JPS6399625U - - Google Patents

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JPS6399625U
JPS6399625U JP19380686U JP19380686U JPS6399625U JP S6399625 U JPS6399625 U JP S6399625U JP 19380686 U JP19380686 U JP 19380686U JP 19380686 U JP19380686 U JP 19380686U JP S6399625 U JPS6399625 U JP S6399625U
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forming
case
pattern
membrane switch
circuit
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JP19380686U
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Description

【図面の簡単な説明】
第1図は本考案の実施例を示す薄型メンブレン
スイツチの一部破断斜視図、第2図は第1図の部
分拡大断面図、第3図は本考案のケースへのパタ
ーン転写工程を示す斜視図、第4図は本考案のケ
ースへのパターン転写後のケースの断面図、第5
図は従来のメンブレンスイツチの取付構造を示す
一部破断斜視図、第6図は第5図の部分拡大断面
図である。 30…パターン転写用シート、31…メンブレ
ンスイツチ、32…ケース、33…ダイヤル、3
4…表面パネル、35,37…接着剤、36…ス
ペーサ、38…可動接点、39…パターン、40
…固定接点、41…接続ランド、42…接続ピン
、43,44…凹所。

Claims (1)

  1. 【実用新案登録請求の範囲】 (1) (a) 成形されたケースと、 (b) 該ケース上に形成される固定接点を含む
    回路形成用のパターン有する固定側形成体と、 (c) 該固定側形成体上に貼り付けられる可動
    接点を有するスペーサ付表面パネルとを具備して
    なる薄型メンブレンスイツチ。 (2) 前記回路形成用のパターンは予めシート上
    に薄膜を形成した後、その薄膜をエツチングする
    ことにより形成し、転写技術により前記ケース上
    に形成してなる実用新案登録請求の範囲第1項記
    載の薄型メンブレンスイツチ。 (3) 前記回路形成用のパターンを予め電着によ
    りシート上に形成し、転写技術により前記ケース
    上に形成してなる実用新案登録請求の範囲第1項
    記載の薄型メンブレンスイツチ。 (4) 前記回路形成用のパターンをエツチングに
    より直接前記ケース上に形成してなる実用新案登
    録請求の範囲第1項記載の薄型メンブレンスイツ
    チ。 (5) 前記回路形成用のパターンを電着により直
    接前記ケース上に形成してなる実用新案登録請求
    の範囲第1項記載の薄型メンブレンスイツチ。 (6) 前記回路形成用のパターンを真空蒸着によ
    り形成してなる実用新案登録請求の範囲第1項記
    載の薄型メンブレンスイツチ。
JP1986193806U 1986-12-18 1986-12-18 薄型メンブレンスイツチ Expired - Lifetime JPH0612580Y2 (ja)

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JP1986193806U JPH0612580Y2 (ja) 1986-12-18 1986-12-18 薄型メンブレンスイツチ

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JPS6399625U true JPS6399625U (ja) 1988-06-28
JPH0612580Y2 JPH0612580Y2 (ja) 1994-03-30

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ID=31150175

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JP1986193806U Expired - Lifetime JPH0612580Y2 (ja) 1986-12-18 1986-12-18 薄型メンブレンスイツチ

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Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS61113336U (ja) * 1984-12-24 1986-07-17

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS61113336U (ja) * 1984-12-24 1986-07-17

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Publication number Publication date
JPH0612580Y2 (ja) 1994-03-30

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