JPS6398115A - コンデンサ用薄膜誘電体材料の製造方法 - Google Patents

コンデンサ用薄膜誘電体材料の製造方法

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JPS6398115A
JPS6398115A JP24471786A JP24471786A JPS6398115A JP S6398115 A JPS6398115 A JP S6398115A JP 24471786 A JP24471786 A JP 24471786A JP 24471786 A JP24471786 A JP 24471786A JP S6398115 A JPS6398115 A JP S6398115A
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JP
Japan
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thin film
organic polymer
layer
film dielectric
lower electrode
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JP24471786A
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English (en)
Inventor
北野 正和
渡辺 康光
岡 和貴
山下 満弘
博一 山本
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Unitika Ltd
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Unitika Ltd
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) 本発明は、コンデンサ用薄膜誘電体材料の製造方法に関
するものであり、産業上、有益に、小型・軽量化フィル
ムコンデンサを大量生産することを目的とする。
(従来の技術)(発明が解決しようとする問題点)コン
デンサの静電容量は、誘電体の誘電率と電極面積に比例
し、電極間距離に反比例する。従って、コンデンサの容
量を大きくするためには、誘電体の誘電率を大きくする
か、または、誘電体の厚みを薄くすることが必要とされ
る。
従来のフィルムコンデンサは、有機高分子フィルム自身
を誘電体として用いているため、誘電率は2〜5程度で
低く、また、フィルム厚みを薄くするにも、技術的問題
より2μm程度が限度であると考えられる。従って、静
電容量を大きくするには、何層にも多層巻きをしなけれ
ばならなかった。
また、最近では導電体上部にを機高分子を塗布して製造
するコンデンサも開発されているが、塗布膜厚みを1μ
m以下に薄くすれば、電気絶縁性などに問題が生じてく
る。
一方、無機材料は有機高分子に比べて誘電率が高いが、
薄いフィルム状にすることが困難であるため、誘電率の
割りに静電容量が大きくとれない欠点があり、また、塗
布、焼成などの工程を経るため、加工費が高(つく。
そこで1本発明は従来のこのような欠点を解決するため
、誘電体膜厚が薄く、誘電率が大きく。
かつ絶縁性のよいコンデンサを製造することを目的とし
ている。
(問題点を解決するための手段) 本発明者らは、前記コンデンサ用薄膜誘電体材料の産業
上、有益な製造方法を開発すべく鋭意研究を進めた結果
、有機高分子フィルムを支持体基板とし、その少なくと
も一方の面に下部電極としての導電性金属層、有機高分
子薄膜層、薄膜誘電体層、及び上部電極としての導電性
金属層を各層の必要パターンに応じて順次積層するとい
う本発明に到達したのである。
以下に2図面を参照して本発明を具体的に説明する。
まず、下部電極は、有機高分子フィルムの長手方向に、
必要な設計で非藩着部分が存在するように蒸着法、イオ
ンブレーティング法あるいはスパッタリング法を用いて
電極形成される。導電性金属層としては、アルミニウム
、亜鉛、金等があげられ、好ましくはアルミニウムを用
いるのがよい。
ただし、フィルムの長手方向とはフィルムの巻き取り方
向を意味し、フィルムの幅方向とは長手方向に交差する
方向を意味する。有機高分子フィルム基板(1)上に(
第1図)、テープ マージン法、オイル マージン法、
水溶性 マージン法あるいは蒸着マスク法により、フィ
ルムの長手方向に、必要な設計で下部電極(2)を形成
する(第2図)。
この下部電極上に、必要なパターンに応じて。
任意の幅で、それぞれの下部電極の片端に非印刷部分が
残るように有機高分子薄膜層(3)を形成する(第3図
)。有機高分子薄膜層としては、1kHzで測定した誘
電正接が1%以下であり、膜厚0.1〜0.7μmの範
囲である熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂及び両者の混合物
を用いるのがよい。ただし、膜厚が0.1μm以下では
十分な電気絶縁抵抗が得られず、膜厚が0.7μm以上
では断面積あたり大きな静電容量が得られないので実用
的でない。たとえば、熱可塑性樹脂としては、ポリスチ
レン系、ポリエチレン系、ポリアミド系、ポリイミド系
、ポリスルホン系、ポリプロピレン系、ボリアリレート
系、ポリエステル系等があげられ。
熱硬化性樹脂としては、尿素系、メラミン系、フェノー
ル系、エポキシ系、不飽和ポリエステル系。
゛アルキド系、ウレタン系等があげられる。通常。
好ましくはポリエステル系樹脂を用いるのがよいが、耐
熱性を必要とする場合には、ポリアミド系。
ポリイミド系、ポリスルホン系を用いるのがよい。
有機高分子層の形成方法としては、どのような方法を用
いてもよいが、コート法あるいは印刷法を用いるのが望
ましい。
その上に、薄膜誘電体M(4)を蒸着法、イオンブレー
ティング法あるいはスパッタリング法を用いて成膜する
(第4図)。その際、有機高分子薄膜層上に成膜するた
め、オイル マージンを用いてパターンを形成する。薄
膜誘電体層としては。
硫化亜鉛、酸化鉛、酸化珪素、酸化チタン、イツトリウ
ム酸化物等があげられ、好ましくは硫化亜鉛を用いるの
がよい。また、その膜厚は0.1〜0.8μmの範囲が
よい。ただし、膜厚が0.1μm以下では十分な電気絶
縁抵抗が得られず、膜厚が0.8μm以上では膜自身の
亀裂を生じ2歩留り率の低下を招く。
そして、その上に、上部電極としての導電性金属層を蒸
着法、イオンブレーティング法あるいはスパッタリング
法を用いて成膜する(第5図)。
その際、下部電極露出部以外の部分に成膜するために、
オイル マージンを用いてパターンを形成する。また、
より高い電気絶縁抵抗及び誘電特性が望まれる場合には
、必要に応じて、薄膜誘電体層(4)と上部電極(5)
との間に有機高分子薄膜層を付加してもよい。
その後、スリッターにより切り出すことによって(6)
、コンデンサ用薄膜誘電体材料を得るのである(第6図
)。これらを所望の容量単位を得るため、任意の長さで
切り出すことによって巻き回し型コンデンサ、あるいは
単位容■を切り出し。
、積層することよってチップ型コンデンサを得るのであ
る。
以上、有機高分子フィルムを支持体基板とし。
その少なくとも一方の面に、下部電極としての導電性金
属層、有機高分子薄膜層、3膜誘電体層。
及び上部電極としての導電性金属層を順次積層してなる
コンデンサ用薄膜誘電体材料を製造するに際して、薄膜
誘電体層、上部電極各層のパターン形成にオイル マー
ジン法を用いることにより。
連続大量生産が可能となり、産業上、有益であり。
かつ歩留りのよい製造が可能となったのである。
(実施例) 以下に実施例を示して9本発明を図面を参照して具体約
5こ説明する。
実施例1〜5 支持体基板(1)として、フィルム厚6μmのポリエス
テルフィルムを用い(第1図)、このフィルムの幅方向
に、18mmのピッチ、幅21のパターンで、水溶性高
分子層として、ヒドロキシプロピルセルロース(TCI
−E、P、、東京化成)をフィルムの長手方向にグラビ
ア印刷法により1μm形成した。次に、この上全面に、
AIを下部電極(2)として、真空薄着法により0.0
6μm藩着し、水洗により水溶性高分子層ならびに水溶
性高分子層上のAIを同時に洗い出し、連続乾燥炉にて
水分を蒸発させた(第2図)。次に、有機高分子薄膜層
(3)として、それぞれの下部電極の片端に1皿、そし
て、それに隣接する下部電極の非蒸着部分にも111の
、計2龍の幅で非印刷部分が残るように2 フィルムの
長手方向にグラビア印刷法によりポリエステル樹脂(バ
イロン200゜東洋紡)を0.3μm形成した(第3図
)。次いで。
この非印刷部分の両端を11ずつ隠し、有機高分・子層
上に成膜できるような形になるように、オイル マージ
ンを用いて硫化亜鉛薄膜誘電体層(4)をRFビイオン
ブレーティング法より形成した(第4図)。すなわち、
アルゴンをペルジャー内に導入し、真空度7 X 10
−’Torrに保ち、電圧2kV、周波数13.56 
MHzの高周波電界を100W印加しながら、電子銃に
より硫化亜鉛蒸発母材を加熱蒸発させ、0.5μm形成
した。ただし、蒸発母材は純度99.99%の微粉末を
プレス成型し。
s o o ”cで6時間真空焼結を行ったものを用い
た。
そして、この上に、下部電極露出部1龍と、その樹脂コ
ート側1 +uの、計2關を隠すように、オイル マー
ジンを用いて上部電極(5)としてAIを0.06μm
真空蒸着した(第5図)。次に、スリッターにより、そ
れぞれの下部電極露出部と下部電極の非蒸着部分の間を
切断しく6)1巻き取り、コンデンサ用薄膜誘電体材料
を得た。
このコンデンサ用薄膜誘電体材料を素子巻機にかけて、
設計静電容量20nF(実施例1)、40nF(実施例
2)、60nF(実施例3)、80nF(実施例4)、
100nF(実施例5)コンデンサ素子を形成した。こ
れらのコンデンサ素子に、亜鉛溶射により外部電極を形
成し、樹脂モールド後。
静電容量(1kHzで測定)、電気絶縁抵抗(30Vで
測定)及び歩留り率を測定した。その結果を表1.に示
す。ただし2歩留り率はそれぞれサンプル100点を作
成し、その内で、電気絶縁抵抗が5×109Ω以上のも
のを百分率で表したもので′ある。
表  1゜ (発明の効果) 本発明によれば2次の効果を得ることができる。
(1)従来の金属化フィルムコンデンサと比較して、大
幅に小型化されたコンデンサ用薄膜誘電体材料を、産業
上、安価に製造できる。
(2)従来の薄膜コンデンサと比較して、電気絶縁抵抗
の大きい、誘電正接の小さなコンデンサ用薄膜誘電体材
料を9歩留りよく製造できる。
つまり、オイル マージン法を用いることにより、従来
の方法に比べて工程が簡略化され、大幅なコストダウン
が可能となった。また同時に、誘電正接が低く、電気絶
縁抵抗1歩留り率の高いものを安定して製造することが
可能となった。本発明により製造された薄膜誘電体材料
は、従来のフィルムコンデンサの誘電体材料である金属
化フィルムに比べて、製造加工工程上の取り扱いはほと
んど変わらず、コンデンサ用の全く新規な優れた薄膜誘
電体材料を、産業上、有益に製造することができる。
【図面の簡単な説明】
第1図〜第5図は9本発明の概略図である。 1 有機高分子フィルム基板 2 下部電極 3 有機高分子薄膜層 4 薄膜誘電体層 5 上部電極 6 切断位置

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)有機高分子フィルムを支持体基板とし、その少な
    くとも一方の面に下部電極としての導電性金属層、有機
    高分子薄膜層、薄膜誘電体層、及び上部電極としての導
    電性金属層を順次各層の必要なパターンに応じて積層し
    てなるコンデンサ用薄膜誘電体材料を製造するに際して
    、薄膜誘電体層及び上部電極のパターン形成にオイルマ
    ージン法を用い、下部電極、薄膜誘電体層及び上部電極
    は、蒸着法、イオンプレーティング法あるいはスパッタ
    リング法により形成され、有機高分子薄膜層はコート法
    あるいは印刷法により形成されることを特徴とするコン
    デンサ用薄膜誘電体材料の製造方法。
  2. (2)下部電極が、有機高分子フィルムの長手方向に、
    必要な設計で非蒸着部分が存在するように電極形成され
    、有機高分子薄膜層は、下部電極の片端に非印刷部分が
    残るように、任意の幅で、必要なパターンに応じて形成
    され、かつ薄膜誘電体層は、有機高分子薄膜層より狭い
    幅で有機高分子薄膜層上に形成され、上部電極は、下部
    電極露出部を除いた部分に、任意の幅で、必要なパター
    ンに応じて形成されることを特徴とする特許請求の範囲
    第1項記載のコンデンサ用薄膜誘電体材料の製造方法。
JP24471786A 1986-10-14 1986-10-14 コンデンサ用薄膜誘電体材料の製造方法 Pending JPS6398115A (ja)

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP1014399A2 (en) * 1998-12-22 2000-06-28 Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. Flexible thin film capacitor and method for producing the same

Cited By (4)

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Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP1014399A2 (en) * 1998-12-22 2000-06-28 Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. Flexible thin film capacitor and method for producing the same
US6212057B1 (en) 1998-12-22 2001-04-03 Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. Flexible thin film capacitor having an adhesive film
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