JPS64635Y2 - - Google Patents
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- Publication number
- JPS64635Y2 JPS64635Y2 JP1983125506U JP12550683U JPS64635Y2 JP S64635 Y2 JPS64635 Y2 JP S64635Y2 JP 1983125506 U JP1983125506 U JP 1983125506U JP 12550683 U JP12550683 U JP 12550683U JP S64635 Y2 JPS64635 Y2 JP S64635Y2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- port
- magnetic field
- fusion device
- support
- vacuum vessel
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
Links
Classifications
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02E—REDUCTION OF GREENHOUSE GAS [GHG] EMISSIONS, RELATED TO ENERGY GENERATION, TRANSMISSION OR DISTRIBUTION
- Y02E30/00—Energy generation of nuclear origin
- Y02E30/10—Nuclear fusion reactors
Landscapes
- Plasma Technology (AREA)
Description
【考案の詳細な説明】
本考案は核融合装置用ポートに係り、特に真空
容器内のプラズマを観測、あるいは加熱するため
に真空容器に設けられる核融合装置用ポートに関
する。
容器内のプラズマを観測、あるいは加熱するため
に真空容器に設けられる核融合装置用ポートに関
する。
第１図、及び第２図に一般的な核融合装置の概
略を示す。
略を示す。
第１図，第２図において、真空容器１と、この
真空容器１の周囲を取り囲み、トーラス周方向に
等間隔に複数配置されたトロイダル磁場コイル２
と、真空容器１の周囲に沿つて配置されたポロイ
ダル磁場コイル３を備えた核融合装置では、真空
容器１内に閉じ込められたプラズマ６の観測、及
び加熱等の目的で、真空容器１にポート５が設置
される。
真空容器１の周囲を取り囲み、トーラス周方向に
等間隔に複数配置されたトロイダル磁場コイル２
と、真空容器１の周囲に沿つて配置されたポロイ
ダル磁場コイル３を備えた核融合装置では、真空
容器１内に閉じ込められたプラズマ６の観測、及
び加熱等の目的で、真空容器１にポート５が設置
される。
一般に、この様な核融合装置のポート５には、
核融合装置の運転に伴ない、ポロイダル磁場コイ
ル３の作る磁場の変動、およびプラズマ６の変動
によつて、プラズマ６の作る磁場の変動が発生
し、これらによつてポート５には、第３図に示す
如き渦電流８とトロイダル磁場コイル９のカツプ
リングによりポート５には、電磁力が発生する。
変動磁場７を作るポロイダル磁場コイル３および
プラズマ６に流れる電流は非常に大きく、かつ、
その電流の変化率も大きいため、この電磁力は膨
大なものとなる。このため、ポート５の変形が観
測上、あるいは強度上問題となる。
核融合装置の運転に伴ない、ポロイダル磁場コイ
ル３の作る磁場の変動、およびプラズマ６の変動
によつて、プラズマ６の作る磁場の変動が発生
し、これらによつてポート５には、第３図に示す
如き渦電流８とトロイダル磁場コイル９のカツプ
リングによりポート５には、電磁力が発生する。
変動磁場７を作るポロイダル磁場コイル３および
プラズマ６に流れる電流は非常に大きく、かつ、
その電流の変化率も大きいため、この電磁力は膨
大なものとなる。このため、ポート５の変形が観
測上、あるいは強度上問題となる。
本考案は上述の点に鑑み成されたもので、その
目的とするところは、電磁力等による変形を防止
した核融合装置用ポートを提供するにある。
目的とするところは、電磁力等による変形を防止
した核融合装置用ポートを提供するにある。
本考案は導電体製のサポートをポートの周囲に
配し、該サポートで、ポートからの力を伝達する
物体を介してポートを支持するようにしたもので
あり、ポートの変形を防止する効果を生ませ、か
つ、導電体製のサポートの磁気シールド効果によ
つて、ポートに作用する電磁力を小さくすること
を特徴とするものである。
配し、該サポートで、ポートからの力を伝達する
物体を介してポートを支持するようにしたもので
あり、ポートの変形を防止する効果を生ませ、か
つ、導電体製のサポートの磁気シールド効果によ
つて、ポートに作用する電磁力を小さくすること
を特徴とするものである。
導電体製サポートとポート間の力を伝達するに
十分大きな抵抗を有する物体は、それ自体の抵抗
率の大きな絶縁物を用いたり、或いは、導電体製
サポートやポートと同程度の導電率の物体であつ
ても、その抵抗値自体が十分大きな構造となつて
いれば良い。
十分大きな抵抗を有する物体は、それ自体の抵抗
率の大きな絶縁物を用いたり、或いは、導電体製
サポートやポートと同程度の導電率の物体であつ
ても、その抵抗値自体が十分大きな構造となつて
いれば良い。
また、シールド効果を生ませる導電体製のサポ
ートの板厚δは、導電体製のサポートの抵抗率を
ρ、変動磁場の変動周波数を、真空の透磁率を
μ0とすると、磁場のしみ込み深さを考慮して(1)式
で与えられる。
ートの板厚δは、導電体製のサポートの抵抗率を
ρ、変動磁場の変動周波数を、真空の透磁率を
μ0とすると、磁場のしみ込み深さを考慮して(1)式
で与えられる。
次に本考案の一実施例を図面によつて説明す
る。第４図に示す如く、本実施例では、変動磁場
７に置かれたポート５の周囲に導電体製サポート
１１を配している。ポート５と導電体製サポート
１１の間は、十分大きな抵抗を有する物体１４で
力が伝達されポート５が支持される。
る。第４図に示す如く、本実施例では、変動磁場
７に置かれたポート５の周囲に導電体製サポート
１１を配している。ポート５と導電体製サポート
１１の間は、十分大きな抵抗を有する物体１４で
力が伝達されポート５が支持される。
変動磁場７により、導電体製サポート１１に渦
電流８が流れ、その渦電流８の作る磁場１０によ
り導電体製サポート１１内の空間では、変動磁場
７が相殺され、磁気シールド効果を得ることがで
きる。第５図はこのときの変動磁場７と渦電流
８、及び渦電流８の作る磁場１０の関係を示した
もので、この図からも、変動磁場７が渦電流８の
作る磁場１０により相殺されることがわかる。第
６図は導電体製サポート１１に補強枠１２を焼ば
めし、導電体製サポート１１の補強をはかつた一
実施例であり、この強度向上は第７図の様に、ボ
ルト１３で補強枠１２に固定してもよい。
電流８が流れ、その渦電流８の作る磁場１０によ
り導電体製サポート１１内の空間では、変動磁場
７が相殺され、磁気シールド効果を得ることがで
きる。第５図はこのときの変動磁場７と渦電流
８、及び渦電流８の作る磁場１０の関係を示した
もので、この図からも、変動磁場７が渦電流８の
作る磁場１０により相殺されることがわかる。第
６図は導電体製サポート１１に補強枠１２を焼ば
めし、導電体製サポート１１の補強をはかつた一
実施例であり、この強度向上は第７図の様に、ボ
ルト１３で補強枠１２に固定してもよい。
また、導電体製サポート１１は、必ずしも一体
である必要はなく、変動磁場７によつて導電体製
サポート１１に発生する渦電流の電流路をさえぎ
らない様な分割は、シールド効果に影響を与えな
いので可能である。
である必要はなく、変動磁場７によつて導電体製
サポート１１に発生する渦電流の電流路をさえぎ
らない様な分割は、シールド効果に影響を与えな
いので可能である。
第１図は一般的な核融合装置を一部断面に示す
平面図、第２図はそのＡ−Ａ断面図、第３図は従
来構造におけるポートと変動磁場、渦電流、トロ
イダル磁場の関係を示すポートの斜視図、第４図
は本考案の一実施例を示すポートの斜視図、第５
図は変動磁場と渦電流、及び渦電流の作る磁場の
関係を示す図、第６図及び第７図は本考案の他の
実施例を示すポートの斜視図である。 １……真空容器、２……トロイダル磁場コイ
ル、３……ポロイダル磁場コイル、４……架台、
５……ポート、６……プラズマ、７……変動磁
場、８……渦電流、９……トロイダル磁場、１０
……渦電流の作る磁場、１１……導電体製サポー
ト、１２……補強枠、１３……ボルト、１４……
物体。
平面図、第２図はそのＡ−Ａ断面図、第３図は従
来構造におけるポートと変動磁場、渦電流、トロ
イダル磁場の関係を示すポートの斜視図、第４図
は本考案の一実施例を示すポートの斜視図、第５
図は変動磁場と渦電流、及び渦電流の作る磁場の
関係を示す図、第６図及び第７図は本考案の他の
実施例を示すポートの斜視図である。 １……真空容器、２……トロイダル磁場コイ
ル、３……ポロイダル磁場コイル、４……架台、
５……ポート、６……プラズマ、７……変動磁
場、８……渦電流、９……トロイダル磁場、１０
……渦電流の作る磁場、１１……導電体製サポー
ト、１２……補強枠、１３……ボルト、１４……
物体。
Claims (1)
- 内部にプラズマが閉じ込め保持される真空容器
の周囲にトロイダル磁場コイルとポロイダル磁場
コイルが配置された核融合装置の前記真空容器に
取付けられたポートにおいて、前記ポートの周囲
に導電体製のサポートを配し、該サポートは、前
記ポートからの力を伝達する物体を介して前記ポ
ートを支持していることを特徴とする核融合装置
用ポート。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1983125506U JPS6033687U (ja) | 1983-08-15 | 1983-08-15 | 核融合装置用ポ−ト |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1983125506U JPS6033687U (ja) | 1983-08-15 | 1983-08-15 | 核融合装置用ポ−ト |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6033687U JPS6033687U (ja) | 1985-03-07 |
| JPS64635Y2 true JPS64635Y2 (ja) | 1989-01-09 |
Family
ID=30285714
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1983125506U Granted JPS6033687U (ja) | 1983-08-15 | 1983-08-15 | 核融合装置用ポ−ト |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6033687U (ja) |
-
1983
- 1983-08-15 JP JP1983125506U patent/JPS6033687U/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6033687U (ja) | 1985-03-07 |
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