JPS63501585A - Rapid adsorption cryopump - Google Patents
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- JPS63501585A JPS63501585A JP50591486A JP50591486A JPS63501585A JP S63501585 A JPS63501585 A JP S63501585A JP 50591486 A JP50591486 A JP 50591486A JP 50591486 A JP50591486 A JP 50591486A JP S63501585 A JPS63501585 A JP S63501585A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるため要約のデータは記録されません。 (57) [Summary] This bulletin contains application data before electronic filing, so abstract data is not recorded.
Description
【発明の詳細な説明】 迅速吸着クライオポンプ 本発明はクライオポンプに関しとくに2段閉鎖サイクル冷却機によって冷却され るクライオポンプに対して適用されるものでらる。[Detailed description of the invention] Rapid adsorption cryopump The present invention relates to a cryopump that is cooled by a two-stage closed cycle cooler. This applies to cryopumps.
背景技術 現在利用しうるクライオポンプは、開放式冷凍サイクル筐たは閉銭式冷凍サイク ルのいずT′Lによって冷却されるとしても、一般に同じ設計概念に従っている 。Background technology Currently available cryopumps are either open-type refrigeration cycle cases or closed-type refrigeration cycle cases. generally follow the same design concept, even if cooled by T'L .
通常4〜25°にの範囲で働く、低温の第2段の列は1次ポンプ面でらる。この 面は通常40〜130°にの温度範囲で働く高温シリンダによって包囲され、そ れは低温の列に対して放射シールドを提供する。放射シールドは一般に1次ポン プ面一と排気される室との間に位置する前方の列を除いて閉鎖されるハウジング を含んでいる。この高温の、第1段、前方の列は水蒸気のような高沸点ガス用の ポンプサイトとして作用する。A cold second stage array, typically operating in the 4-25° range, is located at the primary pump surface. this The surface is usually surrounded by a high temperature cylinder working in the temperature range from 40 to 130°; This provides radiation shielding for the cold column. Radiation shields are generally used for primary pumps. A housing that is closed except for the front row, which is located between the top surface and the chamber to be evacuated. Contains. This high temperature, first stage, front row is for high boiling point gases such as water vapor. Acts as a pump site.
作用において、水蒸気のような高沸点ガスは前方の列において凝縮する。低沸点 ガスは前方の列から輻射シールド内の室に通過し第2段の列上に凝縮する。In operation, high boiling gases such as water vapor condense in the front row. low boiling point Gas passes from the front row into a chamber in the radiation shield and condenses on the second row.
これらの内面は、水素、ネオンまたはヘリウムのような低温、非凝縮性ガスを吸 着するため木炭またはゼオライトのような吸着剤を被覆されている。吸着はガス が寒冷温度に保持される材料によって物理的に捕捉されそれKよって環境から除 去される工程である。ガスがこのようにポンプ面に凝縮または吸着されると、臭 突のみが作業室に残る。These inner surfaces absorb cold, non-condensable gases such as hydrogen, neon or helium. coated with an adsorbent such as charcoal or zeolite for adhesion. Adsorption is gas K is physically captured by materials held at cold temperatures and is therefore removed from the environment. This is a process in which it is removed. When gas is condensed or adsorbed on the pump surface in this way, it creates an odor. Tsunomi remains in the work room.
閉鎖サイクル冷却機によって冷却される方式において、冷却機は通常輻射シール ド内に延びる低温フィンガを備える2段冷凍磯である。冷凍機の第2の、もつと も冷却される段階の低温端は低温フィンがの端部にある。1次ポンプ面葦たはク ライオパネルは、低温フィンが第2段のもつとも低温の端部においてヒートシン クに接続されている。このクライオパネルは、例えば米国特許第4,494,3 81号におけるような、第2段ヒートシンクの周りに配置されかつそれに接続さ れた簡単な金属板、コツプまたは金属邪魔板の円筒形の列とすることができる。In systems that are cooled by closed cycle chillers, the chillers are usually radiant sealed. It is a two-tier frozen rock with cold fingers extending into the bay. The second part of the refrigerator The cold end of the stage that is also cooled is at the end of the cold fin. Primary pump surface reed In Liopanel, the cold fins are heat sinks at the coldest end of the second stage. connected to the network. This cryopanel is, for example, US Pat. No. 4,494,3 placed around and connected to the second stage heat sink, as in No. 81. It can be a simple metal plate, a tip or a cylindrical row of metal baffles.
この第2段クライオパネルもまた前記のような木炭またはゼオライトのような低 温凝縮ガス吸着剤を支持することができる。This second stage cryopanel also uses a low-carbon material such as charcoal or zeolite as described above. Can support hot condensate gas adsorbents.
輻射シールドは冷凍機第1段のもつとも低温の端部において、ヒートシンクまた はヒートステーションをで接続されている。このシールドはそれを輻射熱から保 護するようCて第1段クライオパネルを包囲する。輻射シールドを閉鎖する前方 の列は、シールドを介して、または米国悟許第4,356.701号に記載さn たように伝熱支柱を介して第1段ヒートシンクによって冷却される。The radiation shield is installed at the coldest end of the first stage of the refrigerator by a heat sink or is connected to the heat station. This shield protects it from radiant heat. Surround the first stage cryopanel with C to protect it. Forward closing radiation shield 4,356.701 through the shield or as described in U.S. Pat. It is cooled by the first stage heat sink via the heat transfer struts as described above.
もつとも普通のクライオポンプにおいて、冷凍機低温フィンガはコツプ状輻射シ ールドの基部を通ってシールドと同心に延びている。他の方式において、低温フ ィンガは輻射シールドの側面を通って延びている。In an ordinary cryopump, the cryo-cooling finger of the cryocooler is a cup-shaped radiation shield. It extends concentrically with the shield through the base of the shield. In other methods, low temperature The fingers extend through the sides of the radiation shield.
そのような形状はしばしばクライオポンプを設置するため利用しうる空間により よく適合する。Such geometries are often dictated by the space available for installing the cryopump. Fits well.
クライオポンプは多量のガスを収集した後ときどき再生する必要がらり;さもな くばそれらは有効でなくなる。再生は以前【Cクライオポンプによって吸着され たガスが放出される工程でらる。再生は通常クライオポンプが周囲温度に戻るこ とを許すことによって達成されガスは2次ポンプ装置によってクライオポンプか ら除去される。ガスのこの放出および除去に続いて、クライオポンプは再稼動し 再冷却後ふたたび作業室から多量のガスを除去しうるようになる。Cryopumps occasionally need to be regenerated after collecting large amounts of gas; If they do, they will no longer be valid. The regeneration was previously [adsorbed by the C cryopump]. This is a process in which gas is released. Regeneration usually occurs when the cryopump returns to ambient temperature. This is achieved by allowing the gas to be cryopumped by a secondary pumping device. removed. Following this release and removal of gas, the cryopump is restarted. After recooling, large amounts of gas can be removed from the working chamber again.
従来技術のプラクテイスは第2段クライオパネル上に設置された吸着材料を、例 えば山形板によって第2没我着材料を包囲することにより、保護すること、凝縮 ガスが凝縮するのを阻止することしたがって吸着剤料の層を封鎖することである 。このようにして、層は水素、ネオンまたはヘリウムのような非凝縮性ガスの吸 着のため保護される。このことは再生サイクルの頻度を減少する。しかしながら 、山形板は吸着剤への非凝縮性ガスの接近の可能性を減少する。Prior art practice uses adsorbent material placed on the second stage cryopanel, e.g. Protecting, condensing, for example by surrounding the second impregnated material with a chevron plate to prevent gas from condensing and thus to seal off the layer of adsorbent material. . In this way, the layer absorbs non-condensable gases such as hydrogen, neon or helium. protected for wear. This reduces the frequency of regeneration cycles. however , the chevron plates reduce the possibility of access of non-condensable gases to the adsorbent.
発明の要約 本発明は非凝縮性ガスを給送する速度を増大するとともに、方式の再生頻度を制 限する。このことは第2段クライオパネルを開放して、水素、ネオンまたはヘリ ウムのような、非凝稲性ガスの、2次クライオパネル円板の内面に設置された吸 着材料に対する接近の可能性を一層大きくすることによって達成される。このこ とは非凝縮性ガスが一層迅速に吸着されることを可能にし、非凝縮性ガスの給送 速度を増大する。同時Cで、第2段の列はまずすべてのガス分子が吸着材料によ って被覆されていないクライオパネルの面に確実(・こ衝突するように設計され る。Summary of the invention The present invention increases the rate of non-condensable gas delivery and limits the frequency of system regeneration. limit This allows the second stage cryopanel to be opened and hydrogen, neon or helical A suction system installed on the inner surface of a secondary cryopanel disk for non-condensing gases such as This is achieved by providing greater accessibility to the dressing material. this child This allows non-condensable gases to be adsorbed more quickly, and the delivery of non-condensable gases Increase speed. At simultaneous C, the second row is first filled with all gas molecules by the adsorbent material. It is not designed to collide with the uncoated cryopanel surface. Ru.
本発明の理論に関連するクライオポンプは多段冷凍機および冷凍機上の低温ヒー トシンクに取付けられたクライオパネルを含んでいる。もつとも低温のクライオ パネルは第2段クライオパネルである。それは前方クライオパネルに昏直な軸に 沿って延びる円板の列を含む。さらに、第2段クライオパネルは第2段ヒートシ ンクと熱的に接触している。列の各円板は円板の外端において前方クライオパネ ルに向かって折曲p各日板は折曲部から半径方向内方に向かって平坦である。Cryopumps related to the theory of the present invention are multi-stage refrigerators and cryopumps with low temperature heating on the refrigerator. It contains a cryopanel attached to a sink. Extremely low temperature cryo The panel is a second stage cryopanel. It's a coma axis to the front cryopanel It includes a row of discs extending along it. Furthermore, the second stage cryopanel is equipped with a second stage heat shield. in thermal contact with the tank. Each disk in the row has a forward cryopanel at the outer edge of the disk. Each day the plate is flattened radially inward from the fold.
円板の折曲部から半径方向内方の前方クライオパネルから離れた面は吸着剤で被 覆されている。The surface of the disk that is radially inward from the bend and away from the front cryopanel is covered with adsorbent. It's been overturned.
好ましい実施例において、第2段クライオパネルの円板は前方クライオパネルに 向かって45°で折曲つている。各円板の最外端は前方クライオパネル(r(近 いつぎの円板の平坦な部分とはソ同じ高さにある。円板はそれが前方クライオパ ネルに近付くにつれて段々に小さくなるよう(て直径が変化するものとすること かできる。In a preferred embodiment, the disc of the second stage cryopanel is connected to the front cryopanel. It is bent at 45 degrees. The outermost end of each disk is the front cryopanel (r (near It is at the same height as the flat part of the next disk. The disc is located in front of the cryopath. The diameter shall gradually become smaller as it approaches the flannel. I can do it.
図面の簡単な説明 本発明の前記および他の目的、特徴および利点は下記の、とくに図面に示された 、本発明の好ましい実施例に関する記載から明らかになるであろうが、その中で 同じ参照符号は異なった図面を通じて同様の部品金示すものでるる。図面は縮小 、拡大することは必ずしも必要でなくその代わシ理論を評価しかつ説明するもの である。Brief description of the drawing The foregoing and other objects, features and advantages of the present invention are illustrated below, particularly in the drawings. , as will be apparent from the description of preferred embodiments of the invention, in which: The same reference numerals may indicate similar parts throughout the different drawings. The drawing is reduced in size , which does not necessarily need to be extended, but instead evaluates and explains the theory. It is.
第1図は本発明の一実施例の断面図。FIG. 1 is a sectional view of one embodiment of the present invention.
第2図は本発明の他の実施例の縦方向、断面図。FIG. 2 is a longitudinal cross-sectional view of another embodiment of the invention.
第3図は第2図に示す実施例の第2段の列の複合図。FIG. 3 is a composite view of the second row of the embodiment shown in FIG. 2;
好ましい実施例の説明 第1図は本発明理論と関連するクライオポンプの断面図である。Description of the preferred embodiment FIG. 1 is a sectional view of a cryopump related to the theory of the present invention.
第1図のクライオポンプ80は作業室のフランジ15に直接またはそれと作業室 の間の中間デートパルプに取付けうる主クライオポンプハウジング83を含んで いる。低温冷凍機の2段低温フィンが85は開口66を通って−・ウシング内に 突出している。この場合、冷凍機はGifford−MacMahonサイクル 冷凍機であるが他の冷凍機も使用しうる。The cryopump 80 in FIG. including a main cryopump housing 83 that can be attached to the intermediate date pulp between There is. The two-stage low-temperature fin 85 of the low-temperature refrigerator passes through the opening 66 into the Ussing. It stands out. In this case, the refrigerator is a Gifford-MacMahon cycle. Although this is a refrigerator, other refrigerators may also be used.
冷凍機はモータ48によって、駆動される低温フィンガ85中にディスプレーサ を含む。ヘリウムガスは管38および36によシ低温フィンガに導入排出される 。The refrigerator has a displacer in a cold finger 85 driven by a motor 48. including. Helium gas is introduced into the cold finger via tubes 38 and 36 and discharged. .
低温フィンガに入るヘリウムガスはディスプレーサによって膨張しきわめて低い 温度を生ずるように冷却される。そのような冷凍機はCbθ1118他の米国特 許第3,218.815号に開示されている。The helium gas entering the cold finger is expanded by the displacer and becomes extremely low. It is cooled to produce a temperature. Such refrigerators use Cbθ1118 and other US special No. 3,218.815.
第1段ポンプ面90は輻射シールド82′ft介して冷凍機85の第1段96の 低温端ヒートシンク94に取付けられる。The first stage pump surface 90 is connected to the first stage 96 of the refrigerator 85 through the radiation shield 82'ft. It is attached to the cold end heat sink 94.
第1段ヒートシンク74に取付けられたコツプ型輻射シールドは約77°にで働 く。輻射シールドは第2段クライオポンプ区域を包囲して直接輻射または高凝縮 温度の蒸気によるその区域の加熱を防止する。第1段ポンプ面は前方山形板の列 90を包みそれは第2段ポンプ区域に対する輻射シールドならびに水蒸気のよう な高温凝縮ガスに対するクライオポンプ面として作用する。ここに示された前方 山形板の列90は通常の構造のものであるが前方の列はいくつかの異なった方法 で構成することができ高温凝縮ガスの収集に有効である。この山形板の列は低凝 縮温度ガスの第2段ポンプ区域への通過金許す。The cup-type radiation shield attached to the first stage heat sink 74 operates at an angle of approximately 77°. Ku. A radiation shield surrounds the second stage cryopump area for direct radiation or high condensation. Prevent heating of the area by hot steam. The first stage pump surface is a row of front chevron plates. 90, it is a radiation shield for the second stage pump area as well as a water vapor Acts as a cryopump surface for high-temperature condensed gas. forward shown here The row of chevron plates 90 is of normal construction, but the front row can be constructed in several different ways. It is effective in collecting high temperature condensed gas. This row of chevron plates has low stiffness. Allows the passage of condensing temperature gas to the second stage pump area.
第2段クライオパネル84はロッド89に取付けられた円板の列を含みロッド8 9は冷凍機の第2段98に平行に延びて第2段ヒートシンク92に取付けられて いる。スペーサ81も隣接する円板を支持しかつ相互(て分離するため使用する ことができる。ロッドは通常円板の周囲に約90°互いに離れている。The second stage cryopanel 84 includes a row of disks attached to a rod 89. 9 extends parallel to the second stage 98 of the refrigerator and is attached to the second stage heat sink 92. There is. Spacers 81 are also used to support and separate adjacent discs from each other. be able to. The rods are typically spaced about 90° apart from each other around the circumference of the disk.
各円板は単一の周辺折曲部91f:有しそれによって円板のリムが前方列の方に 向けられる。もつともよい結果をうるため、折曲げは約45°とする。Each disc has a single peripheral bend 91f, whereby the rim of the disc is directed towards the front row. Directed. For best results, the bend should be approximately 45°.
通常木炭またはゼオライトである、吸着剤93は円板a1の折曲部から半径方向 内方の前方クライオパネルから離れた円板の平坦面に取付けられている。もし一 層多くの量の吸着剤が必要ならば、吸着剤は平坦区域ならびに截頭円錐形リム8 4の双方の上面にエポキシ樹脂で接着することができるが、そのような吸着剤は 同様に汚染から保護されない。The adsorbent 93, typically charcoal or zeolite, is applied in a radial direction from the bend in the disk a1. It is attached to the flat side of the disc away from the inner front cryopanel. If one If a large amount of adsorbent is required, the adsorbent can be placed in a flat area as well as in a frusto-conical rim 8. 4 can be glued to the top surface of both sides with epoxy resin, but such adsorbent Similarly, it is not protected from contamination.
第2段クライオパネルの各円板の最外端102は前方クライオパネルの90に近 いつぎの円板の平坦面91と同じ高さにあるのが好ましい。第2クライオパネル 列の円板は円板が前方クライオパネルに近付くにつれて段々に小さくなるように 直径が変化するものである。The outermost end 102 of each disc of the second stage cryopanel is close to 90 of the front cryopanel. Preferably, it is at the same height as the flat surface 91 of the next disk. 2nd cryopanel The rows of disks become progressively smaller as they approach the front cryopanel. The diameter changes.
2次クライオパネルの円板列は凝縮性ガスが吸着材料によって被覆さnていない 面に凝縮する機会が十分にろるように設計されている。同時に円板は輻射遮断内 からの分子流に対して開放し吸着材料上への非凝縮性ガスの迅速な凝縮全促進す る。The disk array of the secondary cryopanel is not covered with adsorbent material for condensable gases. It is designed to have a sufficient chance of condensation on the surface. At the same time, the disk is inside the radiation block. to promote rapid condensation of non-condensable gases onto the adsorbent material. Ru.
低圧雰囲気内のガス分子は真直ぐな通路に沿って移動し、それらが面に衝突する とき、多分余弦法則に従って面から反射される。第2段クシイオパネルはこれら の現象を利用するように設計されている。円板の一つの冷たい面に衝突する凝縮 性ガス分子は僅か一回の衝突後その面上に凝縮する。しかしながら、もし非凝縮 性ガス分子が吸着材料で被覆されていない円板の面の一部に衝突するならば、円 板列は非凝縮性ガス分子が吸着材料(でよって被覆されていない円板の面にその 面に対して90°の角度で反発することがないように設計される。非凝縮性ガス は最大の可能性をもってそれが吸収される吸着材料によって被覆された面に衝突 する前に一旦非吸着剤被覆面に衝突する。ガスが非吸着性面に衝突する最少の量 は吸着剤に対する分子通路長さを減少しそして非凝縮性ガス吸着の割合をいちじ るしく増大する。このことは方式が給送する割合を増に関連している。これらの 特徴は下記のものを含んでいる。Gas molecules in a low pressure atmosphere move along straight paths and they collide with surfaces When, it is probably reflected from a surface according to the law of cosines. The second stage Kushiio panel is these It is designed to take advantage of the phenomenon of Condensation impinging on one cold side of the disk The gas molecules condense on the surface after only one collision. However, if the non-condensed If a gas molecule impinges on a part of the surface of the disk that is not covered with adsorbent material, then the circular The array of plates has non-condensable gas molecules adsorbed on the uncoated surface of the disk. It is designed so that there is no repulsion at a 90° angle to the surface. non-condensable gas impinges on a surface covered by an adsorbent material where it is absorbed with maximum probability Before it hits the non-adsorbent coated surface. The minimum amount of gas that hits a non-adsorbent surface reduces the molecular path length to the adsorbent and increases the rate of non-condensable gas adsorption. increase in strength. This is associated with increasing the rate at which the system feeds. these Features include:
■ 各円板の91の端部における45°の折曲は非凝縮性ガスを吸着剤に向かっ て誘導する。■ A 45° bend at the 91 end of each disk directs non-condensable gas toward the adsorbent. guide you.
■ 第1図の、各円板102の最外端は前方パネルに近い、つぎの円板の平らな 部分91とほぼ同じ高さにある。しかして、列は吸着剤に対して光学的に透明で ありそこで吸着剤は低11.を凝縮面によってW質的に保護される。一方、各円 板の外側リムは非凝縮性ガスが多重反射によって随時捕捉される長い通路を生ず る程には延長しない。■ In Figure 1, the outermost edge of each disc 102 is located near the front panel, on the flat surface of the next disc. It is approximately at the same height as portion 91. Therefore, the column is optically transparent to the adsorbent. There, the adsorbent is low 11. W is qualitatively protected by the condensing surface. On the other hand, each circle The outer rim of the plate creates a long path in which non-condensable gases are trapped from time to time by multiple reflections. It does not extend to the extent that
■ 円板は、吸着剤(で対する通路の長さを最短にするため、円板の外側折曲部 から半径方向内方に平らである。■ In order to minimize the length of the path for the adsorbent, the outer bent part of the disc flat radially inward from
■ 円板の列は前方のクライオパネルに近付くにつれて徐々に小さくなる。その 結果、いくつかの円板の折曲っだリムは前方の列からよく見ることができ、前方 の列から移動する分子はそれらのリムによって迅速に捕捉されるか吸着剤に向か って偏倚される。■ The row of disks gradually becomes smaller as they approach the cryopanel in front. the As a result, the bent rims of some of the discs are clearly visible from the front row and Molecules migrating from the columns are quickly captured by their rims or directed toward the adsorbent. It's biased.
円板列の上記すべての設計の特徴はクライオパネル内部の吸着剤被覆面に向かう 非凝縮性ガス分子の反射を促進する。列の設計はまたガス分子がまず円板の他の 部分に衝突する前に円板の保護された吸着剤被覆面に衝突することを事実上不可 能にする。各分子が非被覆部分に衝突する限り円板の非被覆部分へのほとんどす べてのa縮性がスの凝縮が促進さ0、再生の頻度を減少する。All the above design features of the disk array are directed towards the adsorbent coated surface inside the cryopanel. Facilitates reflection of non-condensable gas molecules. The design of the column also means that the gas molecules first Virtually impossible to hit the protected adsorbent coated surface of the disc before impacting the part make it possible. As long as each molecule hits an uncovered part, almost all of it hits the uncovered part of the disk. All a-condensing properties promote the condensation of gas and reduce the frequency of regeneration.
第2図のクライオポンプの変型はフランジ14ic沿って作業室の壁土に取付け うる真空容器12を含んでいる。容器12の前方開口16は作業室の円形開口と 連通している。冷凍機の2段低温フィンガ18は容器12の円筒形部分20を通 って容器12内に突出している。低温フィンが18の2段ディスプレーサはモー タ22によって駆動される。第1段ヒートシンク、またけヒートステーション2 8は第1段冷凍機29の低温端に取付けられている。同時に、ヒートシンク30 は第2段32の低温端に取付けられている。The cryopump variant shown in Figure 2 is attached to the wall of the working room along the flange 14ic. It includes a wet vacuum container 12. The front opening 16 of the container 12 is connected to the circular opening of the working chamber. It's communicating. The two-stage cold finger 18 of the refrigerator passes through the cylindrical portion 20 of the container 12. protrudes into the container 12. A two-stage displacer with 18 cold fins has a motor 22. 1st stage heat sink, straddling heat station 2 8 is attached to the low temperature end of the first stage refrigerator 29. At the same time, heat sink 30 is attached to the cold end of the second stage 32.
1次ポンプ面は第2段ヒートステーション30に取付けられた円板34の列であ る。この列は低凝縮温度ガスを凝縮しかつ非凝縮性ガスを吸着するため20°に 以下の温度に保持するのが好iしい。コツプ型輻射シールド36は第1段ヒート シンク28に取付けられている。低温フィンガの第2段32は輻射シールドの開 口を通って延長している。このシールドは輻射によるの列の加熱を最少にするだ めの列の後方および側刃に対して第2段の列34を包囲している。好ましくは、 この輻射シールドの温度は約100’に以下にされる。The primary pump surface is a row of discs 34 attached to the second stage heat station 30. Ru. This column is angled at 20° to condense low condensing temperature gases and adsorb non-condensable gases. It is preferable to maintain the temperature at the following temperature. The Kotop type radiation shield 36 is the first stage heat It is attached to the sink 28. The second stage 32 of the cold finger opens the radiation shield. It extends through the mouth. This shield minimizes heating of the array due to radiation. It surrounds the second row 34 to the rear and side blades of the second row. Preferably, The temperature of this radiation shield is kept below about 100'.
前方列38は1次クライオパネル34に対する輻射シールドとしてならびに水蒸 気のような高沸点ガス用クライオポンプ面として作用する。この列は半径方向支 持棒42によって接合されたよろい戸を含んでいる。The front row 38 serves as a radiation shield for the primary cryopanel 34 and as a water vapor shield. Acts as a cryopump surface for high boiling point gases such as air. This row has radial support. It includes a shutter joined by a retaining rod 42.
支持棒は輻射シールドに取付けられている。シールドは前方の列を支持するとと もに列からヒートシンクへの伝熱路として作用する。The support rod is attached to the radiation shield. The shield supports the front row. Both act as a heat transfer path from the array to the heat sink.
第3図に示すように、第2図に示す実施例の2次クライオパネルの円板列はそれ ぞれブラケット52および54に取付けられた半円形円板部分48および50の 二つの別の群から形成されブラケット52および54はヒートステーション30 の平坦な面46に取付けられている。それらのブラケットは平坦なL字型棒であ る。それらはヒートステーション30の両側の低温フィンが32の横方向に延長 している。円板は、第1図に示された実施例とは異なり、同じ直径のものである 。これらの特徴を一層よく理解するため、1984年5月18日出願のBart lettの米国特許出願第611.683号を参照さnたい。円板は第2図の前 方クライオパネル38に向かって45°の角度で折曲っている。As shown in FIG. 3, the disk array of the secondary cryopanel of the embodiment shown in FIG. semicircular disk portions 48 and 50 attached to brackets 52 and 54, respectively; Brackets 52 and 54 are formed from two separate groups and are connected to heat station 30. It is attached to the flat surface 46 of. Those brackets are flat L-shaped rods. Ru. They have cold fins on both sides of the heat station 30 that extend laterally of the heat station 32. are doing. The discs differ from the embodiment shown in FIG. 1 and are of the same diameter. . To better understand these characteristics, Bart. See U.S. Patent Application No. 611.683 to Lett. The disk is in front of Figure 2. It is bent at an angle of 45° toward the cryopanel 38.
本発明はその好ましい実施例に基づいて記載しかつ図示されたが、この種技術( C通じた人々には型式および詳細における種々の変更が添付の請求の範囲に限定 された本発明の精神および範囲から離れることなくなされうろことが分るでろろ う。While the invention has been described and illustrated in terms of its preferred embodiment, C. To those skilled in the art, various changes in type and details may be limited to the scope of the appended claims. It will be appreciated that other changes may be made without departing from the spirit and scope of the invention as described. cormorant.
F/θ/ ANNEX To ’i’FE 工NTERNATTONAL 5EARCHR EPORT 0NCH−A−65280429/11/85 NoneF/θ/ ANNEX To’i’FE Engineering NTERNATTONAL 5EARCH EPORT 0NCH-A-65280429/11/85 None
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