JPS6380888A - Washer - Google Patents
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- JPS6380888A JPS6380888A JP61224709A JP22470986A JPS6380888A JP S6380888 A JPS6380888 A JP S6380888A JP 61224709 A JP61224709 A JP 61224709A JP 22470986 A JP22470986 A JP 22470986A JP S6380888 A JPS6380888 A JP S6380888A
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Links
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 claims description 69
- 238000001035 drying Methods 0.000 claims description 20
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 14
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 18
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 11
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 9
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 5
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 2
- 239000003599 detergent Substances 0.000 description 2
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 2
- 239000011120 plywood Substances 0.000 description 2
- 238000003825 pressing Methods 0.000 description 2
- 239000000969 carrier Substances 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- 210000000078 claw Anatomy 0.000 description 1
- 238000010276 construction Methods 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 239000000428 dust Substances 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000009434 installation Methods 0.000 description 1
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
- 230000002269 spontaneous effect Effects 0.000 description 1
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 description 1
- 230000007723 transport mechanism Effects 0.000 description 1
- 230000002747 voluntary effect Effects 0.000 description 1
- 235000012431 wafers Nutrition 0.000 description 1
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 1
- 238000004804 winding Methods 0.000 description 1
Landscapes
- Cleaning Or Drying Semiconductors (AREA)
- Cleaning By Liquid Or Steam (AREA)
- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。(57) [Abstract] This bulletin contains application data before electronic filing, so abstract data is not recorded.
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野]
未発−明は、半導体ウェハや磁気ディスク用基板、光デ
イスク用基板、その他の電気、機械部品等のワークの洗
浄に適した洗浄装置に関するものであり、さらに詳しく
は、ユニー/ ト化された洗浄装置に関するものである
。[Detailed Description of the Invention] [Field of Industrial Application] The present invention relates to a cleaning device suitable for cleaning workpieces such as semiconductor wafers, magnetic disk substrates, optical disk substrates, and other electrical and mechanical parts. More specifically, the present invention relates to a unitized cleaning device.
[従来の技術]
この種のワークを洗浄するための洗浄装置として、従来
より、ワークの供給部、洗浄部、乾燥部、及び搬送部を
横一列に配設した一体形のものは公知(例えば実公昭5
2−18594号公報参照)である。[Prior Art] As a cleaning device for cleaning this type of workpiece, an integrated type in which a workpiece supply section, a cleaning section, a drying section, and a conveyance section are arranged horizontally in a row has been known (for example, Jikosho 5
2-18594).
しかしながら、かかる従来の洗浄装置は、上記各部を一
つの機体の内部に一体的に組込んでいたため、ワークの
種類や洗浄方法等に応じて洗浄部や乾燥部の増減、組み
替え等を自由に行うことができず、ワークの種類や洗浄
方法が異なる場合には、それに適した別の洗浄装置を使
用しなければならなかった。However, in such conventional cleaning equipment, the above-mentioned parts are integrated into one machine body, so the cleaning part and drying part can be increased or decreased, rearranged, etc. freely depending on the type of workpiece, cleaning method, etc. If this is not possible and the type of workpiece or cleaning method is different, a different cleaning device suitable for the workpiece must be used.
洗浄槽のみを増減できるようにしたものもあるにはある
が、その増減によって搬送部の長さも変わるため、その
長さに見合う搬送機構をその都度用意する必要があった
。There are some models that allow only the number of cleaning tanks to be increased or decreased, but because the length of the transport section changes depending on the increase or decrease, it is necessary to prepare a transport mechanism that matches the length each time.
[発明が解決しようとする間通点]
本発明の課題は、ワークの種類や洗浄方法などに応じて
洗浄や乾燥などの工程を簡単に増減あるいは組み替える
ことができ、しかも、その増減や組み替え等に応じて自
動的に所定長さの搬送機構を付設することができる洗浄
装置を提供することにある。[Points to be solved by the invention] The problem of the present invention is that it is possible to easily increase/decrease or rearrange processes such as cleaning and drying depending on the type of workpiece, cleaning method, etc. An object of the present invention is to provide a cleaning device that can automatically attach a conveyance mechanism of a predetermined length according to the amount of time required.
[問題点を解決するための手段]
上記課題を解決するため、本発明における洗浄装置は、
ワークの供給、洗浄、乾燥及び取出し工程をそれぞれユ
ニット化して、これらの各ユニットを分離可能に連結す
ることにより構成したものであって、上記各ユニットに
は、それらの接続により互いに連結可能なレール部材を
それぞれ設けると共に、供給ユニットまたは取出ユニッ
トを除く各ユニットに、ワークを搬送する搬送体を上記
レール部材に沿って移動自在に設け、これらの搬送体を
、各搬送体間の間隔を一定に保って同期的に駆動する駆
動手段に連結したことを特徴とするものである。[Means for solving the problems] In order to solve the above problems, the cleaning device of the present invention has the following features:
The work supply, cleaning, drying, and take-out processes are each unitized and each unit is separably connected, and each unit has a rail that can be connected to each other by connecting them. In addition to providing each member, each unit except the supply unit or the take-out unit is provided with a carrier for transporting the workpiece so as to be movable along the rail member, and these carriers are arranged with constant intervals between each carrier. It is characterized in that it is connected to a driving means that maintains and drives synchronously.
[作 用]
まず、洗浄すべきワークの種類や洗浄方法等に応じて各
ユニットの数や種類、配列順序等が決められ、それらが
横一列に接続される。この接続により、各ユニットのレ
ール部材は一体に連結され、−木のレールが構成される
。同時に、連結部材同士の連結により、各搬送体も一定
間隔で一体的に血結される。[Operation] First, the number, type, arrangement order, etc. of each unit are determined according to the type of workpiece to be cleaned, the cleaning method, etc., and the units are connected in a horizontal line. Through this connection, the rail members of each unit are connected together to form a wooden rail. At the same time, by connecting the connecting members to each other, each carrier is also integrally connected at regular intervals.
洗浄すべきワークは、駆動手段により同期的に駆動され
る各搬送体によって次工程に順送りされ、各工程を経る
間に所定の洗浄が行われる。The work to be cleaned is sequentially sent to the next process by each conveyor that is synchronously driven by the drive means, and predetermined cleaning is performed during each process.
[実施例]
以下、本発明の実施例を図面に基づいて詳細に説明する
。[Example] Hereinafter, an example of the present invention will be described in detail based on the drawings.
第1図及び第2図に示す洗浄装置は、磁気ディスク用基
板や光デイスク用基板などのような中心穴1aを備えた
ディスク形のワーク1 (第5図参照)を洗浄するのに
適したものとして構成した場合を例示するものであって
、未洗浄ワーク1を供給する供給ユニット2と、供給さ
れたワーク1をブラシにより洗浄する第1及び第2の洗
浄ユニッ)3,4.ブラシ洗浄後のワーク1の仕上げ洗
浄と乾燥とを行う乾燥ユニット5、及び乾燥後のワーク
1を取出し収納する取出ユニット6からなっており、こ
れらの各ユニット2〜6が、それらの工程中心間圧g1
aが等しくなるよう横一列に配列されて分離可能に連結
されている。The cleaning device shown in FIGS. 1 and 2 is suitable for cleaning a disk-shaped workpiece 1 (see FIG. 5) having a center hole 1a, such as a magnetic disk substrate or an optical disk substrate. This is an example of a case in which a supply unit 2 supplies an uncleaned workpiece 1, and first and second cleaning units (3, 4) that clean the supplied workpiece 1 with a brush. It consists of a drying unit 5 that performs final cleaning and drying of the work 1 after brush cleaning, and a take-out unit 6 that takes out and stores the work 1 after drying. pressure g1
They are arranged in a horizontal row so that a is equal and are separably connected.
上記供給ユニット2は、図示しない移送手段によってロ
ーディング位置に搬入された容器10内に竪向きに収容
されているワーク1の中心穴la内に挿入係合し、該ワ
ーク1を1枚ずつ持上げる上下動自在の持上げアーム1
1と、ガイド14に沿って前後進自在の基台15上に互
いに開閉自在に取付けられ、上記持上げアーム11で持
上げられたワーク1の外周面を挟持する2つの溝付きロ
ーラ形の挟持片13,13を備えた上下一対の供給アー
ム12.12と、該供給アーム12.12の前方に設け
られ、該供給アーム12.12からのワークlを受取っ
て隣の第1洗浄ユニツト3に搬送する搬送体16と、該
搬送体16の移゛動を案内するレール部材17とを備え
ている。The supply unit 2 is inserted into and engaged with the center hole la of the workpiece 1 which is vertically housed in the container 10 which has been carried to the loading position by a transfer means (not shown), and lifts the workpiece 1 one by one. Lifting arm 1 that can move up and down
1 and two grooved roller-shaped clamping pieces 13 that are attached to a base 15 that can freely move back and forth along a guide 14 so as to be openable and closable with respect to each other, and that clamp the outer peripheral surface of the workpiece 1 lifted by the lifting arm 11. , 13, and a pair of upper and lower supply arms 12.12 provided in front of the supply arms 12.12 to receive the work l from the supply arms 12.12 and transport it to the adjacent first cleaning unit 3. It includes a carrier 16 and a rail member 17 that guides the movement of the carrier 16.
上記搬送体16は、第4図からも分るように、レール部
材17上に移動自在に取付けられた合板18上に、左右
一対の挟持アーム21.21をその基端を支点として接
離方向へ回動自在に立設し、これらの挟持アーム21.
21にそれぞれ2つの溝付きローラ形の挟持片22,2
2を取付けたもので、上記挟持アーム21.21を回動
させることによってそれらの挟持片22.22間にワー
ク1の外周を挟持するようになっている、而して、供給
アーム12.12からのワークlを挟持アーム21.2
1が受取る場合には、第5図に示すように、挟持アーム
21.21における挟持片22,22は左右方向から、
供給アーム12.12における挟持片13.13は上下
方向からそれぞれワーク1を挟持するため、それらの挟
持位置が競合することはない。As can be seen from FIG. 4, the carrier 16 is moved toward and away from a plywood 18 movably mounted on a rail member 17 using a pair of left and right clamping arms 21, 21 with their base ends as fulcrums. These clamping arms 21.
21 and two grooved roller-shaped clamping pieces 22, 2, respectively.
2 is attached, and by rotating the clamping arm 21.21, the outer periphery of the workpiece 1 is clamped between the clamping pieces 22.22.Thus, the supply arm 12.12 The arm 21.2 holds the work l from
1 receives the data, as shown in FIG.
Since the clamping pieces 13.13 of the supply arm 12.12 clamp the workpiece 1 from above and below, their clamping positions do not compete with each other.
また、上記レール部材17は、供給ユニット2における
第1洗浄ユニツト3側の端部にまで延設され、該第1洗
浄ユニツト3を接続したときにそのレール部材36と相
互に連結できるようになっている。Furthermore, the rail member 17 extends to the end of the supply unit 2 on the first cleaning unit 3 side, and can be interconnected with the rail member 36 when the first cleaning unit 3 is connected. ing.
上記供給ユニット2に隣接して設けられた第1洗浄ユニ
ツト3は、洗剤を使用してワーク1の洗浄を行うもので
、第3図に具体的に示すように、自動開閉する扉30a
を前面に備えた洗浄室30を有し、この洗浄室30内に
、ワークlを竪向きに支持して回転させる支持回転軸3
1と、ワーク1を洗浄するブラシ機構32と、洗浄部位
に洗浄液を供給する洗浄液供給ノズル33.33 (
第6図)と、上記支持回転軸31との間でワーク1の受
渡しを行う受渡しアーム34.34 とを配設すると共
に、洗浄室30の前方に、ワーク1を搬送する搬送体3
5と、該搬送体35の移動を案内するレール部材36と
を配設してなるものである。The first cleaning unit 3 provided adjacent to the supply unit 2 cleans the workpiece 1 using detergent, and as specifically shown in FIG. 3, it has a door 30a that opens and closes automatically.
In the cleaning chamber 30, there is a support rotation shaft 3 that vertically supports and rotates the work l.
1, a brush mechanism 32 for cleaning the workpiece 1, and a cleaning liquid supply nozzle 33.33 (
6) and a transfer arm 34.34 that transfers the workpiece 1 between the support rotation shaft 31 and the transfer arm 34.34 that transfers the workpiece 1 to the front of the cleaning chamber 30.
5, and a rail member 36 for guiding the movement of the carrier 35.
上記支持回転軸31は、洗浄室30の後壁30bに軸受
部材37により水平に支承され、該支持回転軸31の後
端部は、洗浄室30の背後に区画形成された駆動室38
内に突出せしめられ、ベルト39によってモータ40に
連結されている。また、該支持回転軸31の先端には、
第6図から明らかなように、複数の爪41aを該回転軸
31の径方向に拡縮自在としたチャック部41が形成さ
れ、該チャック部41をワーク1の中心穴la内に挿入
して拡開させることにより、該ワーク1の支持が行われ
るようになっている。The support rotation shaft 31 is horizontally supported by a bearing member 37 on the rear wall 30b of the cleaning chamber 30, and the rear end of the support rotation shaft 31 is connected to a drive chamber 38 defined behind the cleaning chamber 30.
It projects inward and is connected to a motor 40 by a belt 39. Moreover, at the tip of the support rotation shaft 31,
As is clear from FIG. 6, a chuck part 41 is formed in which a plurality of claws 41a can be freely expanded and contracted in the radial direction of the rotating shaft 31, and the chuck part 41 is inserted into the center hole la of the workpiece 1 and expanded. By opening it, the work 1 is supported.
一方、上記ブラシ機構32は、第3図から明らかなよう
に、洗浄室30内に枢軸44を中心にして洗浄位置と待
機位置とに回動自在に支持アーム45を設け、この支持
アーム45の先端の支軸47に、一対のブラシアーム4
8,48を核皮tdI47を中心に揺動自在且つ互いに
接離方向に移動自在に取付け、これらのブラシアーム4
8,48にそれぞれ円板形のブラシ50.50を回転自
在に取付けたもので、上記一対のブラシアーム48,4
8の揺動及び接離方向への移動は、支持アーム45に取
付けられた図示しない駆動手段により行われるようにな
っており、また、上記ブラシ50.50の駆動回転は、
上記支@47を貫通する駆動軸51により、歯車52a
〜52cを介して行われるようになっている。On the other hand, as is clear from FIG. 3, the brush mechanism 32 has a support arm 45 provided in the cleaning chamber 30 so as to be rotatable about a pivot 44 between a cleaning position and a standby position. A pair of brush arms 4 are attached to the support shaft 47 at the tip.
8 and 48 are attached to be swingable around the core skin tdI47 and movable in directions toward and away from each other, and these brush arms 4
Disk-shaped brushes 50 and 50 are rotatably attached to the pair of brush arms 48 and 48, respectively.
The swinging and movement of the brushes 8 in the approaching and separating directions are performed by a driving means (not shown) attached to the support arm 45, and the driving rotation of the brushes 50 and 50 is as follows.
The gear 52a is driven by the drive shaft 51 passing through the support @47.
~52c.
従って、ブラシアーム48,48を移動させて2つのブ
ラシ50.50間にワーク1を挟持させ、該ブラシ50
.50の回転と支軸47を中心とするブラシアーム48
,48の揺動とを生じさせることにより、上記ワーク1
の洗浄が行われる。Therefore, the brush arms 48, 48 are moved to sandwich the workpiece 1 between the two brushes 50, 50, and the brush 50.
.. 50 rotation and the brush arm 48 centered on the support shaft 47
, 48, the workpiece 1
cleaning is performed.
上記ブラシ50.50は、第7図に示すように、基板5
0aの対向面にスポンジ状部材やm雄状部材からなる多
数の払拭片50bを取付けることにより構成されている
。The brush 50.50 is connected to the substrate 5, as shown in FIG.
It is constructed by attaching a large number of wiping pieces 50b made of a sponge-like member or a male-like member to the opposing surface of 0a.
また、上記ノズル33.33は、第6図に示すように、
支持回転軸31に支持されたワーク1に対してそのワー
ク面内の斜め上方に2個配設され、その一方から洗剤が
、他方から純水が供給されるようになっている。Further, the nozzles 33, 33, as shown in FIG.
Two pumps are provided diagonally above the work surface of the workpiece 1 supported by the support rotation shaft 31, and detergent is supplied from one of them and pure water is supplied from the other.
さらに、上記受渡しアーム34.34は、t51図及び
第3図から明らかなように、支持回転1h31の軸線と
平行に設けられたガイド杆55に支持部材56を移動自
在に取付け、この支持部材56にそれぞれ上下動自在に
取付けたもので、これらの受渡しアーム34.34の先
端には、ワーク1の外周を挟持する2つの溝付きローラ
形の挟持片58,58がそれぞれ設けられ、上記供給ア
ーム12.12と同様にワークlを上下から挟持できる
ようになっている。Furthermore, as is clear from FIG. t51 and FIG. The transfer arms 34 and 34 are each provided with two grooved roller-shaped clamping pieces 58 and 58 at the tips of the delivery arms 34 and 34, respectively, for clamping the outer periphery of the workpiece 1. 12. Similarly to 12, the work l can be held from above and below.
また、上記搬送体35は、供給ユニット2における搬送
体16と実質的に同一構成を有するものであるから、同
一部分に同一符号を付してその説明は省略する。Moreover, since the conveyance body 35 has substantially the same configuration as the conveyance body 16 in the supply unit 2, the same parts are given the same reference numerals and the explanation thereof will be omitted.
一方、レール部材36は、その両側に位置する供給ユニ
ット2及び第2洗浄ユニツト4のレール部材17及び3
6と連結できるようにするため、洗浄ユニット3の幅と
略々同じに形成されている。On the other hand, the rail member 36 is connected to the rail members 17 and 3 of the supply unit 2 and the second cleaning unit 4 located on both sides thereof.
6, the width is approximately the same as the width of the cleaning unit 3.
また、第2洗浄ユニツト4は、純水のみを使用してワー
ク1を洗浄するもので、上記第1洗浄ユニツト3とは、
搬送体60がワークlに付着した洗浄液の拭取り機構6
1を有している点、及び、2つの洗浄液供給ノズル33
.33が、第8図に示すように、ワーク1に対してその
軸線方向の斜め上方に配設され、その両方から純水が供
給されるようになっている点が相違するのみで、その他
の基本構成は実質的に同一である。従って、基本構成に
ついては同一部分に同一符号を付してその説明を省略す
る。Further, the second cleaning unit 4 cleans the workpiece 1 using only pure water, and is different from the first cleaning unit 3 described above.
Mechanism 6 for wiping off cleaning liquid attached to the work l by the conveyor 60
1 and two cleaning liquid supply nozzles 33
.. 33 is disposed obliquely above the workpiece 1 in its axial direction, as shown in FIG. 8, and pure water is supplied from both of them. The basic configuration is substantially the same. Therefore, regarding the basic configuration, the same parts are given the same reference numerals and the explanation thereof will be omitted.
−上記拭取り機構61は、洗浄が終了したワーク1を次
の乾燥ユニット5に搬送する間に、ワーク1の中心孔1
aに近い部分に付着した洗浄液を拭取るもので、第9図
及び第10図に具体的に示すように、ワーク1の両側に
配設された第1テーブユニツ)61a及び第2テープユ
ニツト61bからなっており、これらのテーブユニッ)
61a、61bは、合板18上に取付けられたプレー
ト62a、62b上に、両端を巻取ローラ64a、64
bと供給ローラ[i5a、65bとに巻掛けられ、且つ
中間位置を複数のガイドローラ66a、66bに巻掛け
られた拭取りテープ63a、Ei3bを配設すると共に
、該拭取リテープ63a、Ei3bをワークlに押付け
る押圧子67a、Ei7b及びその押付用シリンダ68
a、Ei8bを配設することにより構成されており、第
1テープユニツト61aは台板18上に固定され、第2
テープユニツト61bは、図示しないシリンダ等の駆動
手段によって、第9図に示すように拭取りテープ63b
が他方の拭取りテープ63aと相対向する拭取り位置と
、第10図に示すように拭取りテープ63bが起立する
待機位置とに回動自在に取付けられている。そして、通
常はこの待機位置に回動保持せしめられている。なお、
第2図においては、分り易くするために第2テーブユニ
ツ) 61bを拭取り位置に回動させて示しているが、
実際にこの状態では、第2テープユニツト61bは上記
待機位置にある。- The wiping mechanism 61 wipes the center hole of the work 1 while transporting the cleaned work 1 to the next drying unit 5.
This is to wipe off the cleaning liquid that has adhered to the area near a, and as specifically shown in FIGS. (These table units)
61a, 61b are placed on plates 62a, 62b mounted on plywood 18, and both ends are placed on winding rollers 64a, 64.
Wiping tapes 63a and Ei3b are arranged around the supply rollers [i5a and 65b, and intermediate positions are wound around a plurality of guide rollers 66a and 66b, and the wiping tapes 63a and Ei3b are Pressers 67a and Ei7b to be pressed against the work l and cylinder 68 for pressing them
The first tape unit 61a is fixed on the base plate 18, and the second tape unit 61a is fixed on the base plate 18.
The tape unit 61b drives the wiping tape 63b as shown in FIG. 9 by a driving means such as a cylinder (not shown).
is rotatably attached to a wiping position where it faces the other wiping tape 63a and a standby position where the wiping tape 63b stands up as shown in FIG. Normally, it is rotatably held at this standby position. In addition,
In FIG. 2, the second table unit 61b is shown rotated to the wiping position for clarity.
Actually, in this state, the second tape unit 61b is in the standby position.
なお、上記押圧子67a、67bの押圧面は、ワーク1
の中心穴1aや溝1b(第5図)など、表面の凹凸形状
に合わせた形状に形成しておくこともできる。Note that the pressing surfaces of the pressers 67a and 67b are
It is also possible to form a central hole 1a or a groove 1b (FIG. 5) in a shape that matches the uneven shape of the surface.
このような拭取り機構61を搬送体60上に設けること
は、専用の拭取り機構設置空間を設ける場合に比してス
ペースの節約になるばかりでなく、ワーク1の搬送途中
でその拭取りを行うことにより、作業時間の短縮にもつ
ながる。また、ワークlの中心孔1aに近い部分に付着
した洗浄液を拭取ることにより、次の乾燥工程で、ワー
クの回転によりその中心孔1aに近い部分に付着した洗
浄液が該ワークの表面を伝って周囲に飛散し、じみを作
るのが防止される。Providing such a wiping mechanism 61 on the transport body 60 not only saves space compared to providing a dedicated wiping mechanism installation space, but also makes it possible to wipe the workpiece 1 while it is being transported. By doing so, it will also lead to a reduction in work time. In addition, by wiping off the cleaning liquid that has adhered to the part of the work l near the center hole 1a, in the next drying process, the cleaning liquid that has adhered to the part of the workpiece l that is close to the center hole 1a will flow down the surface of the workpiece due to rotation of the work. This prevents it from scattering around and causing stains.
上記第2の洗浄ユニット4に隣接して配設された乾燥ユ
ニット5は、第1図及び第2図に示すように、他と区画
された乾燥室70を有し、該乾燥室70内にワーク1を
縦向きに支持して回転させる支持回転軸71と、回転す
るワーク1の両面に洗浄用の温純水及び冷純水を供給す
るための供給ノズル72.72と、水の飛散を防止する
カバー73と、ワーク1の受渡しアーム74とが配設さ
れ、乾燥室70の前方には、搬送体75とレール部材7
6とが配設されている。As shown in FIGS. 1 and 2, the drying unit 5 disposed adjacent to the second washing unit 4 has a drying chamber 70 separated from the others. A support rotation shaft 71 for vertically supporting and rotating the workpiece 1, supply nozzles 72 and 72 for supplying warm pure water and cold pure water for cleaning to both sides of the rotating workpiece 1, and preventing water from scattering. A cover 73 and a transfer arm 74 for the work 1 are provided, and a transport body 75 and a rail member 7 are provided in front of the drying chamber 70.
6 are arranged.
上記支持回転jd+71は、上記洗浄ユニット3,4に
おける支持回転軸31と同一構造を有するものであるか
ら、対応部分に洗浄ユニット3,4と同一の符号を付し
てその説明は省略する。Since the support rotation jd+71 has the same structure as the support rotation shaft 31 in the cleaning units 3 and 4, corresponding parts are given the same reference numerals as those in the cleaning units 3 and 4, and a description thereof will be omitted.
また、上記供給ノズル72.72は、il1図にも示す
ように、上記拭取り機構61により拭き取りが行われた
部位よりも外側の位置、即ち信号面上の位置にワーク1
の半径方向へ変移可能に配設され、該信号面にまず温純
水を、続いて冷純水を供給して仕上げ洗浄を行うもので
ある。この場合、温純水用と冷純水用に別々の供給ノズ
ルを設けてもよい。In addition, as shown in FIG.
It is disposed so as to be movable in the radial direction of the signal surface, and performs final cleaning by first supplying hot pure water and then cold pure water to the signal surface. In this case, separate supply nozzles may be provided for warm pure water and cold pure water.
さらに、上記カバー73は、支持回転軸71の軸線方向
に移動自在に配設され、ワーク1を仕上げ洗浄及び乾燥
する際に前進してそれを被うようになっており、その内
部には、第11図からも明らかなように、傾斜する多数
の遮蔽板78が一定間隔で円周状に設けられ、ワークl
から四散してカバー73に衝突した洗浄液がはね返って
ワーク1に付着するのを防止している。Further, the cover 73 is disposed so as to be movable in the axial direction of the support rotating shaft 71, and moves forward to cover the workpiece 1 when finishing cleaning and drying it. As is clear from FIG. 11, a large number of inclined shielding plates 78 are provided circumferentially at regular intervals, and the workpiece l
This prevents the cleaning liquid that has dispersed and collided with the cover 73 from rebounding and adhering to the workpiece 1.
また、上記受渡しアーム74及び搬送体75.レール部
材76は、第1洗浄ユニツト3のものと実質的に同一構
成を有している。Also, the delivery arm 74 and the transport body 75. The rail member 76 has substantially the same construction as that of the first cleaning unit 3.
上記乾燥ユニット5に隣接して配設された取出ユニット
6は°、乾燥されたワーク1をアンローディング位置に
セットされた容器10内に順次収納するもので、供給ユ
ニット2における供給アーム12.12及び持上げアー
ム11と同様の構成を有する受取アーム81.81及び
収納アーム82を備え、該受取アーム81.81の前方
にレール部材83が配設されている。A take-out unit 6 disposed adjacent to the drying unit 5 sequentially stores the dried workpieces 1 into a container 10 set at an unloading position. and a receiving arm 81.81 and a storage arm 82 having the same configuration as the lifting arm 11, and a rail member 83 is disposed in front of the receiving arm 81.81.
而して、上記各ユニット2〜6は、それらの工程中心間
圧Maが等しくなるように構成され、また、各ユニット
における搬送体16,35.Go、75は1それらの間
に設けられた連結部材23によって上記工程中心間距離
aと同じ間隔で連結されている。Each of the units 2 to 6 is configured so that the process center pressures Ma are equal to each other, and the transport bodies 16, 35 . Go, 75 are connected by a connecting member 23 provided between them at an interval equal to the distance a between the process centers.
そして、これらの搬送体を駆動するシリンダ等の駆動源
84(第1図)が供給ユニット2に設けられると共に、
該供給ユニット2の搬送体16に連結され1、この駆動
源84によって各搬送体16,35,60゜75が上記
工程中心間圧#aだけ同期的に往復駆動され、ワーク1
を次々に隣接するユニットに搬送するようになっている
。即ち、上記連結部材23と駆動rA84トニヨッテ、
搬送体1G、35,60.75 ヲ一定間隔で同期的に
駆動するための駆動手段が構成されている。A drive source 84 (FIG. 1) such as a cylinder for driving these conveyors is provided in the supply unit 2, and
The drive source 84 drives the conveyors 16, 35, 60° 75 synchronously back and forth by the process center pressure #a, and the workpiece 1 is connected to the conveyor 16 of the supply unit 2.
are transported to adjacent units one after another. That is, the connection member 23 and the drive rA84 Tony Yotte,
A driving means is configured to drive the transport bodies 1G, 35, 60.75 synchronously at regular intervals.
上記搬送体の駆動手段としては、それらを電気的に同期
をとりながら駆動するタイプのものを使用することもで
きる。As the drive means for the above-mentioned conveyance bodies, it is also possible to use a type that drives them while electrically synchronizing them.
なお1図中79は、洗浄室30及び乾燥室70にそれぞ
れ設けられ、各室内の塵埃を除去してそれらを高度の清
浄状態に保持するためのクリーンユニットである。この
ようなりリーンユニットは、取出ユニット6にも同様に
設けることができる。Note that 79 in FIG. 1 is a clean unit that is provided in each of the cleaning chamber 30 and the drying chamber 70 to remove dust from each chamber and maintain them in a highly clean state. Such a lean unit can be similarly provided in the take-out unit 6.
次に、上記構成を有する洗浄装置の作用について説明す
る。Next, the operation of the cleaning device having the above configuration will be explained.
まず、洗浄すべきワーク1の種類や洗浄方法等に応じて
各ユニットの数や種類、配列順序等が決められ、それら
が横一列に接続される。この接続により、各ユニット2
〜6のレール部材17.36゜36.76.88は一体
に連結されて一木のレールを構成し、また、各搬送体1
6,35,60.75も連結部材23により一定間隔a
で一体的に連結される。First, the number, type, arrangement order, etc. of each unit are determined according to the type of workpiece 1 to be cleaned, the cleaning method, etc., and the units are connected in a horizontal line. With this connection, each unit 2
-6 rail members 17.36°36.76.88 are connected together to form a single rail, and each carrier 1
6, 35, 60.75 are also spaced at a constant interval a by the connecting member 23.
are integrally connected.
供給ユニット2において、持上げアーム11により容器
lOから持上げられた未洗浄ワーク1が供給アーム12
.12によって搬送体16に渡されると、このワークl
は、該搬送体16によって第1洗浄ユニツト3に搬送さ
れ、受渡しアーム34によって支持回転軸31に供給さ
れる。このとき、洗浄室30の扉30aは開放している
。そして、このm30aが閉鎖したあと、上記支持回転
軸31に保持されたワーク1は、高速で回転駆動されな
がらブラシ機構32における一対のブラシ50.50間
に挟持されて洗浄液供給ノズル33から供給される洗剤
により洗浄ざれる、このとき、各搬送体は元の位置に復
帰している。In the supply unit 2, the unwashed workpiece 1 lifted from the container IO by the lifting arm 11 is transferred to the supply arm 12.
.. 12 to the conveyor 16, this work l
is conveyed to the first cleaning unit 3 by the conveyor 16 and supplied to the support rotation shaft 31 by the transfer arm 34. At this time, the door 30a of the cleaning chamber 30 is open. After this m30a is closed, the workpiece 1 held on the support rotating shaft 31 is held between the pair of brushes 50 and 50 in the brush mechanism 32 while being rotated at high speed, and is supplied from the cleaning liquid supply nozzle 33. At this time, each carrier has returned to its original position.
洗浄の終ったワーク1は、扉30aの開いた洗浄室30
から受渡しアーム34により搬出されて搬送体35に渡
されたあと、該搬送体35によって次の第2洗浄ユニツ
ト4に送られ、同様にして純水による洗浄が行われる。The workpiece 1 that has been cleaned is placed in the cleaning room 30 with the door 30a open.
After being carried out by the transfer arm 34 and handed over to the carrier 35, it is sent to the next second cleaning unit 4 by the carrier 35, where it is similarly cleaned with pure water.
純水による洗浄の終ったワーク1は、受渡しアーム34
により搬送体60に渡されて乾燥ユニット5に送られる
が、その搬送の途中で、中心穴1aに近い部分に付着し
た水分が拭取り機構61における2つのテープユニツ)
61a、61b /7’−取リテープ63a、63b
によって拭き取られる。即ち、上記搬送の途中で、第1
0図の待機位置にあった第2テーブユニツ)61bが第
9図の拭取り位置に回動し、同時に押圧シリンダ68a
、68bが作動して押圧子67a。The workpiece 1 that has been cleaned with pure water is transferred to the transfer arm 34
The tape is then transferred to the conveyor 60 and sent to the drying unit 5, but during the conveyance, water adhering to the area near the center hole 1a is removed from the two tape units in the wiping mechanism 61).
61a, 61b /7'-retape 63a, 63b
wiped away by. That is, in the middle of the above-mentioned conveyance, the first
The second table unit (61b) which was in the standby position shown in Fig. 0 rotates to the wiping position shown in Fig. 9, and at the same time the press cylinder 68a
, 68b are activated to press the pusher 67a.
67bを前進させるため、拭取りテープ63a、63b
がワーク1に圧接して拭取りが行われる。Wipe tapes 63a, 63b to advance 67b.
is brought into pressure contact with the workpiece 1 and wiping is performed.
そして、上記ワーク1が受渡しアーム74により支持回
転軸71に渡されて保持されると、力/<−73が前進
してきてワーク1を被い、回転するワークlの両面に供
給ノズル72から温純水と冷純水とが経時的に供給され
て仕上げ洗浄が行われ、同時に、高速回転により水分が
吹飛ばされてその乾燥が行われる。上記温純水及び冷純
水は、第11図に示すように、拭取りの行われた部分よ
り外側の部分に、/ズル72をワーク1の内側から外側
に向けて半径方向へ移動させながら供給され、これによ
って、信号面に残留している界面活性剤などが除去され
る。When the workpiece 1 is transferred to the support rotation shaft 71 by the transfer arm 74 and held, a force /<-73 moves forward and covers the workpiece 1, and hot pure water is supplied from the nozzle 72 to both sides of the rotating workpiece l. and cold pure water are supplied over time to perform final cleaning, and at the same time, the water is blown off by high-speed rotation to dry it. As shown in FIG. 11, the hot pure water and cold pure water are supplied to the area outside the area where the wiping has been performed while moving the /zuru 72 in the radial direction from the inside to the outside of the workpiece 1. This removes surfactant and the like remaining on the signal surface.
而して、仕上げ洗浄と乾燥とが終ったワーク1は、搬送
体75により取出ユニット6に送られ、受取りアーム8
1.81によって収納アーム82に渡されたあと、容器
10内に順次収納される。The work 1 that has been finished with the final cleaning and drying is sent to the take-out unit 6 by the conveyor 75, and then transferred to the receiving arm 8.
1.81 to the storage arm 82, and then sequentially stored in the container 10.
なお、上記一連の動作は、マイクロコンピュータによっ
て自動的に制御されるものである。Note that the series of operations described above is automatically controlled by a microcomputer.
[371明の効果]
上記構成を有する本発明によれば、各工程をユニット化
し、各ユニットにそれぞれ連結可能なレール部材を設け
ると共に、端部に位置する1つのユニットを除くその他
のユニットに搬送体ヲ設けたので、ワークの種類や洗浄
方法等によって工程の増減や交換等を簡単に行うことが
できるばかりでなく、各ユニットを単に連結するだけで
それに応じた長さの搬送機構を自動的に付設することが
できる。[Effects of 371 Light] According to the present invention having the above configuration, each process is unitized, each unit is provided with a rail member that can be connected to each other, and conveyed to other units except for one unit located at the end. Not only is it possible to easily increase or decrease the number of processes or replace them depending on the type of workpiece or cleaning method, etc., but also it is possible to automatically adjust the conveyance mechanism to the corresponding length by simply connecting each unit. can be attached to.
第1図は本発明の一実施例を示す部分破断正面図、第2
図はその平断面図、第3図は第2図の部分拡大図、第4
図は搬送体の側面図、第5図はワークの受渡し状態を説
明するための正面図、第6図及び第8図は洗浄液供給ノ
ズルの配置についての説明図、第7図はブラシの側面図
、第す図及び第1O図は拭取り機構の異なる使用状態で
の平面図及び正面図、第11図は乾燥室の部分拡大正面
図Cある。
1 ・・ワーク、 2 φ・供給ユニット、3
.4曇・洗浄ユニット、5・・乾燥ユニット、6・・取
出ユニット、
1G 、35.60.75 争@搬送体、17 、36
.76 、83 φ番し−ル部材。
特許出願人 スピードファム株式会社第 3 口
コ
第9図
lb
手糸売有口正書 (自発)
昭和61年12月15日
特許庁長官 黒 1)明 雄 殿 、−マ、1、事
件の表示
昭和61年手持願第224709号
2、発明の名称
洗浄装置
3、補正をする者
事件との関係 特許出願人
住 所 東京都大田区西六郷4の30の3名 称 スピ
ードファム株式会社
代表取締役社長 小 原 博
4、代 理 人 〒180 711話(343
)8755住 所 東京都新宿区西新宿1丁目9番12
自 発
6、補正の対象
明細書の発明の詳細な説明の欄。
z′−一
7、補正の内容 5・ ・。
別紙の通り
補正の内容
(1)明細書第18頁第4〜5行に記載の「レール部材
17,313.3B、76、’88は」を「レール部材
17,38,313゜78.83は」と補正します。FIG. 1 is a partially cutaway front view showing one embodiment of the present invention, and FIG.
The figure is a cross-sectional plan view, Figure 3 is a partially enlarged view of Figure 2, and Figure 4 is a partially enlarged view of Figure 2.
The figure is a side view of the conveyor, Figure 5 is a front view for explaining the delivery state of the workpiece, Figures 6 and 8 are explanatory diagrams for the arrangement of the cleaning liquid supply nozzle, and Figure 7 is a side view of the brush. , S and 1O are plan views and front views of the wiping mechanism in different usage states, and FIG. 11 is a partially enlarged front view C of the drying chamber. 1...Work, 2 φ・Supply unit, 3
.. 4. Fogging/cleaning unit, 5.. Drying unit, 6.. Taking out unit, 1G, 35.60.75 Conflict @ conveyor, 17, 36
.. 76, 83 φ numbering member. Patent Applicant: Speed Fam Co., Ltd. No. 3, Figure 9, lb, Teitosei Yuguchi Seisho (Voluntary), December 15, 1985, Commissioner of the Patent Office, Kuro 1) Mr. Akio, -Ma, 1, Indication of the case Patent Application No. 224709 of 1986 2, Invention Name Cleaning Device 3, Relationship with the Amendment Case Patent Applicant Address 30, 4 Nishirokugo, Ota-ku, Tokyo 3 Names Speedfam Co., Ltd. President and Representative Director Hiroshi Ohara 4, agent 〒180 711 stories (343
) 8755 Address 1-9-12 Nishi-Shinjuku, Shinjuku-ku, Tokyo
Spontaneous 6. Detailed description of the invention in the specification to be amended. z'-17, Contents of correction 5. . Contents of the amendment as shown in the attached sheet (1) "Rail member 17, 313.3B, 76, '88" described on page 18, lines 4-5 of the specification is changed to "rail member 17, 38, 313° 78.83". I am corrected.
Claims (1)
れユニット化して、これらの各ユニットを分離可能に連
結することにより構成したものであって、上記各ユニッ
トには、それらの接続により互いに連結可能なレール部
材をそれぞれ設けると共に、供給ユニットまたは取出ユ
ニットを除く各ユニットに、ワークを搬送する搬送体を
上記レール部材に沿って移動自在に設け、これらの搬送
体を、各搬送体間の間隔を一定に保って同期的に駆動す
る駆動手段に連結したことを特徴とする洗浄装置。1.It is constructed by unitizing the work supply, cleaning, drying, and unloading processes, and connecting these units so that they can be separated, and each of the above units can be connected to each other by connecting them. In addition, each unit except the supply unit or the take-out unit is provided with a conveyor for conveying the workpiece so as to be movable along the rail member, and these conveyors are arranged such that the intervals between the conveyors are A cleaning device characterized in that it is connected to a driving means that is maintained constant and driven synchronously.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP61224709A JPS6380888A (en) | 1986-09-22 | 1986-09-22 | Washer |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP61224709A JPS6380888A (en) | 1986-09-22 | 1986-09-22 | Washer |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS6380888A true JPS6380888A (en) | 1988-04-11 |
JPH0446195B2 JPH0446195B2 (en) | 1992-07-29 |
Family
ID=16818013
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP61224709A Granted JPS6380888A (en) | 1986-09-22 | 1986-09-22 | Washer |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS6380888A (en) |
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JPH0446195B2 (en) | 1992-07-29 |
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