JPS636489A - ト−ラス型核融合装置 - Google Patents
ト−ラス型核融合装置Info
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- JPS636489A JPS636489A JP61149675A JP14967586A JPS636489A JP S636489 A JPS636489 A JP S636489A JP 61149675 A JP61149675 A JP 61149675A JP 14967586 A JP14967586 A JP 14967586A JP S636489 A JPS636489 A JP S636489A
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- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims description 6
- 230000000737 periodic effect Effects 0.000 claims description 4
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- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 4
- 238000002347 injection Methods 0.000 description 4
- 239000007924 injection Substances 0.000 description 4
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- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 2
- 230000002123 temporal effect Effects 0.000 description 2
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
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- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
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- Y02E—REDUCTION OF GREENHOUSE GAS [GHG] EMISSIONS, RELATED TO ENERGY GENERATION, TRANSMISSION OR DISTRIBUTION
- Y02E30/00—Energy generation of nuclear origin
- Y02E30/10—Nuclear fusion reactors
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- Lining Or Joining Of Plastics Or The Like (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
この発明は、プラズマ電流をほぼ一定に維持するトーラ
ス型核融合装置に関するものである。
ス型核融合装置に関するものである。
第4図は、従来のトーラス型核融合装置の構成を示す断
面図である。このトーラス型核融合装置は、軸対称であ
り、中心軸であるZ軸に対する円周方向の座標?方向に
対して一様である。第4図において、1は小半径がa。
面図である。このトーラス型核融合装置は、軸対称であ
り、中心軸であるZ軸に対する円周方向の座標?方向に
対して一様である。第4図において、1は小半径がa。
、大半径がR6のトーラス形のプラズマ、2はプラズマ
1を内部に形成する内部がトーラス形に中空の真空容器
、3は真空容器2を内部に包むようにトーラス形に設け
られたトロイダル磁場コイルであり、電流が流れること
によって真空容器2の内部の中心軸に沿った?方向に磁
場を真空容器2内のプラズマ生成領域に形成する。4は
電流が流れることによって真空容器2内にプラズマ電流
を生成させて維持させるために用いられるオーム加熱コ
イル(以下、OHコイルという)であり、直列接続され
た複数個のコイルから成る。各OHコイル4はトロイダ
ル磁場コイル3の外側でトロイダル磁場コイル3のトー
ラス形状に沿って?方向に円環状に設けられ、例えば円
環状のOHコイル4はトロイダル磁場コイル3の断面で
外側半周分取巻くような形に設けられている。5はトロ
イダル磁場コイル3に通電するためのトロイダル磁場コ
イル電源、6はOHコイル4に通電するための○Hコイ
ル電源、7は上記2電源5,6を各々制御するための制
御装置である。なお、OHコイル4とプラズマ1はトラ
ンスの各々−次側、二次側を形成している。
1を内部に形成する内部がトーラス形に中空の真空容器
、3は真空容器2を内部に包むようにトーラス形に設け
られたトロイダル磁場コイルであり、電流が流れること
によって真空容器2の内部の中心軸に沿った?方向に磁
場を真空容器2内のプラズマ生成領域に形成する。4は
電流が流れることによって真空容器2内にプラズマ電流
を生成させて維持させるために用いられるオーム加熱コ
イル(以下、OHコイルという)であり、直列接続され
た複数個のコイルから成る。各OHコイル4はトロイダ
ル磁場コイル3の外側でトロイダル磁場コイル3のトー
ラス形状に沿って?方向に円環状に設けられ、例えば円
環状のOHコイル4はトロイダル磁場コイル3の断面で
外側半周分取巻くような形に設けられている。5はトロ
イダル磁場コイル3に通電するためのトロイダル磁場コ
イル電源、6はOHコイル4に通電するための○Hコイ
ル電源、7は上記2電源5,6を各々制御するための制
御装置である。なお、OHコイル4とプラズマ1はトラ
ンスの各々−次側、二次側を形成している。
次に、第4図に示した従来のトーラス型核融合装置の運
転動作について説明する。さて、運転は、まず、トロイ
ダル磁場コイル3に通電し、?方向の磁場を発生させる
。次に、真空容器2中に水素ガスを導入し、予備電離を
させたあと、制御装置7の制御下で○Hコイル電源6が
OHコイル4に流す電流IOHを大幅に変化させ、ファ
ラデーの法則によりプラズマ1に?方向の電圧を生じさ
せ、プラズマ電流1pを誘起させる。この結果、第4図
において、例えば?方向(紙面に垂直方向)にプラズマ
電流Ipが流れ始める。以上の動作は第5図において、
時刻t0〜t1の間で行なわれる。
転動作について説明する。さて、運転は、まず、トロイ
ダル磁場コイル3に通電し、?方向の磁場を発生させる
。次に、真空容器2中に水素ガスを導入し、予備電離を
させたあと、制御装置7の制御下で○Hコイル電源6が
OHコイル4に流す電流IOHを大幅に変化させ、ファ
ラデーの法則によりプラズマ1に?方向の電圧を生じさ
せ、プラズマ電流1pを誘起させる。この結果、第4図
において、例えば?方向(紙面に垂直方向)にプラズマ
電流Ipが流れ始める。以上の動作は第5図において、
時刻t0〜t1の間で行なわれる。
プラズマ電流Ipが所定の値まで生成された後、OHコ
イル4の電流IOHを変化させず第5図の破線で示した
ように一定にすると、プラズマ1の抵抗によって第5図
の破線C□に見られるように・プラズマ電流IPは減衰
する。そこで、OHコイル4に流す電流IOHを第5図
の実線のようにt0〜t1の間と同一の方向にさらに変
化させ続ければ、二次側のプラズマ1には常にプラズマ
電流Ipを流すための電圧が発生し、プラズマ電流IP
を第5図の実線C2で示したように一定に維持する運転
を行なうことができる。
イル4の電流IOHを変化させず第5図の破線で示した
ように一定にすると、プラズマ1の抵抗によって第5図
の破線C□に見られるように・プラズマ電流IPは減衰
する。そこで、OHコイル4に流す電流IOHを第5図
の実線のようにt0〜t1の間と同一の方向にさらに変
化させ続ければ、二次側のプラズマ1には常にプラズマ
電流Ipを流すための電圧が発生し、プラズマ電流IP
を第5図の実線C2で示したように一定に維持する運転
を行なうことができる。
ところが、この方法では、プラズマ電流を長時間維持す
るためには、OHコイル電流施工Hを一方向へ変化させ
続ける必要があり、OHコイル電流施工Hが非常に大き
なものとなるため、定常的な運転は不可能である。
るためには、OHコイル電流施工Hを一方向へ変化させ
続ける必要があり、OHコイル電流施工Hが非常に大き
なものとなるため、定常的な運転は不可能である。
そこで、上記の方法とは別の方法でプラズマ電流を維持
しようとして考えられたのが、文献「プラズマ核融合技
術研究会(昭和60年12月10゜11日開催)″F−
θpumping実験用電源の設計”(予稿集第136
頁〜第139頁)」に記載されている逆転磁場ピンチ(
RFP)式トーラス型核融合装置における“F−θpu
mping”と呼ばれる定常電流駆動法によってプラズ
マ電流を維持する方法である。
しようとして考えられたのが、文献「プラズマ核融合技
術研究会(昭和60年12月10゜11日開催)″F−
θpumping実験用電源の設計”(予稿集第136
頁〜第139頁)」に記載されている逆転磁場ピンチ(
RFP)式トーラス型核融合装置における“F−θpu
mping”と呼ばれる定常電流駆動法によってプラズ
マ電流を維持する方法である。
これは、プラズマ電流IPを所定の値まで生成した後に
一定に維持するために第6図のように、トロイダル磁場
コイル3の電施工Tと、OHコイル4の電施工。Hとを
ある位相差をもつ正弦波状に変化させることによりプラ
ズマ1に磁気ヘリシティ−を注入し、プラズマ電施工p
を維持させるものである。
一定に維持するために第6図のように、トロイダル磁場
コイル3の電施工Tと、OHコイル4の電施工。Hとを
ある位相差をもつ正弦波状に変化させることによりプラ
ズマ1に磁気ヘリシティ−を注入し、プラズマ電施工p
を維持させるものである。
これを式により説明する。第4図のようなトーラス型核
融合装置における磁気へりシティ−には、K= 5 A
−B d v−’Fe−vqp ・= (1
)ここで、K:磁気ヘリシティ− A:ベクトルポテンシャル B:磁場ベクトル マリニドロイダル磁束 平e:プラズマ外部のボロイダル 磁束 で表わされる。そして、この(1)式の時間微分をとる
と次式のようになる。
融合装置における磁気へりシティ−には、K= 5 A
−B d v−’Fe−vqp ・= (1
)ここで、K:磁気ヘリシティ− A:ベクトルポテンシャル B:磁場ベクトル マリニドロイダル磁束 平e:プラズマ外部のボロイダル 磁束 で表わされる。そして、この(1)式の時間微分をとる
と次式のようになる。
t
ここで、Φニドロイダル磁束
Vcp:プラズマのループ電圧
E:電場ベクトル
(2)式において右辺第1項は、単位時間あたりの磁気
ヘリシティ−注入量を表わし、第2項がプラズマ1の電
気抵抗による磁気ヘリシティ−の散逸量を表わしている
。
ヘリシティ−注入量を表わし、第2項がプラズマ1の電
気抵抗による磁気ヘリシティ−の散逸量を表わしている
。
ここで、第1項の磁気へりシティ−注入量に注目する。
Φはポロイダル方向の一周電圧veの積分によって得ら
れ、 Φ= s Ved t −−(a )
で表わされる。いま、プラズマ1のループ電圧v9とポ
ロイダル方向の一周電圧V、とを同一周波数ω、お互い
の位相差がδの正弦波状に変化させるとき(2)式の右
辺第1項のヘリシティ−注入量の時間平均をとると、 ω ここで、Ve:Veの変化分の振幅 V9:V9の変化分の振幅 となる。(4)式によれば1位相差δを選ぶことにより
、ヘリシティ−注入量は正の値をとり、これが磁気ヘリ
シティ−散逸の量の時間平均と等しくなれば、プラズマ
電流IPを維持することができる。
れ、 Φ= s Ved t −−(a )
で表わされる。いま、プラズマ1のループ電圧v9とポ
ロイダル方向の一周電圧V、とを同一周波数ω、お互い
の位相差がδの正弦波状に変化させるとき(2)式の右
辺第1項のヘリシティ−注入量の時間平均をとると、 ω ここで、Ve:Veの変化分の振幅 V9:V9の変化分の振幅 となる。(4)式によれば1位相差δを選ぶことにより
、ヘリシティ−注入量は正の値をとり、これが磁気ヘリ
シティ−散逸の量の時間平均と等しくなれば、プラズマ
電流IPを維持することができる。
このことより、従来の装置ではポロイダル方向の一周電
圧ve、ループ電圧V?に正弦波状の変化をもたせるた
めに、第6図のように、トロイダルコイル電流ITとO
Hコイル電流IOHとをある位相差をもつ正弦波状に変
化させることによってプラズマ電流Ipの維持を行なう
ものである。なお、トロイダル磁場コイル4にはOHコ
イル電流IOHと同じく正弦波状の電流を流すものとす
る。
圧ve、ループ電圧V?に正弦波状の変化をもたせるた
めに、第6図のように、トロイダルコイル電流ITとO
Hコイル電流IOHとをある位相差をもつ正弦波状に変
化させることによってプラズマ電流Ipの維持を行なう
ものである。なお、トロイダル磁場コイル4にはOHコ
イル電流IOHと同じく正弦波状の電流を流すものとす
る。
従来のトーラス型核融合装置は以上のように構成されて
いるので、○Hコイル電流と同時にトロイダル磁場コイ
ルの電流も周期的に変化させねばならないが、トロイダ
ル磁場コイルのインダクタンスが比較的大きい場合が多
いため、トロイダル磁場コイル電流に正弦波状の変化分
を持たせるには、大きい電圧を繰り返し発生するような
電源がトロイダル磁場コイル電源として必要になり、ト
ロイダル磁場コイル電源が高価となるなどの問題点があ
った。
いるので、○Hコイル電流と同時にトロイダル磁場コイ
ルの電流も周期的に変化させねばならないが、トロイダ
ル磁場コイルのインダクタンスが比較的大きい場合が多
いため、トロイダル磁場コイル電流に正弦波状の変化分
を持たせるには、大きい電圧を繰り返し発生するような
電源がトロイダル磁場コイル電源として必要になり、ト
ロイダル磁場コイル電源が高価となるなどの問題点があ
った。
この発明は、上記のような問題点を解消するためになさ
れたもので、トロイダル磁場コイル電流を正弦波状に連
続して変化させる必要もなくプラズマ電流をほぼ一定に
維持できるトーラス型核融合装置を得ることを口約とす
る。
れたもので、トロイダル磁場コイル電流を正弦波状に連
続して変化させる必要もなくプラズマ電流をほぼ一定に
維持できるトーラス型核融合装置を得ることを口約とす
る。
C問題点を解決するための手段〕
この発明に係るトーラス型核融合装置は、形状制御コイ
ルに流す電流を周期的に変化させてプラズマの断面積を
繰り返し変化させると共に、○Hコイルに流す電流を同
一周波数で周期的な変化をさせるように制御したもので
ある。
ルに流す電流を周期的に変化させてプラズマの断面積を
繰り返し変化させると共に、○Hコイルに流す電流を同
一周波数で周期的な変化をさせるように制御したもので
ある。
この発明におけるトーラス型核融合装置は、形状制御コ
イル電流を周期的に変化させることによりプラズマの断
面積を周期的に変化させ、間接的に、プラズマ中のトロ
イダル磁束の量を変化させ、トロイダル磁場コイル電流
を繰り返し変化させることなくプラズマ電流を維持する
。
イル電流を周期的に変化させることによりプラズマの断
面積を周期的に変化させ、間接的に、プラズマ中のトロ
イダル磁束の量を変化させ、トロイダル磁場コイル電流
を繰り返し変化させることなくプラズマ電流を維持する
。
以下、この発明の一実施例を図について説明する。
第1図はこの発明の一実施例によるトーラス型核融合装
置の構成を示す模式的断面図である。同図において、第
4図と同符号の部分は従来例のものと同一であり、8は
真空容器2とトロイダル磁場コイル3との間に設けられ
てプラズマ1の断面形状を制御する形状制御コイルであ
り、この実施例では真空容器2の中空の円状の中心軸に
沿って巻回されたコイルが真空容器2の上下に一対にし
て設けられている。9は形状制御コイル8にプラズマ1
と同方向に電流を流すための形状制御コイル電源、10
はトロイダル磁場コイル電源5、OHコイル電源6およ
び形状制御コイル電源を制御する制御装置であり、トロ
イダル磁場コイル3、OHコイル4および形状制御コイ
ル8に流す各電流量を各々制御する。
置の構成を示す模式的断面図である。同図において、第
4図と同符号の部分は従来例のものと同一であり、8は
真空容器2とトロイダル磁場コイル3との間に設けられ
てプラズマ1の断面形状を制御する形状制御コイルであ
り、この実施例では真空容器2の中空の円状の中心軸に
沿って巻回されたコイルが真空容器2の上下に一対にし
て設けられている。9は形状制御コイル8にプラズマ1
と同方向に電流を流すための形状制御コイル電源、10
はトロイダル磁場コイル電源5、OHコイル電源6およ
び形状制御コイル電源を制御する制御装置であり、トロ
イダル磁場コイル3、OHコイル4および形状制御コイ
ル8に流す各電流量を各々制御する。
第2図はOHコイル4に流す電流量。Hの時間的変化と
形状制御コイル8に流す電流I5(の時間的変化を示す
波形図である。
形状制御コイル8に流す電流I5(の時間的変化を示す
波形図である。
第3図は形状制御コイル8に流す電流I5Cを変化させ
た時にプラズマ1の断面積の変化を示す状態図であり、
同図において、1aは電流I5Cが小の時のプラズマ1
の断面形状、1bは同じ<Iseが大の時のプラズマ1
の断面形状である。
た時にプラズマ1の断面積の変化を示す状態図であり、
同図において、1aは電流I5Cが小の時のプラズマ1
の断面形状、1bは同じ<Iseが大の時のプラズマ1
の断面形状である。
次に、この発明の一実施例によるトーラス型核融合装置
のプラズマ電流駆動を行なう動作を説明する。
のプラズマ電流駆動を行なう動作を説明する。
OHコイル電源6によりOHコイル4を時刻1、までの
間に成る電流値まで励磁し、その後時刻t0から同t工
までの間にOHコイル4に流した電流IOHの増加方向
とは反対方向に急激に変化させ、プラズマ1に電圧を印
加しプラズマ1内に流れるプラズマ電流Ipを立ち上が
らせる。
間に成る電流値まで励磁し、その後時刻t0から同t工
までの間にOHコイル4に流した電流IOHの増加方向
とは反対方向に急激に変化させ、プラズマ1に電圧を印
加しプラズマ1内に流れるプラズマ電流Ipを立ち上が
らせる。
次に、時刻t0に近い時刻t2より制御装置10は形状
制御コイル電源9を介して形状制御コイル8の励磁を開
始する。そして、時刻t2に近い時刻t、からこの形状
制御コイル8の電流I5eを正弦波状に変化させる。ま
た、制御装置10は、OHコイル電源6を介して、時刻
t1とt2の間、OHコイル4の電流IOHを一定にし
た後、時刻t。
制御コイル電源9を介して形状制御コイル8の励磁を開
始する。そして、時刻t2に近い時刻t、からこの形状
制御コイル8の電流I5eを正弦波状に変化させる。ま
た、制御装置10は、OHコイル電源6を介して、時刻
t1とt2の間、OHコイル4の電流IOHを一定にし
た後、時刻t。
以降形状制御コイル8の電流I5eと位相を同じにして
それと同じ周波数の正弦波状の電流IOHを流す、第3
図に示したように、プラズマ1の断面形状は、形状制御
コイル8の電流I5eが小さいとき、プラズマ1aのよ
うな円形断面となり、同じく電流I5eが大きいとき、
プラズマ1bのような縦楕円形断面となる。すなわち1
時刻t、以降では形状制御コイル8に流れる電流I5e
の大きさに従ってプラズマ1の断面形状が変化すること
になる。
それと同じ周波数の正弦波状の電流IOHを流す、第3
図に示したように、プラズマ1の断面形状は、形状制御
コイル8の電流I5eが小さいとき、プラズマ1aのよ
うな円形断面となり、同じく電流I5eが大きいとき、
プラズマ1bのような縦楕円形断面となる。すなわち1
時刻t、以降では形状制御コイル8に流れる電流I5e
の大きさに従ってプラズマ1の断面形状が変化すること
になる。
トロイダル磁場コイル電流を一定に保っていても。
このときのプラズマ1の断面積の変化によってプラズマ
1中のトロイダル磁束の総量が変化する。
1中のトロイダル磁束の総量が変化する。
このときのトロイダル磁束の変化分Φを次式のように仮
定する。
定する。
Φ=Φsinωt ・・・・・・(5)
ここで、Φニドロイダル磁束Φの変化分の振幅 また、(4)式においてOHコイル電流の変化によって
生ずるプラズマのループ電圧V9をvap= Vqps
in (ωt+δ) ・・・ (6)
ここで、veP:ループ電圧v9の変化分の振幅と仮定
すると、磁気へりシティ−注入量は次式のようになる。
ここで、Φニドロイダル磁束Φの変化分の振幅 また、(4)式においてOHコイル電流の変化によって
生ずるプラズマのループ電圧V9をvap= Vqps
in (ωt+δ) ・・・ (6)
ここで、veP:ループ電圧v9の変化分の振幅と仮定
すると、磁気へりシティ−注入量は次式のようになる。
〈2v9Φ〉=■9Φcosδ ・・・(7)
となる。
となる。
そこで、(7)式を最大にするように、δ=0の位相差
を持つ同一周波数の正弦波状の変化分を有するようなO
Hコイル4の電流IO+(を時刻t。
を持つ同一周波数の正弦波状の変化分を有するようなO
Hコイル4の電流IO+(を時刻t。
以降流すことにより従来と等しい磁気ヘリシティ−の注
入が行なわれ、プラズマ電流Ipの維持が行なわれる。
入が行なわれ、プラズマ電流Ipの維持が行なわれる。
このときプラズマ電流Ipが発生している時、トロイダ
ル磁場コイル3の電流3は変化なく一定に保たれていて
もよい。
ル磁場コイル3の電流3は変化なく一定に保たれていて
もよい。
なお、上記の実施例では、○Hコイル、形状制御コイル
の電流を正弦波状に変化させる場合について説明したが
、三角波等のような他の周期波形で変化させてもよい。
の電流を正弦波状に変化させる場合について説明したが
、三角波等のような他の周期波形で変化させてもよい。
また、形状制御コイルは真空容器の上下でなくともよく
、プラズマの断面積を変化させる磁界を発生させるもの
ならばどこの位置でもどの方向にも電流を流してもよい
し、またいくつあっても構わない。
、プラズマの断面積を変化させる磁界を発生させるもの
ならばどこの位置でもどの方向にも電流を流してもよい
し、またいくつあっても構わない。
また、上記実施例において、○Hコ(ルミ流IOHと形
状制御コイル電施工5この位相を同じにしたが、それら
の位相が互いに異なるようにしても上記実施例と同様の
効果を奏する。
状制御コイル電施工5この位相を同じにしたが、それら
の位相が互いに異なるようにしても上記実施例と同様の
効果を奏する。
また、形状制御コイルの電流を変化させ、これをセンサ
ーなどにより検出し、これからプラズマ中のトロイダル
磁束量を計算し、これに応じてOHコイル電流をフィー
ドバック制御するようにしてもよい。
ーなどにより検出し、これからプラズマ中のトロイダル
磁束量を計算し、これに応じてOHコイル電流をフィー
ドバック制御するようにしてもよい。
以上のように、この発明によれば○Hコイルと形状制御
コイルに流れる電流値を周期波に制御するだけでプラズ
マの断面積を変化させてプラズマ電流を維持するように
構成したので、形状制御コイルに比べ大きなインダクタ
ンスをもつトロイダル磁場コイルの電流を繰り返し変化
させる必要がなく、また、OHコイル電流を一定方向に
増大させ続ける必要もないため、電源装置として安価と
なるものが得られる効果がある。
コイルに流れる電流値を周期波に制御するだけでプラズ
マの断面積を変化させてプラズマ電流を維持するように
構成したので、形状制御コイルに比べ大きなインダクタ
ンスをもつトロイダル磁場コイルの電流を繰り返し変化
させる必要がなく、また、OHコイル電流を一定方向に
増大させ続ける必要もないため、電源装置として安価と
なるものが得られる効果がある。
第1図はこの発明に係るトーラス型核融合装置の一実施
例の構成を示す模式的断面図、第2図は第1図に示した
装置の運転動作を説明するための波形図、第3図はプラ
ズマの断面形状を変えた時の状態説明図、第4図は従来
のトーラス型核融合装置の構成を示す模式的断面図、第
5図は従来のトーラス型核融合装置においてOHコイル
電流を変化させなければ、プラズマ電流が次第に減少し
てゆくこと説明するための波形図、第6図は第4図に示
した従来のトーラス型核融合装置の運転動作を説明する
ための波形図である。 図において、1はプラズマ、2は真空容器、3はトロイ
ダル磁場コイル、4はOHコイル、5はトロイダル磁場
コイル電源、6はOHコイル電源、8は形状制御コイル
、9は形状制御コイル電源、10は制御装置。 なお、図中、同一符号は同−又は相当部分を示す。 特許出願人 三菱電機株式会社 (外2名)°6・−一 第1図 00 プラズマめ−1,444 ISC: f舞ツζ雫」樗qコ′コイルヰtえla
”JE躬f@−14+c[J%’・l、” 、5h=f
fiプ奴七1ね〒6b1b:vl、3弗・」希下ゴイル
苛、ノヒ史(大さ・)8小プラズマ断面第4図 第5図 第6図 o t 手続補正書(自発)
例の構成を示す模式的断面図、第2図は第1図に示した
装置の運転動作を説明するための波形図、第3図はプラ
ズマの断面形状を変えた時の状態説明図、第4図は従来
のトーラス型核融合装置の構成を示す模式的断面図、第
5図は従来のトーラス型核融合装置においてOHコイル
電流を変化させなければ、プラズマ電流が次第に減少し
てゆくこと説明するための波形図、第6図は第4図に示
した従来のトーラス型核融合装置の運転動作を説明する
ための波形図である。 図において、1はプラズマ、2は真空容器、3はトロイ
ダル磁場コイル、4はOHコイル、5はトロイダル磁場
コイル電源、6はOHコイル電源、8は形状制御コイル
、9は形状制御コイル電源、10は制御装置。 なお、図中、同一符号は同−又は相当部分を示す。 特許出願人 三菱電機株式会社 (外2名)°6・−一 第1図 00 プラズマめ−1,444 ISC: f舞ツζ雫」樗qコ′コイルヰtえla
”JE躬f@−14+c[J%’・l、” 、5h=f
fiプ奴七1ね〒6b1b:vl、3弗・」希下ゴイル
苛、ノヒ史(大さ・)8小プラズマ断面第4図 第5図 第6図 o t 手続補正書(自発)
Claims (3)
- (1)内部が中空のトーラス形状の真空容器と、この真
空容器の外側周囲に設けられたトロイダル磁場コイルと
、このトロイダル磁場コイルに第1の電流を流すトロイ
ダル磁場コイル電源と、前記トロイダル磁場コイルの外
周囲に設けられたオーム加熱コイルと、このオーム加熱
コイルに第2の電流を流すオーム加熱コイル電源と、前
記トロイダル磁場コイル電源およびオーム加熱コイル電
源の各出力電流量を制御する制御装置とを有するトーラ
ス型核融合装置において、前記真空容器内の中心軸に沿
った方向に巻回された形状制御コイルとこの形状制御コ
イルに第3の電流を流す形状制御コイル電源とを備え、
前記制御装置を前記形状制御コイル電源の出力電流量の
制御をも可能ならしめ、前記真空容器内に生成されたプ
ラズマ内を流れるプラズマ電流の通電時に、前記制御装
置は前記第2の電流を周期的に変化させ、同時に第3の
電流を前記第2の電流と同一周期の周期波に制御して前
記プラズマの断面積を周期的に変化させることを特徴と
するトーラス型核融合装置。 - (2)前記周期波を正弦波状にすることを特徴とする特
許請求の範囲第1項記載のトーラス型核融合装置。 - (3)前記形状制御コイルを複数としたことを特徴とす
る特許請求の範囲第1項又は第2項記載のトーラス型核
融合装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP61149675A JPH0795105B2 (ja) | 1986-06-27 | 1986-06-27 | ト−ラス型核融合装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP61149675A JPH0795105B2 (ja) | 1986-06-27 | 1986-06-27 | ト−ラス型核融合装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS636489A true JPS636489A (ja) | 1988-01-12 |
JPH0795105B2 JPH0795105B2 (ja) | 1995-10-11 |
Family
ID=15480370
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP61149675A Expired - Lifetime JPH0795105B2 (ja) | 1986-06-27 | 1986-06-27 | ト−ラス型核融合装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0795105B2 (ja) |
-
1986
- 1986-06-27 JP JP61149675A patent/JPH0795105B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0795105B2 (ja) | 1995-10-11 |
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