JPS6391604A - 有機光導波路およびその製造方法 - Google Patents

有機光導波路およびその製造方法

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JPS6391604A
JPS6391604A JP61236146A JP23614686A JPS6391604A JP S6391604 A JPS6391604 A JP S6391604A JP 61236146 A JP61236146 A JP 61236146A JP 23614686 A JP23614686 A JP 23614686A JP S6391604 A JPS6391604 A JP S6391604A
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JP
Japan
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laser
refractive index
optical waveguide
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organic optical
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JP61236146A
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English (en)
Inventor
Kuniyuki Eguchi
州志 江口
Hiroshi Terao
寺尾 弘
Seikichi Tanno
丹野 清吉
Hideki Asano
秀樹 浅野
Masahiko Ibamoto
正彦 射場本
Takaya Masutani
升谷 孝也
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hitachi Ltd
Original Assignee
Hitachi Ltd
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、有機透明物体中に屈折率分布をもち、しかも
、屈折率差の大きな光導波路およびその製造方法に関す
る。
〔従来の方法〕
光通信や光情報処理分野において利用される光集積回路
の研究は、近年、急速な進歩をとげ、その中でも先導波
路の開発はめざましいものがある。
光導波路はLiNbO3にTiを拡散させた無機結晶や
イオン交換によるガラスなどの他に、高分子光導波路が
ある。高分子光導波路の利点は製造が容易であり、しか
も、自由に導波路パターンを形成できるため、光の簡単
な分岐・結合用導波路として有用性が高い。
高分子先導波路は、モノマを含む高分子薄膜を作製した
後、マスクを用いて紫外線゛で選択的に重合させ、階段
状屈折率分布を形成する方法や、半重合体に異種モノマ
を、内部、あるいは、外部へ選択的に拡散させて屈折率
分布を形成させる方法などがある。これらの方法は導波
路パターンを形成するためにマスクを用いる必要がある
ため、工程が煩雑であること、さらに、前者では屈折率
分布が階段状のものしか形成できないこと、後者は異種
モノマがマスク内に浸入するため、パターン形成が困麗
なことなど種々の問題がある。これらの問題を解決し、
導波路パターンをより自由に形成するため、レーザを照
射して高屈折率の導波路を形成する方法が特開昭46−
3342号公報に提案されている。
〔発明が解決しようとする問題点〕
しかし、上記従来技術は屈折率変化特性が物質の密度変
化に起因しているため、必然的に屈折率差が小さくなる
。そのため、例えば、光ファイバーとの分岐・結合にお
いて、屈折率差がファイバーと導波路との間で異なり、
光損失が大きくなる6また、先導波路部の屈折率差が小
さい場合、光の分岐・結合の効率が小さいという問題が
あった。
さらに、レーザとして主に紫外線レーザを用いるため、
導波路が光によって劣化しやすいという問題も考えられ
る。
本発明の目的は、導波路パターンを容易にしかも自由に
形成し、屈折率差が大きく、光劣化の小さい有機光導波
路およびその製造方法を提供することにある。
〔問題点を解決するための手段〕
上記目的は、実質的に透明な有機物質にレーザ照射によ
る光導波路形成を行ない、さらに、レーザ照射部に少な
くともレーザのエネルギに応じた組成および/または構
造の変化をおこさせることによって屈折率分布を形成さ
せ、レーザ照射部と非照射部の屈折率の差を5×10″
″8以上にすることによって達成される。
〔作用〕    ・ レーザの照射によって光導波路パターンを形成する時に
生じる屈折率の変化は1重合の進行1重合体連鎖の誘起
交叉結合、熱歪などの物質の密度を変える効果に起因す
ることがほとんどであるが。
本発明は、レーザの照射によって屈折率が高くなるよう
な組成および/または構造の変化を伴うものである。こ
れらの変化はもっばら分子の分極率を高くするものであ
り、有機物の場合、密度の変化よりも分極率の変化の方
が屈折率変化に対する寄与が大きい1本発明の組成およ
び/または構造の変化は、レーザ照射によってのみ選択
的に生じ、しかも長期間安定であることが好ましいため
、例えば、透明な有機物中にドーパントを混入させて、
その変化で屈折率変化をおこさせることはあまり好まし
くない、さらに、紫外レーザ、または、可視レーザに敏
感に反応する組成および/または構造の変化では、長期
間の安定性にやや問題がある。
そのため1本発明は、主に高エネルギの赤外線レーザ照
射によって変化する組成および/または構造に着目する
この目的を達成する材料としては種々のものが考えられ
るが、例えば、含金属透明の単量体組成物または樹脂が
ある。この材料は構造中に金属イオンならびにカルボキ
シル基を含むものであり。
高エネルギの赤外線レーザを照射した場合、少なくとも
カルボキシル基(−C○○H)がカルボキシル基イオン
(−〇〇〇〇)へ変化することが赤外吸収スペクトルか
ら確認される。この変化は構造的に分子の分極率を大き
くするものであり、屈折率変化に対して大きな寄与をす
る。さらに、この変化はレーザのエネルギパワーに応じ
ておこるため、屈折率分布も同時に形成されることがわ
かった。
本発明で用いる赤外線レーザは種々のものがあるが、そ
のエネルギパワーや取り扱い易さの点からYAGレーザ
が好ましい。この場合のYAGレーザは連続およびパル
スの両方が使える。本発明の有機光導波路は高エネルギ
の赤外線レーザの照射で形成されるため、通常の赤外域
における光通信用光源である半導体レーザでは容易に劣
化しない。
本発明ではレーザ照射によって生じる組成および/また
は構造の変化が最も容易におこるものとして、含金属透
明材料ならびにYAGレーザをあげたが、これによって
本発明を特に限定するものではない。紫外および可視レ
ーザで分子の分極率を上げることができる組成および/
または構造の変化を期待できる材料があれば、本発明の
効果とは原理的に同一のものである。なお、本発明では
、単に1分子の分極率を上げるような組成および/また
は構造の変化だけではなく、密度の変化が同時におこっ
ても良い。そうすれば、光導波路部の屈折率差がより大
きくなる。
本発明の先導波路の屈折率差は光の分岐・結合効率から
考慮して0.5 X i O−8以上であることが望ま
しく、それ未満では有機光導波路としての利用価値は極
めて薄い。
本発明の製造方法の概略を述べると、透明な有機単量体
組成物、または、半重合体をガラスや透明プラスチック
などの基板の上に塗布するか、あるいは、そのままで、
一定のパターンに沿ってレーザを照射させた後、そのも
のを加熱することによってレーザ未照射部分の重合を進
める。このようにして、レーザ照射部分に屈折率分布を
形成する。
〔実施例〕
以下、本発明を実施例および図により説明する。
〈実施例〉・・・含金属透明の単量体組成物の合成法ア
クリル酸0.150モル、ケイ皮酸0.352モルをベ
ンゼン60mflに均一に溶解し、バリウムエチレート
(B a (OC2H3)2) 0 、0424モルを
加えて反応を行なわせた。この溶液からベンゼンとメチ
ルアルコールを減圧下で除いた後、この組成物50重量
部にクロルスチレン50重量部を加えて無色透明の単量
体組成物を得る。
〈実施例2〉・・・レーザ照射 第1図はレーザ照射の基本光学系の構成と光導波路の製
造方法を示す図である。
パルス発振、または、連続発振のYAGレーザ1より照
射した波長1.06μmの赤外レーザ光をミラー2で反
射させた後、レンズ3により焦光させた。その焦点の内
側、または、外側に、実施例1で得られた単量体組成物
4を一定の厚さのスペーサシート5で挾んだガラス板中
6に注入した試料を置き、レーザ光を重量に照射しなが
ら導波路パターンに沿って一定速度で移動させる。その
後、レーザが照射されていない未重合部分を60℃四時
間、90℃三時間で熱重合させた。この時、レーザ照射
部と非照射部の屈折率の差はマツハツエンダ−干渉計に
よってw1測した。
第2図に膜厚50μmの試料を用い、パルス発振のYA
Gレーザ(パルス幅3m秒、エネルギ4J/パルス、パ
ルス回数100回、パルス間隔2 Hzアウトホーカス
10mm)で20μm/秒の速度で移動しながら照射し
た後、熱重合して得た光導波路の断面における屈折率差
の測定結果を示す、この導波路は屈折率分布を有してお
り、屈折率差は0.03である。また、He−N eレ
ーザを集光し、この先導波路を伝送させた結果、光損失
は0.4dB/cmであった。
〈実施例3〉 実施例2で得た光導波路のレーザ照射部と非照射部の赤
外分光分析を日立製作新製260−50型赤外分光光度
計によって行なった。第3図はレーザ非照射部の赤外吸
収スペクトル7と照射部の赤外吸収スペクトル8である
。第3図に示すように、レーザ照射部ではレーザ非照射
部に存在していた1680cm−”に現われるカルボキ
シル基(−COOI+)の C=oによる吸収が得失し
ており、レーザ照射によりカルボキシル基イオン(−C
OOHθ)になっている。このように、レーザ照射部と
非照射部では明らかに構造が異なっていた。
〈実施例4〉 実施例1で得られた単量体組成物を膜厚10μmの試料
とし、パルス発振のYAGレーザ(パルス幅3m秒、エ
ネルギ3J/パルス、パルス回数150回、パルス間隔
2Hz、アウトホーカス5mm)を用いて実施例2と同
様の方法で20μm/秒の速度で移動しながら照射した
。その後、熱重合して得た光導波路の断面における屈折
率差の測定結果を第4図に示す、この導波路は屈折分布
を有しており屈折率差は0.028 である、また、H
e −N eレーザを集光し、この光導波路を伝送させ
た結果、光損失は0.3dB/amであった。
〈実施例5〉 実施例1で得られた単量体組成物100重量部に重合開
始剤としてシミリスチルパーオキシジカーボネート0.
2 重量部を均一に混合した後、シリコール離型した3
0X70mmのガラス板及び外径1mmのテフロンチュ
ーブから成る鋳型の中に流し込み、60℃三時間で硬化
した。その後、鋳型からとりはずし、半重合状態の透明
な板を得た。
この透明な板にパルス発振のYAGレーザ(パルス幅3
m秒、エネルギ8J/パルス、パルス回数150回、パ
ルス間隔2 Hz 、アウトホーカス51+111)を
用いて20μm/秒の速度で実施例2と同様に照射した
。その後、透明板の上・下に、実施例1で得られた単量
体組成物を塗布し60℃二時間、80℃三時間で重合を
進めて光導波路を得た。この光導波路の屈折率差は0.
011  である。
また、He−Neレーザを焦光し、この先導波路を伝送
させた結果、光損失は0.4dB/amであった。なお
、実施例3と同様に、レーザ照射と非照射部の赤外分光
分析を行なったところ、レーザ照射部ではカルボキシル
基(−COOH)による1680cm″″五の吸収が消
失していた。
〔発明の効果〕
本発明によれば、導波路パターンを容易にしかも自由に
形成でき、屈折率差が5X10”−3以上と従来のレー
ザ照射の方法による光導波路よりも屈折率差の大きな有
機光導波路が得られる。そのため、光ファイバなどとの
分岐・結合がより容易になり、光通信や光情報処理分野
の光学部品として有用性が高い。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の一実施例のレーザ照射の基本光学系の
構成と光導波路の製造方法を示す図、第2図は実施例2
に従って得た有機光導波路の断面における屈折率差を示
す図、第3図はレーザ非照射部とレーザ照射部の赤外吸
収スペクトルを示す図、第4図は実施例4に従って有機
光導波路の断面における屈折率差を示す図である。 1・・・YAGレーザ、2・・・ミラー、3・・・レン
ズ、4・・・単量体組成物、5・・・スペーサシート、
6・・・ガラス板、7・・・レーザ非照射部の赤外吸収
スペクトル、ギ 1 日 茅 2 固 仮  1  (筑琶) $3 口

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、実質的に透明な有機物質にレーザを照射することに
    よつて選択的な屈折率の変化をつけるにあたり、前記レ
    ーザの照射部に少なくとも前記レーザのエネルギに応じ
    た組成および/または構造の変化をおこさせて屈折率分
    布を形成させ、前記レーザの照射部と非照射部の屈折率
    の差を5×10^−^3以上にしたことを特徴とする有
    機光導波路。 2、前記レーザがYAGレーザであることを特徴とする
    特許請求の範囲の第1項記載の有機光導波路。 3、実質的に透明な有機物質が少なくとも金属イオンな
    らびにカルボキシル基を含む単量体組成物および/また
    は重合体であることを特徴とする特許請求の範囲の第1
    項記載の有機光導波路。 4、レーザ照射部に生じるレーザのエネルギに応じた組
    成および/または構造の変化が少なくともカルボキシル
    基(−COOH)のカルボキシル基イオン(−COO^
    ■)への変化であることを特徴とする特許請求の範囲の
    第1項記載の有機光導波路。 5、実質的に透明な有機単量体組成物または半重合体に
    一定のパターンに沿つてレーザを照射させた後、未照射
    部分を加熱下で、重合を進めさせることによつてレーザ
    照射部分に屈折率分布を形成することを特徴とする有機
    光導波路の製造方法。
JP61236146A 1986-10-06 1986-10-06 有機光導波路およびその製造方法 Pending JPS6391604A (ja)

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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2000047046A (ja) * 1998-07-31 2000-02-18 Toshiyuki Watanabe 屈折率分布型光学成形体の製造方法
US6438307B1 (en) 1999-03-25 2002-08-20 Kyocera Corporation Optical waveguide and process for producing same

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* Cited by examiner, † Cited by third party
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JP2000047046A (ja) * 1998-07-31 2000-02-18 Toshiyuki Watanabe 屈折率分布型光学成形体の製造方法
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