JPS6362856A - 金属表面の溶射処理方法 - Google Patents

金属表面の溶射処理方法

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JPS6362856A
JPS6362856A JP20745486A JP20745486A JPS6362856A JP S6362856 A JPS6362856 A JP S6362856A JP 20745486 A JP20745486 A JP 20745486A JP 20745486 A JP20745486 A JP 20745486A JP S6362856 A JPS6362856 A JP S6362856A
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JP
Japan
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thermally
thermal spraying
ceramic particles
oxygen
sprayed
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JP20745486A
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JPS64461B2 (ja
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Kenichi Yamada
謙一 山田
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YAMADA KINZOKU BOSHOKU KK
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YAMADA KINZOKU BOSHOKU KK
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〈産業上の利用分野〉 本発明は金属表面に各種溶射皮膜を形成する溶射方法に
関するものである。
〈従来の技術及びその問題点〉 溶射技術は金属、非金属を問わず、被溶射基材の表面に
、その被溶射基材では持ち合わせない耐熱、耐摩耗等の
各種特性を有する金属あるいは非金属材料皮膜を形成せ
しめる表面処理技術の一手段であり、火炎溶射、プラズ
マ溶射、爆裂溶射等が実用化され、又例えば特公昭59
−51860号公報で報告されている様な改良方法も知
られている。ところがこの溶射方法では被溶射基材と溶
射粒子との間では殆んど化学的結合は生じる事なく、専
ら機械的あるいは物理的な結合によって結びつけられて
いるだけである為にその密着力はあまり大ではないとい
う問題がある。これは溶融状態にある溶射粒子が被溶射
基材表面に衝突した際に急冷凝固される事が大きな要因
である。
ところでこれら溶射技術の中で近年金属材料の表面にセ
ラミック溶射層を形成する技術が注目されて、その一つ
に金属材料に通気性の低い光沢のあるガラス質の溶射層
を得る方法が検討されているが、均質なガラス質溶射層
を得る事が難しい。
その理由は上記した溶射法特有の問題に起因するもので
あり、被溶射基材表面の温度が低いが為に溶射粒子が被
溶射基材表面に衝突した際に瞬時的に凝固し、全体が均
一に溶融したガラス質にならないのである。なお溶射に
際し、用いる溶射ノズルあるいは溶射ガンそのもので被
溶射基材表面の温度を高めようとすれば火炎あるいはプ
ラズマ炎をそれだれけ長くしなければならず、その結果
溶射条件に変化を来たし、又その様な方法では被溶射基
材表面の局部のみの加熱である為に被溶射基材が熱変形
を起こす事もある。又別途の加熱バーナー等を用いる加
熱でもやはり局部加熱しか出来ないので被溶射基材に熱
変形を起こす事は防げないのである。
〈問題点を解決する為の手段〉 本発明は上記諸問題を解決する溶射方法を提供せんとす
るものであり、その要旨は金属基材表面に各種成分より
成る溶射皮膜を形成するに際して、まず金属基材に電流
を通しそのジュール熱により金属基材を所定温度にまで
高めた後、溶射材料を溶射吹付けすることを特徴とする
金属表面の溶射処理方法である。
なお本発明方法で用いる被溶射材料たる金属基材として
は、それが導電性の金属であればそれ以上の限定はなく
、又溶射材料としては金属でもセラミック等の非金属で
もいずれでもよいが、特にセラミック等の非金属の場合
に有効であり、この場合そのセラミック等の非金属材料
の融点を勘案し、その融点と略同温度まで予め金属基材
を昇温せしめる様にする事が望ましい。
〈実施例及び作用〉 以下本発明方法を、その実施例を示す図面を参酌し乍ら
詳述する。
この実施例は図面に示す様に500mmX 300mm
、厚さ2mm0)SS材(1)の上、下端より電流を通
じ加熱する方法を採った。この場合に通じた電流はトラ
ンス(2)により電圧8V、電流250OAと変換した
ものを用い、これを約10分間通じる事でSS材(1)
は全体的に約350℃迄昇温した。次いで溶射層@(3
)から融点が約400℃である5i0275重量%残部
が人j203 、 CaO及びNa2Oから成るセラミ
ック粒子(4)を溶射した。この場合の溶射装置は、酸
素−アセチレンを熱源とする装置で、酸素、アセチレン
はそれぞれ酸素ボンベ(5)及びアセチレンボンベ(6
)から導き、セラミック粒子(4)は、(7)の溶射材
料供給パイプから酸素をキャリアガスとして溶射装置(
3)へ導入されろ。溶射装置のバーナーの燃焼条件はア
セチレン4Nm”ハr。、酸素1ONm’/hrで、セ
ラミック粒子(4)は0.4Nrn’/h乙の酸素で1
0kg/hrの流速で供給した。
この様な条件下で溶射したセラミック粒子(4)は、溶
射装置(3)から発生される火炎内で完全に溶融し、S
 S材(1)の表面に溶融状態のま5付着し、付着後も
しばらくは溶融状態を保持してお)J、SS材(1)へ
の通電を停止し、SS材(1)自体の温度が下降するに
従って徐々に凝固し均一かつ繊密なガラス質の溶射B(
8)が形成された。
なお比較の為に上記実施例と同様のSS材を用い、該S
S材に通電昇温する他は全て実施例と同一の溶射条件で
溶射を行なった結果は、表面に微小クラックが無数発生
した溶射層しか得られず、しかも密着力も低く容易に剥
落するものでしかなかった。
上記実施例及び比較例から判る様に、本発明方法では、
金属基材の昇温を該金属基材に電流を通しその際に生じ
るジュール熱による加熱方法を採る為に、金属基材の全
体に渡って略均−に加熱されるので、溶射装置そのもの
のバーナーやあるいは別途設ける加熱バーナーによる加
熱が局部的加熱と比較し金属基材が熱変形を起こす事は
ない。
そしてこの様にして所定温度を維持している金FL基材
へ、酸素−アセチレン、酸素−プロパンあるいはプラズ
マ等を熱源として溶射材料を吹付けると、火炎中で溶融
した溶射材料は、金属基材面に衝突しても、そこで急冷
される事はなく従って両者間に於ける結合がそれだけ大
となると共に得られる溶射層は均質かつ繊密なものとな
る。
〈発明の効果〉 以上性べて来た如く、本発明方法によれば被溶射基材の
全体を均一に加熱した後に溶射材料を吹付ける為に、被
溶射基材の変形はなく、かつ溶射材料は高い密着力を有
し接着され、特に溶射材料としてガラス質のセラミック
等を用いる場合等は得られる溶射層が均質かつ緻密にな
るという効果がある。
【図面の簡単な説明】
図面は本発明溶射処理方法の一実施例を示す説明図。 図中、   (1)・ss材 (2)・トランス (3)・溶射装置 (4)゛セラミック粒子 (5):酸素ボンベ (6)°アセチレンボンベ (7):溶射材料供給パイプ (8)゛溶射層 特許出願人 山田金属防蝕株式会社 代 理 人 有吉 教哨 i ss材

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 1、金属基材表面に各種成分より成る溶射皮膜を形成す
    るに際して、まず金属基材に電流を通しそのジュール熱
    により金属基材を所定温度にまで高めた後、溶射材料を
    溶射吹付けすることを特徴とする金属表面の溶射処理方
    法。
JP20745486A 1986-09-02 1986-09-02 金属表面の溶射処理方法 Granted JPS6362856A (ja)

Priority Applications (1)

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JP20745486A JPS6362856A (ja) 1986-09-02 1986-09-02 金属表面の溶射処理方法

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JP20745486A JPS6362856A (ja) 1986-09-02 1986-09-02 金属表面の溶射処理方法

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JPS6362856A true JPS6362856A (ja) 1988-03-19
JPS64461B2 JPS64461B2 (ja) 1989-01-06

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ID=16540035

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JP (1) JPS6362856A (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH01100283A (ja) * 1987-10-13 1989-04-18 Nippon Steel Corp 金属タイルの製造方法

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* Cited by examiner, † Cited by third party
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JPH01100283A (ja) * 1987-10-13 1989-04-18 Nippon Steel Corp 金属タイルの製造方法

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JPS64461B2 (ja) 1989-01-06

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