JPS6348035B2 - - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】 (1) 発明の技術分野 硝酸ウラニル、硝酸プルトニウム等の溶液を脱
硝して核燃料製造用の二酸化ウラン、二酸化プル
トニウム等の粉末を得る際に、脱硝工程で受皿の
底面に付着したこれら脱硝生成物の乾燥ケーキを
掻取る装置に関する。

(2) 従来技術 第１図ないし第３図を参照して説明する。

使用済核燃料は再処理によつて含まれている核
燃料物質であるウラン、プルトニウムが抽出さ
れ、核燃料に再使用される。

この再処理は使用済燃料を硝酸に溶解し、この
硝酸溶液から硝酸ウラニル、硝酸プルトニウムを
抽出し、硝酸ウラニル、硝酸プルトニウムの溶液
を加熱脱硝して二酸化ウラン、二酸化プルトニウ
ムに転換し、この二酸化ウラン、二酸化プルトニ
ウムの粉末を焼結して核燃料を製造する。

上記硝酸ウラニル、硝酸プルトニウムの脱硝は
第１図および第２図の如き装置を用いておこな
う。

すなわち、１はマイクロ波加熱オーブンであつ
て、このマイクロ波加熱オーブン１内にはマイク
ロ波発振器２…からマイクロ波が照射される。

また、３…は受皿であつて、これらの受皿３…
内には硝酸ウラニル、硝酸プルトニウムの溶液が
収容されている。そして、これら受皿３…は搬送
機構４上に載置され、マイクロ波加熱オーブン１
内を順次移動される。なお、この搬送機構４には
ターンテーブル５…が設けられ、受皿３…は回転
されつつ搬送される。

そして、上記受皿３…内に収容されている硝酸
ウラニル、硝酸プルトニウムの溶液はマイクロ波
の照射を受け、加熱される。

そして、第３図に示す如くまずこれら硝酸ウラ
ニル、硝酸プルトニウムの溶液は加熱によりＡ−
Ｂ点間で蒸発し、固形分が受皿３…の底面に付着
する。そしてこの固形分はＢ−Ｃ点間でさらに加
熱されて温度が上昇し、Ｃ点の温度で脱硝反応が
開始される。そして、硝酸ウラニル、硝酸プルト
ニウムは二酸化ウラン、二酸化プルトニウムに転
換され、これらの脱硝生成物は乾燥ケーキとして
受皿３…の底面に付着する。

そして、脱硝が完了するとこの受皿３…はマイ
クロ波加熱オーブン１内から取出され、これら受
皿３…の底面に付着した乾燥ケーキが掻取られ
る。そして、この掻取られた乾燥ケーキはボール
ミル等により粉砕され、粉末に精製される。

これら再処理作業はウランおよびプルトニウム
の外部への拡散を防止するため、気密性の容器の
壁に気密性の手袋を取付けたいわゆるグローブボ
ツクス内でおこなわれる。そして、作業者はこの
手袋内に手を挿入して各種の作業をなす。

(3) 従来技術の問題点 乾燥ケーキの掻取の際には二酸化ウラン、二酸
化プルトニウムの粉塵が発生し、この粉塵はグロ
ーブボツクス内に堆積する。したがつて、このグ
ローブボツクスの清掃等の保守管理が面倒であつ
た。

(4) 発明の目的 粉塵の飛散を防止し、グローブボツクス内の汚
染を防止することができる脱硝生成物の掻取装置
を得ることにある。

(5) 発明の構成 乾燥ケーキが付着した受皿をその底面が鉛直と
なるように保持しかつこの受皿の開口面を覆うカ
バー体を設け、このカバー体内に掻取体を設けこ
の掻取体を受皿の底面に押圧させつつ回転させ、
乾燥ケーキを掻取る。カバー体の下部には排出口
を設けて掻取られた乾燥ケーキを排出する。ま
た、排気処理機構を設け、カバー体内を排気し、
排気中に含まれる微粒子は排気処理機構で除去
し、処理するものである。

(6) 発明の効果 乾燥ケーキの掻取の際に発生した粉塵はカバー
体外に飛散することはないので、グローブボツク
ス内が汚染されない。よつてグローブボツクス内
の清掃等の保守管理が容易となる。

(7) 発明の一実施例 第４図および第５図を参照して説明する。

図中１１はカバー体であつて、このカバー体１
１は円錐形をなし、その大径側端部には取付フラ
ンジ１２が形成されている。そして、このカバー
体１１は軸方向が水平となるように支持され、上
記取付フランジ１２は鉛直面に沿つている。そし
て、上記取付フランジ１２には複数のクランプ機
構１３…が設けられている。そして、脱硝工程を
終了し、底面３ａに二酸化ウラン、二酸化プルト
ニウム等の脱硝生成物の乾燥ケーキが付着した受
皿３はその開口縁３ｂがカバー体１１の取付フラ
ンジ１２に衝合され、クランプ機構１３…により
固定されるように構成されている。よつてこの受
皿３はその底面３ａが鉛直面に沿うように保持さ
れ、また開口面はカバー体１１によつて覆われ
る。

そして、このカバー体１１内には掻取体１４が
設けられている。この掻取体１４は円板状をな
し、中心には回転軸１５が取付けられている。こ
の回転軸１５はカバー体１１を気密をもつて貫通
し、カバー体１１外にある軸受１６，１６によつ
て支承されている。この回転軸１５は減速機１７
を介してモータ１８に連結されている。そして、
上記掻取体１４はモータ１８によつて回転される
とともに受皿３の底面３ａに所定圧力で押圧され
るように構成されている。そして、この掻取体１
４の掻取面すなわち受皿３の底面３ａに対向する
面には複数の溝１９…が形成され、これらの溝１
９…は掻取体１４の周縁に達している。そして、
この掻取体１４は受皿３の底面３ａに押圧されつ
つ回転し、上記溝１９…の縁部で付着している乾
燥ケーキを掻取り、掻取られた乾燥ケーキは溝１
９…内を通つて掻取体１４の周縁部まで送られ、
排出される。

また、上記カバー体１１の下部には排出口２０
が設けられ、この排出口２０の下方にはホツパ２
１および受容器２２が設けられている。したがつ
て掻取られた乾燥ケーキはこの排出口２０から落
下し、ホツパ２１に案内されて受容器２２内に溜
る。

また、上記カバー体１１には排気管２３が接続
され、この排気管２３はフイルタ２４，２４を介
して排気ポンプ２５に接続されている。よつてカ
バー体１１内の空気は排気ポンプ２５によつて排
気管２３を介して排気される。そして、乾燥ケー
キの掻取の際に発生した二酸化ウラン、二酸化プ
ルトニウム等の粉塵は空気とともに排気管２３を
介してフイルタ２４，２４に送られ、これらフイ
ルタ２４，２４で除去される。また、各フイルタ
２４，２４の前後には圧力計２６…が設けられ、
これら圧力計２６…の読みによつて排気量やフイ
ルタ２４，２４の目詰まり等が監視される。

したがつて、乾燥ケーキの掻取の際に発生した
粉塵は排気とともにカバー体１１外に排出され、
フイルタ２４，２４で除去されるので、このカバ
ー体１１外に飛散することはない。よつて、グロ
ーブボツクス内の汚染が防止される。

【図面の簡単な説明】

第１図および第２図はマイクロ波加熱オーブン
を示し、第１図は側面図、第２図は第１図の―
線に沿う断面図である。第３図は被加熱物の温
度変化を示す線図である。第４図および第５図は
本発明の一実施例を示し、第４図は概略構成図、
第５図は第４図のＶ―Ｖ矢視図である。 ３…受皿、１１…カバー体、１３…クランプ機
構、１５…回転軸、１８…モータ、２０…排出
口、２３…排気管、２４…フイルタ、２５…排気
ポンプ。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １ 加熱脱硝により生成された脱硝生成物の乾燥
   ケーキが底面に付着した受皿が取付けられこの受
   皿の底面が鉛直となるようにこの受皿を支持する
   とともにこの受皿の開口面を覆うカバー体と、こ
   のカバー体内に設けられ上記受皿の底面に押圧さ
   れつつ回転しこの受皿の底面に付着した上記脱硝
   生成物の乾燥ケーキを掻取る掻取体と、上記カバ
   ー体内を排気するとともにこの排気中に含まれる
   微粒子を除去する排気処理機構と、上記カバー体
   の下部に形成された排出口とを具備したことを特
   徴とする脱硝生成物の掻取装置。 ２ 上記掻取体の掻取面にはこの掻取体の周縁に
   達する溝が形成されていることを特徴とする前記
   特許請求の範囲第１項記載の脱硝生成物の掻取装
   置。