JPS6398899A - 半導体メモリ - Google Patents
半導体メモリInfo
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- JPS6398899A JPS6398899A JP61242095A JP24209586A JPS6398899A JP S6398899 A JPS6398899 A JP S6398899A JP 61242095 A JP61242095 A JP 61242095A JP 24209586 A JP24209586 A JP 24209586A JP S6398899 A JPS6398899 A JP S6398899A
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- memory
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- 102100021424 Rod outer segment membrane protein 1 Human genes 0.000 abstract 2
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔並業上の利用分野〕
本発明は半導体メモリに係り、特に集積度を向上させる
と共に該半導体メモリに欠陥があり、あるいは一部が故
障してもこれを修復できるようにした高集積度半導体メ
モリに関する。
と共に該半導体メモリに欠陥があり、あるいは一部が故
障してもこれを修復できるようにした高集積度半導体メ
モリに関する。
半導体メモリ、その他の半導体集積回路(IC。
LSI)は半導体ウェハ、例えば単結晶シリコン板の上
に多数の回路素子を形成したものであって、経済性、高
性能化、高信頼化をそのメリットする。
に多数の回路素子を形成したものであって、経済性、高
性能化、高信頼化をそのメリットする。
特に半導体メモリはLSIの典型とも言えるもので、R
OMあるいはRA Mとして、所謂情報処理装置の内部
メモリに限らず、大容量のデータファイルとして広範囲
に応用されるようになった。
OMあるいはRA Mとして、所謂情報処理装置の内部
メモリに限らず、大容量のデータファイルとして広範囲
に応用されるようになった。
このような高集積度半導体回路素子を半導体メモリを例
として説明する。
として説明する。
第6図はシリコンウェハ上に半導体メモリチップを構成
する概念図であって、1はシリコンウェハ、2は半導体
メモリチップ(以下、単にチップと称す)である。
する概念図であって、1はシリコンウェハ、2は半導体
メモリチップ(以下、単にチップと称す)である。
シリコンウェハ1は、その直径が約10α(最近はさら
に大径のものも製作されている)あり、この上に多数の
チップ2を区画形成するものであるが、シリコンウェハ
1は児全な品質に作ることができないので、ところどこ
ろに悪い部分(欠陥)があるのが普通である。また、半
導体メモリとしての回路を形成する過程においても、全
てのチップが使用できるものとはならない。半導体メモ
リとして使用できないチップは、シリコンウェハ1の完
成時、および半導体メモリの形成後、検査工程により検
出し、これを欠陥(バグ)として登録しておく。このよ
うなバグを図に黒点により示しである。
に大径のものも製作されている)あり、この上に多数の
チップ2を区画形成するものであるが、シリコンウェハ
1は児全な品質に作ることができないので、ところどこ
ろに悪い部分(欠陥)があるのが普通である。また、半
導体メモリとしての回路を形成する過程においても、全
てのチップが使用できるものとはならない。半導体メモ
リとして使用できないチップは、シリコンウェハ1の完
成時、および半導体メモリの形成後、検査工程により検
出し、これを欠陥(バグ)として登録しておく。このよ
うなバグを図に黒点により示しである。
チップの区画面積をどの程度とするかは、回路設計技術
、微・Tml加工技術、試験技術によってその最小面積
が制限されると共ンこ、上記バグの存在によりチップ面
積を大きくすることには製造歩留りから自と限界がある
。
、微・Tml加工技術、試験技術によってその最小面積
が制限されると共ンこ、上記バグの存在によりチップ面
積を大きくすることには製造歩留りから自と限界がある
。
第7図はシリコンウェハ上に区画形成するチップの面積
を大きくした場合の概念図であって、1はシリコンウェ
ハ、2は半導体メモリチップである。同図におけるチッ
プの面積は第6図のチップの面積の4倍として示しであ
る。また、バグの数。
を大きくした場合の概念図であって、1はシリコンウェ
ハ、2は半導体メモリチップである。同図におけるチッ
プの面積は第6図のチップの面積の4倍として示しであ
る。また、バグの数。
位置は第6図と同じと仮定しである。
第6図と第7図の各場合におけるチップ取りの歩留りを
比較すると、第6図においてはチップの総数=96、バ
グの数=7であるから、その歩留りは92係どなる。一
方、第7図においてはチップの総数=29であるから、
その歩留りは75チとなる。(なお、実際にはチップの
数はこれより1桁以上大きいものとなる。) このように、チップ面積を大とすると、歩留りが低下し
てしまい、シリコンウェハの利用効率が悪くなってしま
う。
比較すると、第6図においてはチップの総数=96、バ
グの数=7であるから、その歩留りは92係どなる。一
方、第7図においてはチップの総数=29であるから、
その歩留りは75チとなる。(なお、実際にはチップの
数はこれより1桁以上大きいものとなる。) このように、チップ面積を大とすると、歩留りが低下し
てしまい、シリコンウェハの利用効率が悪くなってしま
う。
ところで、半導体メモリの高密度化すなわちメモリ容重
のアップを行うためには、第一の手段として半導体メモ
リ自身のチップ面積を犬きくすることが考えられ、第二
の手段としてパッケージに入った半導体メモリをプリン
ト基板などの上に高密度に実装することが考えられる。
のアップを行うためには、第一の手段として半導体メモ
リ自身のチップ面積を犬きくすることが考えられ、第二
の手段としてパッケージに入った半導体メモリをプリン
ト基板などの上に高密度に実装することが考えられる。
しかしながら、上記第一の手段は、前記したようにバグ
があるとチップ全体が使用不可能となり、歩留りの点か
らも好ましいものでない。また上記第二の手段は、個々
の半導体メモリチップ自身の面積は小さいが、これをプ
リント基板などに実装するための外部接続用コネクタに
必要とするjl 19、パッケージの占有面積等が増加
し、半導体メモリ全体の占める面積が大きくなって、小
型化をメリットの一つとする半導体メモリの持つ特長を
発揮させることができなくなる。
があるとチップ全体が使用不可能となり、歩留りの点か
らも好ましいものでない。また上記第二の手段は、個々
の半導体メモリチップ自身の面積は小さいが、これをプ
リント基板などに実装するための外部接続用コネクタに
必要とするjl 19、パッケージの占有面積等が増加
し、半導体メモリ全体の占める面積が大きくなって、小
型化をメリットの一つとする半導体メモリの持つ特長を
発揮させることができなくなる。
なお、上記シリコンウェハとその上に区画形成するチッ
プの大きさについては、例えば、伝田fl−著「わかる
半導体セミナー」(昭54.9.1 )CQ出版P14
8、あるいは、滝川光治著、エレクトロニクス文庫■「
ディジタル集積回路・デザインの基礎」昭54.4.1
オ一ム社、P2N2等において論じられている。
プの大きさについては、例えば、伝田fl−著「わかる
半導体セミナー」(昭54.9.1 )CQ出版P14
8、あるいは、滝川光治著、エレクトロニクス文庫■「
ディジタル集積回路・デザインの基礎」昭54.4.1
オ一ム社、P2N2等において論じられている。
上記従来技術においては、半導体メモリ(半導体集積回
路素子)のチップ面積を大きくして大容量のメモリとす
るための高集積化が困雄であり、かつ核メモリの一部て
故障が起きると該メモリ全体が使用不可能となり、故障
を修復して再使用することができない、等の問題があっ
た。
路素子)のチップ面積を大きくして大容量のメモリとす
るための高集積化が困雄であり、かつ核メモリの一部て
故障が起きると該メモリ全体が使用不可能となり、故障
を修復して再使用することができない、等の問題があっ
た。
本発明は、上記従来技術の問題を解決し、大容量かつ修
復可能な半導体メモリを提供することを目的とする。
復可能な半導体メモリを提供することを目的とする。
上記目的は、シリコンウェハ上に区画形成された複数の
半導体メモリチップを1ブロックとし、これに核1ブロ
ック中の半導体メモリチップの欠陥情報(バグ情報)、
アドレス変換情報などのID情報を持たせたROMを設
げることにより達成される。
半導体メモリチップを1ブロックとし、これに核1ブロ
ック中の半導体メモリチップの欠陥情報(バグ情報)、
アドレス変換情報などのID情報を持たせたROMを設
げることにより達成される。
複数の半導体メモリチップを1ブロックとして半導体メ
モリを構成し、該ブロック中のチップに欠陥がある場合
には、そのチップのみを無効として、全体として大容量
の半導体メモリを構成でき、かつ、使用途中で一部のチ
ップに故障が生じてもこれのみを無効とした修復が可能
となる。
モリを構成し、該ブロック中のチップに欠陥がある場合
には、そのチップのみを無効として、全体として大容量
の半導体メモリを構成でき、かつ、使用途中で一部のチ
ップに故障が生じてもこれのみを無効とした修復が可能
となる。
以下、本発明の実施例を図面を用いて説明する。
第1図は本発明による半導体メモリの一実施例を示す概
念図であって、3はROM、4〜7はR1JJv11〜
RAM4であり、このRAM1〜RA Ni 4により
記憶ブロックを構成する。
念図であって、3はROM、4〜7はR1JJv11〜
RAM4であり、このRAM1〜RA Ni 4により
記憶ブロックを構成する。
同図において、RA Li 1〜RA M 4は後述の
半導体ウェハ、例えばシリコンウェハ上で1ブロックの
記憶ブロックを形成するチップに対応し、例えばそれぞ
れが32にバイトの容量ならば32×4=128にバイ
トの総容量を持つ半導体メモリの記憶ブロックを構成し
ている。ここで、若し、RAM3にバグがあるとすれば
、諾容量は128X3/4=96にバイトとなる。
半導体ウェハ、例えばシリコンウェハ上で1ブロックの
記憶ブロックを形成するチップに対応し、例えばそれぞ
れが32にバイトの容量ならば32×4=128にバイ
トの総容量を持つ半導体メモリの記憶ブロックを構成し
ている。ここで、若し、RAM3にバグがあるとすれば
、諾容量は128X3/4=96にバイトとなる。
このような1ブロックの半導体メモリの記憶ブロックに
対して、制御情報記憶素子としてのROM3を設け、R
OM3に上記したバグがあればその場所情報(欠陥情報
)と、バグのあるチップを無効とする(アクセスを禁止
する)ためのアドレス変換情報などのID情報を記憶さ
せる。
対して、制御情報記憶素子としてのROM3を設け、R
OM3に上記したバグがあればその場所情報(欠陥情報
)と、バグのあるチップを無効とする(アクセスを禁止
する)ためのアドレス変換情報などのID情報を記憶さ
せる。
制御情報記憶素子としてのROM3はRAMと同一のシ
リコンウェハ上に形成してもよく、あるいはRAMを制
御情報記憶素子としてもよい。またこの制御情報記憶素
子をRAMとは別体として構成してもよい。
リコンウェハ上に形成してもよく、あるいはRAMを制
御情報記憶素子としてもよい。またこの制御情報記憶素
子をRAMとは別体として構成してもよい。
第2図は、シリコンウェハ上に半導体メモリ用の複数チ
ップを】ブロックとして形成する概念図であって、1は
シリコンウェハ、2は半導体メモリチップ、20.30
は半導体メモリとしての1ブロック(1記憶ブロック)
である。
ップを】ブロックとして形成する概念図であって、1は
シリコンウェハ、2は半導体メモリチップ、20.30
は半導体メモリとしての1ブロック(1記憶ブロック)
である。
同図において、半導体メモリの1ブロックは、例えば4
チツプによるブロック20.6チツプによるブロック3
0のように任意のチップをもって1つのブロックを構成
してよく、その1チツプをROMとして使用し、あるい
はすべてのチップをRAMとして使用すると共に別途R
OMを設けるようにしてもよい。
チツプによるブロック20.6チツプによるブロック3
0のように任意のチップをもって1つのブロックを構成
してよく、その1チツプをROMとして使用し、あるい
はすべてのチップをRAMとして使用すると共に別途R
OMを設けるようにしてもよい。
第3図は本発明による半導体メモリの構成例を示すブロ
ック図であって、3はROM、4〜7はRA M 1〜
RA M 4.8はアドレス線(AO〜A14)9はR
OM/RA M選択線、10はアドレス線(A15〜A
16)、11はデータ線(DO〜D7)12〜15はチ
ップセレクト線(C8I〜C34)である。
ック図であって、3はROM、4〜7はRA M 1〜
RA M 4.8はアドレス線(AO〜A14)9はR
OM/RA M選択線、10はアドレス線(A15〜A
16)、11はデータ線(DO〜D7)12〜15はチ
ップセレクト線(C8I〜C34)である。
同図は1個当り32にバイトの容量を持つ4個のRAM
と1個のROMによって構成した半導体メモリであり、
アドレス線8はAOからA14まで15本あり、このア
ドレスPA A OからA14から4乏−ろアドレスに
よって各RAMのO〜32にバイトの連続したメモリ空
間をアクセスする。
と1個のROMによって構成した半導体メモリであり、
アドレス線8はAOからA14まで15本あり、このア
ドレスPA A OからA14から4乏−ろアドレスに
よって各RAMのO〜32にバイトの連続したメモリ空
間をアクセスする。
アドレス線10はA15とA16の2本あり、ROM3
から出力されるチップセレクト線12〜14(C8I〜
C34)と共に4つのRAM4〜7の1つを選択するた
めのアドレスを与える。
から出力されるチップセレクト線12〜14(C8I〜
C34)と共に4つのRAM4〜7の1つを選択するた
めのアドレスを与える。
データ線11 (Do〜D?)はRAM4〜7にデータ
に入出力したり、ROM3に制御情報を書き込んだりす
るのに使用する。ROM / RA M選択線9はRO
M3を選択するか、RAM4〜7を選択するかを決める
ROM/RAM選択信号を入力するものであり、ROM
/RAM選択線9が、例えばハイレベル(論理1)のと
きはRAMに対して入出力を行い、ローレベル(論理O
)のときはROMに対して入出力を行う。
に入出力したり、ROM3に制御情報を書き込んだりす
るのに使用する。ROM / RA M選択線9はRO
M3を選択するか、RAM4〜7を選択するかを決める
ROM/RAM選択信号を入力するものであり、ROM
/RAM選択線9が、例えばハイレベル(論理1)のと
きはRAMに対して入出力を行い、ローレベル(論理O
)のときはROMに対して入出力を行う。
第4図はROMの内部構造の1例を説明する概念図であ
って、3はROM、10はアドレス線、11はデータ線
、16はアドレス変換テーブル、17はID情報テーブ
ルである。
って、3はROM、10はアドレス線、11はデータ線
、16はアドレス変換テーブル、17はID情報テーブ
ルである。
図示において、アドレス変換テーブル16にはアドレス
線11 (Al 5とA16)を介してアドレスが入力
されており、この2本のアドレス線からの2つのアドレ
スの組合わせでC8I〜C84のチップアドレス(00
,01,10,11)を出力する。ID情報テーブルI
7には使用できる総メモリ数(RAMの数)を格納して
おく。なお、このID情報テーブル17には、上記総メ
モリ数の情報のほかに、欠陥メモリの情報、あるいは、
ROMに情報を書込んだ日付、その地核半導体メモリに
記憶された情報の書誌的事項などの各種インデックスを
書込んでおいてもよい。
線11 (Al 5とA16)を介してアドレスが入力
されており、この2本のアドレス線からの2つのアドレ
スの組合わせでC8I〜C84のチップアドレス(00
,01,10,11)を出力する。ID情報テーブルI
7には使用できる総メモリ数(RAMの数)を格納して
おく。なお、このID情報テーブル17には、上記総メ
モリ数の情報のほかに、欠陥メモリの情報、あるいは、
ROMに情報を書込んだ日付、その地核半導体メモリに
記憶された情報の書誌的事項などの各種インデックスを
書込んでおいてもよい。
上記のよう構成した半導体メモリは、その使用に先立ち
、ROM3のアドレス変換テーブル16に全てのRAM
(RAM1〜RAM4)がアクセスできるように設定す
る。次に、全てのRAMを検査し、欠陥を持つRAMが
あるか否かを調べて、いずれのRAMにも欠陥がない場
合は第4図に示したように、そのID情報テーブル17
に総メモリ容量(この場合は128にバイト)を書き込
む。
、ROM3のアドレス変換テーブル16に全てのRAM
(RAM1〜RAM4)がアクセスできるように設定す
る。次に、全てのRAMを検査し、欠陥を持つRAMが
あるか否かを調べて、いずれのRAMにも欠陥がない場
合は第4図に示したように、そのID情報テーブル17
に総メモリ容量(この場合は128にバイト)を書き込
む。
なお、アドレス変換テーブル16はそのままとする。こ
れに対し、いずれかのRAMに欠陥が存在する場合は、
アドレス変換テーブルとID情報テーブルの変更を行う
。
れに対し、いずれかのRAMに欠陥が存在する場合は、
アドレス変換テーブルとID情報テーブルの変更を行う
。
第5図はRA Mに欠陥がある場合のROMの内容を示
す概念図でちって、第4図と同一符号は同一部分を示す
。
す概念図でちって、第4図と同一符号は同一部分を示す
。
第5図において、RAMの検査の結果第1図のRA M
3に欠陥があることがわかると、アドレス変換テーブ
ル160RAM3のアドレス’10’がRAM4のアド
レスとなるようにアドレス変換され、アドレス線10
(Al 5〜A16)のアドレスが’10’の場合はR
AM3を選択するかわりにRA M 4を選択してアク
セスするようにアドレス変換テーブル16を書き換える
。これと共にID情報テーブル17の総メモリ容量を9
6にバイト(128X3/4)に書き換える。
3に欠陥があることがわかると、アドレス変換テーブ
ル160RAM3のアドレス’10’がRAM4のアド
レスとなるようにアドレス変換され、アドレス線10
(Al 5〜A16)のアドレスが’10’の場合はR
AM3を選択するかわりにRA M 4を選択してアク
セスするようにアドレス変換テーブル16を書き換える
。これと共にID情報テーブル17の総メモリ容量を9
6にバイト(128X3/4)に書き換える。
これにより、アドレス線10 (AI 5〜A16)の
アドレスがゝ 】0 ′となっても、チップセレクト信
号C83はオンにならず、これに換えてチップセレクト
信号C34がオンとなり、メモリ容量は3/4になるが
、半導体メモリとしては使用可能なものとなる。
アドレスがゝ 】0 ′となっても、チップセレクト信
号C83はオンにならず、これに換えてチップセレクト
信号C34がオンとなり、メモリ容量は3/4になるが
、半導体メモリとしては使用可能なものとなる。
上記した本発明による半導体メモリを使用中に一部のR
AMに故障が生じた場合には、上記と同様の手順でRO
M3のアドレス変換テーブル16とID+J報テーブル
17を曹き換えることにより、修復を行い、総メモリ容
量は少なくなるものの、引き続いて半導体メモリとして
使用できるようになる。
AMに故障が生じた場合には、上記と同様の手順でRO
M3のアドレス変換テーブル16とID+J報テーブル
17を曹き換えることにより、修復を行い、総メモリ容
量は少なくなるものの、引き続いて半導体メモリとして
使用できるようになる。
気に、集積回路として複数チップを1ブロックを1単位
にしてパッケージ化できるので、素子の占有面積の節約
ができ、作業性、信頼性を向上できる。
にしてパッケージ化できるので、素子の占有面積の節約
ができ、作業性、信頼性を向上できる。
なお、ID情報を格納するROMは、RAMチップと同
一ウェハ上に形成したものとして説明したが、前記した
ように、RAMチップとは別個に製作したR OMを用
いてもよい。
一ウェハ上に形成したものとして説明したが、前記した
ように、RAMチップとは別個に製作したR OMを用
いてもよい。
また、上記説明は、複数のチップを1ブロックとして半
導体メモリを構成した実施例についてのものであるが、
従来の半導体メモリのように、パッケージした複数の半
導体メモリチップをプリント基板等に多数個実装したも
のについても適用できることは言うまでもない。
導体メモリを構成した実施例についてのものであるが、
従来の半導体メモリのように、パッケージした複数の半
導体メモリチップをプリント基板等に多数個実装したも
のについても適用できることは言うまでもない。
以上説明したように、本発明によれば、シリコンウェハ
上に区画形成する複数個の半導体メモリチップを1ブロ
ックとして大容量の半導体メモリを構成し、これら各半
導体メモリチップの各々に対して、その使用の可否をI
D情報として付属のROMに書き込むことにより、仮り
に上記1ブロック中のいずれかの半導体メモリチップに
欠陥があっても、あるいは使用中に故障が発生しても、
そのチップのみを無効として残りの正常チップを使用で
きるので、実質的に集積密度を大幅に高めて大容量の半
導体メモリを構成することができろと共に、シリコンウ
ェハの利用効率を上げることができ、上記従来技術の欠
点を除いて優れた機能の半導体メモリを提供することが
できる。
上に区画形成する複数個の半導体メモリチップを1ブロ
ックとして大容量の半導体メモリを構成し、これら各半
導体メモリチップの各々に対して、その使用の可否をI
D情報として付属のROMに書き込むことにより、仮り
に上記1ブロック中のいずれかの半導体メモリチップに
欠陥があっても、あるいは使用中に故障が発生しても、
そのチップのみを無効として残りの正常チップを使用で
きるので、実質的に集積密度を大幅に高めて大容量の半
導体メモリを構成することができろと共に、シリコンウ
ェハの利用効率を上げることができ、上記従来技術の欠
点を除いて優れた機能の半導体メモリを提供することが
できる。
第1図は本発明による半導体メモリの一実施例を示す概
念図、第2図はシリコンウェハ上に半導体メモリ用の複
数のチップを1ブロックとして形成する概念図、第3図
は本発明による半導体メモリの構成例を示すブロック図
、第4図はROMの内部構造の1例を示す概念図、第5
図はRAMに欠陥がある場合のROMの内容を示す概念
図、第6図はシリコンウェハ上に半導体メモリチップを
構成する概念図、第7図はシリコンウェハ上に区画形成
するチップの面積を大きくした場合の概念図である。 1・・・・・・シリコンウェハ、2・・・・・・チップ
、3・・・・・・ROM、4〜7・・・・・・RAM、
8・・・・・・アドレス線、9・・・・・・ROM/R
AM選択線、10・・・・・・アドレス線、11・・・
・・・データ線、12〜15・・・・・・チップ選択信
号、16・・・・・・アドレス変換テーブル、17・・
・・・・ID情報テーブル、20.30・・・・・・ブ
ロック0第 1 図 第 2 x 第 3 区 第4図 第5図
念図、第2図はシリコンウェハ上に半導体メモリ用の複
数のチップを1ブロックとして形成する概念図、第3図
は本発明による半導体メモリの構成例を示すブロック図
、第4図はROMの内部構造の1例を示す概念図、第5
図はRAMに欠陥がある場合のROMの内容を示す概念
図、第6図はシリコンウェハ上に半導体メモリチップを
構成する概念図、第7図はシリコンウェハ上に区画形成
するチップの面積を大きくした場合の概念図である。 1・・・・・・シリコンウェハ、2・・・・・・チップ
、3・・・・・・ROM、4〜7・・・・・・RAM、
8・・・・・・アドレス線、9・・・・・・ROM/R
AM選択線、10・・・・・・アドレス線、11・・・
・・・データ線、12〜15・・・・・・チップ選択信
号、16・・・・・・アドレス変換テーブル、17・・
・・・・ID情報テーブル、20.30・・・・・・ブ
ロック0第 1 図 第 2 x 第 3 区 第4図 第5図
Claims (1)
- 半導体ウェハ上に区画形成された集積回路素子から成る
半導体メモリにおいて、前記集積回路素子の複数個を1
ブロックとして記憶ブロックを構成し、前記記憶ブロッ
クに対して制御情報記憶素子を設け、前記制御情報記憶
素子に格納する制御情報を、前記記憶ブロックを構成す
る前記集積回路素子の欠陥の有無を示す情報、アドレス
変換情報、総メモリ容量、等のID情報とし、前記記憶
ブロック又は前記制御情報記憶素子を含めて1単位のパ
ッケージに収納したことを特徴とする半導体メモリ。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP61242095A JPS6398899A (ja) | 1986-10-14 | 1986-10-14 | 半導体メモリ |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP61242095A JPS6398899A (ja) | 1986-10-14 | 1986-10-14 | 半導体メモリ |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS6398899A true JPS6398899A (ja) | 1988-04-30 |
Family
ID=17084222
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP61242095A Pending JPS6398899A (ja) | 1986-10-14 | 1986-10-14 | 半導体メモリ |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS6398899A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US8601964B2 (en) | 2005-06-17 | 2013-12-10 | Wobben Properties Gmbh | Ship |
-
1986
- 1986-10-14 JP JP61242095A patent/JPS6398899A/ja active Pending
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US8601964B2 (en) | 2005-06-17 | 2013-12-10 | Wobben Properties Gmbh | Ship |
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