JPS63311693A - Semiconductor storage device - Google Patents
Semiconductor storage deviceInfo
- Publication number
- JPS63311693A JPS63311693A JP62145139A JP14513987A JPS63311693A JP S63311693 A JPS63311693 A JP S63311693A JP 62145139 A JP62145139 A JP 62145139A JP 14513987 A JP14513987 A JP 14513987A JP S63311693 A JPS63311693 A JP S63311693A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- test
- word
- logic means
- state
- select
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 title claims description 20
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 claims description 2
- 238000012360 testing method Methods 0.000 abstract description 41
- 230000000694 effects Effects 0.000 abstract description 4
- 210000000352 storage cell Anatomy 0.000 abstract description 4
- 230000004044 response Effects 0.000 abstract description 2
- 210000004027 cell Anatomy 0.000 description 25
- 238000000034 method Methods 0.000 description 4
- 230000006378 damage Effects 0.000 description 2
- 238000011982 device technology Methods 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 1
- 230000003068 static effect Effects 0.000 description 1
Landscapes
- Static Random-Access Memory (AREA)
- For Increasing The Reliability Of Semiconductor Memories (AREA)
Abstract
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野]
この発明は、半導体記憶装置技術、さらには5−RAM
(スタチック型RAM)に適用して有効な技術に関す
るもので、たとえば、特開昭60−170090号公報
に記載されているようなバイポーラ−0MO3型5−R
AMに利用して有効な技術に関するものである。[Detailed Description of the Invention] [Industrial Application Field] The present invention is applicable to semiconductor memory device technology, and furthermore, to 5-RAM
(Static type RAM), for example, bipolar-0MO3 type 5-R as described in Japanese Patent Application Laid-open No. 170090/1983.
It relates to technology that is effective for use in AM.
[従来の技術]
半導体記憶装置では、記憶セルの選択中に電源電圧が大
きく変化した場合、その選択中の記憶セルの記憶情報が
破壊されることがある。この傾向は、トくニバイポーラ
ーCMO8型S −RA M ニおいて現れやすい、と
いうことが本発明者らによってあきらかにされた。[Prior Art] In a semiconductor memory device, if the power supply voltage changes significantly during the selection of a memory cell, the information stored in the selected memory cell may be destroyed. The present inventors have clarified that this tendency is more likely to appear in the Tokuni bipolar CMO8 type S-RAM.
そこで、本発明者らは、記憶セルの選択中に半導体記憶
装置の電源電圧を意識的に変化させることによって記憶
情報が破壊されるか否かを個々の記憶セルごとに調べる
試験、いわゆるバンプ試験(BumpTe s t)を
検討した。Therefore, the present inventors conducted a test to examine whether or not stored information is destroyed by intentionally changing the power supply voltage of a semiconductor memory device during memory cell selection, a so-called bump test. (BumpTest) was investigated.
[発明が解決しようとする問題点]
しかしながら、上述した技術には1次のような問題点の
あることが本発明者らによってあきらかとされた。[Problems to be Solved by the Invention] However, the inventors have found that the above-mentioned technique has the following problems.
すなわち、従来の半導体記憶装置においては、上述した
バンプ試験を行うために次のような工程が必要になるこ
とが本発明者らによってあきらかにされた。That is, the present inventors have clarified that in the conventional semiconductor memory device, the following steps are required to perform the above-described bump test.
すなわち、第3図に示すように、被試験記憶セルを選択
する工程S1、この被試験記憶セルに対してテスト・デ
ータを書き込む工程S2、上記被試験記憶セルが選択さ
れている間に電源電圧を所定分だけ変化される工程S3
、この工程S3を経た後の上記被試験記憶セルの記憶内
容を読出して評価する工程S4、次の被試験記憶セルを
指定するためにアドレスを1番地だけ更新する工程S5
、および上述した一連の工程81〜S5を半導体記憶装
置の全記憶ビット数(あるいは全記憶ワード数)に相当
する回数(MXN)だけ繰り返して行わせる工程S6.
S7が必要となる。That is, as shown in FIG. 3, there is a step S1 of selecting a memory cell under test, a step S2 of writing test data to the memory cell under test, and a step S2 of writing test data into the memory cell under test. Step S3 in which is changed by a predetermined amount
, a step S4 of reading and evaluating the storage contents of the memory cell under test after passing through this step S3, and a step S5 of updating the address by one address in order to designate the next memory cell under test.
, and step S6. in which the series of steps 81 to S5 described above are repeated a number of times (MXN) corresponding to the total number of storage bits (or total number of storage words) of the semiconductor memory device.
S7 is required.
ここで問題となるのは、工程S3において電源電圧を変
化されるためには、たとえば数1onsθCといった比
較的長い時間を要することと、この工8S3を半導体記
憶装置の全記憶ビット数、(あるいは全記憶ワード数)
に相当する回数(MXN)だけ行わなければならないこ
とである。The problem here is that in order to change the power supply voltage in step S3, it takes a relatively long time, for example several ounces number of words memorized)
This must be done a number of times (MXN) corresponding to (MXN).
たとえば、65536個の記憶セルを128本のワード
線と512対のデータ線によって1個ずつ選択する64
にビット5−RAMの場合、上記回数(MXN)が65
536回にもなる。このため、上記工程S3を1回行う
のに必要な時間を仮に100m5ecとすると、1サン
プルあたりの所要試験時間は、65536回X 100
m s e c=、6553.6秒=1時間50分に
もなってしまう。For example, 65,536 memory cells are selected one by one by 128 word lines and 512 pairs of data lines.
In the case of bit 5-RAM, the above number of times (MXN) is 65
That's 536 times. Therefore, if the time required to perform the above step S3 once is 100 m5ec, the required test time per sample is 65536 times x 100
m sec = 6553.6 seconds = 1 hour and 50 minutes.
このように、従来のこの種の半導体記憶装置cYは、上
述したバンプ試験などを行うための検査適性が著しく欠
如している、という問題があった。As described above, the conventional semiconductor memory device cY of this type has a problem in that it is significantly lacking in testing suitability for performing the above-mentioned bump test and the like.
本発明の目的は、半導体記憶装置の検査適性を改善する
ことにあり、具体的には、選択動作中の電源電圧変化に
よる記憶情報破壊の有無を個々の記憶セルごとに調べる
バンプ試験が効率良く行えるようにする、という技術を
提供することにある。An object of the present invention is to improve the testing suitability of semiconductor memory devices. Specifically, it is an object of the present invention to efficiently perform a bump test to check whether or not stored information is destroyed due to changes in power supply voltage during selection operation on an individual memory cell basis. Our goal is to provide the technology that makes it possible.
本発明の前記ならびにそのほかの目的と新規な特徴は、
本明細書の記述および添付図面からあきらかになるであ
ろう。The above and other objects and novel features of the present invention include:
It will become clear from the description of this specification and the accompanying drawings.
[問題点を解決するための手段]
本願において開示される発明のうち代表的なものの概要
を簡単に説明すれば、下記のとおりである。[Means for Solving the Problems] A brief overview of typical inventions disclosed in this application is as follows.
すなわち、記憶セルを選択するために布線されたワード
線およびデータ線の少なくとも一方を全選択状態に設定
する論理手段を有する、というものである。That is, it has logic means for setting at least one of a word line and a data line wired to select a memory cell to a fully selected state.
[作用]
上記した手段によれば、記憶セルを行単位あるいは列単
位にまとめて同時に選択状態に設定することができる。[Operation] According to the above-described means, it is possible to collectively set the memory cells row by row or column by column to the selected state at the same time.
これにより1選択動作中の電源電圧変化による記憶情報
破壊の有無を調べるバンプ試験を行う場合に、電源電圧
を変化させる工程は、ビット単位あるいはワード単位で
はなく、少なくとも行単位あるいは列単位でまとめて行
うことができるようになる。この結果、1サンプルあた
りに必要なバンプ試験時間は大幅に単線されるようにな
る。As a result, when performing a bump test to check whether stored information is destroyed due to a change in power supply voltage during 1 selection operation, the process of changing the power supply voltage is performed not in bit units or word units, but at least in row or column units. be able to do it. As a result, the bump test time required per sample becomes significantly shorter.
以上のようにして、半導体記憶装置の検査適性を改善す
る、という目的が達成される。In the manner described above, the objective of improving the testing suitability of semiconductor memory devices is achieved.
[実施例]
以下、本発明の好適な実施例を図面に基づいて説明する
。[Examples] Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described based on the drawings.
なお、各図中、同一符号は同一あるいは相当部分を示す
。In each figure, the same reference numerals indicate the same or corresponding parts.
第1図はこの発明による技術が適用された導体記憶装置
の要部における一実施例を示す。FIG. 1 shows an embodiment of a main part of a conductive memory device to which the technology according to the present invention is applied.
先ず、同図に示す半導体記憶装置はバイポーラ−0MO
3型の5−RAMとして構成され、行列方向にマトリッ
クス状に配設された多数の記憶セル1、この多数の記憶
セル1の中から任意の記憶セルを選択するためにそれぞ
れ複数本ずつ布線されたワード線2およびデータ線3、
アドレス人力Ax、Ayに基づいて上記ワード線2と上
記データ線3をそれぞれ択一的に選択するXデコーダ4
およびYデコーダ5を有する。First, the semiconductor memory device shown in the figure is bipolar-0MO.
It is configured as a 3-type 5-RAM, and has a large number of memory cells 1 arranged in a matrix in the row and column direction.A plurality of memory cells 1 are each wired to select an arbitrary memory cell from among the large number of memory cells 1. word line 2 and data line 3,
An X decoder 4 that selectively selects the word line 2 and the data line 3 based on address inputs Ax and Ay.
and a Y decoder 5.
この場合、データ線3は2本が対になって複数対が布線
されている。各データ線対3,3はそれぞれY選択スイ
ッチ6を介して共通データ線7に接続されている。Y選
択スイッチ6は上記Yデコーダ5によって択一的に選択
されてオン駆動されるようになっている。In this case, two data lines 3 are arranged in pairs, and a plurality of pairs are wired. Each data line pair 3, 3 is connected to a common data line 7 via a Y selection switch 6, respectively. The Y selection switch 6 is selectively selected by the Y decoder 5 and turned on.
通常の動作では、上記ワード線2と上記データ線対3,
3がそれぞれ択一的に選択されることにより、その選択
されたワード線2とデータ線対3゜3の交差箇所に位置
する記憶セル1が選択されて記憶の書込/読出にかけら
れるようになっている。In normal operation, the word line 2 and the data line pair 3,
3 are alternatively selected, so that the memory cell 1 located at the intersection of the selected word line 2 and data line pair 3.3 is selected and subjected to memory writing/reading. It has become.
さらに、図示の実施例では、上述した構成に加えて、端
子バッド9を介して外部から与えられるテスト設定信号
Bに応じて、上記データ線対3゜3を全選択状態に設定
する論理手段8が設けられている。この論理手段8は、
上記Yデコーダ5内に設けられた多入力論理ゲート61
の論理六方端子を増設することによって構成されている
。この論理手段8は、通常の動作には非能動状態を保つ
ていてYデコーダ5の動作にはなんら関与しないが、上
記テスト設定信号Bを能動状態に設定することにより能
動化されて、上記Yスイッチを一斉にオン駆動させる。Furthermore, in the illustrated embodiment, in addition to the above-described configuration, logic means 8 sets the data line pair 3 to the fully selected state in response to a test setting signal B applied from the outside via the terminal pad 9. is provided. This logical means 8 is
Multi-input logic gate 61 provided in the Y decoder 5
It is constructed by adding logical hexagonal terminals. This logic means 8 maintains an inactive state during normal operation and does not participate in the operation of the Y decoder 5, but is activated by setting the test setting signal B to an active state, and is activated by setting the test setting signal B to an active state. Turn on the switches all at once.
第2図は、上述した実施例を半導体記憶装置に対して、
選択動作中の電源電圧変化による記憶情報破壊の有無を
個々の記憶セルごとに調べるバンプ試験を行う場合の手
順を示す。FIG. 2 shows how the above-described embodiment is applied to a semiconductor memory device.
The procedure for performing a bump test for checking each storage cell for the presence or absence of storage information destruction due to a change in power supply voltage during a selection operation will be described.
同図に示すように、上述した実施例の半導体記憶装置に
対するバンプ試験は、次のように行うことができる。As shown in the figure, a bump test on the semiconductor memory device of the above-described embodiment can be performed as follows.
先ず、工程S1にてワード線を選択し、この選択された
ワード線上の記憶セルに対して所定のテスト・データを
1ビツトずつ書き込む工1i’jls2行う0次に、テ
スト設定信号Bを能動状態にセラ1〜してデータ線を全
選択状態にする工程S21を行う、これにより、選択ワ
ード線上に並ぶ1行分(N個)の記憶セルが同時に選択
状態に設定される。この状態にて、電源電圧を所定分だ
け変化させる工程S3を行う、この後、上記テスト設定
信号Bをリセットする工程S31を行ってから、選択ワ
ード線上に並ぶ記憶セルが記憶しているデータを1ビツ
トずつ読出して評価する工程S4を行う。この評価は、
工程S2にて書き込んだテスト・データが変化している
か否かに着目して行われる。First, in step S1, a word line is selected, and predetermined test data is written bit by bit into the memory cells on the selected word line.Next, the test setting signal B is activated. Step S21 is then performed to set all the data lines to the selected state using cells 1 to 1. As a result, one row (N) of memory cells lined up on the selected word line are set to the selected state at the same time. In this state, step S3 of changing the power supply voltage by a predetermined amount is performed. After this, step S31 of resetting the test setting signal B is performed, and then the data stored in the memory cells arranged on the selected word line is changed. A step S4 is performed in which each bit is read out and evaluated. This evaluation is
This is performed by focusing on whether or not the test data written in step S2 has changed.
工程S4が終ったならば1次の選択ワード線を指定する
ために行アドレスを1だけ更新する工8S5を行う。そ
して、工程S6.S7により、上述した一連の工程81
〜S5をワード線の本数に相当する回数(M)だけ繰り
返して行わせる。After step S4 is completed, step 8S5 is performed to update the row address by 1 in order to designate the first selected word line. Then, step S6. Through S7, the above-mentioned series of steps 81
-S5 are repeated a number of times (M) corresponding to the number of word lines.
以上のように、第1図に示した実施例の半導体記憶装置
では、記憶セルを行単位にまとめて同時に選択状態に設
定することができる。これにより、選択動作中の電源電
圧変化による記憶情報破壊の有無を調べるバンプ試験を
行う場合に、電sit圧を変化させる工程は、ビット単
位あるいはワード単位ではなく、行単位にまとめて行う
ことができるようになる。この結果、1サンプルあたり
に必要なバンプ試験時間は大幅に短縮されるようになる
。As described above, in the semiconductor memory device of the embodiment shown in FIG. 1, the memory cells can be grouped in rows and set to the selected state at the same time. As a result, when performing a bump test to check for damage to stored information due to power supply voltage changes during selection operations, the step of changing the voltage sit voltage can be performed row by row instead of bit by bit or word by word. become able to. As a result, the bump test time required per sample can be significantly reduced.
たとえば、65536個の記憶セルを128本のワード
線と512対のデータ線によって1個ずつ選択する64
にビット5−RAMの場合、電源電圧を変化させる工程
S3は、1サンプルについて128回行えばよい、した
がって、上記工程S3を1回行うのに必要な時間を仮に
100 m s ecとすると、1サンプルあたりの所
要試験時間は128回X100m5ec=12.8秒で
よい。For example, 65,536 memory cells are selected one by one by 128 word lines and 512 pairs of data lines.
In the case of a bit 5-RAM, the step S3 of changing the power supply voltage can be performed 128 times for one sample. Therefore, if the time required to perform the above step S3 once is 100 m sec, then 1 The required test time per sample may be 128 times x 100 m5ec = 12.8 seconds.
なお、上記テスト設定信号Bを与えるための端子パッド
9は、上記バンプ試験を行うだけならば半導体チップ内
に設けるだけでもよいが、外部の端子ピンに引き出して
おけば、同一の記憶内容を行単位で高速に書き込むよう
な場合にも利用することができる。Note that the terminal pad 9 for applying the test setting signal B may be provided inside the semiconductor chip if only the bump test is performed, but if it is drawn out to an external terminal pin, the same memory content can be performed. It can also be used when writing in units at high speed.
以上、本発明によってなされた発明を実施例にもとづき
具体的に説明したが、本発明は上記実施例に限定される
ものではなく、その要旨を逸脱しない範囲で種々変更可
能であることはいうまでもない。たとえば、上記論理手
段8は、ワード線またはワード線とデータ線の両方を全
還状態に設定するようなものであったもよい。As above, the invention made by the present invention has been specifically explained based on the examples, but it goes without saying that the present invention is not limited to the above-mentioned examples and can be modified in various ways without departing from the gist thereof. Nor. For example, the logic means 8 may be such as to set the word line or both the word line and the data line to the full state.
以上の説明では主として本発明者によってなされた発明
をその背景となった利用分野であるバイポーラ−0MO
8型5−RAMに適用した場合について説明したが、そ
れに限定されるものではなく、たとえば、純CMO8型
の5−RAMあるとはECL型のRAMなどにも適用で
きる。The above explanation mainly describes the invention made by the present inventor, which is the field of application which is the background of the invention, which is bipolar-0MO.
Although the case where the present invention is applied to an 8-type 5-RAM has been described, the present invention is not limited thereto, and can also be applied to, for example, a pure CMO 8-type 5-RAM or an ECL-type RAM.
C発明の効果]
本願において開示される発明のうち代表的なものによっ
て得られる効果を簡単に説明すれば、下記のとおりであ
る。C Effects of the Invention] The effects obtained by typical inventions disclosed in this application are briefly described below.
すなわち、半導体記憶装置の検査適性を改善することが
でき、たとえば、選択動作中の電源電圧変化による記憶
情報破壊の有無を個々の記憶セルごとに調べるバンプ試
験を効率良く行わせることができる、という効果が得ら
れる。In other words, it is possible to improve the testing suitability of semiconductor memory devices, and for example, it is possible to efficiently conduct a bump test to check whether or not stored information is destroyed due to changes in power supply voltage during selection operation on an individual memory cell basis. Effects can be obtained.
第1図はこの発明による半導体記憶装置の要部における
一実施例を示す回路図、
第2図は第1図に示した半導体記憶装置をバンプ試験す
るための手順を示すフローチャート、第3図は従来の半
導体記憶装置をバンプ試験するのに必要となる手順を示
すフローチャートである。
1・・・・記憶セル、2・・・・ワード線、3・・・・
データ線、4・・・・Xデコーダ、5・・・・Xデコー
ダ、6・・・・Y選択スイッチ、7・・・・共通データ
線、8・・・・論理手段、9・・・・テスト用の端子パ
ッド。
第 2 図FIG. 1 is a circuit diagram showing an embodiment of a main part of a semiconductor memory device according to the present invention, FIG. 2 is a flowchart showing a procedure for bump testing the semiconductor memory device shown in FIG. 1, and FIG. 2 is a flowchart showing the steps required to bump test a conventional semiconductor memory device. 1...Memory cell, 2...Word line, 3...
Data line, 4...X decoder, 5...X decoder, 6...Y selection switch, 7...Common data line, 8...Logic means, 9... Terminal pad for testing. Figure 2
Claims (1)
の多数の記憶セルの中から任意の記憶セルを選択するた
めにそれぞれ複数本ずつ布線されたワード線およびデー
タ線と、アドレス入力に基づいて上記ワード線と上記デ
ータ線をそれぞれ択一的に選択するデコーダとを備える
とともに、外部からの設定に応じて上記ワード線または
上記データ線の少なくとも一方を全選択状態に設定する
論理手段を備えたことを特徴とする半導体記憶装置。 2、上記論理手段が上記デコーダ内に設けられた多入力
論理ゲートによって構成されていることを特徴とする特
許請求の範囲第1項記載の半導体記憶装置。[Claims] 1. A large number of memory cells arranged in a matrix, and a plurality of word lines and data wired each to select an arbitrary memory cell from the large number of memory cells. and a decoder that selectively selects the word line and the data line based on address input, and at least one of the word line or the data line is fully selected according to external settings. 1. A semiconductor memory device comprising logic means for setting. 2. The semiconductor memory device according to claim 1, wherein the logic means is constituted by a multi-input logic gate provided in the decoder.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP62145139A JPS63311693A (en) | 1987-06-12 | 1987-06-12 | Semiconductor storage device |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP62145139A JPS63311693A (en) | 1987-06-12 | 1987-06-12 | Semiconductor storage device |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS63311693A true JPS63311693A (en) | 1988-12-20 |
Family
ID=15378313
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP62145139A Pending JPS63311693A (en) | 1987-06-12 | 1987-06-12 | Semiconductor storage device |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS63311693A (en) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH05250896A (en) * | 1991-07-17 | 1993-09-28 | Toshiba Corp | Semiconductor memory and detecting circuit using the same |
JPH06267293A (en) * | 1993-03-10 | 1994-09-22 | Toshiba Corp | Semiconductor memory |
-
1987
- 1987-06-12 JP JP62145139A patent/JPS63311693A/en active Pending
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH05250896A (en) * | 1991-07-17 | 1993-09-28 | Toshiba Corp | Semiconductor memory and detecting circuit using the same |
JPH06267293A (en) * | 1993-03-10 | 1994-09-22 | Toshiba Corp | Semiconductor memory |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
KR900004312B1 (en) | Semiconductor memory and testing method of the same | |
US4365319A (en) | Semiconductor memory device | |
JPH04232693A (en) | Static type semiconductor storage device | |
JPH07226100A (en) | Semiconductor memory | |
JPH0378200A (en) | Semiconductor memory | |
JPS62170094A (en) | Semiconductor storage circuit | |
JPS59135700A (en) | Semiconductor storage device | |
JPS6114539B2 (en) | ||
TWI261841B (en) | Semiconductor memory device and method of testing semiconductor memory device | |
JP3533227B2 (en) | Semiconductor storage device | |
JPH06215584A (en) | Nonvolatile semiconductor storage and storage system using that | |
JP4782937B2 (en) | Semiconductor memory device | |
NL8600099A (en) | NON-VOLATILE, PROGRAMMABLE SEMICONDUCTOR MEMORY. | |
JPH0991993A (en) | Test method for semiconductor memory | |
JPS61292299A (en) | Facilitating circuit for on-chip memory test | |
KR100336955B1 (en) | Semiconductor storage device | |
JPS63311693A (en) | Semiconductor storage device | |
JPS59132489A (en) | Semiconductor storage device | |
JPH01151100A (en) | Non-volatile semiconductor memory device | |
JP3022792B2 (en) | Semiconductor integrated circuit device | |
JPH04211160A (en) | Semiconductor memory | |
JPS6015899A (en) | Storage device | |
JPH06223597A (en) | Semiconductor device | |
JP2786020B2 (en) | Semiconductor memory device | |
JPS5868296A (en) | Storage device |