JPS6393776A - ピラン誘導体及び該化合物を含有する害虫駆除剤 - Google Patents
ピラン誘導体及び該化合物を含有する害虫駆除剤Info
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
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Description
【発明の詳細な説明】
(Ia) (Ib) (Ic)〔式
中。
中。
R1はC7〜C2゜−アルキル基、C7〜C20−アル
ケニルX−,c、〜Cto−アルキニル基、C8〜0加
−シクロアルキル基、アリール基、ジアリール基、C?
〜aSO−アリールアルキル基、C8〜C30−アリー
ルアルケニル基、C3〜C3o−アリールアルキニル基
、Ct〜〜−アルコキシ−アルキル基、C5〜〜−アル
コキシ−アルフキシーアルキル基、04〜C3o−アル
コキシ−アルフキシーアルコキシ−アルキル基、貴〜ち
。−アルキル−アリール、C3〜ち。−ジアルキル−ア
リール+ 011〜ち。−トリアルキル−アリール、ア
リールオキシ、アリールオキシアリール、C8〜ヘーシ
クロアルキル、C4〜c2゜−アルキル−シクロアルキ
ル。
ケニルX−,c、〜Cto−アルキニル基、C8〜0加
−シクロアルキル基、アリール基、ジアリール基、C?
〜aSO−アリールアルキル基、C8〜C30−アリー
ルアルケニル基、C3〜C3o−アリールアルキニル基
、Ct〜〜−アルコキシ−アルキル基、C5〜〜−アル
コキシ−アルフキシーアルキル基、04〜C3o−アル
コキシ−アルフキシーアルコキシ−アルキル基、貴〜ち
。−アルキル−アリール、C3〜ち。−ジアルキル−ア
リール+ 011〜ち。−トリアルキル−アリール、ア
リールオキシ、アリールオキシアリール、C8〜ヘーシ
クロアルキル、C4〜c2゜−アルキル−シクロアルキ
ル。
C4〜02g−シクロアルケニル又は05〜c2゜−ア
ルキル−シクロアルケニルによって置換された01〜C
2゜−アルキル基、04〜cto−アルキル−シクロア
ルキル基、c、〜ち。−アリール−シクロアルキル基、
c+9〜C30−アリールオキシ−シクロアルキル基、
0−f〜020−アルキル−アリール基、07〜c2゜
−アルコキシ−アリール、lF+、as〜C2゜−ジア
ルキル−アリール基。
ルキル−シクロアルケニルによって置換された01〜C
2゜−アルキル基、04〜cto−アルキル−シクロア
ルキル基、c、〜ち。−アリール−シクロアルキル基、
c+9〜C30−アリールオキシ−シクロアルキル基、
0−f〜020−アルキル−アリール基、07〜c2゜
−アルコキシ−アリール、lF+、as〜C2゜−ジア
ルキル−アリール基。
C1〜〜−ハロゲンアルキル−アリール基、ハロゲンア
リール基、ジハロゲンアリール基、07〜O?0−アル
キル−ハロゲンアリール基、C8〜C2o−ジアルキル
−へロゲンアリール基、アリールオキシ−アリールg、
c、、〜”30−アリールオキシーアリールアルキル基
、又は#素原子、硫黄原子及び窒素原子から成る群から
選択される1、2又は3#Iの同じか又は異なった拶素
原子を有し、場合によりa、〜ヘーアルキル、アリール
、貴〜〜−アリールアルキル、ハロゲンアリール、C1
〜C2o−アルキルアリール、C3〜−0−ジアルキル
−アリール、aS〜Cto−トリアルキル−アリール基
又は場合によりC1〜O8−アルキルによって置換され
たち〜ヘースピロシクロアルキルから成る群から選択さ
れる1、2又は3個の同じか又は異なった置換基によっ
て置換された。飽和もしくは不飽和5−.6−.7−又
8−員の複素環式基によって置換された01〜0特−ア
ルキル基を表し。
リール基、ジハロゲンアリール基、07〜O?0−アル
キル−ハロゲンアリール基、C8〜C2o−ジアルキル
−へロゲンアリール基、アリールオキシ−アリールg、
c、、〜”30−アリールオキシーアリールアルキル基
、又は#素原子、硫黄原子及び窒素原子から成る群から
選択される1、2又は3#Iの同じか又は異なった拶素
原子を有し、場合によりa、〜ヘーアルキル、アリール
、貴〜〜−アリールアルキル、ハロゲンアリール、C1
〜C2o−アルキルアリール、C3〜−0−ジアルキル
−アリール、aS〜Cto−トリアルキル−アリール基
又は場合によりC1〜O8−アルキルによって置換され
たち〜ヘースピロシクロアルキルから成る群から選択さ
れる1、2又は3個の同じか又は異なった置換基によっ
て置換された。飽和もしくは不飽和5−.6−.7−又
8−員の複素環式基によって置換された01〜0特−ア
ルキル基を表し。
R2は水素原子+ 01〜〜−アルキル基、場合により
フェニル又はハロゲンフェニルによって置換さh タc
、〜−0−ハロゲンアルキル基、 O?−〜−ハロゲ
ンフェニルーハロゲンアルキル基、C1〜〜−アルコキ
シ基+as〜ヘーハロゲンアルコキシ基、偽〜ヘーアル
ケニルオキシ基、a2〜C2o−ハロゲンアルケニルオ
キシ基、0.〜〜ルーアルコキシアルケニルオキシ、ち
〜ヘーアルキニルオキシ基、4〜C9−ハロゲンアルキ
ニルオキシ基、C3〜C26−アルコキシ−アルキニル
オキシ基、C8〜ち。−フェニル−アルキニルオキシ基
、偽〜〜−アルキルチオ基。
フェニル又はハロゲンフェニルによって置換さh タc
、〜−0−ハロゲンアルキル基、 O?−〜−ハロゲ
ンフェニルーハロゲンアルキル基、C1〜〜−アルコキ
シ基+as〜ヘーハロゲンアルコキシ基、偽〜ヘーアル
ケニルオキシ基、a2〜C2o−ハロゲンアルケニルオ
キシ基、0.〜〜ルーアルコキシアルケニルオキシ、ち
〜ヘーアルキニルオキシ基、4〜C9−ハロゲンアルキ
ニルオキシ基、C3〜C26−アルコキシ−アルキニル
オキシ基、C8〜ち。−フェニル−アルキニルオキシ基
、偽〜〜−アルキルチオ基。
ClN02o−ハロゲンアルキルチオ基、−〜〜ルーア
ルコキシ−アルキルチオ、ホルミル基、シアノ基。
ルコキシ−アルキルチオ、ホルミル基、シアノ基。
07〜へ。−フェノキシ−アルコキシ基、貴〜ち。−ハ
ロゲンフェノキシ−アルコキシ基、貴〜貴。−7二ノキ
シーハロゲンアルコキシ基、貴〜C?O−ハロゲンフェ
ノキシーハロゲンアルコキシ基、08〜02゜−アルフ
キシーフエノキシアルコキシ基、C8〜a?o−7二ノ
キシーアルコキシアルコキシ基、貴〜嶋。−7エノキシ
ーアルケエルオキシ基、c8〜%o−ハロゲンフェノキ
シ−アルケニル基、C8〜c2o−フェノキシ−ハロゲ
ンアルケニルオキシ基、C8〜貴0−ハロゲンフェノキ
シ−ハロゲンアルケニルオキシ基。
ロゲンフェノキシ−アルコキシ基、貴〜貴。−7二ノキ
シーハロゲンアルコキシ基、貴〜C?O−ハロゲンフェ
ノキシーハロゲンアルコキシ基、08〜02゜−アルフ
キシーフエノキシアルコキシ基、C8〜a?o−7二ノ
キシーアルコキシアルコキシ基、貴〜嶋。−7エノキシ
ーアルケエルオキシ基、c8〜%o−ハロゲンフェノキ
シ−アルケニル基、C8〜c2o−フェノキシ−ハロゲ
ンアルケニルオキシ基、C8〜貴0−ハロゲンフェノキ
シ−ハロゲンアルケニルオキシ基。
ち〜020−アルコキシフェノキシーアルケニルオキシ
基、ち〜〜ルーフエノキシ−アルコキシアルケニルオキ
シ、08〜〜−フェノキシ−アルキニルオキシ基、08
〜Cto−ハロゲンフェノキシ−アルキニルオキシ;J
Lcs〜〜−7二ノキシーハロゲンアルキニルオキシ基
、C6〜C2o−ハロゲンフェノキシ−ハロゲンアルキ
ニルオキシ基、ち〜〜ルーアルフキジフェノキシ−アル
キニルオキシ、 t:、〜ち。−7二ノキシーアルコ
キシアルキニルオキシ基、C6〜c2o −7エニルア
ルキニルオキシ基I C14〜03fl −7エノキ
シフェニル−アルキニルオキシ基、カルボキシ基、−〜
C9−アルコキシカルボニル基、a、〜02O−アルキ
ルカルボニルオキシ基、C5〜Cto−アルケニルオキ
シカルボニル基、0.〜ヘーアルケニル力ルポニルオキ
シ基、C8〜02o−アルケニルオキシカルボニル基、
C3〜c2o−アルキニルカルボニルオキシ基、フェノ
キシカルボニル基、フェニルカルボニルオキシ基、0.
〜偽。−アルコキシカルボニル−アルコキシ基、フェノ
キシ基、C7〜C2o−アルキルフェノキシ基、ハロゲ
ンフェノキシ基、ジへロゲンフェノキシ基、トリハロゲ
ンフェノキシ基、07〜C7゜−ハロゲンアルキル−フ
ェノキシg、a、〜貴。
基、ち〜〜ルーフエノキシ−アルコキシアルケニルオキ
シ、08〜〜−フェノキシ−アルキニルオキシ基、08
〜Cto−ハロゲンフェノキシ−アルキニルオキシ;J
Lcs〜〜−7二ノキシーハロゲンアルキニルオキシ基
、C6〜C2o−ハロゲンフェノキシ−ハロゲンアルキ
ニルオキシ基、ち〜〜ルーアルフキジフェノキシ−アル
キニルオキシ、 t:、〜ち。−7二ノキシーアルコ
キシアルキニルオキシ基、C6〜c2o −7エニルア
ルキニルオキシ基I C14〜03fl −7エノキ
シフェニル−アルキニルオキシ基、カルボキシ基、−〜
C9−アルコキシカルボニル基、a、〜02O−アルキ
ルカルボニルオキシ基、C5〜Cto−アルケニルオキ
シカルボニル基、0.〜ヘーアルケニル力ルポニルオキ
シ基、C8〜02o−アルケニルオキシカルボニル基、
C3〜c2o−アルキニルカルボニルオキシ基、フェノ
キシカルボニル基、フェニルカルボニルオキシ基、0.
〜偽。−アルコキシカルボニル−アルコキシ基、フェノ
キシ基、C7〜C2o−アルキルフェノキシ基、ハロゲ
ンフェノキシ基、ジへロゲンフェノキシ基、トリハロゲ
ンフェノキシ基、07〜C7゜−ハロゲンアルキル−フ
ェノキシg、a、〜貴。
−アルコキシフェノキシ某、フェノキシ−フェノキシ基
、C6〜C12−アルキレンジオキシ−フェノキシ基、
フェニルチオ基、貴〜ヘーアルキルフェニルチオ基、ハ
ロゲン−フェニルチオ基、ジハロゲン−フェニルチオ基
、トリハロゲン−フェニルチオM、 貴〜〜−ハロゲン
アルキルーフェニルチオ基、貴〜〜−アルフキジフェニ
ルチオ基、フェノキシ−フェニルチオ基、c、〜C!!
−アルキレンジオキシーフェニルチオ基、フェニル基、
フェノキシ−フェニル基、 C−t〜c2o−7エニ
ルアルキル基、 c、3〜(73g −フェノキシ−フ
ェニルアルキル基、cS〜Cl2−アルキレンジオキシ
ーフェニルアルフキシ基又は式: から選択される基を表し。
、C6〜C12−アルキレンジオキシ−フェノキシ基、
フェニルチオ基、貴〜ヘーアルキルフェニルチオ基、ハ
ロゲン−フェニルチオ基、ジハロゲン−フェニルチオ基
、トリハロゲン−フェニルチオM、 貴〜〜−ハロゲン
アルキルーフェニルチオ基、貴〜〜−アルフキジフェニ
ルチオ基、フェノキシ−フェニルチオ基、c、〜C!!
−アルキレンジオキシーフェニルチオ基、フェニル基、
フェノキシ−フェニル基、 C−t〜c2o−7エニ
ルアルキル基、 c、3〜(73g −フェノキシ−フ
ェニルアルキル基、cS〜Cl2−アルキレンジオキシ
ーフェニルアルフキシ基又は式: から選択される基を表し。
R3は水素原子、C1〜C2o−アルキル基又は01〜
C4−ハロゲンアルキル基を表し。
C4−ハロゲンアルキル基を表し。
?、R5は水素原子、弗素原子、廖素原子、0.〜C8
−アルキル基、C1〜C3−アルコキシ基又は01〜C
8−ハロゲンアルコキシ基を表し。
−アルキル基、C1〜C3−アルコキシ基又は01〜C
8−ハロゲンアルコキシ基を表し。
R6は水素原子+ C1〜0to−アルキル基、−〜〜
ルーアルケニル、嶋〜〜−アルキニル基、シアノ基。
ルーアルケニル、嶋〜〜−アルキニル基、シアノ基。
フェニル基、ハロゲンフェニル基10?〜C,6−7/
l/キルフェニル基又ハC−r〜〜−アルコキシフェニ
ル基を表し。
l/キルフェニル基又ハC−r〜〜−アルコキシフェニ
ル基を表し。
R7は水素原子、C1〜ち。−アルキル基、01〜〜−
へロゲンアルキル基、偽〜〜−アルコキシアルキル基、
(:!2〜ato−アルケニル基、チ〜C特−アルキニ
ル基、アリール基、八ツゲンフェニル基、ジハロゲンフ
ェニル基、トリハロゲンフェニル基、シアノフェニル基
、c?〜〜−アルキルフェニル基、 c?〜ヘーアルコ
キシフェニル基、叫〜〜−ハロゲンアルキルーフェニル
基+ O8N0M−アルケニル7エ二ル基、)〜C9−
アルキニルフェニル基、フェノキシフェニル基、C6〜
C1,−メチレンジオキシーフェニル基、02〜〜−ア
ルキルカルボニルa、at〜Cto−ハロゲンアルキル
カルボニルlet〜〜−アルコキシカルボニル基、C5
〜−一アルキルシクロブロビル力ルボニル基、Ot〜輌
−アルケニル−及び−アルキルシクロプロビルーカルボ
ニル基、 O6〜ヘーハロゲンアルキルー及び−アル
キルシクロプロピル−カルボニルi、cr〜〜−ハロゲ
ンアルケニル−aび−アルキルシクロプロビルーカルボ
ニルx、08〜ヘーハロゲンー及び−フェニル−アルキ
ルカルボニル基、C5Natn−ハロゲン−及び−ハロ
ゲンフェニルアルキルカルボニル基、ベンゾイル基、ハ
ロゲンベンゾイル!−,as〜〜−アルキルベンゾイル
基、C@〜ヘーアルコキシペンゾイル基、Os〜C20
−ハロゲンアルキル−ベンゾイル基。
へロゲンアルキル基、偽〜〜−アルコキシアルキル基、
(:!2〜ato−アルケニル基、チ〜C特−アルキニ
ル基、アリール基、八ツゲンフェニル基、ジハロゲンフ
ェニル基、トリハロゲンフェニル基、シアノフェニル基
、c?〜〜−アルキルフェニル基、 c?〜ヘーアルコ
キシフェニル基、叫〜〜−ハロゲンアルキルーフェニル
基+ O8N0M−アルケニル7エ二ル基、)〜C9−
アルキニルフェニル基、フェノキシフェニル基、C6〜
C1,−メチレンジオキシーフェニル基、02〜〜−ア
ルキルカルボニルa、at〜Cto−ハロゲンアルキル
カルボニルlet〜〜−アルコキシカルボニル基、C5
〜−一アルキルシクロブロビル力ルボニル基、Ot〜輌
−アルケニル−及び−アルキルシクロプロビルーカルボ
ニル基、 O6〜ヘーハロゲンアルキルー及び−アル
キルシクロプロピル−カルボニルi、cr〜〜−ハロゲ
ンアルケニル−aび−アルキルシクロプロビルーカルボ
ニルx、08〜ヘーハロゲンー及び−フェニル−アルキ
ルカルボニル基、C5Natn−ハロゲン−及び−ハロ
ゲンフェニルアルキルカルボニル基、ベンゾイル基、ハ
ロゲンベンゾイル!−,as〜〜−アルキルベンゾイル
基、C@〜ヘーアルコキシペンゾイル基、Os〜C20
−ハロゲンアルキル−ベンゾイル基。
C6〜ヘーハロゲンアルコキシーベンゾイル基−On〜
も。−フェニルアルキルカルボニル基、 as〜Cj
to−ハロゲンフェニルアルキルカルボニル基、O@〜
〜−アルキルフェニルアルキルカルボニル基、c、〜ヘ
ーアルコキシフェニルアルキル力ルボニル基。
も。−フェニルアルキルカルボニル基、 as〜Cj
to−ハロゲンフェニルアルキルカルボニル基、O@〜
〜−アルキルフェニルアルキルカルボニル基、c、〜ヘ
ーアルコキシフェニルアルキル力ルボニル基。
0゜〜ヘーハロゲンアルキルフェニルアルキル力ルボニ
ル基、 %〜ヘーハロゲンアルコキシフェニルアルキル
力ルポニル基、a、〜C?o−フェニルアルケニルカル
ボニルx、C9〜C9−へロゲンフェニルアルケニル力
ルポニル基、C1゜〜〜−アルキル7二二ルアルケニル
カルボニルM + 010〜〜−アルフキジフェニルア
ルケニルカルボニル基、O,。〜ヘーハロゲンアルキル
フェニルアルケニル力ルボニル基。
ル基、 %〜ヘーハロゲンアルコキシフェニルアルキル
力ルポニル基、a、〜C?o−フェニルアルケニルカル
ボニルx、C9〜C9−へロゲンフェニルアルケニル力
ルポニル基、C1゜〜〜−アルキル7二二ルアルケニル
カルボニルM + 010〜〜−アルフキジフェニルア
ルケニルカルボニル基、O,。〜ヘーハロゲンアルキル
フェニルアルケニル力ルボニル基。
C7o〜02o−ハロゲンアルコキシフェニルアルケニ
ルカルボニル基、チルC加−7ェニルアルキニル力ルボ
ニ44.%〜Cto−ハロゲンフェニルアルキニルカル
ボニル基、a、。〜〜ルーアルキルフェニルアルキニル
カルボニル T Coo N(jto−アルコキシフ
ェニルアルキニルカルボニル基1 010〜〜−ハロゲ
ンアルキルフェニルアルキニルカルボニルM + 0
toA”(y−ハロゲンアルフキジフェニルアルキニル
カルボニル基、チルC2o−アルキルアミフカルボニル
基、C2〜偽。−ハロゲンアルキルアミノカルボニル基
hos〜ヘーアルコキシアルキルアミ7カルボニル基。
ルカルボニル基、チルC加−7ェニルアルキニル力ルボ
ニ44.%〜Cto−ハロゲンフェニルアルキニルカル
ボニル基、a、。〜〜ルーアルキルフェニルアルキニル
カルボニル T Coo N(jto−アルコキシフ
ェニルアルキニルカルボニル基1 010〜〜−ハロゲ
ンアルキルフェニルアルキニルカルボニルM + 0
toA”(y−ハロゲンアルフキジフェニルアルキニル
カルボニル基、チルC2o−アルキルアミフカルボニル
基、C2〜偽。−ハロゲンアルキルアミノカルボニル基
hos〜ヘーアルコキシアルキルアミ7カルボニル基。
C5Nc2o−ハロゲンアルキルアルキルアミノカルボ
ニルlA+C3〜C?o−ハロゲンアルコキシアルキル
アミ7カルボニル基、C5〜ヘージアルキルアミノカル
ポニル基、CS〜ヘーハロゲンジアルキルアミノカルボ
ニル基、04〜C?o−アルコキシジアルキルアミ7カ
ルボニル基、C5Nc2o−アルキル−及び−アルコキ
シ−アミノカルボニルM*a、〜−0−ハロゲンアルキ
ルジアルキルアミノカルボニル基、o、〜〜ルーハロゲ
ンアルコキシジアルキルアミノカルボニル、フェニルア
ミノカルボニル基、ハロゲンフェニルアミノカルボニル
基、ジハロゲン7エ二ルアミノカルボニル基、トリハロ
ゲンフェニルアミノカルボニルx、08〜〜−アルキル
フェニルアミノカルボニル基+cg〜02o−アルコキ
シフェニルアミノカルボニル基、c、〜ヘーハロゲンア
ルコキシフェニルアミノカルボニル基又は場合によりC
8〜C8−アルキル基によって置換されたイソキサゾー
ル基を表し。
ニルlA+C3〜C?o−ハロゲンアルコキシアルキル
アミ7カルボニル基、C5〜ヘージアルキルアミノカル
ポニル基、CS〜ヘーハロゲンジアルキルアミノカルボ
ニル基、04〜C?o−アルコキシジアルキルアミ7カ
ルボニル基、C5Nc2o−アルキル−及び−アルコキ
シ−アミノカルボニルM*a、〜−0−ハロゲンアルキ
ルジアルキルアミノカルボニル基、o、〜〜ルーハロゲ
ンアルコキシジアルキルアミノカルボニル、フェニルア
ミノカルボニル基、ハロゲンフェニルアミノカルボニル
基、ジハロゲン7エ二ルアミノカルボニル基、トリハロ
ゲンフェニルアミノカルボニルx、08〜〜−アルキル
フェニルアミノカルボニル基+cg〜02o−アルコキ
シフェニルアミノカルボニル基、c、〜ヘーハロゲンア
ルコキシフェニルアミノカルボニル基又は場合によりC
8〜C8−アルキル基によって置換されたイソキサゾー
ル基を表し。
縛は水素原子又はC8〜籟−アルキル基を表しかつ
Xはハロゲン原子を表し。
但し式ia中R1は、 R2,R3,R’、 Rsが同
時に水素原子を表す場合には、フェニル基を表さず、か
っ式Ib中R2,R3,R’、 Rsハ、R’カC4〜
c、−7At+N基、フェニル基、トリル基又はメトキ
シフェニル基を表す場合には、同時に水素原子を表さず
、並びにR1は、R2及びνが水素原子を表しかつお又
はtがメチル基、メトキシ基又は塩素原子を表す場合に
は、オクチル基を表さない〕で示されるピラン誘よ体に
関する。
時に水素原子を表す場合には、フェニル基を表さず、か
っ式Ib中R2,R3,R’、 Rsハ、R’カC4〜
c、−7At+N基、フェニル基、トリル基又はメトキ
シフェニル基を表す場合には、同時に水素原子を表さず
、並びにR1は、R2及びνが水素原子を表しかつお又
はtがメチル基、メトキシ基又は塩素原子を表す場合に
は、オクチル基を表さない〕で示されるピラン誘よ体に
関する。
前記基R1〜R”が示すC−数は、それぞれの基におけ
る炭素原子数の和を表す。
る炭素原子数の和を表す。
更に9本発明は化合物ia 、 lb及びIce化合物
la 、 lb及び/又はIc並びにジスクライマー(
Dl−sclaimer )によって記載されるピラン
誘導体を有効物質として含有する害虫駆除剤、及び該化
合物を用いて害虫を駆除する方法に関する。
la 、 lb及び/又はIc並びにジスクライマー(
Dl−sclaimer )によって記載されるピラン
誘導体を有効物質として含有する害虫駆除剤、及び該化
合物を用いて害虫を駆除する方法に関する。
従来の技術
C!hemical Reviews 75 、 65
1〜692 (1975) ;Ohemical Ab
stracts 69 、67171z ; 73 、
98731u ; 76、14250 ; 34. 3
737d ; 93,25857t ;101 、23
272 h及びKhim 、 Getcrotsilc
l、 5oedin。
1〜692 (1975) ;Ohemical Ab
stracts 69 、67171z ; 73 、
98731u ; 76、14250 ; 34. 3
737d ; 93,25857t ;101 、23
272 h及びKhim 、 Getcrotsilc
l、 5oedin。
6 、 730 (1970) から、ピラン誘導体
は公知であるが、しかし該ピラン誘導体は害虫Ill剤
のための有効物質としては記載されていない。
は公知であるが、しかし該ピラン誘導体は害虫Ill剤
のための有効物質としては記載されていない。
発明が解決しようとする間顧点
従って9本発明の課題は、害虫を防除するために適当で
あるピラン誘導体を提供することであった。
あるピラン誘導体を提供することであった。
間頚点を解決するための手段
従って、冒頭に定義した新規のピラン誘導体1 a +
lb及びla並びに該化合物の製造方法が見いだされた
。
lb及びla並びに該化合物の製造方法が見いだされた
。
化合物■bは、以下の方法に基づき得られる:a)ビニ
ルエーテル■を単量体で存在するα、β−不飽和アルデ
ヒド及びケトンlと以下の反応式に基づき反応させる: (n) (IK)(Ib) 又は b)ビニルエーテル■を二量体で存在するα、β−不伶
和アルデヒド又はケトン1lla :と以下の反応式に
基づき反応させる: ○ (n) (lla) 両者の場合9反応実施形は同じである。反応a)及びb
)は、ラジカル禁止剤及び塩基性化合物の存在下に13
0〜280℃で、有利には160〜220℃、特に有利
には180〜210℃の湿度で、1〜300バールで実
施する。この反応の際には、保護ガスWW4気内で操作
すべきである。保護ガスとしては9例えば窒素及びアル
ゴンが該当する。遊離成分(相応して高い佛点)を生せ
しめる場合には。
ルエーテル■を単量体で存在するα、β−不飽和アルデ
ヒド及びケトンlと以下の反応式に基づき反応させる: (n) (IK)(Ib) 又は b)ビニルエーテル■を二量体で存在するα、β−不伶
和アルデヒド又はケトン1lla :と以下の反応式に
基づき反応させる: ○ (n) (lla) 両者の場合9反応実施形は同じである。反応a)及びb
)は、ラジカル禁止剤及び塩基性化合物の存在下に13
0〜280℃で、有利には160〜220℃、特に有利
には180〜210℃の湿度で、1〜300バールで実
施する。この反応の際には、保護ガスWW4気内で操作
すべきである。保護ガスとしては9例えば窒素及びアル
ゴンが該当する。遊離成分(相応して高い佛点)を生せ
しめる場合には。
反応は標準圧(大気圧:約1バール)で実施することが
できる。その他の場合には、オートクレーブ中で1バー
ルより高<300バールまでの圧力で操作することが推
奨される。この場合には9選択される予圧と加熱の際に
付加的に構成される固有下方との和は300パールまで
の範囲内にあるべきである。
できる。その他の場合には、オートクレーブ中で1バー
ルより高<300バールまでの圧力で操作することが推
奨される。この場合には9選択される予圧と加熱の際に
付加的に構成される固有下方との和は300パールまで
の範囲内にあるべきである。
ラジカル禁止剤としては、フェノール、有利にはヒドロ
キノン及びヒドロキノンモノメチルエーテル、特に有利
にはヒドロキノンが適当である。
キノン及びヒドロキノンモノメチルエーテル、特に有利
にはヒドロキノンが適当である。
塩基性化合物としては、炭酸す) IJウム、炭酸カリ
ウム及び炭酸カルシウム、有利には炭酸ナトリウムが適
当である。
ウム及び炭酸カルシウム、有利には炭酸ナトリウムが適
当である。
一般には、溶剤又は希釈剤の不在で実施する。
しかし9反応を溶剤又は希釈剤の存在下に実施すること
もできる。このためには1例えば芳香族炭化水素9例え
ばキシレン又はエーテル、例えばジフェニルエーテルが
適当である。
もできる。このためには1例えば芳香族炭化水素9例え
ばキシレン又はエーテル、例えばジフェニルエーテルが
適当である。
これらの物質の混合物も、溶剤又は希釈剤として使用す
ることができる。
ることができる。
前記方法に基づき本発明による化合物1bを製造するに
は、出発物質■対■を0.8 : l〜5:1゜有利に
は0.9 : 1〜2.5 : l 、特に有利には1
:1.5 : 1のモル比で使用する。相応して二量体
として存在する化合物11aに関しても当て嵌まる。
は、出発物質■対■を0.8 : l〜5:1゜有利に
は0.9 : 1〜2.5 : l 、特に有利には1
:1.5 : 1のモル比で使用する。相応して二量体
として存在する化合物11aに関しても当て嵌まる。
化合物■は自体公知であるか又は常法(Anna −1
en der Ohemie 、 Band 601
、81−138 (1956))でW i?tすること
ができる。
en der Ohemie 、 Band 601
、81−138 (1956))でW i?tすること
ができる。
化合物I及び1llaも同様に自体公知であるか又は常
法(Houben−Weyl Methoden de
r OrganischenChemie 、 Ban
d Vl[/2’b * 4. Auflage 、
1976 、 p145?ff及び1as2rr )に
基づき得られる。
法(Houben−Weyl Methoden de
r OrganischenChemie 、 Ban
d Vl[/2’b * 4. Auflage 、
1976 、 p145?ff及び1as2rr )に
基づき得られる。
■とI又、はllaと反応させてI’bを得る反応は。
リエイス酸触媒の存在下に実施することもできる(ドイ
ツ連邦共和国特許出願公開第2163515号明細書)
。
ツ連邦共和国特許出願公開第2163515号明細書)
。
生成するジヒドロピランは生物学的に有利である。即ち
これらは有効物質でありかつ更にこれらは式1a、b、
cに転化させることができる:(Ia)
(Ib)(Ib:R2,R3=H)
(IC)(Ia; R2=OHO
) 更に、アルデヒド(Ia ; R”=OHO)から同様
に以下の反応工程図で示すように、有効物質として適当
な化合物を得ることができる。即ち本発明によるビラン
誘導体は合成者にとって多種多様に使用可卵な材料であ
る。
これらは有効物質でありかつ更にこれらは式1a、b、
cに転化させることができる:(Ia)
(Ib)(Ib:R2,R3=H)
(IC)(Ia; R2=OHO
) 更に、アルデヒド(Ia ; R”=OHO)から同様
に以下の反応工程図で示すように、有効物質として適当
な化合物を得ることができる。即ち本発明によるビラン
誘導体は合成者にとって多種多様に使用可卵な材料であ
る。
置換基としては、以下のものが有利である:R1は貴〜
aCt−アルキル基、02〜”14−アルケニル基、偽
〜C3−アルキニル基、C3〜C8−シクロアルキル基
、フェニル基、す7チル基、ジフェニル基。
aCt−アルキル基、02〜”14−アルケニル基、偽
〜C3−アルキニル基、C3〜C8−シクロアルキル基
、フェニル基、す7チル基、ジフェニル基。
07〜”+4−フェニルアルキル基、C8〜O,、−フ
ェニルアルケニル基、a、〜O,−フェニルアルキニル
基。
ェニルアルケニル基、a、〜O,−フェニルアルキニル
基。
C7〜C6−アルコキシ−アルキル基、a、〜C□−ア
ルコキシーアルコキシーアルキル基、C2〜C1,−ア
ルフキシーアルコキシ−アルコキシ−アルキル基。
ルコキシーアルコキシーアルキル基、C2〜C1,−ア
ルフキシーアルコキシ−アルコキシ−アルキル基。
C1〜C1゜−アルキル−アリール、08〜014−ジ
アルキル−フェニル、C,〜014− )リアルキル−
アリール。
アルキル−フェニル、C,〜014− )リアルキル−
アリール。
フェノキシ、フェノキシ−フェニル、0.〜C1シクロ
アルキル、04〜0□、−アルキル−シクロアルキル、
C4〜C3−シクロアルケニル又はC9〜O7,−アル
キル−シクロアルケニルによって置換されたC8〜0、
−フルキル基、04〜012−アルキル−シクロアルキ
ル基、チルCl4−アリール−シクロアルキル基。
アルキル、04〜0□、−アルキル−シクロアルキル、
C4〜C3−シクロアルケニル又はC9〜O7,−アル
キル−シクロアルケニルによって置換されたC8〜0、
−フルキル基、04〜012−アルキル−シクロアルキ
ル基、チルCl4−アリール−シクロアルキル基。
C,〜C!、4−フェノキシーシクロアルキル基、O?
〜Cl4−アルキル−フェニル基、 Qy〜014−
アルコキシ−フェニル基+as〜”16−ジアルキル−
フェニル基。
〜Cl4−アルキル−フェニル基、 Qy〜014−
アルコキシ−フェニル基+as〜”16−ジアルキル−
フェニル基。
07〜014−ハロゲンアルキル−フェニル基、ハロゲ
ンフェニル&+ ジハロゲンフェニルK + O,rN
Ot4−アルキル−ハロゲンフェニル基、C3〜C14
−ジアルキル−ハロゲンフェニル基、フェノキシ−フェ
ニル基、a、、〜Oto −7xツキシー7エニルアル
キル基又は酵素原子及び窒素原子から成る群から選択さ
れるl又は2個の同じか又は異なった殉素原子を有し、
場合によりC1〜O8−アルキル、フェニル。
ンフェニル&+ ジハロゲンフェニルK + O,rN
Ot4−アルキル−ハロゲンフェニル基、C3〜C14
−ジアルキル−ハロゲンフェニル基、フェノキシ−フェ
ニル基、a、、〜Oto −7xツキシー7エニルアル
キル基又は酵素原子及び窒素原子から成る群から選択さ
れるl又は2個の同じか又は異なった殉素原子を有し、
場合によりC1〜O8−アルキル、フェニル。
貴〜0,4−フェニルアルキル、ハロゲンフェニル。
07〜014−アルキルフェニル、C3〜016−ジア
ルキル−フェニル、c、〜018− )リアルキル−ア
リール基又は場合により01〜C4−アルキルによって
置換された03〜C3−スピロシクロアルキルから成る
群から選択される1、2又は3個の同じか又は異なった
置換基によって置換された。飽和もしくは不飽和5−又
は6−員の複素環式基によって置換されたC1〜C3−
アルキル基であり。
ルキル−フェニル、c、〜018− )リアルキル−ア
リール基又は場合により01〜C4−アルキルによって
置換された03〜C3−スピロシクロアルキルから成る
群から選択される1、2又は3個の同じか又は異なった
置換基によって置換された。飽和もしくは不飽和5−又
は6−員の複素環式基によって置換されたC1〜C3−
アルキル基であり。
R2は水素原子、C1〜0.−アルキル基、場合により
フェニル又はハロゲンフェニルによって置換されたCI
〜C8−ハロゲンアルキル基、01〜C8−アルフキシ
基+ ’I〜C6−ハロゲンアルコキシ基、c!〜C
8−ハロゲンアルケニルオキシ基、03〜0at−アル
コキシアルケニルオキシ基、偽〜−−アルキニルオキシ
基、−〜C3−ハロゲンアルキニルオキシ基。
フェニル又はハロゲンフェニルによって置換されたCI
〜C8−ハロゲンアルキル基、01〜C8−アルフキシ
基+ ’I〜C6−ハロゲンアルコキシ基、c!〜C
8−ハロゲンアルケニルオキシ基、03〜0at−アル
コキシアルケニルオキシ基、偽〜−−アルキニルオキシ
基、−〜C3−ハロゲンアルキニルオキシ基。
C5〜C11−アルフキシーアルキニルオキシ基、−〜
c、6−フェニルーアルキニルオキシ基、C1〜ヘーア
ルキルチオ基、C1〜ヘーハ田ゲンアルキルチオ基。
c、6−フェニルーアルキニルオキシ基、C1〜ヘーア
ルキルチオ基、C1〜ヘーハ田ゲンアルキルチオ基。
C7〜aCt−アルコキシ−アルキルチオ基、ホルミル
基、シア/基、 c?〜0,4−フェノキシ−アルコ
キシ基、O?〜”+4−ハロゲンフェノキシ−アルコキ
シ基。
基、シア/基、 c?〜0,4−フェノキシ−アルコ
キシ基、O?〜”+4−ハロゲンフェノキシ−アルコキ
シ基。
貴〜014−7エノキシーハロゲンアルコキシM、 c
?〜C14−ハロゲン7ヱノキシーハロゲンアルコキシ
基、C8〜011−アルコキシ−フェノキシアルコキシ
基、C6〜O,、−フェノキシ−アルコキシアルコキシ
基、C?〜O,、−フェノキシ−アルケニルオキシ基。
?〜C14−ハロゲン7ヱノキシーハロゲンアルコキシ
基、C8〜011−アルコキシ−フェノキシアルコキシ
基、C6〜O,、−フェノキシ−アルコキシアルコキシ
基、C?〜O,、−フェノキシ−アルケニルオキシ基。
C8〜01゜−ハロゲンフェノキシ−アルケニル基、0
8〜C!、、−7二ノキシー八ロゲンアルケニルオキシ
基。
8〜C!、、−7二ノキシー八ロゲンアルケニルオキシ
基。
C8〜0111−ハロゲンフェノキシ−ハロゲンアルケ
ニルオキシ基、ち〜018−アルフキジフェノキシーア
ルケニルオキシ基、O,〜C!、、 −フェノキシ−ア
ルフキジアルケニルオキシ基、C6〜014−フェノキ
シ−アルキニルオキシ基、C3〜”14−ハロゲンフェ
ノキシ−アルキニルオキシ基、a、〜”+4−フェノキ
シ−ハロゲンアルキニルオキシx、c8〜014−ハロ
ゲンフェノキシ−ハロゲンアルキニルオキシ基、C,〜
01.−アルコキシフェノキシーアルキニルオキシ基、
C。
ニルオキシ基、ち〜018−アルフキジフェノキシーア
ルケニルオキシ基、O,〜C!、、 −フェノキシ−ア
ルフキジアルケニルオキシ基、C6〜014−フェノキ
シ−アルキニルオキシ基、C3〜”14−ハロゲンフェ
ノキシ−アルキニルオキシ基、a、〜”+4−フェノキ
シ−ハロゲンアルキニルオキシx、c8〜014−ハロ
ゲンフェノキシ−ハロゲンアルキニルオキシ基、C,〜
01.−アルコキシフェノキシーアルキニルオキシ基、
C。
〜C,6−フエツキシーアルフキシアルキニルオキシ基
e Cs〜OI4−7 zニルアルキニルオキシIA+
Cta−も。−フェノキシフェニル−アルキニルオキシ
基。
e Cs〜OI4−7 zニルアルキニルオキシIA+
Cta−も。−フェノキシフェニル−アルキニルオキシ
基。
カルボキシ基、02〜OA−アルコキシカルボニル基。
C2〜C3−アルキルカルボニルオキシ基、C1〜C8
,−アルケニルオキシカルボニル基、C8〜Ctt−ア
ルケニルカルボニルオキシ基、C8〜O1,−アルキニ
ルオキシカルボニル基、03〜aCt−アルキニルカル
ボニルオキシ基、フェノキシカルボニル基、フェニルカ
ルボニルオキシ基、C3〜att−アルコキシカルボニ
ル−アルコキシ基、フェノキシ基、へ〜C14−アルキ
ルフェノキシ基、八ロゲンフェノキシ基、ジハロゲンフ
ェノキシ基、トリハロゲンフェノキシM、 Q?〜0,
4−ハロゲンアルキル−フェノキシ基。
,−アルケニルオキシカルボニル基、C8〜Ctt−ア
ルケニルカルボニルオキシ基、C8〜O1,−アルキニ
ルオキシカルボニル基、03〜aCt−アルキニルカル
ボニルオキシ基、フェノキシカルボニル基、フェニルカ
ルボニルオキシ基、C3〜att−アルコキシカルボニ
ル−アルコキシ基、フェノキシ基、へ〜C14−アルキ
ルフェノキシ基、八ロゲンフェノキシ基、ジハロゲンフ
ェノキシ基、トリハロゲンフェノキシM、 Q?〜0,
4−ハロゲンアルキル−フェノキシ基。
07〜Cl4−アルコキシフェノキシ基、フェノキシ−
フェノキシ基、C6〜”+4−アルキレンジオキシ−フ
ェノキシ基、7エエルチオ基、C1〜C14−アルキル
フェニルチオ基、へロゲンーフェニルチオ基、ジハロゲ
ンーフェニ/L4.t!、)IJハロゲン−フェニルチ
オ、X、 C1〜C14−ハロゲンアルキル−フェニ
ルチオ基、貴〜C14−アルコキシフェニルチオ基。
フェノキシ基、C6〜”+4−アルキレンジオキシ−フ
ェノキシ基、7エエルチオ基、C1〜C14−アルキル
フェニルチオ基、へロゲンーフェニルチオ基、ジハロゲ
ンーフェニ/L4.t!、)IJハロゲン−フェニルチ
オ、X、 C1〜C14−ハロゲンアルキル−フェニ
ルチオ基、貴〜C14−アルコキシフェニルチオ基。
フェノキシ−フェニルチオ基tag〜014−アルキレ
ンジオキシ−フェニルチオ基、7エエル基、7zツキシ
ーフエニル基+ G?A10,4− フェニルアルキ
ル基+ C+s〜Oto −フェノキシ−フェニルアル
キル基。
ンジオキシ−フェニルチオ基、7エエル基、7zツキシ
ーフエニル基+ G?A10,4− フェニルアルキ
ル基+ C+s〜Oto −フェノキシ−フェニルアル
キル基。
C3〜C14−アルキレンジオキシ−フェニルアルコキ
シ基又は式: から歩択される基であり。
シ基又は式: から歩択される基であり。
R3は水素原子、C1〜C8−アルキル基又はC3〜C
7−ハロゲンアルキル基であり。
7−ハロゲンアルキル基であり。
?、斧は水素原子、弗素原子、#X素原子e CI〜a
、−アルキル基、01〜C3−アルコキシ基又は0.〜
C3−ハロゲンアルコキシ基であり。
、−アルキル基、01〜C3−アルコキシ基又は0.〜
C3−ハロゲンアルコキシ基であり。
プは水素原子、C,〜C3−アルキル基、C7〜C,−
アルケニル基、偽〜Cs−アルキニル基、シアノ基。
アルケニル基、偽〜Cs−アルキニル基、シアノ基。
フェニル基、ハロゲンフェニル基、a、fA/C,4−
アルキルフェニル基又は−〜014−アルコキシフェニ
ル基であり。
アルキルフェニル基又は−〜014−アルコキシフェニ
ル基であり。
R7は水素原子、01〜C8−アルキル基、01〜as
−ハロゲンアルキル基、C7〜O8−アルコキシアルキ
ル基、チルC3−アルケニル基、−〜C6−アルキニル
基、アリール基、へロゲンフェニル基、ジハロゲンフェ
ニル基、トリハロゲンフェニル基、シアノフェニルx、
cr〜014−アルキルフェニル基、央〜014−
アルコキシフェニル基、貴〜0,4−ハロゲンアルキル
ーフェニル基ra@〜C1゜−アルケニルフェニル基+
as〜C16−アルキニルフェニル基、フェノキシフェ
ニル基、C3〜”18−メチレンジオキシ−フェニル基
、チ〜O6−アルキルカルボニル基、ち〜C3−ハロゲ
ンアルキルカルボニル基、 02〜C8−アルコキシカ
ルボニル基、C5〜012−アルキルシクロプロピルカ
ルボニル基、貴〜014−アルケニル−及び−アルキル
シクロプロビルーカルボニル基、偽〜014−ハロゲン
アルキル−及び−アルキルシフ四プロピルーカルボニル
基、へ〜014−ハロゲンアルケニルー及び−アルキル
シクロプロピル−カルボ二に基、C,〜018−ハロゲ
ン−及び−フェニル−アルキルカルボニル基rcs〜0
16−バロゲンー及び−ハロゲンフェニルアルキルカル
ボニル基、ベンゾイル基、ハロゲンベンゾイル基、C6
〜014−アルキルベンゾイル基1 ”8NCI4−
アルフキジベンゾイル基、08〜014−ハロゲンアル
キル−ベンゾイル基。
−ハロゲンアルキル基、C7〜O8−アルコキシアルキ
ル基、チルC3−アルケニル基、−〜C6−アルキニル
基、アリール基、へロゲンフェニル基、ジハロゲンフェ
ニル基、トリハロゲンフェニル基、シアノフェニルx、
cr〜014−アルキルフェニル基、央〜014−
アルコキシフェニル基、貴〜0,4−ハロゲンアルキル
ーフェニル基ra@〜C1゜−アルケニルフェニル基+
as〜C16−アルキニルフェニル基、フェノキシフェ
ニル基、C3〜”18−メチレンジオキシ−フェニル基
、チ〜O6−アルキルカルボニル基、ち〜C3−ハロゲ
ンアルキルカルボニル基、 02〜C8−アルコキシカ
ルボニル基、C5〜012−アルキルシクロプロピルカ
ルボニル基、貴〜014−アルケニル−及び−アルキル
シクロプロビルーカルボニル基、偽〜014−ハロゲン
アルキル−及び−アルキルシフ四プロピルーカルボニル
基、へ〜014−ハロゲンアルケニルー及び−アルキル
シクロプロピル−カルボ二に基、C,〜018−ハロゲ
ン−及び−フェニル−アルキルカルボニル基rcs〜0
16−バロゲンー及び−ハロゲンフェニルアルキルカル
ボニル基、ベンゾイル基、ハロゲンベンゾイル基、C6
〜014−アルキルベンゾイル基1 ”8NCI4−
アルフキジベンゾイル基、08〜014−ハロゲンアル
キル−ベンゾイル基。
C6〜”+4−ハロゲンアルコキシーベンゾイル基、c
。
。
〜(7,、−7!ニルアルキルカルボニル基ees〜c
14−ハロゲンフェニルアルキル力ルボニルMIG3〜
014−アルキルフェニルアルキルカルボニル基+ao
〜CI@−アルコキシフェニルアルキルカルボニル基。
14−ハロゲンフェニルアルキル力ルボニルMIG3〜
014−アルキルフェニルアルキルカルボニル基+ao
〜CI@−アルコキシフェニルアルキルカルボニル基。
C8〜”!+1−ハロゲンアルキルフェニルアルキルカ
ルボニル基、a、〜016−バロゲンアルフキシフエニ
ルアルキルカルボエル基、a、〜C16−7エニルアル
ケニルカルボニル基、c、〜C16−バロゲンフエニル
アルケニルカルボニル基、0.o〜0IQ−アルキルフ
ェニルアルケニルカルボニルg、c、。〜C11l−ア
ルコキシフェニルアルケニルカルボニル)X、01゜〜
C16−バロゲンアルキルフエニルアルケニルカルポニ
ル基。
ルボニル基、a、〜016−バロゲンアルフキシフエニ
ルアルキルカルボエル基、a、〜C16−7エニルアル
ケニルカルボニル基、c、〜C16−バロゲンフエニル
アルケニルカルボニル基、0.o〜0IQ−アルキルフ
ェニルアルケニルカルボニルg、c、。〜C11l−ア
ルコキシフェニルアルケニルカルボニル)X、01゜〜
C16−バロゲンアルキルフエニルアルケニルカルポニ
ル基。
C1゜〜0ta−ハロゲンアルコキシフェニルアルケニ
ルカルボニル基、へ〜0111−7エニルアルキニルカ
ルボニル基、o、〜”l11−ハロゲンフェニルアルキ
ニルカルボニルX、C+、。〜”16−アルキルフェニ
ルアルキニルカルボニル基、C,。〜018−アルコキ
シフェニルアルキニルカルボニルM+Oro〜00.−
ハロゲンアルキルフェニルアルキニルカルボニル基、O
Io〜C16−バロゲンアルフキシフエエルアルキニル
カルボニル基、ち〜0.−アルキルアミノカルボニル基
、−〜C1−ハロゲンアルキルアミノカルボニル基、0
3〜0Io−アルキルアルキルアミノカルボニル基、0
3〜Cl0−アルコキシアルキルアミノカルボニル基。
ルカルボニル基、へ〜0111−7エニルアルキニルカ
ルボニル基、o、〜”l11−ハロゲンフェニルアルキ
ニルカルボニルX、C+、。〜”16−アルキルフェニ
ルアルキニルカルボニル基、C,。〜018−アルコキ
シフェニルアルキニルカルボニルM+Oro〜00.−
ハロゲンアルキルフェニルアルキニルカルボニル基、O
Io〜C16−バロゲンアルフキシフエエルアルキニル
カルボニル基、ち〜0.−アルキルアミノカルボニル基
、−〜C1−ハロゲンアルキルアミノカルボニル基、0
3〜0Io−アルキルアルキルアミノカルボニル基、0
3〜Cl0−アルコキシアルキルアミノカルボニル基。
C5〜C1゜−ハロゲンアルキルアルキルアミ7カルボ
ニル#CS〜0IO−ハロゲンアルコキシアルキルアミ
7カルボニル基、C8〜”10−ジアルキルアミノ力ル
ホニル基、c3〜C7゜−ハロゲンジアルキルアミノカ
ルボニル基、C4〜att−アルキルジアルキルアミノ
カルボニル基、C4〜a1t−アルコキシジアルキルア
ミ7カルボニル基1.05〜C,−アルキル−及び−ア
ルフキシーアミ7カルボニルg、C4〜a、p−ハロゲ
ンアルキルジアルキルアミノカルボニル基。
ニル#CS〜0IO−ハロゲンアルコキシアルキルアミ
7カルボニル基、C8〜”10−ジアルキルアミノ力ル
ホニル基、c3〜C7゜−ハロゲンジアルキルアミノカ
ルボニル基、C4〜att−アルキルジアルキルアミノ
カルボニル基、C4〜a1t−アルコキシジアルキルア
ミ7カルボニル基1.05〜C,−アルキル−及び−ア
ルフキシーアミ7カルボニルg、C4〜a、p−ハロゲ
ンアルキルジアルキルアミノカルボニル基。
C4〜att−ハロゲンアルコキシジアルキルアミノカ
ルボニル基、フェニルアミ7カルボニル基、ハロゲンフ
ェニルアミノカルボニル基、ジハロゲンフェニルアミ7
カルボニル基、トリハロゲンフェニルアミノカルボニル
基、C8〜Cl4−アルキルフェニルアミ7カルボニル
基、08〜014−アルコキシフェニルアミノカルボニ
ル基、c+8〜”+4−ハロゲンアルコキシフェニルア
ミノカルボニル基又は場合によりC2〜04−アルキル
基によって置換されたイソキサゾール基であり。
ルボニル基、フェニルアミ7カルボニル基、ハロゲンフ
ェニルアミノカルボニル基、ジハロゲンフェニルアミ7
カルボニル基、トリハロゲンフェニルアミノカルボニル
基、C8〜Cl4−アルキルフェニルアミ7カルボニル
基、08〜014−アルコキシフェニルアミノカルボニ
ル基、c+8〜”+4−ハロゲンアルコキシフェニルア
ミノカルボニル基又は場合によりC2〜04−アルキル
基によって置換されたイソキサゾール基であり。
−は水素原子又は01〜C6−アルキル基でありかXは
ハロゲン原子であり。
ハロゲン原子であり。
但し式1a中R1は、 R”、 R3,R4,R5が同
時に水素原子を表す場合には、フェニル基を表さず、か
つ式Ib中R2,R3,R’、 R5は R1がC4〜
C8−アルキル甚、フェニル基、トリル基又はメトキシ
フェニル基を表す場合には、同時に水素原子を表さず、
並びにR1は B2及びR3が水素原子を表しかつν又
は戸がメチル基、メトキシ基又は塩素原子を表す場合に
は、オクチル基を表さない。
時に水素原子を表す場合には、フェニル基を表さず、か
つ式Ib中R2,R3,R’、 R5は R1がC4〜
C8−アルキル甚、フェニル基、トリル基又はメトキシ
フェニル基を表す場合には、同時に水素原子を表さず、
並びにR1は B2及びR3が水素原子を表しかつν又
は戸がメチル基、メトキシ基又は塩素原子を表す場合に
は、オクチル基を表さない。
特に有利には、以下の置換基を表す:
R1ハメハルチル。ル、21−プロピル、イソプロピル
、n−ブチル、2−メチルプロピル、n−ヘキシル、n
−オクチル、2−エチルヘキシル、317−シメチルオ
クチル、n−ドデシル、エチニル。
、n−ブチル、2−メチルプロピル、n−ヘキシル、n
−オクチル、2−エチルヘキシル、317−シメチルオ
クチル、n−ドデシル、エチニル。
プロペ−2−エン−1−イル、ブチ−3−エン−1−イ
ル、ブチ−3−エン−2−イル、ブチ−2−エン−1−
イル、2.6−シメチルヘプトー6−エンー1−イル、
3.7−シメチルオクトー6−エンー1−イル、l、5
.9−)リメチルデセ−4−エン−1−イル、2,5.
9−)リメチルデセー4−エンー1−イル、エチニル、
プロピ−2−イン−1−イル、ブチ−3−イン−2−イ
ル。
ル、ブチ−3−エン−2−イル、ブチ−2−エン−1−
イル、2.6−シメチルヘプトー6−エンー1−イル、
3.7−シメチルオクトー6−エンー1−イル、l、5
.9−)リメチルデセ−4−エン−1−イル、2,5.
9−)リメチルデセー4−エンー1−イル、エチニル、
プロピ−2−イン−1−イル、ブチ−3−イン−2−イ
ル。
ブチ−2−イン−1−イル、シクロプロピル、シクロブ
チル、シクロペンチル、シクロヘキシル。
チル、シクロペンチル、シクロヘキシル。
シクロヘプチル、シクロオクチル、フェニル、ナフチル
、p−ジフェニル、ベンジル、2−7エネチル、2−フ
ェニルプロピル、3−7エニルブロビル、3−フェニル
ブチル、4−フェニルブチル。
、p−ジフェニル、ベンジル、2−7エネチル、2−フ
ェニルプロピル、3−7エニルブロビル、3−フェニル
ブチル、4−フェニルブチル。
2−メチル−3−7エネチル、3−メチル−3−7エネ
チル、2−メチル−3−フェニルプロピル。
チル、2−メチル−3−フェニルプロピル。
4−7エニループチー3−イン−1−イル、メトキシメ
チル、メトキシエチル、エトキシメチル。
チル、メトキシエチル、エトキシメチル。
エトキシエチル、プロポキシメチル、プロポキシエチル
、メトキシメトキシメチル、エトキシメトキシメチル、
エトキシエトキシメチル、メトキシエトキシメチル、エ
トキシエトキシエチル、ブトキシエトキシエチル、メト
キシメトキシメトキシメチル、メトキシエトキシエトキ
シエチル、エトキシエトキシエトキシエチル、ブトキシ
エトキシエトキシエチル、2−メチル−3−(a−t−
ブチルフェニル)−プロピル、2−(p−メチル7エ二
ル)−エチル、フェノキシメチル、 2−(フェノキシ
フェニル)−エチル、フェノキシメチル。
、メトキシメトキシメチル、エトキシメトキシメチル、
エトキシエトキシメチル、メトキシエトキシメチル、エ
トキシエトキシエチル、ブトキシエトキシエチル、メト
キシメトキシメトキシメチル、メトキシエトキシエトキ
シエチル、エトキシエトキシエトキシエチル、ブトキシ
エトキシエトキシエチル、2−メチル−3−(a−t−
ブチルフェニル)−プロピル、2−(p−メチル7エ二
ル)−エチル、フェノキシメチル、 2−(フェノキシ
フェニル)−エチル、フェノキシメチル。
フェノキシエチル、フェノキシブチル、シクロプロピル
メチル、2−(シクロプロピル)−エチル。
メチル、2−(シクロプロピル)−エチル。
シクロブチルメチル、2−(シクロブチル)−エチル、
シクロペンチルメチル、2−(シクロペンチル)−エチ
ル、2−(シクロペンチル)−プロピル、シクロヘキシ
ルメチル、2−メチル−(2−シクロヘキシル)−エチ
ル、2−(シクロヘキシル)−プロピル、3−(4〜メ
チルシク四ヘキシル)−ブチル、3−(4’−メチルシ
クロヘキセ−4−エン−1−イル)−ブチル、2−メチ
ル−2−(4’−クロルフェニル)−1,3−ジオキソ
ラン−5−メチル、2−(1’−7二二ルエチル)−5
−エチル−1,3−ジオキソラン−5−メチル、2−フ
ェニル−2−メチル−5−エチル−1゜3−ジオキソラ
ン−5−メチル、2−(2’、4’。
シクロペンチルメチル、2−(シクロペンチル)−エチ
ル、2−(シクロペンチル)−プロピル、シクロヘキシ
ルメチル、2−メチル−(2−シクロヘキシル)−エチ
ル、2−(シクロヘキシル)−プロピル、3−(4〜メ
チルシク四ヘキシル)−ブチル、3−(4’−メチルシ
クロヘキセ−4−エン−1−イル)−ブチル、2−メチ
ル−2−(4’−クロルフェニル)−1,3−ジオキソ
ラン−5−メチル、2−(1’−7二二ルエチル)−5
−エチル−1,3−ジオキソラン−5−メチル、2−フ
ェニル−2−メチル−5−エチル−1゜3−ジオキソラ
ン−5−メチル、2−(2’、4’。
4′−トリメチルフェニル)−1,3−ジオキソラン−
5−メチル、2−t−ブチル−1,3−ジオキソラン−
5−メチル、 2−(2’−メチル−1゜3−ジオキ
ソラン−5−イル)−エチル、2−(1′−7エネチル
)−1,3−ジオキソラン−5−メチル、 2− (4
’−クロルフェニル)−1,3−ジオキソラン−5−メ
チル、2−(4’−クロルフェニル)−5−エチル−1
,3−ジオキソラン−5−メチル、 2−(2’、
4’、 4’−)リメチルフェニル)−1,3−ジ
オキソラン−5−メチル、2−(メチル−1,3−ジオ
キソラン−5−イル)−エチル、2.5−ジメチル−1
,3−ジオキソラン−5−メチル、2−フェニル−1,
3−ジオキソラン−5−メチル、2−(2−7エネチル
)−1,3−ジオキソラン−5−メチル、2.2−ジメ
チル−1,3−ジオキソラン−5−メチル。
5−メチル、2−t−ブチル−1,3−ジオキソラン−
5−メチル、 2−(2’−メチル−1゜3−ジオキ
ソラン−5−イル)−エチル、2−(1′−7エネチル
)−1,3−ジオキソラン−5−メチル、 2− (4
’−クロルフェニル)−1,3−ジオキソラン−5−メ
チル、2−(4’−クロルフェニル)−5−エチル−1
,3−ジオキソラン−5−メチル、 2−(2’、
4’、 4’−)リメチルフェニル)−1,3−ジ
オキソラン−5−メチル、2−(メチル−1,3−ジオ
キソラン−5−イル)−エチル、2.5−ジメチル−1
,3−ジオキソラン−5−メチル、2−フェニル−1,
3−ジオキソラン−5−メチル、2−(2−7エネチル
)−1,3−ジオキソラン−5−メチル、2.2−ジメ
チル−1,3−ジオキソラン−5−メチル。
2−イソプロピル−1,3−ジオキソラン−5−メチル
、2−メチル−1,3−ジオキソラン−5−メチル、2
−メチル−1,3−ジオキソラン−5−エチル、 2
−(2’−メチルプロピル)−1゜3−ジオキソラン−
5−メチル、2−(2,5゜5−トリメチルペンチル)
−1,3−ジオキソラン−5−メチル、2−メチル−2
−エチル−1゜3−ジオキソラン−5−メチル、2.2
−ジエチル−1,3−ジオキソラン−5−メチル、2−
メチル−2−(4−クロルフェニル)−1,3−ジオキ
ソラン−5−メチル、2−ベンジル−1,3−ジオキソ
ラン−5−メチル、2−フェニル−1゜3−ジオキソラ
ン−4−メチル、2−7zニル−1,3−ジオキソラン
−5−メチル、2−メチル−1,4−ジオキソラン−3
−メチル、2−(1’−フェニル−エチル)−5−エチ
ル−1,3−ジオキサン−1,3−ジオキサン−5−メ
チル、2−メチル−2−フェニル−5−エチル−1,3
−ジオキサン−5−メチル、2−フェニル−5−エチル
−1,3−ジオキサン−5−メチル、2−メチル−5−
エチル−1,3−ジオキサン−5−メチル、2−メチル
−1,3−ジオキサン−5−メチル、2−メチル−1,
4−ジオキサン−3−メチル、2.2−スピロシクロへ
キシル−1,3−ジオキソラン−4−メチル、2.2−
スピロシクロヘキシルー1.3−ジオキソラン−5−メ
チル。
、2−メチル−1,3−ジオキソラン−5−メチル、2
−メチル−1,3−ジオキソラン−5−エチル、 2
−(2’−メチルプロピル)−1゜3−ジオキソラン−
5−メチル、2−(2,5゜5−トリメチルペンチル)
−1,3−ジオキソラン−5−メチル、2−メチル−2
−エチル−1゜3−ジオキソラン−5−メチル、2.2
−ジエチル−1,3−ジオキソラン−5−メチル、2−
メチル−2−(4−クロルフェニル)−1,3−ジオキ
ソラン−5−メチル、2−ベンジル−1,3−ジオキソ
ラン−5−メチル、2−フェニル−1゜3−ジオキソラ
ン−4−メチル、2−7zニル−1,3−ジオキソラン
−5−メチル、2−メチル−1,4−ジオキソラン−3
−メチル、2−(1’−フェニル−エチル)−5−エチ
ル−1,3−ジオキサン−1,3−ジオキサン−5−メ
チル、2−メチル−2−フェニル−5−エチル−1,3
−ジオキサン−5−メチル、2−フェニル−5−エチル
−1,3−ジオキサン−5−メチル、2−メチル−5−
エチル−1,3−ジオキサン−5−メチル、2−メチル
−1,3−ジオキサン−5−メチル、2−メチル−1,
4−ジオキサン−3−メチル、2.2−スピロシクロへ
キシル−1,3−ジオキソラン−4−メチル、2.2−
スピロシクロヘキシルー1.3−ジオキソラン−5−メ
チル。
2.2−スピロシクロへキシル−5−エチル−1゜3−
ジオキソラン−5−メチル、2.2−スピロシクロへキ
シル−1,3−ジオキソラン−5−メチル、2.2−ス
ピロシクロへキシル−5−エチル−1,3−ジオキソラ
ン−5−メチル、フリル−2−メチル、テトラヒドロフ
ルー2−イル、テトラヒドロフA/−2−イル−メチル
、テトラヒドロフルー3−イル−メチル、テトラヒドロ
フルー3−イル−メチル、3−メチルシクロペンチル。
ジオキソラン−5−メチル、2.2−スピロシクロへキ
シル−1,3−ジオキソラン−5−メチル、2.2−ス
ピロシクロへキシル−5−エチル−1,3−ジオキソラ
ン−5−メチル、フリル−2−メチル、テトラヒドロフ
ルー2−イル、テトラヒドロフA/−2−イル−メチル
、テトラヒドロフルー3−イル−メチル、テトラヒドロ
フルー3−イル−メチル、3−メチルシクロペンチル。
4−メチルシクロペンチル、2−フェニルシクロヘキシ
ル、4−フェニルシクロヘキシル、4−フェノキシシク
ロヘキシル、2−メチルフェニル。
ル、4−フェニルシクロヘキシル、4−フェノキシシク
ロヘキシル、2−メチルフェニル。
4−メチルフェニル、4−エチルフェニル、4−t−ブ
チルフェニル、 4−(2’、 2′、 4’、
4’−テトラメチルブチル)−フェニル、(1,l
、 3゜3−テトラメチルブチル)−フェニル、4−
メトキシフェニル、4−エトキシフェニル、2.4−ジ
メチルフェニル、4−トリフルオルメチル7エ二ル、3
−(4’−メチルシクロヘキセ−3−エン−1−イル)
−ベンジル、2−クロルフェニル。
チルフェニル、 4−(2’、 2′、 4’、
4’−テトラメチルブチル)−フェニル、(1,l
、 3゜3−テトラメチルブチル)−フェニル、4−
メトキシフェニル、4−エトキシフェニル、2.4−ジ
メチルフェニル、4−トリフルオルメチル7エ二ル、3
−(4’−メチルシクロヘキセ−3−エン−1−イル)
−ベンジル、2−クロルフェニル。
3−クロルフェニル、4−クロルフェニル、4−フルオ
ルフェニル、2.4−ジクロルフェニル。
ルフェニル、2.4−ジクロルフェニル。
2.6−ジクロルフェニル、2.4−ジフルオルフェニ
ル、2.6−ジフルオルフエニル、4−クロル−2−メ
チルフェニル、4−クロル−3−メチルフェニル、4−
クロル−3,5−ジメチルフェニル、3−フェノキシフ
ェニル、4−フェノキシフェニル、又は3−フェノキシ
ベンジルを表し。
ル、2.6−ジフルオルフエニル、4−クロル−2−メ
チルフェニル、4−クロル−3−メチルフェニル、4−
クロル−3,5−ジメチルフェニル、3−フェノキシフ
ェニル、4−フェノキシフェニル、又は3−フェノキシ
ベンジルを表し。
R2は水素原子、メチル、エチル、n−プロピル。
イソプロピル、n−ブチル、t−ブチル、トリフルオル
メチル、トリクロルフェニル、l、 2−ジブロム−
2−(4−クロルフェニル)−エチル。
メチル、トリクロルフェニル、l、 2−ジブロム−
2−(4−クロルフェニル)−エチル。
メトキシ、エトキシ、プロボー2−オキシ、トリフルオ
ロメトキシ、トリクロルメトキシ、1,3−ジフルオル
プロボー2−オキシ、ブチン−2−オキシ、4−クロル
−ブチン−1−オキシ、ホルミル、シアノ、3−7エニ
ループロビンー2−オキシ、4−7エニループトー3−
イン−1−オキシ、4−(3−クロルフェノキシ)−ブ
ドー2−イン−1−オキシ、4−(4−フルオルフェノ
キシ)−ブドー2−イン−1−オキシ、1−(3−フェ
ノキシフェニル)−プロピニルオキシ、ヒドロキシカル
ボニル、メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、メ
チルカルボニルオキシ、エチルカルボニルオキシ、プロ
ピオニルオキシ、フェノキシカルボニル、メトキシカル
ボニルメトキシ。
ロメトキシ、トリクロルメトキシ、1,3−ジフルオル
プロボー2−オキシ、ブチン−2−オキシ、4−クロル
−ブチン−1−オキシ、ホルミル、シアノ、3−7エニ
ループロビンー2−オキシ、4−7エニループトー3−
イン−1−オキシ、4−(3−クロルフェノキシ)−ブ
ドー2−イン−1−オキシ、4−(4−フルオルフェノ
キシ)−ブドー2−イン−1−オキシ、1−(3−フェ
ノキシフェニル)−プロピニルオキシ、ヒドロキシカル
ボニル、メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、メ
チルカルボニルオキシ、エチルカルボニルオキシ、プロ
ピオニルオキシ、フェノキシカルボニル、メトキシカル
ボニルメトキシ。
エトキシカルボニルメトキシ、メトキシカルボニルエト
キシ、エトキシカルボニルエトキシ、フェノキシカルボ
ニル、フェノキシカルボニルオキシ。
キシ、エトキシカルボニルエトキシ、フェノキシカルボ
ニル、フェノキシカルボニルオキシ。
フェノキシ、4−メチルフェニル、4−エチルフェノキ
シ、4−クロルフェニキシ、2.4−ジフルオルフェノ
キシ、2.4−ジクロルフェノキシ。
シ、4−クロルフェニキシ、2.4−ジフルオルフェノ
キシ、2.4−ジクロルフェノキシ。
4−トリフルオルメチルフェノキシ、フェニル。
3−フェノキシフェニル、4−フェノキシ7エ二ル、ベ
ンジル、3−フェノキシ−ベンジル、4−フェノキシ−
ベンジル、3.4−メチレンジオキシ−ベンジルオキシ
。
ンジル、3−フェノキシ−ベンジル、4−フェノキシ−
ベンジル、3.4−メチレンジオキシ−ベンジルオキシ
。
又はN馬−0R2−
を表し。
R3は水素原子、メチル、エチル、n−プロピル。
イソプロピル、n−ブチル、t−ブチル又はn−ヘキシ
ルを表し。
ルを表し。
R4,R5は水素原子、弗素原子、壇素原子、メチル、
メトキシ又はトリフルオルメチルを表し。
メトキシ又はトリフルオルメチルを表し。
プは水素原子、メチル、エチル、?1−プロピル、 、
イソプロピル、n−ブチル、t−ブチル、n−ヘキシル
、エチニル、エチニル又はシアノを表し。
イソプロピル、n−ブチル、t−ブチル、n−ヘキシル
、エチニル、エチニル又はシアノを表し。
R7は水素原子、メチル、エチル、n−プロピル。
イソプロピル、n−ブチル、t−ブチル又はn −ヘキ
シル、エチニル、エチニル、プロピニル、フェニル、1
−ナフチル、2−す7チル、2−フルオルフェニル、4
−フルオルフェニル、2−クロルフェニル、4−クロル
フェニル、4−シアノフェニル、2−メチルフェニル、
4−メチルフエニル、4−メトキシフェニル、4−トリ
フルオルメチルフェニル、フェノキシフェニル、アセチ
ル。
シル、エチニル、エチニル、プロピニル、フェニル、1
−ナフチル、2−す7チル、2−フルオルフェニル、4
−フルオルフェニル、2−クロルフェニル、4−クロル
フェニル、4−シアノフェニル、2−メチルフェニル、
4−メチルフエニル、4−メトキシフェニル、4−トリ
フルオルメチルフェニル、フェノキシフェニル、アセチ
ル。
プロピオニル、メチルプロピオニル、トリフルオルメチ
ルカルボニル、メトキシカルボニル、メチルカルボニル
、エトキシカルボニル、2−エチル−シクロプロピルカ
ルボニル、2.2−ジメチル−3−エチル−シクロプロ
ピルカルボニル、2゜2−ジメチル−3−ビニル−シク
ロプロピルカルボニル、2.2−ジメチル−3−(2’
、2’−ジクロルビニル)−シクロプロビーl−イル−
カルボニル、2.2−ジメチル−3−(2’、2’−ジ
メチルビニル)−シクロプロビー1−イル−カルボニル
、2.2−ジメチル−3−(1’、2’−ジブロム−2
,:2’−ジクロルエチル)−シフ胃プロピー1−イル
ーカルボニル、2.2−ジメチル−3−(1/ 、
17−ジプロムー2.2/−ジクロルエチル)−シクロ
プロー1−イル−カルボニル、2−フルオルベンジルカ
ルボニル、2−クロルベンジルカルボニル、4−フルオ
ルベンジルカルボニル、ベンゾイル、クロルア七チル、
2−クロル−6−フルオルフェニルアセチル、4−クロ
ル7ヱニルー1−カルボニル、4−クロルベンゾイル、
メチルアミノカルボニル、フェニルアミノカルボニル、
4−クロルフェニルアミノカルボニル、 3. 4−
ジク四ルフェニルアミノ力ルボエル、3−メチルフェニ
ルアミ7カルボニル又は3−メチル−イソキサゾール−
5−イルを表し。
ルカルボニル、メトキシカルボニル、メチルカルボニル
、エトキシカルボニル、2−エチル−シクロプロピルカ
ルボニル、2.2−ジメチル−3−エチル−シクロプロ
ピルカルボニル、2゜2−ジメチル−3−ビニル−シク
ロプロピルカルボニル、2.2−ジメチル−3−(2’
、2’−ジクロルビニル)−シクロプロビーl−イル−
カルボニル、2.2−ジメチル−3−(2’、2’−ジ
メチルビニル)−シクロプロビー1−イル−カルボニル
、2.2−ジメチル−3−(1’、2’−ジブロム−2
,:2’−ジクロルエチル)−シフ胃プロピー1−イル
ーカルボニル、2.2−ジメチル−3−(1/ 、
17−ジプロムー2.2/−ジクロルエチル)−シクロ
プロー1−イル−カルボニル、2−フルオルベンジルカ
ルボニル、2−クロルベンジルカルボニル、4−フルオ
ルベンジルカルボニル、ベンゾイル、クロルア七チル、
2−クロル−6−フルオルフェニルアセチル、4−クロ
ル7ヱニルー1−カルボニル、4−クロルベンゾイル、
メチルアミノカルボニル、フェニルアミノカルボニル、
4−クロルフェニルアミノカルボニル、 3. 4−
ジク四ルフェニルアミノ力ルボエル、3−メチルフェニ
ルアミ7カルボニル又は3−メチル−イソキサゾール−
5−イルを表し。
プは水素原子、メチル、エチル、n−プロピル。
イソプロビル、n−ブチル、t−ブチル又はn−ヘキシ
ルを表しかつ Xは弗素原子、塩素原子又は臭素原子を表し。
ルを表しかつ Xは弗素原子、塩素原子又は臭素原子を表し。
但し1式11LC+IR1は、R2,R3,R’、R’
が同時に水素原子を表す場合には、フェニル基を表さず
、かつ式Ib中坪、 R3,R’、 IPは R1がC
2〜C8−アルキル基、7zニル基、トリル基又はメト
キシフェニル基を表す場合には、同時に水素原子を表さ
ず。
が同時に水素原子を表す場合には、フェニル基を表さず
、かつ式Ib中坪、 R3,R’、 IPは R1がC
2〜C8−アルキル基、7zニル基、トリル基又はメト
キシフェニル基を表す場合には、同時に水素原子を表さ
ず。
並びにR1は、W及びPが水素原子を表しかつ斧又はy
がメチル基、メトキシ基又は塩素原子を表す場合には、
オクチル基を表さない。
がメチル基、メトキシ基又は塩素原子を表す場合には、
オクチル基を表さない。
害虫駆除剤として、ジスクライマーから除外される化合
物も有利ないしは特に有利である。
物も有利ないしは特に有利である。
一般式Ia、Ib及びICのピラン誘導体は、昆虫。
くも形類及び紳虫順に属する有害1・物を駆除するため
に適当である。該化合物は接物保護において並びに衛生
学、貯藏物保護及びV医学的分野において有害動物駆除
剤として使用することができる。
に適当である。該化合物は接物保護において並びに衛生
学、貯藏物保護及びV医学的分野において有害動物駆除
剤として使用することができる。
接1kl!毒又は食餌溝として動物を死亡、麻痺もしく
は辿い串す、たいていの従来の公知有効物質とは異なり
1本発明による式Iの化合物のたいていのものは動物の
生体のホルモン系統に浸透する。
は辿い串す、たいていの従来の公知有効物質とは異なり
1本発明による式Iの化合物のたいていのものは動物の
生体のホルモン系統に浸透する。
昆虫の場合には1例えば成虫への変態1発生可能な卵の
生付は及び生付けられた正常な卵の発育を妨害し、それ
により世代継続を中断させる。本発明による有効物質は
、を椎動物に対しては無毒である。更に1式ia 、
Ib iびlcの化合物のたいていのものは、自然環境
内に存在しかつ微生物によって更に分解される物質に容
易に分解される。
生付は及び生付けられた正常な卵の発育を妨害し、それ
により世代継続を中断させる。本発明による有効物質は
、を椎動物に対しては無毒である。更に1式ia 、
Ib iびlcの化合物のたいていのものは、自然環境
内に存在しかつ微生物によって更に分解される物質に容
易に分解される。
9翅目(Lepido′otera )の害虫には例え
ばコナガ(Plutella maculipenni
s ) 、コーヒーモンシロモリガ(Leucopte
ra coffeella )+ リンゴスガ(Hy
ponomeuta malinellus ) 、リ
ンゴヒメシンク(Argyresthia conju
gella ) 、バクガ(Sito−troga e
realella ) 、 7 )リマエア オペルキ
ュレラ(Phthorimaea operculel
la ) 、アミメナミシャ(Capua retic
ulana )、テンプ/”+ ?キ(Sp−arga
nohis pilleriana )、カフェイア
ムリナーナ(0acoecia murinana )
、 )ルトリックス ビリダナ(Tortrix
viridana )、ブドウホソハマキ(017si
a ambiguella ) 、エセトリア ブオリ
アナ(Kvetria buoliana )、ポリク
ロシス ボトラナ(Po1ychrosis botr
ana ) 、シイディア ポモネーラ(0ydia
pomonella ) * ラスベイレシアモレスタ
(La5peyresia molesta ) 、ラ
スペイレシア フネブラネ(La5peyresia
funebrana ) 。
ばコナガ(Plutella maculipenni
s ) 、コーヒーモンシロモリガ(Leucopte
ra coffeella )+ リンゴスガ(Hy
ponomeuta malinellus ) 、リ
ンゴヒメシンク(Argyresthia conju
gella ) 、バクガ(Sito−troga e
realella ) 、 7 )リマエア オペルキ
ュレラ(Phthorimaea operculel
la ) 、アミメナミシャ(Capua retic
ulana )、テンプ/”+ ?キ(Sp−arga
nohis pilleriana )、カフェイア
ムリナーナ(0acoecia murinana )
、 )ルトリックス ビリダナ(Tortrix
viridana )、ブドウホソハマキ(017si
a ambiguella ) 、エセトリア ブオリ
アナ(Kvetria buoliana )、ポリク
ロシス ボトラナ(Po1ychrosis botr
ana ) 、シイディア ポモネーラ(0ydia
pomonella ) * ラスベイレシアモレスタ
(La5peyresia molesta ) 、ラ
スペイレシア フネブラネ(La5peyresia
funebrana ) 。
アワツメイガ(0strinia nubilalis
)、 l:Iクソステゲ スティクティカリス(Lo
xostege 5ticti −calis ) 、
エフエステイカ ヒエm;エラ(Kp−hestia
kuehniella ) * ニカメイガ(0hil
o 5u−ppressalis ) *ハチノスツヅ
リガ(Galleriam−ellonella )
、オビカレハ(Malacosoma neust −
ri& ) + デンドロリムス ビニ(Dendro
limuspini)、サマトボニア ビティオカンパ
(Thau−matopoea pityocampa
) 、アトモンヒロズコガ(Phalera buc
ephala ) 、ナミスジ7:Lナミシャク(Oh
eimatobia brumata ) 、ヒベルニ
ア デホリアリア(Hlbernia defolia
ra )、プパルス ピニアラス(Bupalus p
iniarus )、アメリカシロヒドリ(Hypha
ntria cunea )、カプラヤガ(Agro−
tis segetum ) 、ヒトテンケンモン(A
grotisvp8110m ) 、ヨトウガ(Bar
athra ’bras81aae )。
)、 l:Iクソステゲ スティクティカリス(Lo
xostege 5ticti −calis ) 、
エフエステイカ ヒエm;エラ(Kp−hestia
kuehniella ) * ニカメイガ(0hil
o 5u−ppressalis ) *ハチノスツヅ
リガ(Galleriam−ellonella )
、オビカレハ(Malacosoma neust −
ri& ) + デンドロリムス ビニ(Dendro
limuspini)、サマトボニア ビティオカンパ
(Thau−matopoea pityocampa
) 、アトモンヒロズコガ(Phalera buc
ephala ) 、ナミスジ7:Lナミシャク(Oh
eimatobia brumata ) 、ヒベルニ
ア デホリアリア(Hlbernia defolia
ra )、プパルス ピニアラス(Bupalus p
iniarus )、アメリカシロヒドリ(Hypha
ntria cunea )、カプラヤガ(Agro−
tis segetum ) 、ヒトテンケンモン(A
grotisvp8110m ) 、ヨトウガ(Bar
athra ’bras81aae )。
ムラサキミツボシキリガ(01rphis unipu
ncta)、ハスモンヨトウ(Prodenia 1i
tura ) 、シロイチモジョトウ(Laphygm
a exigua ) 、パノリス7ランメーア(Pa
nolia flammea ) 、ベニモンアオリン
ガ(Eariaa 1naulana ) +キンウワ
バ(Plusia gamma ) 、アラバマ アル
ギラセア(Alabama argillacea )
、カシワマイマイガ(Lymantria disp
ar ) 、 ?イマイガ(Lymantriamon
acha ) +モンシ四チヲウ(Pieris br
assi−cae ) 、 zゾシロチョウ(Apor
ia crataegi )が厘する。
ncta)、ハスモンヨトウ(Prodenia 1i
tura ) 、シロイチモジョトウ(Laphygm
a exigua ) 、パノリス7ランメーア(Pa
nolia flammea ) 、ベニモンアオリン
ガ(Eariaa 1naulana ) +キンウワ
バ(Plusia gamma ) 、アラバマ アル
ギラセア(Alabama argillacea )
、カシワマイマイガ(Lymantria disp
ar ) 、 ?イマイガ(Lymantriamon
acha ) +モンシ四チヲウ(Pieris br
assi−cae ) 、 zゾシロチョウ(Apor
ia crataegi )が厘する。
鞘翅目(0oleoptera)の目には七マダラコガ
ネ(llitophaga undata ) 、メラ
ノタス ツムニス(Melanotus commun
is) 、ルモニウム カリフオルニカス(Limon
ius aalifornicua ) 、コメツキ(
Agriotes 1ineatua ) +カバイo
=rメッキ(Agriotes obsaurus )
*ナガタムシ(Agrilussinuatug)
、マリゲテス アネメース(Malige−thes
aneneus) 、アトマリア リネアリス(Ato
maria 1inearis ) 、 ニジェウヤホ
シテントウ(ICpilaahna varivest
ris ) 、ウスチャコガネ(Phyllopsrt
ha horticola) 、マメコガネ(Popi
llia japoniaa ) 、コフキフガネ(M
elo−1ontha melolontha ) +
メaロンタ ヒボカスタニ(Melolontha h
ippoaastani ) 、アミフィマラス ソル
スティティアリス(Amphimallus sol
−5titialis ) + クビナガハムシ(Or
iocerisaapargi ) 、クビホソハムシ
(Lama malanopus)、レプティオナルサ
デセンリネアータ(Leptinotarsa de
cemlineata ) *ダイコンハムシ(Pha
edon cochleariae ) 、ノミハムシ
(Phyllotreta memorum ’) *
)ビハムシ(Ghaeto−cnma tibia
lie) 、ナスノミハムシ(Psylloidesc
hryRocephala ) 、ディアプロチヵ12
−パンクラタ(Diabrotica 12− pun
ctala) 、ヒメジンガサ(Ca5sida ne
bulosa) 、ダイズゾウムシ(Bruch−us
1entis )+ ソラマメゾウムシ(Bruch
usrufimanus ) 、 エンドウゾウムシ(
Bruahuspi8orum ) 、チビコ7キゾウ
ムシ(5itona11neatus) 、オチオリン
力ス サルタス(Otiorrhynchuf4sul
catus) 、オティオリンカスオバタス(0tio
rrhynchus ovatus) 、ヒロビエスア
ピエティス(Hylobies abietis) 、
ビイクチイスカス ベチュラx (Byctiscu
s betulae ) 、アンソノムス ホモラム(
Anthonomus pomorum) 。
ネ(llitophaga undata ) 、メラ
ノタス ツムニス(Melanotus commun
is) 、ルモニウム カリフオルニカス(Limon
ius aalifornicua ) 、コメツキ(
Agriotes 1ineatua ) +カバイo
=rメッキ(Agriotes obsaurus )
*ナガタムシ(Agrilussinuatug)
、マリゲテス アネメース(Malige−thes
aneneus) 、アトマリア リネアリス(Ato
maria 1inearis ) 、 ニジェウヤホ
シテントウ(ICpilaahna varivest
ris ) 、ウスチャコガネ(Phyllopsrt
ha horticola) 、マメコガネ(Popi
llia japoniaa ) 、コフキフガネ(M
elo−1ontha melolontha ) +
メaロンタ ヒボカスタニ(Melolontha h
ippoaastani ) 、アミフィマラス ソル
スティティアリス(Amphimallus sol
−5titialis ) + クビナガハムシ(Or
iocerisaapargi ) 、クビホソハムシ
(Lama malanopus)、レプティオナルサ
デセンリネアータ(Leptinotarsa de
cemlineata ) *ダイコンハムシ(Pha
edon cochleariae ) 、ノミハムシ
(Phyllotreta memorum ’) *
)ビハムシ(Ghaeto−cnma tibia
lie) 、ナスノミハムシ(Psylloidesc
hryRocephala ) 、ディアプロチヵ12
−パンクラタ(Diabrotica 12− pun
ctala) 、ヒメジンガサ(Ca5sida ne
bulosa) 、ダイズゾウムシ(Bruch−us
1entis )+ ソラマメゾウムシ(Bruch
usrufimanus ) 、 エンドウゾウムシ(
Bruahuspi8orum ) 、チビコ7キゾウ
ムシ(5itona11neatus) 、オチオリン
力ス サルタス(Otiorrhynchuf4sul
catus) 、オティオリンカスオバタス(0tio
rrhynchus ovatus) 、ヒロビエスア
ピエティス(Hylobies abietis) 、
ビイクチイスカス ベチュラx (Byctiscu
s betulae ) 、アンソノムス ホモラム(
Anthonomus pomorum) 。
オオフタオビキョウト(Anthonomus zra
ndia) 。
ndia) 。
アオキノコヨトウ(Ceuthorrhynchus
assimilis)lソイソリーヌカス ナピ(Ce
uthorrhynchusnapi) 、シトフィラ
ス グラナリア(Sitophi−1us grana
ria) 、 vイマイガ(Anisandrusdi
spar) 、イブス ティボグラファス(工p8ty
pographus ) 、 プラスト7アガス ビニ
ペルダ(Blastophagua piniperd
a)が属する。
assimilis)lソイソリーヌカス ナピ(Ce
uthorrhynchusnapi) 、シトフィラ
ス グラナリア(Sitophi−1us grana
ria) 、 vイマイガ(Anisandrusdi
spar) 、イブス ティボグラファス(工p8ty
pographus ) 、 プラスト7アガス ビニ
ペルダ(Blastophagua piniperd
a)が属する。
双翅目(Diptera )の目にはりコリア ペクト
ラリス(Lycoria pectoralis) 、
マイエティオラデストラクター(Mayetiola
destructor) 、カラマツメタマパエ(Da
syneura brassicae ) 、 Wパx
(0ontarinia tritici) 、イネ
クダアザミウマ(Haplodiplosis equ
strie) 、ティブラ パルドサ(Tipula
paludosa ) 、ティプラ オレラセア(Ti
pula oleraaea ) 、 ウリミバエ(
Dacuscucurbitae) 、ミカンバエ(D
acus oleae ) 、七うティティス カピタ
タ(0eratitis capitata)、ラゴレ
ティス 七うシ−(RhaFtoletia cer−
asi)+ ラゴレティス ボマネラ(Rhagole
tispomanella ) 、アナトレファ ルー
デンス(Anatrepha 1udens) 、オツ
シネラ 71ノツト(0scinella frit)
、フォルビア コアラクタタ(Phorbia co
aractata) 、 7 オルビア アンチイカ(
Phorbia antiqua ) 、ハコベモグリ
ハナバエ(Phorbia brasati ) 、ア
カザモグリハナバエ(Peaomya hyoscya
mi ) 、アノフエレス マクリペニス(Anoph
θles maculipennis) 、キュレック
ス ピピエンス(0ulex pipieng ) 、
アエデスイジプテ4− (Aedes aegypti
) 、アエデス ペクサンス(Aedea vexa
ns) I タパナス ボビヌス(Tabanus b
ovinus ) 、ティプラ バルドサ(Tlpul
a paludosa ) 、イエバエ(Musoa
domest−1ca ) 、ファニア 力リキエラリ
ス(Fanniacar土cularis ) + ム
ラシナ スタビエランス(Muscina 5tabu
lans ) 、グロシナ モルシタンス(Gloss
ina morsitana) 、ニストラス オシス
(0estrus ocis) + クリソミャ マセ
ラリア(Chrysomya macellaria)
、クリソミャ ホミニボラックス(Ohrysomy
a hominivorax ) 、ルシリア キエブ
リナ(Lucilia cuprina ) 、ルシリ
アセリカータ(Lucilia 5ericata)及
びヒボデルマリネアータ(Hypoderma 1in
eata )が属する。
ラリス(Lycoria pectoralis) 、
マイエティオラデストラクター(Mayetiola
destructor) 、カラマツメタマパエ(Da
syneura brassicae ) 、 Wパx
(0ontarinia tritici) 、イネ
クダアザミウマ(Haplodiplosis equ
strie) 、ティブラ パルドサ(Tipula
paludosa ) 、ティプラ オレラセア(Ti
pula oleraaea ) 、 ウリミバエ(
Dacuscucurbitae) 、ミカンバエ(D
acus oleae ) 、七うティティス カピタ
タ(0eratitis capitata)、ラゴレ
ティス 七うシ−(RhaFtoletia cer−
asi)+ ラゴレティス ボマネラ(Rhagole
tispomanella ) 、アナトレファ ルー
デンス(Anatrepha 1udens) 、オツ
シネラ 71ノツト(0scinella frit)
、フォルビア コアラクタタ(Phorbia co
aractata) 、 7 オルビア アンチイカ(
Phorbia antiqua ) 、ハコベモグリ
ハナバエ(Phorbia brasati ) 、ア
カザモグリハナバエ(Peaomya hyoscya
mi ) 、アノフエレス マクリペニス(Anoph
θles maculipennis) 、キュレック
ス ピピエンス(0ulex pipieng ) 、
アエデスイジプテ4− (Aedes aegypti
) 、アエデス ペクサンス(Aedea vexa
ns) I タパナス ボビヌス(Tabanus b
ovinus ) 、ティプラ バルドサ(Tlpul
a paludosa ) 、イエバエ(Musoa
domest−1ca ) 、ファニア 力リキエラリ
ス(Fanniacar土cularis ) + ム
ラシナ スタビエランス(Muscina 5tabu
lans ) 、グロシナ モルシタンス(Gloss
ina morsitana) 、ニストラス オシス
(0estrus ocis) + クリソミャ マセ
ラリア(Chrysomya macellaria)
、クリソミャ ホミニボラックス(Ohrysomy
a hominivorax ) 、ルシリア キエブ
リナ(Lucilia cuprina ) 、ルシリ
アセリカータ(Lucilia 5ericata)及
びヒボデルマリネアータ(Hypoderma 1in
eata )が属する。
膜翅目(Hymenoptsra )の目にはカブラバ
バチ(Athalia rosae ) *ハプロカン
パ ミヌタ(Hanlocampa m1nuta )
、ヒメアリ(Monomoriumpharaoni
s ) + ツレノブシス ジェミナータ(5olen
opsis zeminata ) 、アタ 七りスデ
ン(Atta 5exaens)が属する。
バチ(Athalia rosae ) *ハプロカン
パ ミヌタ(Hanlocampa m1nuta )
、ヒメアリ(Monomoriumpharaoni
s ) + ツレノブシス ジェミナータ(5olen
opsis zeminata ) 、アタ 七りスデ
ン(Atta 5exaens)が属する。
異翅亜目(Heteroptera )の目にはミナミ
アオカメムシ(Nezara viridula )
、チャイロカメムシ(Furygaster ints
griceps) Iビリソウス ロイコブチラス(B
115sus 1eucopt、erus ) 、アカ
ホシカメムシ(Dy5dercus cingulat
us) 、ディスデルカス インターメデアス(Dy5
dercua inter−medius) 、ピエズ
マ 力ドラータ(Piesmaqua(lra t&
) + メクラガメ(Lygus pratensis
)が属する。
アオカメムシ(Nezara viridula )
、チャイロカメムシ(Furygaster ints
griceps) Iビリソウス ロイコブチラス(B
115sus 1eucopt、erus ) 、アカ
ホシカメムシ(Dy5dercus cingulat
us) 、ディスデルカス インターメデアス(Dy5
dercua inter−medius) 、ピエズ
マ 力ドラータ(Piesmaqua(lra t&
) + メクラガメ(Lygus pratensis
)が属する。
同翅亜目(HOmoptera )の目にはウシウンカ
(Perkinsiella 5accaricida
) 、 )ビイロウンカ(Ni1aparvata
lugens) 、 vツヒメヨコバイ(Empoas
ca fabae) 、 リンゴキジラミ(Psyl
lamali) 、ナシキジラミ(Psylla pi
ri ) 、 )リアロイロデス バボラリオラム(
Trialeurodesvaporariorum)
+アフイス 7アペエ(Aphisfabae ’)
、 リンゴアブラムシ(Aphis pomi) 、
=ワトコアブラムシ(Aphis sambucユ)
、アフィジェラ マスチイニルラウス(Aphidul
a nasturl−aus)+七ロシア ゴシイビア
(C!erosiphagossypii) 、サバフ
イス マリ(Sappaphismali) *サパフ
ィス マラ(5appaphis mala )。
(Perkinsiella 5accaricida
) 、 )ビイロウンカ(Ni1aparvata
lugens) 、 vツヒメヨコバイ(Empoas
ca fabae) 、 リンゴキジラミ(Psyl
lamali) 、ナシキジラミ(Psylla pi
ri ) 、 )リアロイロデス バボラリオラム(
Trialeurodesvaporariorum)
+アフイス 7アペエ(Aphisfabae ’)
、 リンゴアブラムシ(Aphis pomi) 、
=ワトコアブラムシ(Aphis sambucユ)
、アフィジェラ マスチイニルラウス(Aphidul
a nasturl−aus)+七ロシア ゴシイビア
(C!erosiphagossypii) 、サバフ
イス マリ(Sappaphismali) *サパフ
ィス マラ(5appaphis mala )。
ネアブラムシ(Dy5aphis radicola
) 、ブラキカンダス カルトイ(Brachycau
dus cardui ) 、 ダイコンアブラムシ
(Brevicoryne brassicae )
。
) 、ブラキカンダス カルトイ(Brachycau
dus cardui ) 、 ダイコンアブラムシ
(Brevicoryne brassicae )
。
ホップイボアブラムシ(Phorodon humul
l ) 、ムギクピレアプラムシ(Rhopalotn
yzua ascalonic−u8)、ミゾデス ペ
ルシサx (Myzodes persicae)、ミ
ズス セラシー(Myzus cerasi) 、シサ
ウラフルサム ブソイドソラミ(Dysaulacor
thumpseudosolami) 、ヒゲナガアブ
ラムシ(Acyrth−osiphon onobry
chis) 、マクロシフオン ロザエ(Macros
iphon rosae ) 、ソラマメヒゲナガアブ
ラムシ(Megoura viciae) 、シゾネウ
ラ ラヌギノサ(5chizoneura lanug
inosa) 、ペンフィグスプルサリウス(Pemp
higus bursarius ) 、 ドレイ7
シア ノルドマニアネア(Dreyfusia nor
dman−nianae) 、 ドレイ7シア ピセ
ア(Dreyfusiapiceae) 、ミキカサア
ブラムシ(Adelges 1ari−cis)、ブド
ウネアブラムシ(Viteus vitifol土1)
が属する。
l ) 、ムギクピレアプラムシ(Rhopalotn
yzua ascalonic−u8)、ミゾデス ペ
ルシサx (Myzodes persicae)、ミ
ズス セラシー(Myzus cerasi) 、シサ
ウラフルサム ブソイドソラミ(Dysaulacor
thumpseudosolami) 、ヒゲナガアブ
ラムシ(Acyrth−osiphon onobry
chis) 、マクロシフオン ロザエ(Macros
iphon rosae ) 、ソラマメヒゲナガアブ
ラムシ(Megoura viciae) 、シゾネウ
ラ ラヌギノサ(5chizoneura lanug
inosa) 、ペンフィグスプルサリウス(Pemp
higus bursarius ) 、 ドレイ7
シア ノルドマニアネア(Dreyfusia nor
dman−nianae) 、 ドレイ7シア ピセ
ア(Dreyfusiapiceae) 、ミキカサア
ブラムシ(Adelges 1ari−cis)、ブド
ウネアブラムシ(Viteus vitifol土1)
が属する。
等翅目(工5optera)の目には例えばレティキュ
テルメス ルシフガス(Reticulitermes
lucif−ugus) 、カロテルメス フラビコ
リス(Caloter−mes flavicolli
s ) 、ロイコチルミス フラビペス(L@ucot
ermes flavipes)及びチルメス ナタレ
ンシス(Termes natalensis )がボ
する。
テルメス ルシフガス(Reticulitermes
lucif−ugus) 、カロテルメス フラビコ
リス(Caloter−mes flavicolli
s ) 、ロイコチルミス フラビペス(L@ucot
ermes flavipes)及びチルメス ナタレ
ンシス(Termes natalensis )がボ
する。
直翅目(0rthoptθra)の目には例えばフォル
フイキューラ オウリキュラリア(Forficula
auricularia ) 、アチタ ドメスチカ(
Achetadomestica ) + グリーロタ
ルパ グリーロタルパ(Gryllotalpa qr
yllotalpa ) 、タツキシネスアシナモラス
(Tachycines asynamorus )
、 ロカスタ ミグラドリア(Locusta mig
ratoria) 、スタウロノタス マロツカナス(
Stauronotusmaroccanue) 、シ
ストセル力 ペレグリナ(5chistocerca
peregria ) 、ノマダクリス 七プテンファ
ッシアータ(Nomadacris aeptemfa
s−ctata ) 、メラノプラス スプレタス(M
elano−plus 5pretua) 、メラノプ
ラス 7エムールールプラム(Melanoplua
femur−rubrum ) 、ブラタオリエンタリ
ス(Blatta orientalis ) 、チャ
バネゴキブリ(Blattella germanic
a ) 、ペリプラネタ アメリカーナ(Peripl
aneta amerlcana )。
フイキューラ オウリキュラリア(Forficula
auricularia ) 、アチタ ドメスチカ(
Achetadomestica ) + グリーロタ
ルパ グリーロタルパ(Gryllotalpa qr
yllotalpa ) 、タツキシネスアシナモラス
(Tachycines asynamorus )
、 ロカスタ ミグラドリア(Locusta mig
ratoria) 、スタウロノタス マロツカナス(
Stauronotusmaroccanue) 、シ
ストセル力 ペレグリナ(5chistocerca
peregria ) 、ノマダクリス 七プテンファ
ッシアータ(Nomadacris aeptemfa
s−ctata ) 、メラノプラス スプレタス(M
elano−plus 5pretua) 、メラノプ
ラス 7エムールールプラム(Melanoplua
femur−rubrum ) 、ブラタオリエンタリ
ス(Blatta orientalis ) 、チャ
バネゴキブリ(Blattella germanic
a ) 、ペリプラネタ アメリカーナ(Peripl
aneta amerlcana )。
プラベラ ジガンテア(Blabera gigant
ea)が解する。
ea)が解する。
ダニ類例えばマダニ(工xades ricinus)
+ オルニソドラム ムバータ(0rnithodo
rus moubata)lアメリカーナ アメリカー
ナ(Amb170mmaamericanum) 、デ
ルマセントール シルパラム(Demacentor
silvarum ) 、 ブーフィラス ミクロプ
ルス(Boophilus m1areplus )
、テトラニイー力ス テラリウム(Tetranych
us telarius) 。
+ オルニソドラム ムバータ(0rnithodo
rus moubata)lアメリカーナ アメリカー
ナ(Amb170mmaamericanum) 、デ
ルマセントール シルパラム(Demacentor
silvarum ) 、 ブーフィラス ミクロプ
ルス(Boophilus m1areplus )
、テトラニイー力ス テラリウム(Tetranych
us telarius) 。
大西洋ハダニ(Tetranychus atlant
icus) 、太平洋ハダニ(Tetranychus
pacificus ) 、バラテトラニイ力ス ピ
ロサス(Paratetranyahus pilo
−8u8 )−ニセクローバーハダニ(Br7Obi&
prae −tiosa )が属する。
icus) 、太平洋ハダニ(Tetranychus
pacificus ) 、バラテトラニイ力ス ピ
ロサス(Paratetranyahus pilo
−8u8 )−ニセクローバーハダニ(Br7Obi&
prae −tiosa )が属する。
田虫類としては例えば根吠虫 線虫すなわちメロイドギ
ネ インコグエイタ(MelO1dOg7neinco
rnita ) 、メロイドギネ ノ1プラ(Melo
id−ogyne hapla ) 、メロイドギネ
シャツくニカ(Meloidogyne javani
ca) 、包嚢形p線中すなわちヘテロデラ ロストキ
ニンシス(Heterodera゛rostochie
msis ) 、 ヘテロデラ サツチイ−(Hete
rodera 5ahaahtii) 、ヘテロデラ
アベナ(Heterodera avenae ) 、
ヘテロデラ グリシネス(aeteroaera g
lycines ) 、ヘテロデラ トリ7オリー(H
eterodera trifolii ) 、幹及び
葉線虫すなわちジチレン力ス ディプサシ(Dityl
e−nchus dipsaci ) *ジチレンカス
デストラクター (Ditylenchus des
tructor) 、ブラチレン力スネグレクタス(P
ratylenchus neglectus) 、プ
ラチレンカス ペネトランス(Pratylench
uspen@t’rlLnB ) + ブラチレン力ス
グツディー(Pratylenchus goode
yi) 、プラチレン力ス クルピタタス(Praty
lenchus curvitatus )又はチレン
コーリン力ス トビウス(Tylenchorhyn−
chus dubius ) 、チレンコーリン力ス
クレイトニ(Tylenchorhynchus C1
1L7tOni ) 、ロチレン力ス ロプスタス(R
otylenchus ro’bustus) 、 ヘ
リロコチレン力ス ムルチシンタス(H611ocot
y−1enchus multicinctus) 、
ラド7オラス シミリス(Rodopholus 51
m1lis) 、ベロノライムス ロンジ力ウダタス(
Belonolaimusi Iongicaudat
us)、ロンジドラスエロンガタス(Lonctido
ruselongatus ) 、 )リコドラス
プリミティブス(Trichodorus primi
tivus)がボする。
ネ インコグエイタ(MelO1dOg7neinco
rnita ) 、メロイドギネ ノ1プラ(Melo
id−ogyne hapla ) 、メロイドギネ
シャツくニカ(Meloidogyne javani
ca) 、包嚢形p線中すなわちヘテロデラ ロストキ
ニンシス(Heterodera゛rostochie
msis ) 、 ヘテロデラ サツチイ−(Hete
rodera 5ahaahtii) 、ヘテロデラ
アベナ(Heterodera avenae ) 、
ヘテロデラ グリシネス(aeteroaera g
lycines ) 、ヘテロデラ トリ7オリー(H
eterodera trifolii ) 、幹及び
葉線虫すなわちジチレン力ス ディプサシ(Dityl
e−nchus dipsaci ) *ジチレンカス
デストラクター (Ditylenchus des
tructor) 、ブラチレン力スネグレクタス(P
ratylenchus neglectus) 、プ
ラチレンカス ペネトランス(Pratylench
uspen@t’rlLnB ) + ブラチレン力ス
グツディー(Pratylenchus goode
yi) 、プラチレン力ス クルピタタス(Praty
lenchus curvitatus )又はチレン
コーリン力ス トビウス(Tylenchorhyn−
chus dubius ) 、チレンコーリン力ス
クレイトニ(Tylenchorhynchus C1
1L7tOni ) 、ロチレン力ス ロプスタス(R
otylenchus ro’bustus) 、 ヘ
リロコチレン力ス ムルチシンタス(H611ocot
y−1enchus multicinctus) 、
ラド7オラス シミリス(Rodopholus 51
m1lis) 、ベロノライムス ロンジ力ウダタス(
Belonolaimusi Iongicaudat
us)、ロンジドラスエロンガタス(Lonctido
ruselongatus ) 、 )リコドラス
プリミティブス(Trichodorus primi
tivus)がボする。
本発明の有効物質は1例えば直接的に噴暦可能な溶液、
粉末、懸濁液、更にまた高濃度の水性。
粉末、懸濁液、更にまた高濃度の水性。
油性又はその他の懸濁液又は分散液、エマルジョン、油
性分散液、ペースト、ダスト剤、散布剤又は顆粒の形で
噴霧、ミスト法、ダスト法、散布法又は注入法によって
適用することができる。適用形式は、完全に使用目的に
基いて決定される:いずれの場合にも9本発明の有効物
質の可能な限りの微細分が保証されるべきである。
性分散液、ペースト、ダスト剤、散布剤又は顆粒の形で
噴霧、ミスト法、ダスト法、散布法又は注入法によって
適用することができる。適用形式は、完全に使用目的に
基いて決定される:いずれの場合にも9本発明の有効物
質の可能な限りの微細分が保証されるべきである。
直接飛散可能の溶液、乳濁液、ペースト及び油分散液を
製造するために、中位乃至高位の沸点の鉱油留分例えば
燈油又はディーゼル油、更にコールタール油等、並びに
植物性又は動物性産出源の油、脂肪族、環状及び芳香族
炭化水素例えばペンゾール、ドルオール、キジロール、
ハラフィン。
製造するために、中位乃至高位の沸点の鉱油留分例えば
燈油又はディーゼル油、更にコールタール油等、並びに
植物性又は動物性産出源の油、脂肪族、環状及び芳香族
炭化水素例えばペンゾール、ドルオール、キジロール、
ハラフィン。
テトラヒドロナフタリン、アルキル置換ナフタリン又は
その誘導体1例えばメタノール、エタノール、プロパツ
ール、ブタノール、クロロフォルム。
その誘導体1例えばメタノール、エタノール、プロパツ
ール、ブタノール、クロロフォルム。
四塩化炭素、シクロヘキサノール、シクロへ+サノン、
クロルベンゾール、イソフオロン等、 強ti性溶剤例
えばジメチルフォルムアミド、ジメチルスルフオキシド
、N−メチルピロリドン及び水が使用される。
クロルベンゾール、イソフオロン等、 強ti性溶剤例
えばジメチルフォルムアミド、ジメチルスルフオキシド
、N−メチルピロリドン及び水が使用される。
水性使用形は乳濁液濃縮物、ペースト又は湿潤可能の粉
末(噴射粉末)、油分散液より水の添加により製造され
ることができる0乳濁液、ペースト又は油分散液を製造
するためには、物質はそのまま又は油又は溶剤中に溶解
して、湿潤剤、接着剤1分散剤又は乳化剤により水中に
均質に混合されることができる。しかも有効物質、湿潤
剤、接着剤9分散剤又は乳化剤及び場合により溶剤又は
油よりなる濃縮物を製造することもでき、これは水にて
希釈するのに適する。
末(噴射粉末)、油分散液より水の添加により製造され
ることができる0乳濁液、ペースト又は油分散液を製造
するためには、物質はそのまま又は油又は溶剤中に溶解
して、湿潤剤、接着剤1分散剤又は乳化剤により水中に
均質に混合されることができる。しかも有効物質、湿潤
剤、接着剤9分散剤又は乳化剤及び場合により溶剤又は
油よりなる濃縮物を製造することもでき、これは水にて
希釈するのに適する。
表面活性物質としては次のものが挙げられる:リグニン
スル7オン酸、ナフタリンスルフォン酸。
スル7オン酸、ナフタリンスルフォン酸。
フェノールスルフォン酸のアルカリ塩、アルカリ土類壌
、アンモニウム嫂、アルキルアリールスル7オナート、
アルキルスル7アート、アルキルスル7オナート、ジブ
チルナフタリンスルフォン酸のアルカリ塩及びアルカリ
土類塩、ラウリルエーテルスル7アー)、I[7iアル
コールスルフアート。
、アンモニウム嫂、アルキルアリールスル7オナート、
アルキルスル7アート、アルキルスル7オナート、ジブ
チルナフタリンスルフォン酸のアルカリ塩及びアルカリ
土類塩、ラウリルエーテルスル7アー)、I[7iアル
コールスルフアート。
脂肪酸アルカリ塩及びアルカリ土類塩、硫酸化へキサデ
カノール、ヘプタデカノール、オクタデカノールの塩、
硫酸化脂肪アルコールグリフールエーテルの塩、スルフ
ォン化ナフタリン又はナフタリン誘導体とフォルムアル
デヒドとの縮合生成物。
カノール、ヘプタデカノール、オクタデカノールの塩、
硫酸化脂肪アルコールグリフールエーテルの塩、スルフ
ォン化ナフタリン又はナフタリン誘導体とフォルムアル
デヒドとの縮合生成物。
ナフタリン或はナフタリンスルフォン酸と7エノール及
びフォルムアルデヒドとの縮合生成物、ポリオキシエチ
レン−オクチルフェノールエーテル。
びフォルムアルデヒドとの縮合生成物、ポリオキシエチ
レン−オクチルフェノールエーテル。
エトキシル化イソオクチルフェノール、オクチルフェノ
ール、ノニルフェノール、アルキルフェノールホ0リグ
リコールエーテル、トリブチルフェニルポリグリコール
エーテル、アルキルアリールポリエーテルアルコール、
イソトリデシルアルコール、 v3肪アルコールエチレ
ンオキシド−縮合物。
ール、ノニルフェノール、アルキルフェノールホ0リグ
リコールエーテル、トリブチルフェニルポリグリコール
エーテル、アルキルアリールポリエーテルアルコール、
イソトリデシルアルコール、 v3肪アルコールエチレ
ンオキシド−縮合物。
エトキシル化ヒマシ油、ポリオキシエチレンアルキルエ
ーテル、エトキシル化ポリオキシプロピレン、ラウリル
アルコールポリグリコールエーテルアセタール、ソルビ
ットエステル、リグニン、亜硫酸廃液及びメチル繊維素
。
ーテル、エトキシル化ポリオキシプロピレン、ラウリル
アルコールポリグリコールエーテルアセタール、ソルビ
ットエステル、リグニン、亜硫酸廃液及びメチル繊維素
。
粉末、散布剤及び振りかけ剤は有効物質と固状担体物質
とを混合又は−緒に磨砕することにより製造されること
ができる。
とを混合又は−緒に磨砕することにより製造されること
ができる。
調剤形は以下の通りである。
1、 5重量部の化合物98を細粒状カオリン95重量
部と密に混和する。かくして有効物質5重量%を含有す
る噴霧剤が得られる。
部と密に混和する。かくして有効物質5重量%を含有す
る噴霧剤が得られる。
■、30重貴部の化合物179を粉末状珪酸ゲル92重
量部及びこの珪酸ゲルの表面上に吹きつけられたパラフ
ィン油8重滑部よりなる混合物と密に混和する。かくし
て良好な接着性を有する有効物質の製剤が得られる。
量部及びこの珪酸ゲルの表面上に吹きつけられたパラフ
ィン油8重滑部よりなる混合物と密に混和する。かくし
て良好な接着性を有する有効物質の製剤が得られる。
1.10重量部の化合物400を、キジロール90重悟
部、エチレンオキシド8乃至10モルをオレインm−N
−モノエタノールアミド1モルに附加した附加生成物6
重量部、ドデシルペンゾールスルフォン酸のカルシウム
塩2重量部及びエチレンオキシド40モルをヒマシ油1
モルに附加した附加生成物2重量部よりなる混合物中に
溶解する。
部、エチレンオキシド8乃至10モルをオレインm−N
−モノエタノールアミド1モルに附加した附加生成物6
重量部、ドデシルペンゾールスルフォン酸のカルシウム
塩2重量部及びエチレンオキシド40モルをヒマシ油1
モルに附加した附加生成物2重量部よりなる混合物中に
溶解する。
■、 20重量部の化合物177を、シクロヘキサノン
60重量部、イソブタノール30重量部、エチレンオキ
シド7モルをインオクチルフェノール1モルに附加した
附加生成物5重量部及びエチレンオキシド40モルをヒ
マシ油1モルに附加した附加生成物5乗せ部よりなる混
合物中に溶解する。
60重量部、イソブタノール30重量部、エチレンオキ
シド7モルをインオクチルフェノール1モルに附加した
附加生成物5重量部及びエチレンオキシド40モルをヒ
マシ油1モルに附加した附加生成物5乗せ部よりなる混
合物中に溶解する。
7.80重量部の化合物214を、ジイソブチル−ナフ
タリン−α−スルフォン酔のナトリウム塩3重量部、亜
硫酸−廃液よりのりゲニンスルフォン酸のす) IJウ
ムi1o重量部及び粉末状珪酸ゲル7重貴部と充分に混
和し、かつハンマーミル中において磨砕する。
タリン−α−スルフォン酔のナトリウム塩3重量部、亜
硫酸−廃液よりのりゲニンスルフォン酸のす) IJウ
ムi1o重量部及び粉末状珪酸ゲル7重貴部と充分に混
和し、かつハンマーミル中において磨砕する。
粒状体例えば被償−9透浸−及び均質粒状体は。
有効物質を固状担体物質に結合することにより製造され
ることができる。固状担体物質は例えば鉱物上例えばシ
リカゲル、珪酸、珪酸ゲル、珪酸廖。
ることができる。固状担体物質は例えば鉱物上例えばシ
リカゲル、珪酸、珪酸ゲル、珪酸廖。
滑石、カオリン、アタクレ1石灰石9石灰、白亜。
膠塊粒土2石灰質黄色粘土、粘土、白雲石、珪藻土、硫
酸カルシウム、硫酸マグネシウム、酸化マグネシウム、
磨砕合成樹脂、P料例えば硫酸アンモニウム、燐酸アン
モニウム、硝酸アンモニウム。
酸カルシウム、硫酸マグネシウム、酸化マグネシウム、
磨砕合成樹脂、P料例えば硫酸アンモニウム、燐酸アン
モニウム、硝酸アンモニウム。
尿素及び植物性生成物例えば穀物粉、樹皮、木材及びク
ルミ殻粉、繊a素粉末及び他の固状担体物質である。
ルミ殻粉、繊a素粉末及び他の固状担体物質である。
使用形は有効物質0.1乃至95重量%殊に0.5乃至
90重量%を含有する。
90重量%を含有する。
使用準備のできた製剤中の有効物質の濃度を工、大きな
範囲内で変動することができる。
範囲内で変動することができる。
該濃度は、一般に0.0001〜10%、有利には0.
01〜1%である。有効物質は有利に微量散布法(UL
V )で使用することもでき、この場合には有効物質9
5重量%以上、更には有効物質Z添加物を伴わないで散
布することかできる。
01〜1%である。有効物質は有利に微量散布法(UL
V )で使用することもでき、この場合には有効物質9
5重量%以上、更には有効物質Z添加物を伴わないで散
布することかできる。
有効物質の使用量は、野外条件下で0.02〜10、有
利には0.08〜2 kg / haである。
利には0.08〜2 kg / haである。
有効物質には、種々のタイプの油、除草剤、殺菌剤、別
の害虫駆除剤、殺細菌剤χ、場合により使用直前に(タ
ンクミックスン配合することもできる。これらの薬剤は
本発明による薬剤に対して1:10〜10:1の重量比
で混合することかできる。
の害虫駆除剤、殺細菌剤χ、場合により使用直前に(タ
ンクミックスン配合することもできる。これらの薬剤は
本発明による薬剤に対して1:10〜10:1の重量比
で混合することかできる。
例えば以下の剤乞混合することができる。
1.2−ジブロム−3−クロルプロパン、1.3−ジク
ロルプロペン、 1.3−ジクロルプロペン+1.2−ジクロルプロペン
、 1.2−ジブロムエタン、 2− sea、−)゛チルーフェニルーN−メチAカル
バメート、 o−クロルフェニル−N−メチルカルバメート、3−イ
ソプロピル−5−メチルフェニル−N−メチルカルバメ
ート、 o−イソプロポキシフェニル−N−メチルカルバメート
、 3.5−ジメチル−4−メチルメルカプト−7二二ルー
N−メチルカルバメート、 4−ジメチルアミノ−3,5−キシリル−N−メチルカ
ルバメート、 2− (1,3−ジオキソラン−2−イル)−7エ二ル
ーN−メチルカルバメート、 l−す7チルーN−メチルカルバメート、2.3−ジヒ
ドロ−2,2−ジメチル−ベンゾ7ランー7−イルーN
−メチルカルバメート、2.2−ジメチル−1,3−ベ
ンゾジオキソール−4−イル−N−メチルカルバメート
、 2−ジメチルアミノ−5,6−シメチルー4−ピリミジ
ニル−ジメチルカルバメート、 2−メチル−2−(メチルチオン−プロピオンアルデヒ
ド−〇−(メチルカルバモイル)−オキシム、 S−メチル−N−((メチルカルバモイルンーオキシル
〕−チオーア七トイミダート、メチル−N’、N’−ジ
メチル−N−((メチルヵルバモイルンオキシ〕−1−
チオオキサミダート、N−(2−メチルクロルフェニル
) −y、N′−ジメチルホルムアミジン、 テトラクロルチオフェン、 1− [2,6−ジフルオルーベンゾイルンー3−(4
−クロルフェニルンー尿素、 0.0−ジメチル−〇−(p−ニトロフェニルノーホス
ホルチオエート、 o、o−ジエチル−〇−(p−ニトロ7′エニルフ−ホ
スホルチオエート、 0−エチル−〇−(p−ニトロフェニルンーフェニルー
ホスホノチオエート、 0.0−ジメチル−〇−(3−メチル−4−ニトロフェ
ニルノーホスホルチオエート、 0.0−ジエチル−〇 −(2,4−ジクロル7二二ル
ンーホスホルチオエート、 0−エチル−〇 −(2,4−ジクロルフェニルンーフ
ェニルーホスホノチオエート、 0.0−ジメチル−〇 −(2,4,5−)リクロルフ
ェニル】−ホスホルチオエート、 0−エチル−〇 −(2,4,5−トリクロル7二二ル
)−エチル−ホスホルチオエート、 0.0−ジメチル−〇−(4−ブロム−2,5−ジクロ
ルフェニルンーホスホルチオエート、o、o−ジメチル
−〇 −(2,5−ジクロル−4−ヨード7二二ルフー
ホスホルチオエート、o、o−ジメチル−〇−(3−メ
チル−4−メチルチオフェニルノーホスホルチオエート
、0−エチル−〇−(3−メチル−4−メチルチオフェ
ニル]−イソプロピル−ホスホルアミダート、 0.0−ジエチル−〇−(p−メチルスルフィニル−フ
ェニル)−ホスホルチオエート、0−エチル−8−フェ
ニルエチルーホスホノジチオエート、 o、o−ジエチル−〔2−クロル−1−(2,4−ジク
ロルフェニル)−ビニルコーホスフエート、o、o−ジ
メチル−〔2−りpルー1− (2,4,5−トリクロ
ルフェニル)−ビニルコーホスフエート、 o、o−ジメチル−3−(1’−フェニル)−エチルア
セテート−ホスホルジチオエート、ビス−(ジメチルア
ミノン−フルオルホスフィンオキシト、 オクタメチル−ピロホスホルアミド、 o、o、o、o−テトラエチルジチオ−ピロホスフェー
ト、 S−クロルメチル−〇、O−ジエチル−ホスホルジチオ
エート、 0−エチル−8,S−ジプロピル−ホスホルジチオエー
ト、 0.0−ジメチル−〇 −2,2−ジクロルビニル−ホ
スフェート、 0.0−ジメチル−1,2−ジブロム−2,2−ジクロ
ルエチルホスフェート、 o、o−ジメチル−2,2,2−)リクロA/−1−ヒ
ドロキシ−エチルホスホネート、 0.0−ジメチル−s −(1,2−ビスカルボエトキ
シ−エチル−(1))−ホスホルジチオエート、0.0
−ジメチル−〇−(l−メチル−2−カルボメトキシ−
ビニル)−ホスフェート、0.0−ジメチル−8−(N
−メチル−カルバモイル−メチルノーホスホルジチオエ
ート、0.0−ジメチル−3−(N−メチルカルバモイ
ル−メチル)−ホスホルチオエート、 0.0−ジメチル−8−(N−メトキシエチルーカルバ
モイルメチルンーホスホルジチオエート、0.0−ジメ
チル−8−(N−ホルミル−N−メチル−カルバモイル
−メチル)−ホスホルジチオエート、 0.0−ジメチル−〇−〔1−メチル−2−(メチル−
カルバモイル)−ビニルコーホスフエート、o、o−ジ
メチル−0−((1−メチル−2−ジメチルカルバモイ
ルツービニル〕−ホスフェート、0.0−ジメチル−〇
−((1−メチル−2−クロル−2−ジエチルカルバモ
イルツービニル〕−ホスフェート、 0.0−ジエチル−5−(エチルチオメチルツーホスホ
ルジチオエート、 0.0−ジエチル−8−((p−クロルフェニルチオ]
−メチル〕−ホスホルジチオエート、OO−ジメチル−
3−(2−エチルチオエチル)−ホスホルチオエート、 0.0−ジメチル−8−(2−エチルチオエチル)−ホ
スホルジチオエート、 0.0−ジメチル−8−(2−エチルスルフイニルーエ
チルンーホスホルチオエート、 0.0−ジエチル−3−(2−エチルチオ−エチルツー
ホスホルジチオエート、 0.0−ジエチル−8−(2−エチルスルフィニル−エ
チルツーホスホルチオエート、 0.0−ジエチル−(チオホスホリルイミノ7エ二ル)
−アセトニトリル、 0.0−ジエチル−8−(2−クロル−1−フタルイミ
ドエチルツーホスホルジチオエート、0.0−ジエチル
−8−〔6−クロル−ベンゾオキサシロン−(2)−イ
ル(3))−メチルジチオホスフェート、 0.0−ジfi+h−S −(2−;I )キシ−1,
3,4=チアジアゾール−5−(4H)−オンイル−(
4)−メチルツーホスホルジチオエート、0.0−ジエ
チル−〇 −(3,5,6−トリクロルーピリジルー(
2))−ホスホルチオエート、0.0−ジエチル−〇−
(2−ピラジニル)−ホスホルチオエート、 0.0−ジエチル−〇−〔2−イソプロピル−4−メチ
ルピリミジニル(6))−ホスホルチオエート、 0.0−ジエチル−〇−(2−(ジエチルアミノン−6
−メチル−4−ピリミジニルシーチオノホスフェート、 0.0−ジメチル−8−(4−オキソ−1,2,3−ベ
ンゾトリアジン−3−(4H”l−イル−メチルツーホ
スホルジチオエート、 o、o−ジメチル−S −((4,S−ジアミノ−1゜
3.5− )リアジン−2−イルンーメチル〕−ホスホ
ルジチオエート、 o、o−ジエチル−(1−フェニル−1,2,4−トリ
アゾール−3−イル)−チオノホスフェート、02S−
ジメチル−ホスホル−アミドチオエート、02S−ジメ
チル−N−ア七チル−ホスホルアミドチオエート、 7 /l/ 77−−へキサクロルシクロヘキサン、1
.1−ジー(p−メトキシフェニル) −2,2,2−
トリクロル−エタン、 6.7,8,9,10.10− ヘキサクロル−1,5
,5a、6,9゜9&−へキサヒドロ−6,9−メタノ
−2,4,3−ベンゾジオキサ−チェピン−3−オキシ
ド、ピレトリン、 DL −2−アリル−3−メチル−シクロペンテン−(
2)−オン−(1)−イル−(4) −DL−シス、−
トランスークリサンテメート、5−べアリル−71Jル
ー(3)−メチル−DL−シス、−トランスークリサン
テメート、3−フェノキシベンジン(±]−シス、−ト
ランス−2,2−ジメチル−3−(2,2−ジクロルビ
ニル)−シクロプロパンカルボキシレート、アルファー
−シアノ−3−フェノキシベンジルt±)−シス、−ト
ランス−2,2−ジメチル−3−(2,2−ジクロルビ
ニルノーシクロプロパンカルボキシレート、 (S)−アルファー−シアノ−3−フェノキシベンジル
−シス(I R、3R) −2,2−ジメチル−3−(
2,2−ジブロムビニルツーシクロプロパンカルボキシ
レート、 3.4,5.6−チトラヒドロ7タルイミドエチルーD
L−シス、−トランスークリサンテメート、2−メチル
−5−(2−プロピニル)−3−7リルメチルークリサ
ンテメート、 (アルファー−シアノ−3−フェノキシベンジル)−ア
ルファー−イソプロピル−4−クロルフェニルアセテー
ト。
ロルプロペン、 1.3−ジクロルプロペン+1.2−ジクロルプロペン
、 1.2−ジブロムエタン、 2− sea、−)゛チルーフェニルーN−メチAカル
バメート、 o−クロルフェニル−N−メチルカルバメート、3−イ
ソプロピル−5−メチルフェニル−N−メチルカルバメ
ート、 o−イソプロポキシフェニル−N−メチルカルバメート
、 3.5−ジメチル−4−メチルメルカプト−7二二ルー
N−メチルカルバメート、 4−ジメチルアミノ−3,5−キシリル−N−メチルカ
ルバメート、 2− (1,3−ジオキソラン−2−イル)−7エ二ル
ーN−メチルカルバメート、 l−す7チルーN−メチルカルバメート、2.3−ジヒ
ドロ−2,2−ジメチル−ベンゾ7ランー7−イルーN
−メチルカルバメート、2.2−ジメチル−1,3−ベ
ンゾジオキソール−4−イル−N−メチルカルバメート
、 2−ジメチルアミノ−5,6−シメチルー4−ピリミジ
ニル−ジメチルカルバメート、 2−メチル−2−(メチルチオン−プロピオンアルデヒ
ド−〇−(メチルカルバモイル)−オキシム、 S−メチル−N−((メチルカルバモイルンーオキシル
〕−チオーア七トイミダート、メチル−N’、N’−ジ
メチル−N−((メチルヵルバモイルンオキシ〕−1−
チオオキサミダート、N−(2−メチルクロルフェニル
) −y、N′−ジメチルホルムアミジン、 テトラクロルチオフェン、 1− [2,6−ジフルオルーベンゾイルンー3−(4
−クロルフェニルンー尿素、 0.0−ジメチル−〇−(p−ニトロフェニルノーホス
ホルチオエート、 o、o−ジエチル−〇−(p−ニトロ7′エニルフ−ホ
スホルチオエート、 0−エチル−〇−(p−ニトロフェニルンーフェニルー
ホスホノチオエート、 0.0−ジメチル−〇−(3−メチル−4−ニトロフェ
ニルノーホスホルチオエート、 0.0−ジエチル−〇 −(2,4−ジクロル7二二ル
ンーホスホルチオエート、 0−エチル−〇 −(2,4−ジクロルフェニルンーフ
ェニルーホスホノチオエート、 0.0−ジメチル−〇 −(2,4,5−)リクロルフ
ェニル】−ホスホルチオエート、 0−エチル−〇 −(2,4,5−トリクロル7二二ル
)−エチル−ホスホルチオエート、 0.0−ジメチル−〇−(4−ブロム−2,5−ジクロ
ルフェニルンーホスホルチオエート、o、o−ジメチル
−〇 −(2,5−ジクロル−4−ヨード7二二ルフー
ホスホルチオエート、o、o−ジメチル−〇−(3−メ
チル−4−メチルチオフェニルノーホスホルチオエート
、0−エチル−〇−(3−メチル−4−メチルチオフェ
ニル]−イソプロピル−ホスホルアミダート、 0.0−ジエチル−〇−(p−メチルスルフィニル−フ
ェニル)−ホスホルチオエート、0−エチル−8−フェ
ニルエチルーホスホノジチオエート、 o、o−ジエチル−〔2−クロル−1−(2,4−ジク
ロルフェニル)−ビニルコーホスフエート、o、o−ジ
メチル−〔2−りpルー1− (2,4,5−トリクロ
ルフェニル)−ビニルコーホスフエート、 o、o−ジメチル−3−(1’−フェニル)−エチルア
セテート−ホスホルジチオエート、ビス−(ジメチルア
ミノン−フルオルホスフィンオキシト、 オクタメチル−ピロホスホルアミド、 o、o、o、o−テトラエチルジチオ−ピロホスフェー
ト、 S−クロルメチル−〇、O−ジエチル−ホスホルジチオ
エート、 0−エチル−8,S−ジプロピル−ホスホルジチオエー
ト、 0.0−ジメチル−〇 −2,2−ジクロルビニル−ホ
スフェート、 0.0−ジメチル−1,2−ジブロム−2,2−ジクロ
ルエチルホスフェート、 o、o−ジメチル−2,2,2−)リクロA/−1−ヒ
ドロキシ−エチルホスホネート、 0.0−ジメチル−s −(1,2−ビスカルボエトキ
シ−エチル−(1))−ホスホルジチオエート、0.0
−ジメチル−〇−(l−メチル−2−カルボメトキシ−
ビニル)−ホスフェート、0.0−ジメチル−8−(N
−メチル−カルバモイル−メチルノーホスホルジチオエ
ート、0.0−ジメチル−3−(N−メチルカルバモイ
ル−メチル)−ホスホルチオエート、 0.0−ジメチル−8−(N−メトキシエチルーカルバ
モイルメチルンーホスホルジチオエート、0.0−ジメ
チル−8−(N−ホルミル−N−メチル−カルバモイル
−メチル)−ホスホルジチオエート、 0.0−ジメチル−〇−〔1−メチル−2−(メチル−
カルバモイル)−ビニルコーホスフエート、o、o−ジ
メチル−0−((1−メチル−2−ジメチルカルバモイ
ルツービニル〕−ホスフェート、0.0−ジメチル−〇
−((1−メチル−2−クロル−2−ジエチルカルバモ
イルツービニル〕−ホスフェート、 0.0−ジエチル−5−(エチルチオメチルツーホスホ
ルジチオエート、 0.0−ジエチル−8−((p−クロルフェニルチオ]
−メチル〕−ホスホルジチオエート、OO−ジメチル−
3−(2−エチルチオエチル)−ホスホルチオエート、 0.0−ジメチル−8−(2−エチルチオエチル)−ホ
スホルジチオエート、 0.0−ジメチル−8−(2−エチルスルフイニルーエ
チルンーホスホルチオエート、 0.0−ジエチル−3−(2−エチルチオ−エチルツー
ホスホルジチオエート、 0.0−ジエチル−8−(2−エチルスルフィニル−エ
チルツーホスホルチオエート、 0.0−ジエチル−(チオホスホリルイミノ7エ二ル)
−アセトニトリル、 0.0−ジエチル−8−(2−クロル−1−フタルイミ
ドエチルツーホスホルジチオエート、0.0−ジエチル
−8−〔6−クロル−ベンゾオキサシロン−(2)−イ
ル(3))−メチルジチオホスフェート、 0.0−ジfi+h−S −(2−;I )キシ−1,
3,4=チアジアゾール−5−(4H)−オンイル−(
4)−メチルツーホスホルジチオエート、0.0−ジエ
チル−〇 −(3,5,6−トリクロルーピリジルー(
2))−ホスホルチオエート、0.0−ジエチル−〇−
(2−ピラジニル)−ホスホルチオエート、 0.0−ジエチル−〇−〔2−イソプロピル−4−メチ
ルピリミジニル(6))−ホスホルチオエート、 0.0−ジエチル−〇−(2−(ジエチルアミノン−6
−メチル−4−ピリミジニルシーチオノホスフェート、 0.0−ジメチル−8−(4−オキソ−1,2,3−ベ
ンゾトリアジン−3−(4H”l−イル−メチルツーホ
スホルジチオエート、 o、o−ジメチル−S −((4,S−ジアミノ−1゜
3.5− )リアジン−2−イルンーメチル〕−ホスホ
ルジチオエート、 o、o−ジエチル−(1−フェニル−1,2,4−トリ
アゾール−3−イル)−チオノホスフェート、02S−
ジメチル−ホスホル−アミドチオエート、02S−ジメ
チル−N−ア七チル−ホスホルアミドチオエート、 7 /l/ 77−−へキサクロルシクロヘキサン、1
.1−ジー(p−メトキシフェニル) −2,2,2−
トリクロル−エタン、 6.7,8,9,10.10− ヘキサクロル−1,5
,5a、6,9゜9&−へキサヒドロ−6,9−メタノ
−2,4,3−ベンゾジオキサ−チェピン−3−オキシ
ド、ピレトリン、 DL −2−アリル−3−メチル−シクロペンテン−(
2)−オン−(1)−イル−(4) −DL−シス、−
トランスークリサンテメート、5−べアリル−71Jル
ー(3)−メチル−DL−シス、−トランスークリサン
テメート、3−フェノキシベンジン(±]−シス、−ト
ランス−2,2−ジメチル−3−(2,2−ジクロルビ
ニル)−シクロプロパンカルボキシレート、アルファー
−シアノ−3−フェノキシベンジルt±)−シス、−ト
ランス−2,2−ジメチル−3−(2,2−ジクロルビ
ニルノーシクロプロパンカルボキシレート、 (S)−アルファー−シアノ−3−フェノキシベンジル
−シス(I R、3R) −2,2−ジメチル−3−(
2,2−ジブロムビニルツーシクロプロパンカルボキシ
レート、 3.4,5.6−チトラヒドロ7タルイミドエチルーD
L−シス、−トランスークリサンテメート、2−メチル
−5−(2−プロピニル)−3−7リルメチルークリサ
ンテメート、 (アルファー−シアノ−3−フェノキシベンジル)−ア
ルファー−イソプロピル−4−クロルフェニルアセテー
ト。
製造実施例
実施例 1
2−メチル−4−フェニル−5−p−クロルフェノキシ
−5,6−シヒドロビラン 攪拌機、温度計、還流冷却器及びガス導入管を備えた4
つ首フラスコに、窒素雰囲気下で環化付加ya−笑施す
る。2ノ7ラスフに、4−クロルフェニル−ビニルエー
テル2モル(309t )及びベンザルアセトン2モル
(292f )χ導入する。重合安定剤として、ヒドロ
キノンIIF及び場合により生成する酸性化合物を捕獲
するために炭酸ナトリウム0.5f’g添加する。該反
応混合411’攪拌下に200°Cに加熱する。それぞ
れ6時間の反応時間後後に、GO測測定ために試料7ラ
スフかも試yf+”r取り吊子。
−5,6−シヒドロビラン 攪拌機、温度計、還流冷却器及びガス導入管を備えた4
つ首フラスコに、窒素雰囲気下で環化付加ya−笑施す
る。2ノ7ラスフに、4−クロルフェニル−ビニルエー
テル2モル(309t )及びベンザルアセトン2モル
(292f )χ導入する。重合安定剤として、ヒドロ
キノンIIF及び場合により生成する酸性化合物を捕獲
するために炭酸ナトリウム0.5f’g添加する。該反
応混合411’攪拌下に200°Cに加熱する。それぞ
れ6時間の反応時間後後に、GO測測定ために試料7ラ
スフかも試yf+”r取り吊子。
各時間後の反応率
2時間後 4.5%
8時間後 13.7%
16時間後 24.9%
22時間後 30.8%
28時間後 39.0%
34時間後 44.1%
その後、反応混合?’JY2バールの圧力で分溜するこ
とにより分離する。
とにより分離する。
移行温度/塔底温度で以下のフラクションが得られる:
13 140″C/184℃ 197f2) 17
0℃/188℃ 12?3) 178 ”C/ 2
00 ”CIO2r4) 185°C/214°C4
325) 195 ”C/ 290 ”C116fフ
ラクション1)は両者の装入物質から成る。
0℃/188℃ 12?3) 178 ”C/ 2
00 ”CIO2r4) 185°C/214°C4
325) 195 ”C/ 290 ”C116fフ
ラクション1)は両者の装入物質から成る。
7ラクシヨン2ンは環化付加生成物約50%十装入物質
から成る。
から成る。
7ラクシヨン3ン及び4)は97.5%以上が環化付加
生成物から成る。
生成物から成る。
7ラクシヨン5)は所望の反応生成物78%の他に分解
成分を含有する。
成分を含有する。
H−NMR分析は、環化付加生成物が%までトランス化
合物から成りかつ約%までがシス化合物から成ることχ
示す。数週間放置すると、3】及び4ンが晶出する。メ
タノールから再結晶させると、46〜64℃の融点が確
認される。両者の立体異性体の分P@は達成することが
できなかった。
合物から成りかつ約%までがシス化合物から成ることχ
示す。数週間放置すると、3】及び4ンが晶出する。メ
タノールから再結晶させると、46〜64℃の融点が確
認される。両者の立体異性体の分P@は達成することが
できなかった。
実施例 2
4−フェニル−2−(2’−メチル−17L 3/−ジ
オキソテニル−4′−メチルンーテトラヒドロビランケ
イ皮アルデヒド及び2−メチル−4−ピノキシルメチル
−1,3−ジオキソラン(4−フェニル−6−(2’−
メチル−1′、3′−ジオキソテニル−4−メチル)
−5,6−シヒドロピラン】から成る環化付加生成物3
5 f Yテトラヒドロ7ラン90P中に溶かしかつ水
素化触媒としてパラジウム/木炭触媒(木炭上P(11
0%) 1 t’g:添加する。水素化はオートクレー
ブ(300+dJ中で攪拌下に40℃で40バールの水
素圧下で実施する。5時間の反応時間で水素吸収(25
バール]が確認される。水素吸収の終了後に、オートク
レーブχ冷却しかつ残留水素量をガス抜ぎする。懸濁し
た触媒ン濾別しかつ溶剤を除央する。無色のシロップ状
物質が残留する。NMR−及び工Rスペクトルは、テト
ラヒドロビラン化合物(T)の存在を示す。NMR分析
によれば、テトラヒドロピラン環の置換基の60%はト
ランス形で存在し、その残りはシス形で存在する。
オキソテニル−4′−メチルンーテトラヒドロビランケ
イ皮アルデヒド及び2−メチル−4−ピノキシルメチル
−1,3−ジオキソラン(4−フェニル−6−(2’−
メチル−1′、3′−ジオキソテニル−4−メチル)
−5,6−シヒドロピラン】から成る環化付加生成物3
5 f Yテトラヒドロ7ラン90P中に溶かしかつ水
素化触媒としてパラジウム/木炭触媒(木炭上P(11
0%) 1 t’g:添加する。水素化はオートクレー
ブ(300+dJ中で攪拌下に40℃で40バールの水
素圧下で実施する。5時間の反応時間で水素吸収(25
バール]が確認される。水素吸収の終了後に、オートク
レーブχ冷却しかつ残留水素量をガス抜ぎする。懸濁し
た触媒ン濾別しかつ溶剤を除央する。無色のシロップ状
物質が残留する。NMR−及び工Rスペクトルは、テト
ラヒドロビラン化合物(T)の存在を示す。NMR分析
によれば、テトラヒドロピラン環の置換基の60%はト
ランス形で存在し、その残りはシス形で存在する。
実施例 3
4−フェニル−6−(2’−メチル−1′、3′−ジオ
キソテニル−4′−メチル) −5,6−シヒドロピラ
ン ケイ皮アルデヒド792 t (6モルフ及び2−メチ
ル−4−ビニルオキシメチル−1,3−ジオキソラン8
89?及びヒドロキノン2tかう成る混合物73ノオー
トクレープ中で窒素下で190℃に9時間加熱する。該
反応混合物を短路分溜により精製丁ル。1バールで14
2〜198℃で97%以上のD963?が移行する。前
留出物中にDが更に112を及び後留出甥中に更に15
6fが存在する。蒸留残渣&X90fである。ケイ皮ア
ルデヒド及びビニルエーテルに対する選択性は73.8
%及び71.2%である。この際、前留出物中になお存
在したアルデヒドとビニルエーテルの成分に考慮しなか
った。
キソテニル−4′−メチル) −5,6−シヒドロピラ
ン ケイ皮アルデヒド792 t (6モルフ及び2−メチ
ル−4−ビニルオキシメチル−1,3−ジオキソラン8
89?及びヒドロキノン2tかう成る混合物73ノオー
トクレープ中で窒素下で190℃に9時間加熱する。該
反応混合物を短路分溜により精製丁ル。1バールで14
2〜198℃で97%以上のD963?が移行する。前
留出物中にDが更に112を及び後留出甥中に更に15
6fが存在する。蒸留残渣&X90fである。ケイ皮ア
ルデヒド及びビニルエーテルに対する選択性は73.8
%及び71.2%である。この際、前留出物中になお存
在したアルデヒドとビニルエーテルの成分に考慮しなか
った。
実施例 4
2−ホルミル−4−フェニル−6−(p−クロル−フェ
ノキシフ−テトラヒドロビラントランス−4−フェニル
−6−′p−クロル7エ/+シー5.6−ジヒド0−4
H−ビ572509(ケイ皮アルデヒド及びp−クロル
フェニル−ビニルエーテルから製造し、エタノールから
再結晶させることにより精製、融点98”C)Y)ルエ
ン3soo を中に溶か丁。この溶液に酸化炭素と水素
との反応のための触媒としてロジウム−シクロオクタジ
ェニル−クロリド250 qχ加える。
ノキシフ−テトラヒドロビラントランス−4−フェニル
−6−′p−クロル7エ/+シー5.6−ジヒド0−4
H−ビ572509(ケイ皮アルデヒド及びp−クロル
フェニル−ビニルエーテルから製造し、エタノールから
再結晶させることにより精製、融点98”C)Y)ルエ
ン3soo を中に溶か丁。この溶液に酸化炭素と水素
との反応のための触媒としてロジウム−シクロオクタジ
ェニル−クロリド250 qχ加える。
該反応混合物”k 10 jのオートクレーブ中に充填
する。オートクレーブ乞窒素で洗浄しかつ室温で同じ部
の一酸化炭素と水素の混合物ン1:1の容量比で50バ
ールの圧力まで圧縮する。次いで、オートクレーブの攪
拌機を始動させ(磁気攪拌機)かつオートクレーブχ加
熱することによりlOO”Cの内部温度に調整する。該
反応温度が達成された後に、ガス混合物の圧力を650
バールにする。この反応条件下で、ヒドロホルミル化反
応は18時間で殆ど完全に達成される。引き続き、加熱
装置を遮断しかつ40 ’Cに冷却した後になおオート
クレーブ中に残った残留ガスを放圧する。
する。オートクレーブ乞窒素で洗浄しかつ室温で同じ部
の一酸化炭素と水素の混合物ン1:1の容量比で50バ
ールの圧力まで圧縮する。次いで、オートクレーブの攪
拌機を始動させ(磁気攪拌機)かつオートクレーブχ加
熱することによりlOO”Cの内部温度に調整する。該
反応温度が達成された後に、ガス混合物の圧力を650
バールにする。この反応条件下で、ヒドロホルミル化反
応は18時間で殆ど完全に達成される。引き続き、加熱
装置を遮断しかつ40 ’Cに冷却した後になおオート
クレーブ中に残った残留ガスを放圧する。
該反応混合P#Jχ溶剤(トルエン)を溜去することに
より濃縮する。粘液状のシロップが残留し、該シロップ
は長時間放置すると一部分結晶する。
より濃縮する。粘液状のシロップが残留し、該シロップ
は長時間放置すると一部分結晶する。
このNMR及びまた工Rスペクトルは、実際にオレフィ
ンはもはや存在しないことを示す。アルデヒドプロトン
は9.6 ppmで信号を発生し、OO帯は1737で
ある。粗製生成物中に残留する触媒(ロジウム錯体]の
割合は、それ以後の反応を妨害しない。
ンはもはや存在しないことを示す。アルデヒドプロトン
は9.6 ppmで信号を発生し、OO帯は1737で
ある。粗製生成物中に残留する触媒(ロジウム錯体]の
割合は、それ以後の反応を妨害しない。
実施例 5
2−アミノメチル−4−7二二ルー6−p−クロルフェ
ノキシ−5,6−チトラヒロビラン51の磁気攪拌式オ
ートクレーブ中で、エタノール500 f及びラネー・
コバル) 50 f ’l装入する。。
ノキシ−5,6−チトラヒロビラン51の磁気攪拌式オ
ートクレーブ中で、エタノール500 f及びラネー・
コバル) 50 f ’l装入する。。
オートクレーブを気密性を確かめた後に窒素で洗浄する
。引き続き、アンモニア5oort圧入する。
。引き続き、アンモニア5oort圧入する。
オートクレーブt110℃の温度に加熱しかつ水素を圧
入することにより150バールの圧力に調整するO 6時間の経過後に、反応混合P#J’!a’攪拌しなが
らテトラヒドロ7ラン400 f中の2−ホルミル−4
−フェニル−6−p−クロルフエノキシーテトラヒロヒ
ラン200 fの溶液をオートクレーブ中に圧入する。
入することにより150バールの圧力に調整するO 6時間の経過後に、反応混合P#J’!a’攪拌しなが
らテトラヒドロ7ラン400 f中の2−ホルミル−4
−フェニル−6−p−クロルフエノキシーテトラヒロヒ
ラン200 fの溶液をオートクレーブ中に圧入する。
圧入導管ン洗浄するために、エタノール100 f ”
If:後から圧入する。圧入の終了後に、オートクレー
ブ中の反応混合物乞前記反応条件下に更に6時間保持す
る。
If:後から圧入する。圧入の終了後に、オートクレー
ブ中の反応混合物乞前記反応条件下に更に6時間保持す
る。
オートクレーブ加熱装置ヲ遮断しかつ40′Cに冷却し
た後に、なおオートクレーブ中に存在する水素を放圧す
る、その際過剰のアンモニアの一部も放散する。その後
、液状反応生成物をオートクレーブから取り出て。蒸留
装置で、減圧下にアンモニア、テトラヒドロフラン及び
エタノールヲ分離しかつ引き続きアミン化する水素添加
の際に形成された水を、0.05バールの圧力で80℃
の塔底温度まで溜去する。NMR及び工Rスペクトルは
約75%のアミンの存在を示す〇 実施例 6 2−アミノメチル−4−フェニル−6−p−クロルフェ
ノキシーテトラヒロドビランの製造り上 実施例5に基づき得られたアミン40 f ’Y 、エ
タノール502中に溶かしかつエタノール中の塩化水素
溶液で中和させる。−晩装置すると、良好に結晶したア
ミンの塩酸塩14 fが単一の結晶生成物(融点160
”C)として得られる。NMR及び工Rスペクトルは塩
の存在を証明する。
た後に、なおオートクレーブ中に存在する水素を放圧す
る、その際過剰のアンモニアの一部も放散する。その後
、液状反応生成物をオートクレーブから取り出て。蒸留
装置で、減圧下にアンモニア、テトラヒドロフラン及び
エタノールヲ分離しかつ引き続きアミン化する水素添加
の際に形成された水を、0.05バールの圧力で80℃
の塔底温度まで溜去する。NMR及び工Rスペクトルは
約75%のアミンの存在を示す〇 実施例 6 2−アミノメチル−4−フェニル−6−p−クロルフェ
ノキシーテトラヒロドビランの製造り上 実施例5に基づき得られたアミン40 f ’Y 、エ
タノール502中に溶かしかつエタノール中の塩化水素
溶液で中和させる。−晩装置すると、良好に結晶したア
ミンの塩酸塩14 fが単一の結晶生成物(融点160
”C)として得られる。NMR及び工Rスペクトルは塩
の存在を証明する。
実施例 7
2−(3’−フルオルフェノキシ)−4−フェニル−6
−(4−クロルフェノキジン子トラヒロドピラン 2−(4−クロルフェノキシ)−4−フェニル−2,3
−ジヒトリビラン14.3 f″4t4tジオキサフ6
0部中フルオルフェノール5.6部及び1粒の結晶のp
−)ルエンスルホン酸Z加えかつ室温で12時間攪拌す
る。その後、炭酸ナトリウムで中和し、濾過しかつ溶剤
乞除去する。得られた残留物(20,2部)を中性のシ
リカゲル上でトリエンで精製する。
−(4−クロルフェノキジン子トラヒロドピラン 2−(4−クロルフェノキシ)−4−フェニル−2,3
−ジヒトリビラン14.3 f″4t4tジオキサフ6
0部中フルオルフェノール5.6部及び1粒の結晶のp
−)ルエンスルホン酸Z加えかつ室温で12時間攪拌す
る。その後、炭酸ナトリウムで中和し、濾過しかつ溶剤
乞除去する。得られた残留物(20,2部)を中性のシ
リカゲル上でトリエンで精製する。
200− MHz −NMR−スペクトル、0DO1,
中(ppm ) :1.9 − 2.4 (4H)
: 3.4 − 4.0 (I H)
:5.55 − 5.9 (I H)
: 5.9 − 6.0 (I H): 6
.4−7.5 (13H)。
中(ppm ) :1.9 − 2.4 (4H)
: 3.4 − 4.0 (I H)
:5.55 − 5.9 (I H)
: 5.9 − 6.0 (I H): 6
.4−7.5 (13H)。
実施例 8
2− < 47−クロルフェノキシ)−4−7エニルー
6−+ 2’−ヒドロキシ7°ロペー2′−エニル】−
テトラヒドロビラン テトラヒドロフラン中の1.7モルの塩化ビニルマグネ
シウム溶液70.6容量部710〜20″Cでテトラヒ
ドロ7ラン80部中の2− (4’−クロルフェノキシ
)−4−フェニル−6−ホルミルテトラヒドロビラン3
1.7部の溶液に加える。その後1室温で8時間更に攪
拌し、氷水ン加えかつHOlで酸性にする。エーテルで
抽出した後に、有機物質を硫酸ナトリウムで乾燥しかつ
溶剤を除去する0残留物(33部)として、淡黄色の油
状物が得られ、該生成物をニジリカゲル上で精製するこ
とかできる。
6−+ 2’−ヒドロキシ7°ロペー2′−エニル】−
テトラヒドロビラン テトラヒドロフラン中の1.7モルの塩化ビニルマグネ
シウム溶液70.6容量部710〜20″Cでテトラヒ
ドロ7ラン80部中の2− (4’−クロルフェノキシ
)−4−フェニル−6−ホルミルテトラヒドロビラン3
1.7部の溶液に加える。その後1室温で8時間更に攪
拌し、氷水ン加えかつHOlで酸性にする。エーテルで
抽出した後に、有機物質を硫酸ナトリウムで乾燥しかつ
溶剤を除去する0残留物(33部)として、淡黄色の油
状物が得られ、該生成物をニジリカゲル上で精製するこ
とかできる。
300− MH2−NMR−スペクトル、0DOI 、
中(ppm ) :1.6 − 2.5 (2H)
: 3.2 − 3.8 (I Hン
:3.65−4.4 (I H) : 3.9 (O
H) : 4.95−5.9 (4H) : 6.9−
7.1 (2H) : 7.2− 7.6 (7Hン
。
中(ppm ) :1.6 − 2.5 (2H)
: 3.2 − 3.8 (I Hン
:3.65−4.4 (I H) : 3.9 (O
H) : 4.95−5.9 (4H) : 6.9−
7.1 (2H) : 7.2− 7.6 (7Hン
。
実施例 9
2− (4’−クロルフェノキシ)−4−フェニル−6
−(1’−フェニルアミノカルボキシプロペ−!−エニ
ルンーテトラヒドロピラン トルエン100i中の2− (4’−クロルフェノキシ
)−4−7二二ルー6− (1’−ヒドロプロペ−2−
エニルンーテトラヒドロピラン6−9 部K フェニル
イソシアネート2.4部及びトリエチルアミン3滴を加
えかつ60”Cで5時間攪拌する0次いで1溶剤χ除去
しかつ淡黄色油状物9部が得られ、該油状物はシリカゲ
ル上でトルエンで精製することかできる。
−(1’−フェニルアミノカルボキシプロペ−!−エニ
ルンーテトラヒドロピラン トルエン100i中の2− (4’−クロルフェノキシ
)−4−7二二ルー6− (1’−ヒドロプロペ−2−
エニルンーテトラヒドロピラン6−9 部K フェニル
イソシアネート2.4部及びトリエチルアミン3滴を加
えかつ60”Cで5時間攪拌する0次いで1溶剤χ除去
しかつ淡黄色油状物9部が得られ、該油状物はシリカゲ
ル上でトルエンで精製することかできる。
300−MHz−NMR−スペクトル、GDGI3中(
ppm ) :1.6 − 2.3 (2Hン
: 3.2 − 3.6 (I H) :
3.7−4.3 (I H) : 5.0−5.4 (
I H) :5.3 − 5.9 (3Hン :
6.9 − 7.1 (2H) ニア、
1−7.6 (12H)。
ppm ) :1.6 − 2.3 (2Hン
: 3.2 − 3.6 (I H) :
3.7−4.3 (I H) : 5.0−5.4 (
I H) :5.3 − 5.9 (3Hン :
6.9 − 7.1 (2H) ニア、
1−7.6 (12H)。
実施例 10
2−メチルプロピオン酸−1−(2’ (4”−クロ・
ルフェノキシ)−4′−フェニル−テトラヒドロビラン
−6−イル〕−プロペ−2−エニルエステルトルエンZ
oo 部中の2− (4’−クロルフェノキシ)−4−
フェニル−6−(1’−ヒドロキシプロヘ−2−エニA
/ ) −7トラヒドロピラン6.3部にトリエチルア
ミン3部、次いで滴下式に10〜20 ”Cで2−メチ
ルプロピオン酸クロリド2.3部を加える。室温で攪拌
した後に、良好に水で洗浄し、硫酸ナトリウム上で乾燥
しかつ濃縮する。淡黄色の油状@ 6.9部が得られる
。
ルフェノキシ)−4′−フェニル−テトラヒドロビラン
−6−イル〕−プロペ−2−エニルエステルトルエンZ
oo 部中の2− (4’−クロルフェノキシ)−4−
フェニル−6−(1’−ヒドロキシプロヘ−2−エニA
/ ) −7トラヒドロピラン6.3部にトリエチルア
ミン3部、次いで滴下式に10〜20 ”Cで2−メチ
ルプロピオン酸クロリド2.3部を加える。室温で攪拌
した後に、良好に水で洗浄し、硫酸ナトリウム上で乾燥
しかつ濃縮する。淡黄色の油状@ 6.9部が得られる
。
300− MH2−NMR−スペクトル、0DO1j中
(ppm ) :1.0− 1.4 + 2 H)
: 1.8−2.2 (2H) :2.4−2
.8 + I H) : 3.2−3.6
(I H) :3.7−4.05 (I H)
: 5.0−5.9 (4H): 6.8−7.1
(2H) : 7.1−7.4 (7H)。
(ppm ) :1.0− 1.4 + 2 H)
: 1.8−2.2 (2H) :2.4−2
.8 + I H) : 3.2−3.6
(I H) :3.7−4.05 (I H)
: 5.0−5.9 (4H): 6.8−7.1
(2H) : 7.1−7.4 (7H)。
実施例 11
2− (4’−クロルフェノキシ)−4−フェニル−6
−(2’(4−シアノフェニル)ビニル〕−テトラホド
ロピラン 水素化ナトリウム(パラフィン中80%)3.6部乞ジ
メチルスルホキシド(DMSO) 100部中に装入し
かつ10〜15℃でDMSOZoo i Cl’lの4
−シアノベンジルホスホン酸−ジエチルエステル25.
3部の溶液を加える。更に、50 ’Cで1時間攪拌し
、次いでDMSO150−中の2−(4−クロルフェノ
キシ)−4−フェニル−6−ホルミルーチトラヒドロビ
ラン31.7部χ加える。50 ”Cで5時間攪拌した
後に、水に注入しかっHOIで酸性化する。析出した沈
澱gJχ吸引濾過しかつ水及び石油エーテルで洗浄する
。融点134”C’!a’有する結晶状物質38.5f
が得られる。
−(2’(4−シアノフェニル)ビニル〕−テトラホド
ロピラン 水素化ナトリウム(パラフィン中80%)3.6部乞ジ
メチルスルホキシド(DMSO) 100部中に装入し
かつ10〜15℃でDMSOZoo i Cl’lの4
−シアノベンジルホスホン酸−ジエチルエステル25.
3部の溶液を加える。更に、50 ’Cで1時間攪拌し
、次いでDMSO150−中の2−(4−クロルフェノ
キシ)−4−フェニル−6−ホルミルーチトラヒドロビ
ラン31.7部χ加える。50 ”Cで5時間攪拌した
後に、水に注入しかっHOIで酸性化する。析出した沈
澱gJχ吸引濾過しかつ水及び石油エーテルで洗浄する
。融点134”C’!a’有する結晶状物質38.5f
が得られる。
以下の表に記載の物質は総て前記実施例に記載の相応す
る変更により製造された。第1〜4表の化合物は立体異
性体の混合物である(mち、一般に複数の掌性中心が存
在する]ので、精確な融点は生じないが、一般に油状液
体が問題となる;化合物の構造は、それぞれ工R及びN
MR分析を用いて確認した。
る変更により製造された。第1〜4表の化合物は立体異
性体の混合物である(mち、一般に複数の掌性中心が存
在する]ので、精確な融点は生じないが、一般に油状液
体が問題となる;化合物の構造は、それぞれ工R及びN
MR分析を用いて確認した。
4 の D On
O! 工 0II 閑 国 工 エ エ
閤 工 エ エ 11)頴OII エ エ 二
二 1)工 閤 工 国 国 甫 1)工 田
−++I x F−11m −画−I+IT+I
−Nへへへ叩 Oの の り Φ
Oり閤 悶 閃 工 工 1) 工 閤 工
エ エ 閑 工 工 エ エ工 工 工 閑 工
閤 閤 工 工 工 工 工 悶 工
工 工bN&N&N&NmVbNR1j;’UiIJ
NJCIJC−ン17Jaノ7フσ1工O1+ 国
OII エ エ 工 エ エ 工 開開 工 国
工 閃田図 国 工 工 国 工 工 国 頴 1)
国4 工 1)閃 4工101I:1工 工 工
1)工 1) 図工工0II′53工 1) 1 国
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国 閏 4−ロ 啼 Φ Φ 一ト5a′1 1962−メチルプロピル Br 300
MHz/3.74197 4−クロルフェニル
OL 300 MHz15.60198 4
−クロルフェニル Br 300 M
Hz/3.98表4 1994−り一リt=ル HH(H。
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2002−メチルクーヒル HH4−クロル7ユーー
シ 300 MHz/6.672014−クロルフ
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00 MHz15.18202 s
HH4−Z17エちル 200 MHz/4.60
203 tt HH2−り巨ル7工
ちル 300 MHz/6.77204 t
t HHアミル 300 MHz
/4.79206 /l Hi(O
H1、300MHz/6−46207
a Hl(エト+>ブシtdC=
Iし208s H)14−りoルフ!ム
RI Ha RA 物
理データ2094−メトキシ7x二iv H
)i Kp4−155−160 ℃2i0 4−ジフ
ェニル HHKP2−236−345℃
211 4−フルオルフェニル H)I F
P−92−95℃212 ンエ−S/L/
HHFp−85−10302134−1−
チ、/I/7x二x HHFp −9
0−91℃214 4−フル1x)x=AI
HHKll+4−170−175 C2154−メチル
フェニル(トランス)HHFp−68−96℃216
t (シス) HHFp−5
5−67℃217 4−りl:l /u 7 ! ニル
(i、ランス) HHFp −97−100C2
181(7ス) HHFp−53−66C2194
−7!/キシ7x二y HHKp2−214−
230 ℃2204−りoyフx二y
CH,HKp2−205−215℃221 2−メツシ
レー4−クロルフ! ans HKP、−
195−210C2222,4−ジクox7エ=x
CH3HKp2−200−223℃223 4
−tart、−フチルフエちル cHs II
Kp、−162℃224 2.5−ジメチ#
CH3HKpa−222℃225 3−り
cxxフx=y CH3HKp2−18
b−190℃226 2.4−シメテJ’フェニk
Cki3 HKpm−170−2001;2
27 4−メチルフェニル ”3 HK
pz −16L) ℃228 4−7’ トキシ7工=
ル cas HKp4−190−200 C
229 4−7/にオxフx−−x C!H3
HKN −200C230フェニx
OH3HKp4−170−172℃231 4−エ
チルフェニk CHB HKN −186
−195℃233 4−クロ、ルフェニル
1(H2342,4−ジクロ・ルフェニ、ル HH
Fp−83−85℃235 2−メチル−4−クロ九り
1シ一ν HHFp−131−134℃23b 4
−クール−3−メチ九りエちル 11 HFp
−176−178℃237 24ak7L二Jb
HHKN ”’180−190C2382−ク
ロ、ルフェニル(シス) I(HFp−58−59
℃239 2−りo/l/7エ=y(トpンス→ HH
Fp−99−106℃240 4−tart、−ブチ
4ルフェニル HHPp−151−156℃244
2.4−ジメチルフエちル HHFp−77−114
℃2454−メチx7x=x HHFp
−95−9602462−フルオルフェニ、ル
HHKp2−146−156℃ン万ヤノフ;/−b−
111’ ラン−5−メチ、ル メチル 257 メチル HHKイー13
5−138℃258 メチル(トランス)
HHKpH−107℃259 メチル(シス)
HHK丙−111℃2b02−メチルクロビル
HHKP!−93℃2bl イソプロピル
(シス) nu Kpm−84−85℃
2b2 イノプロヒル()7ンス) HHfp
2− 80 C263n−ブチル(シス)
HHKplB−140’c264 n−ブチル(トラン
ス) HHLps−140−141c2b5 2
−メチ、ルプロヒル(シス) HHKp2−1t1
8℃267 2−エチルヘキシル(シス)HHKp五−
140℃269 n−オクチル HHK
p −150−156’C2704−メチA/シクロ
ヘキシJ’ HaHI KN −13Q−14
5℃272 2−7エちルシクロヘキシ、ル HC
!H3Kpx −190−210℃273 ベンジル
HC!H3KPS −180−1
87℃274 3−フェノキシベンジル HCHs
Kpz −220−230℃275 フェネチ
ル HCiH3に贈−160−168
℃276 2−フ二二、シクロビル HCki
s Kpz−150−175℃277 3−フェ
ニルプロピル HOH3KPz −160−16
8℃279 3−フェニルブチル HCH3
KPS −195−210℃280 3.7−シスチル
オクチル HHKps −196−206℃281
3.7−シスチルーオクト HHKp4−175
−180℃−6−ニンーイル 282 n−ドデシル HHKp4
−196−198℃283 2.5.9−トリメチル
−HHKpm −192−220℃デス−4−エン−1
−イ、ル ソランー5−メチル 256 テトラヒドロ7フンー3− kl C
)13 K趨−15υ−158℃メチル 287 2−メチル−5−エナルー1.3 H(H
3K贈−157−170℃−シフr千ブンー5−メチ、
ル 288 2−メーj’−#−1.3−ジオキソ H
CHs Kp2−147−160℃ラン−5−メ
チル(シスン 289 2.2−ジメチル−1,3−HCHm
Kp2−155−170℃ジオキソクン−5−メチ、ル 2’10 2,5−ジメチル−1,3−HOR3KN
−155℃ジオキソラン−5−メチル 2’jl 2j2−2ビロシクロヘキ HCHs
xp寞−190−210℃シ、ルーb−エテル
ー1,3− ジオキソラン−5−メチル ノー4−メナル 293 2−フェニル−1,3−ジ HCH3Kp
2−190−21b℃オキソランー4−メナル ランー5−メチル 295 2−フェニル−2−メチル−Hロ13
Kp2−200−230℃5−エチル−1,3−ジオキ ソラン−5−メチ、ル ランー5−メチル 297 2−tart、−ブナルー1.3− HC
J43 Kpm −176℃ジオキソラン−5−メ
チ、ル 298 2−イソプロピル−1,3−110H3Kp、
−130−150℃ジオキソラン−b−メチル 299 2−メチル−1,4−ジオキ HCH3Kp
2−138)−140℃ソラン−3−メチル 300 z、2−スピロシクロペン HCH3Kp
2−151J−1b3Cチル−1,3−ジオキソクン −5−メチ、ル 3(Jl ベンジル HM
Kp4−188−20θC3032−メチル−2−
7エネチル HHKpgs−162−164℃305
3−フェニルプロピル HHxpl−182−1
84℃307 3−フェノキシブチル HHKP
!−215−220℃308 シクロヘキシ、ル(シス
)hnxp宜−150℃309 #
(トランC夷) )i HK
Pz−145℃311 4−メチ、ルシクoヘキVx
HHKpm−185℃チ、ル 313 2−フェニルシクロヘキンル HHKpm−2
04−210℃314 エトキシエチ、ル
HHxp、−135−10℃315 エトキシエト
キシエトキシ li HKpm−185−187℃−
エチル 316 ブトキシエトキシ−エチル HHKpos−1
68c317 2−メチル−1,3−ジオキ HHK
pa −155−170℃ソラン−5−メチ、ル 318 テトラヒドロフラン−2−HHKpos−1
46−150℃メチル 319 2−メチル−1,3−ジオキ HHKp冨−
150−155℃サン−5−メチル(トランスノ 320 2−メチ、ルー1,3−ジオ HH入ガー
150−155℃キサン−5−メチル(シス) メチ、ル ジオキソラン−5−メチル 一メチ、ル ジオキサン−5−メチル メチル 5−メチル チル ナル −5−メチル 一メチル オキソラン−5−メチル キサン−5−メチ、ル キサンー5−メチ・ル 345 2.4−ジクロルフェニル H(H3Kp
H−181−201℃349 ベンジル
HaH。
シ 300 MHz/6.672014−クロルフ
ェール )1)L l−プ5リリν 3
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−196−198℃283 2.5.9−トリメチル
−HHKpm −192−220℃デス−4−エン−1
−イ、ル ソランー5−メチル 256 テトラヒドロ7フンー3− kl C
)13 K趨−15υ−158℃メチル 287 2−メチル−5−エナルー1.3 H(H
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Kp2−200−230℃5−エチル−1,3−ジオキ ソラン−5−メチ、ル ランー5−メチル 297 2−tart、−ブナルー1.3− HC
J43 Kpm −176℃ジオキソラン−5−メ
チ、ル 298 2−イソプロピル−1,3−110H3Kp、
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2−151J−1b3Cチル−1,3−ジオキソクン −5−メチ、ル 3(Jl ベンジル HM
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356 4−7ybzyb7x=tv HCH
I hp4−190−208℃ジオキサン−5−メ
チル ノー5−メチル ノー5−メチ、ル サン−5−メチル サン−5−メチ、ル キンラン−5−メチル 364 2−ベンジル−1,3−ジオキOH3HKp2
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HKpz −150−170℃3682−メチル−
5−エチル−CH3HKPI −155−165℃1.
3−7オキサンー5− メチル ルー(シス) 3702−メチ、ルー1.3−ジオキ 0klz H
Kpz −155−168℃ノランー5−エチル 371 2.5−ジメテ、ルー1.3− cns
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、ル 372 2.2−ジメチル−1# 3− CH)
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−158−162℃ジオキソラン−5−メチル 374 2−メチル−2−エチル−C1(、l(KPs
−177−180℃1.3−ジオキソラン−5− メチル キンラン−5−メチル 37b Z−tart、−ブチ/L/−1,3CH
3)L Kp4−190℃−ジオそソラン−5−
メチル 377 シクロヘキシ/L’ aHs
HKp、−137℃3784−メチルーシクロヘキフル
cHs HKp2−145−150℃−ブチル 3802−シクロヘキシルクロビル ans HKp、
−170−185℃3812−フエ六ルーシクロへキシ
ル 四3HKh−210−232℃382 メチル(シ
ス) CHI HKPI −96℃38
3 メチル(トランス) an3n
KPI−93℃3842−エチルヘキシル c
ns )i Kp2−147℃(トランス) 3852−エテルヘキシル(シス) OHa HK
pz −144−145℃386 フ゛チル(トフンス
ン CHsHKp2−118℃387 ブチ
ル(シス) CHs HKpt −12
0℃388 7トqシーxトキシーユチルCHs HJ
!−pa −190−198℃389 n−ドデシ、
ル CH3)i Kpz −1
90−200℃390 3.7−シメチ、ルーオクト
CHs )i KPs −165−170℃−
6−エン−1−イル 3’jl 1,5.9−トリメチ、ルー OR
B HKpz −204Cデス−4−エンーイ/L/(
シス) 392 # (tランC
ぺ) CH3HKh −204−210℃39
3 3j7−シメチルー1−オフナル(Hs 11
KN −1bb−170℃394 2−フエニ4ルフ
゛ロヒル clis HKl>、 −190−
210’C3953−フェニルプロビル CH3
kl Kpx −180−187℃395
x CHB HKN −18
3−185℃397 2−7エネテル l
) li Kpm −17υ−175℃398
3−フコー/碕七ン′−−クン゛シクレ
CHs HKPz −220−230℃399
2−メツツレ−3−フユーνシー cns H
Kp、−200−210℃プロヒンレ A R” R’
R’ 物理データ400 4−クロル
フェニル 人NH−CH3メチル4(J2 4−ク
ロルフェニル 人am、 メチルカルボニ
ル 適用実施例 実施例A カメムシ(Dysdercus int@rm@diu
m)での飼育実験 前記実験動物を第4成長段階でペトリシャーレ(ψIO
cm)内で試験物質の有効物買被膜に24時間さらした
。
Kpa −165−170C3514−クロルフエニ、
ル HCHs Kp、−186−192
℃3524−メトキシ7x=x HCH3Kp
4−190−210’C3534−シフx=x
HCHI Kp2−230−250 ℃3
54 4−エテ、ルフエニJし HCHs
Fp −44−68℃355 フエちル
H(XHs 入p4−178−189℃
356 4−7ybzyb7x=tv HCH
I hp4−190−208℃ジオキサン−5−メ
チル ノー5−メチル ノー5−メチ、ル サン−5−メチル サン−5−メチ、ル キンラン−5−メチル 364 2−ベンジル−1,3−ジオキOH3HKp2
−195−215℃フォンー5−メチ、ル 3b52−メチ/I/−1,3−ジオキ CHI H
Kp4−178−190℃ソラン−5−メチル 36b 2−メチy−1a3−ジオキソ a)i3
HKpz −150−170℃ラン−5−メチル−(ト
ランス) 3b7 フリ、ルー2−メチ、ル CHs
HKpz −150−170℃3682−メチル−
5−エチル−CH3HKPI −155−165℃1.
3−7オキサンー5− メチル ルー(シス) 3702−メチ、ルー1.3−ジオキ 0klz H
Kpz −155−168℃ノランー5−エチル 371 2.5−ジメテ、ルー1.3− cns
HKp2−155−168℃ジオキソラン−5−メチ
、ル 372 2.2−ジメチル−1# 3− CH)
HKh−167−180℃ジオキンラン−5−メチ、ル 373 2−イソプロヒル−1,3−CH3H五pz
−158−162℃ジオキソラン−5−メチル 374 2−メチル−2−エチル−C1(、l(KPs
−177−180℃1.3−ジオキソラン−5− メチル キンラン−5−メチル 37b Z−tart、−ブチ/L/−1,3CH
3)L Kp4−190℃−ジオそソラン−5−
メチル 377 シクロヘキシ/L’ aHs
HKp、−137℃3784−メチルーシクロヘキフル
cHs HKp2−145−150℃−ブチル 3802−シクロヘキシルクロビル ans HKp、
−170−185℃3812−フエ六ルーシクロへキシ
ル 四3HKh−210−232℃382 メチル(シ
ス) CHI HKPI −96℃38
3 メチル(トランス) an3n
KPI−93℃3842−エチルヘキシル c
ns )i Kp2−147℃(トランス) 3852−エテルヘキシル(シス) OHa HK
pz −144−145℃386 フ゛チル(トフンス
ン CHsHKp2−118℃387 ブチ
ル(シス) CHs HKpt −12
0℃388 7トqシーxトキシーユチルCHs HJ
!−pa −190−198℃389 n−ドデシ、
ル CH3)i Kpz −1
90−200℃390 3.7−シメチ、ルーオクト
CHs )i KPs −165−170℃−
6−エン−1−イル 3’jl 1,5.9−トリメチ、ルー OR
B HKpz −204Cデス−4−エンーイ/L/(
シス) 392 # (tランC
ぺ) CH3HKh −204−210℃39
3 3j7−シメチルー1−オフナル(Hs 11
KN −1bb−170℃394 2−フエニ4ルフ
゛ロヒル clis HKl>、 −190−
210’C3953−フェニルプロビル CH3
kl Kpx −180−187℃395
x CHB HKN −18
3−185℃397 2−7エネテル l
) li Kpm −17υ−175℃398
3−フコー/碕七ン′−−クン゛シクレ
CHs HKPz −220−230℃399
2−メツツレ−3−フユーνシー cns H
Kp、−200−210℃プロヒンレ A R” R’
R’ 物理データ400 4−クロル
フェニル 人NH−CH3メチル4(J2 4−ク
ロルフェニル 人am、 メチルカルボニ
ル 適用実施例 実施例A カメムシ(Dysdercus int@rm@diu
m)での飼育実験 前記実験動物を第4成長段階でペトリシャーレ(ψIO
cm)内で試験物質の有効物買被膜に24時間さらした
。
生き残ったものを、1tのグラス中の予め有効物′X浴
液を加えた湿った石英砂上で、F1世代か羽化するまで
飼育した。
液を加えた湿った石英砂上で、F1世代か羽化するまで
飼育した。
この際、以下の処理を行った:
2.5暑g/シャーレ 砂中2s ppm1.0m9/
シヤーレ 砂中1o ppm005叩/シヤーレ 砂中
0.5 ppm寺この実験で、以下にその番号(@記表
参照)で表す化合物は、1 ppm禾満、一部分は0.
1 ppm及び一部分は0.θl pPnl禾満の作用
閾値を有していTこ:18、19.20,44. b2
.58.76、63.98.101.133.136.
137 。
シヤーレ 砂中1o ppm005叩/シヤーレ 砂中
0.5 ppm寺この実験で、以下にその番号(@記表
参照)で表す化合物は、1 ppm禾満、一部分は0.
1 ppm及び一部分は0.θl pPnl禾満の作用
閾値を有していTこ:18、19.20,44. b2
.58.76、63.98.101.133.136.
137 。
13B、 158.159.160 、173.174
.175.176、177 、178.179゜1+5
0.181.182,183.184.ls5.186
.192.197.l’#8.199゜201.202
,203,204,205,206,207,208,
211,214.218゜220,221,228,2
29.230j233,245,288,320,35
0,351゜365.369,400,401゜ 比較物質のフエノギシカルボ(Fenoxyearb)
は、0.04 Ppnの作用閾値な有していた。
.175.176、177 、178.179゜1+5
0.181.182,183.184.ls5.186
.192.197.l’#8.199゜201.202
,203,204,205,206,207,208,
211,214.218゜220,221,228,2
29.230j233,245,288,320,35
0,351゜365.369,400,401゜ 比較物質のフエノギシカルボ(Fenoxyearb)
は、0.04 Ppnの作用閾値な有していた。
実施例B
カメムシ(Dysdercus 1ntercnadi
ui)σ)卵に対する作用 前記実駁動物の、新たに生み付けられた約20011の
卵な接層テープに付着さセかつこれを水性有効wlJ負
裂剤中に浸漬し1こ。その後、該テープを25℃及び空
気湿度20%で処理しなかった対照か唇化するまで貯成
した。
ui)σ)卵に対する作用 前記実駁動物の、新たに生み付けられた約20011の
卵な接層テープに付着さセかつこれを水性有効wlJ負
裂剤中に浸漬し1こ。その後、該テープを25℃及び空
気湿度20%で処理しなかった対照か唇化するまで貯成
した。
この実験で、以下にその番号(前記表参照)で弐丁化合
物は、0.04 ppm未満、一部分は0.004pp
m未満及び一部分は0.0004 ppmの作用閾憶を
有していた: 12、14.17.52,98.103.121.12
6.128.133.136.137゜138、173
.174.175.176、177 、179.183
、184,185.186゜197 、2(11、2
02,203s 20b、 206.207.217
、218.220.233゜245.317,322,
335,369,400,401゜この場合、比較物質
のカルバリル(Carbaryl)は、0.01 pp
+nの作用X1@をi!M成した。
物は、0.04 ppm未満、一部分は0.004pp
m未満及び一部分は0.0004 ppmの作用閾憶を
有していた: 12、14.17.52,98.103.121.12
6.128.133.136.137゜138、173
.174.175.176、177 、179.183
、184,185.186゜197 、2(11、2
02,203s 20b、 206.207.217
、218.220.233゜245.317,322,
335,369,400,401゜この場合、比較物質
のカルバリル(Carbaryl)は、0.01 pp
+nの作用X1@をi!M成した。
実施例C
ヘリオチス慟ビレスセンス(Heliotbim vi
resc−ei+5)r(−おける殺卵・幼虫作用処理
した集の打ち抜き片に約15個の卵を付層させ、4日後
に幼虫の構・化及び死亡率を査定した。
resc−ei+5)r(−おける殺卵・幼虫作用処理
した集の打ち抜き片に約15個の卵を付層させ、4日後
に幼虫の構・化及び死亡率を査定した。
この実験で、以下の結果か得られた:
化合物番号 作用閾値
23 0.04
34 0.1
90 0.04
104 0.04
324 0、04
Claims (2)
- (1)一般式 I a、 I b及び I c: ▲数式、化学式、表等があります▼( I a)▲数式、
化学式、表等があります▼( I b)▲数式、化学式、
表等があります▼( I c)〔式中、 R^1はC_1〜C_2_0−アルキル基、C_2〜C
_2_0−アルケニル基、C_2〜C_2_0−アルキ
ニル基、C_3〜C_2_0−シクロアルキル基、アリ
ール基、ジアリール基、C_7〜C_3_0−アリール
アルキル基、C_8〜C_3_0−アリールアルケニル
基、C_8〜C_3_0−アリールアルキニル基、C_
2〜C_2_0−アルコキシ−アルキル基、C_3〜C
_2_0−アルコキシ−アルコキシ−アルキル基、C_
4〜C_3_0−アルコキシ−アルコキシ−アルコキシ
−アルキル基、C_7〜C_2_0−アルキル−アリー
ル、C_8〜C_3_0−ジアルキル−アリール、C_
9〜C_2_0−トリアルキル−アリール、アリールオ
キシ、アリールオキシアリール、C_3〜C_2_0−
シクロアルキル、C_4〜C_2_0−アルキル−シク
ロアルキル、C_4〜C_2_0−シクロアルケニル又
はC_3〜C_2_0−アルキル−シクロアルケニルに
よって置換されたC_1〜C_2_0−アルキル基、C
_4〜C_2_0−アルキル−シクロアルキル基、C_
9〜C_2_0−アリール−シクロアルキル基、C_9
〜C_3_0−アリールオキシ−シクロアルキル基、C
_7〜C_2_0−アルキル−アリール基、C_7〜C
_2_0−アルコキシ−アリール基、C_8〜C_2_
0−ジアルキル−アリール基、C_7〜C_2_0−ハ
ロゲンアルキル−アリール基、ハロゲンアリール基、ジ
ハロゲンアリール基、C_7〜C_2_0−アルキル−
ハロゲンアリール基、C_8〜C_2_0−ジアルキル
−ハロゲンアリール基、アリールオキシ−アリール基、
C_1_3〜C_3_0−アリールオキシ−アリールア
ルキル基、又は酸素原子、硫黄原子及び窒素原子から成
る群から選択される1、2又は3個の同じか又は異なっ
た複素原子を有し、場合によりC_1〜C_2_0−ア
ルキル、アリール、C_7〜C_2_0−アリールアル
キル、ハロゲンアリール、C_7〜C_2_0−アルキ
ルアリール、C_8〜C_2_0−ジアルキル−アリー
ル、C_9〜C_2_0−トリアルキル−アリール基又
は場合によりC_1〜C_8−アルキルによって置換さ
れたC_3〜C_2_0−スピロシクロアルキルから成
る群から選択される1、2又は3個の同じか又は異なっ
た置換基によって置換された、飽和もしくは不飽和5−
、6−、7−又は8−員の複素環式基によって置換され
たC_1〜C_2_0−アルキル基を表し、 R^2は水素原子、C_1〜C_2_0−アルキル基、
場合によりフェニル又はハロゲンフェニルによって置換
されたC_1〜C_2_0−ハロゲンアルキル基、C_
7〜C_2_0−ハロゲンフェニル−ハロゲンアルキル
基、C_1〜C_2_0−アルコキシ基、C_1〜C_
2_0−ハロゲンアルコキシ基、C_2〜C_2_0−
アルケニルオキシ基、C_2〜C_2_0−ハロゲンア
ルケニルオキシ基、C_3〜C_2_0−アルコキシア
ルケニルオキシ基、C_2〜C_2_0−アルキニルオ
キシ基、C_2〜C_2_0−ハロゲンアルキニルオキ
シ基、C_3〜C_2_0−アルコキシ−アルキニルオ
キシ基、C_8〜C_2_0−フェニル−アルキニルオ
キシ基、C_1〜C_2_0−アルキルチオ基、C_1
〜C_2_0−ハロゲンアルキルチオ基、C_2〜C_
2_0−アルコキシ−アルキルチオ基、ホルミル基、シ
アノ基、C_7〜C_2_0−フェノキシ−アルコキシ
基、C_7〜C_2_0−ハロゲンフェノキシ−アルコ
キシ基、C_7〜C_2_0−フェノキシ−ハロゲンア
ルコキシ基、C_7〜C_2_0−ハロゲンフェノキシ
−ハロゲンアルコキシ基、C_8〜C_2_0−アルコ
キシ−フェノキシアルコキシ基、C_8〜C_2_0−
フェノキシ−アルコキシアルコキシ基、C_7〜C_2
_0−フェノキシ−アルケニルオキシ基、C_8〜C_
2_0−ハロゲンフェノキシ−アルケニル基、C_8〜
C_2_0−フェノキシ−ハロゲンアルケニルオキシ基
、C_8〜C_2_0−ハロゲンフェノキシ−ハロゲン
アルケニルオキシ基、C_9〜C_2_0−アルコキシ
フェノキシ−アルケニルオキシ基、C_9〜C_2_0
−フェノキシ−アルコキシアルケニルオキシ基、C_8
〜C_2_0−フェノキシ−アルキニルオキシ基、C_
8〜C_2_0−ハロゲンフェノキシ−アルキニルオキ
シ基、C_8〜C_2_0−フェノキシ−ハロゲンアル
キニルオキシ基、C_8〜C_2_0−ハロゲンフェノ
キシ−ハロゲンアルキニルオキシ基、C_9〜C_2_
0−アルコキシフェノキシ−アルキニルオキシ基、C_
9〜C_2_0−フェノキシ−アルコキシアルキニルオ
キシ基、C_8〜C_2_0−フェニルアルキニルオキ
シ基、C_1_4〜C_3_0−フェノキシフェニル−
アルキニルオキシ基、カルボキシ基、C_2〜C_2_
0−アルコキシカルボニル基、C_2〜C_2_0−ア
ルキルカルボニルオキシ基、C_3〜C_2_0− Aルケニルオキシカルボニル基、C_3〜C_2_0−
アルケニルカルボニルオキシ基、C_3〜C_2_0−
アルキニルオキシカルボニル基、C_3〜C_2_0−
アルキニルカルボニルオキシ基、フェノキシカルボニル
基、フェニルカルボニルオキシ基、C_3〜C_2_0
−アルコキシカルボニル−アルコキシ基、フェノキシ基
、C_7〜C_2_0−アルキルフェノキシ基、ハロゲ
ンフェノキシ基、ジハロゲンフェノキシ基、トリハロゲ
ンフェノキシ基、C_7〜C_2_0−ハロゲンアルキ
ル−フェノキシ基、C_7〜C_2_0−アルコキシフ
ェノキシ基、フェノキシ−フェノキシ基、C_8〜C_
1_2−アルキレンジオキシ−フェノキシ基、フェニル
チオ基、C_7〜C_2_0−アルキルフェニルチオ基
、ハロゲン−フェニルチオ基、ジハロゲン−フェニルチ
オ基、トリハロゲン−フェニルチオ基、C_7〜C_2
_0−ハロゲンアルキル−フェニルチオ基、C_7〜C
_2_0−アルコキシフェニルチオ基、フェノキシ−フ
ェニルチオ基、C_8〜C_1_2−アルキレンジオキ
シ−フェニルチオ基、フェニル基、フェノキシ−フェニ
ル基、C_7〜C_2_0−フェニルアルキル基、C_
1_3〜C_3_0−フェノキシ−フェニルアルキル基
、C_8〜C_1_2−アルキレンジオキシ−フェニル
アルコキシ基又は式: −CH=N−OH;▲数式、化学式、表等があります▼
;▲数式、化学式、表等があります▼; ▲数式、化学式、表等があります▼;▲数式、化学式、
表等があります▼;▲数式、化学式、表等があります▼
;▲数式、化学式、表等があります▼; ▲数式、化学式、表等があります▼又は▲数式、化学式
、表等があります▼ から選択される基を表し、 R^3は水素原子、C_1〜C_2_0−アルキル基又
はC_1〜C_3−ハロゲンアルキル基を表し、 R^4、R^5は水素原子、弗素原子、塩素原子、C_
1〜C_3−アルキル基、C_1〜C_3−アルコキシ
基又はC_1〜C_3−ハロゲンアルコキシ基を表し、 R^6は水素原子、C_1〜C_2_0−アルキル基、
C_2〜C_2_0−アルケニル基、C_2〜C_2_
0−アルキニル基、シアノ基、フェニル基、ハロゲンフ
ェニル基、C_7〜C_2_0−アルキルフェニル基又
はC_7〜C_2_0−アルコキシフェニル基を表し、 R^7は水素原子、C_1〜C_2_0−アルキル基、
C_1〜C_2_0−ハロゲンアルキル基、C_2〜C
_2_0−アルコキシアルキル基、C_2〜C_2_0
−アルケニル基、C_2〜C_2_0−アルキニル基、
アリール基、ハロゲンフェニル基、ジハロゲンフェニル
基、トリハロゲンフェニル基、シアノフェニル基、C_
7〜C_2_0−アルキルフェニル基、C_7〜C_2
_0−アルコキシフェニル基、C_7〜C_2_0−ハ
ロゲンアルキル−フェニル基、C_8〜C_2_0−ア
ルケニルフェニル基、C_8〜C_2_0−アルキニル
フェニル基、フェノキシフェニル基、C_8〜C_1_
2−メチレンジオキシ−フェニル基、C_2〜C_2_
0−アルキルカルボニル基、C_2〜C_2_0−ハロ
ゲンアルキルカルボニル基、C_2〜C_2_0−アル
コキシカルボニル基、C_3〜C_2_0−アルキルシ
クロプロピルカルボニル基、C_7〜C_2_0−アル
ケニル−及び−アルキルシクロプロピル−カルボニル基
、C_8〜C_2_0−ハロゲンアルキル−及び−アル
キルシクロプロピル−カルボニル基、C_7〜C_2_
0−ハロゲンアルケニル−及び−アルキルシクロプロピ
ル−カルボニル基、C_8〜C_2_0−ハロゲン−及
び−フェニル−アルキルカルボニル基、C_8〜C_2
_0−ハロゲン−及び−ハロゲンフェニルアルキルカル
ボニル基、ベンゾイル基、ハロゲンベンゾイル基、C_
8〜C_2_0−アルキルベンゾイル基、C_8〜C_
2_0−アルコキシベンゾイル基、C_8〜C_2_0
−ハロゲンアルキル−ベンゾイル基、C_8〜C_2_
0−ハロゲンアルコキシ−ベンゾイル基、C_8〜C_
2_0−フェニルアルキルカルボニル基、C_8〜C_
2_0−ハロゲンフェニルアルキルカルボニル基、C_
9〜C_2_0−アルキルフェニルアルキルカルボニル
基、C_9〜C_2_0−アルコキシフェニルアルキル
カルボニル基、C_9〜C_2_0−ハロゲンアルキル
フェニルアルキルカルボニル基、C_9〜C_2_0−
ハロゲンアルコキシフェニルアルキルカルボニル基、C
_9〜C_2_0−フェニルアルケニルカルボニル基、
C_9〜C_2_0−ハロゲンフェニルアルケニルカル
ボニル基、C_1_0〜C_2_0−アルキルフェニル
アルケニルカルボニル基、C_1_0〜C_2_0−ア
ルコキシフェニルアルケニルカルボニル基、C_1_0
〜C_2_0−ハロゲンアルキルフェニルアルケニ 泣Jルボニル基、C_1_0〜C_2_0−ハロゲンア
ルコキシフェニルアルケニルカルボニル基、C_9〜C
_2_0−フェニルアルキニルカルボニル基、C_9〜
C_2_0−ハロゲンフェニルアルキニルカルボニル基
、C_1_0〜C_2_0−アルキルフェニルアルキニ
ルカルボニル基、C_1_0〜C_2_0−アルコキシ
フェニルアルキニルカルボニル基、C_1_0〜C_2
_0−ハロゲンアルキルフェニルアルキニルカルボニル
基、C_1_0〜C_2_0−ハロゲンアルコキシフェ
ニルアルキニルカルボニル基、C_2〜C_2_0−ア
ルキルアミノカルボニル基、C_2〜C_2_0−ハロ
ゲンアルキルアミノカルボニル基、C_3〜C_2_0
−アルコキシアルキルアミノカルボニル基、C_3〜C
_2_0−ハロゲンアルキルアルキルアミノカルボニル
基、C_3〜C_2_0−ハロゲンアルコキシアルキル
アミノカルボニル基、C_3〜C_2_0−ジアルキル
アミノカルボニル基、C_3〜C_2_0−ハロゲンジ
アルキルアミノカルボニル基、C_4〜C_2_0−ア
ルコキシジアルキルアミノカルボニル基、C_5〜C_
2_0−アルキル−及び−アルコキシ−アミノカルボニ
ル基、C_4〜C_2_0−ハロゲンアルキルジアルキ
ルアミノカルボニル基、C_4〜C_2_0−ハロゲン
アルコキシジアルキルアミノカルボニル基、フェニルア
ミノカルボニル基、ハロゲンフェニルアミノカルボニル
基、ジハロゲンフェニルアミノカルボニル基、トリハロ
ゲンフェニルアミノカルボニル基、C_8〜C_2_0
−アルキルフェニルアミノカルボニル基、C_8〜C_
2_0−アルコキシフェニルアミノカルボニル基、C_
8〜C_2_0−ハロゲンアルコキシフェニルアミノカ
ルボニル基又は場合によりC_1〜C_8−アルキル基
によって置換されたイソキサゾール基を表し、 R^8は水素原子又はC_1〜C_2_0−アルキル基
を表しかつXはハロゲン原子を表し、 但し式 I a中R^1は、R^2、R^3、R^4、R
^5が同時に水素原子を表す場合には、フェニル基を表
さず、かつ式 I b中R^2、R^3、R^4、R^5
は、R^1がC_4〜C_8−アルキル基、フェニル基
、トリル基又はメトキシフェニル基を表す場合には、同
時に水素原子を表さず、並びにR^1は、R^2及びR
^3が水素原子を表しかつR^4又はR^5がメチル基
、メトキシ基又は塩素原子を表す場合には、オクチル基
を表さない〕で示されるピラン誘導体。 - (2)一般式 I a、 I b及び I c: ▲数式、化学式、表等があります▼( I a)▲数式、
化学式、表等があります▼( I b)▲数式、化学式、
表等があります▼( I c)〔式中、 R^1はC_1〜C_2_0−アルキル基、C_2〜C
_2_0−アルケニル基、C_2〜C_2_0−アルキ
ニル基、C_3〜C_2_0−シクロアルキル基、アリ
ール基、ジアリール基、C_7〜C_3_0−アリール
アルキル基、C_8〜C_3_0−アリールアルケニル
基、C_8〜C_3_0−アリールアルキニル基、C_
2〜C_2_0−アルコキシ−アルキル基、C_3〜C
_2_0−アルコキシ−アルコキシ−アルキル基、C_
4〜C_3_0−アルコキシ−アルコキシ−アルコキシ
−アルキル基、C_7〜C_2_0−アルキル−アリー
ル、C_8〜C_3_0−ジアルキル−アリール、C_
9〜C_2_0−トリアルキル−アリール、アリールオ
キシ、アリールオキシアリール、C_3〜C_2_0−
シクロアルキル、C_4〜C_2_0−アルキル−シク
ロアルキル、C_4〜C_2_0−シクロアルケニル又
はC_3〜C_2_0−アルキル−シクロアルケニルに
よって置換されたC_1〜C_2_0−アルキル基、C
_4〜C_2_0−アルキル−シクロアルキル基、C_
9〜C_2_0−アリール−シクロアルキル基、C_9
〜C_3_0−アリールオキシ−シクロアルキル基、C
_7〜C_2_0−アルキル−アリール基、C_7〜C
_2_0−アルコキシ−アリール基、C_8〜C_2_
0−ジアルキル−アリール基、C_7〜C_2_0−ハ
ロゲンアルキル−アリール基、ハロゲンアリール基、ジ
ハロゲンアリール基、C_7〜C_2_0−アルキル−
ハロゲンアリール基、C_8〜C_2_0−ジアルキル
−ハロゲンアリール基、アリールオキシ、−アリール基
、C_1_3〜C_3_0−アリールオキシ−アリール
アルキル基、又は酸素原子、硫黄原子及び窒素原子から
成る群から選択される1、2又は3個の同じか又は異な
った複素原子を有し、場合によりC_1〜C_2_0−
アルキル、アリール、C_7〜C_2_0−アリールア
ルキル、ハロゲンアリール、C_7〜C_2_0−アル
キルアリール、C_8〜C_2_0−ジアルキル−アリ
ール、C_9〜C_2_0−トリアルキル−アリール基
又は場合によりC_1〜C_8−アルキルによって置換
されたC_3〜C_2_0−スピロシクロアルキルから
成る群から選択される1、2又は3個の同じか又は異な
った置換基によって置換された、飽和もしくは不飽和5
−、6−、7−又は8−員の複素環式基によって置換さ
れたC_1〜C_2_0−アルキル基を表し、 R^2は水素原子、C_1〜C_2_0−アルキル基、
場合によりフェニル又はハロゲンフェニルによって置換
されたC_1〜C_2_0−ハロゲンアルキル基、C_
7〜C_2_0−ハロゲンフェニル−ハロゲンアルキル
基、C_1〜C_2_0−アルコキシ基、C_1〜C_
2_0−ハロゲンアルコキシ基、C_2〜C_2_0−
アルケニルオキシ基、C_2〜C_2_0−ハロゲンア
ルケニルオキシ基、C_3〜C_2_0−アルコキシア
ルケニルオキシ基、C_2〜C_2_0−アルキニルオ
キシ基、C_2〜C_2_0−ハロゲンアルキニルオキ
シ基、C_3〜C_2_0−アルコキシ−アルキニルオ
キシ基、C_8〜C_2_0−フェニル−アルキニルオ
キシ基、C_1〜C_2_0−アルキルチオ基、C_1
〜C_2_0−ハロゲンアルキルチオ基、C_2〜C_
2_0−アルコキシ−アルキルチオ基、ホルミル基、シ
アノ基、C_7〜C_2_0−フェノキシ−アルコキシ
基、C_7〜C_2_0−ハロゲンフェノキシ−アルコ
キシ基、C_7〜C_2_0−フェノキシ−ハロゲンア
ルコキシ基、C_7〜C_2_0−ハロゲンフェノキシ
−ハロゲンアルコキシ基、C_8〜C_2_0−アルコ
キシ−フェノキシアルコキシ基、C_8〜C_2_0−
フェノキシ−アルコキシアルコキシ基、C_7〜C_2
_0−フェノキシ−アルケニルオキシ基、C_8〜C_
2_0−ハロゲンフェノキシ−アルケニル基、C_8〜
C_2_0−フェノキシ−ハロゲンアルケニルオキシ基
、C_8〜C_2_0−ハロゲンフェノキシ−ハロゲン
アルケニルオキシ基、C_9〜C_2_0−アルコキシ
フェノキシ−アルケニルオキシ基、C_9〜C_2_0
−フェノキシ−アルコキシアルケニルオキシ基、C_8
〜C_2_0−フェノキシ−アルキニルオキシ基、C_
8〜C_2_0−ハロゲンフェノキシ−アルキニルオキ
シ基、C_8〜C_2_0−フェノキシ−ハロゲンアル
キニルオキシ基、C_8〜C_2_0−ハロゲンフェノ
キシ−ハロゲンアルキニルオキシ基、C_9〜C_2_
0−アルコキシ−アルキニルオキシ基、C_9〜C_2
_0−フェノキシ−アルコキシアルキニルオキシ基、C
_8〜C_2_0−フェニルアルキニルオキシ基、C_
1_4〜C_3_0−フェノキシフェニル−アルキニル
オキシ基、カルボキシ基、C_2〜C_2_0−アルコ
キシカルボニル基、C_2〜C_2_0−アルキルカル
ボニルオキシ基、C_3〜C_2_0−アルケニル Iキシカルボニル基、C_3〜C_2_0−アルケニル
カルボニルオキシ基、C_3〜C_2_0−アルキニル
オキシカルボニル基、C_3〜C_2_0−アルキニル
カルボニルオキシ基、フェノキシカルボニル基、フェニ
ルカルボニルオキシ基、C_3〜C_2_0−アルコキ
シカルボニル−アルコキシ基、フェノキシ基、C_7〜
C_2_0−アルキルフェノキシ基、ハロゲンフェノキ
シ基、ジハロゲンフェノキシ基、トリハロゲンフェノキ
シ基、C_7〜C_2_0−ハロゲンアルキル−フェノ
キシ基、C_7〜C_2_0−アルコキシフェノキシ基
、フェノキシ−フェノキシ基、C_8〜C_1_2−ア
ルキレンジオキシ−フェノキシ基、フェニルチオ基、C
_7〜C_2_0−アルキルフェニルチオ基、ハロゲン
−フェニルチオ基、ジハロゲン−フェニルチオ基、トリ
ハロゲン−フェニルチオ基、C_7〜C_2_0−ハロ
ゲンアルキル−フェニルチオ基、C_7〜C_2_0−
アルコキシフェニルチオ基、フェノキシ−フェニルチオ
基、C_8〜C_1_2−アルキレンジオキシ−フェニ
ルチオ基、フェニル基、フェノキシ−フェニル基、C_
7〜C_2_0−フェニルアルキル基、C_1_3〜C
_3_0−フェノキシ−フェニルアルキル基、C_8〜
C_1_2−アルキレンジオキシ−フェニルアルコキシ
基又は式: −CH=N−OH;▲数式、化学式、表等があります▼
;▲数式、化学式、表等があります▼ ▲数式、化学式、表等があります▼;▲数式、化学式、
表等があります▼;▲数式、化学式、表等があります▼
;▲数式、化学式、表等があります▼ ▲数式、化学式、表等があります▼又は▲数式、化学式
、表等があります▼ から選択される基を表し、 R^3は水素原子、C_1〜C_2_0−アルキル基又
はC_1〜C_3−ハロゲンアルキル基を表し、 R^4、R^5は水素原子、弗素原子、塩素原子、C_
1〜C_3−アルキル基、C_1〜C_3−アルコキシ
基又はC_1〜C_3−ハロゲンアルコキシ基を表し、 R^6は水素原子、C_1〜C_2_0−アルキル基、
C_2〜C_2_0−アルケニル基、C_2〜C_2_
0−アルキニル基、シアノ基、フェニル基、ハロゲンフ
ェニル基、C_7〜C_2_0−アルキルフェニル基又
はC_7〜C_2_0−アルコキシフェニル基を表し、 R^7は水素原子、C_1〜C_2_0−アルキル基、
C_1〜C_2_0−ハロゲンアルキル基、C_2〜C
_2_0−アルコキシアルキル基、C_2〜C_2_0
−アルケニル基、C_2〜C_2_0−アルキニル基、
アリ−ル基、ハロゲンフェニル基、ジハロゲンフェニル
基、トリハロゲンフェニル基、シアノフェニル基、C_
7〜C_2_0−アルキルフェニル基、C_7〜C_2
_0−アルコキシフェニル基、C_7〜C_2_0−ハ
ロゲンアルキル−フェニル基、C_8〜C_2_0−ア
ルケニルフェニル基、C_8〜C_2_0−アルキニル
フェニル基、フェノキシ基、C_8〜C_1_2−メチ
レンジオキシ−フェニル基、C_2〜C_2_0−アル
キルカルボニル基、C_2〜C_2_0−ハロゲンアル
キルカルボニル基、C_2〜C_2_0−アルコキシカ
ルボニル基、C_5〜C_2_0−アルキルシクロプロ
ピルカルボニル基、C_7〜C_2_0−アルケニル−
及び−アルキルシクロプロピル−カルボニル基、C_6
〜C_2_0−ハロゲンアルキル−及び−アルキルシク
ロプロピル−カルボニル基、C_7〜C_2_0−ハロ
ゲンアルケニル−及び−アルキルシクロプロピル−カル
ボニル基、C_8〜C_2_0−ハロゲン−及び−フェ
ニル−アルキルカルボニル基、C_8〜C_2_0−ハ
ロゲン−及び−ハロゲンフェニルアルキルカルボニル基
、ベンゾイル基、ハロゲンベンゾイル基、C_8〜C_
2_0−アルキルベンゾイル基、C_8〜C_2_0−
アルコキシベンゾイル基、C_8〜C_2_0−ハロゲ
ンアルキル−ベンゾイル基、C_8〜C_2_0−ハロ
ゲンアルコキシ−ベンゾイル基、C_8〜C_2_0−
フェニルアルキルカルボニル基、C_8〜C_2_0−
ハロゲンフェニルアルキルカルボニル基、C_9〜C_
2_0−アルキルフェニルアルキルカルボニル基、C_
9〜C_2_0−アルコキシフェニルアルキルカルボニ
ル基、C_9〜C_2_0−ハロゲンアルキルフェニル
アルキルカルボニル基、C_9〜C_2_0−ハロゲン
アルコキシフェニルアルキルカルボニル基、C_9〜C
_2_0−フェニルアルケニルカルボニル基、C_9〜
C_2_0−ハロゲンフェニルアルケニルカルボニル基
、C_1_0〜C_2_0−アルキルフェニルアルケニ
ルカルボニル基、C_1_0〜C_2_0−アルコキシ
フェニルアルケニルカルボニル基、C_1_0〜C_2
_0−ハロゲンアルキルフェニルアルケニルカルボ jル基、C_1_0〜C_2_0−ハロゲンアルコキシ
フェニルアルケニルカルボニル基、C_9〜C_2_0
−フェニルアルキニルカルボニル基、C_9〜C_2_
0−ハロゲンフェニルアルキニルカルボニル基、C_1
_0〜C_2_0−アルキルフェニルアルキニルカルボ
ニル基、C_1_0〜C_2_0−アルコキシフェニル
アルキニルカルボニル基、C_1_0〜C_2_0−ハ
ロゲンアルキルフェニルアルキニルカルボニル基、C_
1_0〜C_2_0−ハロゲンアルコキシフェニルアル
キニルカルボニル基、C_2〜C_2_0−アルキルア
ミノカルボニル基、C_2〜C_2_0−ハロゲンアル
キルアミノカルボニル基、C_3〜C_2_0−アルコ
キシアルキルアミノカルボニル基、C_3〜C_2_0
−ハロゲンアルキルアルキルアミノカルボニル基、C_
3〜C_2_0−ハロゲンアルコキシアルキルアミノカ
ルボニル基、C_3〜C_2_0−ジアルキルアミノカ
ルボニル基、C_3〜C_2_0−ハロゲンジアルキル
アミノカルボニル基、C_4〜C_2_0−アルコキシ
ジアルキルアミノカルボニル基、C_5〜C_2_0−
アルキル−及び−アルコキシ−アミノカルボニル基、C
_4〜C_2_0−ハロゲンアルキルジアルキルアミノ
カルボニル基、C_4〜C_2_0−ハロゲンアルコキ
シジアルキルアミノカルボニル基、フェニルアミノカル
ボニル基、ハロゲンフェニルアミノカルボニル基、ジハ
ロゲンフェニルアミノカルボニル基、トリハロゲンフェ
ニルアミノカルボニル基、C_8〜C_2_0−アルキ
ルフェニルアミノカルボニル基、C_8〜C_2_0−
アルコキシフェニルアミノカルボニル基、C_8〜C_
2_0−ハロゲンアルコキシフェニルアミノカルボニル
基又は場合によりC_1〜C_8−アルキル基によって
置換されたイソキサゾール基を表し、R^8は水素原子
又はC_1〜C_2_0−アルキル基を表しかつ Xはハロゲン原子を表し、 但し式 I a中R^1は、R^2、R^3、R^4、R
^5が同時に水素原子を表す場合には、フェニル基を表
さず、かつ式 I b中R^2、R^3、R^4、R^5
は、R^1がC_4〜C_8−アルキル基、フェニル基
、トリル基又はメトキシフェニル基を表す場合には、同
時に水素原子を表さず、並びにR^1は、R^2及びR
^3が水素原子を表しかつR^4又はR^5がメチル基
、メトキシ基又は塩素原子を表す場合には、オクチル基
を表さない〕で示されるピラン誘導体の1種並びに常用
の賦形剤を含有する害虫駆除剤。
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---|---|---|---|
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- 1987-07-06 ZA ZA874878A patent/ZA874878B/xx unknown
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