JPS6410313B2 - - Google Patents

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JPS6410313B2
JPS6410313B2 JP8997085A JP8997085A JPS6410313B2 JP S6410313 B2 JPS6410313 B2 JP S6410313B2 JP 8997085 A JP8997085 A JP 8997085A JP 8997085 A JP8997085 A JP 8997085A JP S6410313 B2 JPS6410313 B2 JP S6410313B2
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JP
Japan
Prior art keywords
mold
consumable electrode
electrode
consumable
droplets
Prior art date
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Application number
JP8997085A
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English (en)
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JPS61249661A (ja
Inventor
Katsuhiko Murakami
Hideaki Mizukami
Akya Ozeki
Kiminari Kawakami
Hirotaka Nakagawa
Motoaki Suzuki
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JFE Engineering Corp
Original Assignee
Nippon Kokan Ltd
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Priority to JP8997085A priority Critical patent/JPS61249661A/ja
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  • Manufacture And Refinement Of Metals (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 この発明は、微細な結晶組織を有する鋳片を製
造することができる滴下式鋳造装置に関する。
〔従来の技術〕
通常、金属製品の中間素材である鋳片又は鋳塊
は溶融金属を連続鋳造鋳型又は造塊用鋳型に注入
して凝固させることにより、製造されている。
しかしながら、この技術においては、完全に溶
けた金属を鋳型に鋳込むので、製造される鋳片又
は鋳塊はその凝固組織の結晶粒径が比較的大き
い。このため、機械的特性を確保するために、鋳
片等に圧下を加える場合に、大圧下を加えると鋳
片等に割れが発生してしまう。従つて多数回に分
けて圧下力を印加する必要があるが、これは長時
間の処理を必要とし、また必要な熱エネルギも多
くなり、処理コストが高い。このような凝固組織
の結晶粒径が粗大化することによる割れ敏感性
は、特に、Ni基超耐熱合金において著しく、こ
の種の合金を製造する場合に、その製造工程が極
めて複雑になる。
このような一般的な鋳造技術における欠点を解
消すべく、近時、VADER(Vacuum Arc
Double Electrode Remelting真空アーク2電極
溶解)法と称される鋳造技術が提案されている
(特開昭55−165271号)。このVADER法において
は、第4図に示すように、製造せんとする鋳塊と
同一組成の金属からなる1対の電極1間にアーク
2を形成し、電極1の対向端部を溶融させる。こ
の溶融金属の液滴4は鋳型3内に落下し、鋳型3
により冷却されて凝固し、鋳塊5が製造される。
この場合に、溶融金属の液滴4は電極1から鋳
型3内に落下する過程で若干冷却され、半溶融状
態になる。このため、鋳型3内の半溶融金属6は
固液共存相が均一に存在する状態で凝固するの
で、鋳塊5の凝固組織の結晶粒径は小さい。従つ
て、大圧下を加えても鋳塊に割れが発生すること
はない。
〔発明が解決しようとする問題点〕
ところで、この従来装置により、中空の鋳塊を
製造する場合は、第5図に示すように、底付円筒
状の鋳型7の中心にコア8を設置し、この鋳型7
をその中心軸9を中心にして回転させる。電極1
からの液滴4は鋳型7内の環状領域に落下する。
しかしながら、液滴4が鋳型7内に落下するタ
イミングは必ずしも一定でないため、鋳型内への
液滴の供給は鋳型7の周方向について不均一にな
る。第6図は直径100mmのステンレス製電極と、
内径200mm、コア直径50mmの鋳型を使用して、肉
厚75mmの中空鋳塊を製造する場合において、回転
鋳型の所定の領域(環状領域の1/8の領域)に液
滴が落下する頻度を横軸に時間をとつて示すグラ
フ図である。この図から明らかなように、鋳型の
一定の位置に液滴が落下するタイミングは不均一
であり、従つて液滴の供給は時間的に且つ鋳型の
周方向について不均一である。
そうすると、液滴の落下頻度が平均より小ない
領域ではミクロポロシテイ等の鋳造欠陥が、多数
存在する凝固組織になり、逆に液滴の落下頻度が
平均より多い領域では凝固組織の結晶粒径が粗大
化する。
〔問題点を解決するための手段〕
この発明は斯かる事情に鑑みてなされたもので
あつて、微細な結晶組織を有すると共に、鋳造欠
陥が少ない中空の鋳片・鋳塊を容易に製造するこ
とができる滴下式鋳造装置を提供することを目的
とする。
この発明に係る滴下式鋳造装置は、鋳型と、非
消耗電極と、この非消耗電極から適長間隔をおい
て非消耗電極と実質的に水平方向に対向する複数
個の消耗電極と、非消耗電極と消耗電極との間に
通電して両者間にアークをを形成し各消耗電極か
らその溶融液滴を鋳型内に落下させるアーク形成
手段と、を有することを特徴とする。
〔実施例〕
以下、添付の図面を参照して、この発明の実施
例について具体的に説明する。第1図はこの発明
の実施例に係る滴下式鋳型装置を示す。鋳型16
は底付円筒状をなし、窒化ボロン、窒化ケイ素又
はハイアルミナ等の耐火物でつくられている。な
お、鋳型16を水冷銅製鋳壁で構成することも可
能である。鋳型16の中心には、コア17が設置
されており、鋳型16とコア17との間に環状の
領域が形成されている。
コア17の直上域には、非消耗電極12が配設
されている。この非消耗電極12は内部水冷の銅
製電極又はタングステン若しくは黒鉛製電極等、
アーク熱によつても溶融しない電極で構成されて
おり、適宜の駆動手段により鉛直方向を中心軸と
して回転駆動されるようになつている。1対の消
耗電極11は非消耗電極12を挾んで実質的に水
平方向に対向するように非消耗電極12から適長
間隔をおいて設置されている。消耗電極11は製
造せんとする鋳塊と同一組成の金属からなり、非
消耗電極12に向けて移動可能に支持されてい
る。
消耗電極11と非消耗電極12との間には、消
耗電極11側を正電位にして直流電源14を接続
することができるようになつている。これらの装
置は鋼材等からなる容器(図示せず)内に設置さ
れており、この容器内は10トル(Torr)以下の
圧力に排気されるようになつている。
このように構成される滴下式鋳造装置において
は、先ず容器内が排気され、圧力が10トル以下の
所望の圧力に低下した後、消耗電極11及び非消
耗電極12と直流電源14とが接続され、消耗電
極11と非消耗電極12との間にアーク13が形
成される。この電極への通電と同時に、非消耗電
極12をその中心軸を回転中心として回転駆動す
る。
消耗電極11における非消耗電極と対向する側
の端部はアーク13の熱により溶融し、溶融金属
の液滴15となつて液下する。非消耗電極12は
内部水冷されているか、又は融点が高い金属でつ
くられており、アーク13が形成されても、非消
耗電極12が実質的に溶融することはない。しか
も、陰極である非消耗電極12はその中心軸の回
りに回転駆動されているから、その表面の損傷が
防止され、非消耗電極12の溶損、従つて、非消
耗電極12による鋳塊の汚染が抑制されている。
液滴15は、1対の消耗電極11の対向端部か
ら鋳型16内に落下し、この落下の間に、液滴1
5は空冷され半溶融状態で鋳型16に鋳込まれ
る。この半溶融金属19は、鋳型16内で固液共
存相が均一に存在する状態で鋳型13により冷却
されて凝固し、中空の鋳塊18が製造される。
この場合に、鋳型16はその中心軸の回りに矢
印20にて示すように回転駆動されている。そし
て、液滴15は2カ所にて鋳型16に鋳込まれ
る。このため、液滴15は鋳型16にその周方向
について略々均一に供給され、中空鋳塊であつて
も、滴下式鋳造装置の基本的な利点である結晶粒
径が小さい凝固組織が得られ、しかも鋳造欠陥
(ミクロポロシテイ)が発生することもない。
第2図はこの実施例のように2個の消耗電極を
有する場合の鋳型の一定の領域(環状領域の1/8
の領域)に供給される液滴の落下タイミングを示
すグラフ図である。この図から明らかなように、
液滴の落下タイミングは規則的であり、比較的均
等な間隔で液滴が供給される。
なお、消耗電極の個数は上記実施例のように2
個に限らず、例えば、第3図に電極近傍の平面図
を示すように、3個の消耗電極11を非消耗電極
12を中心にして120゜の角度をなして離隔する位
置に配置することもできる。これにより、液滴の
供給タイミングは一層均一になる。
また、上記実施例は、造塊型の鋳造装置につい
てのものであるが、鋳片を連続的に引き抜く連続
鋳造型の鋳造装置に適用することも可能である。
更に、この実施例はVADER法による滴下式鋳造
装置についてのものであるが、この発明は
VADER法に限らず、他の滴下式鋳造技術に適用
することが可能であることは勿論である。
〔発明の効果〕
この発明によれば、鋳型の複数の位置に液滴が
落下するから、中空の鋳片・鋳塊を製造する場合
であつても、液滴はその鋳込領域に略々均一に供
給される。従つて、この発明によれば、ミクロポ
ロシテイ等の鋳造欠陥の発生が抑制され、微細な
結晶組織を有する鋳片・鋳塊を容易に製造するこ
とができる。
【図面の簡単な説明】
第1図はこの発明の実施例に係る滴下式鋳造装
置の模式図、第2図はこの発明により鋳造した場
合の液滴の落下タイミングを示す図、第3図はこ
の発明の他の実施例に係る滴下式鋳造装置の模式
的平面図、第4図及び第5図は従来の滴下式鋳造
装置を示す模式図、第6図は従来装置により鋳造
した場合の液滴の落下タイミングを示す図であ
る。 11…消耗電極、12…非消耗電極、13…ア
ーク、14…直流電源、15…液滴、16…鋳
型、17…コア。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 1 鋳型と、非消耗電極と、この非消耗電極から
    適長間隔をおいて非消耗電極と実質的に水平方向
    に対向する複数個の消耗電極と、非消耗電極と消
    耗電極との間に通電して両者間にアークを形成し
    各消耗電極からその溶融液滴を鋳型内に落下させ
    るアーク形成手段と、を有することを特徴とする
    滴下式鋳造装置。
JP8997085A 1985-04-26 1985-04-26 滴下式鋳造装置 Granted JPS61249661A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP8997085A JPS61249661A (ja) 1985-04-26 1985-04-26 滴下式鋳造装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP8997085A JPS61249661A (ja) 1985-04-26 1985-04-26 滴下式鋳造装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS61249661A JPS61249661A (ja) 1986-11-06
JPS6410313B2 true JPS6410313B2 (ja) 1989-02-21

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ID=13985536

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JP8997085A Granted JPS61249661A (ja) 1985-04-26 1985-04-26 滴下式鋳造装置

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JPS61249661A (ja) 1986-11-06

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