JPS633516B2 - - Google Patents

Info

Publication number
JPS633516B2
JPS633516B2 JP7500879A JP7500879A JPS633516B2 JP S633516 B2 JPS633516 B2 JP S633516B2 JP 7500879 A JP7500879 A JP 7500879A JP 7500879 A JP7500879 A JP 7500879A JP S633516 B2 JPS633516 B2 JP S633516B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
semiconductor device
lead
fet
resin
ecm
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired
Application number
JP7500879A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JPS55166400A (en
Inventor
Hiroshi Suga
Kenji Fujiwara
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
NEC Corp
Original Assignee
Nippon Electric Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Nippon Electric Co Ltd filed Critical Nippon Electric Co Ltd
Priority to JP7500879A priority Critical patent/JPS55166400A/en
Publication of JPS55166400A publication Critical patent/JPS55166400A/en
Publication of JPS633516B2 publication Critical patent/JPS633516B2/ja
Granted legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H04ELECTRIC COMMUNICATION TECHNIQUE
    • H04RLOUDSPEAKERS, MICROPHONES, GRAMOPHONE PICK-UPS OR LIKE ACOUSTIC ELECTROMECHANICAL TRANSDUCERS; DEAF-AID SETS; PUBLIC ADDRESS SYSTEMS
    • H04R19/00Electrostatic transducers
    • H04R19/04Microphones

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Acoustics & Sound (AREA)
  • Signal Processing (AREA)
  • Electrostatic, Electromagnetic, Magneto- Strictive, And Variable-Resistance Transducers (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は半導体装置を有するコンデンサーマイ
クの構造に関する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION The present invention relates to a structure of a condenser microphone having a semiconductor device.

従来エレクトレツトコンデンサーマイクと呼ば
れる半導体装置を有するマイクは、半導体装置の
信号入力電極と電気的に接続された背極板と呼ば
れる金属板と、これに対向して空間を隔てて設け
られたエレクトレツトフイルムとを有し、金属板
とエレクトレツトフイルムとではさまれた空間で
コンデンサーを形成する構造である。この動作原
理はエレクトレツトフイルムが空気の振動に応じ
て振動すると、前記コンデンサーの電位が振動に
応じて変化し、この電位の変化が背極板から半導
体装置の信号入力電極に伝達され、半導体装置で
は入力された電位の変化を電流の信号に変換して
外部に出力する。
Conventionally, a microphone with a semiconductor device called an electret condenser microphone consists of a metal plate called a back plate that is electrically connected to the signal input electrode of the semiconductor device, and an electret that is placed opposite the metal plate with a space between it. It has a structure in which a capacitor is formed in the space sandwiched between the metal plate and the electret film. The operating principle is that when the electret film vibrates in response to the vibrations of the air, the potential of the capacitor changes in response to the vibration, and this change in potential is transmitted from the back plate to the signal input electrode of the semiconductor device. Then, the change in the input potential is converted into a current signal and output to the outside.

かかる機能を有する従来のエレクトレツトコン
デンサーマイク(以後ECMと略す)は、第1図
に示すごとく、エレクトレツトフイルム1と金属
板2(以後背極板と称す)でスペーサ3をはさみ
コンデンサを形成し、エレクトレツトフイルム1
は絶縁物4でECMを包む円筒状アルミケース5
から絶縁される。また、背極板2後面には、背室
6を設けECM中にモールド樹脂で封止された電
界効果トランジスタ(以下、FETという)7を
絶縁リング8で固定し、FET7のゲートリード
9を銀ペースト等で背極板に接着し電気的接触を
取る。つぎにFET7のゲートリード9、ソース
及びドレインリード10と円筒状アルミケース
5、プリント板11との絶縁を取るための絶縁用
ゴム板12を介して、FET7のドレイン・ソー
ス各リード10をプリント板11に半田13で固
定する。
A conventional electret condenser microphone (hereinafter abbreviated as ECM) having such a function, as shown in FIG. , electret film 1
is a cylindrical aluminum case 5 that encloses the ECM with an insulator 4
insulated from In addition, a back chamber 6 is provided on the rear surface of the back electrode plate 2, and a field effect transistor (hereinafter referred to as FET) 7 sealed with molded resin is fixed in the ECM with an insulating ring 8, and the gate lead 9 of the FET 7 is Adhere to the back electrode plate with paste etc. to make electrical contact. Next, the drain and source leads 10 of the FET 7 are connected to the printed board through an insulating rubber plate 12 for insulating the gate lead 9, source and drain leads 10 of the FET 7, the cylindrical aluminum case 5, and the printed board 11. 11 with solder 13.

かかる従来のECM構造によれば、第1図より
明らかなように、組込部品数が多く、装置として
複雑化かつ大型化してしまうという欠点があつ
た。これは、半導体素子(トランジスタ)が外界
雰囲気から不純物の混入等の悪影響を受け易く樹
脂封止により外部から気密封止して使用しなけれ
ばならないため、樹脂封止されたFETを入れる
空間、FETの各電極を接続する手段及び背室等
も作らなければならず、必然的にECMの形状が
大きくならざるを得なかつた。また、ECMは
FETのゲート電極が接続されコンデンサの一方
の電極を形成する背極板やその他多くの部品から
構成されているため製造原価が高くなり、低価格
で製造することは極めて困難であつた。
As is clear from FIG. 1, such a conventional ECM structure has the disadvantage that it requires a large number of built-in parts, making the device complex and large. This is because semiconductor elements (transistors) are susceptible to adverse effects such as contamination of impurities from the external atmosphere and must be hermetically sealed from the outside using resin sealing. It was also necessary to create a means for connecting each of the electrodes, a back chamber, etc., and the shape of the ECM inevitably became larger. Also, the ECM
Because it consists of a back plate to which the gate electrode of the FET is connected and forms one electrode of the capacitor, as well as many other parts, manufacturing costs are high, making it extremely difficult to manufacture at a low price.

本発明の目的は、上記欠点を除去し、極めて単
純な構造でかつ低価格で製造できるエレクトレツ
トコンデンサマイク(ECM)の構造を提供する
ことである。
SUMMARY OF THE INVENTION The object of the present invention is to provide an electric condenser microphone (ECM) structure which eliminates the above-mentioned drawbacks and which has an extremely simple structure and can be manufactured at low cost.

本発明のエレクトレツトコンデンサマイクは、
エレクトレツトフイルムと対向して容量素子の一
端面を形成する金属板が半導体装置の一平面を形
成し、この一平面上において半導体装置の入力電
極が前記金属板と接続され、この一平面から半導
体装置に向けて背室と呼ばれる空間が設けられる
ことを特徴とする。
The electret condenser microphone of the present invention is
A metal plate that faces the electret film and forms one end surface of the capacitive element forms one plane of the semiconductor device, and the input electrode of the semiconductor device is connected to the metal plate on this one plane, and the semiconductor It is characterized by a space called a back chamber facing the device.

以下、本発明の一実施例を図面を参照して製造
工程順に説明する。第2図に示したリードフレー
ム13はゲート端子になるリード14の先端部が
その他のドレイン及びソース端子になるリード1
5及び16の先端部より長く形成されており、こ
のリードフレーム13のゲートリード14にある
チツプマウント部17に通常の半導体装置組立技
術で電界効果型半導体素子(FET)をダイボン
デイングし、各リードとワイヤーボンデイングに
より電気的接続をとる。この後通常のキヤステイ
ングモールド法等で各リード端子14〜16及び
FETチツプを樹脂封止し、第3図に示すように
形成する。モールド樹脂部18は円筒状の外型を
し、一方の平坦面からリードフレーム13のリー
ド連結部とこの連結部に継がるリードの一部が露
出し、対向する平坦面19に前記ゲートリード1
4の先端部20が露出し、かつ先端部20と前記
平坦面19とは同一平坦面を形成する様にする。
樹脂封止後先端部20と平坦面19が同一平面に
ならない場合は、公知の研磨技術等で同一平面に
なるように研磨すればよい。又、キヤステイング
モールド型に予め突起物を形成しておき、モール
ド後前記平坦面19に開口部を持つ背室21を呼
ばれる凹部空間が形成されるようにする。この
時、キヤステイングモールド型に形成する突起物
は、モールド成形物をモールド型から離型する際
に使われるノツクアウトピンを所望の型状にする
事で容易に設置できる。次に、前記平坦面19に
通常の蒸着法等で金属被膜を全面に付着形成す
る。この時、金属被膜と前記先端部20とは電気
的に接続され、金属被膜は半導体素子のゲート電
極と接続される。この金属被膜付着形成前、又は
形成後に、前記リードフレーム13の連結部を切
断して、モールド成形された半導体装置を得る。
第4図は実際に第3図の半導体装置をECMに組
み込んだ状態での断面図を示すもので、半導体装
置22は絶縁物質26によりアルミニウムケース
27から絶縁されて固定され、この半導体装置の
金属被膜23はそのまま背極板として用いられ
る。即ち、エレクトレツトフイルム24はスペー
サ25を介して金属被膜23との間にコンデンサ
を形成し、金属被膜23と電気的接続をとられた
FETのゲート電極を通して入力信号が供給され、
この入力信号に応じてソース及びドレイン端子1
5,16から出力が得られる。半導体装置22の
中央部に形成されている背室21は音質特性を制
御するもので、前述したノツクアウトピンにより
モールド時に造られたものである。尚、ソース、
ドレイン端子15,16とともに出力端に突出す
るゲートリードは不要なため取り除くことが望ま
しい。
Hereinafter, one embodiment of the present invention will be described in order of manufacturing steps with reference to the drawings. In the lead frame 13 shown in FIG. 2, the tip of the lead 14 which becomes the gate terminal is the other lead 1 which becomes the drain and source terminals.
A field effect semiconductor element (FET) is die-bonded to the chip mount part 17 on the gate lead 14 of this lead frame 13 using normal semiconductor device assembly technology, and each lead is Electrical connection is made by wire bonding. After this, each lead terminal 14 to 16 and
The FET chip is sealed with resin and formed as shown in FIG. The molded resin part 18 has a cylindrical outer shape, and the lead connection part of the lead frame 13 and a part of the lead connected to this connection part are exposed from one flat surface, and the gate lead 1 is exposed on the opposite flat surface 19.
4 is exposed, and the tip 20 and the flat surface 19 form the same flat surface.
If the tip portion 20 and the flat surface 19 are not on the same plane after resin sealing, they may be polished using a known polishing technique or the like so that they become on the same plane. Further, projections are formed in advance on the casting mold so that after molding, a recessed space called a back chamber 21 having an opening is formed in the flat surface 19. At this time, the protrusions formed on the casting mold can be easily installed by shaping the knockout pin used to release the molded product from the mold into a desired shape. Next, a metal coating is deposited on the entire surface of the flat surface 19 by a normal vapor deposition method or the like. At this time, the metal coating and the tip 20 are electrically connected, and the metal coating is connected to the gate electrode of the semiconductor element. Before or after forming the metal coating, the connecting portion of the lead frame 13 is cut to obtain a molded semiconductor device.
FIG. 4 shows a cross-sectional view of the semiconductor device shown in FIG. 3 actually incorporated into an ECM. The semiconductor device 22 is insulated and fixed from an aluminum case 27 by an insulating material 26, and the semiconductor device 22 is The coating 23 can be used as it is as a back electrode plate. That is, the electret film 24 forms a capacitor with the metal coating 23 via the spacer 25, and is electrically connected to the metal coating 23.
An input signal is supplied through the gate electrode of the FET,
Source and drain terminal 1 according to this input signal.
Outputs are obtained from 5 and 16. The back chamber 21 formed in the center of the semiconductor device 22 controls the sound quality characteristics, and is created during molding using the aforementioned knockout pin. Furthermore, the source,
The gate lead projecting to the output end along with the drain terminals 15 and 16 is unnecessary and is therefore preferably removed.

本実施例によれば、従来背極板と半導体装置と
の間に形成されていた背室が半導体装置内部へ突
出する様に形成されていること、この背室は半導
体装置形成時に同時に造られること、背極板と
FETのゲート電極との接続が極めて容易に行な
えること等から、ECMの構造が極めて簡素化さ
れ、かつその製造も容易で製造原価を大幅に低減
でき低価格のECMを提供することができる。
According to this embodiment, the back chamber, which was conventionally formed between the back electrode plate and the semiconductor device, is formed so as to protrude into the inside of the semiconductor device, and this back chamber is created at the same time as the semiconductor device is formed. That is, the back plate
Since the connection with the gate electrode of the FET can be made extremely easily, the structure of the ECM is extremely simple, and its manufacture is also easy, which greatly reduces the manufacturing cost and provides a low-cost ECM.

尚、本実施例ではFETのリード端子としてリ
ードフレームを用いた例を提示したが、丸線の針
金等をリード端子に使用してもよいし、背極板と
しての金属被膜を蒸着形成する際、蒸着面の外周
部(第3図の平坦部19の外周)には金属が蒸着
されないように形成することで、外部ケースとの
間の絶縁効果を更に高めることができ、この場合
には半導体装置とケースとの間の絶縁部材はなく
てもよい。
In this example, an example was presented in which a lead frame was used as the lead terminal of the FET, but a round wire or the like may also be used as the lead terminal. By forming the outer periphery of the evaporation surface (the outer periphery of the flat part 19 in FIG. 3) so that no metal is evaporated, it is possible to further improve the insulation effect between the outer case and the semiconductor. There may be no insulating member between the device and the case.

更に、半導体装置と背極板との形成方法として
は、第5図、第6図に示すような方法でもよい。
Further, as a method of forming the semiconductor device and the back electrode plate, a method as shown in FIGS. 5 and 6 may be used.

第5図は、本発明の他の実施例として半導体装
置製造工程に於ける樹脂封止の時の構造を示すも
のである。第2図に示した構造のリードフレーム
に半導体素子(FET)を公知の技術によりダイ
ボンデイング,ワイヤーボンデイングにより載置
し、このリードフレーム13をリード先端を下に
してモールド樹脂が注入される金型30へほぼ垂
直に入れる。この時、金型17の底部には予め銀
ペースト等の導電性樹脂31が全体にほぼ同じ厚
さで敷かれており、リードフレーム13のリード
端子14を入れることにより、リード端子のうち
ゲートリード14の先端が導電性樹脂31に浸さ
れ電気的接触が取られる。この時導電性樹脂の厚
さは、ゲートリード14の突起部の長さ以下に
し、リードフレーム13の他のソース、ドレイン
リード15,16が導電性樹脂31と電気的に接
触しないようにしておく。次に前記導電性樹脂3
1の上へモールド材としての非導電性樹脂32を
入れキヤステイングによりリードフレームを固定
するとともに半導体素子を気密封止する。この
時、金属突起物33を金型30の底面から挿入し
て背室の形成を行なう。
FIG. 5 shows a structure at the time of resin sealing in the semiconductor device manufacturing process as another embodiment of the present invention. A semiconductor element (FET) is mounted on a lead frame having the structure shown in FIG. 2 by die bonding and wire bonding using known techniques, and this lead frame 13 is placed with the lead tips facing down into a mold into which molding resin is injected. Insert it almost vertically to 30. At this time, a conductive resin 31 such as silver paste is previously spread on the bottom of the mold 17 with approximately the same thickness, and by inserting the lead terminals 14 of the lead frame 13, the gate lead The tip of 14 is immersed in conductive resin 31 to establish electrical contact. At this time, the thickness of the conductive resin should be equal to or less than the length of the protrusion of the gate lead 14 so that the other source and drain leads 15 and 16 of the lead frame 13 do not come into electrical contact with the conductive resin 31. . Next, the conductive resin 3
A non-conductive resin 32 as a molding material is placed on top of the lead frame 1, and the lead frame is fixed by casting, and the semiconductor element is hermetically sealed. At this time, a metal protrusion 33 is inserted from the bottom of the mold 30 to form a back chamber.

第6図は第3図のモールドFETを金型から取
り出し、ECMに組み込んだ時の断面図である。
樹脂封止したFETにスペーサ34、エレクトレ
ツトフイルム35,絶縁板36を取り付け円筒状
アルミケース37で包む。
FIG. 6 is a cross-sectional view of the molded FET shown in FIG. 3 taken out of the mold and assembled into an ECM.
A spacer 34, an electric film 35, and an insulating plate 36 are attached to the resin-sealed FET, and the FET is wrapped in a cylindrical aluminum case 37.

かかる実施例においても、半導体装置製造時に
背極板の形成、背室の形成、及び背極板とFET
のゲートリードとの接続を行なうことができ、極
めて容易にECM用半導体装置を作成することが
できるとともに、ECM構造においても小型化、
低価格化を達成することができる。本実施例で作
成した円柱状のECMは従来のものに比べて、そ
の高さが9.8mmから約5〜6mmとなり、約半分の
大きさで構成することができた。
Even in such embodiments, the formation of the back electrode plate, the formation of the back chamber, and the connection between the back electrode plate and the FET are performed during the manufacture of the semiconductor device.
It is possible to connect to the gate lead of the ECM, making it extremely easy to create a semiconductor device for ECM, and also to miniaturize the ECM structure.
It is possible to achieve lower prices. The height of the cylindrical ECM created in this example was reduced from 9.8 mm to approximately 5 to 6 mm, which is approximately half the size of the conventional one.

尚、第4図に示した背極板としての金属被膜と
してはモールド樹脂との密着性が良好な導電体で
あればよく、例えば金、チタン、白金等でよく、
第5図に示した導電性樹脂としても、銀ペースト
以外にモールド樹脂との接着性が良好で導電性の
樹脂であればよい。又、これらの背極板の厚さは
コンデンサの一方の電極として動作できる厚さで
あればよく、数μ以上あればよい。更にモールド
樹脂としてはエポキシ、シリコン樹脂等でよい。
半導体装置の中にモールドされる能動素子として
は、MOS FET以外にバイポーラトランジスタ
でもよい。
The metal coating as the back electrode plate shown in FIG. 4 may be any conductive material that has good adhesion to the molding resin, such as gold, titanium, platinum, etc.
The conductive resin shown in FIG. 5 may be any resin other than silver paste that has good adhesion to the mold resin and is conductive. Further, the thickness of these back electrode plates may be as long as it can function as one electrode of a capacitor, and may be several microns or more. Furthermore, the molding resin may be epoxy, silicone resin, or the like.
As an active element molded into a semiconductor device, a bipolar transistor may be used instead of a MOS FET.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図は半導体装置を含む従来のエレクトレツ
トコンデンサマイクの断面図、第2図は本発明の
一実施例を示す半導体装置用リードフレームの形
状図、第3図は半導体装置をモールドした一実施
例を示す斜視図、第4図は本発明の一実施例を示
すエレクトレツトコンデンサマイクの要部断面
図、第5図は半導体装置をモールドする時の他の
実施例を示す工程図、第6図は第5図により作成
された半導体装置をエレクトレツトコンデンサマ
イクに適用した場合の断面図である。 1……エレクトレツトフイルム、2……背極
板、3……スペーサ、4……絶縁物、5……円筒
状アルミケース、6……背室、7……電界効果ト
ランジスタ、8……絶縁リング、9……ゲートリ
ード、10……ソース・ドレインリード、11…
…プリント板、12……絶縁用ゴム板、50……
半田、13……リードフレーム、14……ゲート
リード、15……ソースリード、16……ドレイ
ンリード、17……ダイボンデイング部、18,
32……モールド樹脂、19……平坦面、20…
…ゲートリード先端部、21……背室、22……
半導体装置、23……金属被膜(背極板)、24,
35……エレクトレツトフイルム、25,36…
…スペーサ、26……絶縁物、27,37……ア
ルミケース、30……金型、31……導電性樹
脂、33……ノツクアウトピン、34……絶縁
板。
Fig. 1 is a cross-sectional view of a conventional electret condenser microphone including a semiconductor device, Fig. 2 is a shape diagram of a lead frame for a semiconductor device showing an embodiment of the present invention, and Fig. 3 is an embodiment in which a semiconductor device is molded. FIG. 4 is a sectional view of essential parts of an electret condenser microphone showing one embodiment of the present invention; FIG. 5 is a process diagram showing another embodiment of molding a semiconductor device; FIG. This figure is a cross-sectional view of the semiconductor device produced in accordance with FIG. 5 applied to an electret condenser microphone. 1... Electret film, 2... Back plate, 3... Spacer, 4... Insulator, 5... Cylindrical aluminum case, 6... Back chamber, 7... Field effect transistor, 8... Insulation Ring, 9...gate lead, 10...source/drain lead, 11...
...Printed board, 12...Insulating rubber plate, 50...
Solder, 13...Lead frame, 14...Gate lead, 15...Source lead, 16...Drain lead, 17...Die bonding part, 18,
32...Mold resin, 19...Flat surface, 20...
...gate lead tip, 21...back chamber, 22...
Semiconductor device, 23... Metal coating (back electrode plate), 24,
35...electret film, 25,36...
... Spacer, 26 ... Insulator, 27, 37 ... Aluminum case, 30 ... Mold, 31 ... Conductive resin, 33 ... Knockout pin, 34 ... Insulating plate.

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 1 トランジスタ素子を封入し、一端面に凹部空
間を有し、かつ前記トランジスタ素子の入力電極
が前記一端面に導出された樹脂構造物と、該樹脂
構造物の前記一端面に被着されて前記トランジス
タ素子の前記入力電極に接続する導電性被膜と、
該導電性被膜に対向し、かつ該導電性被膜と離間
して配置され、もつて該導電性被膜とともに容量
素子を形成する金属薄膜とを有することを特徴と
するコンデンサマイク。
1. A resin structure that encapsulates a transistor element, has a recessed space on one end surface, and has an input electrode of the transistor element led out to the one end surface, and a resin structure that is adhered to the one end surface of the resin structure and a conductive film connected to the input electrode of the transistor element;
A condenser microphone comprising: a metal thin film that is disposed opposite to and spaced from the conductive film, and forms a capacitive element together with the conductive film.
JP7500879A 1979-06-14 1979-06-14 Capacitor microphone Granted JPS55166400A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP7500879A JPS55166400A (en) 1979-06-14 1979-06-14 Capacitor microphone

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP7500879A JPS55166400A (en) 1979-06-14 1979-06-14 Capacitor microphone

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS55166400A JPS55166400A (en) 1980-12-25
JPS633516B2 true JPS633516B2 (en) 1988-01-25

Family

ID=13563730

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP7500879A Granted JPS55166400A (en) 1979-06-14 1979-06-14 Capacitor microphone

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPS55166400A (en)

Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS61232799A (en) * 1985-04-09 1986-10-17 Matsushita Electric Ind Co Ltd Electret capacitor microphone
DE3807251A1 (en) * 1988-03-05 1989-09-14 Sennheiser Electronic CAPACITIVE SOUND CONVERTER

Also Published As

Publication number Publication date
JPS55166400A (en) 1980-12-25

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR100369908B1 (en) Piezoelectric Acoustic Component
TWI229565B (en) Electret microphone
US3775572A (en) Condenser microphone
JP3574774B2 (en) Electret condenser microphone
JPH11266499A (en) Electret condenser microphone
JP3375284B2 (en) Electret condenser microphone
US4170721A (en) Microphone with molded block amplifier electrostatic
JP2002334975A (en) Support structure for semiconductor device, ccd semiconductor device, manufacturing method therefor and package for ccd semiconductor device
JP3099382B2 (en) Small oscillator
JPS633516B2 (en)
JP3574601B2 (en) Semiconductor electret condenser microphone
JPS6227544B2 (en)
JP3574770B2 (en) Front electret condenser microphone
KR20010074030A (en) Method for manufacturing of condenser microphone
JPH04217350A (en) Solid-state image sensor
JP2002320294A (en) Semiconductor electret capacitor microphone
JPS5829678Y2 (en) condenser microphone
JPH0711446B2 (en) Acceleration sensor
JPS61219299A (en) Electret condenser microphone
JPS5934239Y2 (en) Piezoelectric electroacoustic transducer
JPS6236299Y2 (en)
JPH0634454A (en) Piezoelectric vibrating sensor device and its manufacture
JPH07249708A (en) Semiconductor device and its mounting structure
JPH06120766A (en) Piezoelectric oscillator and production thereof
JPS5844657Y2 (en) Denshin Goshi Yorisouchi