting both nitrogen oxides, hydrocarbons, carbon monoxide (CO) and the like can be obtained by simultaneously exhibiting the action of improving the detection sensitivity of carbon (CO) and the like. it can.

このようにして感応素子AにPt及びPdを含有させて両用の半導体ガスセンサを得る場合には、感応素子Aに要求される特性に応じて適宜金属酸化物絶縁体に担持させるPtとPdの量を適宜調製するものであるが、例えば感応素子Aに含有される金属酸化物半導体がIn23又はWO3である場合には、好ましくは金属酸化物絶縁体に担持されるPtの量を、金属酸化物絶縁体の全量に対して0.05〜5質量%、更に好ましくは0.2〜1.5質量%の範囲、金属酸化物絶縁体に担持されるPdの量が、金属酸化物絶縁体の全量に対して0.05〜5質量%、更に好ましくは0.2〜1.5質量%の範囲とし、且つこのPtとPdの質量比を1:9〜9:1の範囲とすることが好ましい。In the case where the sensitive element A contains Pt and Pd in this way to obtain a dual-use semiconductor gas sensor, the amounts of Pt and Pd to be carried on the metal oxide insulator are appropriately set according to the characteristics required for the sensitive element A. When the metal oxide semiconductor contained in the sensitive element A is In 2 O 3 or WO 3 , for example, the amount of Pt supported on the metal oxide insulator is preferably adjusted. The amount of Pd supported on the metal oxide insulator is 0.05 to 5% by mass, more preferably 0.2 to 1.5% by mass, based on the total amount of the metal oxide insulator. In the range of 0.05 to 5% by mass, more preferably 0.2 to 1.5% by mass, and the mass ratio of Pt and Pd is in the range of 1:9 to 9:1. It is preferable that

このような感応素子Aは適宜の手法で作製できる。例えば、まず金属酸化物絶縁体の粒子と、Pt,Pdのうち少なくとも一方を含む溶液(例えば王水溶液)とを混合し、これを焼成することで、Pt,Pdのうち少なくとも一方を担持した金属酸化物絶縁体の粒子を得る。この焼成条件は適宜調整されるが、例えば空気雰囲気下で500〜700℃で0.5〜3時間とすることができる。次いで、この金属酸化物絶縁体の粒子に、金属酸化物半導体の粒子を混合し、これにテルピネオール等の有機溶剤を加えてペースト状の成形材料を調製する。そしてこの成形材料をセンサ基体に塗布した後、焼成することで、所望の感応素子Aを作製することができるものである。この焼成条件は適宜調整されるが、例えば空気雰囲気下で500〜700℃で1〜60分間とすることができる。   Such a sensitive element A can be manufactured by an appropriate method. For example, first, particles of a metal oxide insulator are mixed with a solution containing at least one of Pt and Pd (for example, aqua regia solution), and the mixture is fired to carry a metal carrying at least one of Pt and Pd. Obtain oxide insulator particles. Although the firing conditions are appropriately adjusted, for example, the firing conditions can be set to 500 to 700° C. and 0.5 to 3 hours under an air atmosphere. Next, the particles of the metal oxide semiconductor are mixed with the particles of the metal oxide insulator, and an organic solvent such as terpineol is added to the particles to prepare a pasty molding material. Then, the desired sensitive element A can be manufactured by applying this molding material to the sensor base and baking it. Although the firing conditions are appropriately adjusted, the firing conditions may be, for example, 500 to 700° C. for 1 to 60 minutes in an air atmosphere.

このように形成されてる感応素子Aにおいては、PtやPdは金属酸化物絶縁体にのみ担持させて、金属酸化物半導体には担持させないことが好ましいが、微量のPtやPdを金属酸化物絶縁体に担持させることは許容されるものであり、また、成形過程において微量のPtやPdが金属酸化物半導体に担持されるなどのように不可避的に微量のPtやPdが金属酸化物半導体に担持されることも許容される。但し、この場合、金属酸化物半導体へのPt及びPdの担持量の総量は、好ましくは金属酸化物半導体の全量の0.5質量%以下、更に好ましくは0.2質量%以下となるようにする。   In the sensitive element A thus formed, it is preferable that Pt and Pd be supported only on the metal oxide insulator and not on the metal oxide semiconductor. It is permissible to support it on the body, and inevitably a small amount of Pt or Pd is deposited on the metal oxide semiconductor, such as when a small amount of Pt or Pd is loaded on the metal oxide semiconductor during the molding process. It is also allowed to be carried. However, in this case, the total amount of Pt and Pd supported on the metal oxide semiconductor is preferably 0.5% by mass or less, more preferably 0.2% by mass or less of the total amount of the metal oxide semiconductor. To do.

上記感応素子Aには上記の成分のほかに、必要に応じて適宜の添加物を含有させるようにしても良い。   In addition to the above components, the sensitive element A may contain appropriate additives as necessary.

例えば、特に金属酸化物半導体がSnO2の場合において、感応素子A中に、Mg、Ca、Sr、Ba等のアルカリ土類金属と、Y、Sc、La、Pr、Nd、Sm、Er、Gd等の希土類元素とから選択される一種以上の金属を添加することができる。これらの金属は二価又は三価のイオン(酸化物)の状態で、感応素子A中に含有させることができる。For example, particularly when the metal oxide semiconductor is SnO 2 , in the sensitive element A, an alkaline earth metal such as Mg, Ca, Sr, and Ba and Y, Sc, La, Pr, Nd, Sm, Er, and Gd are contained. One or more metals selected from rare earth elements such as These metals can be contained in the sensitive element A in the form of divalent or trivalent ions (oxides).

このような金属を感応素子Aに添加すると、各種のガスの検知感度の向上をはかることができ、特に窒素酸化物(NOx)の検知感度を向上することができる。このとき、窒素酸化物(NOx)の検知感度について、濃度1ppm以下の低濃度の場合についての検知感度が著しく向上する。   When such a metal is added to the sensitive element A, the detection sensitivity of various gases can be improved, and particularly the detection sensitivity of nitrogen oxide (NOx) can be improved. At this time, regarding the detection sensitivity of nitrogen oxides (NOx), the detection sensitivity in the case of a low concentration of 1 ppm or less is remarkably improved.

Ptを金属酸化物絶縁体に担持させている場合は、上記のようにPtにより窒素酸化物(NOx)の検知感度と応答性とを向上し、これに上記のような金属を感応素子Aに添加して更に窒素酸化物(NOx)の検知感度、特に低濃度の検知感度を向上することで、非常に優れた検知性能を有する窒素酸化物検知用の半導体ガスセンサを得ることができる。   When Pt is supported on the metal oxide insulator, Pt improves the detection sensitivity and response of nitrogen oxide (NOx) as described above, and the metal as described above is added to the sensitive element A. By further adding nitrogen oxide (NOx) to improve the detection sensitivity of nitrogen oxide (NOx), particularly at low concentration, a semiconductor gas sensor for nitrogen oxide detection having extremely excellent detection performance can be obtained.

このように感応素子Aにアルカリ土類金属と希土類元素から選択される一種以上の金属を添加する場合、その添加量は、感応素子Aに所望の特性を付与できるように適宜調整されるものであるが、添加量が過少であるとガスの検知感度を充分に向上することができず、また添加量が過剰であると感応素子Aの電気抵抗値の増大を招いたりガスの検知感度が却って低下したりする場合がある。そこで、例えば前記金属としてMg、Ca、Sr、Ba等のアルカリ土類金属を添加する場合には、金属酸化物半導体と金属酸化物絶縁体の合計量に対して3×10-6〜1×10-4mol/gの範囲で含有させることが好ましく、また希土類のうちY、Scのうち少なくとも一方を添加する場合には、金属酸化物半導体と金属酸化物絶縁体の合計量に対する割合が4×10-6〜1.5×10-4mol/gの範囲となるように含有させることが好ましい。またLa、Pr、Nd、Sm、Er、Gd等を含有させる場合には金属酸化物半導体と金属酸化物絶縁体の合計量に対する割合が4×10-6〜1.5×10-4mol/gの範囲となるように含有させることが好ましい。これらの範囲において半導体ガスセンサの著しい性能の向上が認められる。また、YとLaを併用する場合などのように、Y、Scのうち少なくとも一方と、ランタノイドとを併用する場合は、Y、Scのうち少なくとも一方からなる成分と、ランタノイドからなる成分とをそれぞれ2×10-6〜7×10-5mol/gの範囲で含有させると共に、前者の成分と後者の成分との割合を1:2〜2:1の範囲とすることが好ましい。In this way, when one or more metals selected from alkaline earth metals and rare earth elements are added to the sensitive element A, the amount of addition is appropriately adjusted so as to impart desired characteristics to the sensitive element A. However, if the added amount is too small, the gas detection sensitivity cannot be sufficiently improved, and if the added amount is too large, the electric resistance value of the sensitive element A is increased or the gas detection sensitivity is rather deteriorated. It may decrease. Therefore, for example, when an alkaline earth metal such as Mg, Ca, Sr, or Ba is added as the metal, 3×10 −6 to 1× with respect to the total amount of the metal oxide semiconductor and the metal oxide insulator. The content is preferably in the range of 10 −4 mol/g, and when at least one of Y and Sc in the rare earth is added, the ratio to the total amount of the metal oxide semiconductor and the metal oxide insulator is 4 It is preferably contained in the range of ×10 -6 to 1.5 ×10 -4 mol/g. When La, Pr, Nd, Sm, Er, Gd, etc. are contained, the ratio to the total amount of the metal oxide semiconductor and the metal oxide insulator is 4×10 −6 to 1.5×10 −4 mol/. It is preferable to contain it so as to be in the range of g. In these ranges, a remarkable improvement in the performance of the semiconductor gas sensor is recognized. Further, when at least one of Y and Sc is used together with a lanthanoid, such as when Y and La are used together, a component composed of at least one of Y and Sc and a component composed of lanthanoid are respectively It is preferable that the content of the former component and the latter component is within the range of 1:2 to 2:1 while the content of 2×10 −6 to 7×10 −5 mol/g.

上記金属を感応素子Aに添加するにあたっては、適宜の手法を用いることができる。例えば既述の手法によって金属酸化物半導体の粒子と、Pt,Pdのうち少なくとも一方を担持させた金属酸化物絶縁体の粒子とを混合し、成形・焼成して得られた成形体に対して、上記金属を含む溶液(例えば上記金属を溶解させた硝酸溶液等)を塗布含浸し、これを焼成することで、上記金属を感応素子Aに添加することができる。このときの焼成条件は適宜調整されるが、例えば空気雰囲気下で500〜700℃で1〜60分間焼成することができる。   When adding the metal to the sensitive element A, an appropriate method can be used. For example, with respect to a molded body obtained by mixing the particles of the metal oxide semiconductor and the particles of the metal oxide insulator carrying at least one of Pt and Pd by the method described above and molding and firing. The metal can be added to the sensitive element A by coating and impregnating a solution containing the above metal (for example, a nitric acid solution in which the above metal is dissolved) and baking it. Although the firing conditions at this time are appropriately adjusted, for example, firing can be performed at 500 to 700° C. for 1 to 60 minutes in an air atmosphere.

また、金属酸化物半導体がSnO2である場合において、感応素子A中に硫黄(S)を添加しても良い。硫黄(S)は感応素子A中に例えば硫酸イオンの状態で含有させることができる。Further, when the metal oxide semiconductor is SnO 2 , sulfur (S) may be added to the sensitive element A. Sulfur (S) can be contained in the sensitive element A, for example, in the state of sulfate ion.

このように硫黄を感応素子Aに添加すると、ハイドロカーボンや一酸化炭素(CO)の検知感度を向上することができる。また、Pdを金属酸化物絶縁体に担持させてハイドロカーボンや一酸化炭素(CO)の検知用として形成された半導体ガスセンサ、或いはPtとPdを共に金属酸化物絶縁体に担持させて両用のガスセンサとして形成された半導体ガスセンサにおいて、感応素子Aに硫黄を添加することで、ハイドロカーボンや一酸化炭素(CO)の検知時における検知感度を更に向上することができる。   By adding sulfur to the sensitive element A as described above, the detection sensitivity of hydrocarbons and carbon monoxide (CO) can be improved. Further, a semiconductor gas sensor formed by supporting Pd on a metal oxide insulator to detect hydrocarbons or carbon monoxide (CO), or a gas sensor for both of Pt and Pd supported on a metal oxide insulator. In the semiconductor gas sensor formed as described above, by adding sulfur to the sensitive element A, it is possible to further improve the detection sensitivity when detecting hydrocarbons or carbon monoxide (CO).

また、このように硫黄を添加する場合には、窒素酸化物(NOx)の検知感度も向上することができ、特に感応素子Aにアルカリ土類金属や希土類元素を添加する場合において、更に感応素子Aに硫黄を添加するようにすると、前記金属のみが添加される場合よりも窒素酸化物(NOx)の検知感度を更に向上することができる。このため、Ptを金属酸化物絶縁体に担持させた半導体ガスセンサにおいて、感応素子Aにアルカリ土類金属及び希土類元素から選択される一種以上の金属を添加すると共に、更に硫黄を添加すると、窒素酸化物(NOx)の検知感度を更に向上すると共に、ハイドロカーボンや一酸化炭素(CO)の検知感度も向上することができ、これにより優れた検知特性を有する両用の半導体ガスセンサを得ることができる。   Further, when sulfur is added as described above, the detection sensitivity of nitrogen oxide (NOx) can be improved, and particularly when an alkaline earth metal or a rare earth element is added to the sensitive element A, the sensitive element is further improved. When sulfur is added to A, the detection sensitivity of nitrogen oxide (NOx) can be further improved as compared with the case where only the metal is added. Therefore, in a semiconductor gas sensor in which Pt is supported on a metal oxide insulator, if one or more metals selected from alkaline earth metals and rare earth elements are added to the sensitive element A, and further sulfur is added, nitrogen oxidation will occur. It is possible to further improve the detection sensitivity of substances (NOx) and also the detection sensitivity of hydrocarbons and carbon monoxide (CO), whereby a dual-use semiconductor gas sensor having excellent detection characteristics can be obtained.

このように感応素子Aに硫黄を添加する場合、添加量が過少であるとガスの検知感度を充分に向上することができず、また添加量が増大すると特に両用の半導体ガスセンサの場合には窒素酸化物の検知感度に比してハイドロカーボンの検知感度が大きくなったり、窒素酸化物の検知時の応答性が低下する場合があるため、硫黄の添加量は、感応素子Aに所望の特性を付与できるように適宜調整される。例えば、金属酸化物半導体と金属酸化物絶縁体との合計量に対して、硫黄原子換算で2×10-6〜1×10-4mol/gの範囲で含有させることが好ましい。As described above, when sulfur is added to the sensitive element A, if the amount of addition is too small, the gas detection sensitivity cannot be sufficiently improved, and if the amount of addition is increased, especially in the case of a dual-purpose semiconductor gas sensor, nitrogen is added. Since the detection sensitivity of hydrocarbons may be higher than the detection sensitivity of oxides, or the responsiveness at the time of detection of nitrogen oxides may be reduced, the amount of sulfur added depends on the desired characteristics of the sensitive element A. It is adjusted appropriately so that it can be given. For example, it is preferably contained in the range of 2×10 −6 to 1×10 −4 mol/g in terms of sulfur atom based on the total amount of the metal oxide semiconductor and the metal oxide insulator.

上記硫黄を感応素子Aに添加するにあたっては、適宜の手法を用いることができる。例えば既述の手法によって金属酸化物半導体の粒子と、Pt及びPdのうち少なくとも一方を担持させた金属酸化物絶縁体の粒子とを混合し、成形・焼成して得られた成形体に対して、硫黄を含む溶液(例えば硫酸水溶液等)を塗布含浸し、これを焼成することで、硫黄を感応素子Aに添加することができる。このときの焼成条件は適宜調整されるが、例えば空気雰囲気下で500〜700℃で1〜60分間焼成することができる。   When adding the sulfur to the sensitive element A, an appropriate method can be used. For example, with respect to a molded body obtained by mixing the particles of the metal oxide semiconductor with the particles of the metal oxide insulator supporting at least one of Pt and Pd by the above-described method, molding and firing the mixture. By applying and impregnating a solution containing sulfur (such as an aqueous solution of sulfuric acid) and firing the solution, sulfur can be added to the sensitive element A. Although the firing conditions at this time are appropriately adjusted, for example, firing can be performed at 500 to 700° C. for 1 to 60 minutes in an air atmosphere.

また、感応素子Aにアルカリ土類金属及び希土類元素から選択される一種以上の金属と硫黄を添加する場合には、例えば既述の手法によって金属酸化物半導体の粒子と、Pt及びPdのうち少なくとも一方を担持させた金属酸化物絶縁体の粒子とを混合し、成形・焼成して得られた成形体に対して、前記金属を含む溶液(例えば前記金属を溶解させた硝酸溶液等)を塗布含浸し、これを焼成することで、前記金属を感応素子Aに添加する。次いで、更にこの成形体に上記硫黄を含む溶液(例えば硫酸水溶液等)を塗布含浸し、これを焼成することで、硫黄を感応素子Aに添加することができる。   When one or more metals selected from alkaline earth metals and rare earth elements and sulfur are added to the sensitive element A, for example, at least the particles of the metal oxide semiconductor and Pt and Pd are prepared by the method described above. A solution containing the metal (for example, a nitric acid solution in which the metal is dissolved) is applied to the molded body obtained by mixing the particles of the metal oxide insulator supporting one of them, molding and firing. The metal is added to the sensitive element A by impregnation and firing. Then, the molded body is further coated and impregnated with the above-mentioned solution containing sulfur (for example, an aqueous solution of sulfuric acid), and is baked to add sulfur to the sensitive element A.

また、アルカリ土類金属及び希土類元素から選択される一種以上の金属と硫黄を添加する場合には、前記金属及び硫黄を一つの溶液中に混合した混合溶液を調製し、例えば既述の手法によって金属酸化物半導体の粒子と、Pt及びPdのうち少なくとも一方を担持させた金属酸化物絶縁体の粒子とを混合し、成形・焼成して得られた成形体に対して、前記金属と硫黄を含む混合溶液を塗布含浸し、これを焼成することで、前記金属及び硫黄を感応素子Aに添加しても良い。   Further, in the case of adding one or more metals selected from alkaline earth metals and rare earth elements and sulfur, prepare a mixed solution in which the metals and sulfur are mixed in one solution, and for example, by the method described above. Metal oxide semiconductor particles and particles of a metal oxide insulator carrying at least one of Pt and Pd are mixed, and the molded body obtained by molding and firing is mixed with the metal and sulfur. The metal and sulfur may be added to the sensitive element A by coating and impregnating a mixed solution containing the same and firing it.

また、特に上記金属酸化物半導体がIn23であり、上記金属酸化物絶縁体がAl23、SiO2のうちの少なくとも一種である場合には、感応素子Aを作製するにあたって、まず前記のような金属酸化物半導体と、Pt、Pdのうち少なくとも一方を担持させた金属酸化物絶縁体とを含む成形体を作製し、この成形体に対して、アルミナゾル(コロイダルアルミナ)、シリカゾル(コロイダルシリカ)及びメタタングステン酸アンモニウムのうちの少なくとも一種を添加した後に焼成する工程を経るようにして、感応素子Aを作製することができる。例えば、既述の手法によって金属酸化物半導体の粒子と、Pt及びPdのうち少なくとも一方を担持させた金属酸化物絶縁体の粒子とを混合し、成形・焼成して得られる成形体に対して、アルミナゾル、シリカゾル、メタタングステン酸アンモニウムのうち少なくとも一種を塗布含浸し、これを焼成することで、前記成分を感応素子Aに添加することができる。このときの焼成条件は適宜調整されるが、例えば空気雰囲気下で650℃で10分間焼成することができる。Further, when the metal oxide semiconductor is In 2 O 3 and the metal oxide insulator is at least one of Al 2 O 3 and SiO 2 , in particular, when manufacturing the sensitive element A, A molded body containing the above metal oxide semiconductor and a metal oxide insulator supporting at least one of Pt and Pd is prepared, and alumina sol (colloidal alumina) and silica sol ( The sensitive element A can be manufactured by performing a step of firing after adding at least one of colloidal silica) and ammonium metatungstate. For example, with respect to a molded body obtained by mixing the particles of the metal oxide semiconductor with the particles of the metal oxide insulator carrying at least one of Pt and Pd by the above-described method, and molding and firing the mixture. At least one of alumina sol, silica sol, and ammonium metatungstate is applied and impregnated, and then baked to add the above components to the sensitive element A. The firing conditions at this time are appropriately adjusted, but for example, firing can be performed at 650° C. for 10 minutes in an air atmosphere.

このとき、上記の添加物のうち、アルミナゾル及びシリカゾルは、感応素子Aに添加することにより、半導体ガスセンサによる窒素酸化物(NOx)やハイドロカーボンの検知時にその検知感度を更に向上することができ、且つ検知時の応答性も向上することができる。また、メタタングステン酸アンモニウムを感応素子Aに添加すると、半導体ガスセンサによる窒素酸化物(NOx)の検知時の検知感度を更に向上することができる。   At this time, among the above additives, alumina sol and silica sol can be further added to the sensitive element A to further improve the detection sensitivity when detecting nitrogen oxides (NOx) and hydrocarbons by the semiconductor gas sensor, In addition, the responsiveness at the time of detection can be improved. Further, when ammonium metatungstate is added to the sensitive element A, the detection sensitivity when detecting nitrogen oxides (NOx) by the semiconductor gas sensor can be further improved.

窒素酸化物(NOx)検出用の半導体ガスセンサを得る場合には、金属酸化物絶縁体としてAl23、SiO2のうちの少なくとも一種を用い、Ptを金属酸化物絶縁体に担持
させ、更に添加物としてアルミナゾル、シリカゾル及びメタタングステン酸アンモニウムのうちの少なくとも一種を用いるようにすると、添加物の作用によって窒素酸化物(NOx)の検知感度を更に向上することができ、特にアルミナゾル、シリカゾルのうち少なくとも一方を添加している場合には更に応答性も向上することができる。
When obtaining a semiconductor gas sensor for detecting nitrogen oxides (NOx), at least one of Al 2 O 3 and SiO 2 is used as a metal oxide insulator, Pt is supported on the metal oxide insulator, and If at least one of alumina sol, silica sol and ammonium metatungstate is used as an additive, the sensitivity of detecting nitrogen oxides (NOx) can be further improved by the action of the additive, and particularly, among alumina sol and silica sol. When at least one of them is added, the responsiveness can be further improved.

また、ハイドロカーボンや一酸化炭素の検知用の半導体ガスセンサを得る場合には、金属酸化物絶縁体としてAl23、SiO2のうちの少なくとも一種を用い、Pdを金属酸化物絶縁体に担持させ、更に添加物としてアルミナゾル、シリカゾルのうちの少なくとも一方を用いるようにすると、添加物の作用によってハイドロカーボンの検知感度を更に向上することができる。When obtaining a semiconductor gas sensor for detecting hydrocarbons or carbon monoxide, at least one of Al 2 O 3 and SiO 2 is used as the metal oxide insulator, and Pd is loaded on the metal oxide insulator. When at least one of alumina sol and silica sol is used as the additive, the sensitivity of hydrocarbon detection can be further improved by the action of the additive.

更に、両用の半導体ガスセンサを得る場合には、金属酸化物絶縁体としてAl23、SiO2のうちの少なくとも一種を用い、PtとPdを共に金属酸化物絶縁体に担持させ、更に添加物としてアルミナゾル、シリカゾル及びメタタングステン酸アンモニウムのうちの少なくとも一種を用いるようにすると、添加物の作用によって窒素酸化物(NOx)の検知感度を更に向上することができ、特にアルミナゾル、シリカゾルのうち少なくとも一方を添加している場合には更にハイドロカーボンの検知感度を向上すると共に、応答性を向上することができる。Further, in the case of obtaining a dual-purpose semiconductor gas sensor, at least one of Al 2 O 3 and SiO 2 is used as a metal oxide insulator, Pt and Pd are both supported on the metal oxide insulator, and an additive is added. If at least one of alumina sol, silica sol, and ammonium metatungstate is used as the material, the sensitivity of nitrogen oxide (NOx) detection can be further improved by the action of the additive. When is added, the sensitivity of detecting hydrocarbon can be further improved and the responsiveness can be improved.

感応素子Aにアルミナゾル、シリカゾル又はメタタングステン酸アンモニウムを添加する場合の添加量は、感応素子Aに所望の特性が付与されるように適宜調整されるものであるが、例えば金属酸化物半導体と、Pt、Pdのうち少なくとも一方を担持させた金属酸化物絶縁体とを含む成形体に対して前記成分を添加するにあたっては、アルミナゾルを添加する場合には金属酸化物半導体(In23)の全量に対してアルミナゾルをAl換算で好ましくは0.1〜50質量%、更に好ましくは0.5〜5質量%の範囲で添加する。また、シリカゾルを添加する場合には金属酸化物半導体(In23)の全量に対してシリカゾルをSiO2換算で好ましくは0.1〜50質量%、更に好ましくは0.5〜5質量%の範囲で添加する。またメタタングステン酸アンモニウムを添加する場合には金属酸化物半導体(In23)全量に対してメタタングステン酸アンモニウムをWO3換算で0.1〜5質量%の範囲で添加することが好ましい。The amount of alumina sol, silica sol, or ammonium metatungstate to be added to the sensitive element A is appropriately adjusted so as to give desired characteristics to the sensitive element A. For example, a metal oxide semiconductor, When adding the above-mentioned components to a molded body containing a metal oxide insulator supporting at least one of Pt and Pd, when an alumina sol is added, a metal oxide semiconductor (In 2 O 3 ) Alumina sol is added in an amount of preferably 0.1 to 50 mass% and more preferably 0.5 to 5 mass% in terms of Al 2 O 3 based on the total amount. When silica sol is added, the silica sol is preferably 0.1 to 50% by mass, more preferably 0.5 to 5% by mass in terms of SiO 2 with respect to the total amount of the metal oxide semiconductor (In 2 O 3 ). Add in the range of. When ammonium metatungstate is added, it is preferable to add ammonium metatungstate in the range of 0.1 to 5 mass% in terms of WO 3 with respect to the total amount of the metal oxide semiconductor (In 2 O 3 ).

以下、本発明を実施例に基づいて具体的に説明する。尚、これらは例示であり、本発明を限定するものではない。   Hereinafter, the present invention will be specifically described based on Examples. It should be noted that these are merely examples and do not limit the present invention.

(実施例1〜21、比較例1〜6)
各実施例及び比較例について、表1〜3に示す金属酸化物半導体の粒子と、金属酸化物絶縁体の粒子とを表中に示す割合で混合し、テルピネオールを加えてペースト状の成形材料を調製した。
(Examples 1 to 21, Comparative Examples 1 to 6)
For each example and comparative example, the particles of the metal oxide semiconductor shown in Tables 1 to 3 and the particles of the metal oxide insulator were mixed at a ratio shown in the table, and terpineol was added to form a paste-like molding material. Prepared.

このとき、金属酸化物半導体としてSnO2を用いる場合には、まず、SnCl4の水溶液をNH4で加水分解してスズ酸ゾルを得て、このスズ酸ゾルを乾燥後に空気中で600℃で1時間焼成し、これにより金属酸化物半導体であるSnO2を得るようにし、このSnO2を粉砕したものを用いた。At this time, in the case of using SnO 2 as the metal oxide semiconductor, first, to obtain a stannic acid sol by hydrolysis with NH 4 an aqueous solution of SnCl 4, at 600 ° C. in air this stannate sol after drying It was calcined for 1 hour to obtain SnO 2 which is a metal oxide semiconductor, and this SnO 2 was crushed and used.

また、金属酸化物絶縁体として高温焼成SnO2を用いる場合には、上記のようにして得られた金属酸化物半導体であるSnO2を、空気雰囲気中で1000℃で1時間焼成したものを用いた。When using high-temperature-baked SnO 2 as the metal oxide insulator, SnO 2 which is the metal oxide semiconductor obtained as described above is baked in an air atmosphere at 1000° C. for 1 hour. I was there.

また、Pt、Pdの少なくとも一方が担持された金属酸化物半導体の粒子及び金属酸化物絶縁体の粒子を用いる場合には、これらの粒子に、Pt、Pdの少なくとも一方を溶解させた王水溶液を含浸させ、500℃で空気中において1時間焼成して、Pt、Pdの少なくとも一方を、下記表に示す担持量で担持させた。   When using particles of a metal oxide semiconductor carrying at least one of Pt and Pd and particles of a metal oxide insulator, an aqua regia solution obtained by dissolving at least one of Pt and Pd in these particles is used. It was impregnated and calcined in air at 500° C. for 1 hour to support at least one of Pt and Pd in the supported amount shown in the following table.

上記のようにして得られたペースト状の成形材料を、図1に示すようなセンサ基体に塗布した後、空気雰囲気下で600℃で10分間焼成することで、短軸長0.3mm、長軸長0.5mmの寸法を有する略楕円球状の成形体を得た。   The paste-like molding material obtained as described above is applied to a sensor substrate as shown in FIG. 1 and then baked at 600° C. for 10 minutes in an air atmosphere to give a minor axis length of 0.3 mm and a long axis length of 0.3 mm. A substantially elliptic spherical shaped body having an axial length of 0.5 mm was obtained.

次に、表中の添加物1の欄に添加物が明示されているものについては、この添加物を上記成形体に塗布し、空気雰囲気下で650℃で10分間焼成した。このときの各添加物の含有量を、表中に示す。   Next, in the case where the additive is clearly shown in the column of additive 1 in the table, this additive was applied to the above-mentioned molded body and baked at 650° C. for 10 minutes in the air atmosphere. The content of each additive at this time is shown in the table.

ここで、添加物1がLa及びYである場合には、このLa及びYはそれぞれの硝酸塩を水溶液にした状態で上記成形体に塗布した。また添加物1がシリカゾル又はアルミナゾルの場合には、このシリカゾル又はアルミナゾルを上記成形体に塗布したものであり、また表中における配合量は、シリカゾルの場合はSiO2換算、アルミナゾルの場合はAl23換算のものである。Here, when the additive 1 was La and Y, the La and Y were applied to the above-mentioned molded body in a state where each nitrate was made into an aqueous solution. When the additive 1 is silica sol or alumina sol, this silica sol or alumina sol is applied to the above-mentioned molded body, and the compounding amount in the table is calculated as SiO 2 in the case of silica sol and Al 2 in the case of alumina sol. It is converted to O 3 .

次に、表中の添加物2の欄に添加物が明示されているものについては、この添加物2を、上記添加物1の添加後の成形体に塗布し、空気雰囲気下で650℃で10分間焼成した。このとき、感応素子A中の各添加物2の含有量は、表中に示すものとなるように調整した。   Next, in the case where the additive is clearly indicated in the column of additive 2 in the table, this additive 2 is applied to the molded body after the addition of the additive 1, and the mixture is heated at 650° C. in an air atmosphere. It was baked for 10 minutes. At this time, the content of each additive 2 in the sensitive element A was adjusted to be as shown in the table.

ここで、添加物2が硫黄(S)である場合には、このSは硫酸水溶液の状態で上記成形体に塗布したものであり、また表中における配合量は硫黄原子に換算したものである。   Here, when the additive 2 is sulfur (S), this S is applied to the above-mentioned molded body in the state of sulfuric acid aqueous solution, and the compounding amount in the table is converted into sulfur atom. .

また、添加物2がメタタングステン酸アンモニウムの場合にはメタタングステン酸アンモニウムの水溶液を上記成形体に塗布したものであり、また表中における配合量はWO3換算のものである。When the additive 2 is ammonium metatungstate, an aqueous solution of ammonium metatungstate is applied to the above-mentioned molded body, and the compounding amount in the table is in terms of WO 3 .

以上のようにして感応素子Aを形成し、これを用いて図2に示す構成の半導体ガスセンサを作製した。   The sensitive element A was formed as described above, and the semiconductor gas sensor having the structure shown in FIG. 2 was produced using this.

Figure 2006011202
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Figure 2006011202
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Figure 2006011202
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(検知感度評価)
各半導体ガスセンサについて、実施例1〜7,19〜21及び比較例1〜3については素子温度250℃、実施例8〜10の場合は素子温度200℃、実施例11〜17及び比較例4〜6の場合は350℃、実施例18の場合は350℃での検知感度を調査した。ここで検知感度は、感応素子Aを清浄空気中に曝露した状態での感応素子Aの電気抵抗値(Rair)と、試料ガスに曝露した状態での感応素子Aの電気抵抗値(Rs)との比(Rs/Rair)で表した。
(Detection sensitivity evaluation)
For each semiconductor gas sensor, the element temperature is 250° C. for Examples 1 to 7, 19 to 21 and Comparative Examples 1 to 3, and the element temperature is 200° C. for Examples 8 to 10, Examples 11 to 17 and Comparative Examples 4 to. In the case of 6, the detection sensitivity at 350° C. and in the case of Example 18 were examined at 350° C. Here, the detection sensitivity is the electrical resistance value (Rair) of the sensitive element A when the sensitive element A is exposed to clean air and the electrical resistance value (Rs) of the sensitive element A when exposed to the sample gas. It was represented by the ratio (Rs/Rair).

試料ガスとしては、次のものを用いた。
・試料ガス1:清浄空気に二酸化窒素を混入すると共にこの二酸化窒素濃度を変動させたもの。
・試料ガス2:清浄空気に二酸化窒素と一酸化炭素を混入すると共に一酸化炭素濃度を30ppmに固定し、二酸化窒素濃度を変動させたもの。
・試料ガス3:清浄空気に一酸化炭素を混入すると共にこの一酸化炭素濃度を変動させたもの。
・試料ガス4:清浄空気に二酸化窒素と一酸化炭素を混入すると共に、二酸化窒素濃度を1ppm(実施例11〜16については3ppm)に固定し、一酸化炭素濃度を変動させたもの。
・試料ガス5:清浄空気にハイドロカーボンとしてデカンを混入すると共にこのデカン濃度を変動させたもの。
・試料ガス6:清浄空気に二酸化窒素とデカンを混入すると共に、二酸化窒素濃度を1ppmに固定し、デカン濃度を変動させたもの。
The following were used as sample gas.
-Sample gas 1: Nitrogen dioxide is mixed into clean air and the nitrogen dioxide concentration is changed.
-Sample gas 2: Nitrogen dioxide and carbon monoxide were mixed into clean air, the carbon monoxide concentration was fixed at 30 ppm, and the nitrogen dioxide concentration was varied.
Sample gas 3: Carbon monoxide mixed in clean air and the concentration of carbon monoxide varied.
Sample gas 4: Nitrogen dioxide and carbon monoxide were mixed in clean air, the nitrogen dioxide concentration was fixed at 1 ppm (3 ppm for Examples 11 to 16), and the carbon monoxide concentration was varied.
-Sample gas 5: A mixture of decane as hydrocarbons in clean air and the decane concentration varied.
-Sample gas 6: Nitrogen dioxide and decane were mixed in clean air, the nitrogen dioxide concentration was fixed at 1 ppm, and the decane concentration was varied.

各実施例及び比較例についての結果を、図5〜20,22,26〜31の各図における(a)並びに図21,23〜25のグラフに示す。グラフの縦軸はRs/Rairの値を示し、横軸は試料ガスの濃度を示す。   The result about each Example and a comparative example is shown to (a) in each figure of FIGS. 5-20,22,26-31, and the graph of FIGS. The vertical axis of the graph shows the value of Rs/Rair, and the horizontal axis shows the concentration of the sample gas.

また、グラフ中の□は試料ガス1、■は試料ガス2、△は試料ガス3、▲は試料ガス4、○は試料ガス5、●は試料ガス6についての結果を示す。   Further, in the graph, □ shows the results for the sample gas 1, ■ for the sample gas 2, Δ for the sample gas 3, ▲ for the sample gas 4, ◯ for the sample gas 5, and ● for the sample gas 6.

(応答性評価)
各実施例及び比較例で得られた半導体ガスセンサを容器内に配置し、感応素子Aの温度を上記検知感度評価の場合と同一にした状態でまず清浄空気中に配置した後、感応素子Aに向けて清浄空気に二酸化窒素又は一酸化炭素を混入した試料ガスを噴出し、次いで清浄空気を噴出した。このときの感応素子Aの電気抵抗値(Rs)を測定した結果を、図5〜20,22,26〜31の各図における(b)のグラフに示す。グラフの縦軸は感応素子Aの電気抵抗値(Rs)を示し、横軸は時間を示す。また、グラフ中には、試料ガス中における二酸化窒素又は一酸化炭素の濃度、及び試料ガスを噴出した時間も示している。
(Responsiveness evaluation)
The semiconductor gas sensors obtained in each of the examples and comparative examples are placed in a container, and the temperature of the sensitive element A is set to the same as in the case of the above-mentioned detection sensitivity evaluation. A sample gas containing nitrogen dioxide or carbon monoxide mixed therein was jetted toward the clean air, and then the clean air was jetted. The results of measuring the electric resistance value (Rs) of the sensitive element A at this time are shown in the graphs of (b) in each of FIGS. 5 to 20, 22, and 26 to 31. The vertical axis of the graph represents the electric resistance value (Rs) of the sensitive element A, and the horizontal axis represents time. In addition, the graph also shows the concentration of nitrogen dioxide or carbon monoxide in the sample gas and the time at which the sample gas was ejected.

実施例1〜4では、金属酸化物半導体としてSnO2を用い、金属酸化物絶縁体としてAl23を用い、金属酸化物絶縁体にPtを担持させ、更に添加剤としてLa及びYを用いたものであり、PtやPdを金属酸化物絶縁体に担持させない比較例1,2や、Ptを金属酸化物半導体に担持させた比較例3と比べて、二酸化窒素の検知感度が特に1ppm以下の濃度領域において向上し、且つハイドロカーボンや一酸化炭素の検知感度が低減して、ハイドロカーボンや一酸化炭素が妨害ガスとなる場合の二酸化窒素の選択的検知が可能な半導体ガスセンサが得られた。また、これらは、二酸化窒素検知時の応答性も優れたものであった。これらの半導体ガスセンサは、窒素酸化物を選択的に検知するために好適に利用することができる。In Examples 1 to 4, SnO 2 was used as the metal oxide semiconductor, Al 2 O 3 was used as the metal oxide insulator, Pt was supported on the metal oxide insulator, and La and Y were used as additives. In comparison with Comparative Examples 1 and 2 in which Pt or Pd is not supported on the metal oxide insulator and Comparative Example 3 in which Pt is supported on the metal oxide semiconductor, the detection sensitivity of nitrogen dioxide is particularly 1 ppm or less. , A semiconductor gas sensor capable of selectively detecting nitrogen dioxide when hydrocarbon or carbon monoxide becomes an interfering gas is obtained. .. Further, these were also excellent in responsiveness when detecting nitrogen dioxide. These semiconductor gas sensors can be suitably used for selectively detecting nitrogen oxides.

このうち、特に金属酸化物絶縁体に担持させたPtの量が金属酸化物絶縁体に対して0.2〜1.5質量%の範囲となり、且つLa及びYの含有量がそれぞれ金属酸化物絶縁体と金属酸化物半導体の合計量に対して5×10-6〜2×10-5mol/gの範囲となった実施例1では、窒素酸化物の検知感度とその選択検知性とがバランス良く向上され、且つ優れた応答性を有するものであった。Among these, particularly, the amount of Pt supported on the metal oxide insulator is in the range of 0.2 to 1.5 mass% with respect to the metal oxide insulator, and the contents of La and Y are each metal oxide. In Example 1 in which the total amount of the insulator and the metal oxide semiconductor was in the range of 5×10 −6 to 2×10 −5 mol/g, the detection sensitivity of nitrogen oxide and its selective detection performance were It was well-balanced and had excellent responsiveness.

また、実施例5〜7では、金属酸化物半導体としてSnO2を用い、金属酸化物絶縁体としてAl23を用い、Ptを金属酸化物絶縁体に担持させ、添加剤としてLa及びYを用い、更に硫黄を添加したものである。これらは硫黄を添加することにより窒素酸化物の検知感度が更に向上すると共にハイドロカーボン及び一酸化炭素の検知感度も向上したものである。これらの半導体ガスセンサは、窒素酸化物とハイドロカーボンや一酸化炭素とを共に検知可能な両用センサとして好適に利用することができる。In Examples 5 to 7, SnO 2 was used as the metal oxide semiconductor, Al 2 O 3 was used as the metal oxide insulator, Pt was supported on the metal oxide insulator, and La and Y were added as additives. It is used and further sulfur is added. The addition of sulfur further improves the detection sensitivity of nitrogen oxides and also the detection sensitivity of hydrocarbons and carbon monoxide. These semiconductor gas sensors can be suitably used as a dual-purpose sensor capable of detecting both nitrogen oxide and hydrocarbon or carbon monoxide.

このうち、特に硫黄の含有量が金属酸化物絶縁体と金属酸化物半導体の合計量に対して5×10-6〜4×10-5mol/gの範囲となった実施例5では、窒素酸化物の検知感度とハイドロカーボンや一酸化炭素の検知感度とが充分に向上されていると共に、これらの検知感度のバランスが良好なものである。Of these, in particular, in Example 5 in which the sulfur content was in the range of 5×10 −6 to 4×10 −5 mol/g with respect to the total amount of the metal oxide insulator and the metal oxide semiconductor, nitrogen was used. The detection sensitivity of oxide and the detection sensitivity of hydrocarbon and carbon monoxide are sufficiently improved, and the detection sensitivity is well balanced.

また、実施例8〜10は、Pdを金属酸化物絶縁体に担持させたものであり、このため、一酸化炭素の検知感度が向上しているものである。特に、金属酸化物絶縁体に担持させるPtの使用量がPdの使用量の50質量%に満たない実施例9や、Ptを金属酸化物絶縁体に担持させない実施例10では、窒素酸化物の検知感度が低減されると共に一酸化炭素の検知感度が高いものである。これらの半導体ガスセンサは、一酸化窒素やハイドロカーボンを選択的に検知するために好適に利用することができる。   Further, in Examples 8 to 10, Pd was supported on the metal oxide insulator, and therefore, the detection sensitivity of carbon monoxide was improved. In particular, in Example 9 in which the amount of Pt supported on the metal oxide insulator is less than 50% by mass of the amount of Pd used, or in Example 10 in which Pt is not supported on the metal oxide insulator, nitrogen oxide The detection sensitivity is reduced and the detection sensitivity for carbon monoxide is high. These semiconductor gas sensors can be suitably used for selectively detecting nitric oxide and hydrocarbons.

また、実施例11〜13は金属酸化物半導体としてIn23を用い、金属酸化物絶縁体としてAl23を用い、Ptを金属酸化物絶縁体に担持させ、添加物としてシリカゾルを用いたものであり、PtやPdを金属酸化物絶縁体に担持させない比較例4〜6と比べて、窒素酸化物の検知感度が良好であると共にハイドロカーボンや一酸化炭素の検知感度が低減されている。特に金属酸化物絶縁体に担持させるPtの量が金属酸化物絶縁体に対して0.2〜1.5質量%の範囲となり、且つ添加物としてシリカゾルと共にメタタングステン酸アンモニウムを併用した実施例11,12では、二酸化窒素の検知感度が特に1ppm以下の濃度領域において向上し、且つハイドロカーボンや一酸化炭素の検知感度、特に一酸化炭素の検知感度が低減して、ハイドロカーボンや一酸化炭素が妨害ガスとなる場合の二酸化窒素の選択的検知が可能な半導体ガスセンサが得られた。また、二酸化窒素検知時の応答性も優れたものであった。これらの半導体ガスセンサは、窒素酸化物を選択的に検知するために好適に利用することができる。Further, in Examples 11 to 13, In 2 O 3 was used as the metal oxide semiconductor, Al 2 O 3 was used as the metal oxide insulator, Pt was supported on the metal oxide insulator, and silica sol was used as an additive. In comparison with Comparative Examples 4 to 6 in which Pt and Pd are not supported on the metal oxide insulator, the detection sensitivity of nitrogen oxide is good and the detection sensitivity of hydrocarbon and carbon monoxide is reduced. There is. In particular, Example 11 in which the amount of Pt supported on the metal oxide insulator was in the range of 0.2 to 1.5 mass% with respect to the metal oxide insulator, and ammonium metatungstate was used together with silica sol as an additive. , 12, the detection sensitivity of nitrogen dioxide was improved particularly in the concentration range of 1 ppm or less, and the detection sensitivity of hydrocarbons and carbon monoxide, especially the detection sensitivity of carbon monoxide was reduced, and A semiconductor gas sensor capable of selectively detecting nitrogen dioxide when it becomes an interfering gas has been obtained. Further, the responsiveness when detecting nitrogen dioxide was also excellent. These semiconductor gas sensors can be suitably used for selectively detecting nitrogen oxides.

尚、比較例5,6は比較例4においてそれぞれシリカゾル、アルミナゾルを添加したものであり、比較例4と比べて、二酸化窒素の検知感度は向上している。   In Comparative Examples 5 and 6, silica sol and alumina sol are added in Comparative Example 4, respectively, and the detection sensitivity of nitrogen dioxide is improved as compared with Comparative Example 4.

また、実施例14〜16は金属酸化物半導体としてIn23を用い、金属酸化物絶縁体としてAl23を用い、PtとPdを共に金属酸化物絶縁体に担持させ、添加物としてシリカゾルとメタタングステン酸アンモニウムを併用したものであり、二酸化窒素の検知感度が特に1ppm以下の濃度領域において向上すると共に、ハイドロカーボンや一酸化炭素の検知感度も向上している。特に金属酸化物絶縁体に担持させるPtとPdの総量が0.2〜1.5質量%の範囲である実施例14,15では、優れた検知感度が得られている。これらの半導体ガスセンサは、窒素酸化物とハイドロカーボンや一酸化炭素とを共に検知可能な両用センサとして好適に利用することができる。In addition, in Examples 14 to 16, In 2 O 3 was used as the metal oxide semiconductor, Al 2 O 3 was used as the metal oxide insulator, Pt and Pd were both supported on the metal oxide insulator, and as an additive. This is a combination of silica sol and ammonium metatungstate, and the detection sensitivity of nitrogen dioxide is improved especially in the concentration range of 1 ppm or less, and the detection sensitivity of hydrocarbon and carbon monoxide is also improved. Particularly, in Examples 14 and 15 in which the total amount of Pt and Pd supported on the metal oxide insulator is in the range of 0.2 to 1.5 mass %, excellent detection sensitivity is obtained. These semiconductor gas sensors can be suitably used as a dual-purpose sensor capable of detecting both nitrogen oxide and hydrocarbon or carbon monoxide.

また、実施例17は、金属酸化物半導体としてIn23を用い、金属酸化物絶縁体としてAl23を用い、Pdを金属酸化物絶縁体に担持させ、添加物としてシリカゾルを用いたものであり、二酸化窒素の検知感度は低減されていると共に、一酸化炭素やハイドロカーボンの検知感度は向上している。この半導体ガスセンサは、一酸化窒素やハイドロカーボンを選択的に検知するために好適に利用することができる。In Example 17, In 2 O 3 was used as the metal oxide semiconductor, Al 2 O 3 was used as the metal oxide insulator, Pd was supported on the metal oxide insulator, and silica sol was used as the additive. The detection sensitivity of nitrogen dioxide is reduced and the detection sensitivity of carbon monoxide and hydrocarbon is improved. This semiconductor gas sensor can be suitably used for selectively detecting nitric oxide and hydrocarbons.

また、実施例18では、金属酸化物半導体としてWO3を用い、金属酸化物絶縁体としてAl23を用い、PtとPdを共に金属酸化物絶縁体に担持させ、添加物としてシリカゾルを用いたものであり、二酸化窒素の検知感度が特に1ppm以下の濃度領域において向上すると共に、ハイドロカーボンや一酸化炭素の検知感度も向上している。In Example 18, WO 3 was used as the metal oxide semiconductor, Al 2 O 3 was used as the metal oxide insulator, both Pt and Pd were supported on the metal oxide insulator, and silica sol was used as an additive. The detection sensitivity of nitrogen dioxide is improved especially in the concentration range of 1 ppm or less, and the detection sensitivity of hydrocarbon and carbon monoxide is also improved.

また、実施例19では、金属酸化物半導体としてSnO2を用い、金属酸化物絶縁体としてAl23を用い、Ptを金属酸化物絶縁体に担持させ、更に添加剤としてSrを用いたものである。また、実施例20,21では、金属酸化物半導体としてSnO2を用い、金属酸化物絶縁体としてSiO2又は高温焼成SnO2を用い、Ptを金属酸化物絶縁体に担持させ、更に添加剤としてLa及びYを用いたものである。これらは、PtやPdを金属酸化物絶縁体に担持させない比較例1,2や、Ptを金属酸化物半導体に担持させた比較例3と比べて、二酸化窒素の検知感度が特に1ppm以下の濃度領域において向上し、且つハイドロカーボンや一酸化炭素の検知感度が低減して、ハイドロカーボンや一酸化炭素が妨害ガスとなる場合の二酸化窒素の選択的検知が可能な半導体ガスセンサが得られた。また、これらは、二酸化窒素検知時の応答性も優れたものであった。これらの半導体ガスセンサは、窒素酸化物を選択的に検知するために好適に利用することができる。In Example 19, SnO 2 was used as the metal oxide semiconductor, Al 2 O 3 was used as the metal oxide insulator, Pt was supported on the metal oxide insulator, and Sr was used as the additive. Is. Further, in Examples 20 and 21, SnO 2 was used as the metal oxide semiconductor, SiO 2 or high-temperature baked SnO 2 was used as the metal oxide insulator, Pt was supported on the metal oxide insulator, and further as an additive. La and Y are used. Compared with Comparative Examples 1 and 2 in which Pt or Pd is not supported on the metal oxide insulator and Comparative Example 3 in which Pt is supported on the metal oxide semiconductor, the concentration of nitrogen dioxide is particularly 1 ppm or less. A semiconductor gas sensor has been obtained which is improved in the region and has a reduced detection sensitivity for hydrocarbons and carbon monoxide, and is capable of selectively detecting nitrogen dioxide when hydrocarbons or carbon monoxide become an interfering gas. Further, these were also excellent in responsiveness when detecting nitrogen dioxide. These semiconductor gas sensors can be suitably used for selectively detecting nitrogen oxides.

本発明に係る半導体ガスセンサは、家庭用や工業用等の可燃ガスのガス漏れセンサ、口臭センサ、燃料電池制御用等のための水素ガスセンサ、自動車用途等の排気ガスセンサ等の適宜の用途に利用することができる。   INDUSTRIAL APPLICABILITY The semiconductor gas sensor according to the present invention is used for an appropriate application such as a gas leak sensor for combustible gas for household or industrial use, a breath odor sensor, a hydrogen gas sensor for fuel cell control, an exhaust gas sensor for automobiles, etc. be able to.

Claims (8)

検知対象のガスに感応して電気抵抗値の変化を生じる感応素子として、金属酸化物半導体を含有するものを備える半導体ガスセンサにおいて、前記感応素子の内部には、PtとPdのうちの少なくとも一方を担持している金属酸化物絶縁体が分散していることを特徴とする半導体ガスセンサ。   In a semiconductor gas sensor including a sensing element containing a metal oxide semiconductor as a sensing element that causes a change in electric resistance value in response to a gas to be detected, at least one of Pt and Pd is provided inside the sensing element. A semiconductor gas sensor characterized in that a supported metal oxide insulator is dispersed. 上記感応素子中における上記金属酸化物半導体がSnO2、In23、WO3のうちの少なくとも一種であり、上記金属酸化物絶縁体がAl23、SiO2、高温焼成したSnO2のうちの少なくとも一種であることを特徴とする請求項1に記載の半導体ガスセンサ。The metal oxide semiconductor in the sensitive element is at least one of SnO 2 , In 2 O 3 , and WO 3 , and the metal oxide insulator is Al 2 O 3 , SiO 2 , or high-temperature fired SnO 2 . The semiconductor gas sensor according to claim 1, wherein the semiconductor gas sensor is at least one of them. 上記金属酸化物絶縁体が、Ptを担持しているものであることを特徴とする請求項2に記載の半導体ガスセンサ。   The semiconductor gas sensor according to claim 2, wherein the metal oxide insulator carries Pt. 上記金属酸化物絶縁体が、Pdを担持しているものであることを特徴とする請求項2に記載の半導体ガスセンサ。   The semiconductor gas sensor according to claim 2, wherein the metal oxide insulator carries Pd. 上記感応素子中における上記金属酸化物半導体がSnO2であり、且つ上記感応素子はにアルカリ土類金属及び希土類元素から選択される一種以上の金属を含有することを特徴とする請求項1に記載の半導体ガスセンサ。The metal oxide semiconductor in the sensitive element is SnO 2 , and the sensitive element contains at least one metal selected from an alkaline earth metal and a rare earth element. Semiconductor gas sensor. 上記感応素子中における上記金属酸化物半導体がSnO2であり、且つ上記感応素子はに硫黄を含有することを特徴とする請求項1に記載の半導体ガスセンサ。The semiconductor gas sensor according to claim 1, wherein the metal oxide semiconductor in the sensitive element is SnO 2 , and the sensitive element contains sulfur. 上記感応素子中における上記金属酸化物半導体がIn23であり、上記金属酸化物絶縁体がAl23、SiO2のうちの少なくとも一種であり、且つ前記感応素子が、前記金属酸化物半導体と、PtとPdのうちの少なくとも一方を担持させた前記金属酸化物絶縁体とを含む成形体に、アルミナゾル、シリカゾル及びメタタングステン酸アンモニウムから選択される一種以上のものを添加した後に焼成して得られるものであることを特徴とする請求項1に記載の半導体ガスセンサ。The metal oxide semiconductor in the sensitive element is In 2 O 3 , the metal oxide insulator is at least one of Al 2 O 3 and SiO 2 , and the sensitive element is the metal oxide. To a molded body containing a semiconductor and the metal oxide insulator carrying at least one of Pt and Pd, one or more selected from alumina sol, silica sol and ammonium metatungstate is added, followed by firing. The semiconductor gas sensor according to claim 1, wherein the semiconductor gas sensor is obtained. 検知対象のガスに感応して電気抵抗値の変化を生じる感応素子として、金属酸化物半導体を含有するものを備える半導体ガスセンサにおいて、前記感応素子が、PtとPdのうちの少なくとも一方を担持させた金属酸化物絶縁体の粒子と、金属酸化物半導体の粒子とを含む材料を混合し、得られた混合物を成形・焼成する工程を経て得られるものであることを特徴とする半導体ガスセンサ。   In a semiconductor gas sensor including a metal oxide semiconductor-containing one as a sensitive element that causes a change in electric resistance value in response to a gas to be detected, the sensitive element carries at least one of Pt and Pd. A semiconductor gas sensor, which is obtained through a step of mixing a material containing particles of a metal oxide insulator and particles of a metal oxide semiconductor and molding and firing the resulting mixture.
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