JPS6372191A - Manufacture of circuit board - Google Patents

Manufacture of circuit board

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Publication number
JPS6372191A
JPS6372191A JP21627786A JP21627786A JPS6372191A JP S6372191 A JPS6372191 A JP S6372191A JP 21627786 A JP21627786 A JP 21627786A JP 21627786 A JP21627786 A JP 21627786A JP S6372191 A JPS6372191 A JP S6372191A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
carrier plate
circuit
layer
thin metal
insulating substrate
Prior art date
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Pending
Application number
JP21627786A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
兼子 醇治
笠井 与志治
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Panasonic Electric Works Co Ltd
Original Assignee
Matsushita Electric Works Ltd
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
(57) [Abstract] This bulletin contains application data before electronic filing, so abstract data is not recorded.

Description

【発明の詳細な説明】 [技術分野] 本発明は、回路を転写して形成するようにした回路板の
製造方法に関するものである。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Technical Field] The present invention relates to a method of manufacturing a circuit board in which a circuit is formed by transferring it.

[背景技術]  ゛ 回路板を製造するにあたって、回路の形成は従来からサ
ブトラクティブ法でおこなわれるのが一般的である。す
なわち絶縁基板の表面に金属箔をMINI、で設け、回
路パターン以外の部分においで金属箔をエツチングする
ことによって回路の形成をするのである。しかしこの方
法では回路以外の部分では金属箔はエツチング除去され
ることになるために材料ロスなどの問題がある。このサ
ブトラクティブ法に対して、回路をメッキによって絶縁
基板に付加して設けるようにしたアディティブ法があり
、アディティブ法に類似する回路形成方法として絶縁基
板に回路を転写させて設ける方法が本発明者等によって
検討されている。
[Background Art] ``In manufacturing circuit boards, circuits are generally formed using a subtractive method. That is, a circuit is formed by providing a metal foil on the surface of an insulating substrate using MINI, and etching the metal foil in areas other than the circuit pattern. However, this method has problems such as material loss because the metal foil is removed by etching in areas other than the circuit. In contrast to this subtractive method, there is an additive method in which a circuit is added to an insulating substrate by plating, and the present inventor proposes a method similar to the additive method in which a circuit is transferred to an insulating substrate. etc. are being considered.

すなわち第3図(a)のように、導電性のキャリア板1
の表面にメッキレノスト3を回路パターン以外の部分に
おいて設け、次いでキャリア板1に通電することによっ
てキャリア板1の表面に電気メッキで回路層4を形成さ
せる。回路層4は第3図(b)のように7フキレノスト
3によって被覆されない部分においてキャリア板1の表
面に回路パターンで形成されることになる。、次ぎに第
3図(e)のようにキャリア板1にメツキレシスト3と
回路層4とを保持させた状態で回路層4を絶縁基板5に
接着させる。そしてこのように絶縁基板5に回路層4を
接着させたのちに、回路ff14及びメッキレノスト3
からキャリア板1を剥離することによって、キャリア板
1から転写させた状態で第3図(d)のように回路層4
を絶縁基板5の表面に設けて回路板Aとするのである。
That is, as shown in FIG. 3(a), the conductive carrier plate 1
A plating layer 3 is provided on the surface of the carrier plate 1 at a portion other than the circuit pattern, and then the carrier plate 1 is energized to form a circuit layer 4 on the surface of the carrier plate 1 by electroplating. The circuit layer 4 is formed in a circuit pattern on the surface of the carrier plate 1 in the portion not covered by the seven-layer nozzle 3, as shown in FIG. 3(b). Next, as shown in FIG. 3(e), the circuit layer 4 is bonded to the insulating substrate 5 while the metal resist 3 and the circuit layer 4 are held on the carrier plate 1. After bonding the circuit layer 4 to the insulating substrate 5 in this way, the circuit ff14 and the plating layer 3
By peeling the carrier plate 1 from the carrier plate 1, the circuit layer 4 is transferred from the carrier plate 1 as shown in FIG. 3(d).
is provided on the surface of the insulating substrate 5 to form the circuit board A.

このものにあって、回路層4をキャリア板1の表面から
絶縁基板5の表面に転写させる必要があるために、キャ
リア板1に対する回路層4の密着力を小さくしてキャリ
ア板1を剥離する際に回路層4の一部がキャリア板1に
残ってしまうことを防ぐ必要がある。しかしキャリア板
1に対する回路層4の密着力を小さくすると絶縁基板5
に転写する工程で回路層4がキャリア板1の表面におい
て位置ずれされたりさらに切断されたりするおそれがあ
り、精度良(回路を形成することが困難になる。
In this device, since it is necessary to transfer the circuit layer 4 from the surface of the carrier board 1 to the surface of the insulating substrate 5, the adhesion of the circuit layer 4 to the carrier board 1 is reduced and the carrier board 1 is peeled off. In this case, it is necessary to prevent part of the circuit layer 4 from remaining on the carrier plate 1. However, if the adhesion of the circuit layer 4 to the carrier plate 1 is reduced, the insulating substrate 5
During the transfer process, there is a risk that the circuit layer 4 may be displaced or even cut on the surface of the carrier plate 1, making it difficult to form a circuit with high precision.

[発明の目的] 本発明は、上記の点に鑑みて為されたものであり、回路
形成の精度を低下させることなく絶縁基板への回路層の
転写を容易におこなうことができ、加えて回路層が転写
の前に脱落してしまうようなおそれもない回路板の製造
方法を提供することを目的とするものである。
[Object of the Invention] The present invention has been made in view of the above points, and it is possible to easily transfer a circuit layer to an insulating substrate without reducing the accuracy of circuit formation, and in addition, It is an object of the present invention to provide a method for manufacturing circuit boards without the risk of layers falling off before transfer.

[発明の開示] しかして本発明に係る回路板の製造方法は、導電性のキ
ャリア板1にその表面から裏面のi縁部にかけて薄い金
属層2をメッキによって形成し、この薄い金属1@2の
表面に回路パターンで回路層4をメッキによって形成し
、次いで絶縁基板5に回路層4を薄い金属IVi2と反
対側の面において接着させた後に薄い金属層2からキャ
リア板1を剥離し、この後に薄い金属N2を除去して絶
縁基板5の表面において回路層4を露出させることを特
徴とするものであり、以下本発明を実施例により詳述す
る。
[Disclosure of the Invention] According to the method of manufacturing a circuit board according to the present invention, a thin metal layer 2 is formed on a conductive carrier plate 1 from the front surface to the i-edge of the back surface by plating, and this thin metal layer 1@2 A circuit layer 4 is formed with a circuit pattern on the surface of the insulating substrate 5 by plating, and then the circuit layer 4 is bonded to the insulating substrate 5 on the side opposite to the thin metal IVi2, and then the carrier plate 1 is peeled off from the thin metal layer 2. This method is characterized in that the thin metal N2 is subsequently removed to expose the circuit layer 4 on the surface of the insulating substrate 5.The present invention will be described in detail below with reference to Examples.

キャリア板1は転写用基板として用いられるものであり
、銅やニッケル、半田等のメッキ金属と密着力の弱い金
属板、例えばステンレスやチタン、アルミニウムなどの
導電性金属板によって形成しである。そしてこのキャリ
ア板1の表面を化学的あるいは機械的に粗面化処理して
第1図(&)に示すように粗面10を形成し、次いでキ
ャリア板1に通電することによって電気メッキをおこな
い、キャリア板1の表面の粗面10に銅やニッケル、半
田等の電気メッキによって薄い金属層2をMS1図(b
)のように析出させで形成する。この薄い金属層2は後
述の回路層4を一体化することができればよいものであ
って、厚みは0.5〜10μ程度で十分である。ここで
、薄い金属層2はキャリア板1の表面の全面に形成され
る力みならず、第2図に示すようにキャリア板1のgA
端面から裏面の端縁部へと薄い金属N2の端部が延長片
6として回り込むようにしである。キャリア板1の裏面
にその端縁部を除いてマスキング13を施しおいて、こ
の状態で電気メッキをおこなうことによって、延長片6
がキャリア板1の裏面の!1i部に回り込んだ状態で薄
い金属/!2をメッキ形成することができる。
The carrier plate 1 is used as a transfer substrate, and is made of a metal plate having weak adhesion to a plated metal such as copper, nickel, or solder, such as a conductive metal plate such as stainless steel, titanium, or aluminum. Then, the surface of the carrier plate 1 is chemically or mechanically roughened to form a rough surface 10 as shown in FIG. , a thin metal layer 2 is formed on the rough surface 10 of the carrier plate 1 by electroplating copper, nickel, solder, etc.
) is formed by precipitation. This thin metal layer 2 only needs to be able to integrate a circuit layer 4, which will be described later, and a thickness of about 0.5 to 10 microns is sufficient. Here, the thin metal layer 2 is not only applied to the entire surface of the carrier plate 1, but also to the gA of the carrier plate 1 as shown in FIG.
The end of the thin metal N2 wraps around as an extension piece 6 from the end face to the edge of the back face. Masking 13 is applied to the back surface of the carrier plate 1 except for the edges, and electroplating is performed in this state to form the extension piece 6.
is on the back of carrier plate 1! Thin metal /! wrapped around the 1i section! 2 can be formed by plating.

上記のようにキャリア板1の表面に薄い金属層2を電気
メッキで形成したのちに、メツキレシスト3を塗布して
露光・現像することによって第1図(e)のように回路
パターン以外の部分において薄い金属層2の表面をメツ
キレシスト3で被覆する0次ぎにキャリア板1を介して
薄い金属層2に通電することによって電気メッキをおこ
ない、薄い金属層2の表面に銅等の電気メッキによって
回路層4を析出させて形成する。この回路M4はメツキ
レシスト3によって被覆されず露出された部分において
薄い金属層2の表面に回路パターンで形成されるもので
ある。このようにキャリア板1にメツキレシスト3と回
路層4を形成させたのちに、キャリア板1で保持させた
状態のこのメツキレシスト3と回路層4を絶縁基板5に
接着させる。ここで紙やプラス布などの基材にエポキシ
樹脂やイミド樹脂などの熱硬化性aflfIrを含浸し
て作成した複数枚のプリプレグ11を積層成形して得ら
れる積層板で絶縁基板5を形成する場合には、第1図(
e)に示すように複数枚のプリプレグ11を重ねると共
にこのプリプレグ11にさらにキャリア板1で保持させ
た状態のメツキレシスト3と回路層4を重ね、これを熱
盤12間にセットして加熱加圧成形することによって、
複数枚のプリプレグ11を積層して絶縁基板5を成形す
ると同時に絶縁基板5にメッキレノスト3や回路層4を
接着させるようにすることができる。もちろん、絶縁基
板5として予め形成されたものに接着剤を塗布してメツ
キレシスト3や回路層4を接着させるようにしてもよい
After forming a thin metal layer 2 on the surface of the carrier plate 1 by electroplating as described above, a metal resist 3 is applied, exposed, and developed to form a thin metal layer 2 on the surface of the carrier plate 1, as shown in FIG. 1(e). The surface of the thin metal layer 2 is coated with a metal resist 3. Next, electroplating is performed by applying electricity to the thin metal layer 2 through the carrier plate 1, and a circuit layer is formed on the surface of the thin metal layer 2 by electroplating copper or the like. 4 is precipitated and formed. This circuit M4 is formed as a circuit pattern on the surface of the thin metal layer 2 in the exposed portion not covered by the metal resist 3. After forming the plating resist 3 and the circuit layer 4 on the carrier plate 1 in this manner, the plating resist 3 and the circuit layer 4 held by the carrier plate 1 are bonded to the insulating substrate 5. Here, when the insulating substrate 5 is formed by a laminate obtained by laminating and molding a plurality of prepregs 11 made by impregnating a base material such as paper or plastic cloth with thermosetting aflfIr such as an epoxy resin or an imide resin. Figure 1 (
As shown in e), a plurality of prepregs 11 are stacked together, and the prepreg 11 is further stacked with the circuit layer 4 and the metal resist 3 held by the carrier plate 1, and this is set between the heating plates 12 and heated and pressed. By molding
It is possible to form the insulating substrate 5 by laminating a plurality of prepregs 11 and simultaneously bond the plating layer 3 and the circuit layer 4 to the insulating substrate 5. Of course, it is also possible to apply adhesive to a pre-formed insulating substrate 5 to adhere the metal resist 3 and the circuit layer 4.

このようにして第1図(f)に示すようにキャリア板1
で保持させた状態のメッキレノスト3と回路層4を絶縁
基板5に接着させたのちに、第1図(g)のようにキャ
リア板1を剥離しで除去する。
In this way, as shown in FIG. 1(f), the carrier plate 1
After the plating layer 3 and the circuit layer 4 held in place are adhered to the insulating substrate 5, the carrier plate 1 is peeled off and removed as shown in FIG. 1(g).

このとき、薄い金属層2はキャリア板1との密着力が小
さく、薄い金属層2からキャリア板は容易に剥離される
。すなわち、絶縁基板5に対するメツキレシスト3や回
路層4の密着力よりもキャリア板1に対する薄い金属W
I2の密着力を小さく形成することによって、メッキレ
ノスト3の一部や回路層4の一部が絶縁基板5の表面に
残らずに剥がれてしまうようなおそれなくキャ177板
1を剥離させることがで終るのである。*たこのように
キヤ177板1の剥離が容易におこなえるようにキャリ
ア板1と薄い金属板2どの密着力を小さくしても、薄い
金属層2に対する回路層4の密着力や薄い金属層2に対
するメツキレシスト3のvIj着力は高くすることがで
き、メッキレノスト3や回路層4の位置を薄い金属層2
によって保持させた状態で絶縁基板5にメツキレシスト
3や回路層4を転写させることができるものであり、絶
縁基板5にメツキレシスト3と回路/l!4とを転写す
る際に回路層4が位置ずれされたり切断されたりするお
それはない、特にプリプレグ11を加熱加圧成形する際
に同時にプリプレグ11によって形成される絶縁基板5
に回路層4とメッキレノスト3とを転写させるようにし
た場合において、樹脂の流れなどが回路層4に作用して
も回路層4の位置ずれや切断が発生するおそれはなく、
精度の良い回路形成をすることができる。しかしキャリ
ア板1の剥離を容易にするためにキャリア板1と薄い金
属層2との密着力を小さくすると、第1図(e)〜第1
図(e)の工程、すなわちメッキレノスト3の乾燥・現
像・硬化、回路M4のメッキ形成、絶縁基板5への接着
の各工程においてキャリア板1から薄い金属層2が剥が
れ、メツキレシスト3や回路M4がキャリア板1から脱
落してしまうおそれがある。そこで本発明においては上
記したようにキャリア板1に薄い金属層2を形成するに
あたってキャリア板1の裏面の端縁部に延長片6が回り
込むようにしてあり、この延長片6がキャリア板1の端
部に係止されてこの部分で薄い金属層2がキャリア板1
に保持されるようにし、回路層4を転写するまでの途中
工程で薄い金属層2がキャリア板1から剥がれて脱落し
てしまわないようにしたのである。
At this time, the thin metal layer 2 has a low adhesive strength with the carrier plate 1, and the carrier plate is easily peeled off from the thin metal layer 2. In other words, the adhesion of the metal resist 3 and the circuit layer 4 to the insulating substrate 5 is greater than that of the thin metal W to the carrier plate 1.
By forming the adhesive strength of I2 to be small, the carrier 177 plate 1 can be peeled off without fear that part of the plating layer 3 or part of the circuit layer 4 will be peeled off without remaining on the surface of the insulating substrate 5. It will end. *The carrier plate 1 and the thin metal plate 2 are designed so that the carrier plate 1 can be easily peeled off like an octopus. The vIj adhesion of the plating resist 3 to the plating resist 3 can be increased, and the position of the plating resist 3 and the circuit layer 4 can be changed to the thin metal layer 2.
The metal resist 3 and the circuit layer 4 can be transferred to the insulating substrate 5 while being held by the metal resist 3 and the circuit/l! on the insulating substrate 5. There is no risk that the circuit layer 4 will be misaligned or cut when transferring the circuit layer 4 to the insulating substrate 5 formed by the prepreg 11 at the same time as the prepreg 11 is heated and pressure molded.
In the case where the circuit layer 4 and the plating layer 3 are transferred, there is no risk that the circuit layer 4 will be misaligned or cut even if a flow of resin or the like acts on the circuit layer 4.
It is possible to form circuits with high precision. However, if the adhesion between the carrier plate 1 and the thin metal layer 2 is reduced in order to facilitate the peeling of the carrier plate 1, the results shown in FIGS.
In the process shown in Figure (e), that is, drying, developing, and curing the plated resin 3, forming the plating on the circuit M4, and adhering it to the insulating substrate 5, the thin metal layer 2 is peeled off from the carrier plate 1, and the metal layer 2 and the circuit M4 are peeled off from the carrier plate 1. There is a risk that it may fall off from the carrier plate 1. Therefore, in the present invention, as described above, when forming the thin metal layer 2 on the carrier plate 1, the extension piece 6 wraps around the edge of the back surface of the carrier plate 1. At this point, the thin metal layer 2 is attached to the carrier plate 1.
This is to prevent the thin metal layer 2 from peeling off from the carrier plate 1 and falling off during the process before the circuit layer 4 is transferred.

そして第1図(g)の工程においてキャリア板1を剥離
する際には、キャリア板1の側端縁において延長片6を
切断して薄い金属層2から切り離すようにすればよい。
When the carrier plate 1 is peeled off in the process shown in FIG. 1(g), the extension piece 6 may be cut at the side edge of the carrier plate 1 to separate it from the thin metal layer 2.

上記のようにキャリア板1を剥離して薄い金属層2を露
出させたのちに、化学的なエツチングや機械的な研削な
どを施して薄い金属層2を除去することによって、第1
図(h)のようにメッキレノスト3や回路/[4を絶縁
基板5の表面に露出させ、キャリア板1から転写させた
状態で絶縁基板5の表面に回路層4を設けた回路板Aを
得ることができる。
After the carrier plate 1 is peeled off to expose the thin metal layer 2 as described above, the thin metal layer 2 is removed by chemical etching or mechanical grinding.
As shown in Figure (h), a circuit board A is obtained in which the plating layer 3 and the circuit/[4 are exposed on the surface of the insulating substrate 5 and the circuit layer 4 is provided on the surface of the insulating substrate 5 while being transferred from the carrier plate 1. be able to.

[発明の効果] 上述のように本発明にあっては、導電性のキャリア板の
表面に薄い金属層をメッキによって形成し、この薄い金
属層の表面に回路パターンで回路層をメッキによって形
成し、次いで絶縁基板に回路層を薄い金属層と反対側の
面において接着させた後に薄い金属層からキャリア板を
剥離し、この後に薄い金属層を除去して絶縁基板の表面
において回路層を露出させるようにしたので、キャリア
板に対する薄い金属層の密着力を小さく形成することに
よってキャリア板の剥離を容易にして絶縁基板への回路
層の転写を容易におこなうことがで終ると共に、またこ
のようにキヤ+77板の剥離を容易にするためにキャリ
ア板と薄い金属層との密着力を小さくしても薄い金属層
に対する回路層の密着力を高(してお(ことで、回路層
を薄い金属層によって保持させた状態で絶縁基板に回路
層を転写させることができるものであり、絶縁基板に転
写する際に回路層が位置ずれされたり切断されたりする
おそれなく精度の良い回路形成をすることができるもの
である。しかも薄い金属層はキャリア板にその表面から
裏面の端縁部にかけて形成するようにしであるので、キ
ャリア板の裏面の端縁部に回り込む部分がキャリア板の
端部に係止されてこの部分で薄い金IK層をキャリア板
に保持されることかでか、回路層を転写するまでの途中
工程で薄い金属層が剥がれて回路層がキャリア板から脱
落してしまうことを防止することができるものである。
[Effects of the Invention] As described above, in the present invention, a thin metal layer is formed on the surface of a conductive carrier plate by plating, and a circuit layer with a circuit pattern is formed on the surface of this thin metal layer by plating. Then, after adhering the circuit layer to the insulating substrate on the side opposite to the thin metal layer, the carrier plate is peeled off from the thin metal layer, and then the thin metal layer is removed to expose the circuit layer on the surface of the insulating substrate. As a result, by forming the thin metal layer to have a small adhesion to the carrier plate, the carrier plate can be easily peeled off and the circuit layer can be easily transferred to the insulating substrate. Even if the adhesion between the carrier plate and the thin metal layer is reduced in order to make it easier to peel off the carrier plate, the adhesion of the circuit layer to the thin metal layer can be increased. It is possible to transfer a circuit layer to an insulating substrate while being held by the layer, and to form a circuit with high precision without fear of the circuit layer being misaligned or cut when transferred to the insulating substrate. Moreover, since the thin metal layer is formed on the carrier plate from the front side to the edge of the back side, the part that wraps around the edge of the back side of the carrier plate does not touch the edge of the carrier plate. If the thin gold IK layer is held on the carrier plate at this point, the thin metal layer may peel off during the process before transferring the circuit layer and the circuit layer may fall off the carrier plate. It is something that can be prevented.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図(a)乃至(h)は本発明の一実施例の各工程部
分の断面図、第2図は同上の一部の拡大断面図、第3図
(a)乃至(d)は従来例の各工程部分の断面図である
。 1はキャリア板、2は薄い金属層、4は回路層、5は絶
縁基板である。
FIGS. 1(a) to (h) are sectional views of each step in an embodiment of the present invention, FIG. 2 is an enlarged sectional view of a part of the same, and FIGS. 3(a) to (d) are conventional It is a sectional view of each process part of an example. 1 is a carrier plate, 2 is a thin metal layer, 4 is a circuit layer, and 5 is an insulating substrate.

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] (1)導電性のキャリア板にその表面から裏面の端縁部
にかけて薄い金属層をメッキによって形成し、この薄い
金属層の表面に回路パターンで回路層をメッキによって
形成し、次いで絶縁基板に回路層を薄い金属層と反対側
の面において接着させた後に薄い金属層からキャリア板
を剥離し、この後に薄い金属層を除去して絶縁基板の表
面において回路層を露出させることを特徴とする回路板
の製造方法。
(1) A thin metal layer is formed on a conductive carrier plate from the front side to the edge of the back side by plating, a circuit layer with a circuit pattern is formed on the surface of this thin metal layer by plating, and then a circuit is placed on an insulating substrate. A circuit characterized in that the carrier plate is peeled off from the thin metal layer after the layers have been adhered on the side opposite the thin metal layer, and the thin metal layer is then removed to expose the circuit layer on the surface of the insulating substrate. Method of manufacturing the board.
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