JPS6352724B2 - - Google Patents

Info

Publication number
JPS6352724B2
JPS6352724B2 JP1743581A JP1743581A JPS6352724B2 JP S6352724 B2 JPS6352724 B2 JP S6352724B2 JP 1743581 A JP1743581 A JP 1743581A JP 1743581 A JP1743581 A JP 1743581A JP S6352724 B2 JPS6352724 B2 JP S6352724B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
contact
composite
alloy
properties
amorphous alloy
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired
Application number
JP1743581A
Other languages
English (en)
Other versions
JPS57132615A (en
Inventor
Koichiro Inomata
Hisashi Yoshino
Senji Shimanuki
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Toshiba Corp
Original Assignee
Tokyo Shibaura Electric Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Tokyo Shibaura Electric Co Ltd filed Critical Tokyo Shibaura Electric Co Ltd
Priority to JP1743581A priority Critical patent/JPS57132615A/ja
Publication of JPS57132615A publication Critical patent/JPS57132615A/ja
Publication of JPS6352724B2 publication Critical patent/JPS6352724B2/ja
Granted legal-status Critical Current

Links

Description

【発明の詳細な説明】
本発明は接点特性および機械的特性に優れた接
点に係り、特に機械的特性に優れた非晶質合金と
接点特性に優れた非晶質合金とが接合されている
ことを特徴とする複合接点に関するものである。 コネクター、フラツトリレーなどに使用される
接点は接触抵抗および耐粘着性などの接点特性に
優れているのみならず機械的強度、バネ特性など
にも優れていることが必要である。しかし、一般
にこの両特性を1つの材料で兼ね備えることはむ
ずかしく、このため従来、バネ特性に優れたりん
青銅などの上に接点特性に優れた金などをメツキ
した複合接点が使用されている。しかしながら、
金は耐粘着性に劣り、しばしば接触不良障害の原
因となつている他高価であるという欠点を有して
いる。また、りん青銅はばね特性を得るのに複雑
な熱処理を必要とするという欠点を有する。 本発明は上記欠点を解決し、安価で強度バネ特
性などの機械的性質および接点特性に優れた複合
接点を提供することを目的とする。本発明の目的
は、原子%でT100-aXa(但し、T=Fe,Co,Ni
の1種または2種以上、X=Si,B,P,C,
Ge,Alの1種または2種以上、a=15〜35)か
ら成る非晶質合金属と原子%でPd100-zSiz(但しz
=15〜35)から成る非晶質合金層との複合合金に
より達せられる。また、上記Pd100-zSizにおいて、
Pdの一部を20原子%以下のAg,Au,Rh,Pt,
Ir,Ruの群から選ばれる少くとも1種の元素で
置換しても良い。なおPd100-zSiz側が接点である。 上記T100-aXaの非晶質合金層は強度およびバ
ネ特性に優れるが、a=15〜35以外では非晶質化
することが困難になるのでこの範囲とした。また
Pd100-zSiz非晶質合金は接点特性に優れるが、z
=15〜35以外では非晶質化することが困難になる
のでこの範囲とした。Pdの一部をAg,Au,Rh,
Pt,Ir,Ruの1種または2種以上で置換すると
接点特性が改善されるが20原子%を越えると非晶
質化することが困難になるのでこの範囲とした。
この中でも特にAuの場合、最も優れた接点特性
を有する。 本発明に係る複合接点材料は例えば次の如くし
て製造される。第1図aにおいて、高周波溶解等
により溶解された2種類の原料合属AおよびBを
それぞれ収容する例えば石英管により形成された
第1の管状容器1および第2の管状容器1′の下
端に、それぞれ第1のノズル2および第2のノズ
ル2′が形成されている。第2の管状容器1′で溶
融された溶融金属Bは不活性ガスの圧力により、
第2のノズル2′を通して一対の高速回転ロール
3,3′のうちの3′上に噴出され、薄帯化され
る。さらにその薄帯上に第1の管状容器1で溶融
された溶融金属Aが不活性ガスの圧力により第2
のノズル2を通して噴出され薄帯化されて金属
A,Bから成る積層薄帯が形成され、ロール3,
3′で圧延されて複合合金4が得られる。さらに
第1図b及びcに示す如く加工する事により本発
明に係る前述のT100-aXaからなる非晶質合金層
(4―1)とPd100-ZSizからなる非晶質合金層
(4―2)とが一体化された複合接点を得る事が
できる。 以下、実施例を用いて本発明を詳細に説明す
る。 実施例 1 第1図において、管状容器1′には
Fe39Ni39Si8B14合金を挿入し、管状容器1には
Pd79.3Au4.2Si16.5合金を挿入してそれぞれ個別に
溶融した後、ノズル2′,2より噴出して複合合
金薄帯4を得た。この時の複合合金の形状は
Fe39Ni39Si8B14合金が幅約20mm、厚み約40μm,
Pd83.5Si16.5合金は幅約2mm、厚み約15μmであつ
た。X線回折の測定の結果、本複合合金は非晶質
状態にあることが確認された。 得られた複合合金薄帯から小片を切取り、これ
を直径4〓のSUS棒に巻きつけ第2図に示すような
クロスロツドにて接触加重を変えた時の開離力を
測定して粘着力を評価した。尚、測定は
10-9Torrの高真空中で行なつた。こうすること
により材料の粘着力を評価することが出来る。得
られた結果をAuの場合と比較して第3図に示す。
図よりAuは接触加重の増大とともに開離力が増
し粘着し易いが、本複合非晶質合金は接触荷重を
増しても開離力が0であり、著しく粘着しにくい
ことを示している。 次に、本複合合金の引張強度を引張試験機を用
いて、ばね特性の評価として弾性限を同じく引張
試験における応力一歪曲線より求めた。その結果
を第1表に示す。
【表】
【表】 比較例―1として示したリン青銅にAuメツキ
したものに比べ著しく弾性限が大きく、優れたバ
ネ特性を有することがわかる。 比較例―2は従来の高弾性合金として知られた
Fe65−Ni35合金(結晶質合金)とPd80Si20非晶質
合金とからなる複合接点を示す。 実施例 2〜11 第1表に示した非晶質合合金を実施例1と同じ
方法を用いて作製し、引張強度、弾性限および接
触荷重10gにおける開離力を測定した。その結果
は、第1表に示す如く従来材に比べて著しく優れ
ていることがわかる。 添加元素としてAuを用いたものは特に耐食性
にも優れ、複合接点材料として最適なものにな
る。
【図面の簡単な説明】
第1図a,b,cは本発明に係る複合接点の製
造工程を示す図。 1,1′…管状容器、2,2′…ノズル、3,
3′…ロール。 第2図は本発明に係る複合接点の評価方を示す
図。 第3図は本発明の係る複合接点の特性を示す曲
線図。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 原子%でT100-aXa; 但し(T:Fe,Co,Niから選ばれる元素の1
    種または2種以上 X:Si,B,P,C,Ge,Alから選ば
    れる元素の1種または2種以上 a:15〜35) より成る非晶質合金層と相手方接点と接触する
    Pd100-zSiz(Z=15〜35)非晶質合金層が一体化さ
    れていることを特徴とする複合接点。 2 原子%でT100-aXa; 但し(T:Fe,Co,Niから選ばれる元素の1
    種または2種以上 X:Si,B,P,C,Ge,Alから選ば
    れる元素の1種または2種以上 a:15〜35) より成る非晶質合金層と相手方接点と接触する
    Pd100-zSiz(Z=15〜35)非晶質合金層が一体化さ
    れており、前記Pd100-zSizのPdの20原子%以下が
    Ag,Au,Rh,Pt,Ir,Ruの群から選ばれる少
    なくとも1種の元素で置換されていることを特徴
    とする複合接点。 3 前記Pdの置換元素がAuであることを特徴と
    する特許請求の範囲第2項記載の複合接点。
JP1743581A 1981-02-10 1981-02-10 Composite contact Granted JPS57132615A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP1743581A JPS57132615A (en) 1981-02-10 1981-02-10 Composite contact

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP1743581A JPS57132615A (en) 1981-02-10 1981-02-10 Composite contact

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS57132615A JPS57132615A (en) 1982-08-17
JPS6352724B2 true JPS6352724B2 (ja) 1988-10-20

Family

ID=11943938

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP1743581A Granted JPS57132615A (en) 1981-02-10 1981-02-10 Composite contact

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPS57132615A (ja)

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE3574075D1 (en) * 1984-08-31 1989-12-07 American Telephone & Telegraph Nickel-based electrical contact

Also Published As

Publication number Publication date
JPS57132615A (en) 1982-08-17

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP3642449B2 (ja) Cr−N基歪抵抗膜およびその製造法ならびに歪センサ
US3650734A (en) Wrought welding alloys
JP2001353590A (ja) はんだ組成物およびはんだ付け物品
US4169744A (en) Nickel-chromium-silicon alloy brazing foil
US3413711A (en) Method of making palladium copper contact for soldering
EP0105137B1 (en) Corrosion-resistant and wear-resistant amorphous alloy and a method for preparing the same
JP2000169923A (ja) W−Ni系ターゲット材料、電極材料、及び実装部品
CA1222893A (en) Nickel-based alloy
US4525433A (en) Composite material
JPS6352724B2 (ja)
US1943853A (en) Biplate metal
EP0027473A1 (en) Process for producing multi-layered alloys
JP4283907B2 (ja) ゲージ率が大きく高強度で高耐食性を有するストレーンゲージ用非磁性金属ガラス合金およびその製造法
WO1980002620A1 (en) Microcrystalline thin strip for magnetic material with high magnetic permeability,process for producing same,and thin strip products
JPH0665440B2 (ja) 均質低融点銅基合金
JPS6247935B2 (ja)
JP3933213B2 (ja) Cr基合金薄膜およびその製造法ならびにストレインゲージ
US4802933A (en) Nickel-palladium based brazing alloys
JPS6218275B2 (ja)
JP3468122B2 (ja) TiNi系ターゲット材料および電極材料
US3476531A (en) Palladium copper contact for soldering
JPS6112984B2 (ja)
JPS6286151A (ja) ピン・グリツト・アレイicリ−ド用線材の製造方法
JPH0548333Y2 (ja)
JPH01213911A (ja) 極細巻線用導体