JPWO2005106584A1 - Thermal development apparatus and thermal development method - Google Patents

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    • G03D13/002Heat development apparatus, e.g. Kalvar

Abstract

従来の大型機並の画質を維持しながら、熱現像プロセスの迅速化が可能となるとともに小型化・コストダウンも可能な熱現像装置及び熱現像方法を提供する。この熱現像装置は、支持基体の片面上に熱現像感光材料が塗布されたフィルムFを加熱しながら搬送しフィルム上に形成された潜像を可視化するものであって、フィルムを熱現像温度に昇温させる昇温部と、熱現像温度に昇温されたシートフィルムを保温する保温部と、を備え、昇温部でフィルムと加熱面との密な接触を図り保温部で隙間内で加熱するように昇温部と保温部とで異なる加熱方式を用いた。Provided are a thermal development apparatus and a thermal development method capable of speeding up a thermal development process while maintaining the same image quality as that of a conventional large machine, and capable of downsizing and cost reduction. This thermal development apparatus visualizes a latent image formed on a film by transporting the film F coated with a photothermographic material on one side of a supporting substrate while heating the film F. A temperature raising section for raising the temperature and a heat retaining section for keeping the sheet film heated to the heat development temperature are provided. The temperature raising section ensures close contact between the film and the heating surface and is heated in the gap by the heat retaining section. Thus, different heating methods were used for the temperature raising part and the heat retaining part.

Description

本発明は、感光性熱現像材料であるシートフィルム上に形成された潜像を可視化する熱現像装置及び熱現像方法に関するものである。   The present invention relates to a thermal development apparatus and a thermal development method for visualizing a latent image formed on a sheet film that is a photosensitive thermal development material.

近年、感光性熱現像材料を露光し潜像を形成した後に、加熱体に接触させて加熱することで熱現像し可視像を得る熱現像装置が市場において主流となっている。従来の熱現像装置の構成としては、例えば、下記特許文献1に記載のように、加熱ドラムの周囲に配置されたに複数のローラと加熱ドラムとを用い、複数のローラにより感光性熱現像材料からなるフィルムを加熱ドラムに付勢、加熱しながら搬送するものが開示されている。   2. Description of the Related Art In recent years, a thermal development apparatus that obtains a visible image by exposing a photosensitive thermal development material to a latent image by exposing it to a heating body and heating it has become the mainstream in the market. As a configuration of a conventional heat developing apparatus, for example, as described in Patent Document 1, a plurality of rollers and a heating drum are used around a heating drum, and a photosensitive heat developing material is formed by the plurality of rollers. A film comprising the above is urged against a heating drum and conveyed while being heated.

かかる熱現像装置では、加熱により可視像を得るとき種々の原因でフィルムに濃度むらが生じることがあるが、特に医用画像を現像する場合には、濃度むらは誤診を防ぐ意味でも重要な問題であり、濃度むら防止は重要な課題である。   In such a thermal development apparatus, when a visible image is obtained by heating, density unevenness may occur in the film due to various causes. However, especially when developing a medical image, density unevenness is also an important problem in terms of preventing misdiagnosis. Therefore, prevention of uneven density is an important issue.

下記特許文献2は、上記加熱ドラムの代わりに、3分割された固定ヒータを用い、当該ヒータ上でフィルムのBC面(ベース面)を摺動させて、加熱しながら搬送する方式の装置を開示する。更に、下記特許文献3は、ドラムの外周に形成されたスリットにフィルムを通過させて加熱する熱現像装置を開示する。また、下記特許文献4は、1枚のシートフィルムに対し露光〜現像〜冷却を連続的に行い、露光処理と加熱処理とを並行して同時に行うようにし小型化した熱現像装置を開示する。   Patent Document 2 below discloses an apparatus that uses a fixed heater divided into three parts instead of the heating drum, slides the BC surface (base surface) of the film on the heater, and conveys the film while heating. To do. Further, Patent Document 3 below discloses a heat developing apparatus that heats a film by passing it through a slit formed on the outer periphery of the drum. Patent Document 4 below discloses a heat development apparatus that is miniaturized by performing exposure, development, and cooling on a single sheet film continuously, and simultaneously performing exposure processing and heat treatment in parallel.

特許文献1〜3のように比較的大型機でも、特許文献4のような小型機でもフィルム搬送方向に均一な加熱方式を採用している。前者の装置では、均一な加熱方式による均一な画質の達成や、大量処理能力を発揮できるが、加熱工程の後半においては、必要以上の精度でフィルムを加熱搬送することとなり、小型化や部品点数削減によるコストダウンは期待できず、一方、後者に於いては、迅速処理は言うに及ばず、均一な加熱、即ち均一な濃度が達成できなかった。
特表平10−500497号公報 特開2003−287862号公報 米国特許明細書第3739143号 特開2002−162692号公報
Even a relatively large machine as in Patent Documents 1 to 3 and a small machine as in Patent Document 4 employ a uniform heating method in the film conveyance direction. The former device can achieve uniform image quality and a large amount of processing capacity by a uniform heating method, but in the latter half of the heating process, the film is heated and transported with more precision than necessary, which reduces the size and number of parts. Cost reduction due to reduction cannot be expected. On the other hand, in the latter case, not only rapid processing but also uniform heating, that is, uniform concentration cannot be achieved.
Japanese National Patent Publication No. 10-500497 JP 2003-287862 A U.S. Pat. No. 3,739,143 JP 2002-162692 A

本発明は、上述のような従来技術の問題に鑑み、感光性熱現像材料を加熱体に接触させ加熱しながら搬送することでシートフィルム上に形成された潜像を現像し可視像を得る際に、濃度むらの発生を抑えることのできる熱現像方法及び熱現像装置を提供することを目的とする。   In view of the above-described problems of the prior art, the present invention develops a latent image formed on a sheet film by bringing a photosensitive heat-developable material into contact with a heating member and transporting it to obtain a visible image. It is an object of the present invention to provide a thermal development method and a thermal development apparatus that can suppress the occurrence of density unevenness.

更に、上述のような従来技術の問題に鑑み、従来の大型機並の画質を維持しながら、熱現像プロセスの迅速化が可能となるとともに小型化・コストダウンも可能な熱現像装置及び熱現像方法を提供することを目的とする。   Furthermore, in view of the above-mentioned problems of the prior art, a thermal development apparatus and thermal development capable of speeding up the thermal development process and reducing the size and cost while maintaining the same image quality as a conventional large machine. It aims to provide a method.

上記目的を達成するために、本発明者らは鋭意検討の結果、熱現像プロセスがフィルムを熱現像温度まで昇温する昇温工程と、昇温されたフィルムを保温する保温工程とから成り立ち、前者の昇温工程において、フィルム全面にわたる均一加熱(言い換えると、フィルムと加熱部材との熱伝達上の密な接触)が重要であり、この均一加熱が保障されないと加熱むら(即ち、濃度むら)が発生し易く、後者の保温工程は加熱部材とフィルムとの密な接触は前者に比べそれほど必要では無いという知見を得た。   In order to achieve the above object, as a result of intensive investigations, the inventors of the present invention consisted of a temperature raising step in which the heat development process raises the film to the heat development temperature and a heat retention step in which the heated film is kept warm, In the former temperature raising step, uniform heating over the entire surface of the film (in other words, close contact in heat transfer between the film and the heating member) is important. If this uniform heating is not guaranteed, uneven heating (that is, uneven concentration) It was found that the latter heat retention step requires less close contact between the heating member and the film than the former.

本発明はかかる知見に基づいてなされたものであり、本発明による熱現像装置は、支持基体の片面上に熱現像感光材料が塗布されたシートフィルムを加熱しながら搬送し、前記シートフィルム上に形成された潜像を可視化する熱現像装置であって、前記シートフィルムを熱現像温度に昇温させる昇温部と、前記熱現像温度に昇温されたシートフィルムを保温する(熱現像温度に維持する)保温部と、を備え、前記昇温部と前記保温部とで異なる加熱方式を用いることを特徴とする。   The present invention has been made on the basis of such knowledge, and the thermal development apparatus according to the present invention conveys a sheet film coated with a photothermographic material on one side of a support substrate while heating the sheet, and on the sheet film. A thermal development apparatus for visualizing a formed latent image, wherein a temperature raising unit that raises the temperature of the sheet film to a thermal development temperature, and a temperature of the sheet film that has been heated to the thermal development temperature are maintained (to a thermal development temperature). A temperature maintaining unit), and different heating methods are used for the temperature raising unit and the heat retaining unit.

本発明による熱現像方法は、支持基体の片面上に熱現像感光材料が塗布されたシートフィルムを加熱しながら搬送し前記シートフィルム上に形成された潜像を可視化する熱現像方法であって、前記シートフィルムを熱現像温度に昇温させる昇温工程と、前記熱現像温度に昇温されたシートフィルムを保温する(熱現像温度に維持する)保温工程と、を含み、前記昇温工程と前記保温工程とで異なる加熱方式を用いることを特徴とする。   The thermal development method according to the present invention is a thermal development method for visualizing a latent image formed on the sheet film by conveying the sheet film coated with the photothermographic material on one side of the support substrate while heating. A temperature raising step for raising the temperature of the sheet film to a heat development temperature, and a temperature keeping step for keeping the temperature of the sheet film heated to the heat development temperature (maintaining at the heat development temperature). A different heating method is used in the heat retaining step.

第1の実施の形態による熱現像装置の要部を概略的に示す側面図である。It is a side view which shows roughly the principal part of the heat development apparatus by 1st Embodiment. 第2の実施の形態による熱現像装置の要部を概略的に示す側面図である。It is a side view which shows roughly the principal part of the heat development apparatus by 2nd Embodiment. 図1,図2の熱現像装置1,40における熱現像プロセスの迅速処理方法における温度プロファイルを示すグラフである。3 is a graph showing a temperature profile in a rapid processing method of a thermal development process in the thermal development apparatuses 1 and 40 of FIGS. 1 and 2. 実施例1で使用した熱現像装置の要部構成を示す側面図である。FIG. 3 is a side view showing the configuration of the main part of the heat development apparatus used in Example 1. 迅速処理の実施例1(a)及び比較例1(b)における露光量と濃度との関係を表すセンシトカーブ(γカーブ)を示す図である。It is a figure which shows the sensit curve (gamma curve) showing the relationship between the exposure amount and density | concentration in Example 1 (a) of rapid processing, and Comparative example 1 (b). 通常処理の比較例2(a)及び比較例3(b)における露光量と濃度との関係を表すセンシトカーブ(γカーブ)を示す図である。It is a figure which shows the sensit curve (gamma curve) showing the relationship between the exposure amount and density | concentration in the comparative example 2 (a) of a normal process, and the comparative example 3 (b). 実施例2で使用した熱現像装置の要部構成を示す側面図である。FIG. 5 is a side view showing a main part configuration of a heat development apparatus used in Example 2. 実施例2において、図7のスリットにおける加熱プレート表面温度、加熱プレート表面と対向する断熱材壁面温度、及びスリット内の空気温度を昇温開始から熱現像温度になるまで測定し、その時間と温度との関係を示すグラフである。In Example 2, the heating plate surface temperature in the slit of FIG. 7, the heat insulating wall surface temperature facing the heating plate surface, and the air temperature in the slit were measured from the start of temperature rise to the thermal development temperature, and the time and temperature It is a graph which shows the relationship. 実施例2において、スリット内でフィルムを加熱プレート表面近傍を通過させた場合、及び断熱材壁面近傍を通過させた場合のそれぞれのフィルム温度の変化を示すグラフである。In Example 2, it is a graph which shows the change of each film temperature when the film is passed through the vicinity of the heating plate surface in the slit and when the heat insulating material wall surface is passed. 実施例2及び比較例4で得られた露光量と濃度との関係を表すセンシトカーブ(γカーブ)を示す図である。It is a figure which shows the sensit curve (gamma curve) showing the relationship between the exposure amount obtained by Example 2 and the comparative example 4, and a density | concentration. 本実施の形態の熱現像装置で得られた、第1のステップと第2のステップを示す熱現像感光フィルムの温度履歴曲線の例を示すグラフである。It is a graph which shows the example of the temperature history curve of the photothermographic film which shows the 1st step and 2nd step which were obtained with the heat development apparatus of this Embodiment. 第3の実施の形態を示し、加熱ドラムと対向ローラによる熱現像装置の要部を示す図である。FIG. 9 is a diagram illustrating a main part of a heat development apparatus including a heating drum and a counter roller according to a third embodiment. 図12の複数の対向ローラを加熱ドラムに対し付勢するための構成を概略的に示す図である。It is a figure which shows schematically the structure for energizing the some opposing roller of FIG. 12 with respect to a heating drum. 第3の実施の形態の変形例を示し、加熱ドラムと対向ローラによる熱現像装置の要部を示す図である。It is a figure which shows the modification of 3rd Embodiment and shows the principal part of the heat development apparatus by a heating drum and a counter roller. 第4の実施の形態を示し、加熱プレートと対向ローラによる熱現像装置の要部を示す図である。FIG. 10 is a diagram illustrating a main part of a heat development apparatus including a heating plate and a counter roller according to a fourth embodiment. 第4の実施の形態の変形例を示し、加熱プレートと対向ローラによる熱現像装置の要部を示す図である。It is a figure which shows the modification of 4th Embodiment and shows the principal part of the heat development apparatus by a heating plate and a counter roller. 第4の実施の形態の別の変形例を示し、加熱プレートと対向ローラによる熱現像装置の要部を示す図である。It is a figure which shows another modification of 4th Embodiment, and shows the principal part of the heat development apparatus by a heating plate and a counter roller. 第5の実施の形態を示し、加熱プレートとベルトによる熱現像装置の要部を示す図である。FIG. 10 is a diagram illustrating a main part of a heat development apparatus including a heating plate and a belt according to a fifth embodiment. 第5の実施の形態の変形例を示し、加熱プレートとベルトによる熱現像装置の要部を示す図である。It is a figure which shows the modification of 5th Embodiment and shows the principal part of the heat development apparatus by a heating plate and a belt.

本発明の目的は、以下の装置及び方法によって達成される。   The object of the present invention is achieved by the following apparatus and method.

本発明による熱現像装置は、支持基体の片面上に熱現像感光材料が塗布されたシートフィルムを加熱しながら搬送し前記シートフィルム上に形成された潜像を可視化する熱現像装置であって、前記シートフィルムを熱現像温度に昇温させる昇温部と、前記熱現像温度に昇温されたシートフィルムを保温する保温部と、を備え、前記昇温部と前記保温部とで異なる加熱方式を用いることを特徴とする。   The heat development apparatus according to the present invention is a heat development apparatus for visualizing a latent image formed on the sheet film by conveying the sheet film coated with the photothermographic material on one side of the support substrate while heating. A heating method comprising: a temperature raising part for raising the temperature of the sheet film to a heat developing temperature; and a heat retaining part for keeping the sheet film heated to the heat developing temperature, and different heating methods for the temperature raising part and the heat retaining part. It is characterized by using.

この熱現像装置によれば、熱現像プロセスを昇温部と保温部とで個別の構成を採用でき、昇温部で加熱部材等の加熱手段とシートフィルムとの密な接触を図り濃度むらの発生を抑え、保温部ではそのような密な接触を図る必要がなく、昇温部と保温部とで異なる最適な加熱方式を用いることで、濃度むらのない高画質を維持しながら熱現像プロセスの迅速処理、装置の小型化及びコストダウンが可能な構成にできる。   According to this thermal development apparatus, the thermal development process can adopt a separate configuration for the temperature raising unit and the heat retaining unit, and the temperature raising unit can achieve close contact between the heating means such as a heating member and the sheet film, thereby causing uneven density. Thermal development process while maintaining high image quality without unevenness of density by using different optimal heating methods for the temperature riser and the heat retention part Thus, it is possible to make the configuration capable of rapid processing, downsizing of the apparatus, and cost reduction.

上記熱現像装置において、前記昇温部は、前記シートフィルムを対向ローラによりプレートヒータに押圧して接触させながら加熱し、前記保温部は、少なくとも一方にヒータを有するガイド間に形成されたスリット内において、前記シートフィルムを加熱する構成にできる。昇温部ではシートフィルムを対向ローラによりプレートヒータに押圧して接触させることで、プレートヒータとシートフィルムとを密に接触させることができる一方、保温部では昇温部の対向ローラによる搬送力でスリット間において加熱(保温)しながら搬送すればよいので、シートフィルム搬送用の駆動部品が不要になり、またスリット寸法の精度もさほど要求されずに、装置の小型化及びコストダウンが可能になる。   In the thermal development apparatus, the temperature raising unit heats the sheet film while pressing the sheet film against a plate heater by a counter roller, and the heat retaining unit is in a slit formed between guides having at least one heater. In the above, the sheet film can be heated. In the temperature raising section, the sheet heater is pressed against and contacted with the plate heater by the opposing roller, so that the plate heater and the sheet film can be brought into close contact with each other. Since it only needs to be conveyed while being heated (insulated) between the slits, there is no need for driving parts for sheet film conveyance, and the size of the apparatus can be reduced and the cost can be reduced without requiring much accuracy of the slit dimensions. .

また、前記昇温部及び前記保温部における前記シートフィルムとの係合時間が10秒以下であるように構成することができ、昇温工程と保温工程の期間を短縮でき熱現像プロセスの迅速処理が可能になる。   In addition, it is possible to configure the engagement time with the sheet film in the temperature raising part and the heat retaining part to be 10 seconds or less, and it is possible to shorten the period of the temperature raising process and the heat retaining process and to quickly process the thermal development process. Is possible.

また、前記昇温部と前記保温部との間に凹部を設け、前記昇温部からの異物が前記凹部内に入り込むように構成することで、昇温部を搬送される間に、フィルム先端部により集積移動された異物が、保温部に持ち込まれることを防止でき、シートフィルムにジャム・傷・濃度むら等が発生することを防止できる。   In addition, a recess is provided between the temperature raising portion and the heat retaining portion, and the foreign material from the temperature raising portion is configured to enter the recess, so that the film tip is transferred while the temperature raising portion is conveyed. The foreign matter accumulated and moved by the portion can be prevented from being brought into the heat retaining portion, and jamming, scratches, uneven density, etc. can be prevented from occurring on the sheet film.

なお、前記昇温部及び前記保温部は、前記支持期待側と接触し前記熱現像感光材料の塗布面側を開放して前記シートフィルムを加熱するように構成されることが好ましい。   In addition, it is preferable that the temperature raising unit and the heat retaining unit are configured to be in contact with the expected support side and open the application surface side of the photothermographic material to heat the sheet film.

本発明による熱現像方法は、支持基体の片面上に熱現像感光材料が塗布されたシートフィルムを加熱しながら搬送し前記シートフィルム上に形成された潜像を可視化する熱現像方法であって、前記シートフィルムを熱現像温度に昇温させる昇温工程と、前記熱現像温度に昇温されたシートフィルムを保温する保温工程と、を含み、前記昇温工程と前記保温工程とで異なる加熱方式を用いることを特徴とする。   The thermal development method according to the present invention is a thermal development method for visualizing a latent image formed on the sheet film by conveying the sheet film coated with the photothermographic material on one side of the support substrate while heating. A heating method that includes a temperature raising step for raising the temperature of the sheet film to a heat developing temperature and a heat retaining step for keeping the sheet film heated to the heat developing temperature, wherein the heating method is different between the temperature raising step and the heat retaining step. It is characterized by using.

この熱現像方法によれば、熱現像プロセスを昇温工程と保温工程とで別々に実行でき、昇温工程で加熱部材等の加熱手段とシートフィルムとの密な接触を図り、保温工程ではそのような密な接触を図る必要がなく、昇温工程と保温工程とで異なる最適な加熱方式を用いることで、高画質を維持しながら熱現像プロセスの迅速処理、装置の小型化及びコストダウンが可能になる。   According to this thermal development method, the thermal development process can be executed separately in the temperature raising step and the heat retaining step, and in the temperature raising step, the heating means such as the heating member and the sheet film are in close contact, There is no need for such close contact, and by using an optimal heating method that is different between the temperature raising process and the heat retaining process, rapid processing of the heat development process, miniaturization of the apparatus, and cost reduction can be achieved while maintaining high image quality. It becomes possible.

上記熱現像方法において、前記昇温工程では、前記シートフィルムを対向ローラによりプレートヒータに押圧して接触させながら加熱し、前記保温工程では、少なくとも一方にヒータを有するガイド間に形成されたスリット内において、前記シートフィルムを加熱することが好ましい。昇温工程ではシートフィルムを対向ローラによりプレートヒータに押圧して接触させることで、プレートヒータとシートフィルムとを密に接触させることができる一方、保温工程では昇温工程の対向ローラによる搬送力でスリット間において加熱(保温)しながら搬送すればよいので、シートフィルム搬送用の駆動部品が不要になり、またスリット寸法の精度もさほど要求されずに、装置の小型化及びコストダウンが可能になる。   In the heat development method, in the temperature raising step, the sheet film is heated while being pressed against and contacted with a plate heater by a counter roller, and in the heat retaining step, in a slit formed between guides having at least one heater. It is preferable to heat the sheet film. In the temperature raising process, the sheet heater is pressed against and contacted with the plate heater by the opposing roller, so that the plate heater and the sheet film can be brought into close contact with each other. Since it only needs to be conveyed while being heated (insulated) between the slits, there is no need for driving parts for sheet film conveyance, and the size of the apparatus can be reduced and the cost can be reduced without requiring much accuracy of the slit dimensions. .

また、前記昇温工程及び前記保温工程における前記シートフィルムとの係合時間が10秒以下であることで、昇温工程と保温工程の期間を短縮でき熱現像プロセスの迅速処理が可能になる。   In addition, since the engagement time with the sheet film in the temperature raising step and the heat retaining step is 10 seconds or less, the period of the temperature raising step and the heat retaining step can be shortened, and the rapid processing of the heat development process becomes possible.

なお、前記昇温工程及び前記保温工程において、前記熱現像感光材料の塗布面側を開放して前記シートフィルムを加熱することが好ましい。   In the temperature raising step and the heat retention step, it is preferable to heat the sheet film by opening the coated surface side of the photothermographic material.

本発明の熱現像装置及び熱現像方法によれば、従来の大型機並の画質を維持しながら、熱現像プロセスの迅速化が可能となるとともに小型化・コストダウンも可能なる。   According to the heat development apparatus and the heat development method of the present invention, it is possible to speed up the heat development process and reduce the size and cost while maintaining the image quality equivalent to that of a conventional large machine.

以下、本発明を実施するための最良の形態について図面を用いて説明する。   The best mode for carrying out the present invention will be described below with reference to the drawings.

〈第1の実施の形態〉
図1は第1の実施の形態による熱現像装置の要部を概略的に示す側面図である。
<First Embodiment>
FIG. 1 is a side view schematically showing a main part of the thermal development apparatus according to the first embodiment.

図1に示すように、第1の実施の形態の熱現像装置1は、PET等からなるシート状の支持基体の片面上に熱現像感光材料が塗布されたEC面と、EC面と反対面の支持基体側のBC面とを有するシートフィルムF(以下、「フィルム」という。)を方向Hに副走査搬送しながら画像データに基づいて光走査露光部15でレーザ光Lを光走査して露光することによりEC面に潜像を形成し、次に、フィルムFをBC面側から加熱して現像し潜像を可視化するものである。   As shown in FIG. 1, the thermal development apparatus 1 according to the first embodiment includes an EC surface in which a photothermographic material is coated on one side of a sheet-like support base made of PET or the like, and a surface opposite to the EC surface. A sheet film F (hereinafter referred to as “film”) having a BC surface on the side of the supporting substrate is sub-scanned and conveyed in the direction H, and the optical scanning exposure unit 15 optically scans the laser light L based on the image data. A latent image is formed on the EC surface by exposure, and then the film F is heated from the BC surface side and developed to visualize the latent image.

図1の熱現像装置1は、潜像の形成されたフィルムFをBC面側から加熱し所定の熱現像温度まで昇温させる昇温部10と、昇温されたフィルムFを加熱して所定の熱現像温度に保温する保温部13と、加熱されたフィルムFをBC面側から冷却する冷却部14と、を備える。昇温部10と保温部13とで加熱部を構成し、フィルムFを熱現像温度まで加熱し熱現像温度に保持する。   The heat development apparatus 1 in FIG. 1 heats the film F on which a latent image is formed from the BC surface side to raise the temperature to a predetermined heat development temperature, and heats the heated film F to a predetermined temperature. And a cooling unit 14 for cooling the heated film F from the BC surface side. The temperature raising unit 10 and the heat retaining unit 13 constitute a heating unit, and the film F is heated to the heat development temperature and held at the heat development temperature.

昇温部10は、フィルムFを上流側で加熱する第1の加熱ゾーン11と、下流側で加熱する第2の加熱ゾーン12と、を有する。   The temperature raising unit 10 includes a first heating zone 11 that heats the film F on the upstream side, and a second heating zone 12 that heats the film F on the downstream side.

第1の加熱ゾーン11は、アルミニウム等の金属材料からなり固定された平面状の加熱ガイド11bと、加熱ガイド11bの裏面に密着されたシリコンラバーヒータ等からなる平面状の加熱ヒータ11cと、加熱ガイド11bの固定ガイド面11dにフィルムを押圧可能にフィルム厚さよりも狭い隙間を維持するように配置されかつ表面が金属等に比べ熱絶縁性のあるシリコンゴム等からなる複数の対向ローラ11aと、を有する。   The first heating zone 11 includes a planar heating guide 11b made of a metal material such as aluminum and fixed, a planar heating heater 11c made of a silicon rubber heater or the like in close contact with the back surface of the heating guide 11b, and a heating A plurality of opposing rollers 11a made of silicon rubber or the like, which is disposed so as to maintain a gap narrower than the film thickness so that the film can be pressed against the fixed guide surface 11d of the guide 11b and whose surface is thermally insulating compared to metal or the like; Have

第2の加熱ゾーン12は、アルミニウム等の金属材料からなり固定された平面状の加熱ガイド12bと、加熱ガイド12bの裏面に密着されたシリコンラバーヒータ等からなる平面状の加熱ヒータ12cと、加熱ガイド12bの固定ガイド面12dにフィルムを押圧可能にフィルム厚さよりも狭い隙間を維持するように配置されかつ表面が金属等に比べ熱絶縁性のあるシリコンゴム等からなる複数の対向ローラ12aと、を有する。   The second heating zone 12 includes a planar heating guide 12b made of a metal material such as aluminum and fixed, a planar heating heater 12c made of a silicon rubber heater or the like in close contact with the back surface of the heating guide 12b, A plurality of opposed rollers 12a made of silicon rubber or the like, which is arranged so as to maintain a gap narrower than the film thickness so that the film can be pressed against the fixed guide surface 12d of the guide 12b, and whose surface is thermally insulating compared to metal or the like; Have

保温部13は、アルミニウム等の金属材料からなり固定された平面状の加熱ガイド13bと、加熱ガイド13bの裏面に密着されたシリコンラバーヒータ等からなる平面状の加熱ヒータ13cと、加熱ガイド13bの表面に構成された固定ガイド面13dに対し所定の隙間(スリット)dを有するように対向して配置された断熱材等からなるガイド部13aと、を有する。   The heat retaining unit 13 includes a planar heating guide 13b made of a metal material such as aluminum and fixed, a planar heating heater 13c made of a silicon rubber heater or the like in close contact with the back surface of the heating guide 13b, and a heating guide 13b. A guide portion 13a made of a heat insulating material or the like disposed so as to face the fixed guide surface 13d formed on the surface so as to have a predetermined gap (slit) d.

昇温部10の第1の加熱ゾーン11では、昇温部10の上流側から搬送ローラ対16等により搬送されてきたフィルムFが、回転駆動される各対向ローラ11aにより固定ガイド面11dに押圧されることで、BC面が固定ガイド面11dに密に接触して加熱されながら方向Hに搬送されるようになっている。   In the first heating zone 11 of the temperature raising unit 10, the film F conveyed by the conveying roller pair 16 and the like from the upstream side of the temperature raising unit 10 is pressed against the fixed guide surface 11d by each counter roller 11a that is rotationally driven. As a result, the BC surface comes into close contact with the fixed guide surface 11d and is conveyed in the direction H while being heated.

第2の加熱ゾーン12でも同様に、第1の加熱ゾーン11から搬送されてきたフィルムFが、回転駆動される各対向ローラ12aにより固定ガイド面12dに押圧されることでBC面が固定ガイド面11dに密に接触して加熱されながら方向Hに搬送されるようになっている。   Similarly, in the second heating zone 12, the film F conveyed from the first heating zone 11 is pressed against the fixed guide surface 12d by each counter roller 12a that is rotationally driven, so that the BC surface is fixed to the fixed guide surface. It is conveyed in the direction H while being in close contact with 11d and being heated.

昇温部10の第2の加熱ゾーン12と保温部13との間に上方にV字状に開口した凹部17が設けられており、昇温部10からの異物が凹部17内に落下するように構成している。これにより、昇温部10からの異物が保温部13に持ち込まれることを防止でき、フィルムにジャム・傷・濃度むら等が発生することを防止できる。   A concave portion 17 having an open V shape is provided between the second heating zone 12 of the temperature raising portion 10 and the heat retaining portion 13 so that foreign matter from the temperature raising portion 10 falls into the concave portion 17. It is configured. Thereby, it can prevent that the foreign material from the temperature rising part 10 is carried in into the heat retention part 13, and it can prevent that a jam, a damage | wound, density | concentration unevenness, etc. generate | occur | produce on a film.

保温部13では、第2の加熱ゾーン12から搬送されてきたフィルムFが、加熱ガイド13bの固定ガイド面13dとガイド部13aとの間の隙間dにおいて加熱ガイド13bからの熱で加熱(保温)されながら、第2の加熱ゾーン12側の対向ローラ12aの搬送力により、隙間dを通過する。   In the heat retaining unit 13, the film F conveyed from the second heating zone 12 is heated (heat retaining) by heat from the heating guide 13b in the gap d between the fixed guide surface 13d of the heating guide 13b and the guide unit 13a. However, the gap d is passed by the conveying force of the opposing roller 12a on the second heating zone 12 side.

冷却部14では、フィルムFを金属材料等からなる冷却プレート14bの冷却ガイド面14cに接触させて冷却しながら対向ローラ14aにより更に方向Hに搬送する。なお、冷却プレート14bをフィン付きのヒートシンク構造とすることで冷却効果を増すことができる。冷却プレート14bの下流側にフィン付きのヒートシンク構造の冷却プレートを更に配置してもよい。   In the cooling unit 14, the film F is further conveyed in the direction H by the facing roller 14a while being cooled by contacting the film F with the cooling guide surface 14c of the cooling plate 14b made of a metal material or the like. In addition, the cooling effect can be increased by making the cooling plate 14b into a heat sink structure with fins. You may further arrange | position the cooling plate of the heat sink structure with a fin in the downstream of the cooling plate 14b.

上述のように、図1の熱現像装置1では、フィルムFは、昇温部10及び保温部13において、BC面がヒーターを設けられた固定ガイド面11d、12d、13dに向いており、熱現像感光材料の塗布されたEC面が開放された状態で搬送される。また、冷却部14では、一点鎖線で示すようにフィルムFは、主にBC面が冷却ガイド面14cに接触し冷却され、熱現像材料が塗布されたEC面が開放された状態で搬送される。   As described above, in the heat development apparatus 1 of FIG. 1, the film F has the BC surface facing the fixed guide surfaces 11 d, 12 d, and 13 d provided with the heater in the temperature raising unit 10 and the heat retaining unit 13. It is conveyed with the EC surface coated with the development photosensitive material open. Further, in the cooling unit 14, as indicated by the alternate long and short dash line, the film F is mainly cooled with the BC surface in contact with the cooling guide surface 14c and the EC surface coated with the heat developing material is opened. .

また、フィルムFは、昇温部10及び保温部13を搬送される時間が10秒以下となるよう、対向ローラ11a、12aにより搬送される。従って、昇温〜保温の加熱時間も10秒以下ということになる。   Moreover, the film F is conveyed by the opposing rollers 11a and 12a so that the time during which the temperature raising unit 10 and the heat retaining unit 13 are conveyed is 10 seconds or less. Therefore, the heating time from temperature increase to heat retention is also 10 seconds or less.

以上のように、図1の熱現像装置1によれば、均一熱伝達が必要な昇温部10において、加熱ガイド11b、12bと、フィルムFを加熱ガイド11b、12bに押圧する複数の対向ローラ11a,12aとによりフィルムFを固定ガイド面11d、12dに密着させることで接触伝熱を確保しながらフィルムFを搬送するので、フィルム全面が均一に加熱され、均一に温度上昇するので、仕上がりフィルムは濃度むらの発生を抑えた高品質の画像となる。   As described above, according to the heat developing apparatus 1 of FIG. 1, in the temperature raising unit 10 that requires uniform heat transfer, the heating guides 11b and 12b and the plurality of opposed rollers that press the film F against the heating guides 11b and 12b. Since the film F is transported while ensuring contact heat transfer by bringing the film F into close contact with the fixed guide surfaces 11d and 12d by 11a and 12a, the entire surface of the film is heated uniformly and the temperature rises uniformly. Becomes a high-quality image with reduced density unevenness.

また、フィルムの熱現像温度への昇温後は、フィルムは保温部13で加熱ガイド13bの固定ガイド面13dとガイド部13aとの間の隙間dの間で搬送され、特に固定ガイド面13dに密着せずに浮き上がった状態で加熱(固定ガイド面13dに直接接触し伝熱加熱する、及び/又は、周囲の高温空気との接触による伝熱)されても、フィルム温度は現像温度(例えば123℃)に対し所定の範囲内(例えば0.5℃)に収まる。このように、フィルムが隙間dにおいて加熱ガイド13bの壁面またはガイド部13aの壁面のどちらに沿って搬送されても、フィルム温度差は0.5℃未満であり、均一な保温状態が維持できるので、仕上がりフィルムにおける濃度むらの発生はほとんど生じない。このため、保温部13にローラ等の駆動部品を設ける必要がないので、点数削減を達成できる。   In addition, after the temperature of the film is raised to the heat development temperature, the film is conveyed by the heat retaining unit 13 between the fixed guide surface 13d of the heating guide 13b and the gap d between the guide unit 13a, and particularly on the fixed guide surface 13d. Even if heated in a state where it floats without being in close contact (heated by direct contact with the fixed guide surface 13d and / or heat transferred by contact with the surrounding high-temperature air), the film temperature is the developing temperature (for example, 123). Within a predetermined range (for example, 0.5 ° C.). Thus, even if the film is conveyed along the wall surface of the heating guide 13b or the wall surface of the guide portion 13a in the gap d, the film temperature difference is less than 0.5 ° C., and a uniform heat retaining state can be maintained. The density unevenness in the finished film hardly occurs. For this reason, since it is not necessary to provide driving parts, such as a roller, in the heat retention part 13, a score reduction can be achieved.

更に、フィルムFの加熱時間が10秒以下で済むので、迅速な熱現像プロセスを実現でき、また、昇温部10から冷却部14まで直線的に延びたフィルム搬送経路を装置レイアウトに応じて適宜変更でき、設置面積の小型化・装置全体の小型化に対応可能となる。   Furthermore, since the heating time of the film F is 10 seconds or less, a rapid heat development process can be realized, and a film transport path extending linearly from the temperature raising unit 10 to the cooling unit 14 is appropriately set according to the apparatus layout. It can be changed, and it becomes possible to cope with downsizing of the installation area and downsizing of the entire apparatus.

従来の大型機ではフィルムを現像温度に昇温以降の保温機能で充分な部分にも、昇温部と同一な加熱搬送構成としていたため、結果的に不必要な部材を使用してしまっており、部品点数の増加やコストアップを招いており、また、従来の小型機では昇温時の熱伝達を保障し難いため濃度むら発生の問題があり高画質の保障が困難であったのに対し、第1の実施の形態によれば、熱現像プロセスを昇温部10と保温部13とで別々に実行することで、かかる問題をいずれも解消することができる。   In conventional large-scale machines, the film was heated to the development temperature and the heat-retaining function after the temperature was raised had the same heating and conveying structure as the temperature-raising part. As a result, unnecessary parts were used. However, the increase in the number of parts and the cost increase, and in the conventional small machine, it is difficult to guarantee heat transfer at the time of temperature rise, so there is a problem of uneven density, and it is difficult to guarantee high image quality. According to the first embodiment, it is possible to solve both of these problems by separately executing the heat development process in the temperature raising unit 10 and the heat retaining unit 13.

また、フィルムFを昇温部10及び保温部13で熱現像感光材料の塗布されたEC面が開放された状態でBC面側から加熱することで、10秒以下の迅速処理で熱現像プロセスを実行する際に、EC面側の開放により、加熱され揮発(蒸発)しようとするフィルムFに含まれる溶媒(水分、有機溶剤等)が最短距離で揮発(図1に於いて、フィルム前面にわたり上方へ揮発)するので、加熱時間(揮発可能な時間)が短くなっても時間短縮の影響を受け難くなるとともに、部分的にフィルムFと固定ガイド面11d、12dとの接触性が悪い部分があっても、BC面のPETベースによる熱拡散効果により、接触性の良い部分との温度差が緩和され、結果として濃度差が起こりにくいので、濃度を安定化でき、画質が安定する。なお、一般的に加熱効率を考慮すると、EC面側加熱の方が良いと考えられていたが、フィルムFの支持基体のPETの熱伝導率0.17W/m℃、PETベースの厚さ170μm前後であることを考慮すると、時間遅れはわずかであり、ヒータ容量アップ等で容易に相殺可能であり、上記の接触むらを緩和する効果の方が期待できる方が好ましい。   Further, by heating the film F from the BC side with the temperature developing unit 10 and the heat retaining unit 13 with the EC surface coated with the photothermographic material open, the thermal development process can be performed in a rapid process of 10 seconds or less. When the EC surface is opened, the solvent (moisture, organic solvent, etc.) contained in the film F that is heated and volatilized (evaporates) is volatilized at the shortest distance by the opening on the EC surface side. Therefore, even if the heating time (the time that can be volatilized) is shortened, it is difficult to be affected by the shortening of the time, and there is a portion where the contact between the film F and the fixed guide surfaces 11d and 12d is partially poor. However, the thermal diffusion effect by the PET surface of the BC surface relaxes the temperature difference from the portion with good contact, and as a result, the density difference hardly occurs, so that the density can be stabilized and the image quality is stabilized. In general, considering the heating efficiency, the EC surface side heating was considered to be better. However, the thermal conductivity of PET of the support base of the film F was 0.17 W / m ° C., and the PET base thickness was 170 μm. Considering the fact that it is before and after, it is preferable that the time delay is slight and can be easily offset by increasing the heater capacity, etc., and the effect of reducing the contact unevenness can be expected.

更に、保温部13を出て、冷却部14に至る間にもフィルムF中の溶媒(水分、有機溶剤等)は高温であるため揮発(蒸発)しようとしているが、冷却部14でもフィルムFのEC面が開放状態であるので、溶媒(水分、有機溶剤等)が乳剤層中にトラップされず、より長い時間、揮発させることになるので、より画質(濃度)が安定する。このように、迅速処理時には冷却時間も無視できず、加熱時間10秒以下の迅速処理には特に有効となる。   Further, the solvent (water, organic solvent, etc.) in the film F is going to volatilize (evaporate) even after leaving the heat retaining unit 13 and reaching the cooling unit 14. Since the EC surface is in an open state, the solvent (water, organic solvent, etc.) is not trapped in the emulsion layer and is volatilized for a longer time, so that the image quality (density) is more stable. Thus, the cooling time cannot be ignored during the rapid processing, and is particularly effective for the rapid processing with a heating time of 10 seconds or less.

〈第2の実施の形態〉
図2は第2の実施の形態による熱現像装置の要部を概略的に示す側面図である。
<Second Embodiment>
FIG. 2 is a side view schematically showing the main part of the thermal development apparatus according to the second embodiment.

図2に示すように、第2の実施の形態の熱現像装置40は、上述と同様のPET等からなるシート状の支持基体の片面上に熱現像感光材料が塗布されたEC面と、EC面と反対面の支持基体側のBC面とを有するフィルムFを搬送(副走査)しながら光走査露光部55からのレーザ光LでEC面に潜像を形成し、次に、フィルムFをBC面側から加熱して現像し潜像を可視化し、曲率のある搬送経路を通して装置上方に搬送し排出するものである。   As shown in FIG. 2, the thermal development apparatus 40 of the second embodiment includes an EC surface in which a photothermographic material is coated on one side of a sheet-like support base made of PET or the like, and an EC surface. A latent image is formed on the EC surface with the laser light L from the optical scanning exposure unit 55 while transporting (sub-scanning) the film F having the BC surface on the side of the supporting substrate opposite to the surface. The latent image is visualized by heating and developing from the BC surface side, transported upward through the curved transport path, and discharged.

図2の熱現像装置40は、装置筐体40aの底部近傍に設けられ未使用の多数枚のフィルムFを収納するフィルム収納部45と、フィルム収納部45の最上のフィルムFをピックアップして搬送するピックアップローラ46と、ピックアップローラ46からのフィルムFを搬送する搬送ローラ対47と、搬送ローラ対47からのフィルムFをガイドし搬送方向をほぼ反転させて搬送するように曲面状に構成された曲面ガイド48と、曲面ガイド48からのフィルムFを搬送(副走査)するための搬送ローラ対49a,49bと、搬送ローラ対49aと49bとの間でフィルムFに画像データに基づいてレーザ光Lを走査することによりEC面に潜像を形成する光走査露光部55と、を備える。   The heat development apparatus 40 in FIG. 2 picks up and conveys a film storage section 45 that is provided near the bottom of the apparatus housing 40a and stores a large number of unused films F, and the uppermost film F in the film storage section 45. A pickup roller 46 for conveying, a conveyance roller pair 47 for conveying the film F from the pickup roller 46, and a curved surface shape for guiding the film F from the conveyance roller pair 47 and conveying the film F in a substantially reversed direction. A laser beam L based on the image data on the film F between the curved surface guide 48, the conveying roller pair 49a, 49b for conveying (sub-scanning) the film F from the curved surface guide 48, and the conveying roller pair 49a, 49b. , And an optical scanning exposure unit 55 that forms a latent image on the EC surface.

熱現像装置40は、更に、潜像の形成されたフィルムFをBC面側から加熱し所定の熱現像温度まで昇温させる昇温部50と、昇温されたフィルムFを加熱して所定の熱現像温度に保温する保温部53と、加熱されたフィルムFをBC面側から冷却する冷却部54と、冷却部54の出口側に配置されてフィルムFの濃度を測定する濃度計56と、濃度計56からのフィルムFを排出する搬送ローラ対57と、搬送ローラ対57で排出されたフィルムFが載置されるように装置筐体40aの上面に傾斜して設けられたフィルム載置部58と、を備える。   The thermal developing device 40 further heats the film F on which the latent image is formed from the BC surface side to raise the temperature to a predetermined heat development temperature, and heats the heated film F to a predetermined temperature. A heat retaining section 53 that retains the heat development temperature, a cooling section 54 that cools the heated film F from the BC surface side, a densitometer 56 that is disposed on the outlet side of the cooling section 54 and measures the density of the film F, A transport roller pair 57 that discharges the film F from the densitometer 56, and a film mounting portion that is provided on the upper surface of the apparatus housing 40a so that the film F discharged by the transport roller pair 57 is mounted. 58.

図2のように、熱現像装置40では、装置筐体40aの底部から上方に向けて、フィルム収納部45、搬送制御基板や露光制御基板を含む基板部59、搬送ローラ対49a,49b・昇温部50・保温部53(上流側)の順に配置されており、フィルム収納部45が最下方にあり、また昇温部50・保温部53との間に基板部59があるので、熱現像部の発熱や基板類の発熱は、上昇気流となり上方へ移動しやすく、熱影響を受け難くなっている。   As shown in FIG. 2, in the thermal development device 40, upward from the bottom of the apparatus housing 40 a, a film storage unit 45, a substrate unit 59 including a conveyance control substrate and an exposure control substrate, and conveyance roller pairs 49 a and 49 b. The warming section 50 and the heat retaining section 53 (upstream side) are arranged in this order, the film storage section 45 is at the lowermost position, and the substrate section 59 is between the temperature raising section 50 and the heat retaining section 53. The heat of the part and the heat of the substrates are ascending airflow and easily move upward, and are not easily affected by heat.

また、副走査搬送の搬送ローラ対49a,49bから昇温部50までの搬送路は比較的短く構成されているので、光走査露光部55によりフィルムFに対し露光が行われながらフィルムFの先端側では昇温部50、保温部53で熱現像加熱が行われる。   Further, since the conveyance path from the pair of conveyance rollers 49a and 49b for the sub-scan conveyance to the temperature raising unit 50 is configured to be relatively short, the front end of the film F is exposed while the light F is exposed to the film F by the optical scanning exposure unit 55 On the side, heat development heating is performed by the temperature raising unit 50 and the heat retaining unit 53.

昇温部50と保温部53とで加熱部を構成し、フィルムFを熱現像温度まで加熱し熱現像温度に保持する。昇温部50は、フィルムFを上流側で加熱する第1の加熱ゾーン51と、下流側で加熱する第2の加熱ゾーン52と、を有する。   The temperature raising part 50 and the heat retaining part 53 constitute a heating part, and the film F is heated to the heat development temperature and maintained at the heat development temperature. The temperature raising unit 50 includes a first heating zone 51 that heats the film F on the upstream side, and a second heating zone 52 that heats the film F on the downstream side.

第1の加熱ゾーン51は、アルミニウム等の金属材料からなり固定された平面状の加熱ガイド51bと、加熱ガイド51bの裏面に密着されたシリコンラバーヒータ等からなる平面状の加熱ヒータ51cと、加熱ガイド51bの固定ガイド面51dにフィルムを押圧可能にフィルム厚さよりも狭い隙間を維持するように配置されかつ表面が金属等に比べ熱絶縁性のあるシリコンゴム等からなる複数の対向ローラ51aと、を有する。   The first heating zone 51 includes a planar heating guide 51b made of a metal material such as aluminum and fixed, a planar heating heater 51c made of a silicon rubber heater or the like in close contact with the back surface of the heating guide 51b, A plurality of opposing rollers 51a made of silicon rubber or the like, which is arranged so as to maintain a gap narrower than the film thickness so that the film can be pressed against the fixed guide surface 51d of the guide 51b and whose surface is thermally insulating compared to metal or the like; Have

第2の加熱ゾーン52は、アルミニウム等の金属材料からなり固定された平面状の加熱ガイド52bと、加熱ガイド52bの裏面に密着されたシリコンラバーヒータ等からなる平面状の加熱ヒータ52cと、加熱ガイド52bの固定ガイド面52dにフィルムを押圧可能にフィルム厚さよりも狭い隙間を維持するように配置されかつ表面が金属等に比べ熱絶縁性のあるシリコンゴム等からなる複数の対向ローラ52aと、を有する。   The second heating zone 52 includes a planar heating guide 52b made of a metal material such as aluminum and fixed, a planar heating heater 52c made of a silicon rubber heater or the like in close contact with the back surface of the heating guide 52b, A plurality of opposing rollers 52a made of silicon rubber or the like, which is arranged to maintain a gap narrower than the film thickness so that the film can be pressed against the fixed guide surface 52d of the guide 52b, and whose surface is more thermally insulating than metal or the like; Have

保温部53は、アルミニウム等の金属材料からなり固定された加熱ガイド53bと、加熱ガイド53bの裏面に密着されたシリコンラバーヒータ等からなる平面状の加熱ヒータ53cと、加熱ガイド53bの表面に構成された固定ガイド面53dに対し所定の隙間(スリット)dを有するように対向して配置された、フィルム通過面と反対側の面に断熱材を有するガイド部53aと、を有する。保温部53は、昇温部50側が第2の加熱ゾーン52と連続して平面的に構成され、途中から装置上方に向けて所定の曲率で曲面状に構成されている。   The heat retaining section 53 is configured on a heating guide 53b made of a metal material such as aluminum and fixed, a planar heating heater 53c made of a silicon rubber heater or the like in close contact with the back surface of the heating guide 53b, and a surface of the heating guide 53b. And a guide portion 53a having a heat insulating material on the surface opposite to the film passage surface, which is disposed so as to have a predetermined gap (slit) d with respect to the fixed guide surface 53d. The heat retaining unit 53 is configured in a planar manner on the temperature raising unit 50 side continuously with the second heating zone 52, and is configured in a curved surface with a predetermined curvature from the middle toward the upper part of the apparatus.

昇温部50の第1の加熱ゾーン51では、昇温部50の上流側から搬送ローラ対49a,49bにより搬送されてきたフィルムFが回転駆動された各対向ローラ51aにより固定ガイド面51dに押圧されることでBC面が固定ガイド面51dに密に接触して加熱されながら搬送されるようになっている。   In the first heating zone 51 of the temperature raising unit 50, the film F conveyed by the conveying roller pairs 49a and 49b from the upstream side of the temperature raising unit 50 is pressed against the fixed guide surface 51d by each counter roller 51a that is rotationally driven. As a result, the BC surface comes into close contact with the fixed guide surface 51d and is conveyed while being heated.

第2の加熱ゾーン52でも同様に、第1の加熱ゾーン51から搬送されてきたフィルムFが回転駆動された各対向ローラ52aにより固定ガイド面52dに押圧されることでBC面が固定ガイド面51dに密に接触して加熱されながら搬送されるようになっている。   Similarly, in the second heating zone 52, the BC surface is fixed to the fixed guide surface 51d by pressing the film F conveyed from the first heating zone 51 against the fixed guide surface 52d by each counter roller 52a that is rotationally driven. It is conveyed while being in close contact with and heated.

なお、図1と同様に、昇温部50の第2の加熱ゾーン52と保温部53との間に上方にV字状に開口した凹部を設けるように構成してもよく、昇温部50からの異物が凹部内に落下することにより、昇温部50からの異物が保温部53に持ち込まれることを防止できる。   As in FIG. 1, a concave portion opened in a V shape may be provided between the second heating zone 52 and the heat retaining unit 53 of the temperature raising unit 50. As a result, the foreign matter from the temperature rising part 50 can be prevented from being brought into the heat retaining part 53.

保温部53では、第2の加熱ゾーン52から搬送されてきたフィルムFが加熱ガイド53bの固定ガイド面53dとガイド部53aとの間の隙間dにおいて加熱ガイド53bからの熱で加熱(保温)されながら、第2の加熱ゾーン52側の対向ローラ52aの搬送力により隙間dを通過する。このとき、フィルムFは、隙間dにおいて水平方向から垂直方向に向きを次第に変えながら搬送され、冷却部54に向かう。   In the heat retaining portion 53, the film F conveyed from the second heating zone 52 is heated (heat retained) by the heat from the heating guide 53b in the gap d between the fixed guide surface 53d of the heating guide 53b and the guide portion 53a. However, it passes through the gap d by the conveying force of the opposing roller 52a on the second heating zone 52 side. At this time, the film F is conveyed while gradually changing the direction from the horizontal direction to the vertical direction in the gap d, and heads toward the cooling unit 54.

冷却部54では、保温部53からほぼ垂直方向に搬送されてきたフィルムFを金属材料等からなる冷却プレート54bの冷却ガイド面14cに対向ローラ54aにより接触させて冷却しながら、垂直方向から次第に斜め方向にフィルムFの向きをフィルム載置部58に変えて搬送するようになっている。なお、冷却プレート54bをフィン付きのヒートシンク構造とすることで冷却効果を増すことができる。冷却プレート54bの一部をフィン付きのヒートシンク構造にしてもよい。   In the cooling unit 54, the film F conveyed in the substantially vertical direction from the heat retaining unit 53 is cooled by being brought into contact with the cooling guide surface 14c of the cooling plate 54b made of a metal material or the like by the opposing roller 54a and cooling from the vertical direction. The direction of the film F is changed to the film mounting part 58 in the direction and conveyed. The cooling effect can be increased by making the cooling plate 54b a finned heat sink structure. A part of the cooling plate 54b may have a heat sink structure with fins.

冷却部54から出た冷却されたフィルムFは濃度計56で濃度測定され、搬送ローラ対57により搬送されてフィルム載置部58へと排出される。フィルム載置部58は複数枚のフィルムFを一時的に載置しておくことができる。   The cooled film F coming out of the cooling unit 54 is subjected to density measurement by a densitometer 56, conveyed by a conveying roller pair 57, and discharged to a film placement unit 58. The film placing unit 58 can temporarily place a plurality of films F.

上述のように、図2の熱現像装置40では、フィルムFは、昇温部50及び保温部53においてBC面が加熱状態の固定ガイド面51d、52d、53dに向いており、熱現像感光材料の塗布されたEC面が開放された状態で搬送される。また、冷却部54では、フィルムFは、BC面が冷却ガイド面54cに接触し冷却され、熱現像材料が塗布されたEC面が開放された状態で搬送される。   As described above, in the heat development apparatus 40 of FIG. 2, the film F has the BC surface facing the fixed guide surfaces 51d, 52d, 53d in the heating portion 50 and the heat retaining portion 53, and the photothermographic material. The coated EC surface is conveyed in an open state. In the cooling unit 54, the film F is conveyed with the BC surface contacting the cooling guide surface 54c and cooled, and the EC surface coated with the heat developing material is opened.

また、フィルムFは、昇温部50及び保温部53を搬送される時間が10秒以下となるよう対向ローラ51a、52aにより搬送される。従って、昇温〜保温の加熱時間も10秒以下ということになる。   Moreover, the film F is conveyed by the opposing rollers 51a and 52a so that the time for which the temperature raising unit 50 and the heat retaining unit 53 are conveyed is 10 seconds or less. Therefore, the heating time from temperature increase to heat retention is also 10 seconds or less.

以上のように、図2の熱現像装置40によれば、均一熱伝達が必要な昇温部50において、加熱ガイド51b、52bと、フィルムFを加熱ガイド51b、52bに押圧する複数の対向ローラ51a,52aとによりフィルムFを固定ガイド面51d、52dに密着させることで接触伝熱を確保しながらフィルムFを搬送するので、フィルム全面が均一に加熱され、均一に温度上昇するので、仕上がりフィルムは濃度むらの発生を抑えた高品質の画像となる。   As described above, according to the heat development apparatus 40 of FIG. 2, in the temperature raising unit 50 that requires uniform heat transfer, the heating guides 51b and 52b and the plurality of opposed rollers that press the film F against the heating guides 51b and 52b. Since the film F is conveyed while ensuring contact heat transfer by bringing the film F into close contact with the fixed guide surfaces 51d and 52d by 51a and 52a, the entire surface of the film is heated uniformly and the temperature rises uniformly. Becomes a high-quality image with reduced density unevenness.

また、フィルムの熱現像温度への昇温後は、フィルム保温部53で加熱ガイド53bの固定ガイド面53dとガイド部53aとの間の隙間dの間で搬送され、特に固定ガイド面53dに密着せずに浮き上がった状態で加熱(固定ガイド面53dに直接接触し伝熱加熱する、及び/又は、周囲の高温空気との接触による伝熱)されても、フィルム温度は現像温度(例えば123℃)に対し所定の範囲内(例えば0.5℃)に収まる。このように、フィルムが隙間dにおいて加熱ガイド53bの壁面または曲面ガイド53aの壁面のどちらに沿って搬送されても、フィルム温度差は0.5℃未満であり、均一な保温状態が維持できるので、仕上がりフィルムにおける濃度むら発生の虞はほとんど生じない。このため、保温部53にローラ等の駆動部品を設ける必要がないので、点数削減を達成できる。   Further, after the film is heated to the heat development temperature, it is conveyed by the film heat retaining portion 53 between the fixed guide surface 53d of the heating guide 53b and the gap d between the guide portion 53a, and in particular, in close contact with the fixed guide surface 53d. Even when heated in a floating state without direct contact (heated by direct contact with the fixed guide surface 53d and / or heat transferred by contact with the surrounding high-temperature air), the film temperature remains at the developing temperature (for example, 123 ° C). ) Within a predetermined range (for example, 0.5 ° C.). Thus, regardless of whether the film is conveyed along the wall surface of the heating guide 53b or the curved surface guide 53a in the gap d, the film temperature difference is less than 0.5 ° C., and a uniform heat retaining state can be maintained. There is almost no risk of density unevenness in the finished film. For this reason, since it is not necessary to provide drive parts, such as a roller, in the heat retention part 53, a score reduction can be achieved.

更に、フィルムFの加熱時間が10秒以下で済むので、迅速な熱現像プロセスを実現でき、また、昇温部50から水平方向に延びた保温部53が途中から曲面状になって垂直方向に向くよう構成され、フィルムFは冷却部54でフィルムFの向きをほぼ反転させてフィルム載置部58へと排出されるので、装置レイアウトに応じて冷却部54を所定の曲率とすることで、設置面積の小型化・装置全体の小型化に対応可能となる。   Furthermore, since the heating time of the film F can be 10 seconds or less, a rapid heat development process can be realized, and the heat retaining portion 53 extending in the horizontal direction from the temperature raising portion 50 becomes a curved surface in the middle and extends in the vertical direction. Since the film F is discharged to the film mounting unit 58 with the direction of the film F being substantially reversed by the cooling unit 54, the cooling unit 54 has a predetermined curvature according to the apparatus layout. It is possible to cope with downsizing of the installation area and downsizing of the entire device.

従来の大型機ではフィルムを現像温度に昇温以降の保温機能で充分な部分にも、昇温部と同一な加熱搬送機構としていたため、結果的に不必要な部材を使用してしまっており、部品点数の増加やコストアップを招いており、また、従来の小型機では昇温時の熱伝達を保障し難いため濃度むら発生の問題があり高画質の保障が困難であったのに対し、第2の実施の形態によれば、第1の実施の形態と同様に、熱現像プロセスを昇温部50と保温部53とで別々に実行することで、かかる問題をいずれも解消することができる。   In conventional large machines, the film was heated to the developing temperature and the heat-retaining function after the temperature was raised had the same heating and transport mechanism as the temperature-raising part. As a result, unnecessary parts were used. However, the increase in the number of parts and the cost increase, and in the conventional small machine, it is difficult to guarantee heat transfer at the time of temperature rise, so there is a problem of uneven density, and it is difficult to guarantee high image quality. According to the second embodiment, as in the first embodiment, the thermal development process is performed separately in the temperature raising unit 50 and the heat retaining unit 53, thereby eliminating all of these problems. Can do.

また、フィルムFを昇温部50及び保温部53で熱現像感光材料の塗布されたEC面が開放された状態でBC面側から加熱することで、10秒以下の迅速処理で熱現像プロセスを実行する際に、EC面側の開放により、加熱され揮発(蒸発)しようとするフィルムFに含まれる溶媒(水分、有機溶剤等)が最短距離で揮発(図1に於いて、フィルム前面にわたり上方へ揮発)するので、加熱時間(揮発可能な時間)が短くなっても時間短縮の影響を受け難くなるとともに、部分的にフィルムFと固定ガイド面51d、52dとの接触性が悪い部分があっても、BC面のPETベースによる熱拡散効果により、接触性の良い部分との温度差が緩和され、結果として濃度差が起こりにくいので、濃度を安定化でき、画質が安定する。なお、一般的に加熱効率を考慮すると、EC面側加熱の方が良いと考えられていたが、フィルムFの支持基体のPETの熱伝導率0.17W/m℃、PETベースの厚さ170μm前後であることを考慮すると、時間遅れはわずかであり、ヒータ容量アップ等で容易に相殺可能であり、上記の接触むらを緩和する効果の方が期待できる方が好ましい。   In addition, the film F is heated from the BC side with the temperature raising unit 50 and the heat retaining unit 53 with the EC surface coated with the photothermographic material open, so that the thermal development process can be performed in a rapid process of 10 seconds or less. When the EC surface is opened, the solvent (moisture, organic solvent, etc.) contained in the film F that is heated and volatilized (evaporates) is volatilized at the shortest distance by the opening on the EC surface side. Therefore, even if the heating time (the time that can be volatilized) is shortened, it is difficult to be affected by the shortening of the time, and there is a part where the contact between the film F and the fixed guide surfaces 51d and 52d is partially poor. However, the thermal diffusion effect by the PET surface of the BC surface relaxes the temperature difference from the portion with good contact, and as a result, the density difference hardly occurs, so that the density can be stabilized and the image quality is stabilized. In general, considering the heating efficiency, the EC surface side heating was considered to be better. However, the thermal conductivity of PET of the support base of the film F was 0.17 W / m ° C., and the PET base thickness was 170 μm. Considering the fact that it is before and after, it is preferable that the time delay is slight and can be easily offset by increasing the heater capacity, etc., and the effect of reducing the contact unevenness can be expected.

更に、保温部53を出て、冷却部54に至る間にもフィルムF中の溶媒(水分、有機溶剤等)は高温であるため揮発(蒸発)しようとしているが、冷却部54でもフィルムFのEC面が開放状態であるので、溶媒(水分、有機溶剤等)がトラップされず、より長い時間、揮発させることになるのでより、画質が安定する。このように、迅速処理時には冷却時間も無視できず、加熱時間10秒以下の迅速処理には特に有効となる。   Further, the solvent (water, organic solvent, etc.) in the film F is going to volatilize (evaporate) while leaving the heat retaining part 53 and reaching the cooling part 54, but the cooling part 54 also has the film F Since the EC surface is in an open state, the solvent (water, organic solvent, etc.) is not trapped and is volatilized for a longer time, so that the image quality is more stable. Thus, the cooling time cannot be ignored during the rapid processing, and is particularly effective for the rapid processing with a heating time of 10 seconds or less.

次に、第1及び第2の実施の形態における熱現像プロセスの迅速処理について図3を参照して説明する。図3は図1,図2の熱現像装置1,40における熱現像プロセスの迅速処理方法における温度プロファイルを示すグラフである。   Next, rapid processing of the thermal development process in the first and second embodiments will be described with reference to FIG. FIG. 3 is a graph showing a temperature profile in the rapid processing method of the thermal development process in the thermal development apparatuses 1 and 40 of FIGS.

この迅速処理方法は、図3に示すように、図1,図2の熱現像装置1,40におけるフィルムの全処理時間Aを短縮するために加熱時間Bをより短くするものである。このために、現像最適温度Eまでの昇温時間Cをより短くするべく、昇温部10,50においてフィルムFを対向ローラ11a,12a,51a,52aで付勢し固定ガイド面11d、12d、51d、52dに密に接触させている。   In this rapid processing method, as shown in FIG. 3, the heating time B is shortened in order to shorten the total film processing time A in the heat developing apparatuses 1 and 40 of FIGS. For this purpose, in order to shorten the temperature raising time C to the optimum developing temperature E, the film F is urged by the opposing rollers 11a, 12a, 51a, 52a in the temperature raising portions 10, 50, and the fixed guide surfaces 11d, 12d, In close contact with 51d and 52d.

そして、フィルムFが現像最適温度Eに達した後、保温部13,53においてフィルムFは保温時間Dにわたり熱現像温度でに保持される。保温部13,53では、上述の通り、隙間(スリット)d内を対向ローラ等の付勢手段は無しで固定ガイド面13d、53dに密着させることを必須とせず、(部分的に密着しなくてもよい)搬送する。なお、図3の冷却部における急冷は、冷却部14,54でヒートシンクや冷却ファン等を配置することで実現できる。   After the film F reaches the optimum development temperature E, the film F is held at the heat development temperature in the heat retaining portions 13 and 53 for the heat retaining time D. In the heat retaining units 13 and 53, as described above, it is not essential that the gap (slit) d is in close contact with the fixed guide surfaces 13d and 53d without an urging means such as a counter roller. It may be transported. 3 can be realized by arranging a heat sink, a cooling fan, or the like in the cooling units 14 and 54.

上述のように、画質を維持したまま、加熱時間B(昇温時間C+保温時間D)を従来の14秒前後から10秒以下に短縮でき、全処理時間Aを短縮することができる。   As described above, while maintaining the image quality, the heating time B (temperature increase time C + heat retention time D) can be reduced from about 14 seconds to 10 seconds or less, and the total processing time A can be reduced.

〈実施例1〉
次に、実施例1により迅速処理加熱プロセスにおけるBC面加熱・EC面開放の効果について説明する。図4に示す熱現像装置を実験で使用し、次のような構成とした。
<Example 1>
Next, the effect of heating the BC surface and opening the EC surface in the rapid process heating process will be described according to the first embodiment. The heat development apparatus shown in FIG. 4 was used in an experiment and configured as follows.

加熱系として、厚さ10mmのアルミニウムプレートの裏面にシリコンラバーヒータを貼付しプレート状の加熱プレートとした。加熱プレートのガイド面に、厚さ1mmのシリコンゴム層を表層に設けた直径12mm、有効搬送長380mmのシリコンゴムローラを約8gf/cmの線圧となるよう配置し、このシリコンゴムローラで熱現像感光材料を塗布したフィルムを押圧しBC面を加熱プレートに接触させながら搬送した。加熱プレートの搬送長は210mmである。   As a heating system, a silicon rubber heater was attached to the back surface of an aluminum plate having a thickness of 10 mm to form a plate-shaped heating plate. On the guide surface of the heating plate, a silicon rubber roller having a diameter of 12 mm and an effective conveyance length of 380 mm provided with a silicon rubber layer having a thickness of 1 mm is arranged on the surface so that the linear pressure is about 8 gf / cm. The film coated with the material was pressed and conveyed while the BC surface was in contact with the heating plate. The conveyance length of the heating plate is 210 mm.

冷却系として、厚さ10mmのアルミニウムプレートを第1〜第3の冷却プレートとし、第1及び第2の冷却プレートには、それぞれシリコンラバーヒータを設け、冷却温度を制御可能にし、第3の冷却プレートのアルミニウムプレートの裏面に厚さ0.7mm、高さ35mm、奥行き390mmのフィン21枚をピッチ4mmで配置したヒートシンクを接合した。第1〜第3の冷却プレートに、厚さ1mmのシリコンゴム層を表層に設けた直径12mm、有効搬送長380mmのシリコンゴムローラを約8gf/cmの線圧で配置し、フィルムを押圧しながら搬送した。第1〜第3の冷却プレートの搬送長は、それぞれ60mm、105mm、105mmである。   As a cooling system, an aluminum plate having a thickness of 10 mm is used as the first to third cooling plates, and the first and second cooling plates are each provided with a silicon rubber heater so that the cooling temperature can be controlled, and the third cooling plate is provided. A heat sink in which 21 fins having a thickness of 0.7 mm, a height of 35 mm, and a depth of 390 mm were arranged at a pitch of 4 mm was joined to the back surface of the aluminum plate. A silicon rubber roller having a diameter of 12 mm and an effective conveyance length of 380 mm is disposed on the first to third cooling plates at a surface pressure of a silicon rubber layer having a thickness of 1 mm, and conveyed while pressing the film with a linear pressure of about 8 gf / cm. did. The conveyance lengths of the first to third cooling plates are 60 mm, 105 mm, and 105 mm, respectively.

搬送速度は、通常処理のとき、15.1mm/sとし、迅速処理のとき21.2mm/sに変更した。第1、第2の加熱プレートの温度はそれぞれ100℃、123℃とし、第1の冷却プレートの温度は110℃、第2の冷却プレートの温度は90℃、第3の冷却プレート温度は30〜60℃とした。加熱プレート間、加熱プレートと冷却プレートの間は、プレート間での熱移動を抑制するために2mmの間隙を設けた。   The conveyance speed was changed to 15.1 mm / s during normal processing and 21.2 mm / s during rapid processing. The temperatures of the first and second heating plates are 100 ° C. and 123 ° C., respectively, the temperature of the first cooling plate is 110 ° C., the temperature of the second cooling plate is 90 ° C., and the temperature of the third cooling plate is 30 to 30 ° C. The temperature was 60 ° C. A gap of 2 mm was provided between the heating plates and between the heating plate and the cooling plate in order to suppress heat transfer between the plates.

熱現像用フィルムは、特開2004−102263号公報に開示されているような有機溶剤系の熱現像用フィルムである、コニカミノルタ社製のSD−Pを使用した。   As the heat developing film, SD-P manufactured by Konica Minolta Co., Ltd., which is an organic solvent-based heat developing film as disclosed in JP-A No. 2004-102263, was used.

上記フィルムをノーマル(25℃50%RH)・高湿(25℃80%RH)・低湿(25℃20%RH)の3環境下に放置し馴染ませた。(こうすることで、フィルム中の含水率も変化する。)
これらのフィルムを用いて、図4の熱現像装置において熱現像プロセスを実行した。即ち、実施例1として、塗布液を塗布した乳剤層面(EC面)側を開放してシリコンゴムローラで押圧しBC面を加熱プレートに接触させながら搬送し、図3の加熱時間Bを10秒にして熱現像を行った(EC面開放・BC面加熱・迅速処理)。
The film was allowed to acclimate by leaving it in three environments of normal (25 ° C., 50% RH), high humidity (25 ° C., 80% RH), and low humidity (25 ° C., 20% RH). (By doing this, the moisture content in the film also changes.)
Using these films, the thermal development process was performed in the thermal development apparatus of FIG. That is, as Example 1, the emulsion layer surface (EC surface) side coated with the coating solution was released and pressed with a silicon rubber roller and conveyed while the BC surface was in contact with the heating plate, and the heating time B in FIG. Then, heat development was performed (EC surface opening / BC surface heating / rapid processing).

比較例1として、フィルムを上下反転してBC面側開放・EC面側加熱した以外は実施例1と同様の条件で熱現像を行った(BC面開放・EC面加熱・迅速処理)。   As Comparative Example 1, heat development was performed under the same conditions as in Example 1 except that the film was turned upside down and heated on the BC side and EC side (BC side opening, EC side heating, and rapid processing).

比較例2として、EC面側を開放しBC面側で加熱し、加熱時間Bが14秒の通常処理とした以外は実施例1と同様の条件で熱現像を行った(EC面開放・BC面加熱・通常処理)。   As Comparative Example 2, heat development was performed under the same conditions as in Example 1 except that the EC surface side was opened and heated on the BC surface side, and the normal processing was performed with a heating time B of 14 seconds (EC surface open / BC Surface heating / normal treatment).

比較例3として、BC面側を開放しEC面側で加熱し、加熱時間Bが14秒の通常処理とした以外は実施例1と同様の条件で熱現像を行った(BC面開放・EC面加熱・通常処理)。   As Comparative Example 3, heat development was performed under the same conditions as in Example 1 except that the BC surface side was opened and the EC surface side was heated, and the normal processing was performed with a heating time B of 14 seconds (BC surface opening / EC Surface heating / normal treatment).

図5(a)、(b)は、迅速処理の実施例1及び比較例1における露光量と濃度との関係を表すセンシトカーブ(γカーブ)を示す図である。図6(a)、(b)は、通常処理の比較例2及び比較例3における露光量と濃度との関係を表すセンシトカーブ(γカーブ)を示す図である。   FIGS. 5A and 5B are diagrams showing sensit curves (γ curves) representing the relationship between the exposure amount and the density in Example 1 and Comparative Example 1 of rapid processing. FIGS. 6A and 6B are diagrams showing sensit curves (γ curves) representing the relationship between the exposure amount and the density in Comparative Examples 2 and 3 of normal processing.

図6(a)、(b)のように、従来の通常処理では、BC面加熱及びEC面加熱ともにノーマル・高湿・低湿に関わりなく絶対濃度・センシトカーブにさほど差は生じなかった。   As shown in FIGS. 6 (a) and 6 (b), in the conventional normal processing, there was no significant difference in absolute concentration and sensit curve for both the BC surface heating and EC surface heating regardless of normal, high humidity, and low humidity.

一方、図5(a)、(b)のように、迅速処理した場合、ノーマル・高湿・低湿により比較例1のEC面加熱ではセンシトカーブがかなり変化したのに対し、実施例1のBC面加熱ではさほど変化せず、比較例3程度しかばらつかず、従来の通常処理並に維持できた。これは、EC面開放・BC面加熱とすることで、加熱され揮発(蒸発)しようとするフィルム中の残留溶媒(水分・有機溶剤等)が最短距離で離散するので、加熱時間(揮発時間)が短くなっても時間短縮の影響を受け難いためと考えられる。更に、冷却系においてもフィルムのEC面が開放状態であるので、水分等がトラップされず、より長い時間、揮発させることになり、時間短縮の影響を受け難くなると考えられる。   On the other hand, as shown in FIGS. 5 (a) and 5 (b), in the case of rapid processing, the sensit curve changed considerably in the EC surface heating of Comparative Example 1 due to normal, high humidity, and low humidity, whereas the BC surface of Example 1 Heating did not change so much, it varied only about Comparative Example 3, and was maintained at the same level as conventional normal processing. This is because the residual solvent (moisture, organic solvent, etc.) in the film that is heated and volatilized (evaporates) is dispersed at the shortest distance by setting the EC surface open and BC surface heating, so the heating time (volatilization time) This is considered to be because it is difficult to be affected by the time reduction even if becomes shorter. Further, since the EC surface of the film is in an open state even in the cooling system, moisture or the like is not trapped, and it is volatilized for a longer time, which is considered to be less susceptible to the time reduction.

〈実施例2〉
次に、実施例2により保温部における隙間(スリット)加熱の効果について説明する。本実施例では、図7に示す熱現像装置を実験で使用した。この熱現像装置は、図4において加熱系の下流側でゴムローラを省略し第3の加熱プレートとし、断熱材で覆うことでフィルム通過部をスリット状にしスリット加熱を行うようにしたものである。第3の加熱プレートと断熱材とのスリット間隔を3mmとした。
<Example 2>
Next, the effect of heating the gap (slit) in the heat retaining portion will be described with reference to Example 2. In this example, the heat development apparatus shown in FIG. 7 was used in the experiment. In this thermal developing apparatus, the rubber roller is omitted on the downstream side of the heating system in FIG. 4 to form a third heating plate, and the film passage portion is slit-shaped by covering with a heat insulating material to perform slit heating. The slit interval between the third heating plate and the heat insulating material was 3 mm.

図7のスリットにおける加熱プレート表面温度、加熱プレート表面と対向する断熱材壁面温度、及びスリット内の空気温度を昇温開始から熱現像温度になるまで測定し、その時間と温度との関係を図8に示す。   Measure the surface temperature of the heating plate in the slit of FIG. 7, the temperature of the heat insulating material wall facing the surface of the heating plate, and the temperature of the air in the slit from the start of raising the temperature to the thermal development temperature, and show the relationship between the time and temperature It is shown in FIG.

図9に、スリット内でフィルムを加熱プレート表面近傍を通過させた場合、及び断熱材壁面近傍を通過させた場合のそれぞれのフィルム温度の変化を示す。   FIG. 9 shows changes in the film temperature when the film is passed through the vicinity of the surface of the heating plate in the slit and when the vicinity of the wall surface of the heat insulating material is passed.

図8から分かるように、熱現像温度に達した後は、断熱材壁面温度及びスリット内の空気温度はほぼ一定で殆ど一致し、加熱プレート表面温度よりも約3℃低い。   As can be seen from FIG. 8, after reaching the heat development temperature, the wall surface temperature of the heat insulating material and the air temperature in the slit are almost constant and almost coincide with each other, and are about 3 ° C. lower than the surface temperature of the heating plate.

図9から分かるように、スリット間隔3mm以下でかつ保温時間8秒以下ではスリット内でフィルムを加熱プレート表面近傍で通過させると、フィルム温度が現像温度の123℃より若干低下し、また、フィルムを断熱材壁面近傍で通過させると、フィルム温度は、加熱プレート表面近傍を通過させた場合よりも、フィルム温度は低下するが、両者はいずれも現像設定温度(123℃)に対し0.5℃未満で、濃度への影響は無視できる範囲内となっている。従って、保温部のスリット間隙は3mm以内とすることが可能で、両ガイドの加工時の曲率誤差や取り付け精度に対する許容量が大となり、大幅に設計の自由度を増す結果となる。   As can be seen from FIG. 9, when the slit interval is 3 mm or less and the heat retention time is 8 seconds or less, when the film is passed in the vicinity of the surface of the heating plate in the slit, the film temperature is slightly lower than the developing temperature of 123 ° C. When passed near the wall surface of the heat insulating material, the film temperature is lower than when passing near the surface of the heating plate, but both are less than 0.5 ° C with respect to the development set temperature (123 ° C). Therefore, the influence on the concentration is within a negligible range. Therefore, the slit gap of the heat retaining portion can be within 3 mm, and the tolerance for the curvature error and the mounting accuracy at the time of processing of both guides becomes large, resulting in a great increase in design freedom.

実施例2として図7の熱現像装置を使用して熱現像プロセスを実行した。このとき得られた露光量と濃度との関係を表すセンシトカーブ(γカーブ)を図10に示す。また、比較例4として図4の熱現像装置を用いた以外は実施例2と同一条件で熱現像プロセスを実行し、このとき得られた露光量と濃度との関係を表すセンシトカーブ(γカーブ)を図10に併せて示す。   As Example 2, the heat development process was performed using the heat development apparatus of FIG. FIG. 10 shows a sensit curve (γ curve) representing the relationship between the exposure amount and density obtained at this time. In addition, a thermal development process was performed under the same conditions as in Example 2 except that the thermal development apparatus of FIG. 4 was used as Comparative Example 4, and a sensit curve (γ curve) representing the relationship between the exposure amount and density obtained at this time. Is also shown in FIG.

図10から分かるように、フィルムが熱現像温度に達してから、フィルムを対向ローラで加熱プレート表面に密に密着させて加熱した場合(比較例4)と、フィルムをスリット内で加熱した場合(実施例2)とを比較すると、センシトカーブに殆ど差がなく、ほぼ同じ結果を得ることができた。   As can be seen from FIG. 10, when the film reaches the heat development temperature, the film is heated in close contact with the surface of the heating plate with a counter roller (Comparative Example 4), and when the film is heated in the slit ( When compared with Example 2), there was almost no difference in the sensit curve, and almost the same result could be obtained.

〈第3の実施の形態〉
図12は第3の実施の形態を示し、加熱ドラムと対向ローラによる熱現像装置の要部を示す図である。図13は図12の複数の対向ローラを加熱ドラムに対し付勢するための構成を概略的に示す図である。
<Third Embodiment>
FIG. 12 shows the third embodiment, and is a view showing the main part of a heat development apparatus using a heating drum and a counter roller. FIG. 13 is a diagram schematically showing a configuration for urging the plurality of opposing rollers of FIG. 12 against the heating drum.

図12に示す熱現像装置は、内部に面状の電熱ヒータ119が配置された金属製の円筒状の加熱ドラム111と、加熱ドラム111の外周面120に当接するように付勢され対向して回転可能に配置された比較的小径の金属製の複数の対向ローラ112乃至118とを有する熱現像部110と、熱現像部110の下方に配置され画像データに基づいて感光性熱現像材料からなる熱現像感光フィルム(以下、「フィルム」と略す場合もある。)Fに潜像を形成するための光走査部190と、を備える。   The heat development apparatus shown in FIG. 12 is energized and opposed so as to abut on a metal cylindrical heating drum 111 having a planar electric heater 119 disposed therein and an outer peripheral surface 120 of the heating drum 111. A heat developing unit 110 having a plurality of relatively small-diameter metal facing rollers 112 to 118 arranged rotatably, and a photosensitive heat developing material arranged below the heat developing unit 110 based on image data. A photothermographic film (hereinafter also abbreviated as “film”) F, and an optical scanning unit 190 for forming a latent image.

円筒状の加熱ドラム111は、その幅方向(図12の紙面垂直方向)寸法がフィルムFの幅方向サイズに合うように設定され、内部の面状の電熱ヒータ119により外周面120が幅方向に均一に加熱され、また、回転方向Rに回転駆動されるようになっている。   The cylindrical heating drum 111 is set so that its width direction (perpendicular to the paper surface in FIG. 12) size matches the width direction size of the film F, and the outer peripheral surface 120 is moved in the width direction by the inner surface-shaped electric heater 119. It is heated uniformly and is rotationally driven in the rotational direction R.

図13のように、各対向ローラ112〜118は、加熱ドラム111の幅方向に沿って延びており、加熱ドラム111の両端部側において軸受112b乃至118bで回転可能に軸支されている。各対向ローラ112〜118の各軸受112b〜118bと装置筐体側の固定部との間にそれぞれ付勢部材としての複数のコイルばね112a乃至118aが配置されている。これにより、各対向ローラ112〜118はコイルばね112a〜118aにより加熱ドラム111の外周面120に付勢されている。   As shown in FIG. 13, the opposing rollers 112 to 118 extend along the width direction of the heating drum 111, and are rotatably supported by bearings 112 b to 118 b on both ends of the heating drum 111. A plurality of coil springs 112a to 118a as urging members are arranged between the bearings 112b to 118b of the opposing rollers 112 to 118 and the fixed portion on the apparatus housing side, respectively. Thereby, each opposing roller 112-118 is urged | biased by the outer peripheral surface 120 of the heating drum 111 with the coil springs 112a-118a.

この場合、最上流側の対向ローラ112及びその隣の対向ローラ113,114のコイルばね112a、113a、114aの各付勢力が例えば、ばね常数を大きくすることで、その下流側の対向ローラ115〜118のコイルばね115a〜118aよりも強くなっている。   In this case, each biasing force of the coil springs 112a, 113a, 114a of the most upstream counter roller 112 and the adjacent counter rollers 113, 114, for example, increases the spring constant so that the counter rollers 115- It is stronger than the 118 coil springs 115a to 118a.

フィルムFは、図12の上向きの搬送方向Vに送られて加熱ドラム111に送り込まれ、加熱ドラム111の外周面120と各対向ローラ112〜118との間に挟まれた状態で各対向ローラ112〜118から付勢力を受けながら加熱され加熱ドラム111の回転方向Rへの回転により搬送され、最下流の対向ローラ118と加熱ドラム111との間から搬送方向Sへと更に搬送されるようになっている。このとき、フィルムFは、加熱ドラム111への送り込み始めには、付勢力が強められたコイルばね112a〜114aにより上流側の対向ローラ112〜114で比較的強く付勢されるので、加熱ドラム111の外周面120により密着される。   The film F is sent in the upward conveyance direction V in FIG. 12 and sent to the heating drum 111, and the opposing rollers 112 are sandwiched between the outer peripheral surface 120 of the heating drum 111 and the opposing rollers 112 to 118. It is heated while receiving a biasing force from ˜118, and is conveyed by the rotation of the heating drum 111 in the rotation direction R, and further conveyed between the most downstream facing roller 118 and the heating drum 111 in the conveyance direction S. ing. At this time, the film F is urged relatively strongly by the upstream facing rollers 112 to 114 by the coil springs 112 a to 114 a whose urging force is increased at the beginning of feeding to the heating drum 111. The outer peripheral surface 120 is closely attached.

図12の光走査部190は、熱現像感光フィルムFを副走査搬送しながらレーザ光Lで紙面垂直方向に主走査することで、画像データに基づいて熱現像感光フィルムFに潜像を形成する。なお、図12では光走査部190でフィルムFに潜像を形成しながらフィルムFの先端側を熱現像部110で加熱し現像しており、サイクルタイムを短くしているが、光走査部190を離して配置し、潜像の形成が終了したフィルムを熱現像部110で加熱するようにしてもよい。   The optical scanning unit 190 in FIG. 12 forms a latent image on the photothermographic film F based on image data by performing main scanning in the direction perpendicular to the paper surface with the laser light L while carrying the subscanning conveyance of the photothermographic film F. . In FIG. 12, while the latent image is formed on the film F by the optical scanning unit 190, the leading end side of the film F is heated and developed by the thermal development unit 110, and the cycle time is shortened. The film having the latent image formed thereon may be heated by the heat developing unit 110.

上述の加熱ドラム111及び対向ローラ112〜118の具体的な構成例を説明すると、加熱ドラム111は、径140mmのアルミニウム製の円筒管の外周面にシリコンゴムによる弾性層を形成し、弾性層の上にフッ素化合物のコーティングによる滑面層を形成し、内周面に面状の電熱ヒータ119を貼付したものを使用できる。弾性層のシリコンゴムのゴム硬度はショアA硬度にて50〜60°が好ましい。   A specific configuration example of the heating drum 111 and the opposed rollers 112 to 118 will be described. The heating drum 111 is formed by forming an elastic layer made of silicon rubber on the outer peripheral surface of an aluminum cylindrical tube having a diameter of 140 mm. A smooth surface layer formed by coating with a fluorine compound may be formed thereon, and a planar electric heater 119 may be attached to the inner peripheral surface. The rubber hardness of the silicon rubber of the elastic layer is preferably 50 to 60 ° in Shore A hardness.

また、対向ローラ112〜118は、例えば径8〜12mmの鉄鋼製の円柱からなるものを使用でき、例えば、上流側の対向ローラ112〜114は、蓄熱容量の大きい径12mmのものを用い、コイルばね112a〜114a及び各対向ローラ自重成分による加熱ドラム111への付勢力は7乃至20gf/cmの範囲内が好ましく、その下流側の対向ローラ115〜118は、径10mmと径8mmのものを交互に配列し、コイルばね115a〜118a及び各対向ローラ自重成分による各対向ローラから加熱ドラム111への付勢力は1乃至7gf/cmの範囲内が好ましい。   Further, the opposing rollers 112 to 118 can be made of, for example, steel cylinders having a diameter of 8 to 12 mm. For example, the upstream opposing rollers 112 to 114 having a diameter of 12 mm having a large heat storage capacity are used as coils. The biasing force to the heating drum 111 by the springs 112a to 114a and each counter roller's own weight component is preferably in the range of 7 to 20 gf / cm, and the counter rollers 115 to 118 on the downstream side are alternately 10 mm and 8 mm in diameter. The biasing force from each counter roller to the heating drum 111 by the coil springs 115a to 118a and the self-weight component of each counter roller is preferably in the range of 1 to 7 gf / cm.

図12,図13の熱現像装置の動作について図11を参照して説明する。まず、熱現像感光フィルムFが搬送されてきた光走査部190において画像データに基づいてレーザ光LによりフィルムFに露光走査することで潜像を形成する。   The operation of the heat development apparatus of FIGS. 12 and 13 will be described with reference to FIG. First, a latent image is formed by exposing and scanning the film F with laser light L based on the image data in the optical scanning unit 190 to which the photothermographic film F has been conveyed.

潜像の形成されたフィルムFは、図12の搬送方向Vに搬送され、加熱ドラム111の外周面120と最上流の対向ローラ112との間に送り込まれると、回転中の加熱ドラム111により、順々に、対向ローラ112からその隣の対向ローラ113,114へと搬送される。この間に、フィルムFは、加熱ドラム111の電熱ヒータ119により加熱された外周面120に接触を開始し加熱されることで、図11の第1ステップS01のように現像温度Tの近傍に到達するが、このように現像温度Tの近傍に達するまでの間に、フィルムFは、上流側の対向ローラ112〜114で付勢力が強められたコイルばね112a〜114aにより外周面120に一層密に接触するので、外周面120からフィルムFへの伝熱量をほぼ一定に維持できる。   When the film F on which the latent image is formed is transported in the transport direction V of FIG. 12 and sent between the outer peripheral surface 120 of the heating drum 111 and the uppermost counter roller 112, the rotating heating drum 111 In sequence, the paper is conveyed from the opposing roller 112 to the adjacent opposing rollers 113 and 114. During this time, the film F starts to contact the outer peripheral surface 120 heated by the electric heater 119 of the heating drum 111 and is heated, thereby reaching the vicinity of the developing temperature T as in the first step S01 of FIG. However, until the temperature reaches the vicinity of the developing temperature T, the film F comes into closer contact with the outer peripheral surface 120 by the coil springs 112a to 114a whose urging force is strengthened by the upstream facing rollers 112 to 114. Therefore, the amount of heat transfer from the outer peripheral surface 120 to the film F can be maintained substantially constant.

次に、現像温度Tに到達したフィルムFは、更に外周面120と各対向ローラ115〜118との間に挟まれた状態で各対向ローラ115〜118から付勢力を受けながら加熱ドラム111の回転方向Rへの回転により搬送されるが、この間にフィルムFは、図11のステップS02のように、現像温度Tに維持されて加熱され、最下流の対向ローラ118と加熱ドラム111との間から搬送方向Sへと搬送され、潜像が現像されて可視像となったフィルムが出力する。   Next, the film F that has reached the developing temperature T is further rotated by the heating drum 111 while receiving a biasing force from each of the opposing rollers 115 to 118 while being sandwiched between the outer peripheral surface 120 and each of the opposing rollers 115 to 118. The film F is conveyed by rotation in the direction R. During this time, the film F is heated while being maintained at the developing temperature T as shown in step S02 of FIG. 11, and from between the most downstream counter roller 118 and the heating drum 111. A film that has been transported in the transport direction S and developed as a visible image by developing the latent image is output.

以上のように、フィルムFと加熱ドラム111の外周面120との接触が不充分であると濃度むらが発生し易い第1のステップS01において、フィルムFと外周面120との間をより密に接触させることができ、外周面120からフィルムFへの伝熱量をほぼ一定に維持できるので、濃度むらの発生を効果的に抑えることができる。   As described above, if the contact between the film F and the outer peripheral surface 120 of the heating drum 111 is insufficient, density unevenness is likely to occur in the first step S01. Since the amount of heat transfer from the outer peripheral surface 120 to the film F can be maintained almost constant, the occurrence of density unevenness can be effectively suppressed.

また、フィルムFは、上流側の対向ローラ112〜114で付勢力が強められたコイルばね112a〜114aにより外周面120により密に接触するので、フィルムFの全幅にわたって密着し、濃度の低下が発生し難くなる。   Further, since the film F is in close contact with the outer peripheral surface 120 by the coil springs 112a to 114a whose urging force is strengthened by the upstream facing rollers 112 to 114, the film F is in close contact with the entire width of the film F, and the density is reduced. It becomes difficult to do.

また、濃度むらの発生に影響の少ない第2のステップS02ではフィルムFと外周面120との間で特に密な接触は必要がないので、コイルばね115a〜118aは、各対向ローラの重力成分と併せて、例えば上述の1乃至7gf/cmの範囲内となるような各対向ローラに対する付勢力を得られる程度であれば充分である。   Further, in the second step S02 which has little influence on the occurrence of density unevenness, there is no need for particularly close contact between the film F and the outer peripheral surface 120. Therefore, the coil springs 115a to 118a are separated from the gravity component of each counter roller. At the same time, it is sufficient that the urging force with respect to each of the opposing rollers can be obtained, for example, within the range of 1 to 7 gf / cm.

また、熱現像装置の熱現像部の上流側で、フィルムを予熱し、現像温度への上昇ばらつきを小さくしようとする装置もあるが、装置のサイズ・コストの増加になるのに対し、本実施の形態の熱現像装置は、装置のサイズ・コストの増加は殆どない。   There are also devices that preheat the film upstream of the heat development section of the heat development device to reduce the variation in the development temperature, but this increases the size and cost of the device. In the heat developing apparatus of this form, the size and cost of the apparatus hardly increase.

なお、図13では、対向ローラ112,113,114のコイルばね112a,113a,114aの付勢力を強めたが、図11のステップS01における現像温度Tに到達する時間に応じて、付勢力を強める対向ローラを適宜設定でき、例えば、対向ローラ112,113のコイルばね112a,113aの付勢力を強めてもよいし、また、対向ローラ112〜115のコイルばね112a〜115aの付勢力を強めてもよい。   In FIG. 13, the urging force of the coil springs 112a, 113a, 114a of the opposing rollers 112, 113, 114 is increased, but the urging force is increased according to the time to reach the developing temperature T in step S01 of FIG. The opposing roller can be appropriately set. For example, the urging force of the coil springs 112a and 113a of the opposing rollers 112 and 113 may be increased, or the urging force of the coil springs 112a to 115a of the opposing rollers 112 to 115 may be increased. Good.

また、図11の現像温度Tは、熱現像感光フィルムFの種類等に応じて適宜設定できるが、例えば、100乃至200℃の範囲内に設定でき、第1のステップS01における現像温度Tの近傍とは、例えば、現像温度T±1℃に設定できる。   Further, the developing temperature T in FIG. 11 can be set as appropriate according to the type of the photothermographic film F, but can be set within a range of 100 to 200 ° C., for example, in the vicinity of the developing temperature T in the first step S01. Can be set, for example, to a developing temperature T ± 1 ° C.

次に、加熱ドラムと対向ローラによる熱現像装置の別の構成例を図14を参照して説明する。図14は第1の実施の形態の変形例を示し、加熱ドラムと対向ローラによる熱現像装置の要部を示す図である。   Next, another configuration example of the heat developing apparatus using the heating drum and the counter roller will be described with reference to FIG. FIG. 14 shows a modification of the first embodiment, and is a diagram showing a main part of a heat development apparatus including a heating drum and a counter roller.

図14に示す熱現像装置は、加熱ドラム111に対向して配置する複数の対向ローラ121乃至126の内の上流側の対向ローラ121,122,123を加熱ドラム111の外周面120の円周方向に比較的接近して密に配置し、下流側の対向ローラ124乃至126は比較的離間して粗に配置したものである。即ち、対向ローラ121と122との間及び対向ローラ122と123との間をそれぞれ円周方向に比較的近づける一方、対向ローラ123と124との間、対向ローラ124と125との間及び対向ローラ125と126との間をそれぞれ円周方向に比較的離している。   In the thermal development apparatus shown in FIG. 14, upstream counter rollers 121, 122, and 123 among a plurality of counter rollers 121 to 126 arranged to face the heating drum 111 are arranged in the circumferential direction of the outer peripheral surface 120 of the heating drum 111. The counter rollers 124 to 126 on the downstream side are arranged relatively closely and roughly. That is, while the counter rollers 121 and 122 and the counter rollers 122 and 123 are relatively close to each other in the circumferential direction, the counter rollers 123 and 124, the counter rollers 124 and 125, and the counter rollers 125 and 126 are relatively spaced apart in the circumferential direction.

また、各対向ローラ121乃至126は、フィルムFを挟んで加熱ドラム111の外周面120に押し付けられるように図13と同様にコイルばね等からなる付勢部材により付勢されている。   Each of the opposing rollers 121 to 126 is urged by an urging member made of a coil spring or the like as in FIG. 13 so as to be pressed against the outer peripheral surface 120 of the heating drum 111 with the film F interposed therebetween.

図14の熱現像装置によれば、図12と同様にして潜像の形成された熱現像感光フィルムFは、図14の搬送方向Vに搬送され、加熱ドラム111の外周面120と最上流の対向ローラ121との間に送り込まれると、回転中の加熱ドラム111により、順々に、対向ローラ121からその隣の対向ローラ122,123へと搬送されるが、この間、フィルムFは、上流側の対向ローラ121〜123がフィルム進行方向である円周方向に密に配置されているので、加熱ドラム111の加熱された外周面120により密着して加熱される。   14, the photothermographic film F having a latent image formed thereon is conveyed in the conveying direction V in FIG. 14, and the outermost surface 120 of the heating drum 111 and the uppermost stream in the same manner as in FIG. When fed between the opposing rollers 121, the heated drum 111 is sequentially conveyed from the opposing roller 121 to the adjacent opposing rollers 122, 123 by the rotating heating drum 111. During this time, the film F is on the upstream side. Since the opposed rollers 121 to 123 are densely arranged in the circumferential direction which is the film traveling direction, the opposed rollers 121 to 123 are heated in close contact with the heated outer peripheral surface 120 of the heating drum 111.

従って、図12と同様に、図11の第1のステップS01において、フィルムFと外周面120との間をより密に接触させることができ、外周面120からフィルムFへの伝熱量をほぼ一定に維持できるので、濃度むらの発生を効果的に抑えることができる。   Accordingly, similarly to FIG. 12, in the first step S01 of FIG. 11, the film F and the outer peripheral surface 120 can be brought into closer contact, and the amount of heat transfer from the outer peripheral surface 120 to the film F is substantially constant. Therefore, the occurrence of uneven density can be effectively suppressed.

また、フィルムFは、密に配置された上流側の対向ローラ121〜123により外周面120により密に接触するので、フィルムFの全幅にわたって密着し、濃度の低下が発生し難くなる。また、濃度むらの発生に影響の少ない第2のステップS02ではフィルムFと外周面120との間で特に密な接触は必要がないので、下流側の対向ローラ124〜126は粗に配置してもよいのである。   Further, since the film F is in close contact with the outer peripheral surface 120 by the upstream facing rollers 121 to 123 that are densely arranged, the film F is in close contact with the entire width of the film F, and the density is hardly lowered. Further, in the second step S02, which has little influence on the occurrence of density unevenness, there is no need for particularly close contact between the film F and the outer peripheral surface 120. Therefore, the opposed rollers 124 to 126 on the downstream side are arranged roughly. It is good.

なお、図11の第1のステップS01におけるフィルムFと外周面120との間の更なる密着を得るために、図13のように、上流側の対向ローラ121〜123の各コイルばねの付勢力を下流側よりも強めてもよい。この場合、対向ローラ121のコイルばねのみ、また、対向ローラ121、122の各コイルばねの付勢力を強めるようにしてもよい。   In order to obtain further adhesion between the film F and the outer peripheral surface 120 in the first step S01 of FIG. 11, the biasing force of each coil spring of the upstream facing rollers 121 to 123 as shown in FIG. May be stronger than the downstream side. In this case, the biasing force of only the coil spring of the opposing roller 121 or each coil spring of the opposing rollers 121 and 122 may be increased.

〈第4の実施の形態〉
図15は第4の実施の形態を示し、加熱プレートと対向ローラによる熱現像装置の要部を示す図である。
<Fourth embodiment>
FIG. 15 is a diagram showing a main part of a heat development apparatus including a heating plate and a counter roller according to a fourth embodiment.

図15の熱現像装置は、フィルムFを加熱するための熱源として面状の電熱ヒータ131b、132b、133bを内部に有しかつフィルムFの搬送方向Hに直線状にかつほぼ平坦に形成されたガイド面131a、132a、133aを有する複数の加熱プレート131,132,133、及び、加熱プレート131,132,133との間にフィルムFを挟持しながら搬送方向Hに搬送するための回転駆動される複数の対向ローラ134乃至136,複数の対向ローラ137乃至139、複数の対向ローラ140乃至142、を備える。また、図示を省略したが、加熱プレート131の上流側には、図12と同様の光走査部が配置されており、画像データに基づいてフィルムFに潜像を形成する。   The heat development apparatus of FIG. 15 has planar electric heaters 131b, 132b, and 133b as heat sources for heating the film F, and is formed linearly and substantially flat in the conveyance direction H of the film F. A plurality of heating plates 131, 132, 133 having guide surfaces 131 a, 132 a, 133 a, and a rotational drive for conveying in the conveying direction H while sandwiching the film F between the heating plates 131, 132, 133. A plurality of counter rollers 134 to 136, a plurality of counter rollers 137 to 139, and a plurality of counter rollers 140 to 142 are provided. Although not shown, an optical scanning unit similar to that shown in FIG. 12 is disposed on the upstream side of the heating plate 131, and a latent image is formed on the film F based on the image data.

複数の加熱プレート131,132,133は、搬送方向Hの上流側からこの順で配置されている。加熱プレート131〜133のガイド面131a、132a、133aは内部の面状の電熱ヒータ131b、132b、133bによりそれぞれ幅方向(ガイド面上で搬送方向Hと直交する方向)に均一に加熱されることで、ガイド面131a、132a、133aを順に搬送方向Hに搬送されるフィルムFを加熱し、フィルムFに形成された潜像を現像し可視像化する。なお、各加熱プレート131〜133の各ガイド面131a〜133aは、アルミニウム等の金属材料からなり、その表面にフッ素化合物のコーティングを施すことが好ましい。   The plurality of heating plates 131, 132, 133 are arranged in this order from the upstream side in the transport direction H. The guide surfaces 131a, 132a, 133a of the heating plates 131-133 are uniformly heated in the width direction (direction perpendicular to the conveying direction H on the guide surface) by the internal planar electric heaters 131b, 132b, 133b, respectively. Then, the film F conveyed in the conveying direction H in order through the guide surfaces 131a, 132a, and 133a is heated, and the latent image formed on the film F is developed and visualized. In addition, it is preferable that each guide surface 131a-133a of each heating plate 131-133 consists of metal materials, such as aluminum, and coats the fluorine compound on the surface.

各加熱プレート131〜133に設けられた複数の対向ローラ134〜142は、各ガイド面131a〜133aの搬送方向Hに直交する幅方向(図15の紙面垂直方向)に延びており、その両端側に軸受134b乃至142bを介してコイルばね134a乃至142aにより各ガイド面131a〜133aに向けて付勢されている。なお、各対向ローラ137〜142はシリコンゴム等のゴムローラから構成できる。   A plurality of opposing rollers 134 to 142 provided on the respective heating plates 131 to 133 extend in the width direction (perpendicular to the paper surface in FIG. 15) perpendicular to the conveying direction H of the respective guide surfaces 131a to 133a. Are biased toward the guide surfaces 131a to 133a by coil springs 134a to 142a via bearings 134b to 142b. Each of the opposing rollers 137 to 142 can be composed of a rubber roller such as silicon rubber.

この場合、最上流の加熱プレート131に配置された複数の対向ローラ134〜136のコイルばね134a〜136aの各付勢力が例えば、ばね常数を大きくすることで、その下流側の対向ローラ137〜142のコイルばね137a〜142aよりも強くなっている。   In this case, each biasing force of the coil springs 134a to 136a of the plurality of opposing rollers 134 to 136 disposed on the most upstream heating plate 131 increases the spring constant, for example, so that the opposing rollers 137 to 142 on the downstream side thereof. The coil springs 137a to 142a are stronger.

なお、各対向ローラから各加熱プレートへの付勢力は各コイルばねのみならず各対向ローラの自重によっても生じるので、各対向ローラの自重を変えることで付勢力を変化させるようにしてもよい。また、コイルばねを省略して対向ローラの自重のみで付勢力を生じさせ調整してもよく、この場合、各対向ローラの仕上げ精度をよくすることで、幅方向における各対向ローラのフィルムへの均一接触性を向上させることができる。   The urging force from each counter roller to each heating plate is generated not only by each coil spring but also by the weight of each counter roller. Therefore, the urging force may be changed by changing the weight of each counter roller. Further, the coil spring may be omitted and adjustment may be performed by generating an urging force only by the weight of the opposing roller. In this case, by improving the finishing accuracy of each opposing roller, the film of each opposing roller in the width direction is adjusted. Uniform contact can be improved.

また、加熱プレート131に対する各対向ローラ134〜136の各付勢力は、7乃至20gf/cmの範囲内が好ましく、その下流側の加熱プレート132,133に対する各対向ローラ137〜142の各付勢力は、1乃至7gf/cmの範囲内が好ましい。   The biasing forces of the opposing rollers 134 to 136 with respect to the heating plate 131 are preferably in the range of 7 to 20 gf / cm, and the biasing forces of the opposing rollers 137 to 142 with respect to the heating plates 132 and 133 on the downstream side thereof are It is preferably in the range of 1 to 7 gf / cm.

図15の熱現像装置の動作について図11を参照して説明する。図12と同様にして熱現像感光フィルムFに潜像を形成してから、フィルムFは、図15の水平方向の搬送方向Hに搬送され、加熱プレート131のガイド面131aと最上流の対向ローラ134との間に送り込まれると、回転中の各対向ローラにより、順々に、対向ローラ134からその隣の対向ローラ135,136へと搬送される。この間に、フィルムFは、加熱プレート131の電熱ヒータ131bにより加熱されたガイド面131aに接触を開始し加熱されることで、図11の第1ステップS01のように現像温度Tの近傍に到達するが、このように現像温度Tの近傍に達するまでの間に、フィルムFは、上流側の対向ローラ134〜136で付勢力が強められたコイルばね134a〜136aによりガイド面131aに一層密に接触するので、ガイド面131aからフィルムFへの伝熱量をほぼ一定に維持できる。   The operation of the heat development apparatus of FIG. 15 will be described with reference to FIG. After forming a latent image on the photothermographic film F in the same manner as in FIG. 12, the film F is transported in the horizontal transport direction H in FIG. 15, and the guide surface 131a of the heating plate 131 and the uppermost counter roller. When the sheet is fed between the counter roller 134 and the counter roller 135, the rotating counter roller is sequentially transported from the counter roller 134 to the adjacent counter rollers 135 and 136. During this time, the film F starts to come into contact with the guide surface 131a heated by the electric heater 131b of the heating plate 131 and is heated, thereby reaching the vicinity of the developing temperature T as in the first step S01 of FIG. However, until the temperature reaches the vicinity of the developing temperature T, the film F comes into closer contact with the guide surface 131a by the coil springs 134a to 136a whose urging force is strengthened by the upstream facing rollers 134 to 136. Therefore, the amount of heat transfer from the guide surface 131a to the film F can be maintained substantially constant.

次に、現像温度Tに到達したフィルムFは、更に加熱プレート132,133でガイド面132a、133aと各対向ローラ137〜142との間に挟まれた状態で各対向ローラ137〜142から付勢力を受けながら搬送方向Hに搬送されるが、この間にフィルムFは、図11のステップS02のように、現像温度Tに維持されて加熱され、最下流の対向ローラ142と加熱プレート133との間から搬送方向H’へと搬送され、潜像が現像されて可視像となったフィルムFが出力する。   Next, the film F that has reached the developing temperature T is further urged by the opposing rollers 137 to 142 while being sandwiched between the guide surfaces 132a and 133a and the opposing rollers 137 to 142 by the heating plates 132 and 133. In the meantime, the film F is heated while being maintained at the developing temperature T as shown in step S02 of FIG. 11, and between the counter roller 142 and the heating plate 133 on the most downstream side. The film F is transported in the transport direction H ′ from which the latent image is developed to become a visible image.

以上のように、フィルムFと加熱プレート131のガイド面131aとの接触が不充分であると濃度むらが発生し易い第1のステップS01において、フィルムFとガイド面131aとの間をより密に接触させることができ、ガイド面131aからフィルムFへの伝熱量をほぼ一定に維持できるので、濃度むらの発生を効果的に抑えることができる。   As described above, if the contact between the film F and the guide surface 131a of the heating plate 131 is insufficient, unevenness in density tends to occur in the first step S01, and the gap between the film F and the guide surface 131a is more dense. Since the amount of heat transfer from the guide surface 131a to the film F can be maintained almost constant, the occurrence of uneven density can be effectively suppressed.

また、フィルムFは、上流側の対向ローラ134〜136で付勢力が強められたコイルばね134a〜136aによりガイド面131aにより密に接触するので、フィルムFの全幅にわたって密着し、濃度の低下が発生し難くなる。   Further, since the film F is in close contact with the guide surface 131a by the coil springs 134a to 136a whose urging force is strengthened by the upstream facing rollers 134 to 136, the film F is in close contact with the entire width of the film F, resulting in a decrease in density. It becomes difficult to do.

また、濃度むらの発生に影響の少ない第2のステップS02ではフィルムFとガイド面132a、133aとの間で特に密な接触は必要がないので、コイルばね137a〜142aは、各対向ローラの重力成分と併せて、例えば上述の1乃至7gf/cmの範囲内となるような各対向ローラに対する付勢力を得られる程度であれば充分である。   Further, in the second step S02 that has little influence on the occurrence of density unevenness, there is no need for particularly close contact between the film F and the guide surfaces 132a and 133a. Along with the components, for example, it is sufficient to obtain an urging force with respect to each of the opposing rollers, for example, within the range of 1 to 7 gf / cm described above.

次に、図15の変形例について図16を参照して説明する。図16は第4の実施の形態の変形例を示し、加熱プレートと対向ローラによる熱現像装置の要部を示す図である。   Next, a modification of FIG. 15 will be described with reference to FIG. FIG. 16 shows a modification of the fourth embodiment, and is a view showing a main part of a heat development apparatus using a heating plate and a counter roller.

図16に示す熱現像装置は、最上流の加熱プレート131に対向して複数の対向ローラ171乃至174を上流側から順に搬送方向Hに比較的接近して密に配置し、下流側の加熱プレート132には単一の対向ローラ175を配置し、更に下流側の加熱プレート133には単一の対向ローラ176を配置したものである。即ち、対向ローラ171と172との間、対向ローラ172と173との間、及び対向ローラ173と174との間をそれぞれ搬送方向Hに比較的近づける一方、対向ローラ174と175との間及び対向ローラ175と176との間をそれぞれ搬送方向Hに比較的離している。   In the heat development apparatus shown in FIG. 16, a plurality of opposing rollers 171 to 174 are arranged close to each other in close proximity to the conveying direction H in order from the upstream side so as to face the most upstream heating plate 131, and the downstream heating plate is arranged. A single counter roller 175 is disposed at 132, and a single counter roller 176 is disposed at the heating plate 133 on the downstream side. In other words, the counter rollers 171 and 172, the counter rollers 172 and 173, and the counter rollers 173 and 174 are relatively close to the conveying direction H, respectively, while the counter rollers 174 and 175 are opposed to each other. The rollers 175 and 176 are relatively separated from each other in the transport direction H.

また、各対向ローラ171乃至176は、フィルムFを挟んで加熱プレート131〜133のガイド面131a〜133aに押し付けられるように図15と同様にコイルばね等からなる付勢部材により付勢されている。   Each of the opposing rollers 171 to 176 is urged by an urging member made of a coil spring or the like as in FIG. 15 so as to be pressed against the guide surfaces 131a to 133a of the heating plates 131 to 133 across the film F. .

図16の熱現像装置によれば、潜像の形成された熱現像感光フィルムFは、図16の搬送方向Hに搬送され、加熱プレート131のガイド面131aと最上流の対向ローラ171との間に送り込まれると、回転中の各対向ローラにより、順々に、対向ローラ171からその隣の対向ローラ172,173,174へと搬送されるが、この間、フィルムFは、上流側の対向ローラ171〜174がフィルムFの搬送方向Hに密に配置されているので、加熱プレート131の加熱されたガイド面131aにより密着して加熱される。   According to the heat development apparatus of FIG. 16, the photothermographic film F having a latent image formed thereon is conveyed in the conveyance direction H of FIG. 16, and between the guide surface 131a of the heating plate 131 and the uppermost counter roller 171. Then, each of the rotating counter rollers is sequentially conveyed from the counter roller 171 to the adjacent counter rollers 172, 173, and 174. During this time, the film F is fed to the upstream counter roller 171. ˜174 are densely arranged in the conveyance direction H of the film F, and are heated in close contact with the heated guide surface 131a of the heating plate 131.

従って、図15と同様に、図11の第1のステップS01において、フィルムFとガイド面131aとの間をより密に接触させることができ、ガイド面131aからフィルムFへの伝熱量をほぼ一定に維持できるので、濃度むらの発生を効果的に抑えることができる。   Therefore, similarly to FIG. 15, in the first step S01 of FIG. 11, the film F and the guide surface 131a can be brought into closer contact, and the heat transfer amount from the guide surface 131a to the film F is substantially constant. Therefore, the occurrence of uneven density can be effectively suppressed.

また、フィルムFは、密に配置された上流側の対向ローラ171〜174によりガイド面131aにより密に接触するので、フィルムFの全幅にわたって密着し、濃度の低下が発生し難くなる。また、濃度むらの発生に影響の少ない第2のステップS02ではフィルムFとガイド面132a、133aとの間で特に密な接触は必要がないので、下流側の対向ローラ175,176は粗に配置してもよいのである。   Further, since the film F is in close contact with the guide surface 131a by the upstream-side opposing rollers 171 to 174 arranged densely, the film F is in close contact with the entire width of the film F, and a decrease in density is less likely to occur. Further, in the second step S02 that has little influence on the occurrence of density unevenness, there is no need for particularly close contact between the film F and the guide surfaces 132a and 133a, so that the opposed rollers 175 and 176 on the downstream side are roughly arranged. You may do it.

なお、図11の第1のステップS01におけるフィルムFとガイド面131aとの間の更なる密着を得るために、図15のように、上流側の対向ローラ171〜174の各コイルばね及び/又は各対向ローラ自重による付勢力を下流側よりも強めてもよい。この場合、対向ローラ171のみ、対向ローラ171、172、または対向ローラ171、172、173の付勢力を強めるようにしてもよい。   In order to obtain further close contact between the film F and the guide surface 131a in the first step S01 in FIG. 11, the coil springs and / or the upstream opposing rollers 171 to 174 as shown in FIG. The biasing force due to the weight of each counter roller may be stronger than that on the downstream side. In this case, the urging force of the opposing rollers 171, 172 or the opposing rollers 171, 172, 173 may be increased only for the opposing roller 171.

次に、図15の別の変形例について図17を参照して説明する。図17は第4の実施の形態の別の変形例を示し、加熱プレートと対向ローラによる熱現像装置の要部を示す図である。   Next, another modification of FIG. 15 will be described with reference to FIG. FIG. 17 shows another modification of the fourth embodiment, and is a view showing a main part of a heat development apparatus using a heating plate and a counter roller.

図17に示す熱現像装置は、最上流の加熱プレート131に対向して配置された複数の対向ローラ134〜136とガイド面131aとの間の隙間g1と、中間の加熱プレート132に対向して配置された複数の対向ローラ137〜139とガイド面132aとの間の隙間g2と、最下流の加熱プレート133に対向して配置された複数の対向ローラ140〜142とガイド面133aとの隙間g3とに関し、下流側の隙間g2,g3に対し上流側のg1を狭く設定したものである。   The heat development apparatus shown in FIG. 17 is opposed to the gap g1 between the plurality of facing rollers 134 to 136 and the guide surface 131a disposed facing the most upstream heating plate 131, and the intermediate heating plate 132. A gap g2 between the plurality of opposed rollers 137 to 139 and the guide surface 132a, and a gap g3 between the plurality of opposed rollers 140 to 142 arranged to face the most downstream heating plate 133 and the guide surface 133a. , The upstream side g1 is set narrower than the downstream side gaps g2 and g3.

各隙間g1,g2,g3は、各対向ローラ134〜142を各ガイド面131a〜133aに対する位置を決めることで設定でき、フィルムFの厚さよりも小さく設定されている。   The gaps g1, g2, and g3 can be set by determining the positions of the opposing rollers 134 to 142 with respect to the guide surfaces 131a to 133a, and are set smaller than the thickness of the film F.

図17の熱現像装置によれば、潜像の形成された熱現像感光フィルムFは、図16の搬送方向Hに搬送され、加熱プレート131のガイド面131aと最上流の対向ローラ134との間に送り込まれると、回転中の各対向ローラにより、順々に、対向ローラ134からその隣の対向ローラ135,136へと搬送されるが、この間、フィルムFは、上流側の対向ローラ134〜136がより狭い隙間g1でガイド面131aにより接近して配置されているので、加熱プレート131の加熱されたガイド面131aにより密着して加熱される。   17, the photothermographic film F having a latent image formed thereon is conveyed in the conveying direction H in FIG. 16, and between the guide surface 131a of the heating plate 131 and the uppermost counter roller 134. In this case, the film F is sequentially conveyed from the opposing roller 134 to the adjacent opposing rollers 135 and 136 by the rotating opposing rollers. During this time, the film F is fed to the upstream opposing rollers 134 to 136. Is disposed closer to the guide surface 131a with a narrower gap g1, and is heated in close contact with the heated guide surface 131a of the heating plate 131.

従って、図15と同様に、図11の第1のステップS01において、フィルムFとガイド面131aとの間をより密に接触させることができ、ガイド面131aからフィルムFへの伝熱量をほぼ一定に維持できるので、濃度むらの発生を効果的に抑えることができる。   Therefore, similarly to FIG. 15, in the first step S01 of FIG. 11, the film F and the guide surface 131a can be brought into closer contact, and the heat transfer amount from the guide surface 131a to the film F is substantially constant. Therefore, the occurrence of uneven density can be effectively suppressed.

また、フィルムFは、ガイド面131aに対し狭く配置された上流側の対向ローラ134〜136によりガイド面131aにより密に接触するので、フィルムFの全幅にわたって密着し、濃度の低下が発生し難くなる。また、濃度むらの発生に影響の少ない第2のステップS02ではフィルムFとガイド面132a、133aとの間で特に密な接触は必要がないので、下流側では、隙間g2,g3は比較的大きくてもよいのである。   In addition, since the film F is in close contact with the guide surface 131a by the upstream facing rollers 134 to 136 that are arranged narrowly with respect to the guide surface 131a, the film F is in close contact with the entire width of the film F, and the decrease in density is less likely to occur. . Further, in the second step S02 that has little influence on the occurrence of density unevenness, there is no need for particularly close contact between the film F and the guide surfaces 132a and 133a. Therefore, the gaps g2 and g3 are relatively large on the downstream side. It may be.

〈第5の実施の形態〉
図18は第5の実施の形態を示し、加熱プレートとベルトによる熱現像装置の要部を示す図である。
<Fifth embodiment>
FIG. 18 shows a fifth embodiment, and is a diagram showing a main part of a heat development apparatus using a heating plate and a belt.

図18に示す熱現像装置は、上流側から順に配置された加熱プレート131、132,133のガイド面131a、132a、133aに対向するようにエンドレスベルト150が配置されたものである。エンドレスベルト150は、複数のプーリ151乃至154に掛け渡され、例えばプーリ151が回転駆動されることで、方向Aにエンドレス状に移動するようになっている。   In the heat development apparatus shown in FIG. 18, an endless belt 150 is arranged so as to face the guide surfaces 131a, 132a, 133a of the heating plates 131, 132, 133 arranged in order from the upstream side. The endless belt 150 is stretched around a plurality of pulleys 151 to 154, and is moved endlessly in the direction A, for example, when the pulley 151 is rotationally driven.

エンドレスベルト150は、プーリ151と152との間で、ガイド面131a、132a、133aに接近しており、方向Aに移動することでガイド面131a〜133aとの間でフィルムFを挟んだ状態で搬送方向Hに搬送するようになっている。   The endless belt 150 is close to the guide surfaces 131a, 132a, and 133a between the pulleys 151 and 152, and moves in the direction A so that the film F is sandwiched between the guide surfaces 131a to 133a. It is designed to carry in the carrying direction H.

プーリ151と152との間の比較的上流側にエンドレスベルト150をガイド面131a、132aに押さえ付けるような押さえローラ155,156を配置している。押さえローラ155,156は、例えば、図15と同様にコイルばね等の付勢部材によりガイド面131a、132aに向けて付勢されるようにしてもよい。   On the relatively upstream side between the pulleys 151 and 152, press rollers 155 and 156 that press the endless belt 150 against the guide surfaces 131a and 132a are arranged. The pressing rollers 155 and 156 may be urged toward the guide surfaces 131a and 132a by an urging member such as a coil spring, as in FIG.

図18の熱現像装置によれば、潜像の形成された熱現像感光フィルムFは、図18の搬送方向Hに搬送され、加熱プレート131のガイド面131aとエンドレスベルト150との間に送り込まれると、方向Aに移動中のエンドレスベルト150により、ガイド面131aから順々に、ガイド面132a、133aへと搬送されるが、この間、フィルムFは、上流側の押さえローラ155,156によりエンドレスベルト150がガイド面131a、132aに対し押さえ付けられているので、加熱プレート131、132の加熱されたガイド面131a、132aにより密着して加熱される。   18, the photothermographic film F having a latent image formed thereon is conveyed in the conveying direction H in FIG. 18, and sent between the guide surface 131a of the heating plate 131 and the endless belt 150. Then, the endless belt 150 moving in the direction A is sequentially conveyed from the guide surface 131a to the guide surfaces 132a and 133a. During this time, the film F is conveyed by the upstream pressing rollers 155 and 156. Since 150 is pressed against the guide surfaces 131a and 132a, it is heated in close contact with the heated guide surfaces 131a and 132a of the heating plates 131 and 132.

従って、図11の第1のステップS01において、フィルムFとガイド面131a、132aとをより密に接触させることができ、ガイド面131a、132aからフィルムFへの伝熱量をほぼ一定に維持できるので、濃度むらの発生を効果的に抑えることができる。   Accordingly, in the first step S01 of FIG. 11, the film F and the guide surfaces 131a and 132a can be brought into closer contact with each other, and the amount of heat transfer from the guide surfaces 131a and 132a to the film F can be maintained almost constant. The occurrence of uneven density can be effectively suppressed.

また、フィルムFは、上流側の押さえローラ155,156によりガイド面131a、132aにより密に接触するので、フィルムFの全幅にわたって密着し、濃度の低下が発生し難くなる。また、濃度むらの発生に影響の少ない第2のステップS02ではフィルムFとガイド面133aとの間で特に密な接触は必要がないので、下流側では、押さえローラを省略できるのである。なお、押さえローラの数と配置位置は、適宜変更可能である。   Further, since the film F is in close contact with the guide surfaces 131a and 132a by the upstream pressing rollers 155 and 156, the film F is in close contact over the entire width of the film F, and it is difficult for a decrease in density to occur. Further, in the second step S02 that has little influence on the occurrence of density unevenness, there is no need for particularly close contact between the film F and the guide surface 133a, so that the pressing roller can be omitted on the downstream side. Note that the number and arrangement position of the pressing rollers can be changed as appropriate.

次に、図18の変形例について図19を参照して説明する。図19は第5の実施の形態の変形例を示し、加熱プレートとベルトによる熱現像装置の要部を示す図である。   Next, a modification of FIG. 18 will be described with reference to FIG. FIG. 19 shows a modification of the fifth embodiment and is a view showing a main part of a heat development apparatus using a heating plate and a belt.

図19に示す熱現像装置は、最上流に配置される加熱プレート161をエンドレスベルト150側に凸状に湾曲させたものであり、加熱プレート161のガイド面161aは湾曲し曲面状になっており、このガイド面161aに沿って内部に同じように湾曲して面状ヒータ161bが配置されている。また、加熱プレート131の上流側には図12の光走査部が配置されている。   In the heat development apparatus shown in FIG. 19, the heating plate 161 arranged at the most upstream is curved convexly toward the endless belt 150, and the guide surface 161a of the heating plate 161 is curved and curved. A planar heater 161b is arranged along the guide surface 161a so as to be curved in the same manner. Further, the optical scanning unit shown in FIG. 12 is arranged on the upstream side of the heating plate 131.

エンドレスベルト150は、ガイド面161a、132a、133aに沿って配置されており、複数のプーリ151乃至153に掛け渡され、例えばプーリ151が回転駆動されることで、方向Aにエンドレス状に移動する。エンドレスベルト150は、プーリ151と152との間で、ガイド面161a、132a、133aに接近しており、方向Aに移動することでガイド面161a、132a、133aとの間でフィルムFを挟んだ状態で搬送方向Hに搬送する。   The endless belt 150 is disposed along the guide surfaces 161a, 132a, and 133a. The endless belt 150 is stretched over a plurality of pulleys 151 to 153, and moves endlessly in the direction A, for example, when the pulley 151 is rotationally driven. . The endless belt 150 is close to the guide surfaces 161a, 132a, and 133a between the pulleys 151 and 152, and moves in the direction A to sandwich the film F between the guide surfaces 161a, 132a, and 133a. In the state, it is transported in the transport direction H.

図19の熱現像装置によれば、潜像の形成された熱現像感光フィルムFは、図18の搬送方向Bに搬送され、湾曲した加熱プレート161のガイド面161aとエンドレスベルト150との間に送り込まれると、方向Aに移動中のエンドレスベルト150により、ガイド面161aから順々に、ガイド面132a、133aへと搬送されるが、エンドレスベルト150は湾曲したガイド面161aにおいて、より緊張し張力が大きくなるため、フィルムFがガイド面161aに押さえ付けられることで、加熱されたガイド面161aにより密着して加熱される。   19, the photothermographic film F having a latent image formed thereon is conveyed in the conveyance direction B of FIG. 18, and is interposed between the curved guide surface 161a of the heating plate 161 and the endless belt 150. When fed, the endless belt 150 moving in the direction A is sequentially conveyed from the guide surface 161a to the guide surfaces 132a and 133a, but the endless belt 150 is more tensioned and tensioned on the curved guide surface 161a. Therefore, when the film F is pressed against the guide surface 161a, the film F is brought into close contact with the heated guide surface 161a and heated.

従って、図1の第1のステップS01において、フィルムFとガイド面161aとをより密に接触させることができ、ガイド面161aからフィルムFへの伝熱量をほぼ一定に維持できるので、濃度むらの発生を効果的に抑えることができる。   Accordingly, in the first step S01 of FIG. 1, the film F and the guide surface 161a can be brought into closer contact with each other, and the amount of heat transferred from the guide surface 161a to the film F can be maintained almost constant. Generation can be effectively suppressed.

また、フィルムFは、上流側の湾曲した加熱プレート161によりガイド面161aにより密に接触するので、フィルムFの全幅にわたって密着し、濃度の低下が発生し難くなる。また、濃度むらの発生に影響の少ない第2のステップS02ではフィルムFとガイド面133aとの間で特に密な接触は必要がないので、下流側では、平坦な加熱プレート132,133でよいのである。   Further, since the film F is in close contact with the guide surface 161a by the curved heating plate 161 on the upstream side, the film F is in close contact with the entire width of the film F, and the density is hardly lowered. In addition, in the second step S02 that has little influence on the occurrence of density unevenness, there is no need for particularly close contact between the film F and the guide surface 133a, so that the flat heating plates 132 and 133 may be used on the downstream side. is there.

以上のように本発明を実施するための最良の形態について説明したが、本発明はこれらに限定されるものではなく、本発明の技術的思想の範囲内で各種の変形が可能である。例えば、本実施例では、フィルム作製の際に有機溶剤系溶媒を用いたが、水系溶媒を使用することもできる。水系溶媒を使用する熱現像用フィルムは次のようにして作製できる。   As described above, the best mode for carrying out the present invention has been described. However, the present invention is not limited to these, and various modifications are possible within the scope of the technical idea of the present invention. For example, in this example, an organic solvent solvent was used for film production, but an aqueous solvent can also be used. A film for heat development using an aqueous solvent can be prepared as follows.

即ち、有機銀塩含有層が溶媒の30質量%以上が水である塗布液を用いてPETフィルムに塗布し、乾燥して形成し、厚さ200μmの熱現像感光性のフィルムを作製する。この有機銀塩含有層のバインダーが水系溶媒(水溶媒)に可溶または分散可能であり、25℃60%RHでの平衡含水率が2質量%以下のポリマーのラテックスからなる。このポリマーが可溶または分散可能である水系溶媒とは、水または水に70質量%以下の水混和性の有機溶媒を混合したものである。水混和性の有機溶媒としては、例えば、メチルアルコール、エチルアルコール、プロピルアルコール等のアルコール系、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、ブチルセロソルブ等のセロソルブ系、酢酸エチル、ジメチルホルミアミドなどを挙げることができる。   That is, the organic silver salt-containing layer is applied to a PET film using a coating solution in which 30% by mass or more of the solvent is water and dried to produce a photothermographic film having a thickness of 200 μm. The binder of the organic silver salt-containing layer is made of a latex of a polymer that is soluble or dispersible in an aqueous solvent (aqueous solvent) and has an equilibrium water content of 2% by mass or less at 25 ° C. and 60% RH. The aqueous solvent in which the polymer is soluble or dispersible is a mixture of water or water with 70% by mass or less of a water-miscible organic solvent. Examples of the water-miscible organic solvent include alcohols such as methyl alcohol, ethyl alcohol and propyl alcohol, cellosolvs such as methyl cellosolve, ethyl cellosolve and butyl cellosolve, ethyl acetate and dimethylformamide.

具体的には乳剤層(感光性層)塗布液は次のように調製する。脂肪酸銀分散物1000g、水276mlに顔料−1分散物、有機ポリハロゲン化合物−1分散物、有機ポリハロゲン化合物−2分散物、フタラジン化合物―1溶液、SBRラテックス(Tg:17℃)液、還元剤−1分散物、還元剤−2分散物、水素結合性化合物−1分散物、現像促進剤−1分散物、現像促進剤−2分散物、色調調整剤−1分散物、メルカプト化合物−1水溶液、メルカプト化合物−2水溶液を順次添加し、塗布直前にハロゲン化銀混合乳剤を添加して良く混合した乳剤層塗布液をそのままコーティングダイへ送液し塗布する。   Specifically, the emulsion layer (photosensitive layer) coating solution is prepared as follows. 1,000 g of fatty acid silver dispersion, 276 ml of water, pigment-1 dispersion, organic polyhalogen compound-1 dispersion, organic polyhalogen compound-2 dispersion, phthalazine compound-1 solution, SBR latex (Tg: 17 ° C.) solution, reduction Agent-1 dispersion, reducing agent-2 dispersion, hydrogen bonding compound-1 dispersion, development accelerator-1 dispersion, development accelerator-2 dispersion, color tone modifier-1 dispersion, mercapto compound-1 An aqueous solution and a mercapto compound-2 aqueous solution are sequentially added, and a silver halide mixed emulsion is added immediately before coating, and the mixed emulsion layer coating solution is fed to the coating die as it is and coated.

本発明の熱現像装置及び熱現像方法によれば、従来の大型機並の画質を維持しながら、熱現像プロセスの迅速化が可能となるとともに小型化・コストダウンも可能なる。   According to the heat development apparatus and the heat development method of the present invention, it is possible to speed up the heat development process and reduce the size and cost while maintaining the image quality equivalent to that of a conventional large machine.

Claims (12)

支持基体の片面上に熱現像感光材料が塗布されたシートフィルムを加熱しながら搬送し、前記シートフィルム上に形成された潜像を可視化する熱現像装置であって、
前記シートフィルムを加熱するための加熱部を有し、前記加熱部の上流側の部分は、下流側の部分よりも前記シートフィルムに対して伝熱的な接触が密になるように構成されていることを特徴とする熱現像装置。
A heat development apparatus for conveying a sheet film coated with a photothermographic material on one side of a support substrate while heating, and visualizing a latent image formed on the sheet film,
A heating unit for heating the sheet film, and the upstream portion of the heating unit is configured such that the heat transfer contact with the sheet film is denser than the downstream portion; A heat development apparatus characterized by comprising:
支持基体の片面上に熱現像感光材料が塗布されたシートフィルムを加熱しながら搬送し前記シートフィルム上に形成された潜像を可視化する熱現像装置であって、
前記シートフィルムを熱現像温度に昇温させる昇温部と、
前記熱現像温度に昇温されたシートフィルムを保温する保温部と、を備え、
前記昇温部と前記保温部とで異なる加熱方式を用いることを特徴とする熱現像装置。
A heat development apparatus for visualizing a latent image formed on the sheet film by conveying a sheet film coated with a photothermographic material on one side of a support substrate while heating.
A temperature raising part for raising the temperature of the sheet film to a heat development temperature;
A heat retaining part for retaining the sheet film heated to the heat development temperature,
A heat development apparatus using different heating methods for the temperature raising section and the heat retaining section.
前記昇温部は、前記シートフィルムを対向ローラによりプレートヒータに押圧して接触させながら加熱し、
前記保温部は、少なくとも一方にヒータを有するガイド間に形成されたスリット内において前記シートフィルムを加熱することを特徴とする請求請求の範囲第2項に記載の熱現像装置。
The temperature raising unit heats the sheet film while pressing the sheet film against a plate heater with a counter roller,
3. The heat developing apparatus according to claim 2, wherein the heat retaining unit heats the sheet film in a slit formed between guides having a heater at least on one side.
前記昇温部と前記保温部との間に凹部を設け、前記昇温部からの異物が前記凹部内に入り込むように構成したことを特徴とする請求の範囲第2項または第3項に記載の熱現像装置。   The concave portion is provided between the temperature raising portion and the heat retaining portion, and foreign matter from the temperature raising portion is configured to enter the concave portion. Heat development equipment. 前記昇温部と前記保温部はそれぞれ前記シートフィルムに付勢手段を用いて接触させる加熱体を有し、前記昇温部では前記保温部に比較して前記加熱体と前記感光性熱現像材料との間を密に接触させるように構成したことを特徴とする請求の範囲第2項に記載の熱現像装置。   Each of the temperature raising part and the heat retaining part has a heating body that is brought into contact with the sheet film by using an urging means, and in the temperature raising part, the heating body and the photosensitive heat developing material as compared with the heat retaining part. 3. The thermal development apparatus according to claim 2, wherein the thermal development apparatus is configured to be in close contact with each other. 前記付勢手段が前記加熱体に対向して配置された複数の対向ローラから構成され、前記複数の対向ローラの内の上流側の対向ローラが前記加熱体により強く付勢されていることを特徴とする請求の範囲第5項に記載の熱現像装置。   The biasing means is composed of a plurality of counter rollers arranged to face the heating body, and an upstream counter roller among the plurality of counter rollers is strongly biased by the heating body. The thermal development apparatus according to claim 5. 前記付勢手段が前記加熱体に対向して配置された複数の対向ローラから構成され、前記複数の対向ローラの内の上流側の対向ローラが前記加熱体の前記シートフィルムの搬送方向により密に配置されていることを特徴とする請求の範囲第5項または第6項に記載の熱現像装置。   The urging means is composed of a plurality of opposed rollers arranged to face the heating body, and the upstream facing rollers of the plurality of opposed rollers are more densely arranged in the conveying direction of the sheet film of the heating body. The thermal development apparatus according to claim 5 or 6, wherein the thermal development apparatus is arranged. 前記付勢手段が前記加熱体に対向して配置された複数の対向ローラから構成され、前記複数の対向ローラの内の上流側の対向ローラと前記加熱体との間の隙間がより狭くなっていることを特徴とする請求の範囲第5項乃至第7項のいずれか1項に記載の加熱現像装置。   The urging means is composed of a plurality of opposed rollers arranged to face the heating body, and a gap between the upstream facing roller and the heating body among the plurality of opposed rollers becomes narrower. The heat developing apparatus according to claim 5, wherein the heat developing apparatus is any one of claims 5 to 7. 支持基体の片面上に熱現像感光材料が塗布されたシートフィルムを加熱しながら搬送し、前記シートフィルム上に形成された潜像を可視化する熱現像方法であって、
前記シートフィルムを加熱部で加熱するための加熱工程を有し、前記加熱部の上流側の部分は、下流側の部分よりも前記シートフィルムに対して伝熱的な接触が密になるように構成されていることを特徴とする熱現像方法。
A heat development method for conveying a sheet film coated with a photothermographic material on one side of a supporting substrate while heating, and visualizing a latent image formed on the sheet film,
A heating step for heating the sheet film by a heating unit, and the upstream portion of the heating unit is more closely contacted with the sheet film than the downstream portion. A heat development method comprising:
支持基体の片面上に熱現像感光材料が塗布されたシートフィルムを加熱しながら搬送し前記シートフィルム上に形成された潜像を可視化する熱現像方法であって、
前記シートフィルムを熱現像温度に昇温させる昇温工程と、
前記熱現像温度に昇温されたシートフィルムを保温する保温工程と、を含み、
前記昇温工程と前記保温工程とで異なる加熱方式を用いることを特徴とする熱現像方法。
A heat development method for visualizing a latent image formed on the sheet film by conveying while heating a sheet film coated with a photothermographic material on one side of a support substrate,
A temperature raising step for raising the temperature of the sheet film to a heat development temperature;
A heat retaining step for retaining the sheet film heated to the heat development temperature,
A heat developing method, wherein different heating methods are used in the temperature raising step and the heat retaining step.
前記昇温工程では、前記シートフィルムを対向ローラによりプレートヒータに押圧して接触させながら加熱し、
前記保温工程では、少なくとも一方にヒータを有するガイド間に形成されたスリット内において前記シートフィルムを加熱することを特徴とする請求の範囲第10項に記載の熱現像方法。
In the temperature raising step, the sheet film is heated while being pressed against and contacted with a plate heater by a counter roller,
11. The thermal development method according to claim 10, wherein in the heat retaining step, the sheet film is heated in a slit formed between guides having at least one heater.
前記昇温工程と前記保温工程はそれぞれ前記シートフィルムに付勢手段を用いて加熱体を接触させてシートフィルムを加熱するものであり、
前記昇温工程では前記保温工程に比較して前記加熱体と前記シートフィルムとの間を密に接触させることを特徴とする請求の範囲第10項に記載の熱現像方法。
Each of the temperature raising step and the heat retaining step is to heat the sheet film by bringing a heating body into contact with the sheet film using an urging means,
11. The thermal development method according to claim 10, wherein in the temperature raising step, the heating body and the sheet film are brought into close contact with each other as compared with the heat retaining step.
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