JPS6355535U - - Google Patents
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- 238000010884 ion-beam technique Methods 0.000 claims description 5
- 238000005530 etching Methods 0.000 claims description 4
- 239000013078 crystal Substances 0.000 claims description 3
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 claims 1
- 239000000463 material Substances 0.000 claims 1
- 230000010355 oscillation Effects 0.000 claims 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
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- Drying Of Semiconductors (AREA)
- Piezo-Electric Or Mechanical Vibrators, Or Delay Or Filter Circuits (AREA)
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP14932786U JPS6355535U (enrdf_load_stackoverflow) | 1986-09-29 | 1986-09-29 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP14932786U JPS6355535U (enrdf_load_stackoverflow) | 1986-09-29 | 1986-09-29 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS6355535U true JPS6355535U (enrdf_load_stackoverflow) | 1988-04-14 |
Family
ID=31064428
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP14932786U Pending JPS6355535U (enrdf_load_stackoverflow) | 1986-09-29 | 1986-09-29 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS6355535U (enrdf_load_stackoverflow) |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
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JP2019510374A (ja) * | 2016-03-11 | 2019-04-11 | アプライド マテリアルズ インコーポレイテッドApplied Materials,Incorporated | マイクロセンサを有するウエハ処理ツール |
CN109937471A (zh) * | 2016-11-14 | 2019-06-25 | 应用材料公司 | 选择性蚀刻速率监控器 |
JPWO2022157908A1 (enrdf_load_stackoverflow) * | 2021-01-22 | 2022-07-28 |
-
1986
- 1986-09-29 JP JP14932786U patent/JPS6355535U/ja active Pending
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CN109937471B (zh) * | 2016-11-14 | 2023-08-22 | 应用材料公司 | 选择性蚀刻速率监控器 |
JPWO2022157908A1 (enrdf_load_stackoverflow) * | 2021-01-22 | 2022-07-28 | ||
WO2022157908A1 (ja) * | 2021-01-22 | 2022-07-28 | 株式会社日立ハイテク | イオンミリング装置 |
TWI821868B (zh) * | 2021-01-22 | 2023-11-11 | 日商日立全球先端科技股份有限公司 | 離子銑削裝置 |