JPS6388458A - Tube connector for solid-phase conversion reagent producing equipment - Google Patents

Tube connector for solid-phase conversion reagent producing equipment

Info

Publication number
JPS6388458A
JPS6388458A JP23508186A JP23508186A JPS6388458A JP S6388458 A JPS6388458 A JP S6388458A JP 23508186 A JP23508186 A JP 23508186A JP 23508186 A JP23508186 A JP 23508186A JP S6388458 A JPS6388458 A JP S6388458A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
liquid
cleaning liquid
nozzle
cleaning
tube
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP23508186A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Masao Agawa
阿川 正夫
Yutaka Goto
豊 後藤
Kazutomo Takahashi
一友 高橋
Kiyoshi Takao
潔 高尾
Katsuaki Takano
高野 克明
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Olympus Corp
Original Assignee
Olympus Optical Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Olympus Optical Co Ltd filed Critical Olympus Optical Co Ltd
Priority to JP23508186A priority Critical patent/JPS6388458A/en
Publication of JPS6388458A publication Critical patent/JPS6388458A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Abstract

PURPOSE:To enable the production of a solid-phase conversion reagent which is safe for workers and is uniform, by arranging a connector section having a liquid reservoir section with the diameter larger than the inner diameter of a tube on the tube for connection of a liquid sucking and draining nozzle and a sucking/draining device as communicating with one another. CONSTITUTION:A tube 194 for suction and draining is connected to a tube connecting section of a liquid sucking/draining device and then, to a nozzle 106b for sucking and draining a cleaning liquid of cleaning a liquid nozzle arm section through a liquid reservoir section 156, which comprises a liquid reservoir body section 157, a liquid pooling space section 158 and joints 159, 160 and 161 arranged at both ends thereof 158. The inner diameter of the liquid pooling space section 158 is made larger than the inner diameter of the tube 194. The capacity of the liquid pooling space section 158 is set enough to absorb a cleaning liquid storable in the tube 194. This enabled the removal of bubbles within the tube 194 while preventing the infiltration of the liquid into a liquid sucking/draining device or the like.

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本発明は、固相化試薬!A造装置におけるチューブコネ
クター装置に係り、より共体的には、試薬固相容器に自
動的に試薬を分注して試薬固相容器内壁部に試薬を固相
し得るようにした固相化試薬製造装置におけるチューブ
コネクター装置に関する。
[Detailed Description of the Invention] [Industrial Application Field] The present invention is a solid-phase reagent! Regarding the tube connector device in the A-manufacturing equipment, more specifically, it is a solid-phase system that automatically dispenses reagents into solid-phase reagent containers and solidifies the reagents on the inner wall of the solid-phase reagent container. The present invention relates to a tube connector device in a reagent manufacturing device.

[従来の技術] 後天性免疫不全症賎群(A I D S)患者は、最近
、多くの国で確認されている。そして、患者の認定と発
症の原因物質の究明に多くの努力が費され、疫学的デー
タによると、AIDSは感染性の物質が血液等の体液を
媒体として水平感染することが示唆されている。
[Prior Art] Patients with acquired immunodeficiency syndrome (AIDS) have recently been identified in many countries. Many efforts have been made to identify patients and investigate the causative agent of the disease, and epidemiological data suggest that AIDS is caused by horizontal transmission of infectious substances through body fluids such as blood.

AIDSにかかると免疫機能が著しく低下し。When infected with AIDS, the immune system is severely weakened.

感染症やガンの一種であるカボシ肉種、カビによるニュ
ーモニスカリー二肺炎等が原因で死亡する。AIDS、
r!!者の死亡率は既知のごとく極めて高く、又、患者
を媒体として感染するところから、AIDS患者の早期
発見が急務である。最近、米国特許4,520,113
がR,CGa11o等に対して付与(発行)されたが、
このGa1lo等の特許は、エリザ法(ELISA、芙
語の専門語、EnZ7me  Linked  Imm
uno  5orbent  As5ayの頭文字)又
は、ウェスタンブロッティング法もしくは間接免疫蛍光
法に基づくストリップRIAにおける抗原として、H9
/HTLV−mと命名された細胞の断片を使用すること
により、AIDS及びPre−AIDS患者の血清中の
抗体を検出する方法である。より具体的には、AIDS
ウィルス抗原を使用し、このAIDSウィルス抗原をプ
ラスチックで作ったプレートの穴の底に固定化しておき
、検査する各血清を穴の底に入れ、長色反応を見ること
により、AIDSウィルスに対する抗体の存在を検出す
るものである。
Deaths occur due to infectious diseases, Kaboshi meat type, which is a type of cancer, and pneumonia caused by mold. AIDS,
r! ! As is known, the mortality rate of AIDS patients is extremely high, and since the infection is transmitted through patients, there is an urgent need for early detection of AIDS patients. Recently, U.S. Patent 4,520,113
was granted (issued) to R, CGa11o, etc., but
This patent of Ga1lo et al.
uno 5orbent As5ay) or as an antigen in strip RIA based on Western blotting or indirect immunofluorescence.
This is a method for detecting antibodies in the serum of AIDS and Pre-AIDS patients by using a cell fragment named /HTLV-m. More specifically, AIDS
Using a viral antigen, immobilize this AIDS virus antigen on the bottom of a hole in a plastic plate, put each serum to be tested into the bottom of the hole, and observe the long color reaction to determine whether antibodies against the AIDS virus have been detected. It detects the presence.

この方法によれば、血清がAIDSウェイルスに対する
抗体を含んでいれば、それは固定化された抗原の上に結
合され、数回操作後の長色反応により抗AIDSウィル
ス抗体の存在が検出できる。これにより、AIDS、@
者か否かの確認を行なうことができ、Axpsg者の感
染を防止することが可能となる。
According to this method, if the serum contains antibodies against the AIDS virus, it is bound onto the immobilized antigen and the presence of anti-AIDS virus antibodies can be detected by a long color reaction after several runs. As a result, AIDS, @
It is possible to confirm whether the person is a person or not, and it is possible to prevent the person from being infected with Axpsg.

又、その他の方法として、固相法(ビーズ)を利用した
EIA(Enzyme  Immunoas s a 
y)により、検体(血清又は血漿)中のHTLV−In
抗体を検出する方法がある。
In addition, as another method, EIA (Enzyme Immunoassay) using solid phase method (beads) is available.
y), HTLV-In in the specimen (serum or plasma)
There are ways to detect antibodies.

[発明が解決しようとする問題点] 上記従来技術においては、プラスチックで製作したプレ
ートの穴に1作業者がいわゆる用手法にてAIDSウェ
イルス抗原を入れ、このAIDSウィルス抗原をプレー
トの穴の底に固定化(コーティング)させて試薬を製造
していたので、均一の試薬を製造することができず、そ
のために試薬の品質が著しく低下し、試薬としての信頼
性が極めて低いものとなっていた。又、用手法による場
合には、プレートの穴の底にコーティングされる被膜の
厚さが一定化しないので、検出の信頼性が低く、又、用
手法においては試薬を多量に製造できないので、生産性
が著しく低いものとなっていた。
[Problems to be Solved by the Invention] In the above-mentioned prior art, one worker manually inserts an AIDS virus antigen into a hole in a plate made of plastic, and places the AIDS virus antigen at the bottom of the hole in the plate. Since reagents were produced by immobilization (coating), it was not possible to produce uniform reagents, which resulted in a significant decline in the quality of the reagents and extremely low reliability as reagents. In addition, when using the manual method, the thickness of the film coated on the bottom of the hole in the plate is not constant, so the reliability of detection is low, and the reagent cannot be manufactured in large quantities using the manual method, so production is slow. The quality was extremely low.

又、試薬としてAIDSウィルス抗原(HTLv−m)
を使用しているので、試薬を製造するための準備段階に
おいて極度な警戒を必要とし、健康な研究所作業員にと
って非常に危険である。
In addition, AIDS virus antigen (HTLv-m) is used as a reagent.
requires extreme vigilance during the preparatory steps for producing the reagents and is extremely dangerous for healthy laboratory workers.

又、たとえ不活性化されたウィルスを使用したとしても
不活性化されたウィルスへの接触は健康な作業員の抗体
産生の原因となりうるし、もし抗体が産生された場合、
彼等はAIDS 、ARC(AIDS  Re1ate
d  Complex)あるいはPre−AIDSであ
ると誤診断されるおそれがある。さらに、試薬における
H9細胞又は大腸菌(E、Co11)の細胞内物質の存
在は、大腸菌(E、Co11)又はH9細胞に対する抗
体を有する個人から、HTLV−III抗体スクリーニ
ング試験においてまちがった結果を引き出す可能性があ
る。これらまちがった陽性反応は、健康な個人及びその
家族に対する過酷な心配をへたらし、又、AIDSに感
染しているとして誤って診断される可能性があり、それ
らの人は通常な社会的活動から追放されるおそれがある
Also, even if an inactivated virus is used, contact with the inactivated virus can cause healthy workers to produce antibodies, and if antibodies are produced,
They are AIDS, ARC (AIDS Re1ate)
d Complex) or Pre-AIDS may be misdiagnosed. Additionally, the presence of intracellular material of H9 cells or E. coli (E, Co11) in the reagent can elicit erroneous results in HTLV-III antibody screening tests from individuals with antibodies to E. coli (E, Co11) or H9 cells. There is sex. These false positive tests cause severe anxiety for healthy individuals and their families, and may also result in them being incorrectly diagnosed as having AIDS, preventing them from participating in normal social activities. There is a risk of being expelled from.

本発明は、上記従来技術の問題点に鑑みなされ蕎+小弔
狐−で 葎畠由のM T T、 ’J −m Lご封す
る抗体の存在検出用の試薬又はAFP (胎児性抗原)
、rgE(イムノグロブリンE)等を自動的にプレート
上の多数の各マイクロウェル内にコーティング(被膜化
)し得るようにして、作業者に安全な、かつ均一な固相
化試薬が製造できるようにしだ固相化試薬製造装置にお
けるチューブコネクター装置を提供することを目的とす
る。
The present invention has been developed in view of the problems of the prior art described above, and has been devised to provide a reagent for detecting the presence of antibodies or AFP (embryonic antigen), which is prepared by Yuki Soba and Yuki Soba.
, rgE (immunoglobulin E), etc. can be automatically coated (filmed) into each of a large number of microwells on a plate, so that a uniform immobilized reagent that is safe for workers can be produced. An object of the present invention is to provide a tube connector device for a Nishida solid-phase reagent manufacturing device.

[問題点を解決するための手段及び作用]本発明は、試
薬固相容器に自動的に試薬を分注して前記容器内壁部に
試薬を固相化させるように構成してなる固相化試薬製造
装置におけるチューブコネクター装置において。
[Means and effects for solving the problems] The present invention provides a solid-phase reagent that is configured to automatically dispense a reagent into a solid-phase reagent container and solidify the reagent on the inner wall of the container. In tube connector devices in reagent manufacturing equipment.

液体吸排用ノズルと前記ノズルに対して試薬溶液や洗浄
液等の液体を吸引、排出させるための吸排装置とを連通
接続するチューブに、前記チューブ内径より大径の液溜
り部を有するコネクタ一部を配設して構成することによ
り、チューブ内の泡切りを行うとともに液体がシリンジ
(液体吸排装置)内等に入り込むのを防止しイ1)るよ
うにしたものである。
A part of the connector having a liquid reservoir portion having a diameter larger than the inner diameter of the tube is attached to a tube that communicates and connects a liquid suction/drainage nozzle with a suction/drainage device for suctioning and discharging liquid such as a reagent solution or cleaning liquid from the nozzle. By arranging and configuring the tube, it is possible to remove bubbles in the tube and prevent liquid from entering the syringe (liquid suction and discharge device).

C実施例1 以下、図面を用いて本発明の実施例に−)いて説明する
が、その前に、末完IJIに係る試薬のチューブコネク
ター装置を含む固相化試薬造装はの概略構成について第
1図を用いて説す1する。
C Example 1 Examples of the present invention will be described below with reference to the drawings, but before that, the schematic structure of a solid-phase reagent assembly including a tube connector device for reagents related to final IJI will be explained. This will be explained using Figure 1.

第1図は、本発明に係るチューブコネクター装置を含む
固相化試薬製造装置2の全体構成図であり1図中におい
て各構成部を連結する矢印は工程・の順序を示すもので
ある。
FIG. 1 is an overall configuration diagram of a solid-phase reagent manufacturing apparatus 2 including a tube connector device according to the present invention, and arrows connecting each component in FIG. 1 indicate the order of steps.

図に示すごとく固相化試薬製造装置2は、供給マガジン
3から供給、搬送されてくるマイクロプレート4上の各
ウェル5内に試薬を分注して各ウェル5の内壁面に試薬
被膜をコーティングするための試薬コーティング装Wl
l、各ウェル5内に分注、コーティングされた試薬を培
養(インキュベート)するためのitのインキュベート
装置(培養装置)6、各ウェル5内の余分の試薬溶液を
排出するとともに各ウェル内を洗浄するための第1の洗
n1装置(試薬固相容器洗浄装置装置)7.各ウェルの
5内壁及び底面にコーティングされている試薬に対して
ゼラチンをコーティングし、ピンホール等を被覆するた
めのゼラチンコーティング装置8、ゼラチンコーテイン
グ後の試薬を再び培養するための第2のインキュベート
装置9、第2のインキュベート装置9を介してインキュ
ベートされた試薬を洗浄するための第2の洗浄装置(試
薬固相容器洗浄装置)10、洗浄された試薬を所要の温
度雰囲気中にて完全乾燥するための乾燥袋2211とよ
り構成してなるものである。
As shown in the figure, the solid-phase reagent manufacturing apparatus 2 dispenses reagents into each well 5 on a microplate 4 that is supplied and transported from a supply magazine 3, and coats the inner wall surface of each well 5 with a reagent film. Reagent coating equipment Wl for
l. It's incubator (culture device) 6 for dispensing and incubating the coated reagent into each well 5, draining the excess reagent solution from each well 5 and washing the inside of each well. 7. First washing n1 device (reagent solid phase container cleaning device device) for cleaning. A gelatin coating device 8 for coating the reagent coated on the inner wall and bottom of each well with gelatin to cover pinholes, etc., and a second incubation device for culturing the reagent after gelatin coating. 9. Second cleaning device (reagent solid phase container cleaning device) 10 for cleaning the reagent incubated through the second incubation device 9, and completely drying the cleaned reagent in an atmosphere at a required temperature. It consists of a drying bag 2211 for storage.

本発明に係るチューブコネクターは、第3及び第6の工
程部に属するものであり、以下1本発明に係る装置の1
実施例について詳細に説明する。
The tube connector according to the present invention belongs to the third and sixth process sections, and is as follows: 1 of the apparatus according to the present invention.
Examples will be described in detail.

なお、洗浄装置7と洗浄装置10とは同一構成であるの
で、洗浄装置7について説明し、他側の説明は省略する
Note that since the cleaning device 7 and the cleaning device 10 have the same configuration, only the cleaning device 7 will be described, and a description of the other side will be omitted.

第2図a、b、cは、本発明に係るチューブコネクター
装置を含む試薬固相容器洗浄装置7の実施例を示す平面
図、正面図及び側面図である。第1図において示したよ
うに、試薬固相容器洗浄装置7は、試薬溶液を分注され
、コーティングされたマイクロウェル(以下、単にウェ
ルという)5を有する(装備した)マイクロプレート4
を収納する供給マガジン3.マイクロプレート4を一定
ピッチで搬送するためのプレート搬送機構部12、各ウ
ェル(固相容器)5内の余分の試薬溶液を吸引、排出す
るとともに各つよル5に対して洗浄液を分注、排出する
ための洗す液ノズルアーム部13、洗浄液を貯溜するた
めの洗浄液棚部14゜洗浄液ノズルアーム部13におけ
る液面検知用電極(第1図においては図示省略)を洗浄
するための電極洗浄棚部16.洗浄溶液を3回分注する
量分だけ吸引し、吸引した洗浄液を3回に分けて各ウェ
ル5二対して分注するための洗浄液分注ユニット部46
.及び各ウェルの洗浄が完了したマイクロプレート4を
収納するための排出マガジン17等より構成しである。
FIGS. 2a, b, and c are a plan view, a front view, and a side view showing an embodiment of the reagent solid phase container cleaning device 7 including the tube connector device according to the present invention. As shown in FIG. 1, the reagent solid phase container cleaning device 7 includes a microplate 4 having (equipped with) microwells (hereinafter simply referred to as wells) 5 into which a reagent solution is dispensed and coated.
3. Supply magazine that stores the. A plate transport mechanism section 12 for transporting the microplate 4 at a constant pitch, aspirates and discharges excess reagent solution in each well (solid phase container) 5, and dispenses and discharges a washing solution to each well 5. cleaning liquid nozzle arm 13 for cleaning, cleaning liquid shelf 14 for storing cleaning liquid; electrode cleaning shelf for cleaning the liquid level detection electrode (not shown in FIG. 1) in the cleaning liquid nozzle arm 13; Part 16. A cleaning liquid dispensing unit section 46 for aspirating the amount of cleaning solution to be dispensed three times and dispensing the aspirated cleaning liquid three times to each well 52.
.. and an ejection magazine 17 for storing the microplate 4 whose wells have been completely washed.

なお、洗浄が完了したマイクロプレート4を連続的に直
接次工程に搬送する場合には、排出マガジン17を不要
化してもよい。
Incidentally, in the case where the microplates 4 that have been completely washed are continuously and directly conveyed to the next process, the ejection magazine 17 may be omitted.

コーティング工程、インキ、へ−)TJJを経たマイク
ロプレート4を収納する供給マガジン3は、第3図aに
て示すごとく中空状の容器に構成してあり、その内周面
の対向面にはマイクロプレート4を係止保持するための
溝状段部18が形設しである。溝状段部18は、一定ピ
ツチにて上下方向に10個(10個に限定されない)形
設してあり、従って、供給マガジン3内にはマイクロプ
レート4が10枚内蔵されるようになっている。供給マ
ガジン3の下面部(底面部)には1位首決め用の孔19
が貫設してあり、この孔19とマガジン昇降装置20偶
の位置決めピン21とが係合することにより、供給マガ
ジン3の位置決めがなされるようにJジ定しである。供
給マガジン3における溝状段部18は、マイクロプレー
ト4を位置方向側から挿入した場合にのみ挿入可能とな
るように形設してあり、他方向側から挿入した場合には
挿入できないように構成して収、納されるマイクロプレ
ート4が常に一定の方向性を保持するように1;q定し
である。22で示すのは把手である。
The supply magazine 3 that stores the microplates 4 that have gone through TJJ (coating process, ink, etc.) is configured as a hollow container as shown in FIG. A groove-like stepped portion 18 is provided for locking and holding the plate 4. Ten groove-like steps 18 (not limited to ten) are formed in the vertical direction at a constant pitch, and therefore ten microplates 4 are housed in the supply magazine 3. There is. A hole 19 for determining the first place is located on the lower surface (bottom surface) of the supply magazine 3.
is provided through the hole 19, and is J-shaped so that the supply magazine 3 can be positioned by engaging this hole 19 with the positioning pin 21 of the magazine elevating device 20. The groove-like stepped portion 18 in the supply magazine 3 is formed so that the microplate 4 can be inserted only when inserted from the position direction side, and is configured so that it cannot be inserted when inserted from the other direction. The microplate 4 is fixed at 1;q so that the microplate 4 stored therein always maintains a constant orientation. Reference numeral 22 indicates a handle.

供給マガジン3は、装若本体内に配備されたマガジン昇
降装置20(第3図参照)を介して昇降自在の構成とな
っており、このマガジン昇降装置20の構成について第
3図す、c、dを用いて説明する0図において23で示
すのは、供給マガジン3を載置支持するための支持ベー
スで、モーター24を介して昇降駆動される昇降 25
の上端部に固定ねじ26を介して固定されている。
The supply magazine 3 is configured to be able to be raised and lowered freely via a magazine lifting device 20 (see FIG. 3) disposed inside the loading and unloading main body, and the configuration of this magazine lifting device 20 is shown in FIG. In Figure 2, which will be explained using d, 23 is a support base for mounting and supporting the supply magazine 3, and the support base 25 is driven up and down by a motor 24.
It is fixed to the upper end of the frame via a fixing screw 26.

モーター24は、回転運動を直線運動に変換するモータ
ーにて構成しである。モーター24は、装置本体の中間
部位に配置された中間ベース27上に固設されており、
この中間ベース27上には、支持ベース23に回転自在
に支持されたガイドローラー28をガイドするためのガ
イドレール板29が固設されている。ガイドレール板2
9は、支持ポスト30を介して中間ベース27に固定さ
れている。31で示すのは固定ねじである。ガイドロー
ラー28は、第3図Cにて示すごとく、ガイドレール板
29のガイド面を挟持するごとくに配設されており、2
対のガイドローラー28にて安定的にガイドしうるよう
に構成しである。各ガイドローラー28には、7字形状
のガイド溝32が形設してあり、このガイド溝32と係
合するガイドレール板29の係合部はガイド溝32と 
合するV字形状に形設しである。33で示すのは。
The motor 24 is composed of a motor that converts rotational motion into linear motion. The motor 24 is fixed on an intermediate base 27 located at an intermediate portion of the main body of the device.
A guide rail plate 29 is fixed on the intermediate base 27 for guiding a guide roller 28 rotatably supported by the support base 23. Guide rail plate 2
9 is fixed to the intermediate base 27 via a support post 30. Reference numeral 31 indicates a fixing screw. As shown in FIG. 3C, the guide rollers 28 are arranged so as to sandwich the guide surface of the guide rail plate 29.
It is configured so that it can be guided stably by a pair of guide rollers 28. Each guide roller 28 is formed with a 7-shaped guide groove 32, and the engaging portion of the guide rail plate 29 that engages with this guide groove 32 is connected to the guide groove 32.
It is shaped like a matching V-shape. What is indicated by 33?

ガイドローラー28の支持ピンである。34で示すのは
、支持ベース23に固設されたセンサー35と協働して
支持ベース23の移動量、即ち供給マガジン3の昇降作
動量を制御するためのセンサー板で、昇降 25と平行
に配設しである。センサー35は、投光部と受光部とを
有するセンサーで、支持板36を介して支持ベース23
に固設しである。センサー板34には、一定ピツチで切
欠き37が形設してあり、支持ベース23を下降させる
際にセンサー35が切欠き37と対応する位置に至ると
、センサー35の受光部が投光部からの光を受光し、支
持ベース23の下降を停止制御するように設定しである
。切欠き37は、供給マガジン3内に収納されるマイク
ロプレート4の枚数と同一の数(本実施例では10個)
だけ形設しである。38で示すのは、供給マガジン3内
に収納されたマイクロプレート4の存在検出用のセンサ
ーで、ブラケット39を介して支持ポスト30の上端部
に固定しである。40で示すのは。
This is a support pin for the guide roller 28. Reference numeral 34 denotes a sensor plate for controlling the amount of movement of the support base 23, that is, the amount of lifting and lowering of the supply magazine 3 in cooperation with a sensor 35 fixed to the support base 23. It is arranged. The sensor 35 has a light emitting part and a light receiving part, and is connected to the support base 23 via a support plate 36.
It is fixedly installed. Notches 37 are formed in the sensor plate 34 at a constant pitch, and when the sensor 35 reaches a position corresponding to the notches 37 when the support base 23 is lowered, the light receiving part of the sensor 35 is connected to the light emitting part. It is set to receive light from the support base 23 and stop the lowering of the support base 23. The number of notches 37 is the same as the number of microplates 4 stored in the supply magazine 3 (10 in this embodiment).
It's just a formality. Reference numeral 38 indicates a sensor for detecting the presence of the microplate 4 housed in the supply magazine 3, and is fixed to the upper end of the support post 30 via a bracket 39. What is indicated by 40?

支持ポスト30に固設されたセンサー41.42と協働
して支持ベース23の昇降作動の上限、下限位置を規制
するためのセンサー板で、支持ベース23に固設しであ
る。43.44で示すのは。
This sensor plate is fixed to the support base 23 and cooperates with the sensors 41 and 42 fixed to the support post 30 to regulate the upper and lower limit positions of the lifting and lowering operation of the support base 23. 43.44 shows.

センサー41.42の支持板、45で示すのはセンサー
板34が固定されている支持ポストである。マイクロプ
レート4を10枚収納した供給マガジン3は、第2図す
、cにて示すごとく、第3図にて示すマガジン昇降装置
20を介して上昇した位置にセットされている。
The support plates for the sensors 41, 42, indicated at 45, are support posts to which the sensor plates 34 are fixed. The supply magazine 3 containing ten microplates 4 is set at an elevated position via the magazine lifting device 20 shown in FIG. 3, as shown in FIG. 2C.

排出マガジン17(第1図、第2図参照)の構成を第3
図eに示すが1図に示すように排出マガジン17は供給
マガジン3と同一構成となっている。そして、排出マガ
ジン17は、第2図す、cにて示すごと<、:fS3図
eにて示すマガジン昇降装置20を介して下降した位置
にセットされており、第3図eにて示すごとく空状態で
セットされている排出マガジン17内に、洗浄作業が完
了したマイクロプレート4が上段から順に収納されるよ
うになっている。
The configuration of the ejection magazine 17 (see Figures 1 and 2) is
As shown in FIG. 1, the discharge magazine 17 has the same structure as the supply magazine 3, as shown in FIG. The ejection magazine 17 is set in a lowered position via the magazine lifting device 20 as shown in Fig. 2c, :fS3, e, and as shown in Fig. 3e. The microplates 4 that have been cleaned are stored in the discharge magazine 17, which is set in an empty state, in order from the top.

プレート搬送機構部12は、供給マガジン3からマイク
ロプレート4を一枚ずつ取り出し、一定ピツチで洗浄液
ノズルアーム部13方向に搬送するとともに、洗浄液ノ
ズルアーム部13を介して洗浄されたマイクロプレート
4を排出マガジン17に収納させるためのものであり、
このプレート搬送機構部12の構成について第4図、第
5図及び第6図を用いて説明する。
The plate transport mechanism section 12 takes out the microplates 4 one by one from the supply magazine 3 and transports them at a constant pitch toward the cleaning liquid nozzle arm section 13, and also discharges the cleaned microplates 4 through the cleaning liquid nozzle arm section 13. It is for storing in the magazine 17,
The configuration of this plate transport mechanism section 12 will be explained using FIGS. 4, 5, and 6.

第4図は、プレート搬送機構部12周辺の斜視図であり
、第5図aはプレート搬送機構部12の斜視図である。
4 is a perspective view of the vicinity of the plate transport mechanism section 12, and FIG. 5a is a perspective view of the plate transport mechanism section 12.

又、第5図す、cは第5図aの要部の拡大図であり、第
6図a、b、cは第5図の平面図、正断面図及び一部を
破断した側面図である0図において50で示すのは、マ
イクロプレー1−4の受は台51を固定装備した受は台
支持枠で、受は台51上にマイクロプレート4を載置支
持してマイクロプレート4を一定ピッチずつ搬送するた
めのものである。受は台51は、2個を一対として4対
、合計8個配設してあり、各月の中心52間の距fi(
ピッチ)Pは同一寸法に設定しである。53で示すのは
、受は台51の固定ねじである。受は台支持枠50の下
面には、プレート(台板)54が配設してあり、プレー
ト54は固定ねじ53を介して受は台支持枠50に固定
されている。プレート54の下方位置には、逆り字形状
のスライドベース55が配設してあり、スライドベース
55は、装置本体の固定フレーム56に横架されたスラ
イド 57に第6図すにおいて左右方向にスライド自在
に支持されている。スライドベース55の水平部55a
の下面には、4個のポールブツシュ58が固定してあり
、プレート54の下面に垂設固定したスライド軸59が
このポールブツシュ58内に上下動自在に貫挿しである
。即ち、プレート54及び受は台支持枠50は、スライ
ド軸59.ボールブツシュ58を介してスライドベース
55の水平部55aに対して上下動(昇降)自在の構成
となっている。4個のボールブツシュ58に貫挿された
4木のスライド軸59のうち、第6図aにおいて右側に
位こするスライド軸59の下端部は、連結板60を介し
て連結されている。61で示すのは、連結板60の固定
ねじである。連結板60のほぼ中央部には、第6図Cに
て示すごとく長孔61が設けてあり、この長孔61内に
はカム駆動部2162のカム63と係合するカムフォロ
ア(ローラフォロア)64が支軸64aを介して回転自
在に支持されている。カム駆動装置62は、カムフォロ
ア64と係合するカム63を回転駆動するためのもので
、ギアヘッド付きのモーター65、モーター65の駆動
軸(出力軸)66にカップリング67を介して連結され
たカム軸68、カム軸68にキー69を介して固定され
たカム63等より構成しである。
In addition, Figures 5 and 5 c are enlarged views of the main parts of Figure 5 a, and Figures 6 a, b, and c are a plan view, a front sectional view, and a partially cutaway side view of Figure 5. In a certain figure, 50 indicates that the support of the microplate 1-4 is a support frame on which a stand 51 is fixedly mounted, and the support is a support frame for placing and supporting the microplate 4 on the stand 51. This is for conveying at a constant pitch. The receivers 51 are arranged in 4 pairs, 8 in total, and the distance between the centers 52 of each month is
Pitch) P is set to the same size. Reference numeral 53 indicates a fixing screw for the base 51. A plate (base plate) 54 is disposed on the lower surface of the support frame 50, and the plate 54 is fixed to the support frame 50 via fixing screws 53. An inverted-shaped slide base 55 is disposed below the plate 54, and the slide base 55 is attached to a slide 57 horizontally suspended on a fixed frame 56 of the main body of the device. It is supported so that it can slide freely. Horizontal portion 55a of slide base 55
Four pole bushes 58 are fixed to the lower surface of the plate 54, and a slide shaft 59 vertically fixed to the lower surface of the plate 54 is inserted into the pole bushes 58 so as to be vertically movable. That is, the plate 54 and the support frame 50 are connected to the slide shaft 59. It is configured to be able to move up and down (up and down) with respect to the horizontal portion 55a of the slide base 55 via the ball bush 58. Among the four wooden slide shafts 59 inserted through the four ball bushes 58, the lower end of the slide shaft 59 located on the right side in FIG. 6a is connected via a connecting plate 60. Reference numeral 61 indicates a fixing screw for the connecting plate 60. As shown in FIG. 6C, an elongated hole 61 is provided approximately in the center of the connecting plate 60, and a cam follower (roller follower) 64 that engages with the cam 63 of the cam drive section 2162 is installed in the elongated hole 61. is rotatably supported via a support shaft 64a. The cam drive device 62 is for rotationally driving a cam 63 that engages with a cam follower 64, and includes a motor 65 with a gear head and a cam connected to a drive shaft (output shaft) 66 of the motor 65 via a coupling 67. It is composed of a shaft 68, a cam 63 fixed to the cam shaft 68 via a key 69, and the like.

モーター65は、スライドベース55の水平部55aに
一体的に垂設されたモーターベース70に固定しである
。又、カム軸68は、スライドベース55の水平部55
aに垂設したカム軸支持板71.71に 着した軸受7
2を介して回転自在に支持構成しである。スライドベー
ス55の水平部55aには、受は台支持枠50を常時上
方向に押圧付勢するための支持枠上動装置73が装若し
である。支持枠上動装置73は、プレート54の下面と
当接する上動ピン74と、上動ビン74を収納するピン
収納i’375、及び上動ビン74を常時上方向に付勢
するための付勢部材(例えばコイルスプリング)76と
より構成してあり、付勢部材76を介して上動付勢され
る上動ビン74により、受は台支持枠50が常時上動さ
れるようになっている。カム63は偏心カムにて構成し
てあり、カム駆動装置62を介してカム63を回転駆動
した際には、カム63がカムフォロア64と形設してカ
ムフォロア64を下方向に押圧し、支持枠上動装置73
を介して上動されている受は台支持枠50が下動せしめ
られるようになっている。
The motor 65 is fixed to a motor base 70 that is integrally vertically disposed on the horizontal portion 55a of the slide base 55. Further, the cam shaft 68 is connected to the horizontal portion 55 of the slide base 55.
Bearing 7 attached to camshaft support plate 71, 71 hanging vertically on a
It is rotatably supported via 2. A support frame lifting device 73 is mounted on the horizontal portion 55a of the slide base 55 to constantly press and bias the support frame 50 upward. The support frame lifting device 73 includes an lifting pin 74 that comes into contact with the lower surface of the plate 54, a pin storage i'375 that stores the upper moving bottle 74, and an attachment that always urges the upper moving bottle 74 upward. The platform support frame 50 is always moved upward by the upwardly moving pin 74 which is configured with a biasing member (for example, a coil spring) 76 and is biased upwardly via the biasing member 76. There is. The cam 63 is composed of an eccentric cam, and when the cam 63 is rotationally driven via the cam drive device 62, the cam 63 forms a cam follower 64, presses the cam follower 64 downward, and presses the cam follower 64 downward. Lifting device 73
The support frame 50 is moved upwardly through the support frame 50, so that the support frame 50 is moved downwardly.

スライド軸59の下部には、上下方向に適宜隔てて2個
の検知部材77.78が固設してり、他方、スライドベ
ース55の水平部55aには、検知部材77.78を検
出する2個のセンサー79.80が支持板81を介して
取り付けである。そして、この検知部材77 、78 
、センサー79.80の協働作用により、受は台支持枠
50の上下作動が検出されるようになっている。82で
示すのは間座である。
Two detection members 77 and 78 are fixedly installed on the lower part of the slide shaft 59 at appropriate distances apart in the vertical direction, and on the other hand, two detection members 77 and 78 are fixed on the horizontal part 55a of the slide base 55. Sensors 79 and 80 are attached via support plate 81. And these detection members 77 and 78
, and sensors 79 and 80, the up and down movement of the stand support frame 50 is detected by the receiver. Reference numeral 82 indicates a spacer.

スライドベース55における水平部55aの上方位置に
は、受は台支持枠50が上動した際に。
When the stand support frame 50 moves upward, the receiver is positioned above the horizontal portion 55a of the slide base 55.

受は台51上にa置されたマイクロプレート4のウェル
5上面と当接してマイクロプレート4の位置決めを行う
ためのストッパープレート83が配設しである。ストッ
パープレート83は、支柱84を介してスライドベース
55の水平部55aに固定しである。ストッパープレー
ト83の一側面部には、マイクロプレート4内のマイク
ロウェルモジュール検知用のマイクロウェルモジュール
検知装置85が装備しである。マイクロプレート4内に
は、第5図d、e、fにて示すごとく複数枚ノマイクロ
ウェルモジュール86が装着してあり、マイクロイニル
モジュール検知部首85は、このマイクロウェルモジュ
ール86の有無を検知するためのものである。マイクロ
ウェルモジュール検知装置85は、第5図す、cにて示
すごとくスイッチベース87と、検知用スイッチ88を
複数個装備したスイッチ板89.検知用スイッチ88を
作動用の板ばね90等より構成してあり、板ばね90は
、複数のスイッチ88を個別的に0N−OFFL得るよ
うに設定構成しである。そ 。
The receiver is provided with a stopper plate 83 for positioning the microplate 4 by coming into contact with the upper surface of the well 5 of the microplate 4 placed a on the table 51. The stopper plate 83 is fixed to the horizontal portion 55a of the slide base 55 via a support 84. One side of the stopper plate 83 is equipped with a microwell module detection device 85 for detecting microwell modules in the microplate 4. A plurality of microwell modules 86 are installed in the microplate 4 as shown in FIG. It is for detection. The microwell module detection device 85 includes a switch base 87 and a switch plate 89 equipped with a plurality of detection switches 88, as shown in FIG. The detection switch 88 is constituted by an actuating leaf spring 90, etc., and the leaf spring 90 is configured to set the plurality of switches 88 individually to obtain ON-OFF state. So .

して、板ばね90は、マイクロプレート4内のマイクロ
ウェルモジュール86のフランジ部86 aと当接自在
の構成となっており、受は台51上のマイクロプレート
4が上動した際にマイクロプレート4のフランジ部86
aが板ばね90を押圧し、スイッチ88が作動されるよ
うになっている。従って、スイッチ88が全部作動しな
いときにはマイクロプレート4がないときであり、又。
The plate spring 90 is configured to be able to come into contact with the flange portion 86a of the microwell module 86 in the microplate 4, and when the microplate 4 on the table 51 moves upward, the plate spring 90 is configured to come into contact with the flange portion 86a of the microwell module 86 inside the microplate 4. 4 flange portion 86
a presses the leaf spring 90, and the switch 88 is activated. Therefore, when all the switches 88 are not activated, there is no microplate 4.

一部のスイッチ88が作動しないときには、一部のマイ
クロウェルモジュール86が不足しているものと判定さ
れることとなる。91で示すのはマイクロプレート4保
持用の板ばね、92で示すのはスイッチ88の配線処理
用のダクトである。
When some of the switches 88 are not activated, it is determined that some of the microwell modules 86 are in short supply. Reference numeral 91 indicates a leaf spring for holding the microplate 4, and reference numeral 92 indicates a duct for wiring the switch 88.

第6図において93で示すのは、スライドベース55を
スライド 57に沿って移動制御するためのパルスモー
タ−で、装置本体の固定フレーム56に固設されている
。受は台支持枠50は、パルスモータ−93を介して4
対の受は台51の各月の中心52間のピッチPだけ進退
移動制御されるように制御構成されている。即ち、一対
の受は台51上に載置支持されるマイクロプレート4は
、パルスモータ−93により移動制御される受は台支持
枠50を介してlピッチPずつ移動制御されるようにな
っている。又、一対の受は台51.51上にa置される
マイクロプレート4は、パルスモータ−93を介してl
ピッチP内の範囲内において一定の小ピツチずつ移動制
御されるようになっており、第1図にて示す洗浄液ノズ
ルアーム13を介してマイクロプレート4の各ウェル5
内に対して洗浄液を分注、排出し得るようになっている
。94で示すのは、固定費は台で供給マガジン3内から
搬送されてくるマイクロプレート4を一時的に支持する
ためのものである。
In FIG. 6, reference numeral 93 indicates a pulse motor for controlling the movement of the slide base 55 along the slide 57, and is fixed to the fixed frame 56 of the main body of the apparatus. The support frame 50 is powered by a pulse motor 93.
The pair of receivers is controlled to move forward and backward by a pitch P between the centers 52 of each month of the platform 51. That is, the microplate 4 whose pair of supports are placed and supported on the stand 51 is controlled in movement by the pulse motor 93, and the movement of the supports is controlled by l pitch P via the stand support frame 50. There is. In addition, the microplate 4 placed on the stand 51.51 is driven by a pulse motor 93.
The movement is controlled in small pitch increments within a pitch P, and each well 5 of the microplate 4 is
The cleaning liquid can be dispensed into and discharged from the inside. The fixed cost 94 is for temporarily supporting the microplate 4 transported from the supply magazine 3 on a stand.

即ち、受は台支持枠50は、カム63を介して下降され
た状態でパルスモータ−93を介して第6図aの左方向
に1ピッチP分だけ移動制御されるようになっているが
、この際には、供給マガジン3(第1図参照)内に侵入
されるようになっており、この状態でカム63を解除す
る方向に回動して受は台支持枠50を上動せしめた際に
は、供給マガジン3内のマイクロプレート4が1枚だけ
左端側の一対の受は台51上にa21支持されるように
なっている。この状態では、マイクロプレート4は、固
定費は台94の上面よりも上動せしめられるように設定
してあり、この固定費は台94よりも上動された状態で
受は台支持枠50はパルスモータ−93を介してlピッ
チPだけ右方向に移動制御されるようになっている。そ
して、lピッチだけ右方向に移動された状態で受は台支
持枠50はカム63を介して固定費は台94よりも下方
位置に下動せしめられるようになっており、この際に、
受は台51上に載置されていたマイクロプレート4は固
定費は台94上に一時的に載置されるようになっている
。この状態で再び受は台支持枠50がパルスモータ−9
3を介して供給マガジン3内に侵入され、前記と同様の
操作にて供給マガジン内のマイクロプレート4を供給マ
ガジン3外に搬出し、このようにして次々に供給マガジ
ン3内のマイクロプレート4を搬出、搬送しうるように
なっている。
That is, the support frame 50 is controlled to move by one pitch P in the left direction in FIG. 6a via the pulse motor 93 while being lowered via the cam 63. In this case, it is inserted into the supply magazine 3 (see Fig. 1), and in this state, the cam 63 is rotated in the direction of release, and the receiver moves the table support frame 50 upward. In this case, only one microplate 4 in the supply magazine 3 is supported by the pair of supports a21 on the left end side on the stand 51. In this state, the microplate 4 is set so that the fixed cost can be moved above the upper surface of the stand 94, and with this fixed cost moved above the stand 94, the support frame 50 is It is controlled to move rightward by l pitch P via a pulse motor 93. Then, with the support frame 50 moved to the right by l pitches, the support frame 50 is moved downward to a position lower than the fixed support frame 94 via the cam 63, and at this time,
The microplate 4, which was placed on the stand 51, is temporarily placed on the stand 94. In this state, the support frame 50 is again connected to the pulse motor 9.
3 into the supply magazine 3, and carry out the microplates 4 in the supply magazine 3 out of the supply magazine 3 by the same operation as described above, and in this way, the microplates 4 in the supply magazine 3 are successively removed. It is designed to be able to be carried out and transported.

受は台51には、第6図す、cにて示すごとく、マイク
ロプレート4の 合部と 合するテーパー 合部51a
、51bが形設してあり、マイクロプレート4の位と決
めがなされるように設定しである。
The receiver holder 51 has a tapered joint 51a that matches the joint of the microplate 4, as shown in Figure 6C.
, 51b are formed, and are set so that the position of the microplate 4 can be determined.

洗浄液ノズルアーム部13は、洗浄液をマイクロプレー
ト4の各ウェル5内に対して分注、排出するとともに各
ウェル5内に分注された洗浄液の液面検知を行なうため
のもので、第7図、第8図にて示すごとくアーム本体部
100と、アーム本体部100を支持するアーム軸10
1、及びアーム本体部100を昇降作動させるとともに
旋回させるだめのアーム駆動部102等より構成しであ
る。
The cleaning liquid nozzle arm part 13 is for dispensing and discharging the cleaning liquid into each well 5 of the microplate 4 and detecting the liquid level of the cleaning liquid dispensed into each well 5, as shown in FIG. , as shown in FIG. 8, an arm main body 100 and an arm shaft 10 that supports the arm main body 100.
1, and an arm drive section 102 for raising and lowering the arm main body section 100 and rotating it.

アーム本体部100は、第7図aにて示すごとくアーム
軸101に固定されたアームベース103、アームベー
ス103に延設的に設けられた洗浄液分注アーム104
及び液面検知用アーム105とより構成しである。洗浄
液分注アーム104と液面検知用アーム105とは、互
いに直交配置してあり、各アーム104,105は、ア
ーム駆動部102を介して90°旋回可能に構成しであ
る。洗浄液分注アーム104は、洗浄液棚部14(第1
図参照)から洗浄液を3回分注する量だけ吸引し、洗浄
液を3回に分けて各ウェル5内に分注するためのノズル
部106と、ノズル部106支持用のノズル支持ベース
107、及びノズル押え108とより構成しである。ノ
ズル支持ベース107は、第7図aにて示すごとく2枚
に分割構成されており、各ノズル支持ベース107の外
側面には、第7図Cにて示すごとく長く垂下させた第1
のノズル106aが固定しである。
The arm main body 100 includes an arm base 103 fixed to an arm shaft 101 and a cleaning liquid dispensing arm 104 extending from the arm base 103, as shown in FIG. 7a.
and a liquid level detection arm 105. The cleaning liquid dispensing arm 104 and the liquid level detection arm 105 are arranged orthogonally to each other, and each arm 104, 105 is configured to be able to rotate by 90 degrees via the arm drive unit 102. The cleaning liquid dispensing arm 104 is connected to the cleaning liquid shelf 14 (the first
a nozzle part 106 for aspirating the amount of washing liquid to be dispensed three times from the sample (see figure) and dispensing the washing liquid three times into each well 5, a nozzle support base 107 for supporting the nozzle part 106, and a nozzle. It consists of a presser foot 108. The nozzle support base 107 is divided into two parts as shown in FIG.
The nozzle 106a is fixed.

又、各ノズル支持ベース107の内側面には、第1のノ
ズル106aよりも短く設定された第2のノズル106
bが固定しである。第2のノズル106bは、第7図d
にて示すごとく第1のノズル106a側に傾斜配設して
あり、第2のノズル106b先端から分注される洗浄液
を介して第1のノズル106aを洗浄し得るように設定
構成しである。そして、第7図fにて示すごとく、長短
一対のノズル106a、106bが一組となって各ウェ
ル5内に望むように配l構成してあり、この長短一対の
ノズル106a、106bは24対(片側12対×2列
)配設しである。各ノズル106a、106bは、ノズ
ル押え108.固定ねじ109を介して固定保持しであ
る。液面検知用アーム105は、液面検知用の電極11
0と、電極110支持用の電極ベース111とより構成
しである。電極110は、第7図りにて示すごとく、電
極ベース111に形設された凹部112内に収納される
とともに、電極押え板113を介して保持されるように
なっている。電極110は。
Further, on the inner surface of each nozzle support base 107, there is a second nozzle 106 that is set shorter than the first nozzle 106a.
b is fixed. The second nozzle 106b is shown in FIG.
As shown in , the first nozzle 106a is inclined toward the first nozzle 106a, and is configured so that the first nozzle 106a can be cleaned via the cleaning liquid dispensed from the tip of the second nozzle 106b. As shown in FIG. 7f, a pair of long and short nozzles 106a and 106b are arranged as desired in each well 5, and there are 24 pairs of long and short nozzles 106a and 106b. (12 pairs x 2 rows on one side). Each nozzle 106a, 106b has a nozzle holder 108. It is fixed and held via a fixing screw 109. The liquid level detection arm 105 has an electrode 11 for liquid level detection.
0 and an electrode base 111 for supporting the electrode 110. As shown in the seventh diagram, the electrode 110 is housed in a recess 112 formed in an electrode base 111 and is held via an electrode holding plate 113. The electrode 110 is.

第7図り、iにて示すごとく電極針114と、鍔部11
5を有する外筒116とより構成してあり、電極針11
4と外筒116とはV字形状の保合部117を介して互
いに連結されるようになっている0Ml極針114には
ばね作用を有する機構部が装備されており、針先端を押
圧した際の針先端の移動量を吸収しうるように設定され
ている。
As shown in the seventh drawing, the electrode needle 114 and the collar part 11
5, and an outer cylinder 116 having an electrode needle 11.
4 and the outer cylinder 116 are connected to each other via a V-shaped retaining part 117. The setting is such that it can absorb the amount of movement of the needle tip at the time of the change.

ノズル106は、24本(12本×2列)配備されてお
り、又、電極110は、24セツト(12セー、トス2
列)配備されている。
24 nozzles 106 (12 nozzles x 2 rows) are provided, and 24 sets of electrodes 110 (12 sets, 2 tosses) are provided.
column) is deployed.

アーム駆動部102は、第8図a、bにて示すごとく、
アーム軸101を旋回及び上下動するための駆動部11
8により構成しである。アーム軸lotを旋回、上下動
させる駆動部118の機構は、第8図a、bにて示すご
とく回転駆動される2枚のカム120,121と、各カ
ム120゜121と係合するカムフォロア122,12
3、及び、各カム120,121 、カムフォロア12
2.123を介して作動される上下作動用アーム124
.旋回作動用アーム125等より構成しである。各カム
120,121はカム軸126に固設してあり、カム軸
126はモーター(図示省略)により回転駆動されるよ
うになっている。そして、各カム120,121を回転
させることにより、上下作動用アーム124及び旋回作
動用アーム125を介してアーム軸101を上下作動又
は千回作動(90’)L得るように設定構成しである。
As shown in FIGS. 8a and 8b, the arm drive unit 102 is
Drive unit 11 for rotating and vertically moving the arm shaft 101
It is composed of 8. The mechanism of the drive unit 118 that rotates and moves the arm shaft lot up and down includes two cams 120 and 121 that are rotationally driven and a cam follower 122 that engages with each cam 120° 121, as shown in FIGS. ,12
3, and each cam 120, 121, cam follower 12
2. Up and down operating arm 124 operated via 123
.. It is composed of a swing operating arm 125 and the like. Each cam 120, 121 is fixed to a camshaft 126, and the camshaft 126 is rotationally driven by a motor (not shown). The configuration is such that by rotating each cam 120, 121, the arm shaft 101 can be vertically operated or 1,000 times (90')L operated via the vertically operating arm 124 and the swinging arm 125. .

128で示すのはカバーである。Reference numeral 128 indicates a cover.

洗浄液棚部14は、洗浄液を貯溜するためのもので、第
9図a、bにて示すごとく構成しである0図に示すごと
く洗浄液洗浄液棚部14は、洗浄液147を貯溜するた
めの洗浄液容器148゜オーバーフロー受皿149.及
び洗浄液供給ユニット部150等より構成しである。洗
浄液供給ユニット部150は、洗浄液供給タンク151
゜チュービングポンプ152.及び供給ホース153等
より構成してあり、洗浄液147を洗浄液容器148内
に自動供給し得るように設定構成しである。153で示
すのは、下限検知用のセンサーである。154,155
で示すのは、洗浄液147の上限、下限検知用の検知部
材で、洗浄液147の残量が下限を越えた際にランプが
点燈し、ブザーが鳴るように設定しである。
The cleaning liquid shelf 14 is for storing a cleaning liquid, and is configured as shown in FIGS. 9a and 9b. 148° Overflow saucer 149. It is composed of a cleaning liquid supply unit section 150, and the like. The cleaning liquid supply unit section 150 includes a cleaning liquid supply tank 151.
°Tubing pump 152. and a supply hose 153, etc., and are configured so that the cleaning liquid 147 can be automatically supplied into the cleaning liquid container 148. Reference numeral 153 indicates a sensor for lower limit detection. 154,155
1 is a detection member for detecting the upper and lower limits of the cleaning liquid 147, and is set so that when the remaining amount of the cleaning liquid 147 exceeds the lower limit, a lamp lights up and a buzzer sounds.

洗浄液容器148内の洗浄液147は、洗浄液ノズルア
ーム部13のノズル部106を介して吸引され、所定位
置に停止制御せしめられているマイクロプレート4の各
ウェル5内に3回に分けて分注されるようになっている
が、この洗浄液147を吸引1分注する操作は洗浄液分
注ユニット部46を介して行なわれるようになっている
The cleaning liquid 147 in the cleaning liquid container 148 is sucked through the nozzle part 106 of the cleaning liquid nozzle arm part 13, and is dispensed in three portions into each well 5 of the microplate 4, which is controlled to stop at a predetermined position. However, the operation of suctioning and dispensing the cleaning liquid 147 is performed via the cleaning liquid dispensing unit section 46.

洗浄液分注ユニット46は、第10図a、b。The cleaning liquid dispensing unit 46 is shown in FIGS. 10a and 10b.

c、d、eにて示すごとく、洗浄液147を吸引1分注
するためのシリンジ170.シリンジ170の可動軸1
71を昇降駆動せしめるためのパルスモータ−172,
及びシリンジ170.パルスモータ−172を支持する
ための支持フレーム173等より構成しである。シリン
ジ170は、第10図fにて示すごとく、シリンダ一部
174、シリンダ一部174内に摺動自在に挿通された
可動軸171、可動軸171の内端部に固相されたピス
トン175.シリンダーヘッド176、及びチューブ連
結部177等より構成しである。シリンジ170は、洗
浄液を吸引、排出するための短いノズル106b(第7
図参照)の配設数24本と対応させて24本配設しであ
る。
As shown in c, d, and e, a syringe 170 for suctioning and dispensing the cleaning liquid 147. Movable shaft 1 of syringe 170
a pulse motor 172 for driving 71 up and down;
and syringe 170. It is composed of a support frame 173 for supporting the pulse motor 172 and the like. As shown in FIG. 10f, the syringe 170 includes a cylinder part 174, a movable shaft 171 slidably inserted into the cylinder part 174, and a piston 175 solidly attached to the inner end of the movable shaft 171. It is composed of a cylinder head 176, a tube connecting portion 177, and the like. The syringe 170 has a short nozzle 106b (seventh nozzle) for sucking and discharging the cleaning liquid.
24 wires are provided, corresponding to the 24 wires provided in (see figure).

そして、24木のシリンジ170は、第1O図す、c、
dにて示すごとく、2枚に分割構成された支持フレーム
173,173に12本ずつ分割されて配設しである。
The 24-wood syringe 170 is shown in FIG.
As shown in d, the supporting frames 173, 173 are divided into two parts, each having 12 parts.

又、各支持フレーム173に配備された12本のシリン
ジ170は、第1O図すにて示すごとくさらに6木づつ
の2列に配設してあり、前後2月に配設された各シリン
ジ170は、いわゆる千鳥状に交互にずらして配置しで
ある。各シリンジ170の可動軸171の下端部には、
フランジ178を有するボス部179が固設してあり、
ボス部179は、第1O図g。
In addition, the 12 syringes 170 arranged on each support frame 173 are further arranged in two rows of 6 pieces each, as shown in Figure 1O. are arranged alternately in a so-called zigzag pattern. At the lower end of the movable shaft 171 of each syringe 170,
A boss portion 179 having a flange 178 is fixedly provided,
The boss portion 179 is shown in Fig. 1Og.

hにて示すごとく複数の段部180a、180b、18
0cを有する可動軸支持部材180の段部180b 、
180cの係止凹部181,182に係止されている。
As shown in h, a plurality of step portions 180a, 180b, 18
A stepped portion 180b of the movable shaft support member 180 having 0c,
It is locked in the locking recesses 181 and 182 of 180c.

183で示すのは、可動軸171固定用のねじで、可動
軸支持部材18に螺着されている。シリンダーへラド1
76の上部には、係合凹部184を有するねじ185が
固着してあり、この係合凹部184には、上部ベース1
86に螺着した固定ねじ187の下端部が係合している
。上部ベース186は、連結部材188を介して支持フ
レーム173に固定されている。
Reference numeral 183 indicates a screw for fixing the movable shaft 171, which is screwed onto the movable shaft support member 18. Rad to cylinder 1
A screw 185 having an engagement recess 184 is fixed to the upper part of the upper base 76.
The lower end portion of a fixing screw 187 screwed into 86 is engaged. The upper base 186 is fixed to the support frame 173 via a connecting member 188.

シリンジ170におけるシリンダ一部174の下部には
、クランク部189aを有する部材189が設けてあり
、シリンダ一部174は、第1O図gにて示すごとくこ
のフランジ部189aを介してクランク状のシリンジ保
持部材190に保持されている。第10図iにて示す1
91,192は、フランジ部189aと係合する係合凹
部である。可動軸支持部材180は、固定ねじ190a
を介して可動ブロック192に固定されており。
A member 189 having a crank part 189a is provided at the lower part of the cylinder part 174 of the syringe 170, and the cylinder part 174 is connected to a crank-shaped syringe holding member via this flange part 189a, as shown in FIG. It is held by member 190. 1 shown in Figure 10i
91 and 192 are engagement recesses that engage with the flange portion 189a. The movable shaft support member 180 has a fixing screw 190a.
It is fixed to the movable block 192 via.

可動ブロック192は、パルスモータ−172、ガイド
 193を介して昇降制御されるように構成されている
。即ち、シリンジ170の可動軸171はパルスモータ
−172を介して昇降作動されるようになっており、こ
れにより、ピストン175を介してシリンダ一部174
内の空気を吸引、吐出し得るようになっている。チュー
ブ連結部177には、吸引、吐出用のチューブ194が
連結されており、各シリンジ170のチューブ194は
、第10図1 、 m 、 nにて示すごとく、液溜り
部156を介して洗浄液ノズルアーム部13の各短いノ
ズル(洗浄液の吸引、排出用ノズル)106bと連結さ
れている。液溜り部156は、第10図m、nにて示す
ごとく、液溜り本体部157と、液溜り空間部158.
及び液溜り空間部158の両端部に配備された粛手15
9゜160.161とより構成しである。液溜り空間部
158は、洗浄液の吸、併用ノズル106bと同数だけ
設けてあり、各シリンジ170と各洗浄液吸、排用ノズ
ル106bとが液溜り空間部158を介して連通接続さ
れるようになっている。液溜り空間部158の内径は、
チューブ194の内径より大径に形設してあり、液溜り
空間部158の容器はチューブ194に溜りうる洗浄液
の量を十分吸収しうる容積に設定しである。
The movable block 192 is configured to be controlled to move up and down via a pulse motor 172 and a guide 193. That is, the movable shaft 171 of the syringe 170 is moved up and down via the pulse motor 172, and thereby the cylinder part 174 is moved via the piston 175.
It is designed to be able to suck in and expel the air inside. A tube 194 for suction and discharge is connected to the tube connecting portion 177, and the tube 194 of each syringe 170 is connected to the cleaning liquid nozzle via the liquid reservoir 156, as shown in FIGS. It is connected to each short nozzle (cleaning liquid suction and discharge nozzle) 106b of the arm portion 13. As shown in FIGS. 10m and 10n, the liquid reservoir portion 156 includes a liquid reservoir main body portion 157, a liquid reservoir space portion 158.
and hand grips 15 provided at both ends of the liquid reservoir space 158.
It is composed of 9°160.161. The same number of liquid reservoir spaces 158 are provided as the number of cleaning liquid suction/discharge nozzles 106b, and each syringe 170 and each cleaning liquid suction/discharge nozzle 106b are connected to each other via the liquid reservoir space 158. ing. The inner diameter of the liquid reservoir space 158 is
It is formed to have a larger diameter than the inner diameter of the tube 194, and the container of the liquid reservoir space 158 is set to have a volume that can sufficiently absorb the amount of cleaning liquid that can accumulate in the tube 194.

又、液溜り空間部158における継手161側、即ち、
洗油液吸、排用ノズル106b側にはテーパ一部162
が形設してあり、泡切れし易いように構成しである。液
溜り部156は、第1O図1にテ示スごとく、アームベ
ース103に立設された多チヤンネル継手部260に固
定保持しである。195で示すのはチューブ保持部材で
、。
In addition, the joint 161 side in the liquid reservoir space 158, that is,
There is a tapered part 162 on the cleaning oil absorption and discharge nozzle 106b side.
It is designed so that the bubbles can be easily removed. The liquid reservoir 156 is fixedly held on a multi-channel joint 260 erected on the arm base 103, as shown in FIG. Reference numeral 195 indicates a tube holding member.

チューブ貫挿用の孔196が貫設しである。A hole 196 for tube insertion is provided through the tube.

197で示すのは支持部材である。198で示すのはカ
バー、199で示すのはベース台である。
Reference numeral 197 indicates a support member. Reference numeral 198 indicates a cover, and reference numeral 199 indicates a base.

アームベース103に立設された多チヤンネル継手部2
60は、ノズル部106の長いノズル(残液排出用ノズ
ル)106aと残液排出装21261(第10図0+P
)とを接続するためのもので。
Multi-channel joint section 2 erected on arm base 103
60 is a long nozzle (residual liquid discharge nozzle) 106a of the nozzle part 106 and a residual liquid discharge device 21261 (Fig. 10 0+P
) and for connecting.

第10図0+Pにて示すごとく前後に配設された2枚の
透明アクリル板262,263と、アクリル板262,
263間に開設されたパツキン(例えば、厚さ1mm)
264等より構成しである。前部アクリル板262には
、ステンレスバイブ265が貫挿してあり、ステンレス
バイブ265は、ノズル106aの数と同数配設しであ
る。各ステンレスパイプ265は、チューブコネクター
266、チューブ267を介してノズル106aと接続
しである。パツキン264には、第10図pにて示すご
とく各ステンレスパイプ265と連通する大きな空室2
67が形設しである。又、後部アクリル板263には、
パツキン264の空室267と連通する1本の継手26
8が装着してあり、多チヤンネル継手部260はこの継
手268を介して残液排出装置261と接続構成しであ
る。残液排出装fi261は、第10図qにて示すごと
くバキュームタンク269、真空電磁弁270、真空ポ
ンプ271、排液ホース272、チュービングポンプ(
2連ヘツド)273、及び排液タンク274等より構成
してあり、各ウェル5内の残液を排液タンク274内に
排液275として排液し得るように設定しである。27
6で示すのは、排液275の上限量を検出するためのセ
ンサーである。
As shown at 0+P in FIG.
Patchkin opened between 263 (for example, 1mm thick)
It is composed of 264 etc. Stainless steel vibes 265 are inserted through the front acrylic plate 262, and the number of stainless steel vibes 265 is the same as the number of nozzles 106a. Each stainless steel pipe 265 is connected to the nozzle 106a via a tube connector 266 and a tube 267. The packing 264 has a large empty space 2 that communicates with each stainless steel pipe 265 as shown in FIG.
67 is the formation. Also, on the rear acrylic plate 263,
One joint 26 communicating with the empty chamber 267 of the packing 264
8 is attached, and the multi-channel joint section 260 is connected to the residual liquid discharge device 261 via this joint 268. The residual liquid discharge device fi261 includes a vacuum tank 269, a vacuum solenoid valve 270, a vacuum pump 271, a drain hose 272, and a tubing pump (
It is constructed of a double head (273), a drain tank 274, etc., and is set so that the remaining liquid in each well 5 can be drained into the drain tank 274 as a drain liquid 275. 27
6 is a sensor for detecting the upper limit amount of the waste liquid 275.

電極洗浄棚部16は、洗浄液ノズルアーム部13の電極
110を洗浄するためのもので、洗浄液ノズルアーム部
13の液面検知用アーム105が電極洗浄棚部16の上
方位置まで回動された際、即ち、各ウェル5内に分注さ
れた洗す液の液面検知作業を完了したたび毎に電極11
0を流水洗浄するためのものである。以下、その構成に
ついて第4図及び第11図を用いて説明する。
The electrode cleaning shelf 16 is for cleaning the electrode 110 of the cleaning liquid nozzle arm 13, and when the liquid level detection arm 105 of the cleaning liquid nozzle arm 13 is rotated to a position above the electrode cleaning shelf 16. That is, each time the liquid level detection work of the washing liquid dispensed into each well 5 is completed, the electrode 11
This is for washing the 0 with running water. The configuration will be explained below using FIG. 4 and FIG. 11.

図において210で示すのは、受皿211内に配置され
た洗浄液流水部材で、洗浄液を上方に流水させるための
多数の洗浄液流水孔212と、各洗浄液流水孔212と
連通ずる洗浄液供給孔213とより構成してあり、洗浄
液供給孔213は供給ホース214を介して洗浄液供給
装置215と連通接続されている。洗浄液流水部材21
0は、4辺を固定ねじ216を介して固定されるととも
に、固定ねじ216を介して所定位置に位置出し調節可
能に構成しである。洗浄液流水孔212は、電極110
に対応して24個設けてあり、洗浄液流水孔212は第
4図にて示すごと<12個ずつ2列形設しである。そし
て、各洗浄液流水孔212は、各電極110と対応する
位置に形設しである。各洗浄液流水孔212は、m4図
にて示すごとく、孔の中心部を境界にして内側を高く、
外側を低くした2段構成にしてあり、上部側の孔部21
2aから上方に流出した洗浄液が洗浄終了後に下部側の
孔部212bから受皿211に排出されるようになって
いる。即ち、洗す後の排液が洗浄の終了した電極110
に付着しないようになっており、クリーン(清潔)状態
が保持されるようになっている。洗浄液供給装置215
は、洗浄液217を貯蔵する供給タンク218と、供給
タンク218から洗浄液217を吸引し、自動的に洗浄
液217を供給するためのマグネットギヤポンプ219
と、流量調節弁220及び逆止弁221とよりなる流量
31箇部222とより構成しである。223で示すのは
、洗浄終了後の排液を貯留するための排液タンクで、受
皿211下部に設けた排液管224から排液が流入する
ようになっている。225で示すのは上限検知用のセン
サー、226で示すのは下限検知用のセンサーである。
In the figure, reference numeral 210 denotes a cleaning liquid flow member disposed within the tray 211, which includes a large number of cleaning liquid flow holes 212 for causing the cleaning liquid to flow upward, and a cleaning liquid supply hole 213 that communicates with each of the cleaning liquid flow holes 212. The cleaning liquid supply hole 213 is connected to a cleaning liquid supply device 215 via a supply hose 214. Cleaning liquid flowing member 21
0 is configured such that its four sides are fixed via fixing screws 216 and can be positioned and adjusted to a predetermined position via the fixing screws 216. The cleaning liquid water hole 212 is connected to the electrode 110.
As shown in FIG. 4, there are 24 cleaning liquid flow holes 212 arranged in two rows each having 12 holes. Each cleaning liquid flow hole 212 is formed at a position corresponding to each electrode 110. As shown in the M4 diagram, each cleaning liquid flow hole 212 has a high inner side with the center of the hole as the boundary.
It has a two-tiered structure with the outer side lowered, and the hole 21 on the upper side
The cleaning liquid flowing upward from 2a is discharged into the saucer 211 from the hole 212b on the lower side after cleaning is completed. In other words, the drained liquid after washing is used as the electrode 110 after washing.
It is designed to prevent it from adhering to the surface, and to maintain a clean state. Cleaning liquid supply device 215
A supply tank 218 that stores the cleaning liquid 217, and a magnetic gear pump 219 that sucks the cleaning liquid 217 from the supply tank 218 and automatically supplies the cleaning liquid 217.
, and 31 flow rate portions 222 consisting of a flow rate control valve 220 and a check valve 221. Reference numeral 223 denotes a drain tank for storing drained liquid after cleaning, and the drained liquid flows into the tank from a drain pipe 224 provided at the bottom of the saucer 211. Reference numeral 225 indicates a sensor for detecting the upper limit, and reference numeral 226 indicates a sensor for detecting the lower limit.

洗浄液217は、24個の6孔212から同時に流出し
て洗浄するように設定してあり、流水速度は流量調節弁
220にて調酊しうるようになっている。センサー22
5,226は、静電容量式のセンサーにて構成してあり
、下限検知用のセンサー226がOFFのとき、又は上
限検知用のセンサー225はONのときにランプ及びブ
ザーが警報を発するように設定しである。
The cleaning liquid 217 is set to flow out simultaneously from 24 six holes 212 for cleaning, and the flow rate can be adjusted by a flow rate control valve 220. sensor 22
5, 226 is composed of a capacitive sensor, and a lamp and a buzzer emit an alarm when the sensor 226 for lower limit detection is OFF or when the sensor 225 for upper limit detection is ON. It is set.

第4図において250で示すのは、マイクロウェルモジ
ュール検出装近85.液面検知用アーム105の各電極
110と接&e構成された表示部で、マイクロプレート
4のウェル数(96個)と等数の表示灯(ランプ)25
1が配設してあり、各ブイクロウエルモジュール86や
各ウェル5内の液面検知の検出結果が各表示灯251に
表示されるようになっている。
In FIG. 4, reference numeral 250 indicates the microwell module detection device 85. The display section is in contact with each electrode 110 of the liquid level detection arm 105, and has indicator lights (lamps) 25 in the same number as the number of wells (96) in the microplate 4.
1 is arranged, and the detection results of liquid level detection in each of the bulk well modules 86 and each well 5 are displayed on each indicator light 251.

次に、上記構成に基づいてマイクロプレート4の各ウェ
ル5内を洗浄する作用について説明する。
Next, the action of cleaning the inside of each well 5 of the microplate 4 based on the above configuration will be explained.

まず、試薬溶液を分注、コーティングされたウェル5を
有するマイクロプレート4を10枚収納した供給マガジ
ン3を、プレート搬送機構部12の始端側(第1図にお
いて左側)の所定位置にa置してセットする。又、プレ
ート搬送機構部12の終端側の所定位置に空の排出マガ
ジン17をセットする。供給マガジン3は、マガジン昇
降装2220を介して最も上昇した位置にセットされて
おり、他方、排出マガジン17は最も下降した位置にセ
ットしである。なお、第1の洗浄装置7とゼラチンコー
ティング装置8とを連結して、洗浄されたマイクロプレ
ート4を直接ゼラチンコーティング装置8に供給しうる
ようにすることにより、排出マガジン17を不要化する
ことも可能である。各マガジン3,17は、位置決めビ
ン21を介して所定のセット状態に位置決めされる。
First, the supply magazine 3 containing 10 microplates 4 each having wells 5 coated with a reagent solution is placed at a predetermined position a on the starting end side (the left side in FIG. 1) of the plate transport mechanism section 12. and set it. Further, an empty ejection magazine 17 is set at a predetermined position on the terminal end side of the plate transport mechanism section 12. The supply magazine 3 is set at the highest position via the magazine lift 2220, while the discharge magazine 17 is set at the lowest position. Note that by connecting the first washing device 7 and the gelatin coating device 8 so that the washed microplate 4 can be directly supplied to the gelatin coating device 8, the ejection magazine 17 can be made unnecessary. It is possible. Each magazine 3, 17 is positioned in a predetermined set state via a positioning bin 21.

次に、プレート搬送機構部12を介して供給マガジン3
内の、マイクドブレート4を一枚ずつ搬送するのである
が、この搬送手順について第12図、第13図を用いて
説明する。まず、支持枠上動装置73を介して上動せし
められている受は台支持枠50を、カム駆動装置62を
介して下動させる、即ち、モーター65を駆動してカム
63を回動させることにより、カムフォロア64を介し
て受は台支持i50を下動せしめる。
Next, the supply magazine 3 is
The microphone plates 4 are transported one by one, and this transport procedure will be explained with reference to FIGS. 12 and 13. First, the receiver, which has been moved upward via the support frame lifting device 73, moves the platform support frame 50 downward via the cam drive device 62, that is, drives the motor 65 to rotate the cam 63. As a result, the receiver moves the platform support i50 downward via the cam follower 64.

次に、パルスモータ−93を駆動させて受は台支持枠5
0を1ピフチPだけ供給マガジン3方向に移動させる。
Next, the pulse motor 93 is driven to remove the stand support frame 5.
0 in the direction of the supply magazine 3 by 1 pift P.

この状態を第12図aに示す、この状態においては、受
は台支持枠50上の4対の受は台51のうち最も供給マ
ガジン3に近接した位置の一対の受は台51が第12図
aにて示すごとく、供給マガジン3内の酸下段のマイク
ロプレート4の下方に侵入する。
This state is shown in FIG. As shown in Figure a, the acid enters the lower part of the microplate 4 in the supply magazine 3.

次に、モーター65を介してカム63を回動し、カム6
3とカムフォロア64との保合を解除する。すると、受
は台支持枠50は、支持枠上動部ご73の上動ビン74
を介して上動せしめられ、この上動の際に、供給マガジ
ン3の最下段位着に収納されているマイクロプレート4
を受は台51にて支持して上動する。この状態を第12
図すにて示すが、図に示すごとくこの状態においては、
受は台支持枠50は固定費は台94の上面よりも上動す
る。
Next, the cam 63 is rotated via the motor 65, and the cam 63 is rotated via the motor 65.
3 and the cam follower 64 are released. Then, the support frame 50 is moved to the upper movable bin 74 of the upper movable part 73 of the support frame.
During this upward movement, the microplate 4 stored in the lowest position of the supply magazine 3
The receiver is supported by a stand 51 and moves upward. This state is the 12th
As shown in the figure, in this state, as shown in the figure,
The fixed cost of the stand support frame 50 moves higher than the top surface of the stand 94.

次に、パルスモータ−93を介して受は台支持枠50を
1ピツチPだけ排出マガジン17側に移動せしめる。こ
の際には、供給マガジン3内の最下段に収納されていた
マイクロプレート4が1枚供給マガジン3外に排出され
る。この状態を第12図Cに示す。
Next, the receiver moves the table support frame 50 by one pitch P toward the discharge magazine 17 via the pulse motor 93. At this time, one microplate 4 stored in the lowest stage in the supply magazine 3 is discharged to the outside of the supply magazine 3. This state is shown in FIG. 12C.

次に、モーター65を介してカム63を回動せしめ、上
動せしめられている受は台支持枠50を下動せしめる。
Next, the cam 63 is rotated via the motor 65, and the receiver, which has been moved upward, causes the stand support frame 50 to move downward.

この下動時には、受は台支持枠50は固定費は台94よ
りも下方位置に下動せしめられ、従って、受は台51上
に支持されていたマイクロプレート4は固定費は台94
上に位置される。この状態を:fS12図dに示す。
During this downward movement, the support frame 50 is moved downward to a position lower than the base 94, and therefore the microplate 4, which was supported on the base 51, is moved downward to the base 94.
located above. This state is shown in Figure d of fS12.

次に、マガジン昇降装置20を介して供給マガジン3を
一定ピッチだけ下降せしめる。この下降の際には、セン
サー板34とセンサー35との協動作用により、供給マ
ガジン3を一定ピッチ下降せしめて停止制御させ、10
枚収納されていたマイクロプレート4の上から9枚目の
マイクロプレート4がすでに搬出されたマイクロプレー
トのもとの収納位置と同一位置となるように下延制御す
る。供給マガジン3の下降操作は、モーター(電磁ブレ
ーキ付スピードコントロールモーター)24を駆動し、
昇降 25を介して支持ベース23を下降させることに
より行なう、この状態を第12図eに示す。
Next, the supply magazine 3 is lowered by a fixed pitch via the magazine lifting device 20. During this lowering, the sensor plate 34 and the sensor 35 work together to lower the supply magazine 3 by a certain pitch and control the stop.
The lowering control is performed so that the ninth microplate 4 from the top of the stored microplates 4 is placed in the same position as the original storage position of the microplate that has already been carried out. The lowering operation of the supply magazine 3 drives the motor (speed control motor with electromagnetic brake) 24,
This state, which is achieved by lowering the support base 23 via the lift 25, is shown in FIG. 12e.

次に、受は台支持枠50をパルスモータ−93を介して
供給マガジン17方向に移動せしめ、供給マガジン3に
最も近接した位置の一対の受は台51が供給マガジン3
内の最下段のマイクロプレート4、即ち、上から9枚目
のマイクロプレート4の下方に侵入する。この状態を第
12図fに示す、この第12図fは、第12図aと同様
の状態となり、以下、第12図b−eの手順を順次繰り
返し、供給マガジン3内のマイクロプレート4が次々に
搬出される。そして、この作業は10枚のマイクロプレ
ート4が全て供給マガジン3外に搬出されるまで繰り返
され、各マイクロプレート4は、第13図にて示すごと
く作業部227にて洗M、された後、排出マガジン17
内に1枚ずつ搬入(収納)される、排出マガジン17は
、供給マガジン3と同一ピッチにて上昇制御され、空の
排出マガジンエフ内に洗浄作業の完了した10枚の、 
マイクロプレート4が1枚ずつ次々に収納されるように
なっている。
Next, the receiver moves the stand support frame 50 in the direction of the supply magazine 17 via the pulse motor 93, and the pair of receivers located closest to the supply magazine 3 move the stand 51 to the supply magazine 17.
The microplate 4 in the lowest stage, that is, the ninth microplate 4 from the top. This state is shown in FIG. 12f. FIG. 12f is the same state as FIG. 12a, and the steps of FIGS. They are carried out one after another. This operation is repeated until all ten microplates 4 are carried out of the supply magazine 3, and each microplate 4 is washed in the working section 227 as shown in FIG. Ejection magazine 17
The ejection magazine 17, which is carried in (stored) one by one, is controlled to rise at the same pitch as the supply magazine 3, and the 10 sheets that have been cleaned are placed in the empty ejection magazine F.
Microplates 4 are stored one after another.

第14図aにて示すごとく、固定受は台94にマイクロ
プレート4が2枚搬送された際には、最先に搬送された
マイクロプレート4は作業部227位置に達する。ここ
で、3枚目のマイクロプレート4を搬出すべく受は台支
持枠5oを上動させると、第14図すにて示すごとく、
マイクロプレート4のマイクロウェルモジュール86の
フランジ部86a(第5図f参照)の上面がストッパー
プレート83の下面に当接し、作業部227位置のマイ
クロプレート4の各マイクロウェルモジュール86は、
受は台51とスh −/パープレート83に挟持されて
位置決め固定される。そして、作業部227位置に固定
されたマイクロプレート4の各ウェル5内の残液(コー
ティング作業時に分注された残液)をノズル106aを
介して排出する0次に、ノズル106bを介して洗浄液
を3回分注する量だけ吸引する。この吸引量には、液溜
り部15Gの作用により泡立ちし易い洗浄液であっても
泡切りされ、シリンジ170への液の侵入が防止される
0次に、ノズル106bから洗浄液を300gMだけ各
ウェル5内に分注する。ノズル106bは、ノズル10
6a方向に傾斜されているので、ノズル106bから洗
す液を分注する際にノズル106aを洗浄することがで
きる。又、洗浄液がノズル106aに放水されるので、
ウェル5内壁にコーティングされた洗浄液をノズル10
6aを介して排出し、再度洗浄液をノズルf06aを介
して排出し、再度洗す液をノズル106bを介して30
0ttl各ウエル5内に分注する。このようにして、洗
浄液の分注、排出にヶ屯つ開も=n二kj lイ 々^
 1−4ζ「吏1九i−二。
As shown in FIG. 14a, when two microplates 4 are transferred to the stationary receiver 94, the first microplate 4 to be transferred reaches the working part 227 position. Here, when the receiver moves the table support frame 5o upward in order to carry out the third microplate 4, as shown in FIG.
The upper surface of the flange portion 86a (see FIG. 5 f) of the microwell module 86 of the microplate 4 is in contact with the lower surface of the stopper plate 83, and each microwell module 86 of the microplate 4 at the working part 227 position is
The receiver is sandwiched between the base 51 and the s-h-/par plate 83, and is positioned and fixed. Then, the residual liquid (residual liquid dispensed during the coating operation) in each well 5 of the microplate 4 fixed at the working part 227 position is discharged through the nozzle 106a.Next, the cleaning liquid is discharged through the nozzle 106b. Aspirate enough amount to dispense 3 times. This amount of suction is enough to remove bubbles even in the cleaning liquid that tends to foam due to the action of the liquid reservoir 15G, and prevent the liquid from entering the syringe 170. Dispense within. The nozzle 106b is the nozzle 10
Since it is inclined in the direction 6a, the nozzle 106a can be cleaned when dispensing the cleaning liquid from the nozzle 106b. Also, since the cleaning liquid is sprayed into the nozzle 106a,
The cleaning solution coated on the inner wall of the well 5 is passed through the nozzle 10.
6a, the cleaning liquid is discharged again through nozzle f06a, and the cleaning liquid is discharged again through nozzle 106b through nozzle 30.
Dispense 0ttl into each well 5. In this way, the amount of time required for dispensing and discharging the cleaning solution is quite large.
1-4ζ "吏19i-2.

ング部を傷めることなく洗浄する。なお、洗浄液の吸引
量や3回の分注量は、パルスモータ−172を介して行
われ、シリンジ170の可動軸171のストロークを制
御することにより所望の吸引量2分注量に設定できる。
Clean without damaging the ring part. Note that the suction amount and the three-time dispensing amount of the cleaning liquid are performed via the pulse motor 172, and can be set to the desired suction amount and two-dispensing amount by controlling the stroke of the movable shaft 171 of the syringe 170.

この場合、3回の各分注量はそれぞれ各別に設定調整す
ることができ、各分注量のバラツキを補正することがで
きる。なお、固定受は台94に取り付けられたマイクロ
ウェルモジュール検出装置85は、固定受は台94と供
給マガジン3との間に位置するアイドルステーション2
28の受は台51上にマイクロウェルモジュール86が
あるかどうかを検知し、マイクロウェルモジュール86
がないときには、機械を停止して欠品部のマイクロウェ
ルモジュール86を補充する。
In this case, each of the three dispensing amounts can be set and adjusted individually, and variations in each dispensing amount can be corrected. Note that the fixed receiver is attached to the stand 94 for the microwell module detection device 85, and the fixed receiver is attached to the idle station 2 located between the stand 94 and the supply magazine 3.
The receiver 28 detects whether or not there is a microwell module 86 on the table 51, and
If there is no microwell module 86, the machine is stopped and the missing microwell module 86 is replenished.

作業部227に固定されているマイクロプレート4の各
ウェル5に対して洗浄液を分注、排出する作業において
は、まず、洗浄液ノズルアーl一部I3のアーム本体部
100を旋回、上下作動用駆動部118を介して上動せ
しめ、次に、洗炸液分注アーム104が洗浄液棚部14
の真上位置に位置するように旋回作動させる0次に、ア
ーム本体部100を下動せしめ、洗浄液分注アーム10
4の1対のノズル部106を洗浄液棚部14の洗浄液1
47内に挿入する。
In the work of dispensing and discharging the washing liquid to each well 5 of the microplate 4 fixed to the working part 227, first, the arm main body part 100 of the washing liquid nozzle l part I3 is rotated and the driving part for vertical operation is moved. 118 , and then the cleaning liquid dispensing arm 104 is moved up through the cleaning liquid shelf 14 .
The arm body 100 is rotated so that it is positioned directly above the washing liquid dispensing arm 10.
The pair of nozzle parts 106 of 4 are connected to the cleaning liquid 1 in the cleaning liquid shelf part 14.
Insert it into 47.

次に、洗浄液吸排用の各ノズル106bと連通接続され
たシリンジ170の可動軸171をパルスモータ−17
2を介して下動せしめ、このシリ ・ンジ170の吸引
作用を介して洗浄液147を各ノズル106b内に3回
分注量だけ吸引する0次に、アーム本体部100を上動
せしめ、しかる後に、旋回、上下作動用駆動部118を
介してアーム本体部100を反時計方向に90°旋回せ
しめる。この際には、洗浄液分注アーム104が作業部
227のマイクロプレート4の上方位置にセットされ、
液面検知用アーム105は電極洗浄棚部16の上方位n
にセットされる0次に、アーム本体部100を下動せし
める。この際には、アーム本体部100の一対のノズル
部106が各ウェル5内に挿入される0次に、シリンジ
170の可動軸171をパルスモータ−172を介して
上動せしめ。シリンジ170内の空気の圧縮を介してノ
ズル106b内に吸引されている洗浄液を各ウェル5内
に300JLuずつ3回に分けて分注、排出させて洗浄
する。この作業は、第15図a、bにて示すごとく、A
−Fの8列あるウェル5の2列(A列とE列)にまず行
なう0次いで、アーム本体部100を上動せしめ、マイ
クロプレート4を受は台支持枠50を介して1ウ工ル分
だけ矢印229方向に移動せしめる。そして、再びアー
ム本体部100を下動せしめ、B列とF列の各ウェル5
内に洗浄液を300guずつ3回分性、排出する。この
ような作業を3回繰り返し、0列とG列及びD列とF列
の各ウェル5内に洗浄液を300 ALlずつ3回分性
、排出する。これにより、各ウェル5内の洗浄が完了す
る。
Next, the movable shaft 171 of the syringe 170, which is connected to each nozzle 106b for sucking and discharging the cleaning liquid, is moved by a pulse motor 17.
2, and through the suction action of the syringe 170, the cleaning liquid 147 is sucked into each nozzle 106b in three doses.Next, the arm main body 100 is moved upward, and then, The arm main body 100 is rotated 90 degrees counterclockwise via the rotation and vertical operation drive unit 118. At this time, the washing liquid dispensing arm 104 is set above the microplate 4 in the working section 227,
The liquid level detection arm 105 is located in the upper direction n of the electrode cleaning shelf 16.
The arm body section 100 is then moved downward. At this time, the pair of nozzle parts 106 of the arm body part 100 are inserted into each well 5, and then the movable shaft 171 of the syringe 170 is moved upward via the pulse motor 172. The cleaning liquid sucked into the nozzle 106b by compressing the air in the syringe 170 is dispensed into each well 5 in three doses of 300 JLu and discharged for cleaning. This work is performed as shown in Figure 15a and b.
- First, carry out the process to two rows (A row and E row) of the eight wells 5 in F.Next, move the arm main body 100 upwards, and transfer the microplate 4 through the table support frame 50. 229 in the direction of arrow 229. Then, the arm main body 100 is moved down again, and each well 5 in the B row and F row is
Drain the cleaning solution in three doses of 300 gu each. This operation is repeated three times, and 300 ALl of the washing solution is discharged three times into each well 5 of rows 0, G, D, and F. This completes the cleaning in each well 5.

洗浄液の分注作業が終了したら、アーム本体部100を
上動せしめ、90°時計方向に旋回する。そして、アー
ム本体部100を下動せしめ、24木の各ノズル106
bに試薬溶液147を前記と同様の作業にて必要量(3
回分注量)だけ吸引する。このとき、液面検知用アーム
105の電極110が分注の完了した各ウェル5内に挿
入され、各ウェル5内に挿入される2本の電8ill。
After dispensing the cleaning liquid, the arm main body 100 is moved upward and rotated 90 degrees clockwise. Then, the arm main body 100 is moved downward, and each of the 24 nozzles 106
Add reagent solution 147 to b in the required amount (3
Aspirate only the amount (dose amount). At this time, the electrode 110 of the liquid level detection arm 105 is inserted into each well 5 where dispensing has been completed, and the two electrodes 8ill are inserted into each well 5.

(第7図C参照)のインピーダンスの変化により分注さ
れた洗浄液の液面を検知し、液量検知が行われる。
The liquid level of the dispensed cleaning liquid is detected by the change in impedance (see FIG. 7C), and the liquid amount is detected.

ノズル106bにて洗浄液を吸引し、電極110による
液面検知が完了すると、アーム本体部100が上動せし
められ、再びアーム本体部100が90’旋回せしめら
れる。このときには洗浄されていない次のマイクロプレ
ート4が第12図a−fにて示す一連の動作にてアーム
本体部100の上方位置に搬送され、セット(位置決め
固定)される。次に、アーム本体部100が下動し、2
4木の各ノズル106b内に吸引した洗浄液をマイクロ
プレート4の各ウェル5内に分注する。この分注作業に
ついては前述したものと同一であるので、その説明を省
略する。ノズル106bによる洗n1液の分注、排出作
業時には、各電極110の下部が電極洗浄棚部16の洗
浄液流木孔212のL方位置に配置され、洗浄液供給装
置215を介して供給される洗浄液217を各TL8i
110に流水して各電極110を流水洗浄する。この洗
浄の際には、洗浄液流水孔212が2段に形設されてい
るので洗浄後の汚れた洗浄液が各電極110に付着する
ことなく排液タンク223に排液される。
When the cleaning liquid is suctioned by the nozzle 106b and the liquid level detection by the electrode 110 is completed, the arm main body 100 is moved upward and the arm main body 100 is rotated 90' again. At this time, the next microplate 4 which has not been cleaned is conveyed to a position above the arm main body 100 and set (positioned and fixed) in a series of operations shown in FIGS. 12a-f. Next, the arm main body 100 moves downward, and the 2
The cleaning liquid sucked into each of the four nozzles 106b is dispensed into each well 5 of the microplate 4. Since this dispensing operation is the same as that described above, the explanation thereof will be omitted. When dispensing and discharging the cleaning liquid n1 using the nozzle 106b, the lower part of each electrode 110 is placed in the L direction of the cleaning liquid driftwood hole 212 of the electrode cleaning shelf 16, and the cleaning liquid 217 is supplied via the cleaning liquid supply device 215. for each TL8i
110 to wash each electrode 110 with running water. During this cleaning, since the cleaning liquid flow holes 212 are formed in two stages, the dirty cleaning liquid after cleaning is drained into the drain tank 223 without adhering to each electrode 110.

各ノズル106bによる各ウェル5への洗浄液の分注作
業、及び各電極110の洗浄作業が完了すると、アーム
本体部looが上動し、再び反時計方向に90°旋回す
る。そして、アーム本体部lOOが下動し、各ノズル1
06bが洗浄液を必要量だけ吸引するとともに、各電極
110が分注の完了したした各ウェル5の液面検知を行
う。
When the dispensing of the cleaning liquid to each well 5 by each nozzle 106b and the cleaning operation of each electrode 110 are completed, the arm body loo moves upward and rotates 90 degrees counterclockwise again. Then, the arm main body lOO moves downward, and each nozzle 1
06b aspirates the necessary amount of washing liquid, and each electrode 110 detects the liquid level in each well 5 after dispensing.

以上の作業を繰り返して、供給マガジン3がら次々に搬
送されてくるマイクロプレート4の各ウェル5内を洗浄
する。この作業は、供給マガジン3内の10枚のマイク
ロプレート4が空になるまで連続して行なわれる0作業
中に、マイクロウェルモジュール検出装置85によりマ
イクロウェルモジュール86が欠品状態にあるときには
、機械を停止し、欠品部にマイクロウェルモジュール8
6を充填する。これにより、マイクロウェルモジュール
86が欠品状態で作業部227位置まで搬送され、マイ
クロウェルモジュール86の欠品部に洗浄液が供給され
て洗浄液が機械に飛散するのを防止することができる。
The above operations are repeated to wash the inside of each well 5 of the microplate 4 that is successively transported from the supply magazine 3. This operation is performed when the microwell module detection device 85 detects that the microwell module 86 is out of stock during the zero operation that is performed continuously until the ten microplates 4 in the supply magazine 3 are empty. Stop and insert microwell module 8 into the missing part.
Fill 6. This makes it possible to prevent the microwell module 86 from being transported to the working unit 227 position in a missing part, supplying the cleaning liquid to the missing part of the microwell module 86, and preventing the cleaning liquid from scattering on the machine.

各ウェル5内を洗浄されたマイクロプレート4は、第1
2図a−fにて示す受は台支持枠50の搬送作用により
排出マガジン17内に俳人される。そして、受は台支持
枠50がカム63を介して下動せしめられた際に、排出
マガジン17内に搬入されたマイクロプレート4が、第
13図にて示すごとく空状態にある排出マガジン17の
最上段収納部(支持部)に収納される。そして、受は台
支持枠50が供給マガジン3方向に移動せしめられ、排
出マガジン17外に移動すると、排出マガジン17をマ
ガジン昇降装置20を介して定ピツチ上動させ、次のマ
イクロプレート4が搬入されてくるのを待機する。排出
マガジン17の上方向への定ピッチ送り制御作用は、供
給マガジン3側と同一であるので、その説明を省略する
The microplate 4 that has been washed inside each well 5 is
The receiver shown in FIGS. 2a to 2f is loaded into the discharge magazine 17 by the conveying action of the stand support frame 50. When the support frame 50 is moved down via the cam 63, the microplate 4 carried into the ejection magazine 17 is placed in the ejection magazine 17 in an empty state as shown in FIG. It is stored in the top storage section (support section). Then, when the support frame 50 is moved in the direction of the supply magazine 3 and moved out of the ejection magazine 17, the ejection magazine 17 is moved up a fixed pitch via the magazine lifting device 20, and the next microplate 4 is carried in. Wait for it to come. The upward constant pitch feeding control function of the ejection magazine 17 is the same as that on the supply magazine 3 side, so the explanation thereof will be omitted.

排出マガジン17内に、洗浄が完了したマイクロプレー
ト4が10枚収納されると、排出マガジン17を取り出
し、この排出マガジン17を第1図にて示すごとく次工
程のゼラチンコーティング装置8のマガジン供給部に供
給するのである。。
When ten microplates 4 that have been cleaned are stored in the discharge magazine 17, the discharge magazine 17 is taken out, and the discharge magazine 17 is transferred to the magazine supply section of the gelatin coating apparatus 8 for the next process as shown in FIG. It supplies the .

そして、第1図にて示すごとく、ゼラチンコーティング
装置8.第2のインキュベート装置a9゜第2の洗浄装
置10.及び乾燥装置llを経て固相試薬の製造が完了
する。
As shown in FIG. 1, a gelatin coating device 8. Second incubating device a9° Second washing device 10. After passing through the drying device 11 and drying device 11, the production of the solid phase reagent is completed.

洗浄液の残量が下限検知用の検知部材155の下端より
も低くなるとブザーが警報を発するので、この場合には
、洗浄液を補給すればよい。
When the remaining amount of the cleaning liquid becomes lower than the lower end of the detection member 155 for detecting the lower limit, the buzzer will issue an alarm, so in this case, the cleaning liquid may be replenished.

特に、本実施例に係るチューブコネクター装置(溜り部
)156によれば、液溜り空間部158の作用により洗
浄液の吸引時に洗浄液がシリンジ170内に入り込まな
いので、シリンジ170の発錆を防止し得るとともにシ
リンジ170の保守を容易化できる。又、泡立ちし易い
液を使用する場合であっても、液溜り空間部158にて
泡切りすることができるので、泡がシリンジ170内に
入り込むのを確実に防止できる。従って、シリンジ17
0やチューブ周辺から液が飛散するのを確実に防止でき
、装置の発錆を防止して装置寿命の延命をも図ることが
できる利点がある。
In particular, according to the tube connector device (reservoir) 156 according to this embodiment, the action of the liquid reservoir space 158 prevents the cleaning liquid from entering the syringe 170 when the cleaning liquid is sucked, so that rusting of the syringe 170 can be prevented. At the same time, maintenance of the syringe 170 can be facilitated. Further, even when using a liquid that easily foams, the foam can be removed in the liquid reservoir space 158, so that bubbles can be reliably prevented from entering the syringe 170. Therefore, syringe 17
This has the advantage that it is possible to reliably prevent liquid from scattering from around the tube and the tube, and also to prevent rusting of the device and extend the life of the device.

又、多数のノズル106a、106bと多数の電極11
0とを一体的に構成しているので、多数のウェル5に対
して同時に作業でき、ロスタイムを防止して高能率的に
作業できる。
Also, a large number of nozzles 106a, 106b and a large number of electrodes 11
0 are integrally constructed, it is possible to work on a large number of wells 5 at the same time, prevent loss time, and work with high efficiency.

ヌ、電極110の洗浄部を2段構成にし、洗n1後の汚
水が他に混入しないようにしであるので、清潔に保持さ
れ、製品の品質の向上が図れる。
Since the cleaning section of the electrode 110 is configured in two stages to prevent the dirty water after washing n1 from mixing with other parts, it can be kept clean and the quality of the product can be improved.

又、各ウェル5内の液面検知毎に電極110を流木洗浄
しているので、清潔状態が保持され、製品の向上が図れ
る。
Further, since the electrode 110 is washed with driftwood every time the liquid level in each well 5 is detected, a clean state is maintained, and the quality of the product can be improved.

又、電極110がクッション構造を有するので、電8i
llOの先端が外の部位と干渉することる。
Furthermore, since the electrode 110 has a cushion structure, the electrode 8i
The tip of llO may interfere with external parts.

[発明の効果] 以上のように本発明によれば、連続的に供給、搬送され
るマイクロプレート各ウェルに対して自動的に洗浄液を
分注、排出して洗浄する際の液漏れや液のシリンジへの
侵入防止することができ、洗浄作業の高能率化、固相化
試薬の生産性、生産能率の向上、製品品質の向上、信頼
性の向上及び装置の延命化を図り得るものである。
[Effects of the Invention] As described above, according to the present invention, a cleaning solution is automatically dispensed and discharged to each well of a microplate that is continuously supplied and transported to prevent fluid leakage and liquid leakage. It can prevent intrusion into the syringe, and can improve the efficiency of cleaning work, improve the productivity of solid-phase reagents, improve production efficiency, improve product quality, improve reliability, and extend the life of the equipment. .

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図は、本発明に係る装置の1実施例を含む固相化試
薬製造装置のレイアウト図。 第2図a、b、cは、本発明に係る装置を含む洗浄装置
の一実施例の平面図、正面図、側面図、 第3図a、b、c、d、eは、マイクロプレートを収納
するマガジンの説明図、 第4図は1本実施例の要部を示す斜視図、第5図a、b
、c、d、e、fは、本実施例の要部の説明図、 第6図はa、b、cは、マイクロプレート搬送部及び電
極部の説明図、 第8図a、bは、アーム駆動部の説明図、第9図は、洗
浄液貯蔵部の説明図、 第10図a、b、c、d、e、f、g、h、i。 J 、k + l + In * n + O+ P 
+ qは、分注製首部の説明図、 第11図は、洗炸部の説明図、 第12図a、b、c、d、e、f、第13図及び第14
図a、bは、本実施例の要部の作用説明図、 第15図a、bは、マイクロプレートへの分注作用説明
図である。 3・・・供給マガジン 4・・・マイクロプレート 5・・・マイクロウェル(試薬固相容器)12・・・プ
レート搬送機構部 13・・・洗浄液ノズルアーム部 14・・・洗浄液棚部 16・・・電極洗浄棚部 17・・・搬出マガジン 106・・・ノズル 106a、106b・−・ノズル 110・・・電極 150・・・洗浄液供給ユニット部 156・・・液溜り部 170・・・シリンジ 227・・・作業部 228・・・アイドルステーション 特許出W人 オリンパス光学工業株式会社第3図(a) 第3図(d) 第3図(e) 第5図 第6図(c) 第7図 第8図 第8図 プ99 第10図(d) 1g 第10図(f) 7スOQ  1’40 第10図 第10図 第10図(1<) 第10図(J) 第11図 第12図 第12 図 第14図
FIG. 1 is a layout diagram of a solid-phase reagent manufacturing apparatus including one embodiment of the apparatus according to the present invention. Figures 2a, b, and c are a plan view, front view, and side view of an embodiment of a cleaning device including the device according to the present invention, and Figures 3a, b, c, d, and e are views of a microplate. An explanatory diagram of the magazine to be stored. Figure 4 is a perspective view showing the main parts of one embodiment. Figures 5 a and b.
, c, d, e, and f are explanatory diagrams of the main parts of this example; FIG. 6 is an explanatory diagram of the microplate transport section and electrode section; FIG. FIG. 9 is an explanatory diagram of the arm drive section; FIG. 10 is an explanatory diagram of the cleaning liquid storage section; FIGS. 10 a, b, c, d, e, f, g, h, i. J, k + l + In * n + O + P
+ q is an explanatory diagram of the dispensing neck part, Fig. 11 is an explanatory diagram of the washing part, Fig. 12 a, b, c, d, e, f, Figs. 13 and 14
Figures a and b are diagrams for explaining the operation of the main parts of this embodiment, and Figures 15a and b are diagrams for explaining the operation of dispensing to a microplate. 3... Supply magazine 4... Microplate 5... Microwell (reagent solid phase container) 12... Plate transport mechanism section 13... Washing liquid nozzle arm section 14... Washing liquid shelf section 16... - Electrode cleaning shelf section 17... Carrying out magazine 106... Nozzles 106a, 106b... Nozzle 110... Electrode 150... Cleaning liquid supply unit section 156... Liquid reservoir section 170... Syringe 227... ... Working part 228 ... Idle station patent author Olympus Optical Industry Co., Ltd. Figure 3 (a) Figure 3 (d) Figure 3 (e) Figure 5 Figure 6 (c) Figure 7 Figure 8 Figure 8 Pu99 Figure 10 (d) 1g Figure 10 (f) 7s OQ 1'40 Figure 10 Figure 10 Figure 10 (1<) Figure 10 (J) Figure 11 Figure 12 Figure 12 Figure 14

Claims (1)

【特許請求の範囲】 試薬固相容器に自動的に試薬を分注して前記容器内壁部
に試薬を固相化させるように構成してなる固相化試薬製
造装置におけるチューブコネクター装置において、 液体吸排用ノズルと前記ノズルに対して試薬溶液や洗浄
液等の液体を吸引、排出させるための吸排装置とを連通
接続するチューブに、 前記チューブ内径より大径の液溜まりを有するコネクタ
ー部を配設して構成したことを特徴とする固相化試薬製
造装置におけるチューブコネクター装置。
[Scope of Claim] A tube connector device in a solid-phase reagent manufacturing apparatus configured to automatically dispense a reagent into a solid-phase reagent container and solidify the reagent on the inner wall of the container, comprising: A connector portion having a liquid reservoir with a diameter larger than the inner diameter of the tube is provided on a tube that communicates and connects a suction and discharge nozzle with a suction and discharge device for sucking and discharging liquids such as reagent solutions and cleaning liquids from the nozzle. 1. A tube connector device for a solid-phase reagent manufacturing device, characterized in that the tube connector device is configured by:
JP23508186A 1986-10-02 1986-10-02 Tube connector for solid-phase conversion reagent producing equipment Pending JPS6388458A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP23508186A JPS6388458A (en) 1986-10-02 1986-10-02 Tube connector for solid-phase conversion reagent producing equipment

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP23508186A JPS6388458A (en) 1986-10-02 1986-10-02 Tube connector for solid-phase conversion reagent producing equipment

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPS6388458A true JPS6388458A (en) 1988-04-19

Family

ID=16980782

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP23508186A Pending JPS6388458A (en) 1986-10-02 1986-10-02 Tube connector for solid-phase conversion reagent producing equipment

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPS6388458A (en)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2004239697A (en) * 2003-02-05 2004-08-26 Hitachi High-Technologies Corp Chemical analyzer

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2004239697A (en) * 2003-02-05 2004-08-26 Hitachi High-Technologies Corp Chemical analyzer

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN102419375B (en) Full-automatic chemoluminescence immunoassay analyzer
WO2019033312A1 (en) Blood analyzer and control method therefor
CN105628947B (en) Whole blood automatic luminous immunoassay instant detector
JPH05285401A (en) Nozzle washing device for dyeing equipment
JPS5985959A (en) Automatic analyzing apparatus
JPS63259468A (en) Automatic patient sample analyzer
NO862717L (en) PROCEDURE AND APPARATUS FOR AUTOMATIC BODY TREATMENT.
US5951783A (en) Universal washing apparatus for microtiter plate and the like
WO1998018008A1 (en) Automatic immunological analyzer
CN202166654U (en) Full-automatic chemical luminescence immune analyzer
CN114236161A (en) Liquid suction structure and liquid supply device for immunoassay
JPS6388458A (en) Tube connector for solid-phase conversion reagent producing equipment
KR101327879B1 (en) Liquid transporting device
JPH06507976A (en) A system for performing multiple analytical operations using a central processing hub
JPS6388450A (en) Reagent coating apparatus for solid phase conversion reagent producing equipment
CN217505892U (en) Blood coagulation analyzer
CN114660317B (en) Flow type fluorescent luminous immunity analyzer
JPS6388454A (en) Cleaning liquid supply nozzle for solid-phase conversion reagent producing equipment
JPS6388453A (en) Reagent solid phase container cleaner for solid phase conversion reagent producing equipment
JPS6388459A (en) Multichannel joint apparatus for solid-phase conversion reagent producing equipment
JPS6388455A (en) Draining apparatus for solid-phase conversion reagent producing equipment
EP1187680B1 (en) Universal washing apparatus for microtiter plate and the like
JPS6388451A (en) Detector for microwell module in solid phase conversion reagent producing equipment
JPS63218080A (en) Magazine for storing and carrying microplate for solid phase of reagent, etc.
JPS6390768A (en) Method for transporting microplate for solid phase such as reagent