JPWO2003070100A1 - 電極構造体 - Google Patents
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Abstract
屈曲加工部において電極層や絶縁層に割れの生じにくい電極構造体を提供する。電極構造体は、屈曲加工部(4)を有する支持体(3)と、支持体上で屈曲加工部(4)を通して形成された電極層(1)と、屈曲加工部(4)を通る電極層(1)上に形成された絶縁層(2)とを備える。絶縁層(2)を構成する誘電体のガラス転移温度は、25℃以下とされる。電極層(1)は銀、塩化銀およびカーボンからなる群の少なくとも1つの材料を含むものであり、特に屈曲加工部(4)を通る電極層(1)の端子部(5)はカーボンを主成分とするペーストにより構成される。
Description
技術分野
本発明は、治療や診断の医療分野において用いられる生体適用電極として好適な電極構造体に関するものである。この種の電極構造体は、電気的エネルギーを利用して生体内へ生理活性物質を送達するための装置や、生体内から生体外へ診断物質を抽出するための装置に利用される。
背景技術
イオントフォレーシス(例えば、Acta Dermatol venereol,64巻,93ページ,1984年)やエレクトロポレーション(例えば、特表平3−502416号公報、Proc.Natl.Acad.Sci.USA,90巻,10504−10508ページ,1993年)は、電気的なエネルギーを用いて皮膚や粘膜から薬物を送達する方法である。また、同じ原理を用いて、生体内から診断物質を取り出して病状を観察する方法がある(例えば、Nature Medicine,1巻,1198−120ページ,1995年)。これらの方法を実施するために、生理活性物質を送達するための装置、および生体内から診断物質を取り出すための装置は、いずれも電極を含む電極構造体が必要である。
通常、電極構造体には、電解質を含む高分子などのゲルを添加するための窪みが設けられる。電極構造体は例えば次のようにして作製される。まず、端子付き電極層を平坦なフィルム上に塗工し、さらに電極として機能する部位以外に電気的絶縁層を設け、この電極層および絶縁層を塗工した平坦なフィルムを成形することにより、窪みを有するカップ状の電極構造体を作製する。
しかしながら、従来においては、窪みを有するカップ状の電極構造体を作製する場合、成形時に屈曲加工部において電極層や絶縁層に割れが生ずるという問題があった。このような割れは、電極層の露出により漏電のおそれがあるので是非とも避けなければならない。
従って本発明の目的は、屈曲加工部において電極層や絶縁層に割れの生じにくい電極構造体を提供することにある。
発明の開示
上記目的は、屈曲加工部を有する支持体と、支持体上で屈曲加工部を通して形成された電極層と、屈曲加工部を通る電極層上に形成された絶縁層とを備え、絶縁層を構成する誘電体のうち少なくとも1つの誘電体のガラス転移温度が25℃以下である電極構造体により、達成される。ここで、絶縁層の厚さは0.5μm〜100μmとすることができる。また、支持体はポリエチレンテレフタレートフィルムまたはアルミニウムに絶縁フィルムをコーティングまたはラミネートした絶縁基材から構成することができる。電極層は銀、塩化銀およびカーボンからなる群の少なくとも1つの材料を含むことができる。屈曲加工部を通る電極層の部分はカーボンを主成分とするペーストにより構成することができる。屈曲加工部の内角及びその共役角は90度〜270度とすることができる。
また、本発明に係る電極構造体の製造方法は、支持体上に端子部を有する電極層を形成する工程と、電極層の端子部上にガラス転移温度が25℃以下の誘電体を含む絶縁層を形成する工程と、絶縁層を含む支持体の特定部分を屈曲加工する工程とを含むものである。ここで、絶縁層はスクリーン印刷により形成されることが好ましい。
このように構成することによって、屈曲加工部において電極層や絶縁層に割れの生じにくい電極構造体を得ることができる。
発明を実施するための最良の形態
以下、本発明の実施の形態について説明する。
図1は、成形前の本発明に係る電極構造体の一構成例を示す図で、(a)は平面図、(b)は(a)のX−X’断面図である。図示のように、支持体3の上に端子部5を有する電極層1が形成されており、さらに、電極層1の端子部5を含む支持体3の上に絶縁層2が形成されている。絶縁層2は、誘電体のペーストを例えばスクリーン印刷により塗工したものである。
図2は、成形後の本発明に係る電極構造体の一構成例を示す断面図である。図のように、支持体3は、絶縁層2を含む部分において屈曲加工されている。これにより支持体3に窪みが形成される。したがって支持体3は、成形時に形成された屈曲加工部4を有する。電極層1の端子部5は支持体3上で屈曲加工部4を通して外部に引き出されている。絶縁層2は、屈曲加工部4を通る電極層1の端子部5上に位置する。
成形時において電極層や絶縁層に割れを生じる原因は主に次の2つであることを本発明者は見出した。
(1)成形時に絶縁層が延びない。
(2)成形時に電極層がフィルムの延びに追従しない。
本発明はこれらの原因究明をもとになされたものである。
まず、絶縁層に用いられる誘電体を種々試した。その結果、誘電体のガラス転移温度が25℃以下のものを用いると成形時に割れを生じず、さらにガラス転移温度が0℃以下のもの、特に−20℃以下のものを使用することで屈曲加工部の角度が大きい(共役角が大きい)場合にも割れが生じないことを見出した。
誘電体の絶縁層の厚さは、0.5μm〜100μm、好ましくは2μm〜50μmとされる。この厚さがあれば、絶縁層は、絶縁性を保持したまま柔軟に延びに対応できる。
誘電体の材料としては、例えば、ポリジエン、ポリアクリル、ポリメタクリル、アクリルアミド、ポリエチレン、ポリビニルエステル、ポリエステル、ポリウレタン、ポリシロキサン、ポリアミド(ナイロン)、ポリアセタール、ポリプロピレンが挙げられるが、これらに限定されない。
誘電体の塗工方法としてはスクリーン印刷が用いられる。この方法は、塗工厚をコントロールしやすく、また印刷部位を正確なパターンで描けるなどの点で優れている。
次に、電極層(電極および端子部)は、銀、塩化銀およびカーボンの少なくとも1つを主成分とするペーストを用いるとよい。特に、陽極側の電極材料には銀、陰極側の電極材料には銀を含む塩化銀(銀/塩化銀)を用いることが分極しないのでよい。また、窪み成形時に電極端子部のストレスがかかる部分、即ち折れ曲がる部分(屈曲加工部)に割れを生じやすい。特にこの部分には、カーボンを主成分とする導電性ペーストを用いるとよい。カーボンを主成分とする導電性ペーストを印刷することで、電極端子部が追従性に富むようになり、電極層の端子部(カーボン層)だけでなく、その上部に積層される絶縁層にまで割れを生じにくくすることを本発明者は見出したのである。このときカーボン層の塗工厚は、0.5μm〜100μm、好ましくは1μm〜75μm、さらに好ましくは2μm〜25μmとされる。この厚さにおいて電極層の端子部は導電性および追従性に優れている。
支持体は、絶縁基材からなり、その上に電極や電極端子が塗工され、さらに窪みを有するカップ状に成形され、その窪みに薬物や電解質ゲルが保持される。そのため、支持体は成形性に富み、また成形後は変形しにくい材料でなければならない。支持体としては、例えば、ポリエチレンテレフタレートフィルムがこの条件に当てはまり、しかもこのフィルムは絶縁体なので、支持体として好適に用いることができる。
また支持体として、成形性に優れているアルミニウム等の金属ベースのものを用いることができる。これは導電性であるので、そのまま用いることはできず、これら金属の表面に絶縁コートまたは、ラミネートを施す必要がある。絶縁コートの材料としては、例えば、ポリジエン、ポリアクリル、ポリメタクリル、アクリルアミド、ポリビニルアルコール、ポリエチレン、ポリビニルエステル、ポリスチレン、ポリカーボネート、ポリエステル、ポリウレタン、ポリシロキサン、ポリアミド、ポリアセタール、ポリアクリロニトリルが挙げられるが、これらに限定されない。絶縁ラミネートの材料としては、例えば、ポリエステル、ナイロン、ポリプロピレン、ポリエチレン、セロファン、ポリアクリロニトリルが挙げられるが、これに限定されない。
金属ベースの支持体としてはアルミニウムが入手しやすく好ましい。図3は、本発明に用いられる支持体の一例を示す断面図である。本例の支持体は、図示のように、アルミニウム31に絶縁フィルム32をコートまたはラミネートして作製される。アルミニウム31は、好ましくは厚さ6μm〜100μm、さらに好ましくは、12μm〜75μmとされる。このようにして作製したアルミ絶縁フィルムは成形性に優れており、絶縁基材として適している。誘電体は電極端子部のみならず、支持体にも直接塗工しなければ、漏電などの問題を生じる。そのため、ポリエチレンテレフタレートフィルムやアルミ絶縁フィルムは誘電体や電極ペーストを塗工しやすいので支持体(絶縁基材)として適している。
屈曲加工部は、平面に対して支持体を20度以上折り曲げて形成される部分を指す。図2において、屈曲加工部4の各部の角度について、折り曲げられた角度を屈曲角a、それにより生ずる絶縁層2の側の角をそれぞれ内角b、b’、絶縁層2の側と反対側の角をそれぞれ共役角c、c’として示す。内角およびその共役角はともに90度〜270度の範囲であれば絶縁層や電極層に割れは生じにくいが、この範囲より小さい場合や大きい場合には割れが生じやすくなる。
このように本発明は、優れた生体適用電極のための電極構造体を提供するために、絶縁層としての誘電体の選択、その塗工方法および塗工厚、および、電極層やその端子部の材料およびその塗工厚、および、支持体の材料およびその折れ曲げ角度などを規定するものである。
(実施例)
実験例1
ガラス転移温度が、85,67,45,40,35,25,5,1,−20,−29℃の誘電体を塗工した支持体(絶縁基材)を圧縮成形したときの屈曲加工部における割れの発生を評価した。
(実施例1)
図1に示すように、支持体3として厚さ50μmのアルミ板に厚さ38μmのポリエステルをラミネートしたアルミ絶縁フィルムに、端子部5として厚さ約20μmのカーボンペーストをスクリーン印刷により塗工した。また、電極層1として銀含量が90%(w/w)の銀ペーストを厚さ40μmで端子部5と一部重なるように円型に塗工した。乾燥後、絶縁層としてガラス転移温度が25℃の誘電体(ポリエステル系樹脂、東洋紡(株)製、商品名バイロンGK150)を端子部5の一部を覆うようにスクリーン印刷により厚さ15μmで塗工した。これを圧縮成形により図2に示すような窪みを設けた。このときの屈曲加工部4における割れの発生を評価した。
(実施例2)
ガラス転移温度が5℃の誘電体(ポリエステル系樹脂、ユニチカ(株)製、商品名エリーテルUE3220)を実施例1と同様に評価した。
(実施例3)
ガラス転移温度が2℃の誘電体(ポリエステル系樹脂、ユニチカ(株)製、商品名エリーテルUE3221)を実施例1と同様に評価した。
(実施例4)
ガラス転移温度が−20℃の誘電体(ポリエステル系樹脂、ユニチカ(株)製、商品名エリーテルUE3400)を実施例1と同様に評価した。
(実施例5)
ガラス転移温度が−29℃の誘電体(ポリエステル系樹脂、ユニチカ(株)製、商品名エリーテルUE3410)を実施例1と同様に評価した。
(比較例1)
実施例1と同様にアルミ絶縁フィルム(アルミにPETをラミネートしたフィルム)に銀ペーストを印刷し、その後、ガラス転移温度が85℃の誘電体(ポリエステル系樹脂、ユニチカ(株)製、商品名エリーテルUE3690)をスクリーン印刷により厚さ15μmで塗工した。これを実施例1と同様に圧縮成形し、割れの発生を評価した。
(比較例2)
ガラス転移温度が67℃の誘電体(ポリエステル系樹脂、東洋紡(株)製、商品名バイロンGK200)を実施例1と同様に評価した。
(比較例3)
ガラス転移温度が45℃の誘電体(ポリエステル系樹脂、ユニチカ(株)製、商品名エリーテルUE3210)を実施例1と同様に評価した。
(比較例4)
ガラス転移温度が40℃の誘電体(ポリエステル系樹脂、ユニチカ(株)製、商品名エリーテルUE3240)を実施例1と同様に評価した。
(比較例5)
ガラス転移温度が35℃の誘電体(ポリエステル系樹脂、ユニチカ(株)製、商品名エリーテルUE3500)を実施例1と同様に評価した。
実験例1の結果は表1に示すとおりである。
表1に示すように、共役角230°で加工した場合、誘電体のガラス転移温度が5〜−29℃のものは、電極構造体の総数18個中、割れを生じたものは無かった。また、誘電体のガラス転移温度が25℃のものでは割れを生じたものはあったが、わずかであった。また共役角250°で加工した場合、誘電体のガラス転移温度が−20〜−29℃のものについては割れを生じたものはなく、また25℃でも割れが発生しないものが観察された。
実験例2
電極端子部にカーボンペーストを用いた場合(実施例1、2)と、銀ペーストを用いた場合(比較例6、7)で割れの発生を比較した。
(比較例6)
図1に示すように、支持体3として厚さ50μmのアルミ板に厚さ38μmのポリエステルをラミネートしたアルミ絶縁フィルムに、端子部5として銀含量が90%(w/w)で厚さ約20μmの銀ペーストをスクリーン印刷により塗工した。また、電極層1としてこの銀ペーストを厚さ40μmで端子部5と一部重なるように円型に塗工した。乾燥後、絶縁層としてガラス転移温度が25℃の誘電体(ポリエステル系樹脂、東洋紡(株)製、商品名バイロンGK150)を端子部5の一部を覆うようにスクリーン印刷により厚さ15μmに塗工した。これを圧縮成形により図2に示すような窪みを設けた。このときの屈曲加工部4における割れの発生を評価した。
(比較例7)
ガラス転移温度が5℃の誘電体(ポリエステル系樹脂、ユニチカ(株)製、商品名エリーテルUE3220)を用いて、比較例6と同様に評価した。
実験例2の結果は表2に示すとおりである。
表2に示すように、共役角250°で加工した場合、実施例1,2のように屈曲加工部にカーボンを用いたものは、ガラス転移温度が25℃や5℃の誘電体の場合でも、割れの発生がないものが観察されたが、比較例6,7のようにカーボンを用いないものは、全ての例で割れが観察された。
産業上の利用可能性
本発明によれば、屈曲加工部において電極層や絶縁層に割れの生じにくい電極構造体を得ることができる。
【図面の簡単な説明】
図1は、成形前の本発明に係る電極構造体の一構成例を示す図で、(a)は平面図、(b)は(a)のX−X’断面図である。
図2は、成形後の本発明に係る電極構造体の一構成例を示す断面図である。
図3は、本発明に用いられる支持体の一例を示す断面図である。
本発明は、治療や診断の医療分野において用いられる生体適用電極として好適な電極構造体に関するものである。この種の電極構造体は、電気的エネルギーを利用して生体内へ生理活性物質を送達するための装置や、生体内から生体外へ診断物質を抽出するための装置に利用される。
背景技術
イオントフォレーシス(例えば、Acta Dermatol venereol,64巻,93ページ,1984年)やエレクトロポレーション(例えば、特表平3−502416号公報、Proc.Natl.Acad.Sci.USA,90巻,10504−10508ページ,1993年)は、電気的なエネルギーを用いて皮膚や粘膜から薬物を送達する方法である。また、同じ原理を用いて、生体内から診断物質を取り出して病状を観察する方法がある(例えば、Nature Medicine,1巻,1198−120ページ,1995年)。これらの方法を実施するために、生理活性物質を送達するための装置、および生体内から診断物質を取り出すための装置は、いずれも電極を含む電極構造体が必要である。
通常、電極構造体には、電解質を含む高分子などのゲルを添加するための窪みが設けられる。電極構造体は例えば次のようにして作製される。まず、端子付き電極層を平坦なフィルム上に塗工し、さらに電極として機能する部位以外に電気的絶縁層を設け、この電極層および絶縁層を塗工した平坦なフィルムを成形することにより、窪みを有するカップ状の電極構造体を作製する。
しかしながら、従来においては、窪みを有するカップ状の電極構造体を作製する場合、成形時に屈曲加工部において電極層や絶縁層に割れが生ずるという問題があった。このような割れは、電極層の露出により漏電のおそれがあるので是非とも避けなければならない。
従って本発明の目的は、屈曲加工部において電極層や絶縁層に割れの生じにくい電極構造体を提供することにある。
発明の開示
上記目的は、屈曲加工部を有する支持体と、支持体上で屈曲加工部を通して形成された電極層と、屈曲加工部を通る電極層上に形成された絶縁層とを備え、絶縁層を構成する誘電体のうち少なくとも1つの誘電体のガラス転移温度が25℃以下である電極構造体により、達成される。ここで、絶縁層の厚さは0.5μm〜100μmとすることができる。また、支持体はポリエチレンテレフタレートフィルムまたはアルミニウムに絶縁フィルムをコーティングまたはラミネートした絶縁基材から構成することができる。電極層は銀、塩化銀およびカーボンからなる群の少なくとも1つの材料を含むことができる。屈曲加工部を通る電極層の部分はカーボンを主成分とするペーストにより構成することができる。屈曲加工部の内角及びその共役角は90度〜270度とすることができる。
また、本発明に係る電極構造体の製造方法は、支持体上に端子部を有する電極層を形成する工程と、電極層の端子部上にガラス転移温度が25℃以下の誘電体を含む絶縁層を形成する工程と、絶縁層を含む支持体の特定部分を屈曲加工する工程とを含むものである。ここで、絶縁層はスクリーン印刷により形成されることが好ましい。
このように構成することによって、屈曲加工部において電極層や絶縁層に割れの生じにくい電極構造体を得ることができる。
発明を実施するための最良の形態
以下、本発明の実施の形態について説明する。
図1は、成形前の本発明に係る電極構造体の一構成例を示す図で、(a)は平面図、(b)は(a)のX−X’断面図である。図示のように、支持体3の上に端子部5を有する電極層1が形成されており、さらに、電極層1の端子部5を含む支持体3の上に絶縁層2が形成されている。絶縁層2は、誘電体のペーストを例えばスクリーン印刷により塗工したものである。
図2は、成形後の本発明に係る電極構造体の一構成例を示す断面図である。図のように、支持体3は、絶縁層2を含む部分において屈曲加工されている。これにより支持体3に窪みが形成される。したがって支持体3は、成形時に形成された屈曲加工部4を有する。電極層1の端子部5は支持体3上で屈曲加工部4を通して外部に引き出されている。絶縁層2は、屈曲加工部4を通る電極層1の端子部5上に位置する。
成形時において電極層や絶縁層に割れを生じる原因は主に次の2つであることを本発明者は見出した。
(1)成形時に絶縁層が延びない。
(2)成形時に電極層がフィルムの延びに追従しない。
本発明はこれらの原因究明をもとになされたものである。
まず、絶縁層に用いられる誘電体を種々試した。その結果、誘電体のガラス転移温度が25℃以下のものを用いると成形時に割れを生じず、さらにガラス転移温度が0℃以下のもの、特に−20℃以下のものを使用することで屈曲加工部の角度が大きい(共役角が大きい)場合にも割れが生じないことを見出した。
誘電体の絶縁層の厚さは、0.5μm〜100μm、好ましくは2μm〜50μmとされる。この厚さがあれば、絶縁層は、絶縁性を保持したまま柔軟に延びに対応できる。
誘電体の材料としては、例えば、ポリジエン、ポリアクリル、ポリメタクリル、アクリルアミド、ポリエチレン、ポリビニルエステル、ポリエステル、ポリウレタン、ポリシロキサン、ポリアミド(ナイロン)、ポリアセタール、ポリプロピレンが挙げられるが、これらに限定されない。
誘電体の塗工方法としてはスクリーン印刷が用いられる。この方法は、塗工厚をコントロールしやすく、また印刷部位を正確なパターンで描けるなどの点で優れている。
次に、電極層(電極および端子部)は、銀、塩化銀およびカーボンの少なくとも1つを主成分とするペーストを用いるとよい。特に、陽極側の電極材料には銀、陰極側の電極材料には銀を含む塩化銀(銀/塩化銀)を用いることが分極しないのでよい。また、窪み成形時に電極端子部のストレスがかかる部分、即ち折れ曲がる部分(屈曲加工部)に割れを生じやすい。特にこの部分には、カーボンを主成分とする導電性ペーストを用いるとよい。カーボンを主成分とする導電性ペーストを印刷することで、電極端子部が追従性に富むようになり、電極層の端子部(カーボン層)だけでなく、その上部に積層される絶縁層にまで割れを生じにくくすることを本発明者は見出したのである。このときカーボン層の塗工厚は、0.5μm〜100μm、好ましくは1μm〜75μm、さらに好ましくは2μm〜25μmとされる。この厚さにおいて電極層の端子部は導電性および追従性に優れている。
支持体は、絶縁基材からなり、その上に電極や電極端子が塗工され、さらに窪みを有するカップ状に成形され、その窪みに薬物や電解質ゲルが保持される。そのため、支持体は成形性に富み、また成形後は変形しにくい材料でなければならない。支持体としては、例えば、ポリエチレンテレフタレートフィルムがこの条件に当てはまり、しかもこのフィルムは絶縁体なので、支持体として好適に用いることができる。
また支持体として、成形性に優れているアルミニウム等の金属ベースのものを用いることができる。これは導電性であるので、そのまま用いることはできず、これら金属の表面に絶縁コートまたは、ラミネートを施す必要がある。絶縁コートの材料としては、例えば、ポリジエン、ポリアクリル、ポリメタクリル、アクリルアミド、ポリビニルアルコール、ポリエチレン、ポリビニルエステル、ポリスチレン、ポリカーボネート、ポリエステル、ポリウレタン、ポリシロキサン、ポリアミド、ポリアセタール、ポリアクリロニトリルが挙げられるが、これらに限定されない。絶縁ラミネートの材料としては、例えば、ポリエステル、ナイロン、ポリプロピレン、ポリエチレン、セロファン、ポリアクリロニトリルが挙げられるが、これに限定されない。
金属ベースの支持体としてはアルミニウムが入手しやすく好ましい。図3は、本発明に用いられる支持体の一例を示す断面図である。本例の支持体は、図示のように、アルミニウム31に絶縁フィルム32をコートまたはラミネートして作製される。アルミニウム31は、好ましくは厚さ6μm〜100μm、さらに好ましくは、12μm〜75μmとされる。このようにして作製したアルミ絶縁フィルムは成形性に優れており、絶縁基材として適している。誘電体は電極端子部のみならず、支持体にも直接塗工しなければ、漏電などの問題を生じる。そのため、ポリエチレンテレフタレートフィルムやアルミ絶縁フィルムは誘電体や電極ペーストを塗工しやすいので支持体(絶縁基材)として適している。
屈曲加工部は、平面に対して支持体を20度以上折り曲げて形成される部分を指す。図2において、屈曲加工部4の各部の角度について、折り曲げられた角度を屈曲角a、それにより生ずる絶縁層2の側の角をそれぞれ内角b、b’、絶縁層2の側と反対側の角をそれぞれ共役角c、c’として示す。内角およびその共役角はともに90度〜270度の範囲であれば絶縁層や電極層に割れは生じにくいが、この範囲より小さい場合や大きい場合には割れが生じやすくなる。
このように本発明は、優れた生体適用電極のための電極構造体を提供するために、絶縁層としての誘電体の選択、その塗工方法および塗工厚、および、電極層やその端子部の材料およびその塗工厚、および、支持体の材料およびその折れ曲げ角度などを規定するものである。
(実施例)
実験例1
ガラス転移温度が、85,67,45,40,35,25,5,1,−20,−29℃の誘電体を塗工した支持体(絶縁基材)を圧縮成形したときの屈曲加工部における割れの発生を評価した。
(実施例1)
図1に示すように、支持体3として厚さ50μmのアルミ板に厚さ38μmのポリエステルをラミネートしたアルミ絶縁フィルムに、端子部5として厚さ約20μmのカーボンペーストをスクリーン印刷により塗工した。また、電極層1として銀含量が90%(w/w)の銀ペーストを厚さ40μmで端子部5と一部重なるように円型に塗工した。乾燥後、絶縁層としてガラス転移温度が25℃の誘電体(ポリエステル系樹脂、東洋紡(株)製、商品名バイロンGK150)を端子部5の一部を覆うようにスクリーン印刷により厚さ15μmで塗工した。これを圧縮成形により図2に示すような窪みを設けた。このときの屈曲加工部4における割れの発生を評価した。
(実施例2)
ガラス転移温度が5℃の誘電体(ポリエステル系樹脂、ユニチカ(株)製、商品名エリーテルUE3220)を実施例1と同様に評価した。
(実施例3)
ガラス転移温度が2℃の誘電体(ポリエステル系樹脂、ユニチカ(株)製、商品名エリーテルUE3221)を実施例1と同様に評価した。
(実施例4)
ガラス転移温度が−20℃の誘電体(ポリエステル系樹脂、ユニチカ(株)製、商品名エリーテルUE3400)を実施例1と同様に評価した。
(実施例5)
ガラス転移温度が−29℃の誘電体(ポリエステル系樹脂、ユニチカ(株)製、商品名エリーテルUE3410)を実施例1と同様に評価した。
(比較例1)
実施例1と同様にアルミ絶縁フィルム(アルミにPETをラミネートしたフィルム)に銀ペーストを印刷し、その後、ガラス転移温度が85℃の誘電体(ポリエステル系樹脂、ユニチカ(株)製、商品名エリーテルUE3690)をスクリーン印刷により厚さ15μmで塗工した。これを実施例1と同様に圧縮成形し、割れの発生を評価した。
(比較例2)
ガラス転移温度が67℃の誘電体(ポリエステル系樹脂、東洋紡(株)製、商品名バイロンGK200)を実施例1と同様に評価した。
(比較例3)
ガラス転移温度が45℃の誘電体(ポリエステル系樹脂、ユニチカ(株)製、商品名エリーテルUE3210)を実施例1と同様に評価した。
(比較例4)
ガラス転移温度が40℃の誘電体(ポリエステル系樹脂、ユニチカ(株)製、商品名エリーテルUE3240)を実施例1と同様に評価した。
(比較例5)
ガラス転移温度が35℃の誘電体(ポリエステル系樹脂、ユニチカ(株)製、商品名エリーテルUE3500)を実施例1と同様に評価した。
実験例1の結果は表1に示すとおりである。
表1に示すように、共役角230°で加工した場合、誘電体のガラス転移温度が5〜−29℃のものは、電極構造体の総数18個中、割れを生じたものは無かった。また、誘電体のガラス転移温度が25℃のものでは割れを生じたものはあったが、わずかであった。また共役角250°で加工した場合、誘電体のガラス転移温度が−20〜−29℃のものについては割れを生じたものはなく、また25℃でも割れが発生しないものが観察された。
実験例2
電極端子部にカーボンペーストを用いた場合(実施例1、2)と、銀ペーストを用いた場合(比較例6、7)で割れの発生を比較した。
(比較例6)
図1に示すように、支持体3として厚さ50μmのアルミ板に厚さ38μmのポリエステルをラミネートしたアルミ絶縁フィルムに、端子部5として銀含量が90%(w/w)で厚さ約20μmの銀ペーストをスクリーン印刷により塗工した。また、電極層1としてこの銀ペーストを厚さ40μmで端子部5と一部重なるように円型に塗工した。乾燥後、絶縁層としてガラス転移温度が25℃の誘電体(ポリエステル系樹脂、東洋紡(株)製、商品名バイロンGK150)を端子部5の一部を覆うようにスクリーン印刷により厚さ15μmに塗工した。これを圧縮成形により図2に示すような窪みを設けた。このときの屈曲加工部4における割れの発生を評価した。
(比較例7)
ガラス転移温度が5℃の誘電体(ポリエステル系樹脂、ユニチカ(株)製、商品名エリーテルUE3220)を用いて、比較例6と同様に評価した。
実験例2の結果は表2に示すとおりである。
表2に示すように、共役角250°で加工した場合、実施例1,2のように屈曲加工部にカーボンを用いたものは、ガラス転移温度が25℃や5℃の誘電体の場合でも、割れの発生がないものが観察されたが、比較例6,7のようにカーボンを用いないものは、全ての例で割れが観察された。
産業上の利用可能性
本発明によれば、屈曲加工部において電極層や絶縁層に割れの生じにくい電極構造体を得ることができる。
【図面の簡単な説明】
図1は、成形前の本発明に係る電極構造体の一構成例を示す図で、(a)は平面図、(b)は(a)のX−X’断面図である。
図2は、成形後の本発明に係る電極構造体の一構成例を示す断面図である。
図3は、本発明に用いられる支持体の一例を示す断面図である。
Claims (8)
- 屈曲加工部を有する支持体と、支持体上で屈曲加工部を通して形成された電極層と、屈曲加工部を通る電極層上に形成された絶縁層とを備え、絶縁層を構成する誘電体のうち少なくとも1つの誘電体のガラス転移温度が25℃以下であることを特徴とする電極構造体。
- 絶縁層の厚さが、0.5μm〜100μmであることを特徴とする請求の範囲第1項記載の電極構造体。
- 支持体が、ポリエチレンテレフタレートフィルムまたはアルミニウムに絶縁フィルムをコーティングまたはラミネートした絶縁基材から構成されることを特徴とする請求の範囲第1項または第2項記載の電極構造体。
- 電極層が、銀、塩化銀およびカーボンからなる群の少なくとも1つの材料を含むことを特徴とする請求の範囲第1項〜第3項のいずれかに記載の電極構造体。
- 屈曲加工部を通る電極層の部分が、カーボンを主成分とするペーストにより構成されることを特徴とする請求の範囲第1項〜第4項のいずれかに記載の電極構造体。
- 屈曲加工部の内角及びその共役角が90度〜270度であることを特徴とする請求の範囲第1項〜第5項のいずれかに記載の電極構造体。
- 支持体上に端子部を有する電極層を形成する工程と、電極層の端子部上にガラス転移温度が25℃以下の誘電体を含む絶縁層を形成する工程と、絶縁層を含む支持体の特定部分を屈曲加工する工程とを含むことを特徴とする電極構造体の製造方法。
- 絶縁層がスクリーン印刷により形成されることを特徴とする請求の範囲第7項記載の電極構造体の製造方法。
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