JPS634531B2 - - Google Patents
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- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
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Description
【発明の詳細な説明】
本発明は新規なキヨウトルフイン誘導体に関す
る。
る。
本発明のキヨウトルフイン誘導体は文献末載の
新規化合物であつて、下記一般式(1)で表わされ
る。
新規化合物であつて、下記一般式(1)で表わされ
る。
一般式
〔式中R1は水素原子または低級アルキル基を、
R2は水素原子またはニトロ基をそれぞれ示す。〕 上記一般式(1)で表わされるキヨウトルフイン誘
導体は、オピエート受容体においてアゴニスト活
性作用を有すると共に低毒性であり、鎮痛薬とし
て有用である。
R2は水素原子またはニトロ基をそれぞれ示す。〕 上記一般式(1)で表わされるキヨウトルフイン誘
導体は、オピエート受容体においてアゴニスト活
性作用を有すると共に低毒性であり、鎮痛薬とし
て有用である。
上記一般式(1)においてR1で示される低級アル
キル基としては例えばメチル、エチル、プロピ
ル、イソプロピル、ブチル、tert―ブチル基等を
挙げることができる。
キル基としては例えばメチル、エチル、プロピ
ル、イソプロピル、ブチル、tert―ブチル基等を
挙げることができる。
本発明の化合物のうち代表的なものを以下に挙
げる。
げる。
Γ チロシル―アルギノール
Γ N―メチルチロシル―アルギノール
Γ N―エチルチロシル―アルギノール
Γ N―プロピルチロシル―アルギノール
Γ N―イソプロピルチロシル―アルギノール
Γ N―ブチルチロシル―アルギノール
Γ N―tert―ブチルチロシル―アルギノール
Γ チロシル―NG―ニトロアルギノール
Γ N―メチルチロシル―NG―ニトロアルギノ
ール Γ N―エチルチロシル―NG―ニトロアルギノ
ール Γ N―プロピルチロシル―NG―ニトロアルギ
ノール Γ N―イソプロピルチロシル―NG―ニトロア
ルギノール Γ N―ブチルチロシル―NG―ニトロアルギノ
ール Γ N―tert―ブチルチロシル―NG―ニトロアル
ギノール 尚NG―ニトロアルギノールとはアルギノール
を構成するグアニジノ基にニトロ基が導入された
ものを意味する。
ール Γ N―エチルチロシル―NG―ニトロアルギノ
ール Γ N―プロピルチロシル―NG―ニトロアルギ
ノール Γ N―イソプロピルチロシル―NG―ニトロア
ルギノール Γ N―ブチルチロシル―NG―ニトロアルギノ
ール Γ N―tert―ブチルチロシル―NG―ニトロアル
ギノール 尚NG―ニトロアルギノールとはアルギノール
を構成するグアニジノ基にニトロ基が導入された
ものを意味する。
上記一般式(1)で表わされるキヨウトルフイン誘
導体は種々の方法により製造されるが、例えば通
常のペプチド合成法即ち溶液合成法及び固相ペプ
チド合成法により容易に製造される。斯かるペプ
チド合成法としては例えば適当に保護され且つ活
性化されたアミノ酸同士をC―末端より結合させ
る方法を挙げることができる。更に詳しくは一般
式(1)で表わされるキヨウトルフイン誘導体は例え
ば次のようにして製造される。即ちまず一般式 〔式中R3はアミノ基の保護基を示す。R1は前
記に同じ。〕で表わされるチロシン誘誘導体と一
般式 〔式中R4はカルボキシル基の保護基を示す。
R2は前記に同じ。〕で表わされるアルギニン誘導
体とを通常のペプチド結合生成反応(例えばジシ
クロヘキシルカルボジイミドによる縮合反応)さ
せ、次に生成する一般式 〔式中R1,R2,R3及びR4は前記に同じ。〕で
表わされるジペプチドを水素化硼素ナトリウムを
用いて還元し、さらに生成する一般式 〔式中R1,R2及びR3は前記に同じ。〕で表わさ
れるジペプチドから通常の脱保護基手段により保
護基R3を除去することにより製造される。
導体は種々の方法により製造されるが、例えば通
常のペプチド合成法即ち溶液合成法及び固相ペプ
チド合成法により容易に製造される。斯かるペプ
チド合成法としては例えば適当に保護され且つ活
性化されたアミノ酸同士をC―末端より結合させ
る方法を挙げることができる。更に詳しくは一般
式(1)で表わされるキヨウトルフイン誘導体は例え
ば次のようにして製造される。即ちまず一般式 〔式中R3はアミノ基の保護基を示す。R1は前
記に同じ。〕で表わされるチロシン誘誘導体と一
般式 〔式中R4はカルボキシル基の保護基を示す。
R2は前記に同じ。〕で表わされるアルギニン誘導
体とを通常のペプチド結合生成反応(例えばジシ
クロヘキシルカルボジイミドによる縮合反応)さ
せ、次に生成する一般式 〔式中R1,R2,R3及びR4は前記に同じ。〕で
表わされるジペプチドを水素化硼素ナトリウムを
用いて還元し、さらに生成する一般式 〔式中R1,R2及びR3は前記に同じ。〕で表わさ
れるジペプチドから通常の脱保護基手段により保
護基R3を除去することにより製造される。
上記各式においてR3で示されるアミノ基の保
護基としては例えばベンジルオキシカルボニル、
p―ニトロベンジルオキシカルボニル、p―メト
キシベンジルオキシカルボニル、p―フエニルア
ゾベンジルオキシカルボニル、p―(p′―メトキ
シフエニルアゾ)―ベンジルオキシカルボニル、
p―クロルベンジルオキシカルボニル、p―ブロ
ムベンジルオキシカルボニル、p―トリルオキシ
カルボニル、α―ナフチルメトキシカルボニル、
p―ドデシルオキシベンジルオキシカルボニル、
tert―ブチルオキシカルボニル、tert―アミルオ
キシカルボニル、イソボルニルオキシカルボニ
ル、アダマンチルオキシカルボニル、ジフエニル
ホスフイニル、ジフエニルホスフイノチオイル基
等を挙げることができる。これらのうちでベンジ
ルオキシカルボニル、p―メトキシベンジルオキ
シカルボニル及びtert―ブチルオキシカルボニル
基が好ましい。またR4で示されるカルボキシル
基の保護基としては例えばメチル、エチル、イソ
プロピル、ベンジル、p―ニトロベンジル、p―
クロルベンジル、p―メトキシベンジル、フタル
イミドメチル、tert―ブチル基等を挙げることが
できる。これらのうちでメチル、エチル及びベン
ジル基が好ましい。
護基としては例えばベンジルオキシカルボニル、
p―ニトロベンジルオキシカルボニル、p―メト
キシベンジルオキシカルボニル、p―フエニルア
ゾベンジルオキシカルボニル、p―(p′―メトキ
シフエニルアゾ)―ベンジルオキシカルボニル、
p―クロルベンジルオキシカルボニル、p―ブロ
ムベンジルオキシカルボニル、p―トリルオキシ
カルボニル、α―ナフチルメトキシカルボニル、
p―ドデシルオキシベンジルオキシカルボニル、
tert―ブチルオキシカルボニル、tert―アミルオ
キシカルボニル、イソボルニルオキシカルボニ
ル、アダマンチルオキシカルボニル、ジフエニル
ホスフイニル、ジフエニルホスフイノチオイル基
等を挙げることができる。これらのうちでベンジ
ルオキシカルボニル、p―メトキシベンジルオキ
シカルボニル及びtert―ブチルオキシカルボニル
基が好ましい。またR4で示されるカルボキシル
基の保護基としては例えばメチル、エチル、イソ
プロピル、ベンジル、p―ニトロベンジル、p―
クロルベンジル、p―メトキシベンジル、フタル
イミドメチル、tert―ブチル基等を挙げることが
できる。これらのうちでメチル、エチル及びベン
ジル基が好ましい。
一般式(2)の化合物と一般式(3)の化合物とのペプ
チド結合生成反応は、通常のペプチド結合方法、
例えばアシド法、混合酸無水物法、ジシクロヘキ
シルカルボジイミド法、活性エステル法、ウツド
ワード試薬Kを用いる方法、カルボジイミダゾー
ル法等により容易に行なわれる。該反応は一般に
ペプチド縮合反応に使用され得る公知の溶媒、例
えばジメチルホルムアミド、クロロホルム、酢酸
エチル、ジオキサン、ジクロルエタン、テトラヒ
ドロフランまたはこれらの混合溶媒中にて行なわ
れる。該反応の反応温度としては特に制限がなく
広い範囲内で適宜選択できるが、一般に―30〜30
℃程度の温度にて反応を行なうのがよい。
チド結合生成反応は、通常のペプチド結合方法、
例えばアシド法、混合酸無水物法、ジシクロヘキ
シルカルボジイミド法、活性エステル法、ウツド
ワード試薬Kを用いる方法、カルボジイミダゾー
ル法等により容易に行なわれる。該反応は一般に
ペプチド縮合反応に使用され得る公知の溶媒、例
えばジメチルホルムアミド、クロロホルム、酢酸
エチル、ジオキサン、ジクロルエタン、テトラヒ
ドロフランまたはこれらの混合溶媒中にて行なわ
れる。該反応の反応温度としては特に制限がなく
広い範囲内で適宜選択できるが、一般に―30〜30
℃程度の温度にて反応を行なうのがよい。
一般式(4)の化合物の水素化硼素ナトリウムによ
る還元は、例えばメタノール、エタノール、含水
エタノール等の不活性溶媒中にて行なわれる。水
素化硼素ナトリウムの使用量としては特に制限が
なく広い範囲内で適宜選択すればよいが、通常一
般式(4)の化合物に対して3〜10倍モル量、好まし
くは4〜7倍モル量用いるのがよい。該反応は通
常―10〜50℃程度、好ましくは0℃〜室温付近に
て行なわれ、一般に2〜6時間程度で反応は終了
する。
る還元は、例えばメタノール、エタノール、含水
エタノール等の不活性溶媒中にて行なわれる。水
素化硼素ナトリウムの使用量としては特に制限が
なく広い範囲内で適宜選択すればよいが、通常一
般式(4)の化合物に対して3〜10倍モル量、好まし
くは4〜7倍モル量用いるのがよい。該反応は通
常―10〜50℃程度、好ましくは0℃〜室温付近に
て行なわれ、一般に2〜6時間程度で反応は終了
する。
一般式(5)の化合物から保護基R3を除去する脱
保護基手段としては例えばパラジウム黒、パラジ
ウム炭素、白金等を触媒とする接触還元法、トリ
フルオロ酢酸法、臭化水素法、塩化水素法、フツ
化水素法、メタンスルホン酸法、トリフルオロメ
タンスルホン酸法等を挙げることができる。これ
らの方法は一般0〜40℃付近の温度にて実施され
る。尚酸を用いる方法においてはアニソール、チ
オアニソール等のカチオン捕捉剤の添加が有効で
ある。
保護基手段としては例えばパラジウム黒、パラジ
ウム炭素、白金等を触媒とする接触還元法、トリ
フルオロ酢酸法、臭化水素法、塩化水素法、フツ
化水素法、メタンスルホン酸法、トリフルオロメ
タンスルホン酸法等を挙げることができる。これ
らの方法は一般0〜40℃付近の温度にて実施され
る。尚酸を用いる方法においてはアニソール、チ
オアニソール等のカチオン捕捉剤の添加が有効で
ある。
斯くして得られる一般式(1)の化合物はペプチド
を分離するのに通常採用されている手段例えば抽
出、再沈殿、再結晶、シリカゲルクロマトグラフ
イー、イオン交換クロマトグラフイー、向流分
配、ゲルクロマトグラフイー、新和クロマトグラ
フイー等により容易に単離精製される。
を分離するのに通常採用されている手段例えば抽
出、再沈殿、再結晶、シリカゲルクロマトグラフ
イー、イオン交換クロマトグラフイー、向流分
配、ゲルクロマトグラフイー、新和クロマトグラ
フイー等により容易に単離精製される。
上記一般式(1)の化合物は医薬的に許容され得る
酸と容易に酸付加塩を形成させることができ、斯
かる塩も本発明化合物に包含される。用いられる
塩としては塩化水素、臭化水素等のハロゲン化水
素、硫酸、硝酸等の無機酸、シユウ酸、マレイン
酸、クエン酸、酒石酸、酢酸、p―トルエンスル
ホン酸等の有機酸等を挙げることができる。尚本
発明の化合物には光学異性体及びラセミ体のいず
れも包含する。
酸と容易に酸付加塩を形成させることができ、斯
かる塩も本発明化合物に包含される。用いられる
塩としては塩化水素、臭化水素等のハロゲン化水
素、硫酸、硝酸等の無機酸、シユウ酸、マレイン
酸、クエン酸、酒石酸、酢酸、p―トルエンスル
ホン酸等の有機酸等を挙げることができる。尚本
発明の化合物には光学異性体及びラセミ体のいず
れも包含する。
以下に本発明化合物の製造例を実施例として掲
げる。尚実施例においては下記の略語を使用す
る。
げる。尚実施例においては下記の略語を使用す
る。
DCC=ジシクロヘキシルカルボジイミド
DMF=ジメチルホルムアミド
TFA=トリフルオロ酢酸
またR値はシリカゲル〔メルク社、キーゼル
ゲル60F254〕上の薄層クロマトグラフイ(TLC)
にて、下記混合溶媒を用いて測定したものであ
る。
ゲル60F254〕上の薄層クロマトグラフイ(TLC)
にて、下記混合溶媒を用いて測定したものであ
る。
Rf1…クロロホルム―メタノール―水(8:
3:1)の下層部分の混合液 Rf2…n―ブタノール―酢酸―水(3:1:
1) Rf3…クロロホルム―メタノール(10:1) 実施例 1 L―チロシル―L―アルギノールの製造 第一工程:p―メトキシベンジルオキシカルボニ
ル―L―チロシル―NG―ニトロ―L―
アルギニンメチルエステル(化合物A) p―メトキシベンジルオキシカルボニル―L―
チロシン5.8gの酢酸エチル125ml溶液に氷冷下
DCC3.5gを加えた。20分後NG―ニトロ―L―ア
ルギニンメチルエステル(塩酸塩4.6gのDMF50
ml溶液にトリエチルアミン2.4mlを加えて得たも
の)を加え、24時間撹拌した。生じたジシクロヘ
キシル尿素を別し、液を留去した。残渣を酢
酸エチルに溶解し、10%クエン酸、5%炭酸ナト
リウム、飽和食塩水で順次洗浄した。硫酸ナトリ
ウムで乾燥後抽出液を留去し、残渣を酢酸エチル
―エーテルより再結晶して、mp154〜157℃(分
解)の目的物4.7gを得た。
3:1)の下層部分の混合液 Rf2…n―ブタノール―酢酸―水(3:1:
1) Rf3…クロロホルム―メタノール(10:1) 実施例 1 L―チロシル―L―アルギノールの製造 第一工程:p―メトキシベンジルオキシカルボニ
ル―L―チロシル―NG―ニトロ―L―
アルギニンメチルエステル(化合物A) p―メトキシベンジルオキシカルボニル―L―
チロシン5.8gの酢酸エチル125ml溶液に氷冷下
DCC3.5gを加えた。20分後NG―ニトロ―L―ア
ルギニンメチルエステル(塩酸塩4.6gのDMF50
ml溶液にトリエチルアミン2.4mlを加えて得たも
の)を加え、24時間撹拌した。生じたジシクロヘ
キシル尿素を別し、液を留去した。残渣を酢
酸エチルに溶解し、10%クエン酸、5%炭酸ナト
リウム、飽和食塩水で順次洗浄した。硫酸ナトリ
ウムで乾燥後抽出液を留去し、残渣を酢酸エチル
―エーテルより再結晶して、mp154〜157℃(分
解)の目的物4.7gを得た。
Rf1値:0.66、Rf3値:0.37
元素分析値(C25H32O9N6として)
理論値(%)C53.56H5.75N14.99
分析値(%)C53.45H5.86N14.55
第二工程:p―メトキシベンジルオキシカルボニ
ル―L―チロシル―NG―ニトロ―L―
アルギノール(化合物B) 化合物A(上記第一工程)3.0gを75%エタノー
ル150mlに溶解し、氷冷下徐々に水素化硼素ナト
リウム2.1gを加える。室温で2.5時間撹拌後3%
酢酸で酸性にし(PH4〜5)、溶媒を減圧留去し
た。残渣を酢酸エチルに溶解し、10%クエン酸、
5%炭酸ナトリウム、飽和食塩水で順次洗浄し
た。硫酸ナトリウムで乾燥後抽出液を留去し、残
渣をメタノール―エーテルより再沈殿し、mp73
〜76℃の目的物2.1gを得た。
ル―L―チロシル―NG―ニトロ―L―
アルギノール(化合物B) 化合物A(上記第一工程)3.0gを75%エタノー
ル150mlに溶解し、氷冷下徐々に水素化硼素ナト
リウム2.1gを加える。室温で2.5時間撹拌後3%
酢酸で酸性にし(PH4〜5)、溶媒を減圧留去し
た。残渣を酢酸エチルに溶解し、10%クエン酸、
5%炭酸ナトリウム、飽和食塩水で順次洗浄し
た。硫酸ナトリウムで乾燥後抽出液を留去し、残
渣をメタノール―エーテルより再沈殿し、mp73
〜76℃の目的物2.1gを得た。
Rf1値:0.55
元素分析値(C24H32O8N6として)
理論値(%)C54.13H6.06N15.78
分析値(%)C53.93H6.59N14.88
第三工程:L―チロシル―L―アルギノール(化
合物C) 化合物B(上記第二工程)400mgをメタノール30
mlに溶解し、1N―塩酸1.7mlを加え、5%パラジ
ウム―炭素上で接触還元を行なつた。終了後触媒
を別し、液を留去した。ニンヒドリン試薬呈
色反応陽性、坂口試薬呈色反応陽性の目的物290
mgを得た。
合物C) 化合物B(上記第二工程)400mgをメタノール30
mlに溶解し、1N―塩酸1.7mlを加え、5%パラジ
ウム―炭素上で接触還元を行なつた。終了後触媒
を別し、液を留去した。ニンヒドリン試薬呈
色反応陽性、坂口試薬呈色反応陽性の目的物290
mgを得た。
Rf2値:0.29
元素分析値(C15H25N5O3・2HClとして)
理論値(%)C45.46H6.87N17.67
分析値(%)C45.28H7.17N17.91
実施例 2
L―チロシル―NG―ニトロ―L―アルギノー
ル酢酸塩の製造 化合物B(実施例1の第二工程)600mg及びアニ
ソール0.4mlをTFA5mlに溶解し、氷冷下1時間
撹拌した。過剰のTFAを減圧留去後無水エーテ
ルを加えた。析出した白色粉末を取した後水酸
化ナトリウムペレツト上で減圧乾燥した。40%酢
酸に溶解し、アンバーライトIRA―400(酢酸型、
約10g)と共に30分撹拌し、酢酸塩に変換した。
樹脂を別し、液を留去した。残渣をメタノー
ル―エーテルより再沈殿し、目的物380mgを得た。
ル酢酸塩の製造 化合物B(実施例1の第二工程)600mg及びアニ
ソール0.4mlをTFA5mlに溶解し、氷冷下1時間
撹拌した。過剰のTFAを減圧留去後無水エーテ
ルを加えた。析出した白色粉末を取した後水酸
化ナトリウムペレツト上で減圧乾燥した。40%酢
酸に溶解し、アンバーライトIRA―400(酢酸型、
約10g)と共に30分撹拌し、酢酸塩に変換した。
樹脂を別し、液を留去した。残渣をメタノー
ル―エーテルより再沈殿し、目的物380mgを得た。
Rf2値:0.46
元素分析値(C15H24N6O5・CH3COOH・H2O
として) 理論値(%)C45.73H6.77N18.83 分析値(%)C45.50H7.05N19.14 実施例 3 N―メチル―L―チロシル―L―アルギノール
の製造 第一工程:N―メチル―N―ベンジルオキシカル
ボニル―O―ベンジル―L―チロシル―
NG―ニトロ―L―アルギニンメチルエ
ステル(化合物D) N―メチル―N―ベンジルオキシカルボニル―
O―ベンジル―L―チロシン9.7gの酢酸エチル
150ml溶液に氷冷下DCC4.7gを加えた。20分後、
NG―ニトロ―L―アルギニンメチルエステル
(塩酸塩6.8gのDMF80ml溶液にトリエチルアミ
ン3.5mlを加えて得たもの)を加え、4時間氷冷
下撹拌した後4℃で24時間撹拌した。生じたジシ
クロヘキシル尿素を別し、液を留去した。残
渣を酢酸エチルに溶解し、10%クエン酸、5%炭
酸ナトリウム、飽和食塩水で順次洗浄した。硫酸
ナトリウムで乾燥後抽出液を留去し、残渣を数日
放置した後エタノールより再結晶し、mp55〜60
℃の目的物6.3gを得た。
として) 理論値(%)C45.73H6.77N18.83 分析値(%)C45.50H7.05N19.14 実施例 3 N―メチル―L―チロシル―L―アルギノール
の製造 第一工程:N―メチル―N―ベンジルオキシカル
ボニル―O―ベンジル―L―チロシル―
NG―ニトロ―L―アルギニンメチルエ
ステル(化合物D) N―メチル―N―ベンジルオキシカルボニル―
O―ベンジル―L―チロシン9.7gの酢酸エチル
150ml溶液に氷冷下DCC4.7gを加えた。20分後、
NG―ニトロ―L―アルギニンメチルエステル
(塩酸塩6.8gのDMF80ml溶液にトリエチルアミ
ン3.5mlを加えて得たもの)を加え、4時間氷冷
下撹拌した後4℃で24時間撹拌した。生じたジシ
クロヘキシル尿素を別し、液を留去した。残
渣を酢酸エチルに溶解し、10%クエン酸、5%炭
酸ナトリウム、飽和食塩水で順次洗浄した。硫酸
ナトリウムで乾燥後抽出液を留去し、残渣を数日
放置した後エタノールより再結晶し、mp55〜60
℃の目的物6.3gを得た。
Rf3値:0.39
元素分析値(C32H38O8N6・1/2H2Oとして)
理論値(%) C59.71 H6.11 N13.06
分析値(%) C59.33 H5.98 N12.94
第二工程:N―メチル―N―ベンジルオキシカル
ボニル―O―ベンジル―L―チロシル―
NG―ニトロ―L―アルギノール(化合
物E) 化合物D(上記第一工程)2.8gを75%エタノー
ル90mlに溶解し、氷冷下徐々に水素化硼素ナトリ
ウム1.2gを加えた。室温で2.5時間撹拌した後、
30%酢酸で酸性にし(PH4〜5)、溶媒を減圧留
去した。残渣を酢酸エチルに溶解し、10%クエン
酸、5%炭酸ナトリウム、飽和食塩水で順次洗浄
した。硫酸ナトリウムで乾燥後抽出液を留去し、
残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフイー(直
径2.3cm×長さ35cmのカラム、クロロホルム:メ
タノール=15:1で溶出)により精製し、mp142
〜145℃(分解)の目的物1.8gを得た。
ボニル―O―ベンジル―L―チロシル―
NG―ニトロ―L―アルギノール(化合
物E) 化合物D(上記第一工程)2.8gを75%エタノー
ル90mlに溶解し、氷冷下徐々に水素化硼素ナトリ
ウム1.2gを加えた。室温で2.5時間撹拌した後、
30%酢酸で酸性にし(PH4〜5)、溶媒を減圧留
去した。残渣を酢酸エチルに溶解し、10%クエン
酸、5%炭酸ナトリウム、飽和食塩水で順次洗浄
した。硫酸ナトリウムで乾燥後抽出液を留去し、
残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフイー(直
径2.3cm×長さ35cmのカラム、クロロホルム:メ
タノール=15:1で溶出)により精製し、mp142
〜145℃(分解)の目的物1.8gを得た。
Rf1値:0.55
元素分析値(C31H38O7N6・1/2H2Oとして)
理論値(%)C60.47H6.39N13.65
分析値(%)C60.38H6.51N13.28
第三工程:N―メチル―L―チロシル―L―アル
ギノール(化合物F) 化合物E(上記第二工程)400mgをメタノール30
mlに溶解し、1N―塩酸1.6mlを加え、5%パラジ
ウム―炭素上で接触還元を行なつた。終了後触媒
を別し、液を留去し、ニンヒドリン呈色反応
陽性、坂口試薬陽性の目的物を250mg得た。
ギノール(化合物F) 化合物E(上記第二工程)400mgをメタノール30
mlに溶解し、1N―塩酸1.6mlを加え、5%パラジ
ウム―炭素上で接触還元を行なつた。終了後触媒
を別し、液を留去し、ニンヒドリン呈色反応
陽性、坂口試薬陽性の目的物を250mg得た。
Rf2値:0.32
元素分析値(C16H27N5O3・2HClとして)
理論値(%)C46.83H7.12N17.07
分析値(%)C46.54H7.34N17.32
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 一般式 〔式中R1は水素原子または低級アルキル基を、
R2は水素原子またはニトロ基をそれぞれ示す。〕 で表わされるキヨウトルフイン誘導体及びその
塩。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP6160180A JPS56158753A (en) | 1980-05-08 | 1980-05-08 | Kyotorphin derivative |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP6160180A JPS56158753A (en) | 1980-05-08 | 1980-05-08 | Kyotorphin derivative |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS56158753A JPS56158753A (en) | 1981-12-07 |
JPS634531B2 true JPS634531B2 (ja) | 1988-01-29 |
Family
ID=13175841
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP6160180A Granted JPS56158753A (en) | 1980-05-08 | 1980-05-08 | Kyotorphin derivative |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS56158753A (ja) |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS60116700A (ja) * | 1983-11-30 | 1985-06-24 | Dai Ichi Seiyaku Co Ltd | キョ−トルフィン誘導体 |
DE3505555A1 (de) * | 1985-02-18 | 1986-09-11 | Behringwerke Ag, 3550 Marburg | Neue oligopeptidylargininolderivate und deren homologe, verfahren zu deren herstellung, deren verwendung und diese enthaltende mittel |
-
1980
- 1980-05-08 JP JP6160180A patent/JPS56158753A/ja active Granted
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS56158753A (en) | 1981-12-07 |
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